JPS58197604A - Composite sheet - Google Patents

Composite sheet

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Publication number
JPS58197604A
JPS58197604A JP7959182A JP7959182A JPS58197604A JP S58197604 A JPS58197604 A JP S58197604A JP 7959182 A JP7959182 A JP 7959182A JP 7959182 A JP7959182 A JP 7959182A JP S58197604 A JPS58197604 A JP S58197604A
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JP
Japan
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composite sheet
diisocyanate
resin
group
polyamide
Prior art date
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Pending
Application number
JP7959182A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
勝谷 康夫
亨 富永
宮川 徹郎
内ケ崎 功
向山 吉之
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP7959182A priority Critical patent/JPS58197604A/en
Publication of JPS58197604A publication Critical patent/JPS58197604A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0346Organic insulating material consisting of one material containing N
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/0353Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
    • H05K1/036Multilayers with layers of different types

Landscapes

  • Reinforced Plastic Materials (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Organic Insulating Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は1回転機、電源トランス用の電機絶縁材料、あ
るいは可撓性印刷回路用基板に用いる複合シートに関す
るもので、その目的とするところは安価で耐熱性、耐湿
性が良くまた可撓性も有する複合シートを提供するにあ
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a composite sheet used as an electrical insulating material for one-rotation machines, power transformers, or flexible printed circuit boards. To provide a composite sheet having good properties and flexibility.

一般に一転機のスロット絶縁あるいは層関絶嫌、電源ト
ランスの相関絶縁に使用する電気絶縁材料としては、耐
熱性、4気特性の点を考慮して芳香族ポリアミドペーパ
ーが広く用いられている。また芳香族ポリアミドペーパ
ーは、7撓性に富んでいて、ポリイミドフィルムに比ぺ
安価である点を考慮して鋼箔と貼り合わせて。
In general, aromatic polyamide paper is widely used as an electrical insulating material used for slot insulation of single-turn machines, interlayer insulation of power transformers, and correlation insulation of power transformers, considering its heat resistance and four-gas characteristics. In addition, aromatic polyamide paper has excellent flexibility and is cheaper than polyimide film, so it is laminated with steel foil.

可撓性印刷回路板用の基板としても用いられている。し
かし、吸湿性が大きくその結果として寸法安定性が良く
ないという欠点を有した。これらの欠点を改良するため
に、樹脂を塗布または含浸させる手法が考えられるが、
芳香族ポリアミドペーパーの耐熱性(耐熱グレードH種
−180℃以と)を維持させるには、耐熱性の高い樹脂
を併用しなければならず自ずと用いる樹脂が限られてく
る。これら樹脂としては例えば。
It is also used as a substrate for flexible printed circuit boards. However, it had the disadvantage of high hygroscopicity and, as a result, poor dimensional stability. In order to improve these drawbacks, a method of coating or impregnating with resin can be considered, but
In order to maintain the heat resistance of aromatic polyamide paper (heat resistance grade H class -180°C or lower), a resin with high heat resistance must be used in combination, which naturally limits the resins that can be used. Examples of these resins include:

熱硬化性の脂環式エポキシ11M脂、熱硬化性711コ
ン樹i旨等が挙げられるが該樹脂を塗布または含浸後熱
硬化させると一般にシートが硬くなりある種度のaT撓
性が要求される用途には不向きであった。
Examples include thermosetting alicyclic epoxy 11M resin and thermosetting 711 resin, but when the resin is applied or impregnated and then thermally cured, the sheet generally becomes hard and a certain degree of aT flexibility is required. It was unsuitable for such applications.

耐熱性と可撓性を兼ねそなえた樹脂としてlま。It is a resin that has both heat resistance and flexibility.

熱可塑性のポリイミド#脂あるいは、ポリアミドイミド
樹脂等が適しているが、これらの樹1旨を溶かすための
溶剤は主成分として、N−メチル−2−ピロリドン、ジ
メチルホルムアミド等が用いられているが、これらの溶
剤は基材である芳香族ポリアミドペーパーをも溶かすた
め塗布ま九は含浸させることができない。本発明者尋は
、クレゾール系溶媒に可溶なポリアミドイミド樹脂を用
いる事で、先の問題点を解決した。
Thermoplastic polyimide resin or polyamideimide resin is suitable, but the solvent used to dissolve these resins is mainly N-methyl-2-pyrrolidone, dimethylformamide, etc. However, since these solvents also dissolve the aromatic polyamide paper that is the base material, it is impossible to impregnate the coating material. The present inventor, Hiromu, solved the above problem by using a polyamideimide resin soluble in a cresol solvent.

本発明は芳香族ポリアミドペーパーに、クレゾール系溶
媒を用いたポリアミドイミド樹脂組成物f命布または含
浸した後、加熱乾燥させてなる複合シートに関する。
The present invention relates to a composite sheet obtained by impregnating an aromatic polyamide paper with a polyamide-imide resin composition using a cresol solvent and then heating and drying the paper.

この複合シートは、基材が溶媒に尋かされた形跡も無く
、耐湿性、耐熱性の優れ九複合シートである。
This composite sheet has no evidence that the base material has been exposed to solvent, and has excellent moisture resistance and heat resistance.

