JPS5819964B2 - コウデンシキソツキヨホウホウ - Google Patents
コウデンシキソツキヨホウホウInfo
- Publication number
- JPS5819964B2 JPS5819964B2 JP14419275A JP14419275A JPS5819964B2 JP S5819964 B2 JPS5819964 B2 JP S5819964B2 JP 14419275 A JP14419275 A JP 14419275A JP 14419275 A JP14419275 A JP 14419275A JP S5819964 B2 JPS5819964 B2 JP S5819964B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mirror
- distance
- measured
- rotation
- measurement
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Measurement Of Optical Distance (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は光を利用して三次元物体の形状を測定する光
電式測距方法に関する。
電式測距方法に関する。
従来三次元物体の形状測定方法としては、光の干渉を利
用した方法、ホログラフィを用いた方法あるいはモアレ
縞による計測方法など種々の方法が考えられており、極
めて高精度の計測が行なえるものとして成果をあげてい
るものもあるが、はとんどの方法が実験室的なものであ
ってそのまま工業的なオンラインに実施することは極め
て困難であった。
用した方法、ホログラフィを用いた方法あるいはモアレ
縞による計測方法など種々の方法が考えられており、極
めて高精度の計測が行なえるものとして成果をあげてい
るものもあるが、はとんどの方法が実験室的なものであ
ってそのまま工業的なオンラインに実施することは極め
て困難であった。
しかし、このような光を用いた形状測定方法の中では、
三角測量方式による光電式測距方法が現在オンラインに
最も実施し易い測定方法であるといえる。
三角測量方式による光電式測距方法が現在オンラインに
最も実施し易い測定方法であるといえる。
この三角測量方式による光電式測距方法の測距原理を第
１図を用いて説明すると、まず測定基準線１に沿ってレ
ーザビームａを投射し、これをミラー２で反射させて被
測定物３上に反射光線すを照射する。
１図を用いて説明すると、まず測定基準線１に沿ってレ
ーザビームａを投射し、これをミラー２で反射させて被
測定物３上に反射光線すを照射する。
そしてこの反射光線すの被測定物３上へのスポットＰを
受光器４を用いてスリット５，６で決定される検出光軸
７で検出する。
受光器４を用いてスリット５，６で決定される検出光軸
７で検出する。
ここにおいて、検出光軸７と測定基準線１の交点Ｑ１と
ミラー２におけるレーザビームａの反射点Ｑ２との距離
ｔと、測定基準線１と検出光軸７のなす角θ１およびレ
ーザビームａと反射光線すのなす角θ２とが分かれば、
被測定物３上のスポラ）Ｐと測定基準線１との距離Ｍを
求めることができるのである。
ミラー２におけるレーザビームａの反射点Ｑ２との距離
ｔと、測定基準線１と検出光軸７のなす角θ１およびレ
ーザビームａと反射光線すのなす角θ２とが分かれば、
被測定物３上のスポラ）Ｐと測定基準線１との距離Ｍを
求めることができるのである。
そしてその具体的な方法としては上記角度θ２が一定と
なるようにミラー２を固定し、受光器４を移動させてこ
の受光器４によって被測定物３上のスポットＰを検出し
たときの受光器４の移動量から上記距離ｌを求めて上記
