JPS58177961A - ジフエニルエ−テル、その製法及び該化合物を含有する除草剤 - Google Patents

ジフエニルエ−テル、その製法及び該化合物を含有する除草剤

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JPS58177961A JP58052806A JP5280683A JPS58177961A JP S58177961 A JPS58177961 A JP S58177961A JP 58052806 A JP58052806 A JP 58052806A JP 5280683 A JP5280683 A JP 5280683A JP S58177961 A JPS58177961 A JP S58177961A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 、 不莞明は、ジフェニルエーテル、その製法、該化合
物を有効物質として含有する除草剤並びに該化合物を好
ましからぬ他物生長を防除するために使用することに関
する。
刊行文献から、ニトロ基に対するオルト位にチオ基を有
する分類のジフェニルエーテルから戚る何幼物質は公知
である(特公昭52−21320号公転。
ドイツ連邦共和国特許出願公開第2833021号明細
婦)。
ところで1式: %式% 〔式中。
Zl及びZ2は夫々互相に無関係に水素原子、ハロゲン
原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシ基。
Cl−4−フルキルill、  C,−、−ハロゲンア
ルキル基又はc、−4−アルコキシ基を衣わし。
tはハロゲン几(子、ニトロ基、シアノ漬り、Cl−4
−アルキル基、C,−4−ハロゲンアルキルM、  C
l−4−アルコキシM+C+−4−ハロゲンアルコキシ
基。
C1−4−アルキルメルカプトak 、C,−4−ハロ
ゲンアルキルメルカプト基1c、−4−アルキルスルフ
ィニルM、  C,−、−ハロゲンアルキルスルフィニ
ル基。
C,−4−フルキルスルホニル”k 又u cl−4−
へロIfンアルキルスルホニル基を表わしかつ Rは7F、素原子、ハロゲン原子又は−X−R基(該式
中、Xはば素原子及びω1c黄原子を表わしカ)つ貸は
*g原子+ C,−tO−アルキルM*01−20−ア
ルコキシアルキル&+C+−20−アルキルチオアルキ
ル基。
C2−20−アルキルアミノアルキルm*cs−2゜−
ジアルキルアミノアルキル&+  Cl−20−ハロゲ
ンアルキル基、場合によりハロゲン原子によって直換さ
れた7〜20個の炭素原子を有する芳否脂肋族基、8個
までの炭素原子を有するC2−8−アルケニル基、C2
゛−3−ハロゲンアルキル基もしくはC2−8−アルキ
ニル基、6個までの炭禦原子t−有するカルボキシアル
キル基、アルコキシカルボニルアルキル基モシ〈はカル
バモイルアルキル基、3〜20個の炭亥原子を有するシ
クロアルキル基又は動台により姐侠されたフェニル基t
−表わす)、又は−NR’貸抽(該式中、貸及びR’は
1ト」じか又は糸なっておりかつRに門して挙げたもの
を衣わずか、又は貸が水素原子又は01−4−アルキル
基を表わす揚仕には、評はヒドロキシM+C+−20〜
アルコキシ基、又はCl−6−アルコキシ&IC1−a
−アルキルチオ基、C8−6−アルキルアミノ基、  
C2−6−ジアルキルアミ7基、ハロゲン原子、カルボ
キシアルキル挑、アルコキシカルボニル基又はフェニル
基によって直換されたc、−20−アルコキシ基、@曾
により直?Aされたフェノキシ基、アミノ基+  01
m20−アルキルiもしくはフェニルによって協侠され
たアミ7基を表わすか又は1とRは一鯖に揚台によ!’
c、−4−アルキル抽によって1個以上−侠された4又
は5個の災案原子′ft何するアルキレン類を衣わし、
該アルキレン蜘は酸素原子又は室案原子によって千〜「
されていてもよい)ヲ表わす〕で示されるジフェニルエ
ーテルかその都度の施用法及び用量に基づき見金もしく
は部分的除草作用を有することが判明した。1式1甲の
zl及びz2は夫々相互に無関係に水素原子、へロゲン
原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシM+  Cl−
4−フルキル基+C+−4−ハロゲンアルキル基又はC
1−4−アルコキシ基9例えば弗紫、塩累、莫素、沃素
、メチル、エチル、n−プロピル。
l−プロピル、n−ブチル、 tert−ブチル、トリ
フルオルメチル、ジフルオルメチル、フルオルメチル、
トリクロルメチル、ジクロルメチル、クロルメチル、ジ
ノルオルクロルメチル。l−クロルエチル、2−クロル
エチル、l−フルオルエチル。
2−フルオルエチル、2,2.2−)ジクロルメチル、
2,2,2.− )リフルオルエチル、1.l。
2.2−テトラフルオルエチル、1.1.2−)リプル
オル−2−クロルエチル、l、l、2,2゜2−ペンタ
フルオルエチル、メトキシ、エトキシ。
n−プロピルオキシ、i−プロピルオキシ又ハtert
−ブチルオキシを表わし。
tはハロゲン原子、二)’0基、  シアノm+C1−
4−アルキル基I  C1−4−ハロゲンアルキルm+
c、−4−アルコキシMI C1−4−ハロゲンアルコ
キシ基。
Cl−4−フルキルメルカプトに+01−4−ハロゲン
アルキルメルカプトMPCI−4−アルキルスルフィニ
ル基+  Cl−4〜ハロゲンアルキルスルフイニル鯖
c、+4−アルキルスルホニル基又はc、−4−ハロゲ
ンアルキルスルホニル基1例えば弗禦、塩案、美婚。
沃累、メチル、エチル、n−プロピル、1−プロピル、
n−ブチル、 tert−ブチル、トリフルオルメチル
、ジフルオルメチル、フルオルメチル、トリクロルメチ
ル、ジクロルメチル、クロルメチル。
ジノルオルクロルメチル。l−クロルエチル、2−クロ
ルエチル、1−フルオルエチル、2−フルオルエチル、
2,2.2−)ジクロルメチル、2゜2.2−トリフル
オルエチル、1.1.2.2−テトラフルオルエチル、
l、l、2−)リフルオA/−2−りoルエチル、l、