この複合シートは0回転機のスロット絶縁や層間絶縁あ
るいは鑞源トランスの相関絶縁用に用い九場合耐熱性は
H種を有し、芳香族ポリアミドペーパーより耐湿性6寸
法安定性の点で大幅に優れている。また本材料は加熱乾
燥後本十分な可撓性を有しており、銅箔と貼り合わせる
事によってl1iT婦性印刷回路用基板として本用いら
れる。
This composite sheet is used for slot insulation, interlayer insulation of zero-rotation machines, or correlation insulation of solder source transformers.It has heat resistance of class H, and is significantly superior to aromatic polyamide paper in terms of moisture resistance and dimensional stability. Are better. Furthermore, this material has sufficient flexibility after heating and drying, and can be used as a printed circuit board for l1iT by bonding it with copper foil.

本発明において用いられるクレゾール系溶媒を用いたポ
リアミドイミド樹脂組成物としては。
The polyamide-imide resin composition using a cresol solvent used in the present invention is as follows.

例ハイソシアヌレート環含有ポリイソシアネート、ジイ
ソシアネート、ラクタム、トリカルボン酸無水物、トリ
カルボン酸無水物以外の一般X′ 式 X−R−4−Y)n、  [X、 X’は同一であ
って4異なっていてもよく、カルボキンル基父は#無水
物基、Yはカルボキシル蟇、酸無水物苓、水酸基又はア
ミノ基、Rは+h]百Z−+R−了。
Example High isocyanurate ring-containing polyisocyanate, diisocyanate, lactam, tricarboxylic anhydride, general X' other than tricarboxylic anhydride Formula X-R-4-Y)n, [X, X' are the same but 4 different The carboxyl radical may be an anhydride group, Y is a carboxyl group, an acid anhydride, a hydroxyl group or an amino group, and R is +h] 100 Z-+R-.

芳香族、脂肪族、脂環族又は複素環族の残基。Aromatic, aliphatic, alicyclic or heterocyclic residues.

但しR1とR鵞は同一でも異なっていてもよく。However, R1 and R may be the same or different.

芳香族、111肪族、脂環族又は複素環族の残基。Aromatic, 111 aliphatic, alicyclic or heterocyclic residues.

Zは−C)b  、 −CO、SOm−又は−Q−,m
とIは1又は2の整数であり、n・°はl以ヒの4Ia
である〕で示される化合物を、イソシアヌレート環含有
ポリイソシアネートを全イソシアネート当量の0〜30
当量パーセント、トリカルボン酸無水物以外の一般式 X−几→Y)n、で示される化合物を全カルボキシル当
量のθ〜30当量パーセントとしてクレゾール系溶媒中
で反応させて得られるポリアミドイミド樹脂フェスが使
用される。
Z is -C)b, -CO, SOm- or -Q-,m
and I are integers of 1 or 2, and n・° is 4Ia less than or equal to l.
is the isocyanurate ring-containing polyisocyanate in an amount of 0 to 30 of the total isocyanate equivalent.
A polyamide-imide resin face obtained by reacting a compound represented by the general formula X-几→Y)n, other than tricarboxylic acid anhydride, in a cresol-based solvent at an equivalent percentage of θ to 30 equivalents of the total carboxyl equivalent is used. be done.

インシアヌレート環含有ポリイソシアネートとしては0
例えばトリレンジイソシアネート。
0 as incyanurate ring-containing polyisocyanate
For example, tolylene diisocyanate.

キシリレンジイソシアネート、4.4’−ジフェニルエ
ーテルジイソシアネート、ナフチレン−1゜5−ジイソ
シアネート、4.4’−ジフェニルメタンジイソシアネ
ート等の芳香族ジイソシアネート、エチレンジイソシア
ネート、1.4−テトラメチレンジインシアネート、1
.6−ヘキサメチレンシイソシアネー)、l、12−ド
デカンジイノシアネート尋の脂肪族ジイソシアネート、
シテ クロブt’71.3−ジイソシアネート、シクロヘキサ
ン1.3−j?よび1,4−ジイソシアネート。
Aromatic diisocyanates such as xylylene diisocyanate, 4,4'-diphenyl ether diisocyanate, naphthylene-15-diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, ethylene diisocyanate, 1,4-tetramethylene diisocyanate, 1
.. 6-hexamethylenecyisocyanate), l,12-dodecanediinocyanate, aliphatic diisocyanate,
Siteclob t'71.3-diisocyanate, cyclohexane 1.3-j? and 1,4-diisocyanate.

イソフオロンジイソシアネート等の指環式ジイソシアネ
ート。トリフェニルメタン−4,4: 4“−トリイソ
シアネート等のポリイソシアネートの三量化反応によっ
て得られるイソシアヌレート環含有ポリイソシアネート
が使用される。耐熱性寺を考慮すると、好適にはトリレ
ンジイソンアネー)、4.4’−ジフェニルメタンジイ
ソシアネートなどの芳香族ジイソシアネートの三量化反
応又はイソフォロンジイソシアネートの三量化反応によ
って得られるインシアヌレート環含有ポリイソシアネー
トを用いることが好ましい。
Ring diisocyanates such as isophorone diisocyanate. Triphenylmethane-4,4: An isocyanurate ring-containing polyisocyanate obtained by trimerization reaction of polyisocyanate such as 4"-triisocyanate is used. Considering heat resistance, tolylene diisonane is preferably used. It is preferable to use an incyanurate ring-containing polyisocyanate obtained by a trimerization reaction of an aromatic diisocyanate such as , 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, or a trimerization reaction of isophorone diisocyanate.

好適なイソシアヌレート環含有ポリイソシアネートの製
造法は特願昭53−148820号に示されている。
A suitable method for producing isocyanurate ring-containing polyisocyanates is shown in Japanese Patent Application No. 148820/1982.

