JPS58217554A - Stabilized synthetic resin composition - Google Patents

Stabilized synthetic resin composition

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JPS58217554A
JPS58217554A JP10019082A JP10019082A JPS58217554A JP S58217554 A JPS58217554 A JP S58217554A JP 10019082 A JP10019082 A JP 10019082A JP 10019082 A JP10019082 A JP 10019082A JP S58217554 A JPS58217554 A JP S58217554A
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butyl
synthetic resin
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bis
tert
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豊 中原
Toshihiro Shibata
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  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
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Abstract

PURPOSE:To provide the titled compsn. having excellent resistance to light and heat, by blending a specified triazine compd. with a synthetic resin. CONSTITUTION:Cyanuric chloride is reacted with a piperazine. The reaction product is reacted with 2,2,6,6-tetramethyl piperidine-4-spiro-ketalalcohol to obtain a triazine compd. of formula I wherein R1 is H, hydroxyl, alkyl; R2 is lower alkyl; R3-R6 are each H, lower alkyl; A is a group of formula II, III or IV; R9- O-; R7, R8 are each H, alkyl, a group of formula V; R9 is alkyl,aryl, a group of formula VI; B is H, a group of formula VII; n is 1-20. 0.001-10pts.wt. said triazine compd. is blended with 100pts.wt. synthetic resin such as PE.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、光の効果に対して安定化された合成樹脂組成
物、さらに詳しくは、2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−4−スピロケタール基を含有するトリアジン
系化合物を含有することによって耐光性の改善された合
成樹脂組成物に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a synthetic resin composition stabilized against the effects of light, more particularly a triazine composition containing a 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-4-spiroketal group. The present invention relates to a synthetic resin composition whose light resistance is improved by containing a type compound.

ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等の合
成樹脂は一般に光の効果に対して敏感であシ、その作用
により劣化し、変色あるいは機械的強度の抵下等を引き
起こし、長期の使用に耐えないことが知られている。
Synthetic resins such as polyethylene, polypropylene, and polyvinyl chloride are generally sensitive to the effects of light, and may deteriorate due to the effects of light, causing discoloration or a decrease in mechanical strength, and may not be able to withstand long-term use. Are known.

そこでこの光による合成樹脂の劣化を防止するために、
従来種々の安定剤が用いられてきたが、従来用いられて
きた光安定剤はその安定化効果がまだ不十分であり、咬
た安定剤自体が熱あるいは酸化に対して不安定であった
り、水等゛   の溶剤によって樹脂から抽出されやす
いものが多くさらに樹脂に着色を与えるものが多い等の
欠点を持っており、長期にわたって合成樹脂を安定化す
ることができなかった。
Therefore, in order to prevent the synthetic resin from deteriorating due to this light,
Various stabilizers have been used in the past, but the stabilizing effect of the conventionally used light stabilizers is still insufficient, and the stabilizers themselves are unstable against heat or oxidation. Many of them are easily extracted from the resin by solvents such as water, and many of them also color the resin, making it impossible to stabilize the synthetic resin over a long period of time.

これら従−来用いられてきた光安定剤の中でもピペリジ
ン系の化合物はそれ自体が非着色性であり、また紫外線
吸収剤としてではなく、消光剤として作用するガどの%
徴を有しており近年特に注目されている。
Among these conventionally used light stabilizers, piperidine-based compounds are themselves non-coloring, and they act as UV quenchers rather than UV absorbers.
It has attracted particular attention in recent years.

しかしながら、従来知られているピペリジン系の化合物
は光安定化能が不十分でありまた、水によって樹脂から
容易に抽出されてしまうという欠点もあった。
However, conventionally known piperidine-based compounds have insufficient photostabilizing ability and also have the disadvantage that they are easily extracted from the resin by water.

また、これらのピペリジン系の化合物は化合物自体の耐
熱性が不十分であり、合成樹脂を高温で加工する際など
に、分解あるいは揮敗し、その幼果を失江う場合も多か
った。
In addition, these piperidine-based compounds themselves have insufficient heat resistance, and when processing synthetic resins at high temperatures, they often decompose or volatilize, resulting in the loss of young fruits.

これらのピペリジン系化合物のうち、トリアジン環を含
有する化合物は比較的化合物自体の耐熱性が良好であり
、また、原料として安価な塩化ンアヌルを用いることが
でき、反応も容易である等の利点を有している。
Among these piperidine-based compounds, compounds containing a triazine ring have advantages such as the compound itself has relatively good heat resistance, the inexpensive anuric acid chloride can be used as a raw material, and the reaction is easy. have.

トリアジン環を含有するピペリジン化合物としては特開
昭49−21389号、特開昭52−71,486号、
IPf開昭52−73,886号、特開昭53−9,7
82号、特開昭53−67.749号、特開昭54−1
06,483号、特開昭54−126,249号、特開
昭5’5−98,180号、特開昭55−102,6!
57号、特開昭55−104,279号、特開昭56−
4,659号及びl特開昭56−1,974号の各公報
に稲々の化合物が提案されている。
Examples of piperidine compounds containing a triazine ring include JP-A-49-21389, JP-A-52-71,486,
IPf Publication No. 52-73,886, Japanese Patent Publication No. 53-9, 7
No. 82, JP-A-53-67.749, JP-A-54-1
06,483, JP-A-54-126,249, JP-A-5'5-98,180, JP-A-55-102,6!
No. 57, JP-A-55-104,279, JP-A-56-
No. 4,659 and Japanese Unexamined Patent Publication No. 1,974/1987 propose rice compounds.

しかしながら、これらの公報に記載の化合物はいずれも
4−ヒドロキシ又は4−アミノ−ピペリジン類から誘導
されるものであり、その光安定化能及び化合物自体の耐
熱性が末だ満足し得るほどではなく、さらに改善するこ
とが要望されていた。
However, all of the compounds described in these publications are derived from 4-hydroxy or 4-amino-piperidines, and their photostabilizing ability and heat resistance of the compounds themselves are not satisfactory. , further improvements were requested.