距離Ｍを算出する。
なるようにミラー２を固定し、受光器４を移動させてこ
の受光器４によって被測定物３上のスポットＰを検出し
たときの受光器４の移動量から上記距離ｌを求めて上記
距離Ｍを算出する。
また他の方法としては、測定基準線１と検出光軸７のな
す角θ１が一定となるように受光器４を固定するととも
に上記ミラー２を回転させて被測定物３上を反射光線す
で走査する。
す角θ１が一定となるように受光器４を固定するととも
に上記ミラー２を回転させて被測定物３上を反射光線す
で走査する。
そして受光器４によってスポットＰを検出したときの基
準線１に対するミラー２の回転角θ３から反射角θ２−
（２θ３）を求め、またミラー２の回転中心とミラーと
の距離をｄｌ、ミラーの回転中心と検出光軸７との距離
をｄ２、ミラーの回転中心と基準線１との距離をｄ３と
すると、上記距離ｌは７＝ｄ２−ｄ１ｓｅｃθ３ｄ ａ
ｔａｎθ３となり、距離Ｍを算出することができる。
準線１に対するミラー２の回転角θ３から反射角θ２−
（２θ３）を求め、またミラー２の回転中心とミラーと
の距離をｄｌ、ミラーの回転中心と検出光軸７との距離
をｄ２、ミラーの回転中心と基準線１との距離をｄ３と
すると、上記距離ｌは７＝ｄ２−ｄ１ｓｅｃθ３ｄ ａ
ｔａｎθ３となり、距離Ｍを算出することができる。
しかし上記第２の方法において、極めて高精度な測定（
例えば２μオーダ）を行なおうとする場合、上記ミラー
の回転角θ３を極めて高精度に検出できるものとしても
、上記距離ｄ１．ｄ２．ｄ３およσ角度θ１を測定精度
以上の精度で一定に保っておかなければならない。
例えば２μオーダ）を行なおうとする場合、上記ミラー
の回転角θ３を極めて高精度に検出できるものとしても
、上記距離ｄ１．ｄ２．ｄ３およσ角度θ１を測定精度
以上の精度で一定に保っておかなければならない。
このうちｄｌについては比較的容易であるが、ｄ２．ｄ
３．θ１については機械的な熱変位等までも考慮した場
合非常に困難となる。
３．θ１については機械的な熱変位等までも考慮した場
合非常に困難となる。
特に被測定物上の測定点を連続的に移動させてプロファ
イル測定を行なうべくミラーや受光器を測定基準線に沿
って移動させる場合、上記ｄ３およびθ１等を極めて高
精度に一定に保つことはほとんど不可能であり、事実上
ｄ３やθ１は変動要素と考えなければならない。
イル測定を行なうべくミラーや受光器を測定基準線に沿
って移動させる場合、上記ｄ３およびθ１等を極めて高
精度に一定に保つことはほとんど不可能であり、事実上
ｄ３やθ１は変動要素と考えなければならない。
また同様なことは第１の方法についてもいえることであ
り、受光器の移動誤差を考慮するならば距離ｔおよび角
度θ１を変動要素と考えなければならない。
り、受光器の移動誤差を考慮するならば距離ｔおよび角
度θ１を変動要素と考えなければならない。
この発明は上記問題点を克服して超高精度な測定を可能
にすべくなされたもので、その特徴とするところは上記
第２の測定方法において、回転中心からの距離の異なる
複数のミラーを備えた回転鏡を用いることにより、上記
変動要素に影響されずに真のＭの値を求めることができ
るようにした点にある。
にすべくなされたもので、その特徴とするところは上記
第２の測定方法において、回転中心からの距離の異なる
複数のミラーを備えた回転鏡を用いることにより、上記
変動要素に影響されずに真のＭの値を求めることができ
るようにした点にある。
以下第２図に基づいてこの発明に係る光電式測距方法を
詳細に説明する。
詳細に説明する。
先ず８はレーザ管、９はこのレーザ管８の前方に回転自
在に配設された回転鏡で、この回転鏡９はその回転中心
Ｏからそれぞれ異なった距離Ｘ。
在に配設された回転鏡で、この回転鏡９はその回転中心
