JPS5821628A - ノルボルナジエン誘導体およびその製造方法 - Google Patents
ノルボルナジエン誘導体およびその製造方法Info
- Publication number
- JPS5821628A JPS5821628A JP56117613A JP11761381A JPS5821628A JP S5821628 A JPS5821628 A JP S5821628A JP 56117613 A JP56117613 A JP 56117613A JP 11761381 A JP11761381 A JP 11761381A JP S5821628 A JPS5821628 A JP S5821628A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- derivative
- formula
- trifluoromethyl
- methyl
- product
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ノルボルナジェン骨格の一端にメチル基を1
個または2個、および他の一端にトリフルオロメチル基
1個または2個導入され、少くとも夫々の1個が各端部
の同じ儒に位置されたことを特徴とするノルボルナジェ
ン鰐導体およびその製造方法に関するものである。
個または2個、および他の一端にトリフルオロメチル基
1個または2個導入され、少くとも夫々の1個が各端部
の同じ儒に位置されたことを特徴とするノルボルナジェ
ン鰐導体およびその製造方法に関するものである。
ノルボルナジェン(以下NBDと略記する)は、紫外線
を照射されることにより歪のある結合を分子内に持つク
ワドリシクレy(以下QDCと略記する)K異性化し、
適当な触媒との接触で元に罠り、その際およそ25Ks
al/−・Jの熱を放出することが知られている。
を照射されることにより歪のある結合を分子内に持つク
ワドリシクレy(以下QDCと略記する)K異性化し、
適当な触媒との接触で元に罠り、その際およそ25Ks
al/−・Jの熱を放出することが知られている。
しかし、とのNID(hp、91℃、mp、−19℃)
は、その蒸気圧が 20℃で5.451H# 30℃でz61 40℃で1α91 というよう(、日常温度域で比較的高いため引火性が高
く、通常建築物中での使用には危険が伴う。(ちなみK
QDCにおいては、20℃で2.2sH1,50℃で3
.4cmHI、40tで5.8txgH9と約1/2で
ある。)更にまたNBD、QDC共(非常に強い臭気を
持ち、これを吸引する人に不快感を与えるなどの大きな
欠点を持っている。
は、その蒸気圧が 20℃で5.451H# 30℃でz61 40℃で1α91 というよう(、日常温度域で比較的高いため引火性が高
く、通常建築物中での使用には危険が伴う。(ちなみK
QDCにおいては、20℃で2.2sH1,50℃で3
.4cmHI、40tで5.8txgH9と約1/2で
ある。)更にまたNBD、QDC共(非常に強い臭気を
持ち、これを吸引する人に不快感を与えるなどの大きな
欠点を持っている。
また、NBDは可視光域での吸光−を持たないため、塩
化第1鋼などの適当な増感剤を用いないと、太陽光では
能率良く光異性化が起らない。このためNBDの長波長
光の吸収性を改善するための工夫として、NlIDをジ
メチルジシアノイCすることの有効性が報告されている
(告田善−1日本化学会1981年春季年会)。
化第1鋼などの適当な増感剤を用いないと、太陽光では
能率良く光異性化が起らない。このためNBDの長波長
光の吸収性を改善するための工夫として、NlIDをジ
メチルジシアノイCすることの有効性が報告されている
(告田善−1日本化学会1981年春季年会)。
しかし、このNlIDのジメチルジシアノ誘導体は、シ
アノ基を有する化合物だけKm性の面で問題があると考
えられ、その点K111する検討が必要とされるであろ
う。
アノ基を有する化合物だけKm性の面で問題があると考
えられ、その点K111する検討が必要とされるであろ
う。
本発明者らは、これらの点に留意し、より有効なNID
誘導体を得るべく鋭意思考をめぐらせ、電子供与性の強
いメチル基と電子受容性の強いトリフルオロメチル基と