ジイソシアネートとしては、王妃したインシアヌレート
環含有ポリインシアネートの原料として使用された芳香
族ジイソシアネート、脂肪族ジインシアネート又は8i
ll族ジイソシアネートが使用される。耐熱性等を考慮
するとトリレンジイソシアネート、4.4’−ジフェニ
ルメタンジイソシアネートなどの芳香族ジイソシアネー
トが好ましい。
As the diisocyanate, aromatic diisocyanate, aliphatic diisocyanate or 8i used as a raw material for the queen incyanurate ring-containing polyinsyanate is used.
Group 11 diisocyanates are used. In consideration of heat resistance and the like, aromatic diisocyanates such as tolylene diisocyanate and 4,4'-diphenylmethane diisocyanate are preferred.

イソシアヌレート環含有ポリイソシアネートは分岐成分
として使用され、−tのインシアヌレート環骨核はすぐ
れた耐熱性を付与する。
Isocyanurate ring-containing polyisocyanates are used as branching components, and the -t incyanurate ring core provides excellent heat resistance.

イソシアヌレート環含有ポリイソシアネートは全イソ7
7ネート当量のθ〜30当1パーセントの#!囲で使用
される。30当1パーセントを越えると分岐度が高まり
、目的とする分子号に到達するまでに分数中ゲル化する
こと本ある。
Isocyanurate ring-containing polyisocyanate has a total iso7
7 nate equivalent θ ~ 30 equivalent 1 percent #! used in enclosures. If it exceeds 30/1%, the degree of branching will increase, and gelation may occur in the fractions until the desired molecular number is reached.

クレゾール系溶媒Or溶化の重要な原料であるラクタム
としてハ、一般的にはイソシアネート番又は酸無水物基
と反応して主としてクレゾール系溶媒に可溶なものであ
れば何でもよいが。
The lactam, which is an important raw material for solubilization in cresol solvents, can generally be anything as long as it reacts with isocyanate or acid anhydride groups and is soluble primarily in cresol solvents.

T?!鱗性1反応性及びコストrYUを考慮すればε−
カプロラクタムが好ましい。ラクタムの使用量は特に制
限はないが、耐熱性等を考慮すると全イノシアネート当
量の100当1パーセント未満が好ましい。
T? ! Considering scale 1 reactivity and cost rYU, ε-
Caprolactam is preferred. The amount of lactam used is not particularly limited, but in consideration of heat resistance and the like, it is preferably less than 1% based on 100 equivalents of the total inocyanate equivalents.

トリカルボン酸無水物としてはトリメリット酸無水物、
ブタン−1,2,4−)リカルボン酸無水物等が用いら
れる。耐熱性等を考慮するとトリメリット酸無水物が好
ましい。
Tricarboxylic anhydride includes trimellitic anhydride,
Butane-1,2,4-)licarboxylic anhydride and the like are used. In consideration of heat resistance and the like, trimellitic anhydride is preferred.

トリカルボン酸無水物以外の一般式 X−R−+Y)n
−□で示される化合物は、ポリイソシアネートとアミド
結合及び/又はイミド結合を形成して樹弓旨化しつるカ
ルボキシル基又は酸無水物基を少なくとも2個有し、さ
らに必要に応じ水酸基又はアミノ基を併せもつものであ
る。可とり性、耐熱性、耐摩耗性などを考慮すれば、ト
リメシン酸、トリス(2−カルボキシエチル)イソン゛
rヌレート、3,3.’4.4’−ベンゾフェ、ノンテ
トラカルボン酸二無水物等が好ましく、tたトリレンジ
イソシアネート三を体、イソホロンジイソシアネート三
量体等の上記したインシアヌレート環含有ポリイノシア
ネートと無水トリメリット酸との反応生成物1例えばポ
リイミドポリカルボン酸寺が用いられる。
General formula other than tricarboxylic acid anhydride X-R-+Y)n
- The compound represented by □ has at least two carboxyl groups or acid anhydride groups that form an amide bond and/or imide bond with a polyisocyanate to form a tree, and further has a hydroxyl group or an amino group as necessary. It is something that has both. Considering the flexibility, heat resistance, abrasion resistance, etc., trimesic acid, tris(2-carboxyethyl)isonurate, 3,3. '4.4'-benzophe, nontetracarboxylic dianhydride, etc. are preferred, and the above-mentioned incyanurate ring-containing polyinocyanates such as tolylene diisocyanate trimer, isophorone diisocyanate trimer, etc. and trimellitic anhydride are preferred. The reaction product 1 with eg polyimide polycarboxylic acid is used.

X′ トリカルボン酸無水物以外の一般式 X−R−(−Y)
、。
X' General formula other than tricarboxylic anhydride X-R-(-Y)
,.

で示される化合物は、全カルボキシル当量の〇〜30当
量パーセントの範囲で使用される。
The compound represented by is used in an amount of 0 to 30 equivalent percent of the total carboxyl equivalents.

30当蓋パーセントを越えると分岐度が高まり。When the percentage exceeds 30, the degree of branching increases.

目的とする分子量に到達するまでに合成中ゲル化するこ
ともある。ここで、酸成分の酸無水物基、水酸基及びア
ミ、/基1当量はカルボキシル基1当鎗として取り扱う
Gelation may occur during synthesis until the desired molecular weight is reached. Here, 1 equivalent of acid anhydride group, hydroxyl group, and amine/group of the acid component is treated as 1 equivalent of carboxyl group.