Ｏからそれぞれ異なった距離Ｘ。
Ｙ、Ｚを有する３個のミラー９Ｘ、９Ｙ、９Ｚより構成
され、図示しない駆動源によって定速回転される。
され、図示しない駆動源によって定速回転される。
１０は上記回転鏡９の回転中心Ｏを通り、上記レーザ管
８から送出きれるレーザビームａと直交すべく設定され
た測定基準線、１１はこの測定基準線１０とほぼ並行に
配置された被測定物で、この発明方法においてはこの測
定基準線１０から被測定物１１の表面までの距離Ｍを測
定するのである。
８から送出きれるレーザビームａと直交すべく設定され
た測定基準線、１１はこの測定基準線１０とほぼ並行に
配置された被測定物で、この発明方法においてはこの測
定基準線１０から被測定物１１の表面までの距離Ｍを測
定するのである。
１２は上記測定基準線１０と直交する方向に配置された
スリット１３，１４によって決定される検出光軸、１５
はこの検出光軸１２上に配置された受光器で、この受光
器１５は上記回転鏡９によって反射された反射光線すの
被測定物１１上へのスポットＰを、上記検出光軸１２と
被測定物１１との交点において検出するようになってい
る。
スリット１３，１４によって決定される検出光軸、１５
はこの検出光軸１２上に配置された受光器で、この受光
器１５は上記回転鏡９によって反射された反射光線すの
被測定物１１上へのスポットＰを、上記検出光軸１２と
被測定物１１との交点において検出するようになってい
る。
すなわち、上記レーザ管８から投射されたレーザビーム
は回転する上記回転鏡９の各ミラー９Ｘ、９Ｙ。
は回転する上記回転鏡９の各ミラー９Ｘ、９Ｙ。
９Ｚによって、一回転中に３度上記被測定物１１上を走
査されるようになっており、そのスポットＰが検出光軸
１２と被測定物１１との交点へ来たときこれを受光器１
５が検出するのである。
査されるようになっており、そのスポットＰが検出光軸
１２と被測定物１１との交点へ来たときこれを受光器１
５が検出するのである。
また１６は上記レーザ管８の前方に配置された半透鏡、
１７はスリット、１８は受光器で、この受光器１８は上
記回転鏡９の回転中に各ミラーべ。
１７はスリット、１８は受光器で、この受光器１８は上
記回転鏡９の回転中に各ミラーべ。
９Ｙ、９Ｚがそれぞれレーザビームａと直角をなして、
その光線を正反対の方向へ反射したとき、その反射光線
を検出するものである。
その光線を正反対の方向へ反射したとき、その反射光線
を検出するものである。
上記の説明から明らかなように、上記回転鏡９が回転し
て各ミラー９Ｘ、９Ｙ、９Ｚがそれぞれレーザビームの
照射を受けている間に上記受光器１５および１８はそれ
ぞれ各ミラーにつき一回ずつ検出を行なう。
て各ミラー９Ｘ、９Ｙ、９Ｚがそれぞれレーザビームの
照射を受けている間に上記受光器１５および１８はそれ
ぞれ各ミラーにつき一回ずつ検出を行なう。
そしてこの一回ごとの上記受光器１５と１８との検出時
差（１）は取りも直さず上記回転鏡９の各ミラーがレー
ザビームと直交してから、その反射光線のスポットＰが
検出光軸１２と一致する図示の状態に移動するまでの回
転鏡９の回転時間である。
差（１）は取りも直さず上記回転鏡９の各ミラーがレー
ザビームと直交してから、その反射光線のスポットＰが
検出光軸１２と一致する図示の状態に移動するまでの回
転鏡９の回転時間である。
そこで、今、レーザビームがミラー９Ｘに照射している
場合を考えて、回転鏡９の回転角速度をωとおくと、上
記受光器１５および１８の検出時間差ｔから回転鏡９の
回転角θＸがθＸ−ω・ｔとして求まる。
場合を考えて、回転鏡９の回転角速度をωとおくと、上
記受光器１５および１８の検出時間差ｔから回転鏡９の
回転角θＸがθＸ−ω・ｔとして求まる。
従って上記受光器１５がスポットＰを検出したときのミ