を少くとも19I4、NID#)底部2つの2覆結台の
夫々の互に向き合う側に導入することによって、分子内
の電荷移動性を計り、光吸収スペクトルの長波長側の拡
大を計ることの可能性と、化学結合論的に安定なトリフ
ルオロメチル基な導入することで毒性問題が回避され、
蒸気圧の低下それにもとづく引火性の低下および一燃化
も期待し得るだろうと予測し★− よって、この予測にもとすき本発明者らは、その様なN
lID@導体の合成法を確立すべく鋭意研究し、その化
合物の合成に成功しち即ち、その合成法はシフ誼ペンタ
ジェンの2−メチル誘導体または2.3−ジメチル誘導
体と5.5*5−)リフルオCl−1−プロピンまたは
へキナフルオロ−2−ブチンを付加反応させる点を骨子
とするもので、以下(これを反応式と共に示す。
誘導体を得るべく鋭意思考をめぐらせ、電子供与性の強
いメチル基と電子受容性の強いトリフルオロメチル基と
を少くとも19I4、NID#)底部2つの2覆結台の
夫々の互に向き合う側に導入することによって、分子内
の電荷移動性を計り、光吸収スペクトルの長波長側の拡
大を計ることの可能性と、化学結合論的に安定なトリフ
ルオロメチル基な導入することで毒性問題が回避され、
蒸気圧の低下それにもとづく引火性の低下および一燃化
も期待し得るだろうと予測し★− よって、この予測にもとすき本発明者らは、その様なN
lID@導体の合成法を確立すべく鋭意研究し、その化
合物の合成に成功しち即ち、その合成法はシフ誼ペンタ
ジェンの2−メチル誘導体または2.3−ジメチル誘導
体と5.5*5−)リフルオCl−1−プロピンまたは
へキナフルオロ−2−ブチンを付加反応させる点を骨子
とするもので、以下(これを反応式と共に示す。
シクロペンタジェンの2−メチル誘導体は、市販のメチ
ルシフ四べyタジェングイ!−を加熱分解して得らゎ、
2.3−ジメチル誘導体は、 R1nkes法によって
1−メチル−1−シクロペンテンから2−メチルベンテ
ノンを合成として得られる。この1.2−ジメチル体と
2,5−ジメチル体の分離は、20〜40’CKおける
ガスクOY)グラフィーにより分取される。分離に当っ
て用いられる最適のカラム担体としてはCam@r口・
CK(商品名)をPIG400(1%)+A#NO,(
5%)で処理したものが挙げられる。
ルシフ四べyタジェングイ!−を加熱分解して得らゎ、
2.3−ジメチル誘導体は、 R1nkes法によって
1−メチル−1−シクロペンテンから2−メチルベンテ
ノンを合成として得られる。この1.2−ジメチル体と
2,5−ジメチル体の分離は、20〜40’CKおける
ガスクOY)グラフィーにより分取される。分離に当っ
て用いられる最適のカラム担体としてはCam@r口・
CK(商品名)をPIG400(1%)+A#NO,(
5%)で処理したものが挙げられる。
一方、5.5.5−→リフルオロー1−プロピンおよび
へ命ナフルオEl−2−ブチンは、いずれも市販のもの
が利用し得る。
へ命ナフルオEl−2−ブチンは、いずれも市販のもの
が利用し得る。
これらVりpペンタジェン誘導体とア七チン化合物との
付加反応は、いわゆるDi@1m−ム1jsr反応によ
る前者の1.4位炭素と後者のアセチレン結合炭素との
付加反応である。本発明者らが鋭意検討したところによ
ると、この反応は、低温でも良く、かつ連かに進行し、
2,3−ジメチルシクロペンタジェンを反応させる場合
には、そのものの純度が高ければ目的物も純度よく高収
率で得られる。勿論ジメチ、A/yクーペンタジェンを
予め分散せず、1,2−ジメチル体と2.5−ジメチル
体の混合物をアセチレン化合物と反応させた後Ki1ス
クp分堆し、目的物を得ることも可能である。
付加反応は、いわゆるDi@1m−ム1jsr反応によ
る前者の1.4位炭素と後者のアセチレン結合炭素との
付加反応である。本発明者らが鋭意検討したところによ
ると、この反応は、低温でも良く、かつ連かに進行し、
2,3−ジメチルシクロペンタジェンを反応させる場合
には、そのものの純度が高ければ目的物も純度よく高収
率で得られる。勿論ジメチ、A/yクーペンタジェンを
予め分散せず、1,2−ジメチル体と2.5−ジメチル
体の混合物をアセチレン化合物と反応させた後Ki1ス
クp分堆し、目的物を得ることも可能である。
2−メチルシクロペンタジェンと3.5.3−トリフル