本発明者等は、かかる現状に鑑み、鋭意検討を重ねた結
果、次の一般式(1)で表わされる化合物が、光安定化
能に優れ、また、化合物自体の耐熱性も極めて良好なこ
とを見い出した。
In view of the current situation, the present inventors have conducted intensive studies and found that the compound represented by the following general formula (1) has excellent photostabilizing ability, and the heat resistance of the compound itself is also extremely good. I found out.

即ち、本発明は、合成樹脂100重量部に、次の一般式
(1)で表わされる化合物0. OO1〜10重量部を
添加してなる安定化された合成樹脂組成物を提供するも
のである。
That is, in the present invention, 100 parts by weight of a synthetic resin is mixed with 0.00 parts by weight of a compound represented by the following general formula (1). The present invention provides a stabilized synthetic resin composition containing 1 to 10 parts by weight of OO.

(式中、R1は水素原子、オキシルまたはアルキル基を
示し% R2は抵級アルキル基を示し、R5、R11%
R5及びR6は夫々水素原子または凹縁アルR7及びR
,Vi夫々、水素原子、アルキル基また本発明で用いら
れる上記一般式(1)で表わされる化合物が何故前記4
−ヒドロキシまたは4−アミノピベリジン類から誘導さ
れる化合物と比較して優れた光安定化能を有するのかは
末だ明らかではないが、本発明で用いられる化合物がネ
オペンチル型構造を有する多価アルコールから誘導され
るスピロケタール化合物である為化合物自体の耐熱性が
著るしく向上されたこともその理由の一つであろうと推
測される。
(In the formula, R1 represents a hydrogen atom, oxyl or an alkyl group, % R2 represents a lower alkyl group, R5, R11%
R5 and R6 are hydrogen atoms or concave aluminum R7 and R, respectively.
, Vi, respectively, a hydrogen atom, an alkyl group, and why the compound represented by the above general formula (1) used in the present invention has the above-mentioned 4
Although it is not yet clear whether the compounds used in the present invention have superior photostabilizing ability compared to compounds derived from -hydroxy or 4-aminopiveridines, the compounds used in the present invention are derived from polyhydric alcohols having a neopentyl structure. It is assumed that one of the reasons for this is that the heat resistance of the compound itself is significantly improved because it is a spiroketal compound.

以下、本発明で用いられる化合物について、さらに詳細
に説明する。
Hereinafter, the compounds used in the present invention will be explained in more detail.

R1で表わされるアルキル基としてはメチル、エチル、
プロピル、ブチル、イソブチル、第2ブチル、第3ブチ
ル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ドデシル、ベンジ
ル、ヒドロキンメチル、2−ヒドロキンエチル、2−ヒ
ドロキシプロピル、2,3−ジヒドロキングロピル、2
−ヒドロキシブチル、2−ヒドロキシオクチル、アセト
キシエチル、プロピオニルエチル、オフチロイルエチル
、2,3−エボキンプロビル等があげられる。
The alkyl group represented by R1 is methyl, ethyl,
Propyl, butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, hexyl, heptyl, octyl, dodecyl, benzyl, hydroquinemethyl, 2-hydroquinethyl, 2-hydroxypropyl, 2,3-dihydroquinepropyl, 2
-Hydroxybutyl, 2-hydroxyoctyl, acetoxyethyl, propionylethyl, ofthyroylethyl, 2,3-evoquinprovil, and the like.

R12、R5、R嶋、R5及びR6で表わされる低級ア
ルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、ブチル等
があげられる。
Examples of the lower alkyl group represented by R12, R5, R5, R5, and R6 include methyl, ethyl, propyl, butyl, and the like.

R7及びR8で表わされるアルキル基としては、メチル
、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第2ブチ
ル、第3ブチル、ヘキシル、オクチル、2−エチルヘキ
シル、第5オクチル、アミル、ドアミル、テトラアミル
、ヘキサアミル、オクタアミル、ヒドロキンメチル、ヒ
ドロキシエチル、メトキンメチル、メトキシエチル、ブ
トキンエチル、ジメチルアミノプロピル等があげられる
The alkyl groups represented by R7 and R8 include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, tertiary-butyl, hexyl, octyl, 2-ethylhexyl, 5-octyl, amyl, doamyl, tetraamyl, hexaamyl, octaamyl. , hydroquine methyl, hydroxyethyl, metquinemethyl, methoxyethyl, butquinethyl, dimethylaminopropyl, and the like.

R9で表わされるアルキル基としてはメチル、エチル、
ブチル、アミル、ヘキシル、オクチル、2−エチルヘキ
シル、アミル、イソデシル、ドアミル、ト°リゾシル、
テトラアミル、オクタアミル、メトキンエチル、エトキ
シエチル、ブトキンエチル等があげられ、アリール基と
してはフェニル、トリル、キンリル、第3ブチルフエニ
ル、オクチルフェニル、ノニルフェニル等力あげられる
The alkyl group represented by R9 includes methyl, ethyl,
Butyl, amyl, hexyl, octyl, 2-ethylhexyl, amyl, isodecyl, dooramyl, trizocyl,
Examples include tetraamyl, octaamyl, methquinethyl, ethoxyethyl, butquinethyl, and examples of the aryl group include phenyl, tolyl, quinryl, tert-butylphenyl, octylphenyl, nonylphenyl, and the like.