耐熱性、 o7とう性の点からイソシアネート成分と偕
成分の使用量は、カルボキシル基に対するイソシアネー
ト基の当量比が好ましくは1.5〜0.7になるように
、より好ましくは0.85〜1.15の範囲にする。
From the viewpoint of heat resistance and O7 flexibility, the amounts of the isocyanate component and the isocyanate component to be used are such that the equivalent ratio of the isocyanate group to the carboxyl group is preferably 1.5 to 0.7, more preferably 0.85 to 1. .15 range.

反応は、全ての原料を同時に仕込んでもよいし、目的に
応じて段階的に仕込み1反応を進めてもよい。反応温度
は全成分を仕込んだ後の主反応を200〜220℃で行
なう。反応の進行状態は発生する炭酸ガスの気泡及び溶
液の粘度を観測することで把握可能である。
In the reaction, all the raw materials may be charged at the same time, or one reaction may be carried out in stages depending on the purpose. The reaction temperature is such that the main reaction is carried out at 200 to 220°C after all the components have been charged. The progress of the reaction can be determined by observing the generated carbon dioxide gas bubbles and the viscosity of the solution.

、・□“ クレゾール系溶媒としてはクレゾールの他フェノール、
キシレノール等が使用でき、混合溶媒でもよい。合成溶
媒の一部に4高沸点の芳香族有機溶媒1例えばキシレン
、Nl58EKIHI80L−100,150(日本石
油化生球製芳香族炭化水素の商標)、セロソルブアセテ
ート(ダウ・ケミカル社製エチレングリコール七ノエチ
ルエーテル七ノアセテートの商標)等も使用できる。
,・□“ In addition to cresol, phenol,
Xylenol etc. can be used, and a mixed solvent may also be used. Some of the synthesis solvents include 4 Aromatic organic solvents with high boiling points 1 For example, xylene, Nl58EKIHI80L-100,150 (trademark for aromatic hydrocarbons manufactured by Nippon Oil & Chemicals Co., Ltd.), cellosolve acetate (ethylene glycol 7, manufactured by Dow Chemical Company), Ethyl ether heptanoacetate (trademark) etc. can also be used.

このようにして得られ九ポリアミドイミド樹脂組成物は
、上記のクレゾール系溶媒で樹脂分5〜40重量パーセ
ントとされて用いられることが好ましい。この場合、塗
膜形成性跨を考1して助溶剤としてキシレン、Nl88
EKIHI80L −100、セロソルブアセテート、
トリクレン等の塩素系溶剤などを併用してもよい。
The thus obtained polyamide-imide resin composition is preferably used with a resin content of 5 to 40 weight percent in the above-mentioned cresol solvent. In this case, xylene, Nl88
EKIHI80L-100, cellosolve acetate,
A chlorinated solvent such as trichlene may be used in combination.

本発明におけるクレゾール系II媒に可溶なボリアばト
イミド樹d旨は、出発原料として少なくともラクタム、
ジイソシアネートとトリカルボン酸無水物を使用する場
合、実質的に線状な高分子置体を与える。このようなポ
リアミドイミド樹1旨の製造法は特公昭46−2973
0号公報、特開昭50−116591号公報などに示さ
れている。
In the present invention, the boria batimide tree soluble in cresol type II medium has at least a lactam as a starting material,
When diisocyanates and tricarboxylic anhydrides are used, substantially linear polymer structures are provided. The manufacturing method for such polyamide-imide trees is disclosed in Japanese Patent Publication No. 1973-2973.
This method is disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No. 116591/1983, and the like.

出発原料として少なくともラクタム、ジイソシアネート
およびトリカルボン酸無水物に加えてインシアヌレート
環含有ポリイノシアネートを使用する場合分岐高分子量
体を与える。このような分岐ポリアミドイミド樹脂の製
造法は4I′願昭53−148820号、特願昭54−
118596号1%顕昭54−171473号。
When an incyanurate ring-containing polyinocyanate is used as a starting material in addition to at least a lactam, a diisocyanate and a tricarboxylic anhydride, a branched polymer is obtained. The manufacturing method of such branched polyamide-imide resin is disclosed in 4I' Application No. 148820/1983 and Japanese Patent Application No. 1983-148820.
No. 118596 1% Kensho 54-171473.

米国特許3.238.181号明細書などに示されてい
る。
This is shown in the specification of US Pat. No. 3,238,181, etc.

出発原料として少なくと本ラクタム、ジイソシアネート
およびトリカルボン酸無水物に和えテ[1c分岐成分と
してλ3.’ 4.4’−ベンゾフエ、ノンテトラカル
ボン酸二無水物などのケトポリカルボン酸無水物ケ使用
する場合9分岐部分子量体が得られる。このような分岐
ポリアミドイミド樹脂の製造法は特願昭55−3048
2号に示されている。
At least the present lactam, diisocyanate and tricarboxylic anhydride are mixed as starting materials [1c and λ3. When a ketopolycarboxylic acid anhydride such as 4.4'-benzophene and nontetracarboxylic dianhydride is used, a 9-branched molecular polymer is obtained. A method for producing such branched polyamide-imide resin is disclosed in Japanese Patent Application No. 55-3048.
It is shown in No. 2.

また、出発原料として少なくと本ラクタム。Also, at least this lactam as a starting material.