l、2,2.2−ペンタフルオルエチル、メトキシ、エ
トキシ、n−プロピルオキシ、i−プロピルオキシ、 
tert−ブチルオキシ、トリクロルメトキシ、トリフ
ルオルメトキシ、1−クロルエトキシ、2−クロルエト
キシ、l−フルオルエトキシ、2−フルオルエトキシ、
2,2.2−トリクロルエトキシ、2.E。
2−トリフルオルエトキシ、1.1.2.2−テトラフ
ルオルエトキシ、l、1,2,2.2−ペンタフルオル
エト羊シ、メチルメルカプト、エチルメルカプト、トリ
クロルメチルメルカプト、トリフルオルメチルメルカプ
ト、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、メチル
スルホニル、エチルスルホニル又はトリフルオルメチル
スルホニル′t−表わす。
式1甲、Rは水素原子、ハロゲン原子1例えば弗素、塩
緊、臭紫、 −XR’秘又は−NW貸貸越衣わす。
−XR’基甲、R′は水巣原子、1−20イ―、有;1
.IIには1〜4個の炭素原子を封するアルキル基9例
えばメチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル。
tert−ブチル、員性体ペンチル基、業性体ヘキシル
基、共牲体へブチル基、2〜20個、有利には2〜6髄
の炭素原子’t−[するアルコキシアルキル基。
例えばメトキシメチル、エトキシメチル、メトキシエチ
ル、メトキシプロピル、メトキシブチル。
エトキシブチル、2〜20個、特に2〜6個の炭素原子
を有するアルキルチオアルキル基9例えばメチルチオメ
チル、エチルチオメチル、メチルチオエチル、メチルチ
オプロピル、メチルチオブチル。
エチルチオプロピル、2〜20個、有利には2〜6個の
炭素原子を有するアル中ルアミノアルキル基。
例えばメチルアミノメチル、メチルアミノエチル。
エチルアミンメチル、エチルアミノエチル、メチルアミ
ノプロピル、メチルアミノブチル、3〜20個、有利に
は3〜8個の炭素原子を竹するジアルキルアミノアルキ
ル基1例えはジメチルアミノメチル、ジメチルアミノエ
チル、ジエチルアミノエチル、ジエチルアミノプロピル
、ジエチルアミノブチル、1〜201向、有利には1〜
4個の炭素原子を有するハロゲンアルキル基、?すえば
クロルメチル、トリクロルメチル、2−クロルエチル、
2−フルオルエチル、3−クロル10ビル、4−クロル
ブチル、場合によってハロゲン原子によって屓涙された
。7〜201bの炭素原子、特に7〜9個の炭素原子全
頁する芳沓脂肪族基1例えばベンジル。
ゝフェネチル、フェンプロピル、夫々2〜8(L特に2
〜4個の炭素原子を有するアルクニル基、ハロゲンアル
ケニル基もしくはアルキニル基1例えはエチニル、プロ
ペン−1−イル、プロペン−2−イル、クロルエチニル
、エチニル、プロパルギル、1チニル基9式ニー(aH
貸) =CClOH(該式中。
貸は水紫原子、メチル、エチル又はプロピルを表わしか
つnは1.2又は3の数字を衣わす〕のカルボキシアル
キル基1式; −(cHr )nCOOR’  Cjm
K甲1.?及びnは前記のものを衣わしかつ貸は1〜2
01向、特に1〜4憧の次系原子を仔するアルキル基、
t’lJえはメチル、エチル、プロピル、ブチルを奴わ
すンのアルコキシカルボニルアルキル基1式: −(C
HFe ) −Co−NFPR’  (i式中、貸及び
nは前記のもの全表わしかつ?及び1は同じか又は!A
なっておりかつ水素原子1 c、−4−アルキル基3例
えはメチル又はエチル、場合によりハロゲン原子、C1
−4−アルキルm+  c、−、−ハロゲンアルキル基
1例えばトリフェニルメチル、又はシアノ基によってf
it換されたフェニル堀を表わすか又FiWとB!は一
柄に4〜6個の炭素原子を有するアルキレン猷を形成す
る)のカルバモイル7 ルキA/ M 、  3〜20
i。
特に3〜6個の炭素原子全頁するシクロアルキル基9例
えはシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、
シクロヘキシル、又は場合によりハロゲン原子1c、−
4−アルキル基1例えはメチル。
エチルIc、+4−ハロゲンアルキル基1例えはトリフ
ルオルメチル、シア/基又は式: −0−(CHI? 
) −COO貸 (該式中、 R’、 FP及びnは前
記のもの金表わす)のアルコキシカルボニルアルコキシ
恭、釦」えは1−n−ブトキシカルボニルエトキシによ
って屓侠されたフェニルを振わす。
−NR’R’基甲の貸及び貸は同じか又は娘なっており
かつ貸に閃して挙けだものを奴わす。貸か71(系原子
又はC1−4−アルキル基を衣わす場合には、評はまた
ヒドロキシ基、1〜20個、有オリには1〜4個の炭素
原子を封するアルコキシ基1例えはメトキシ、エトキシ
、プロポキシ、ブトキシlc、+a、−アルコキシ基1
 c、−s−アルキルチオM*01−6−アルキルアミ
ノ基、C24−ジアルキルアミ7基、)λロゲン原子、
カルボキシアルキル基、アルコキシカルボニル!又はフ
ェニル基によって諺挟された1〜20個の炭素原子を有
するアルコキシ基1例えばメトキシメトキシ、メトキシ
エトキシ、メチルチオメトキシ、メチルチオエトキシ、
メチルアミノエトキシ、ジメチルアミノエトキシ、クロ
ルエトキシ、フルオルエトキシ、カルボニルメトキシ。
メトキシカルボニルメトキシ、2−メトキシカルボニル
エトキシ、ベンジルオキシ、7エネチルオキシ、場合に
よりハロゲン原子又はC1−1−アルキル基によって置
換されたフェノキシ基9例えばフェノキシ、4−り°ロ
ルフェノキシ、2.4−ジクロルフェノキシ、4−メチ
ルフェノキシ、アミ7基、1〜20個、有オリには1〜
8個の炭素原子を甘するアルキル基によって、又は場合
によりノ10ゲン原子、シアノ基、ニトロm+  ”1
Q−アルキル基。
C3−2−ハロゲンアルキル基によって1M、agれた
フェニル基によって温挨されたアミノMi例えばメチル
アミノ、エチルアミ/、プロピルアミノ、プチルアミ/
、ペンチルアミノ、フェニルアミノ。
4−クロルフェニルアミノ、2.4−ジクロルフェニル