ラー９Ｘにおける入射光線と反射光線とのなす角度は２
θＸとなる。
ラー９Ｘにおける入射光線と反射光線とのなす角度は２
θＸとなる。
ここで、スポットＰから測定基準線１０と平行に引いた
線とレーザビームａとの交点Ｑ１と、反射点Ｑ２との距
離をＣ、レーザビームａの延長線と測定基準線１０との
交点Ｑ３と、測定基準線１０と検出光軸１２との交点Ｑ
４との距離Ｌ、回転鏡９と交点Ｑ３との距離をＥ、また
点Ｐから測定基準線１０へ下ろした垂線Ｇに対する検出
光軸１２の角度誤差をＦとすると、 Ｍ＝Ａ、＋Ｂ十〇！ ここで、 Ａ ＝ Ｘ ｓｅｃθＸ Ｂ ＝ Ｅ ｔａｎθ
ＸＣ−（Ｌ ｄ）ｃｏｔ２θｘ −（Ｌ−Ｍｔａｎ Ｆ
） ａｖｔ ２θＸこれより、 Ｍ＝ＸＣＯ３θＸ−）−ＥｔａｎθＸ ＋（Ｌ−Ｍｔ２
ｎＦ） ｃｏｔ ２θＸとなる。
線とレーザビームａとの交点Ｑ１と、反射点Ｑ２との距
離をＣ、レーザビームａの延長線と測定基準線１０との
交点Ｑ３と、測定基準線１０と検出光軸１２との交点Ｑ
４との距離Ｌ、回転鏡９と交点Ｑ３との距離をＥ、また
点Ｐから測定基準線１０へ下ろした垂線Ｇに対する検出
光軸１２の角度誤差をＦとすると、 Ｍ＝Ａ、＋Ｂ十〇！ ここで、 Ａ ＝ Ｘ ｓｅｃθＸ Ｂ ＝ Ｅ ｔａｎθ
ＸＣ−（Ｌ ｄ）ｃｏｔ２θｘ −（Ｌ−Ｍｔａｎ Ｆ
） ａｖｔ ２θＸこれより、 Ｍ＝ＸＣＯ３θＸ−）−ＥｔａｎθＸ ＋（Ｌ−Ｍｔ２
ｎＦ） ｃｏｔ ２θＸとなる。
上式においてＥおよびＦが変動要素であることを考慮し
て上式を整理すると、 ＣＭ）−（Ｅ″ｌ ｔａｎθｘ−（Ｌ−ＭｔａｎＦ ）
ｃｏｔ ２θＸ＝ＸｓｅｃθＸが得られる。
て上式を整理すると、 ＣＭ）−（Ｅ″ｌ ｔａｎθｘ−（Ｌ−ＭｔａｎＦ ）
ｃｏｔ ２θＸ＝ＸｓｅｃθＸが得られる。
また、ミラー９Ｙ、９Ｚについても同様にして、ＣＭ’
：１−（Ｅ）ｔａｎθｙ−ＣＬ−ＭｔａｎＦ）ｃｏｔ２
θＹ＝ ＹｓｅｃθＹ〔Ｍ〕−〔Ｅ″１ｔａｎθｚ −
（Ｌ−ＭｔａｎＦ ）ｃｏｔ ２θＺ＝ＺｓｅｃθＺが
得られる。
：１−（Ｅ）ｔａｎθｙ−ＣＬ−ＭｔａｎＦ）ｃｏｔ２
θＹ＝ ＹｓｅｃθＹ〔Ｍ〕−〔Ｅ″１ｔａｎθｚ −
（Ｌ−ＭｔａｎＦ ）ｃｏｔ ２θＺ＝ＺｓｅｃθＺが
得られる。
そこでこの連立方程式をクラメルの公式を用いて解くと
、 となる。
、 となる。
この解から明らかなように、距離Ｍは変動要素Ｅ、Ｆ、
Ｌ等に伺ら関係なく、回転中心Ｏから各ミラーまでの距
離Ｘ、Ｙ、Ｚおよび各回転角θＸ、θＹ、θＺが分れば
算出できるのである。
Ｌ等に伺ら関係なく、回転中心Ｏから各ミラーまでの距
離Ｘ、Ｙ、Ｚおよび各回転角θＸ、θＹ、θＺが分れば
算出できるのである。
そして上記Ｍの値は回転鏡９の一回転について得られる
値であるが、回転鏡９を連続回転させ、かつ受光器１５
を測定基準線１０に沿って移動させながら、各回転角θ
Ｘ１．θＹ１．θｚｉ ｊθＸ２゜θＹ２．・・・・・
・θＸｎ、・・・・・・を検出するとともに、θＸ１ｊ
θＹ１．θＺ１からＭｌを、またθＹ１．θＺｌ、θＸ
２がらＭ２を、θＺ１．θＸ２ｊθＹ２からＭ３を、と
順次Ｍ４゜Ｍ５・・・・・・Ｍｎを求めることによって
測定基準線から被測定物表面までの距離Ｍを、被測定物
の一側から他側へ向かって連続的に測定することができ
るのである。
値であるが、回転鏡９を連続回転させ、かつ受光器１５
を測定基準線１０に沿って移動させながら、各回転角θ
Ｘ１．θＹ１．θｚｉ ｊθＸ２゜θＹ２．・・・・・
・θＸｎ、・・・・・・を検出するとともに、θＸ１ｊ
θＹ１．θＺ１からＭｌを、またθＹ１．θＺｌ、θＸ
２がらＭ２を、θＺ１．θＸ２ｊθＹ２からＭ３を、と
順次Ｍ４゜Ｍ５・・・・・・Ｍｎを求めることによって
測定基準線から被測定物表面までの距離Ｍを、被測定物
の一側から他側へ向かって連続的に測定することができ