表−1 罵2 /P64 5 A6 黒7 8 &9 10 本発明で用いられる前記一般式(1)で表わされる化合
物は、例えば、塩化シアヌルとピペラジン類を反応させ
た後、これと2.2,6.6−テトラメチルピペリジ/
−4−スビロケクールアルコール化合物を反応させるこ
とによって容易に製造することができる。あるいは、塩
化シアヌルと2.2,6.6−テトラメチルビペリジン
−4−スピロケタールアルコール化合物全反応させり後
、コレとヒヘリジン類を反応させることによっても容易
に製造し得る。
Table-1 Abuse 2 /P64 5 A6 Black 7 8 &9 10 The compound represented by the general formula (1) used in the present invention is, for example, reacted with cyanuric chloride and piperazine, and then reacted with 2.2, 6.6-tetramethylpiperidi/
-4-Suviroke can be easily produced by reacting a cool alcohol compound. Alternatively, it can be easily produced by reacting cyanuric chloride with 2,2,6,6-tetramethylbiperidine-4-spiroketal alcohol compound and then reacting this with hyheridines.

以下具体的な合成例をもって本発明をさらに詳細に説明
するが、本発明は以下の合成例によって制限を受けるも
のではない。
The present invention will be explained in more detail below using specific synthesis examples, but the present invention is not limited by the following synthesis examples.

合成例I A)N、N−ビス(4,6−ジクロロ−1,5,5−ト
リアジ/Z−2−イル)ピペラジンの製造 無水ピペラジン12.9rをアセトン80m1に溶解し
、0〜5℃に冷却した。これに、塩化シアヌル55.5
 Vをアセトン500−に溶解した溶αr1時間で滴下
し、部下終了10〜5℃で1時間攪拌した。これに、水
酸化す) IJウム121を水80dに溶解したものを
同温度で1時間で滴下し、さらに4時間攪拌した。水1
50−を加え、r別後、水洗、乾燥して融点300℃以
上の白色粉末の生成物を得た。
Synthesis Example I A) Preparation of N,N-bis(4,6-dichloro-1,5,5-triazid/Z-2-yl)piperazine Dissolve 12.9 r of anhydrous piperazine in 80 ml of acetone and 0 to 5°C. It was cooled to To this, cyanuric chloride 55.5
A solution of V dissolved in 500° C. of acetone was added dropwise over 1 hour, and the mixture was stirred at 10 to 5° C. for 1 hour. A solution of IJium 121 (hydroxide) dissolved in 80 d of water was added dropwise to this at the same temperature over 1 hour, and the mixture was further stirred for 4 hours. water 1
50- was added thereto, separated by r, washed with water, and dried to obtain a white powder product with a melting point of 300°C or higher.

B)N、N−ビス〔4,6−ビス(9−アザ−3−エチ
ル−8,8,10,10−テトラメチル−1,5−ジオ
キサスピロ[:s、s〕−3−ウンデシルメトキン)−
1,3,5−トリアジン−2−イル〕ピベ2ジン(聚−
1、A2化合物)の製、債 9−アザ−3−ニブル−8,8,10,10−テトラメ
チル−1,5−ジオキサスピロ[5、5〕−〕s−ウン
デンルメタノール27.1fをトルエン100・mlに
溶解し、NaH3,5Fを加え、80〜100℃で1時
間攪拌した。これに、N、A−ビス(4,6−ジクロロ
−1,5,5−)リアジン−2−イル)ピペラジン8.
5vを徐々に加え、トルエン還流下12時間(ν拝した
。反応液を熱時セジイト1過後、水洗、乾燥、脱溶媒し
、白色粉末の生成物202を444た。該生成物とベン
ゼンより再結晶1〜、融点229℃の白色粉末の目的物
を得た。
B) N,N-bis[4,6-bis(9-aza-3-ethyl-8,8,10,10-tetramethyl-1,5-dioxaspiro[:s,s]-3-undecylmeth) Kin)−
1,3,5-triazin-2-yl]pibe2dine (ju-
1, A2 compound), bond 9-aza-3-nibble-8,8,10,10-tetramethyl-1,5-dioxaspiro[5,5]-]s-undenelmethanol 27.1f It was dissolved in 100ml of toluene, NaH3,5F was added, and the mixture was stirred at 80 to 100°C for 1 hour. To this, N,A-bis(4,6-dichloro-1,5,5-)riazin-2-yl)piperazine 8.
5v was gradually added, and the mixture was heated under refluxing toluene for 12 hours. The reaction solution was passed through hot cedite, washed with water, dried, and the solvent was removed to give 444ml of product 202 as a white powder. The desired product was obtained as a white powder with crystals 1 to 1 and a melting point of 229°C.

合成例2 N、N−ビス〔4,6−ビス(9−アザ−3−エチル−
8,8,9,,1n°、1叶ペンタメチル−1,5−ジ
オキサスピロ[S、S]−+−ウンデi/ルメトキシ)
−1,3,5−)リアジン−2−イルコピペラジン(表
−1、ム3化合物)の製造 9−アザ−3−エチル−8,11,9,10,10−ペ
ンタメチル−1,5−ジオキサスピロ[:s、s)−3
−ウンデンルメタノール6.5ft、N、付−ビス(4
゜6−ジクロロ−1,5,5−)リアジン−2−イル)
ピペラジン1.9?、粉末水酸化ナトリウム1.2f!
及びトルエン40m1をとり、窒素気流下20時間還流
した。水洗、乾燥後ギョーワード700(協和化学製吸
着剤)で処理し、脱溶媒した。残渣にn−ヘキサン50
−を加え、白色粉末の生成物1.51を得た。該生成物
をベンゼン/ヘキサンより再結晶し、融点220℃の白
色粉末の目的物を得た。
Synthesis Example 2 N,N-bis[4,6-bis(9-aza-3-ethyl-
8,8,9,,1n°, 1-leaf pentamethyl-1,5-dioxaspiro[S,S]-+-undi/rumethoxy)
-1,3,5-) Production of riazin-2-ylcopiperazine (Table 1, Mu3 compound) 9-aza-3-ethyl-8,11,9,10,10-pentamethyl-1,5- Dioxaspiro[:s,s)-3
-Undenelmethanol 6.5ft, N, with screws (4
゜6-dichloro-1,5,5-)riazin-2-yl)
Piperazine 1.9? , powdered sodium hydroxide 1.2f!
Then, 40 ml of toluene was taken and refluxed under a nitrogen stream for 20 hours. After washing with water and drying, it was treated with Gyoward 700 (adsorbent manufactured by Kyowa Chemical) to remove the solvent. 50% n-hexane to the residue
- was added to obtain the product 1.51 as a white powder. The product was recrystallized from benzene/hexane to obtain the desired product as a white powder with a melting point of 220°C.