アミノ、4−シアン7エこルアミノ、3−トリフルオル
メチルフェニルアミノ、4−メチルフェニルアミノ、4
−ニトロフェニルアミノを表わすことができる。貸と貸
はまた一鮪に場合によ!l) C+ 4−アルキル基に
よって1個以上kmされた。
4〜5個の炭禦原子を有するアルキレン頗を形成するこ
とができ、該アルキレン頼はば素原子又は諺紫原子によ
って中貼されていてもよい。その隙。
徴候鯖を形成する至素原子は1例えは以下の恭。
アゼチジ/、ピロリジム ピペリジノ、モルホリノ、2
.6−ジメチルモルホリノ、ピペラジノ。
2.6−シメチルビベラジノ、N−メチルピペラジノ、
N−エチルピペラジ/を形成する0匝侠基z1.  Z
t及びZ3は有オリにはフェニル環の2.4.6位に存
在する。
有利なジフェニルエーテルは zl、z、l及びz3カ
夫々相互に無関係に水紫原子、ハロゲン原子、Cl−4
−ハロゲンアルキル基又はC1−4−ハロゲンアルキル
メルカプト基を表わしかつRか−X−R’を辰わし、該
式中Xがば素原子又は硫黄原子を表わしかつR’がc、
4−アルキル基1c2−6−アルコキシアルキル基又は
嶋−0−アルキルチオアルキル基I C2−6−カルボ
キシアルキル基又はC3−0−アルコキシカルボニルア
ルキル基を表わす式1の化合物である。
lた。z’、z”及びtか前記のものを表わしかつRが
−N貸貸貸越表わし、該式中肝及びR″が同じか又は共
なっておりかつ水素原子1c、−10−アルキル抽。
嶋−0−アルコキシアルキル基又はC2−6−アルキル
チオアルキル基、又は場合によりハロゲン原子に   
・よって屓侠されたフェニル基?!−表わし、又は貸紗
i水索原子又はC1−4−アルキル基を衣わしかつ評が
C8−4−アルコキシ基、アミノ基、又はC,−8−ア
ルキル基によって協侠されたアミノ基を衣わf1シ付物
も有利である。将に有利であるのは zlが水素原子を
表わし、を及びtηi八ロへン原子又はC3−4−ハロ
ゲンアルキル基を表わしかつRが−X−貸 を衣わし、
該式中Xが職素原子を表わしかつR’が01−4−アル
キル基を表わす式1のジフェニルエーテルである。
Rがハロゲン原子を表わす式Iのジフェニルエーテルは
1式: 〔式中 zl、z2及びtは前記のものを衣わしかつH
alはハロゲン原子′ft表わす〕でボされるエーテル
金少なくとも化字蓋−的友の二硫化ナトリウムと、有様
溶剤の存在下K O〜120℃、 q+ K 20〜8
0℃の範囲の1hA1fで反1,6させて式:C式中 
zl、 7;l及びz3は別記のもの全表わす〕で示さ
れる二硫化物とし、引続き該二硫化物を少なくとも化学
量論的量の元禦ハロゲンと、不活性有機溶剤の存在下に
−L!0〜−)−120℃、特にo〜lo。
℃の範囲の温度で反応させることにより得られる。
両者の反応は不連続的に又は連続的に、常圧で又は加圧
下に実施することができる。
Rが水素原子、  −XR’基又は−N貸貸越を表わす
式■のジフェニルは1式: 1 〔式中 zl、z)!及・びz3はhIJ記のものを辰
わしかつHalはハロゲン原子’e&わす〕で示される
スルフェニルハロゲン化物を少なくとも当量の式:%式
%( 〔式中、Rは前記のものを表わす〕で示される化付物と
、不活性有機溶剤中でかつ場脅により酸受容体の存在下
に一20〜+150℃、特に0〜120℃の温度で反応
させるOとか初られる。この反bci I′i不連続的
に又は連続的に、常圧で又は加圧下に実施することがで
きる。
弐lの二硫化物の製造工程は、以下の反応式で表わすこ
とができる: 1 (1) 出発lf/I質はほぼ化学i−的比で、但し有利には■
に対して二ωIL化ナトリウム10%までの過剰で使用
する。この方法は、有@溶剤中の二帆化ナトリ□ウムの
魅濁液に等鷲のハロゲン化化合物■を加え。
反応ti終了するまで0〜80℃で0.5〜48時間。
有利には2〜12時間攪拌し1反J志混合物を吸引濾過
するか又は鴫縮する形式で実施するのが材料である。所
望の目的物質は再沈殿、再結晶又は水と一緒に攪拌する
ことにより単離することができる。
式IVのスルフェニルハロゲン化物の製造工程は。
以下の反応式で表わすことができる: (IV) 出発物質はほぼ化学量−的で、但し有利にはl′に対し
てハロゲンを30%までの過剰で使用する。
この方法は以下のようにして実施するのが有利である:
まず、不活性有機溶剤中の二硫化物のWA濁液又は溶液
に少なくとも当モル量のハロゲンを加える。反応を終了
させるために、0〜100℃で0.5〜48時間、有利
には2〜12時間後攪拌する。
反応混合物を濃縮しかつ所望の最終物質を再沈殿。
再結晶又はクロマトグラフィーにより単離する。
Rが水素原子、  −XR’基又は−NFFR’基を表
わす式10ジフェニルエーテルの製造上@は1例えは以
下の反応式により表わすことができる:\(4Ha 出発物質ははに化学量論的比で、すなわちIVに対して
出発物質710%以下の不足量ないしは過剰針で使用す
る。場合により反応を光子させるために酸受容体を添加
することができ、この場合出発物質Vがアミンである場
合には、上記機能はそれ自体で代行することができる。
更に9反応の際に生じるハロゲン化水素は不活性ガス例
えば重電を尋人することによ゛り排出させることもでき
る。この方法は、スルフェニルハロゲン化物IVの浴液
を一20〜+150℃、有利にはo〜+12o℃で不活
注封@浴剤中で、場合により同時に当モル倉の酸受容体
と一緒に、不活性有機層剤中の出発物質■の浴液に供給
するよう妃実施するのが有オI」である。
反J)6を終了させるためには、0〜60℃で0.5〜
48時間、有利には2〜12時間後撹拝する。反j16
屁脅物を濃縮する。所望の目的は再沈殿、再結合又は水
と一緒に撹拌することにより単離することができ、場合
によりクロマトグラフィーにより1目製することができ
る。
Nu記の両者の方法のためには、その都度の反応1条件
下で不活性有機溶剤を使用する。浴剤としては1例えば
ハロゲン化炭化水素、特に塩素化炭化水素1例えばテト
ラクロルエチレン、1.1.2゜2−又はl、1,1.