るのである。
このようにこの発明に係る光電式測距方法によれば三次
元物体の形状を高精度に測定できるものであり、例えば
上記方法を用いて被測定物の上下に設定された任意の測
定基準線からその表面までの距離をそれぞれ測定すれば
、その被測定物の厚みを算出することができるので、圧
延加工におけるオンライン等にも容易に実施することが
できる。
元物体の形状を高精度に測定できるものであり、例えば
上記方法を用いて被測定物の上下に設定された任意の測
定基準線からその表面までの距離をそれぞれ測定すれば
、その被測定物の厚みを算出することができるので、圧
延加工におけるオンライン等にも容易に実施することが
できる。
第３図はごの発明に係る光電式測距方法の応用例として
圧延加工における加工製品の厚み測定装置に利用した場
合の一実施例を示すもので、以下図面に示す厚み測定装
置について説明する。
圧延加工における加工製品の厚み測定装置に利用した場
合の一実施例を示すもので、以下図面に示す厚み測定装
置について説明する。
図において、２０は固定フレームで、この固定フレーム
２０の中央空隙部２１内を紙面と直角方向に加工製品即
ち被測定物２２が移動される。
２０の中央空隙部２１内を紙面と直角方向に加工製品即
ち被測定物２２が移動される。
２３は上記固定フレーム２０上に固定された光源、２４
゜２４′は上記光源２３を挾んで固定フレーム上の上下
対称位置に配置された回転鏡で、この回転鏡２４．２４
’に対して上記光源から２つの光線ａ。
゜２４′は上記光源２３を挾んで固定フレーム上の上下
対称位置に配置された回転鏡で、この回転鏡２４．２４
’に対して上記光源から２つの光線ａ。
ａ′が投射されている。
そして上記回転鏡２４ 、２４’は図示しない駆動機構
によって定速回転され、上記光源ａ 、 ａ’を反射し
て被測定物２２の表裏へ反射光線ｂ 、 ｂ’をそれぞ
れ走査させる。
によって定速回転され、上記光源ａ 、 ａ’を反射し
て被測定物２２の表裏へ反射光線ｂ 、 ｂ’をそれぞ
れ走査させる。
２５．２５’は上記固定フレーム２０上にこれの長手方
向へ沿って互に平行に配設された測定ヘッド案内面、２
６．２６’はこの案内面２５．２５’上にスライド可能
に載置された測定ヘッド、２７゜２７′はこの測定ヘッ
ドの送り軸で、この送り軸の一端にはそれぞれタイミン
グブーＩＪ ２８ 、２８’が取り付けられており、タ
イミングベルト２９を介して相互に連結され、サーボモ
ータ３０によって同期回転されるようになっている。
向へ沿って互に平行に配設された測定ヘッド案内面、２
６．２６’はこの案内面２５．２５’上にスライド可能
に載置された測定ヘッド、２７゜２７′はこの測定ヘッ
ドの送り軸で、この送り軸の一端にはそれぞれタイミン
グブーＩＪ ２８ 、２８’が取り付けられており、タ
イミングベルト２９を介して相互に連結され、サーボモ
ータ３０によって同期回転されるようになっている。
従って上記測定ヘッド２６ 、２６’は送り軸２７ 、
２７’によって相対向したまま同時送りされることにな
る。
２７’によって相対向したまま同時送りされることにな
る。
３１゜３２は上記測定ヘッド２６上に設けられたスリッ
ト、３３は上記被測定物２２上へ走査された反射光線す
のスポットを上記スリット３１．３２によって決定され
る検出光軸３４で検出するための受光器である。
ト、３３は上記被測定物２２上へ走査された反射光線す
のスポットを上記スリット３１．３２によって決定され
る検出光軸３４で検出するための受光器である。
また３５は上記光源２３と回転鏡２４との中間にあって
上記固定フレーム２０上に設置された半透鏡、３６は上
記回転鏡２４によって反射され、さらに半透鏡３５によ
って反射された光線をスリット３７を通して検出する受
光器である。