本発明は前記一般式(1)で表わされる化合物を合成樹
脂に添加してその耐光性を改善するものであり、その市
加量は、通常、合成樹1]1ir100重量部に対し0
.001〜10重量部、好ましくは0.01〜3重鼠部
である。
The present invention improves the light resistance of a synthetic resin by adding the compound represented by the general formula (1) to the synthetic resin.
.. 0.001 to 10 parts by weight, preferably 0.01 to 3 parts by weight.

本発明における耐光性改善の対象となる合成樹脂として
は、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテ
ン、ポリ−3−メチルブテン、などのα−オレフィン重
合体またはエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレンー
プロピレン共重合体などのポリオレフィンおよびこれら
の共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフ
ッ化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン
、塩素化ポリプロピレン、ポリフッソ化ビニリデン、臭
素化ポリエチレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル
ープロヒレン共重合体、塩化ビニル−スチレン共重合体
、塩化ビニル−イソブチレン共重合体、塩化ビニル−塩
化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−スチレン−無水マ
レイン酸三元共重合体、塩化ビニル−スチレン−アクリ
ロニトリル共重合体、塩化ビニル−ブタジェン共重合体
、塩化ビニル−イソプレン共重合体、塩化ビニル−塩素
化プロピレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−
酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エス
テル共重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合
体、塩化ビニルーメククリル酸エステル共重合体、塩化
ビニル−アクリロニトリル共重合体、内部可塑化ポリ塩
化ビニルなどの含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、クマロ
ン樹口旨、ボリスチレ/、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹
脂、スチレンと他の単鼠体(例えば無水マレイン酸、ブ
タジェン、アクリロニトリルなど)との共重合体、アク
リロニトリル−ブタジェン−スチレン共重合体、アクリ
ル酸エステル−ブタジェン−スチレン共重合体、メタク
リル酸エステル−ブタジェン−スチレン共重合体、ポリ
メチルメタクリレートなどのメタクリレートIII脂、
ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビ
ニルブチラール、直鎖ポリエステル、ポリフエニレンオ
キンド、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアセター
ル、ポリウレタン、繊維素系樹脂、あるいはフェノール
四指、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシl+4脂、
不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂などを挙げる
ことができる。更に、インプレンゴム、ブタジェンゴム
、アクリロニトリル−ブタジェン共重合ゴム、スチレン
−ブタジェン共重合ゴムなどのゴム類やこれらの樹脂の
ブレンド品であってもよい。
Examples of synthetic resins to be improved in light resistance in the present invention include α-olefin polymers such as polyethylene, polypropylene, polybutene, and poly-3-methylbutene, ethylene-vinyl acetate copolymers, and ethylene-propylene copolymers. Polyolefins such as polymers and their copolymers, polyvinyl chloride, polyvinyl bromide, polyvinyl fluoride, polyvinylidene chloride, chlorinated polyethylene, chlorinated polypropylene, polyvinylidene fluoride, brominated polyethylene, chlorinated rubber, vinyl chloride Vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-ethylene copolymer, vinyl chloride-prohylene copolymer, vinyl chloride-styrene copolymer, vinyl chloride-isobutylene copolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride -Styrene-maleic anhydride terpolymer, vinyl chloride-styrene-acrylonitrile copolymer, vinyl chloride-butadiene copolymer, vinyl chloride-isoprene copolymer, vinyl chloride-chlorinated propylene copolymer, vinyl chloride -Vinylidene chloride-
Vinyl acetate terpolymer, vinyl chloride-acrylic acid ester copolymer, vinyl chloride-maleic acid ester copolymer, vinyl chloride-methacrylic acid ester copolymer, vinyl chloride-acrylonitrile copolymer, internal plasticization Copolymerization of halogen-containing synthetic resins such as polyvinyl chloride, petroleum resins, coumaron bark, polyvinyl acetate, acrylic resins, styrene and other monomers (e.g. maleic anhydride, butadiene, acrylonitrile, etc.) methacrylate III resins such as acrylonitrile-butadiene-styrene copolymers, acrylic ester-butadiene-styrene copolymers, methacrylic ester-butadiene-styrene copolymers, and polymethyl methacrylate;
Polyvinyl alcohol, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, linear polyester, polyphenylene oxide, polyamide, polycarbonate, polyacetal, polyurethane, cellulose resin, phenol resin, urea resin, melamine resin, epoxy l+4 resin,
Examples include unsaturated polyester resins and silicone resins. Further, rubbers such as imprene rubber, butadiene rubber, acrylonitrile-butadiene copolymer rubber, styrene-butadiene copolymer rubber, and blends of these resins may also be used.

また、過酸化物あるいは放射線等によって架橋させた架
稿ポリエチレン等の架橋重合体及び発泡剤によって発泡
させた発泡ポリスチレン等の発泡重合体も包含される。
Also included are crosslinked polymers such as crosslinked polyethylene crosslinked with peroxide or radiation, and foamed polymers such as expanded polystyrene foamed with a foaming agent.

本発明の組成物にさらにフェノール系の抗酸化剤を添加
することによって酸化安定性を改善することができる。
Oxidative stability can be improved by further adding a phenolic antioxidant to the composition of the invention.