2−テトラクロルエタン。
ジクロルプロパン、塩化メチレン、ジクロルブタン、ク
ロロホルム、クロルナフタリン、ジクロルナフタリン、
四基化炭g、1.1.l−又は1゜1.2−トリクロル
エタン、トリクロルエチレン。
ペンタクロルエタン、o−、m−、p−ジフルオルベン
ゼン、l、2−ジクロルエタン、1.1−ジクロルエタ
ン、1.2−シス−ジクロルエチレン、クロルベンゼン
、フルオルベンゼン、ブロムベンゼン、ヨードベンゼン
、o−、p−及びm−ジクロルベンゼン、o−、p−、
m−ジブロムベンゼンT  O−!   −1p−クロ
ルトルエン、1゜2.4−)ジクロルベンゼン;エーテ
ル、例えばエチルプロビルエーテル。メチル−tsrt
−ブチルエーテル、n−ブチルエチルエーテル、 ジ−
n−ブチルエーテル、ジインブチルエーテル、ジイソア
ミルエーテル、ジイソプロピルエーテル、アニソール、
フエネトール、シクロヘキシルメチルエーテル、ジエチ
ルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、チオアニソール、β、
/−ジクロ〜ジエチルエーテル;ニトロ炭化水素例えば
ニトロメタン。
ニトロエタン、ニトロベンゼン*  O−+  m−+
  p−クロルニトロベンゼン、0−ニトロトルエン;
ニトリル例えはアセトニトリル、ブチロニトリル。
インブチロニトリル、ベンゾニトリル、m−クロルベン
ゾニトリル;脂肪族もしくは側娠式炭1じ水素9例えは
へブタン、ビナン、ノナン、o−、m+、p−シアモー
ル、Vβ点軛圓70〜190℃以内のベンジン留分、シ
クロヘキサン、メチルシクロヘキサン、デカリン、石油
エーテル、ヘキサン、リグロイン、2,2.4−トリメ
チルペンタン、2゜2.3−)リンチルベンタン、2,
3.3−)ジメチンベンタン。オクタン;エステル例え
はα「赦エチル、アセト酊嘔エステル、1!If:11
Mイソブチル;アミド例えばホルムアミド、メチルホル
ムアミド。
ジメチルホルムアミド;ナトン例えはアセトン。
メチルエチルケトン;及び相応する混合物カ該当する。
浴剤は出発W貿に対して100〜2000電蓋%。
有利には200〜7001童%の量で使用するのか有利
である。
酸受谷悴としては、全ての通常の咳結仕剤′t−使用す
ることができる。このためには有利には第3椴アミン、
アルカリ土類金編化@物、アンモニウム化合物及びアル
カリ金編化合物並びに相応する混@′wJか棺する。し
かし、亜鉛化付物を使用することもできる。セリえは塩
恭性ILZ台物、水限1じカリウム、水数化ナトリウム
、炭岐カリウム、炭藏ナトリウム、水数化リチウム、炭
触リチウム、亜炭取ナトリウム、皿炭ばカリウム、水ば
1じカルシウム、叡1じカルシウム、融化バリウム、木
版1しマグ1ネシウム、酸化マグネシウム、711Ht
l、バリウム。
炭酸カルシウム、屍酸マグネシウム、1炭ぽマグネシウ
ム、igmマグネシウム、水ば1じ11ば1じ皿船、炭
醒亜鉛、亜炭版M鉛、h’pym鉛、蛾ばナトリウム、
面ジナトリウム、トリメチルアミン。
トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリイソプロ
ピルアミン、トリブチルアミン、トリイソブチにアミン
、トリー5ec−ブチルアミン、トリー tert−ブ
チルアミン、トリベンジルアミン、トリシクロヘキシル
アミン、トリアミルアミン、ジイソ10ビルエチルアミ
ン、トリヘキシルアミン。
N、N−ジメチルアニリン、N、N−ジェチルア二’)
ン、N、N−ジブロヒ゛〜アニ!J / I  N I
  N −ジメチルトルイジン、N、N−ジエチルトル
イジン、N、N−ジプロピルトルイジン、N、N−ジメ
チル−p−アミノピリジン、N・、N−ジエチル−p−
アミノピリジン、N、N−ジプロピル−p−アミノピリ
ジン、N−メチルピロリドン、N−エチルピロリドン、
N−メチルピペリジン、N−エチルピペリジン、N−メ
チルピロリジン、N−エチルピロリジン、N−メチルイ
ミダゾール、N−エチルイミダゾール、N−メチルビロ
ール、N−エチルビロール、N−メチルモルホリン、N
−エチルモルホリン、N−メチルへキサメチレンイミン
、N−エチルへキサメチレンイミン、ピリジン、キノリ
ン、α−ピコリン、β−ピコリン、γ−ピコリン、イン
キノリン、ピリミジン、アクリジン、  N、 N、 
N’、 N’−テトラメチルエチレンジアミン、 N、
 N、 N’、 N’−テトラエチルエチレンジアミン
、キノキサリン、キナゾリン、N−10ビルジイソプロ
ピルアミン、  N、  N’−ジメチルシクロヘキシ
ルアミン、2.6−ルチジン、遣、4−ルチジン、トリ
フリルアミン、トリエチレンジアミンが数百する。
出’te化合物は文献公知方法に基づいて製造される。
例えは式■のエーテルはドイツ連邦共和−狩肝出願公開
第2311638号明細貴記戦の慄トド汰に拙づき得ら
れる。弐■の化付物は一般に入手口J Mgであるか又
は同僚に文献公知の方法に基づいてmt造することがで
きる。
eKvc、実施例で別記号法に基づく弐1の111の製
法全説明する。皿童婦と谷友飾はkyとtの関係にある
実施例1 エタノール50 V ll1LDI>甲の二硫1じナト
リウム4.2厘量郁の懸濁叡を至温でエタノール100
呑箪飾甲の3− (2’−クロル−4′−トリフルオル
メチルフェノキシ)−6−ニトロ−クロルベンゼン35
.2重量部の溶液に力Uえ、引続き該反)6 !44付
物を40分間撹拌する。引続き、沈殿物を吸引濾過し、
水と一細に攪仔しかつ新たに眼引励過する。融点161
〜165℃のビス−[3−(2’−り日ルー4′−トリ
フルオルメチルフェノキシ)−6−二トロー7エ二ル〕
−ジスルフィド31及鍛都(収率89%)(化付物&l
)か得られる。
実施例− 無水塩111Sメヂレン200谷駕帥甲の3− (2’
−クロル−4′−トリフルオルメチルフェノキシ)−6
−二トローフエニルジスルフイド34−9M菫郁の1v
Iliキ陶′e、金塙累で飽和δせ、引続き12時間撹
汗する。
該反ルC;浴液?M別し、器液全試圧下に敲紬じや)つ
旧状残渣を磨砕によって結晶させる。融点74〜78℃
の3− (2’−クロル−4′−トリフルオルメチルフ
ェノキシ〕−6−二トローベンゼンースルフエニルクロ
リド37m11節(収率96%)(化名吻應2〕が得ら
れる。
実施例3 無水エーテル100容童部中の3−(2−クロル−4′
−トリフルオルメチルフェノキシ)−6−二、ドローベ