上記固定フレーム２０上に設置された半透鏡、３６は上
記回転鏡２４によって反射され、さらに半透鏡３５によ
って反射された光線をスリット３７を通して検出する受
光器である。
そして上記のごとく構成された厚み測定装置を用いて被
測定物の厚みを測定するには、まず測定ヘッド２６ 、
２６’を移動して検出光軸３４ 、３４’を被測定物２
２の一側（例えば右側）に位置させて、他側（左側）へ
向かって測定ヘッド２６ 、２６’を同時に移動させな
がら回転鏡２４ 、２４’を回転させて反射光線ｂ 、
ｂ’を被測定物２２の表裏へ走査させるとともに、前
述した計算方法を用いて割判と変化する距離Ｍｎ 、
Ｍｎ’を算出し、両側定基準線間の距離ｔｏからＭ ｎ
＋Ｍ ｎ ’を引いて被測定物２２の厚みを求めてい
くのである。
測定物の厚みを測定するには、まず測定ヘッド２６ 、
２６’を移動して検出光軸３４ 、３４’を被測定物２
２の一側（例えば右側）に位置させて、他側（左側）へ
向かって測定ヘッド２６ 、２６’を同時に移動させな
がら回転鏡２４ 、２４’を回転させて反射光線ｂ 、
ｂ’を被測定物２２の表裏へ走査させるとともに、前
述した計算方法を用いて割判と変化する距離Ｍｎ 、
Ｍｎ’を算出し、両側定基準線間の距離ｔｏからＭ ｎ
＋Ｍ ｎ ’を引いて被測定物２２の厚みを求めてい
くのである。
従って、この発明に係る光電式測距方法を応用した上記
厚み測定装置にあっては、光線ａ 、 ａ’の投射方向
は一定であるから、測定基準となるこの光線ａ 、 ａ
’に対して移動中の測定ヘッドが傾いたりずれたりする
ことによって各部品間の相対的距離が変化しても、その
変化にかかわらず真の測定値（厚み）を算出できること
は前述の測距方法の説明から明らかである。
厚み測定装置にあっては、光線ａ 、 ａ’の投射方向
は一定であるから、測定基準となるこの光線ａ 、 ａ
’に対して移動中の測定ヘッドが傾いたりずれたりする
ことによって各部品間の相対的距離が変化しても、その
変化にかかわらず真の測定値（厚み）を算出できること
は前述の測距方法の説明から明らかである。
以上のごとくこの発明に係る光電式測距方法は、回転中
心からそれぞれ異なった距離をおいて各々外向きに配置
された複数個のミラーを有する回転鏡を定速回転させ、
その回転鏡に対して常に方向の一定した光線を投射して
、その反射光線を被測定物上へ走査するとともに、上記
被測定物上への反射光線のスポットを受光器によって検
出し、この検出時における上記各ミラーの回転角度を検
出して、この各回転角度と上記各ミラーの回転中心から
の距離とのみから、上記光線を基準として想定される任
意の測定基準線から被測定物表面までの距離を算出する
ようにしたので、基準となる光線に対する反射鏡、受光
器等の部品の相対的距離が変化しても、これらの変動要
素には何ら関係なく、比較的高精度に検出できるミラー
の回転中心からの距離および回転角度のみによって任意
の測定基準線から被測定物表面までの距離を極めて高精
度に求めることができるとともに、工業的なオンライン
にも容易に実施することができる等の効果を有する。
心からそれぞれ異なった距離をおいて各々外向きに配置
された複数個のミラーを有する回転鏡を定速回転させ、
その回転鏡に対して常に方向の一定した光線を投射して
、その反射光線を被測定物上へ走査するとともに、上記
被測定物上への反射光線のスポットを受光器によって検
出し、この検出時における上記各ミラーの回転角度を検
出して、この各回転角度と上記各ミラーの回転中心から
の距離とのみから、上記光線を基準として想定される任
意の測定基準線から被測定物表面までの距離を算出する
ようにしたので、基準となる光線に対する反射鏡、受光
器等の部品の相対的距離が変化しても、これらの変動要