オー−1−プロピンとを反応させる場合は、目的化合物
とは別に、 メチル基とFリフルオロメチル基が互に対角位置に存在
する化含物鞄成するので、目的イーヒ合物を高純度で得
るためには、やはりガスクロ分取を行うことになる。
オー−1−プロピンとを反応させる場合は、目的化合物
とは別に、 メチル基とFリフルオロメチル基が互に対角位置に存在
する化含物鞄成するので、目的イーヒ合物を高純度で得
るためには、やはりガスクロ分取を行うことになる。
(式中、R3および−は、Hまたは−CH1で、少くと
もその1つが一〇H1を表わし、R1および−は■また
は−cr、で、少くともその1つがR3または−の−C
Hsと同じ側にある一cr、を表わす。) 尚、本発明の合成法を実施するに際し、反応容−が金属
である場合−比し、ガラス容器やガラス、2イニング、
を有する金属容器等の、ガラス内面を有する反応容器で
ある方が、目的物の収率および純度が高いので好結果が
得られる。
もその1つが一〇H1を表わし、R1および−は■また
は−cr、で、少くともその1つがR3または−の−C
Hsと同じ側にある一cr、を表わす。) 尚、本発明の合成法を実施するに際し、反応容−が金属
である場合−比し、ガラス容器やガラス、2イニング、
を有する金属容器等の、ガラス内面を有する反応容器で
ある方が、目的物の収率および純度が高いので好結果が
得られる。
、本発明に係るこのNID誘導体は、太陽光または水銀
ランプもしくはキセノンランプ等の光を照射すると容易
に環化異性化し、QDC誘導体に導かれる。勿論、イタ
メトキシアセトフェノン、電ヒラーケトンその他の増感
剤を用いるととによりこの異性化が促進される。そして
この異性化物を反応管またはオートクレーブ内で熱を加
えると、確かに元のNBD@導体Kllす、かつ発熱す
ることが確認され、關生物の轡成は認められない。また
復元反応の触媒とし【は、c、i6wcI、−ムIC1
,などが有効であり、発熱して元に戻る。
ランプもしくはキセノンランプ等の光を照射すると容易
に環化異性化し、QDC誘導体に導かれる。勿論、イタ
メトキシアセトフェノン、電ヒラーケトンその他の増感
剤を用いるととによりこの異性化が促進される。そして
この異性化物を反応管またはオートクレーブ内で熱を加
えると、確かに元のNBD@導体Kllす、かつ発熱す
ることが確認され、關生物の轡成は認められない。また
復元反応の触媒とし【は、c、i6wcI、−ムIC1
,などが有効であり、発熱して元に戻る。
このNID誘導体は、本発明者らの予測通り、環化異性
化に当って吸収する光の波長領域がNBDK比して可視
光領域まで及び、例えばR,=R,=CれでR1=C−
の化合物においては420mmJtf、近、同じ<、I
t、m%=cH,の化合物においては49011!II
付近の波長領域まで吸光領域が及び、光エネルギーの蓄
蔵体として極めて有効性が高い。
化に当って吸収する光の波長領域がNBDK比して可視
光領域まで及び、例えばR,=R,=CれでR1=C−
の化合物においては420mmJtf、近、同じ<、I
t、m%=cH,の化合物においては49011!II
付近の波長領域まで吸光領域が及び、光エネルギーの蓄
蔵体として極めて有効性が高い。
また本発明のNID誘導体は、いずれも常温付近で液体
もしくは固体で、NBDK比して引火性が低く、かつI
II竺性が匿れており、また安定性および毒性の問題も
少いため、光エネルギーの蓄蔵体として攻扱い易い。
もしくは固体で、NBDK比して引火性が低く、かつI
II竺性が匿れており、また安定性および毒性の問題も
少いため、光エネルギーの蓄蔵体として攻扱い易い。
以下に本発明を実施例により具体的に説明するが、本発
嘴はこれに限定されるものではな%、1夷麹実施 一ガス置換を行ないながら一70℃以下に冷却したガラ
ス反応管内に、2,3ジメチルシク四ペンタジェン5.
0I(a05ss・1)を添加し、これを液体N、で固
化せしめ、ガラス反応管内を真空排気した。これにヘキ
サフルオロ−2−ブチン&4#((LO53m@l)を
ガスだめあるいはシリンダーから直接ガラス反応管内に
移行させる。
嘴はこれに限定されるものではな%、1夷麹実施 一ガス置換を行ないながら一70℃以下に冷却したガラ
ス反応管内に、2,3ジメチルシク四ペンタジェン5.