ンゼン−スルフェニルクロリド19,23Kit%の溶
液に室温でチオグリコール酸メチルエステル5.3M量
部を加えか:)収反ル6屁合物を次いで2時間撹拌する
。引続き、減圧下に蒸発乾固しかつ油状銭分をジイソプ
ロピルエーテルで結晶させる。
融点66〜68℃の3−(2’−クロル−41−トリフ
ルオルメチルフェノキシ)−6−二トロフエニルーメト
キシカルボニルーメチルージスルフイド25皿証せしく
収率90%フ(化付物屋3ンか侍られる。
実施例1 無水エーテル100 :g童都甲の3− (2’−クロ
ル−4’ −)リフルオルーメチルフエノキシ)−6−
二トローベンゼンースルフエニルクロ!jt’1OjW
k都の浴数に同時にエタノール1.62厘M都及びトリ
エチルアミン2,6皿童都全加え、引続き温湿で2時間
撹拌する。該反ル6混付物をhM過し、腸液を霜塩酸水
浴液及び水を抽出し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、n
過しかつ減圧下に濃縮する。屈折率nも5= 1.60
67  を有する3−(2’−クロル−4′−トリフル
オルメチル−フェノキシフ−6−二トロフエニルーエチ
ルージスルフイド8賞量部(収率98%)(化合?I煮
4)が得られる。
実施例! エーテル100容麓部中の3− (2’−クロル−4′
−トリフルオルメチルフェノキシ)−6−ニトローヘン
ゼンースルフエニルクロリド” 、2厘tit 部の浴
数にメチルアミン3.1gを40%の水浴液の形で加え
る。引続き、至温で2時間位件し、封楯相を分能し、硫
酸マグネシウムで乾燥し、濾過しかつ減圧下に7M組す
る。屈灯串nっ: 1.6109  を頁する3 −(
2’−クロル−41−トリフルオルメチルフェノキシ〕
−6−ニトロ−ベンゼン−N−メチル−スルフェンアミ
ド17 、53iL :mt m (収率95%)(化
合物&5)が得られる。
同体にして1例えは式: CI      SR の以下の化合物を得ることができる。
to     >     Co   01  0  
  1−1   cq   t’q   q$   1
0  10ト    ト    ト  ト  の   
 の  の  の  coco   ωo   S  
〜  の  寸  →  c  ト  の  0 00
1  0  0   () 01 1−I  P−I  P−1呂 二 呂 昂 昂
 昂 呂 =の  寸  11′)   の  酬  
の  oso、−t   〜  つ  リBoコ0コc
t+cyOコ”QIQFQnrっ+   I−1++ 
  rn   r−1+−1+−4+−4+−1+  
 +−I   F−1ガ 式lのジフェニルエーテルは9例えば匝W的に噴唇可能
な溶液、粉末、懸濁液、更にまた一編度の水性、fFB
性又はその他の懸〜液又は分数液、エマルジョン、油性
分散液、ペースト、ダスト剤。
散布剤又は顆粒の形で嘘鋳、ミスト法、ダスト法。
散歪法又は注入法によって適用することができる。
過用形式は、兄全に使用目的に基いて次定される;いず
れの場合にも9本シロ明の有効物質のiJ能な限りの微
細分が保砒されるべきである。
I接fi< fiび」口6の清液、乳陶敢、ペースト及
び前分散紙′ft裂活するために、中位乃至部位のυβ
点の鉱油留分例えば意油又はディーゼル油、更にコール
タール?′lB等、並びに植物性又は動物性産邑脈の油
、脂肪族、板状及び芳合展戻化水素例えはペンゾール、
ドルオール、キジロール、パラフィン。
テトラヒドロナフタリン、アルキル置換ナフタリン又は
その艇纒体1例えはメタノール、エタノール。プロパツ
ール、ブタノール、クロロフォルム。
四塩化戻禦、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、
クロルベンゾール、イソフオロン等、 強m注浴剤(>
1えはジメチルフォルムアミド、ジメチルスル7オキシ
ド、N−メチルピロリドン及び水が使用される。
水性使用形は乳濁液濃紬物、ペースト又は湿1−川Hi
<の粉末(噴射粉氷)、前分散叡より水のが加により製
造されることができる。乳陶液、ペースト又は前分散准
を袈すするためには、物質はその1ま又は拙又は浴剤中
に俗解して、湿詞剤、接沿痢1分散剤又は乳化剤により
水中に均質に混合6れることかできる。しかも丑2Au
′#買、湿詞剤、按〜沖」1分散剤又は礼1じ剤及び揚
台により浴剤又は旧よりなる濃動物を製造することもで
き、これは水にて希釈するのに逸する。
衣聞1占注吻負としては伏のものか苧けられる:リグニ
ンスル7オンは、ナフタリンスルフォンば。
フェノールスルフォン取のアルカリ塩、アルカリ土11
アンモニウム穂、アルキルアリールスルフオナート、ア
ルキルスルフアート、アルキルスル7オナート、ジプチ
ルナフタリンスルフォン歌りアルカリ塩及びアルカリ土
類塩、ラウリルエーテルスル7アー)、IIfjtuア
ルコールスルフアート。
脂肪酸アルカリ塩及びアルカリ土類塩、硫酸化ヘキサデ
カノール、ヘプタデカノール、オクタデカ/−ルf) 
塩、 硫M 化脂肪アルコールグリコールエーテルの塩
、スルフォン化ナフタリン又はナフタリン訴棉体とフォ
ルムアルデヒドとの補合生成物。
ナフタリン或はナフタリンスルフォン赦とフェノール及
びフォルムアルデヒドとの紬曾生成物、ポリオキシエチ
レン−オクチルフェノールエーテル。
エトキシル化イソオクチ/I/フェノール、オクチルフ
ェノール、ノニルフェノール、アルキルフェノールポリ
グリコールエーテル、トリブチル7エ二ルボリグリコー
ルエーテル、アルキルアリールポリエーテルアルコール
、イントリテシルアルコール、脂肋アルコニルエチレン
オキシド−蝙台物。
エトキシル化ヒマシγm、ポリオキシエチレンアルキル
エーテル、エトキシル化ポリオキシ70ピレン、ラウリ
ルアルコールポリグリコールエーテルアセタール、ソル
ビットエステル、リグニン、亜硫哨廃敢及びメチに絨維
紫。
粉末、散布剤及び振りカ・け剤は有効@質と固状坦体物
質とを混合又は−鞄に磨砕することにより装漬されるこ
とができる。
粒状体例えば被−一、透浸−及び均質粒状体は。
万効?l質全固状担体q111J質に結合することによ
り製造されることができる。鵬状坦俸?!I質は例えは
鉱ト、土例えはシリカゲル、珪酸、珪酸ゲル、珪摩堰。
滑石、カオリン、アタクレ9石灰石9石灰9日並。
1球塊粒土1石灰yit黄色粘土、粘土、白要石、珪標
土、ω+CUカルシウム、し+jWマグネシウム、ハ1
じマグネシウム、磨砕合成樹ハ百、h巳料例えば仙らば