ジイソシアネートおよびトリカルボン酸無水物に加えて
−に分岐成分として3官能性以−ヒのボリカルボン酸1
例えば、トリメシン酸、トリス(2−カルボキンエチル
)イン7アヌレート又はイソシアヌレート環含有ポリイ
ソシアネートと無水トリメリット酸との反応生成物など
を使用する場合0分岐高分子量体を与えることが知られ
ている。町とり性、耐熱性、耐摩耗性、コスト面などを
考慮すると出発原料として少なくともラクタム、ジイソ
シアネート、トリリルボン酸無水物及びインシアヌレ−
)4含有ポリインシアネートを使用して得られるクレゾ
ール系溶媒に0Tl!ilな分岐ポリアミドイミド樹脂
が好適である。
In addition to diisocyanates and tricarboxylic acid anhydrides, trifunctional polycarboxylic acids 1 are added as branching components.
For example, it is known that when trimesic acid, tris(2-carboxyethyl)ine 7-anurate or the reaction product of isocyanurate ring-containing polyisocyanate and trimellitic anhydride is used, a zero-branched polymer can be obtained. There is. Taking into consideration the ease of handling, heat resistance, abrasion resistance, cost, etc., at least lactam, diisocyanate, tolylbonic acid anhydride, and incyanure are used as starting materials.
) 0 Tl in the cresol solvent obtained using the polyinsyanate containing 4! An il branched polyamideimide resin is preferred.

本発明で使用するクレゾール系溶媒を用いたポリアミド
イミド樹脂組成物にエポキシ樹脂。
An epoxy resin is used in the polyamide-imide resin composition using a cresol solvent used in the present invention.

アルコキシ変性メラミン樹脂、′フエ、/−ルホルムア
ルデヒド樹脂、キシレンホルムアルデヒド樹脂、イソシ
アヌレート環含有ポリイソシアネート、有機酸金属塩、
ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、
ポリヒダントイン樹脂、ポリスルホ/酸樹脂、炭醗グア
ニジン。
Alkoxy-modified melamine resin, 'Fe,/-formaldehyde resin, xylene formaldehyde resin, isocyanurate ring-containing polyisocyanate, organic acid metal salt,
polyether resin, polyamide resin, polyimide resin,
Polyhydantoin resin, polysulfo/acid resin, charcoal guanidine.

ベンゾトリアゾール、フラン樹脂、フェノキシ樹輻旨、
ウレタンエラストマー、ポリブタジェン樹8旨、ニトリ
ルブタジェンゴム、アクリルゴムなどの添加剤を樹脂分
に対して0.1〜25重量パーセントの割合で使用し改
質することができる。時に硬化速度を速め塗嘆形成性を
向上させるためには、熱硬化性樹脂、特にエポキシ樹脂
Benzotriazole, furan resin, phenoxy resin,
Modification can be performed by using additives such as urethane elastomer, polybutadiene rubber, nitrile butadiene rubber, and acrylic rubber in a proportion of 0.1 to 25 weight percent based on the resin content. Sometimes thermosetting resins, especially epoxy resins, are used to speed up the curing speed and improve smearability.

アルコキシ変性メラミ/樹脂、フェノールホルムアルデ
ヒド樹[1専の熱硬化性樹脂が好ましい。
Alkoxy-modified melami/resin, phenol formaldehyde resin [1 thermosetting resin is preferred.

基材として用いる芳香族ポリアミドペーパーには%に制
限は無く、厚さ0.010−から0、075閣までの範
dのカレンダー処理したベーパーあるいは、無処理のペ
ーパーを用いることができ1例えばノーメックス(デュ
ボ/社製)が用いられる。いずれの場合本常暢では数パ
ーセントの水分を含んでいるので、塗布あるいは含浸す
る直前に100℃以−Eの温度で熱処理をして水分を除
去する事が望ましい。上記のポリアミドイミド樹脂組成
物の芳香族ポリアミドペーパーへの塗布又は含浸は、デ
ィップ塗工。
There is no limit to the percentage of aromatic polyamide paper used as the base material, and calendered vapor or untreated paper with a thickness ranging from 0.010 to 0.075 mm can be used.1 For example, Nomex (manufactured by Dubo Co., Ltd.) is used. In either case, since the coating contains several percent water, it is desirable to remove the water by heat treatment at a temperature of 100°C or higher just before coating or impregnation. The above-mentioned polyamide-imide resin composition is applied or impregnated onto the aromatic polyamide paper by dip coating.

ロールコータ−法等で付層われる。加熱乾燥は。Layers are applied using a roll coater method or the like. Heat drying.

100〜180℃で10〜60分、ついで200〜30
0℃で5〜90分の乾燥を行なうことが好ましい。
10-60 minutes at 100-180℃, then 200-30 minutes
It is preferable to carry out drying at 0°C for 5 to 90 minutes.

本発明の詳細な説明する。The present invention will be described in detail.

実施例1 (1)  クレゾール系溶媒に可溶なポリアミドイミド
樹脂の合成 +11  イノシアヌレート環含有ポリイノシアネート
の合成 トリレンジイノシアネート  600 キシレン          600 2−ジメチルアミ、/エタ、ノール(触媒)1.8上記
成分を温度針、かきまぜ機をつけた四つ目フラスコに入
れ、*素気流中で140℃に昇温し、同温度でインシア
ネート基の含有1(初期一度:48重鎗パーセント)が
25tmパーセントになるまで反応を進めた。このもの
の赤外スペクトルには1.710 cm−” 。
Example 1 (1) Synthesis of polyamide-imide resin soluble in cresol solvents +11 Synthesis of inocyanurate ring-containing polyinocyanate Tolylene diinocyanate 600 Xylene 600 2-dimethylami,/etha, nor (catalyst) 1.8 Above components was placed in a fourth flask equipped with a temperature needle and a stirrer, and heated to 140°C in a stream of bare air.At the same temperature, the incyanate group content 1 (initial: 48%) decreased to 25tm%. The reaction proceeded until it was completed. The infrared spectrum of this substance is 1.710 cm-”.