素には何ら関係なく、比較的高精度に検出できるミラー
の回転中心からの距離および回転角度のみによって任意
の測定基準線から被測定物表面までの距離を極めて高精
度に求めることができるとともに、工業的なオンライン
にも容易に実施することができる等の効果を有する。
第１図は三角測量方式による従来の光電式測距方法の測
距原理説明図、第２図はこの発明に係る光電式測距方法
の測距原理説明図、第３図はこの発明の光電式測距方法
を応用した厚み測定装置の一実施例を示す概略説明図で
ある。 ８・・・・・・光源（レーザ管）、９・・・・・・回転
鏡、９Ｘ。 ９Ｙ、９Ｚ・・・・・・ミラー、１１・・・・・・被測
定物、１５゜１８・・・・・・受光器。
距原理説明図、第２図はこの発明に係る光電式測距方法
の測距原理説明図、第３図はこの発明の光電式測距方法
を応用した厚み測定装置の一実施例を示す概略説明図で
ある。 ８・・・・・・光源（レーザ管）、９・・・・・・回転
鏡、９Ｘ。 ９Ｙ、９Ｚ・・・・・・ミラー、１１・・・・・・被測
定物、１５゜１８・・・・・・受光器。
Claims (1)
- １ 回転中心からそれぞれ異なった距離をおいて各々外
向きに配置された複数個のミラーを有する回転鏡を定速
回転させ、その回転鏡に対して常に方向の一定した光線
を投射して、その反射光線を被測定物上へ走査するとと
もに、上記被測定物上への反射光線のスポットを受光器
によって検出しこの検出時における上記各ミラーの回転
角度を検出して、この各回転角度と上記各ミラーの回転
中心からの距離とのみから、上記光線を基準として想定
される任意の測定基準線から被測定物表面までの距離を
算出するようにした光電式測距方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14419275A JPS5819964B2 (ja) | 1975-12-02 | 1975-12-02 | コウデンシキソツキヨホウホウ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14419275A JPS5819964B2 (ja) | 1975-12-02 | 1975-12-02 | コウデンシキソツキヨホウホウ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5267661A JPS5267661A (en) | 1977-06-04 |
| JPS5819964B2 true JPS5819964B2 (ja) | 1983-04-21 |
Family
ID=15356334
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14419275A Expired JPS5819964B2 (ja) | 1975-12-02 | 1975-12-02 | コウデンシキソツキヨホウホウ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5819964B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6057202A (ja) * | 1983-09-09 | 1985-04-03 | Mitsutoyo Mfg Co Ltd | 光学式表面変位検出装置 |
-
1975
- 1975-12-02 JP JP14419275A patent/JPS5819964B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5267661A (en) | 1977-06-04 |
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