アンモニウム、![アンモニウム、htawアンモニウ
ム。
尿素及び似鴨性生成吻例えは載9勿初、樹反、不材及び
クルミ飲粉、私釉余粉木及び氾の回状り悴吻貿である。
使用ルは有効物質0.1乃主95皿に%然に0.5カキ
90Jk量%を含有する。
装剤例は以下の辿りである。
1.90厘麓都の有効物質3をN−メチル−〇−ピロリ
ドン10皿量部と混合する時は、極めて小さい滴の形に
て使用するのに適する浴液が得られる。
Il、103[置部の有効物質4を、キジロール90重
付部、エチレンオキシド8乃至10モルをオレイン[−
N−モノエタノールアミド1モルに附加したtilt 
加生成吻61に置部、ドデシルペンゾールスルフォン晒
のカルシウムm 2m k 81)及びエチレンオキシ
ド40モルをヒマシ油1モルに附加した゛附加生ht9
勿2皿%(部よりなる混付物中に浴等する。
■、20厘短飾の有効物質31全、シクロヘキサノン6
07= ’N *lJ、イソブタノール30里輩帥、エ
チレンオキシド7モルをインオクチルフェノール1モル
に附加した附加生成物5亘量都及びエチレンオキシド4
0モルをヒマシγ…1モルに雨刀目したbit〃目上成
吻5n鈑都よりなる屁合物甲に浴絣する。
lv、20嵐翫飾の有@物寅2全、シクロヘキサノン2
5亜加飾、岬点210乃至280℃の鉱油留分65里L
rJrpkひエチレンオキシド40モルをヒマシ油1モ
ルに附加した附加生成物11j都よりなる厩付物甲に畜
房する。この語数を水1ooooo皿拉郁甲に注入し且
つ細分布することにより有効物質0.02血鴛V、80
:jlE倉部の有効物質41を、ジイソブチル−ナフタ
リン−スルフォン酸のナトリウム塩3亘量都、亜硫酸−
ら^液よりのリグニンスルフォン酸のす) IJウム塩
10貫量置部び粉末状珪酸ゲル7M桁都と充分に混和゛
シ、且つハンマーミル中に於て磨砕する。
■1.5厘景都の有効物質55を、細粒状カオリン95
舐txトβと缶に混和する。かくして何匁物貿5頁鴛%
を含有する唄し剤が得られる。
Vll、  30皿友飾の何匁物貿56を、粉木状注ば
ゲル92厭J3f都及びこの油上ゲルの衣1角上に吠き
つけられたパラフィン油°8M鈑fa’Aよりなる託台
物と積に?Iも和する。かくして良好な接地性を竹する
旬°幼吻貿の+j剤が得られる。
Vl+l、  20厘景都の有効物質131を、ドデシ
ルペンゾールスル7オンばのカルシウム塩2 n 鈑M
D 、 J1m肋アシアルル−ポリグリコールエーテル
8 n 貢s 。
フェノールスルフォン岐−泳系−フォルムアルデヒドー
組合物のナトリウム塩2亘量都及びツマラフイン糸鉱油
68重量都と密に混和する。安定な旧状分散液が得られ
る。
施用は発芽前処理法又は発芽後処理法で行なうこと妙I
できる。新規有効、物質もしくは該有効物質を含有する
薬剤は好ましからぬ他物の発芽後に散イtiするの綻I
有利である。有効物質が特定の栽培植物に対して相容性
が低い場合には、除草剤を噴−機?使用して、敏感な栽
培他物の菜にはできるだけ当らず、一方有効wJ質がそ
の下で生長した好ましからぬ他物の某又は露出した土5
01Jvc屋するように喧鯵する散布技伶を過用するこ
ともできる(ポストーダイレクテツド、レイーバイ法)
有効物質の施用倉は、¥励、目的植物及び王艮収階に基
づいて0.005〜3 kg / haである。
次に、不光明9式1のジフェニルの19[呈の他物及び
好ましからぬ他物の生長に対する作用効果をuoi 至
’] ’M Kよッテ示ス。
栽培容器としては、容積300aをゼしかつ栽培上とし
て局良土d+’71.5%を有するローム妙ヲ入れたプ
ラスチック製他木はちを使用した。試験他物の柚を椋類
毎に分けて浅くまいた。
発芽後処理法では、そのぼ後に有効物質ないしは該有効
物質を含有する除草剤を土壌囲に散布した。このために
は、該除草剤を分配剤としての水中に懸濁又は乳化させ
かつ微軸分ノズルを用いて唄糾した。この施用法では、
地用賞は有効物質3、Okp/haであった。薬剤の散
布後に、発芽及び生長を促進するために容器に軽く水を
まいた。その後、植物が発芽するまで容器に透明なプラ
スチック装フードをかぶせた。゛このフ、−ドは他物か
せ効吻賀によって楽箸を父けない眠り、試験他物の均一
な発芽を保証した。
発芽後処理法のためには、試験他物を夫々の生し形に基
づいて3〜15 CInの生長〜さすで生長させかつそ
の後処理した。発芽後処理法で使用したイネ及びダイス
は泥炭(ビート)を晶化した栽培上に梱えた。そのWj
呆的陣召には気づかう必贅はない、それというのも他物
の処理は発芽仮初めて除j4剤で処理するからである。
発芽後処理法のためには、直接権をまきかつ同じ容器で
生長させた殖物を選択するか、又はまず苗として別に桐
えかつ処理の数日前に実験容器に移植した。施用倉は夫
々の有効物質に基づき0.03〜0.25に、iL/h
aの間で変動させた。
実験容器を−IA堅内に設置し、その除好渦柚のために
は高温範囲(20〜35℃ンにかつ桂反全気恢を好む経
には10〜25℃に設足した。実験期間は2〜4週面で
あった。この期中、慎物の世mlkし。
その個々の処理にだして肝愉した。l112iliI+
は0〜100のスケール(tC基づいて行なった。この
栃賃。
100は何物か発芽しないかないしは少なくとも地上節
分の先金な枯死を表わす。
渦至冥験で使用した個物は以下の品性から414成し 
ブこ : アオビ−L k;4(Amaranthus spp、
)テンキンマメ(Arachys hypogaea 
)アカザ(Chenopodium album )ト
ウダイグサ(Euphorbia geniculat
a )ダイス(Glycine max ) イモに= (Ipomoea spp、)イネ(0ry
za 5ativa ) シダ・スビノザ(5ida 5pinosa )シナビ
ス・アルバ(8inapis alba )イヌホウズ
キ(Solanum nigrum )コムギ(Tri
ticum aestivum )サンショクスミレ(
Viola tr’1color )1′隻択1(’I
J除草作用符性に関する試験で、有効物質7a 2 +
  3 +  4 +  5及び31は仄果傾維早を駆
除するか9戦場他物に対しては渦卸な選択的作用金ボし
た。同体に、この試験で、化合物Aa 41 、 42
 、43゜98及び131は儲めて良好72:除卑作用
ケ示し、この砲付ナンキンマメ及びイネ等の戦場他物は
榮1を父け7jいか又は僅かにかつ一時的に楽曹勿ズけ