これらのフェノール系抗酸化剤としてはたとえば、2,
6−ジー第5ブチル−p−クレゾール、2.6−ジフェ
ニル−4−オクタデンロキンフェノール、ステアリル−
(5,5−ジ−メチル−4−ヒドロキンベンジル)チオ
グリコレート、ステアリル−β−(4−ヒドロΦンー5
,5−ジー第5ブチルフェニル)プロピオネート、ジス
テアリル−3,5−ジー第3ブチル−4−ヒドロキンベ
ンジルホスホネート、2,4.6−)リス(3′、5′
−ジー第5ブチル−4′−ヒドロキンベンジルチオ)−
1,5,5−トリアジン、ジステアリル(4−ヒドロキ
ン−3−メチル−5−$5ブチル)ベンジルマロネート
、2.イーメチレノビス(4−メチル−6−第3ブチル
フエノール)、4.4’−メチレンビス (2,6−ジ
ー第6プチルフエノール)、2゜2′−メチレンビス〔
6−(1−メチルシクロヘキンル)p−クレゾール〕、
ビス〔3,5−ビス (4−ヒドロキ;/−5−第5ブ
チルフェニル)ブチリックアンドフグリコールエステル
、4.4’−ブチリゾ/ビス(6−第5ブチル−m−ク
レゾール)、2,2′−エチリデンビス(4,6−ジー
第3ブチルフエノール)、2,2′−エチリデンビス(
4−第2ブチル−6−第3ブチルフエノール)、 i、
j、3−)リス (2−メチル−4−ヒドロキシ−5−
第3ブチルフエニル)フッソ、ビス〔2〜第3ブチル−
4−メチル−6−(2−ヒドロキN/−5−第6ブチル
−5−メチルベンジル)フェニル〕テレフタレート、i
、3.5−トリス(2、6−シメチルー3−ヒドロキン
−4−第3ブチル)ペンジルイソンアヌレート、1.5
.5−トリス(3,5−ジー第5ブチル−4−ヒドロキ
ンベンジル)−2,4,6−トリノチルベンゼン、テト
ラキス〔メチレン−5−(5,5−ジー第5ブチル−4
−ヒドロキンフェニル)グロビオネτト〕メタン、1,
3.5−トリス(5,5−ジー第5ブチル−4−ヒドロ
キンベンジル)イソシアヌレート、1,3.5−)リス
[(3,s−ジー第5ブチル−4−ヒドロキシフェニル
)プロピオニルオキンエチル〕イソンアヌレート、2−
オクチルチオ−4,6−ジ(4−ヒドロキン−5,5−
ジー第3ブチル)フェノキン−1,5,5−)リアジン
、4 、−4−チオビス(6−第5ブチル−m−クレゾ
ール)などのフェノール類及び4,4′−ブチリデンビ
ス(2−第57’チル−5−メチルフェノール)の炭酸
オリゴエステル(例えば重合度2,5,4゜5.6,7
,8,9.10など)などの多価フェノール炭酸オリゴ
エステル類があげられる。
Examples of these phenolic antioxidants include 2,
6-di-5-butyl-p-cresol, 2,6-diphenyl-4-octadenroquinephenol, stearyl-
(5,5-di-methyl-4-hydroquinbenzyl)thioglycolate, stearyl-β-(4-hydroΦ-5
, 5-di-tert-butylphenyl)propionate, distearyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroquine benzylphosphonate, 2,4.6-)lis(3',5'
-di-5-butyl-4'-hydroquinebenzylthio)-
1,5,5-triazine, distearyl (4-hydroquine-3-methyl-5-$5butyl)benzylmalonate, 2. E-methylenobis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4'-methylenebis (2,6-di-6-butylphenol), 2゜2'-methylenebis [
6-(1-methylcyclohexyl)p-cresol],
Bis[3,5-bis(4-hydroxy;/-5-5-butylphenyl)butyric and fuglycol ester, 4.4'-butylizo/bis(6-5-5-butyl-m-cresol), 2, 2'-ethylidene bis(4,6-di-tert-butylphenol), 2,2'-ethylidene bis(
4-sec-butyl-6-tert-butylphenol), i,
j, 3-) Lis (2-methyl-4-hydroxy-5-
tert-butyl phenyl) fluoride, bis[2-tert-butyl-
4-Methyl-6-(2-hydroxyN/-5-6th-butyl-5-methylbenzyl)phenyl]terephthalate, i
, 3.5-tris(2,6-dimethyl-3-hydroquine-4-tert-butyl)penzylisonanurate, 1.5
.. 5-tris(3,5-di-5-butyl-4-hydroquinbenzyl)-2,4,6-trinotylbenzene, tetrakis[methylene-5-(5,5-di-5-butyl-4
-hydroquinphenyl)globionet]methane, 1,
3.5-tris(5,5-di-5-butyl-4-hydroxybenzyl)isocyanurate, 1,3.5-)lis[(3,s-di-5-butyl-4-hydroxyphenyl)propionyl Quinethyl] isone anurate, 2-
Octylthio-4,6-di(4-hydroquine-5,5-
Phenols such as di-tert-butyl)phenoquine-1,5,5-)riazine, 4,-4-thiobis(6-5-butyl-m-cresol) and 4,4'-butylidenebis(2-57') methyl-5-methylphenol) carbonate oligoester (for example, polymerization degree 2,5,4°5.6,7
, 8, 9, 10, etc.).

本発明の組成物にさらに硫黄系の抗酸化剤を加えてその
酸化安定性の改善をはかることもできる。これらの硫黄
系抗酸化剤としては、例えばジラウリル−、シミリスチ
ル−、ジステアリル−などのジアルキルチオジプロピオ
ネート及びブチル−、オクチル−、ラウリル−、ステア
リル−などのアルキルチオグロピオン酸の多価アルコー
ル(例えばグリセリン、トリメチロールエタン、トリメ
チロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリスヒド
ロキンエチルイソシアヌレート)のエステル(例えばペ
ンタエリスリトールテトンラウリルチオプロピオネート
)があげられる。
It is also possible to further add a sulfur-based antioxidant to the composition of the present invention to improve its oxidative stability. Examples of these sulfur-based antioxidants include dialkylthiodipropionates such as dilauryl, similystyl, and distearyl, and polyhydric alcohols of alkylthioglopionic acids such as butyl, octyl, lauryl, and stearyl. Examples include esters of glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane, pentaerythritol, trishydroquine ethyl isocyanurate (eg, pentaerythritol tetone lauryl thiopropionate).