0I(a05ss・1)を添加し、これを液体N、で固
化せしめ、ガラス反応管内を真空排気した。これにヘキ
サフルオロ−2−ブチン&4#((LO53m@l)を
ガスだめあるいはシリンダーから直接ガラス反応管内に
移行させる。
ドライアイス−メタノール混会冷溶媒を用いて一50〜
O℃の低温下で5時間反応させ、生成物1五2Iを得九
また、この生成物の純度は9五2%、収率955%であ
った。この生成物をMl、NMRおよびIllの夫々で
分析した結果、2.5−ビス(トリフルオーメチ#)−
5,4−ジメチル−ビシクー〔2,2,1〕へブタ−2
,5−ジエンであることが確認された。
O℃の低温下で5時間反応させ、生成物1五2Iを得九
また、この生成物の純度は9五2%、収率955%であ
った。この生成物をMl、NMRおよびIllの夫々で
分析した結果、2.5−ビス(トリフルオーメチ#)−
5,4−ジメチル−ビシクー〔2,2,1〕へブタ−2
,5−ジエンであることが確認された。
M8分析 ■/・値 帰属
256 分子イオンピーク00241
M−ell。
M−ell。
187 M−CF。
NMI分析
”HNMR
νμ値 強度 帰属
150 it M@thyl@烏・C−180
5,9MIthyl CMg&55 2.0
Mltkim・ CH1畠CNMI! ppm値 帰属 142 MIthyl C57,4M@
sh%1・ C 69,9Mltk71@−・C 149,701@fimis C−CF。
5,9MIthyl CMg&55 2.0
Mltkim・ CH1畠CNMI! ppm値 帰属 142 MIthyl C57,4M@
sh%1・ C 69,9Mltk71@−・C 149,701@fimis C−CF。
159! 1 01ef1ml@C−CH。
1212 Jet(275H翼) ?rif1werm
stkyl C鰺F )fMIL pp■値 帰属 低磁場側IZo(?−y、ムC,ext) Tr1f1
mer@m*tkylcr。
stkyl C鰺F )fMIL pp■値 帰属 低磁場側IZo(?−y、ムC,ext) Tr1f1
mer@m*tkylcr。
!8分析
吸収波長(11)強度 帰 属
2?+60 M Methyl ra
g 0112900 M M*tkt
kyl@ms 1as CH@1670 1
1 −(CF、)C−C(OF、)−νe=c142
0 g −(CI、)C鴫!(CHa
)−ν1(14GG〜110Q Vli ?ri
f1mtrsmtkylC−F(シ&!イオンク12マ
ド法による。)実施例2 実施例1と同様の手順で、2.S−ジメチルシフ四ペン
タジェン2αG ((L215mnl)と、ヘキサフル
オn −2−ブチン54.51 (0,21511@l
)をステンレス製オートクレーブ中に加え、−50〜0
℃で6時間反応させ、生成物52.61を得た。この生
成物の純度は97.9%、収率94.5%であつ旭夾施
鉤1と同様に分析した結果、生成物も同じ物質であるこ
とが確認された。
g 0112900 M M*tkt
kyl@ms 1as CH@1670 1
1 −(CF、)C−C(OF、)−νe=c142
0 g −(CI、)C鴫!(CHa
)−ν1(14GG〜110Q Vli ?ri
f1mtrsmtkylC−F(シ&!イオンク12マ
ド法による。)実施例2 実施例1と同様の手順で、2.S−ジメチルシフ四ペン
タジェン2αG ((L215mnl)と、ヘキサフル
オn −2−ブチン54.51 (0,21511@l
)をステンレス製オートクレーブ中に加え、−50〜0
℃で6時間反応させ、生成物52.61を得た。この生
成物の純度は97.9%、収率94.5%であつ旭夾施
鉤1と同様に分析した結果、生成物も同じ物質であるこ
とが確認された。
実施例5
実施例1と同様の手順で、2.5ジメチルシクロペンタ
ジェン2.51(α0271!I@I)と、5,5e5
−)リアルオービービン2.5#(α027111@1
)をガラス反応管内に加え、−60〜0℃で3時間反応
させ、生成物46Iを得ちこの生成物の純度は975%
、収率895%であつらこの生成物を実施例1と同1s
K分析した結果、この生成物は2.3−ジメチル、5−
トリフルオシメチル−ビシクロ(2e 211 )へブ
タ−2,5−ジエンであることが確認された。
ジェン2.51(α0271!I@I)と、5,5e5
−)リアルオービービン2.5#(α027111@1
)をガラス反応管内に加え、−60〜0℃で3時間反応
させ、生成物46Iを得ちこの生成物の純度は975%
、収率895%であつらこの生成物を実施例1と同1s
K分析した結果、この生成物は2.3−ジメチル、5−
トリフルオシメチル−ビシクロ(2e 211 )へブ
タ−2,5−ジエンであることが確認された。
分析結果
M8分析 III/@値 帰属188
分子イオンビーク(M)175 M−CI。
分子イオンビーク(M)175 M−CI。
119 M−CF。
NM凰分析
111 NMRシシ論値 強度 帰属too
t? 層−tk71・鳳・ CH。
t? 層−tk71・鳳・ CH。