たにすぎなかった。舊匁′lV賀7)、55及び77並
ひに82゜87及び106はM a m貿0.06ない
し0.25ky/ha。
bw用賞で広某類の軸車にメ+J して良好な作用を下
すか、コムギには薬簀を及はさないかないしは一時的な
かつ11”iかな楽筈を示したにすぎない。史に。
例えは化曾?!lA36は0.06ky/haで好1し
からぬ広葉類槓物を極めて良好に駆除し、しかも椋々の
戦場他物には選択的に作用した。
例えば化合’Iff A 56 、 194 、197
及び19Bは発芽ロリ処理法において有効物資3.0k
g/haの施用蓋で除草作用を示した。
虐用法の多椋性を考慮すれば、不光明の化合物はなお多
数の戦場他物において好ましがらぬ、待に広集類の1年
LE私の殖′+//J生長を防除するために使用するこ
とができる。例えは以下の戦場他物か経由する: タマネギ(AAlllu cepa )パイナツプル(
Ananas comosus )テンキンマメ(Ar
achis hypogaea )アスパラガス(As
paragu’s of’ficinalisノオート
ムギ(Avena 5ativa )フダンソウ(Be
ta vulgaris spp、altissima
 )サトウジシャ(Beta vulgaris sp
p、 rapa )アカテンサイ(Beta vulg
aris spp、 esculenta )ブラシー
力 ナバス(変柚ナボプラシーカ)(Brasslca
 napus war、 napobrassica)
トウツバキ(Camellia ’5inensis 
)ベニバナ(Carthamus ti’nctori
us )キャリーヤ イリノイネンシス(Caryai
lllnoinensis ) Y /L/ブシュカン(C1trus limon )
グレープフルーツ(C1trus maxima )ダ
イダイ(C1trus reticulata )ナラ
ミカン(C1trus 5inensis )コーヒー
ツキ[Coffea arabica (Coffea
canephora 、 Coffea 1iberi
ca ) 〕アミメロン(Cucumis melo 
)ギョウギシバ(Cynodon dactylon 
)アブラヤミ(Elaeis guineenis )
イチゴ(Fragaria vesca)大豆(Gly
cine max ) 木4.d [Gossypium hirsutum 
(Gossypiumarboreum ()ossy
pium herbaceumGossypium v
itifolium ) ]ヒマワリ(He1iant
hus annuus )キクイモ(He1ianth
us tuberosus )ゴムツキ(Hevea、
 brasiliensis )大麦(Hordeum
 vulgare )カラハナソウ(Humulu、s
 1upulus )アメリカイモ(Ipomoea 
batatas )オニグルミ(Juglans re
gia )レンズマメ(Lens culinaris
 )アマ(Linum usitatissium )
ト マ ト (Lycopersicon  lyco
persicum  )リンゴA4 (Malus S
pp、 )キャラサバ(Manihot escule
nta )ムラサ・キウマゴヤシ(Me6.icago
 sat、iva )ハツカ(Mentha、 pip
erita )バショウ% (Musa 5pl)、 
)タバコ[N1cotiana tabacu、m (
N、 rustica ) 〕オリーブ(01ea e
u、ropaea )イネ(0ryza 5ativa
 ) キビ(Panj、cu、m miliaceumノアズ
キ(Phaseo]−us 1unatus )ササゲ
(Pbaseolus mungo )ゴカツササゲ(
Pha、5eLus vulgaris )パセリ(P
ennisetum glaucum )ペトロセリウ
ム クリスバム(変椋チュベロザムン(Petrose
linum crispum spp、tuberos
um )トウヒ(Picea abies ) モミ(Abies alba ) マツ縞(Pinus spp、) シロエントウ(Pisum sativum )サクラ
(Prunus avium )アンス(Prunus
 domestica )プルヌス グルシス(Pru
nus dulcis )モモ(Prunus per
sica )ナシ(Pyrus communis )
サグリ(Ribes 5ylvestre )サンザシ
(Ribes uva−crispaノトウゴマ(Ri
cinus communis )サトウキビ(5ac
cha、rum officinarum )ライムギ
(5ecale cereale )ジャカイモ(5o
lan、um tuberosum )モロコシ[So
rghum bicolor (s、 vulgare
 ) 〕モロコシガヤ(Sorghum dochna
 )ホウレンソウ(8pinacia oleraee
a )カカオツキ(Theobrcma caca、o
 )パラザキツユクサ(Trifolium prat
ense )小麦 (つ:’rj、ticum  ae
stivum  )イワンツジ(Vaccinium 
carymbosum )コケモモ(Va、ceini
urn vitj、5−iciaea、 )ソウマメ(
Vicia faba ) ビグナ シネンシス(変稲つングイキュツータ)しVj
、gna 5inensis (V、 unguicu
lata ) )ブドウ(Vitis vinifer
a )トウモロコシ(Zea mays ) 作用スペクトルを拡大するためにかつ柏原効果を達成す
るために、不つ6明の化付物は扶数の別の除草もしくは
他物圧艮W4斃有効物員と屁付しかつ一糺に散布するこ
ともできる。厩名収分としては。
向エバジアジン、4H−3,1−ベンゾオキサジンm’
j ’14俸、ベンゾチアジアジノン、2.6−シニト
ロアニ+)ン、N−フェニルカルノ(メー)、fオール
カルバメート、ハロゲンカルボンハ、トリアジン、アミ
ド、尿素、ドリアジノン、ウラシル、ベンゾフラン艇導
体、シクロヘキサン−1,3−ジオン−誘導体及びその
他が該当する。
更に、新規化合物それたけ又は別の除草稈1と組合せた
ものをなお別の植物保護剤例えば害虫又はη4物病原性
其菌類もしくは細菌類と混合して一緒に散布するのが有
利な場合もある。更に、栄養分及び微量元素不足を細光