1、410 cHl−1にイソシアヌレート環の吸収が
認められ、2,260cIfM  にはイソシアネート
基の吸収が認められた。
Absorption of isocyanurate rings was observed at 1,410 cHl-1, and absorption of isocyanate groups was observed at 2,260 cIfM.

(ill  クレゾール系溶媒に可溶なポリアミドイミ
ド樹脂の合成 トリメリット酸無水物    96.0 1.001−
カプロラクタム     36.6 0.65クレゾー
ル         300 トリメリツト酸無水物を除く上記成分を温度針、かきま
ぜ機9分留管をつけた四つロフラスコに入れ、−a素気
流中で温度を180℃に上昇し90分間反応を行なう。
(ill Synthesis of polyamideimide resin soluble in cresol solvents Trimellitic anhydride 96.0 1.001-
Caprolactam 36.6 0.65 Cresol 300 The above ingredients except trimellitic anhydride were placed in a four-lobe flask equipped with a temperature needle and a stirrer.9 The temperature was raised to 180°C in a stream of -a elementary air. Run the reaction for minutes.

次いでトリメリット酸無水物を添加し210℃に昇温す
る。210℃で保温し、15時間反応f進めた。クレゾ
ールで樹脂分濃度30重量パーセントに調整してフェス
を得た。このものの粘度は250ポアズであった。赤外
吸収スペクトルには1.780 cm−”にイミド基の
吸収。
Next, trimellitic anhydride is added and the temperature is raised to 210°C. The reaction was kept at 210° C. for 15 hours. The resin concentration was adjusted to 30% by weight with cresol to obtain a festival. The viscosity of this product was 250 poise. The infrared absorption spectrum shows imide group absorption at 1.780 cm-''.

1.650o−にアミド基の吸収が認められた。Absorption of amide group was observed at 1.650o-.

(fill  複合シートの製造 芳香族ポリアミドペーパー(Du  Pon を社。(Fill Manufacture of composite sheet Aromatic polyamide paper (DuPon).

商品名:ノーメツクス410.厚さ0.025妃 ■カレンダー品)をあらかじめ20°C′x:30分乾
燥し、つづいてこの両面に(1)で合成した全ディップ
塗工し、160℃で30分乾燥をした後さらに250℃
で30分乾燥を行ない厚み0.050■の複合シートを
得た。
Product name: Nomex 410. A 0.025 mm thick calendar product) was pre-dried at 20°C'x for 30 minutes, then the entire dip coating synthesized in (1) was applied to both sides, and after drying at 160°C for 30 minutes, further 250℃
After drying for 30 minutes, a composite sheet with a thickness of 0.050 cm was obtained.

実施例2 芳香族ポリアミドペーパー(日本アロマ社、商−品)を
120℃X30分乾燥し、つづいて実施例1(1)で合
成したクレゾール可溶ポリアミドイミド樹脂のクレゾー
ル希釈溶液(樹脂分10重量パーセント)を含浸させ、
160℃で30分乾燥をした後さらに250℃で30分
乾燥を行ない厚み0.075■の複合シートを得た。
Example 2 Aromatic polyamide paper (product of Nippon Aroma Co., Ltd.) was dried at 120°C for 30 minutes, and then a diluted cresol solution of the cresol-soluble polyamide-imide resin synthesized in Example 1 (1) (resin content: 10 weight) was dried at 120°C for 30 minutes. impregnated with
After drying at 160° C. for 30 minutes, drying was further carried out at 250° C. for 30 minutes to obtain a composite sheet with a thickness of 0.075 cm.

実施例3 +11  エポキシ樹脂含有ポリアミドイミド樹脂フェ
スの調製 (1)  クレゾール系溶媒に可溶なポリアミドイミド
樹脂の合成 トリメシン酸        14.0 0.2無水ト
リメリツト酸     76.8 0.84.4′−ジ
フェニルメタンジイソ  113.8 0.91シアネ
ート C−カプロラクタム     33.9 0.60クレ
ゾール         159.0中シレン    
       5.0トリメシン酸、トリメリット酸無
水物を除く上記成分を温度計、かきまぜ機1分留管をつ
けた四つロフラスコに入れ、窒素気流中で温度を180
℃に上昇し90分間反応を行なう。次いで160℃に温
度を下げ、トリメシン酸、無水トリメリット酸を添加し
クレゾールが還流する温度まで上昇する。この温度で1
0時間反応t−進めた。クレゾールで樹り旨分濃度23
重目パーセン)K調製してポリアミドイミド樹脂スを得
た。このものの溶液粘度は83ポアズ(30℃)、@元
圧粘度は027(0,5)/ジメチルフォルムアミド1
00m1溶液)であった。
Example 3 +11 Preparation of polyamideimide resin face containing epoxy resin (1) Synthesis of polyamideimide resin soluble in cresol solvent Trimesic acid 14.0 0.2 Trimelizic anhydride 76.8 0.84.4'-Diphenylmethane Diiso 113.8 0.91 Cyanate C-caprolactam 33.9 0.60 Cresol 159.0 Silene
5.0 Put the above ingredients except trimesic acid and trimellitic anhydride into a four-loaf flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a fractionating tube, and bring the temperature to 180°C in a nitrogen stream.
C. and reacted for 90 minutes. Next, the temperature is lowered to 160°C, trimesic acid and trimellitic anhydride are added, and the temperature is raised to a temperature at which cresol refluxes. At this temperature 1
The reaction was allowed to proceed for 0 hours. Tree flavor concentration 23 with cresol
Weight (percent) K was prepared to obtain a polyamide-imide resin. The solution viscosity of this product is 83 poise (30°C), @original pressure viscosity is 027 (0,5)/dimethylformamide 1
00ml solution).