本発明の組成物に、さらにホスファイト等の含リン化合
物を添加することによって、耐光性及び耐熱性を改善す
ることができる。この含リン化合物としては、例えばト
リオクチルホスファイト、トリンウリルホスファイト、
トリデンルホスファイト、オクチル−ジフェニルホスフ
ァイト、トリス(2,4−ジー第3ブチルフエニル)ホ
スファイト、トリフェニルホスファイト、トリス(ブト
キンエチル)ホスファイト、トリス(ノニルフェニル)
ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホ
スファイト、テ ト ニア  (ト リ デ シ ル)
   −1,1,5−)  リ ス (2−メテル−5
−第5ブチル−4−ヒドロキシフエニ/I/)ブタフジ
ホスファ−1ト、テト2(CI2〜15混合アルキル)
 −4、4’−インプロピリデンジフェニルジホスファ
イト、テトラ(トリデシル) −4、4’−ブチリデン
ビス(5−メチル−6−第5フチルフエノール)ジホス
ファイト、トリス(3,5−ジー第5ブチル−4−ヒド
ロキンフェニル)ホスファイト、トリス(七)・ジ混合
ノニルフェニル)ホスファイト、水素化−4,4’−イ
ンプロビリテンジフェノールポリホスファイト、ビス(
オクチルフェニル)−ビス(4、4’−ブチリデンビス
(3−メチル−6−第6プチルフエノール)〕・〕1,
6−ヘキサンジオールジホスファイトフェニル・4.4
−イソプロピリデンジフェノール彎ペンタエリスリトー
ルジホスファイト、ビス(2,4−ジー第5ブチルフエ
ニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2
,6−ジー第5ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエ
リスリトールジホスファイト、トリスC4、4’−イン
プロピリデンビス(2−第5フチルフエノール)〕ホス
ファイト、フェニル・ジインデンルポスファイト、シ(
ノニルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト
、トリス(1,!+−ジーステアロイルオキシイングロ
ビル)ホスファイト、4,4′−イソプロピリデンビス
(2−第5フチルフエノール)・シ(ノニルフェニル)
ホスファイト、9.10−ジ−ハイドロ−9−オキサ−
10−フォスノアフェナンスレン−10−オキサイド、
テトラキス(2,4−ジー第3ブチルフエニル) −4
,4’−ピフエニレンジホスホナイトなどがあげられる
Light resistance and heat resistance can be improved by further adding a phosphorus-containing compound such as phosphite to the composition of the present invention. Examples of the phosphorus-containing compound include trioctyl phosphite, trichouryl phosphite,
Tridenyl phosphite, octyl-diphenyl phosphite, tris(2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite, triphenyl phosphite, tris(butquinethyl) phosphite, tris(nonylphenyl)
Phosphite, distearyl pentaerythritol diphosphite, tetonia (tridecyl)
-1,1,5-) squirrel (2-mether-5
-5th-butyl-4-hydroxyphenylene/I/)butafdiphospha-1to,teto2 (CI2-15 mixed alkyl)
-4,4'-inpropylidene diphenyl diphosphite, tetra(tridecyl) -4,4'-butylidene bis(5-methyl-6-5-phthylphenol) diphosphite, tris(3,5-di-5-butyl -4-hydroquinphenyl) phosphite, tris(7)-dimixed nonylphenyl) phosphite, hydrogenated -4,4'-improbiritene diphenol polyphosphite, bis(
octylphenyl)-bis(4,4'-butylidenebis(3-methyl-6-6-butylphenol)]・]1,
6-hexanediol diphosphite phenyl 4.4
-isopropylidene diphenol pentaerythritol diphosphite, bis(2,4-di-5-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite, bis(2
, 6-di-5-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite, TrisC4, 4'-impropylidene bis(2-5-phthylphenol)] phosphite, phenyl diindenle phosphite, (
nonylphenyl) pentaerythritol diphosphite, tris(1,!+-distearoyloxyinglovir) phosphite, 4,4'-isopropylidene bis(2-5th phthylphenol) cy(nonylphenyl)
Phosphite, 9.10-di-hydro-9-oxa-
10-phosphonoaphenanthrene-10-oxide,
Tetrakis(2,4-di-tert-butylphenyl) -4
, 4'-pyphenylene diphosphonite and the like.