180 40 1&tkyl eH1五40
t9 1&tkl−・ C17,08to 0
1@fimle CH”Ic NMRppm1li
#1I11&2 16thyl C 55,4Methim* C 71? &tkyl@n@C 144,801mf1mle C−Hl 495
01@flnie C−CIP@15aOO1@f
iml @ C−CH51215Trlf1w@rs
mtkyl C諷−F NMRppm値 帰
属低磁場側17.0 Tri f 1++nro
m@tkyl(T*F*AC、*xt )
CF@IR分析 吸収波長(a+a″) 強度 帰属2960
M Methyl ras 0M29
00 M l&tkyl@mn
yas CH@1440 M −c
(CFs) C−eH−、yc式%式%(2 大日本インキ化学工業株式会社 (財)用村瑠化学研究所 162
t9 1&tkl−・ C17,08to 0
1@fimle CH”Ic NMRppm1li
#1I11&2 16thyl C 55,4Methim* C 71? &tkyl@n@C 144,801mf1mle C−Hl 495
01@flnie C−CIP@15aOO1@f
iml @ C−CH51215Trlf1w@rs
mtkyl C諷−F NMRppm値 帰
属低磁場側17.0 Tri f 1++nro
m@tkyl(T*F*AC、*xt )
CF@IR分析 吸収波長(a+a″) 強度 帰属2960
M Methyl ras 0M29
00 M l&tkyl@mn
yas CH@1440 M −c
(CFs) C−eH−、yc式%式%(2 大日本インキ化学工業株式会社 (財)用村瑠化学研究所 162
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (式中、8.および島は、Hまたは一〇−で、少くとも
その1つが−CH,を表わし、−および視は、Hまたは
−OF、で、少くともその1つがR1または4の−cH
。 と閂じ儒にあるーCF、を表わす・) で示されるメチルおよびトリフルオーメチル置換された
ノルがルナジエン誘導体。 L R,と4が共に−OF、である特許請求の範囲第
1項に記載のノルlルナジエン誘導体。 五 2−メチルシフ四ペンタジェンまたは2.3−ジメ
チルシタ−ペンタジェンと、5,3.5−)リフルオ冒
−1−プ四ピンまたはへキサフルオロ−2−ブチンとを
、−50−150℃の温度域およびα1〜50atmの
圧力下で付加反応せしめ、 (式中、8.および−は、■または−C−で少くともそ
の1つが−C−を表わし、8.および丸は、Hまたは−
CF、で、少くともその1つが8.またはR1の−CH
。 と同じ儒にある一CF、を表わす。) で示されたノルボルナジェン誘導体の製造方法。 求の範囲第5項に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56117613A JPS5821628A (ja) | 1981-07-29 | 1981-07-29 | ノルボルナジエン誘導体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56117613A JPS5821628A (ja) | 1981-07-29 | 1981-07-29 | ノルボルナジエン誘導体およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5821628A true JPS5821628A (ja) | 1983-02-08 |
Family
ID=14716087
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56117613A Pending JPS5821628A (ja) | 1981-07-29 | 1981-07-29 | ノルボルナジエン誘導体およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5821628A (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53116359A (en) * | 1977-02-25 | 1978-10-11 | Suntech | Improved method of perfluorating cyclic hydrocarbon |
-
1981
- 1981-07-29 JP JP56117613A patent/JPS5821628A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53116359A (en) * | 1977-02-25 | 1978-10-11 | Suntech | Improved method of perfluorating cyclic hydrocarbon |
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