(11)  エポキシ!′l1II旨含有ポリアミドイ
ミド樹脂ワニスの調製 (1)で得たポリアミドイミド樹脂の樹脂分100重量
部に対して樹脂分で15重1°部のエピコー)1004
 (シェル社製エポキシ樹脂、商品名)をかきまぜなが
ら加えて均一なフェスを得た。
(11) Epoxy! Preparation of polyamide-imide resin varnish containing the 'l1II effect (Epicor) 1004 in a resin content of 15 parts by weight and 1 part by weight per 100 parts by weight of the polyamide-imide resin obtained in (1).
(epoxy resin manufactured by Shell, trade name) was added with stirring to obtain a uniform fest.

(fill  複合シートの製造 芳香族ポリアミドペーパー(Du Pont 社。(Fill Manufacture of composite sheet Aromatic polyamide paper (DuPont Company).

商品名: Nomex−E 54A厚さ0.075mア
1°゛ ツカレンダ−品)をあらかじめ120℃、130分乾燥
し、つづいてこの両面に(:)で合成し九エポキシ樹脂
含有ポリアミドイミド樹脂組成ツブ塗工し160℃%3
0分乾燥し友後。
Product name: Nomex-E 54A (0.075 m thick, 1° calendered product) was dried at 120°C for 130 minutes, and then a polyamide-imide resin composition containing 9 epoxy resin was synthesized on both sides with (:). Coated at 160℃%3
After drying for 0 minutes.

1 250℃730分乾燥を行ない厚み0.100■の複合
シートを得た。
1 Drying was carried out at 250°C for 730 minutes to obtain a composite sheet with a thickness of 0.100 cm.

表1に本実施例1.2で得られた複合シートおよび比幀
例として芳香族ポリアミドペーパー単独品(Du  P
on1社、商品名: Nomex410厚さo、osm
カレンダー品)、ポリイミドフィルム(Du  Pon
1社、商品名:Ka p t o n厚さ0.0511
11 >の各々の特性を示す。
Table 1 shows the composite sheet obtained in Example 1.2 and the aromatic polyamide paper alone (Du P
on1 company, product name: Nomex410 thickness o, osm
calendar product), polyimide film (Du Pon
1 company, product name: Ka p t on thickness 0.0511
11>.

上記のポリアミドイミド樹脂で処理する事で吸水率、ハ
ンダ収縮率等の特性が大幅に向上する事が示される。ま
た本発明になる複合シートの特性はポリイミドフィルム
と比較しても可撓性印刷回路用基板の一材料としての必
要特性を有していること本わかる。
It is shown that properties such as water absorption rate and solder shrinkage rate are significantly improved by treatment with the above-mentioned polyamide-imide resin. Furthermore, it can be seen that the properties of the composite sheet according to the present invention, when compared with polyimide films, have the properties necessary as a material for a flexible printed circuit board.

第1頁の続き 0発 明 者 内ケ崎功 日立市東町四丁目13番1号日立 化成工業株式会社山崎工場内 0発 明 者 向山吉之 日立市東町四丁目13番1号日立 化晟工業株式会社茨城研究所内Continuation of page 1 0 shots clear person Isao Uchigasaki Hitachi 4-13-1 Higashimachi, Hitachi City Kasei Kogyo Co., Ltd. Yamazaki Factory 0 shots: Yoshiyuki Mukaiyama Hitachi 4-13-1 Higashimachi, Hitachi City Kasei Kogyo Co., Ltd. Ibaraki Research Institute