本発明の組成物に他の光安定剤を添加することによって
その耐光性をさらに改善することができるうこれらの光
安定剤としては、泗えば、2−ヒドロキン−4−メトキ
ンベンゾフェノ/、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキ
ンベンツ゛フェノン、2.2’−ジ−ヒドロキン−4−
メトキンベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキンベ7シ
フエノン等のヒドロヤシベンゾフェノン類、2−(2’
−ヒドロキン−?−1−ブチルー5′−メチルフェニル
)−S−クロロベン/)り7/−ル、2−(2’−ヒド
ロキシ−3′、c!−ジ−t−ブチルフェニル)−5−
クロロベンツトリアゾール、2−(2’−ヒドロキン−
5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2− (
2−ヒドロキシ−s 、 s’−シーt −y ミルフ
ェニル)ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール類
、フェニルサリンレー)、p−t−プチルフェニルサリ
ンレー)、2.4−ジ−t−ブチルフェニル−3,5−
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキンベンゾエート、ヘキサ
テンルー3,5−ジーt−ブチル−4−ヒドロキンベン
ゾエート等のベンゾエート類、2,2′−チオビス(4
−t−オクチルフェノ−ル)Nl塩、(: 2 、2’
−チオビス (4−t−オクチルフェノラート))−n
−ブチルアミンN1、(3,5−ジ−t−ブチル−4−
ヒドロ午ジベンジル)ホスホン酸モノエチルエステルN
i塩等のニッケル化合物類、α−シアノ−β−メチル−
β−(p−ノトキL/)、ニニル)アクリル類メチル停
の置換アクリロニトリルfA及UN −2−:c、チル
フェニル−g−2−ニドヤシ−5−第3ブチルフエニル
シユウしとジアミド、N−2−エチルフェニル−14−
2−エトキシ゛フェニルンユウ酸ジアミド等のンユウ酸
ジアニリド類があげられる。
The light resistance of the composition of the present invention can be further improved by adding other light stabilizers to the composition, such as 2-hydroquine-4-methquinenzophenol, 2-Hydroxy-4-n-octoquine benzphenone, 2,2'-dihydroquine-4-
Hydroacid benzophenones such as methquin benzophenone, 2,4-dihydroquimbe 7-cyphenone, 2-(2'
-Hydroquine-? -1-butyl-5'-methylphenyl)-S-chloroben/)ri7/-l, 2-(2'-hydroxy-3',c!-di-t-butylphenyl)-5-
Chlorobenztriazole, 2-(2'-hydroquine-
5'-methylphenyl)benzotriazole, 2-(
Benzotriazoles such as 2-hydroxy-s, s'-t-y mylphenyl) benzotriazole, phenylsaline), pt-butylphenylsaline), 2,4-di-t-butylphenyl- 3,5-
Benzoates such as di-t-butyl-4-hydroquine benzoate, hexatene-3,5-di-t-butyl-4-hydroquine benzoate, 2,2'-thiobis(4
-t-octylphenol)Nl salt, (: 2, 2'
-thiobis(4-t-octylphenolate))-n
-butylamine N1, (3,5-di-t-butyl-4-
Hydrogen dibenzyl)phosphonic acid monoethyl ester N
Nickel compounds such as i salts, α-cyano-β-methyl-
β-(p-NOTOKIL/), NINYL) ACRYLICS Methyl-substituted acrylonitrile fA and UN-2-:c, tylphenyl-g-2-nidoyasi-5-tert-butylphenyl-5-tert-butylphenyl sulfate diamide, N- 2-ethylphenyl-14-
Examples include oxalic acid dianilides such as 2-ethoxyphenyl oxalic acid diamide.

その他必要に応じて、本発明組成物はl金属不活性化剤
、造核側、金属石けん、有機錫化合物、可塑剤、エボキ
ン化冶物、顔料、充填剤、発泡剤、帯電防止剤、難燃側
、消削、力1工助削等を包含させることができる。
In addition, if necessary, the composition of the present invention may include a metal deactivator, a nucleating agent, a metal soap, an organic tin compound, a plasticizer, an evokinized compound, a pigment, a filler, a blowing agent, an antistatic agent, a It can include combustion side, extinguishing, force one-stroke auxiliary cutting, etc.

次に本発明を実施例によって具体的に説明する。しかし
ながら、本発明はこれらの実施例」によって限定される
ものではない。
Next, the present invention will be specifically explained with reference to Examples. However, the present invention is not limited to these Examples.

実施例1 ポリプロピレン            100 重電
部ステアリルーβ−3,5−ジー第5ブチル−4−0,
2ヒドロキシフエニルグロピオネート 安定剤(表−2)          0・3上記配合
にて厚さ0.3mのプレスシートヲ作成し、高圧水銀2
ンプを用いて耐光性試験を行なった。また80℃の熱水
に15時間浸漬後のシートについても耐光性試験を行な
った。その結果を表−2に示す。
Example 1 Polypropylene 100 Heavy electric part stearyl β-3,5-di-5-butyl-4-0,
2-Hydroxyphenylglopionate stabilizer (Table 2) 0.3 A press sheet with a thickness of 0.3 m was prepared using the above formulation, and high-pressure mercury 2
A light resistance test was conducted using a lamp. A light resistance test was also conducted on the sheet after it had been immersed in hot water at 80° C. for 15 hours. The results are shown in Table-2.

表        2 実施例2 通常の安定剤は樹脂の高温加工時に揮発、分解等によシ
その効果が著るしく失なわれることが知られている。
Table 2 Example 2 It is known that ordinary stabilizers lose their effectiveness significantly due to volatilization, decomposition, etc. during high-temperature processing of resins.

本実施例では押し出し加工を繰シ返し行なうことにより
高温加工による影響を確かめた。
In this example, the effect of high-temperature processing was confirmed by repeatedly performing extrusion processing.

次の配合によシ樹脂と添加剤をミキサーで5分間混合し
た後、押し出し機でコンパウンドを作成した。(シリン
ダ一温度250℃、240℃、ヘッドダイス温度250
℃、回転数2Orpm)押し出しを5回繰り返し行なっ
た後このコンパウンドを用いて試験片を射出成形機で作
成した。
After mixing the resin and additives in a mixer for 5 minutes according to the following formulation, a compound was prepared in an extruder. (Cylinder temperature 250℃, 240℃, head die temperature 250℃
After extrusion was repeated five times (at a rotation speed of 20° C. and a rotational speed of 2 rpm), a test piece was prepared using an injection molding machine using this compound.

(シリンダ一温度240℃、ノズル温度250℃、射出
圧475 Kq/c!l ) 得られた試験片を用いて高圧水銀ランプで耐光性試験を
行なった。また、押し出し1回のものについても同様に
試験した。その結果を表−3に示す。
(Cylinder temperature: 240°C, nozzle temperature: 250°C, injection pressure: 475 Kq/c!l) Using the obtained test piece, a light resistance test was conducted using a high-pressure mercury lamp. In addition, the same test was conducted for a sample that had been extruded once. The results are shown in Table-3.

〈配 合〉 エチレン−プロピレン共重合樹脂    100 重量
部ステアリン酸カルシウム      0.2重量部ス
テアリル−β−3,5−ジー第30.1ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニルプ ロピオネート ジラウリルチオジグロビオネート0.2安定剤(表−s
 )       0.2表   −5 実施例3 ポリエチレン            100 重量部
Ca−ステアレート           1.0テト
ラキス〔メチレン−3−(5,5−0,1ジー第3ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートコメタン ジステアリルチオジグロビオネート    0.3安定
剤(表−4)        0.2上記配合物を混線
−後プレスして厚さ0.5 mのシートを作成した。こ
のシートを用いてウェザオフ−ター中で耐光性を測定し
、脆化するまでの時間を測定した。その結果を表−4に
示す。
<Blend> Ethylene-propylene copolymer resin 100 parts by weight Calcium stearate 0.2 parts by weight Stearyl-β-3,5-di-30.1-butyl-4-hydroxyphenylpropionate Dilaurylthiodiglobionate 0.2 Stable Agent (Table-s
) 0.2 Table -5 Example 3 Polyethylene 100 parts by weight Ca-stearate 1.0 Tetrakis [methylene-3-(5,5-0,1-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate cometanedi] Stearyl thiodiglobionate 0.3 Stabilizer (Table 4) 0.2 The above blend was mixed and then pressed to form a sheet with a thickness of 0.5 m. Using this sheet, the light resistance was measured in a weather oven, and the time until it became brittle was measured. The results are shown in Table 4.

表   −4 実施例4 エチレン−酢酸ビニルコポリマー    1aa  重
量部2.6−ジー第3ブチル−p−クレゾール   0
.1Ca−ステアレート            0.
1Zn−ステアレート0.1 ジイソデシルフェニルホスファイト     0.2安
定剤(表−5)          0.2上記配合物
をロール上130℃で混線後、140℃でプレス7−ト
(厚さ0.4 m )を作成した。
Table 4 Example 4 Ethylene-vinyl acetate copolymer 1aa Part by weight 2.6-di-tert-butyl-p-cresol 0
.. 1Ca-stearate 0.
1 Zn-stearate 0.1 Diisodecyl phenyl phosphite 0.2 Stabilizer (Table 5) 0.2 The above blend was mixed on a roll at 130°C, then pressed at 140°C to form a 7-plate (thickness: 0.4 m). )It was created.

このシートをウエザカメ−ター中で500時間照射後の
抗張力残率を測定した。その結果を表−5に示す。
The residual tensile strength of this sheet was measured after 500 hours of irradiation in a weather camera. The results are shown in Table-5.

表   −5 実施例5 ポリ塩化ビニル         1004−駄部ジオ
クチルフタレート        48エボキ7化犬豆
油          2トリスノニルノエニルホスノ
アイ)   0.2Ca−ステアレート       
   1.0Zn−ステアレート          
0.1安定剤(表−6)        0.3上記配
合物をロール上で混練し厚さ1簡のシートを作成した。
Table 5 Example 5 Polyvinyl chloride 1004-Dabe dioctyl phthalate 48 Eboki 7ated dog bean oil 2 Trisnonylnoenylphosnoai) 0.2Ca-stearate
1.0Zn-stearate
0.1 Stabilizer (Table 6) 0.3 The above blend was kneaded on a roll to form a sheet with a thickness of 1 layer.

このシートを用いウエザカメ−ター中での耐光性試験を
行なった。その結果を表−6に示す。
Using this sheet, a light resistance test was conducted in a weather camera. The results are shown in Table-6.

表   −6 実施例6 ABS樹脂             100  @置
部4.4′−ブチリデンビス(2−第5o、1ブチル−
m−クレゾール) 安定剤(表−7)          0.3上記配合
物をロール練り後プレスして厚さ3簡の7−トを作成し
た。このソートを用いウェザオメーターで800時間照
射後の抗張力残率を測定した。その結果を表−7に示す
Table-6 Example 6 ABS resin 100 @ placement part 4.4'-butylidene bis(2-5o, 1-butyl-
(m-cresol) Stabilizer (Table 7) 0.3 The above blend was kneaded with a roll and then pressed to make a 7-sheet with a thickness of 3 sheets. Using this sort, the residual tensile strength after 800 hours of irradiation was measured using a weatherometer. The results are shown in Table-7.

表   −7 実施例7 ポリウレタン樹脂(旭電化製U−100)  +00 
 置部部Ba−ステアレート0.7 Zn−ステアレート0.3 2.6−ジー第3ブチル−p−クレゾール   0.1
安定剤(表−8>         0.3上記配合′
v1:Jを70℃で5分間コール上で混練し、120℃
5分間プレスして厚さ0.5闇の′/−トを作成した。
Table-7 Example 7 Polyurethane resin (Asahi Denka U-100) +00
Separate part Ba-stearate 0.7 Zn-stearate 0.3 2.6-di-tert-butyl-p-cresol 0.1
Stabilizer (Table 8 > 0.3 above formulation'
v1: Knead J on cole at 70℃ for 5 minutes, then knead at 120℃
Pressing was carried out for 5 minutes to create a sheet with a thickness of 0.5 mm.

このソートをフェードメーターにて30時間照射後の伸
び残率を測定した。
This sort was irradiated for 30 hours and the residual elongation rate was measured using a fade meter.

その結果を表−8に示す。The results are shown in Table-8.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 合成樹脂100重月部に、次の一般式(1)で表わされ
る化合物0.001〜10重量部を添加してなる安定化
された合成樹脂組成物。 (式中、R1は水素原子、オキシルまたはアル中ル基を
示し、R2は圓級アルキル基を示し、R5、R11、R
,及びR6は夫々水素原子または低級アルR7及びR8
は夫々、水素原子、アルキル基ま示す。)
[Scope of Claims] A stabilized synthetic resin composition obtained by adding 0.001 to 10 parts by weight of a compound represented by the following general formula (1) to 100 parts by weight of a synthetic resin. (In the formula, R1 represents a hydrogen atom, oxyl or alkyl group, R2 represents a round alkyl group, R5, R11, R
, and R6 are hydrogen atoms or lower alkyl R7 and R8, respectively.
represent a hydrogen atom or an alkyl group, respectively. )
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