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、  芳香族ポリアミドベーパーに、クレゾール系溶
媒を用いたポリアミドイミド樹脂組成物を塗布を九は含
浸した後、加熱乾燥させてなる吊台シート。 2、 ポリアミドイミド樹脂組成物がクレゾール系溶媒
中でインシアヌレート環含有ポリイソシアネート、ジイ
ソシアネート、ラクタム。 トリカルボン酸無水物及びトリカルボン酸無に 水物以外の一般式 X−R−G−Y)n−t (X 、
 X’は同一であっても異なっていてもよく、カルボキ
シル基又は酸無水物基、Yはカルボキシル基、酸無水物
基、水酸基又はアミノ基、Rは→Rt +FEZ + 
Rv +7−芳香族、脂肪族。 り旨環族又は複素環族の残基、但しRtとR3は同一で
も異なっていてもよく、芳香族、脂肪族、am族又は複
素環族の残基、2は−Cルー。 −CO−、−801−又は−〇−0mとjはl又は2の
整数であり、nは1以上の整数である〕で示される化合
物を、イソシアヌレート環含有ポリイソシアネートを全
イソシアネート当量のO〜30当量パーセント、トリカ
ルボン酸無水物以外の一般式 X−R−+Y)n、で示
される化合物を全カルボキシル1駿のθ〜30当量パー
セントとして反応させて得られ、クレゾール系溶媒で樹
脂分5〜40重量パー七ントとされたポリアミドイミド
樹脂組成物である特許請求の#!8第1項記載の複合シ
ート。 1 イソシアヌレート環含有ポリイソシアネートが44
′−ジフェニルメタンジイソシアネート、トリレノシイ
ノアアネート、イソフオロンジイソシアネートから得ら
れるイソシアヌレート環含有ポリイソシアネートである
特許#11衣の#!囲第2項記−の複合シート。 4、 ジイソシアネートが4.4′−ジフェニルメタン
ジイソシアネート、4.4’−ジフェニルエーテルジイ
ソシアネート、トリレンジイソ/アネート又はキシリレ
ンジイソシアネートでめる特許請求の範囲第2項又は第
3項記載の複合シート。 5、 ラクタムがC−カプロラクタムである特許請求の
範囲第2項、第3項又は第4項記載の複合シート。 X′ 6、一般式X−)t−+Y)。−8で示される化分物が
。 トリメシン酸、トリス(2−カルボキシエチル)インシ
アヌレート、λλ’4.4’−ベンゾフエ、ノンテトラ
カルボン酸二無水物又はイソシアヌレート璋含有ポリイ
ソシアネートと酸無水物基を含有するポリカルボン酸と
の反応生成物である特許請求の範囲第2項、第3項。 第4項又は第5項記載の電気絶縁用複合シート。 7、トリカルボン酸無水物がトリメリット1llfi水
物である特許請求の範囲第2項、第3項。 第4項、第5項又は第6項記載の複合シート。 & ポリアミドイミド樹脂が、熱硬化性樹脂を含有する
ポリアミドイミド樹脂でろる特許請求の範囲dX1項、
第2項、第3項、第4項。 第5項、第6項又は第7項記載の複合シート。 9、熱硬化性樹脂がエポキシ樹脂、アルコキシ変性メラ
ミン樹脂又はフェアノールホルムアルデヒド樹脂である
特許請求の範囲第8項記載の複合シート。
[Claims] 1. A hanging sheet formed by coating aromatic polyamide vapor with a polyamide-imide resin composition using a cresol solvent, impregnating the same, and then heating and drying the composition. 2. The polyamide-imide resin composition contains incyanurate ring-containing polyisocyanate, diisocyanate, and lactam in a cresol solvent. General formula other than tricarboxylic anhydride and tricarboxylic acid anhydride X-R-G-Y)nt (X,
X' may be the same or different, carboxyl group or acid anhydride group, Y is carboxyl group, acid anhydride group, hydroxyl group, or amino group, R is →Rt +FEZ +
Rv +7 - aromatic, aliphatic. a cyclic or heterocyclic group residue, provided that Rt and R3 may be the same or different; aromatic, aliphatic, am group or heterocyclic group residue; 2 is -C-ru; -CO-, -801- or -〇-0m and j are integers of 1 or 2, and n is an integer of 1 or more]. ~30 equivalent percent, obtained by reacting a compound represented by the general formula # of the patent claim is a polyamideimide resin composition with a weight percent of ~40%! 8. Composite sheet according to item 1. 1 Isocyanurate ring-containing polyisocyanate is 44
Patent #11, which is an isocyanurate ring-containing polyisocyanate obtained from '-diphenylmethane diisocyanate, trilenosyinoaanate, and isophorone diisocyanate! Composite sheet as described in item 2 of the box. 4. The composite sheet according to claim 2 or 3, wherein the diisocyanate is 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 4,4'-diphenyl ether diisocyanate, tolylene diiso/anate, or xylylene diisocyanate. 5. The composite sheet according to claim 2, 3, or 4, wherein the lactam is C-caprolactam. X' 6, general formula X-)t-+Y). The compound represented by -8. Polyisocyanate containing trimesic acid, tris(2-carboxyethyl)ine cyanurate, λλ'4,4'-benzophene, nontetracarboxylic dianhydride or isocyanurate, and polycarboxylic acid containing an acid anhydride group Claims 2 and 3 are reaction products. The electrically insulating composite sheet according to item 4 or 5. 7. Claims 2 and 3, wherein the tricarboxylic acid anhydride is trimellit 1llfi hydrate. Composite sheet according to item 4, 5 or 6. & Claim dX1, wherein the polyamide-imide resin is a polyamide-imide resin containing a thermosetting resin,
Section 2, Section 3, Section 4. Composite sheet according to item 5, 6 or 7. 9. The composite sheet according to claim 8, wherein the thermosetting resin is an epoxy resin, an alkoxy-modified melamine resin, or a phenol formaldehyde resin.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6235593A (en) * 1985-08-09 1987-02-16 東芝ケミカル株式会社 Metal substrate for circuit
JPH03502434A (en) * 1988-02-05 1991-06-06 レイケム・リミテッド laminated polymer sheet
JPH05186608A (en) * 1992-06-25 1993-07-27 Teijin Ltd Thin-walled structural material
JP2015071761A (en) * 2009-09-30 2015-04-16 日立化成株式会社 Resin composition, prepreg using the same, metal foil with resin, adhesive film, and metal-clad laminate
JP2015534919A (en) * 2012-11-15 2015-12-07 エランタス ピー・ディー・ジー インコーポレイテッドElantas Pdg, Inc. Composite insulation film

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6235593A (en) * 1985-08-09 1987-02-16 東芝ケミカル株式会社 Metal substrate for circuit
JPH047115B2 (en) * 1985-08-09 1992-02-07 Toshiba Kemikaru Kk
JPH03502434A (en) * 1988-02-05 1991-06-06 レイケム・リミテッド laminated polymer sheet
JPH05186608A (en) * 1992-06-25 1993-07-27 Teijin Ltd Thin-walled structural material
JP2015071761A (en) * 2009-09-30 2015-04-16 日立化成株式会社 Resin composition, prepreg using the same, metal foil with resin, adhesive film, and metal-clad laminate
JP2015534919A (en) * 2012-11-15 2015-12-07 エランタス ピー・ディー・ジー インコーポレイテッドElantas Pdg, Inc. Composite insulation film

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