するためにイ史用される鉱物塩浴液との混合可能性も亘
要である。また、ジμ他物毒性油及び油濃紬物をか加す
ることもできる。
特許出願人   パスフ ァクチェンゲゼルシャフト代
理人弁理士   1)代 案 7目

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)式: ゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシ鮎。 C1−4−アルキルmy  Cl−4−ハロゲンアルキ
    ル餉又はc、−4−アルコキシ基を衣わし。 Z3はハロゲン原子、ニトロ基、シアノh+  01−
    4一アルキルm+ Cl−4−ハロゲンアルキルmI 
     Cl−4−アルコキシ基、 C,−4−ハロゲンアル
    コキシ基。 C1−4−アルキルメルカプトm+01−4−ハロゲン
    アルキルメルカプト基I  C,−4−アルキルスルフ
    ィニルM+  Cl−4−ハロゲンアルキルスルフィニ
    ル基、1C1−4−アルキルスルホニル基又はC1−4
    −ハロゲンアルキルスルホニル基を表わしかつ Rは水素原子、ハロゲン原子又は−x−貸基(該式中、
    Xは酸素原子及び硫黄厚手を表わしかつ貸は水嵩原子I
      Cl−2゜−アルキルMI Cl−20−ア)ルコ
    キシアルキル基1c、−20−アルキルチオアルキル基
    。 C2−20−アルキルアミノアルキルM +  C5−
    to−ジアルキルアミノアルキルM*  C,−2゜−
    ハロゲンアルキル基、ハロゲン原子によって徴候されて
    いてもよい7〜20個の炭素原子を有する芳香脂肪族基
    、8個までの炭素原子を有する嶋−8−アルクニル基、
    C2−3−ハロゲンアルケニル基もしくはC2−8−ア
    ルキニル基、6個までの炭素原子を有するカルボキシア
    ルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基もしくはカ
    ルバモイルアルキル基、3〜20個の炭素原子を有する
    シクロアルキル基又はム侠6れていてもよいフェニル基
    を表わす)、又は−NFe貸基(該式中、R′及び貸は
    同じか又は異なっておりかつ貸に関して挙げたものを涙
    わすか、又はR’が水禦原子又は01−4−アルキル基
    を表わす場合には、ビはヒドロキシ基I  C1−20
    −アルコキシ基、又はC,−a−アルコキシ基+  C
    l−6−アルキルチオ基+c1−a−アルキルアミノM
    、  C2−a−ジアルキルアミノ基。 ハo ’f ン原子+ カルボキシアルキル!、フルコ
    キシ力ルボニル基又はフェニル基によって貢侠されたc
    、−20−アルコキシ基、徴候されていてもよいフェノ
    キシ基、アミノ基I  Cj−20−アルキル基もしく
    はフェニル基によって置挨されたアミノ基を辰わ・すか
    又は貸と貸は一稲にC1−4−アルキル九によって1個
    以上V、挾されていてもよい4又は51−の戻禦原子を
    有するアルキレン鎮を表わし、該アルキレン−は岐累原
    子又は蓋案原子によって甲田rされていてもよい)を表
    わす〕で示されるジフェニルエーテル。 (−2J式’I甲、Zl、Z′及ヒZ”lr;2.4.
     6位[存Mしかつ相互に無関係にハロゲン原子T c
    、−4−))ロゲンアルキル基又はC1−4−ハロゲン
    アルキルメルカプト基全衣わしかつRがノ10ゲンル(
    子、  −X−R’基(該式中、Xはば累原子及び賑黄
    原子を表わし−NI R’基(該式中、1及びR3は同
    じか又は異なっておりかつ水素原子I  Cl−10−
    アルキル基*  02−6−アルコキシアルキル基又は
    C2−6−アルキルチオアルキル基、又はハロゲン原子
    によってIM侠されていてもよいフェニル基を表わすか
    又はyは水素原子又はC1−4−アルキル基を衣わしか
    つ2はCl−4−アルコキシ基、アミ7基、又は01−
    8−アルキル基によってtfi侠されたアミ7基を表わ
    す)1−表わす。 ′l守訂請求の範囲第l狽■己載のジフェニルニーfy
    v。 (3)式1甲 zlが水禦原子全衣わし 2z及びtか
    ハロゲン原子又はC1−4−ハロゲンアルキル基を衣わ
    しかつRが−X−R’基(談式中、Xは酸累原子?衣わ
    しかり貸はC1−4−アルキル基全衣わす9を秋わす1
    時計811求の範囲第1項記載のジフェニルエーテル。 (す3− (2’−クロル−4′−トリフルオルメチル
    −フェノキシ)−6−ニトロ−ベンゼン−N−メチル−
    スル7エンーアミドである。特許請求の範囲第1項記載
    の化合物。 (A−13−(2’−クロル−4′−トリフルオルメチ
    ル−フェノキシ)−6−ニトロ−ベンゼン−スルフェン
    酸メチルエステルである。特許請求の範囲第1項記載の
    化合物。 (6)式: ゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシ基。 C8−4−アルキル基1c、+4−”ロゲンアルキル基
    又IrJ、C+−4−アルコキシ基を衣わし。 Z3はハロゲン原子、ニトロ基、シアノに+  Cl−
    4−アルキルM+  Cl−4−ハロゲンアルキルM、
    Ct−4□−アルコキシM、−Cl−4−ハロゲンアル
    コキシ基。 c、−4−アルキルメルカプト基1  c、+4−ハロ
    ゲンアルキルメルカプト基I  C1−4−アルキルス
    ルフィニルik +  01−4− ハロゲンアルキル
    スルフィニル基。 Cl−4−フルキルスルホニル基又はC1−4−ハロケ
    ンアルキルスルホニル基を衣わしかつ Rはハロゲン原子を表わす〕で示されるジフェニにエー
    テルY!:製造する方法において1式ニア、1 〔式中 zl、z2及びZ3は口U記のもの?衣わしか
    つ有軸浴剤の存仕下に0〜120℃の〜・シ囲の節度で
    反J心させて式: 〔式中 zl、zZ及びZ3は前記のものを衣わす〕で
    ボされる二硫化物とし、引続き該二硫化物全少なくとも
    化学k 7酌量の元累ノ10ゲンと、不活性荷櫨浴剤の
    仔佳下に一20〜+120℃の屹囲の温度で反応6せる
    ことを特徴とする。ジフェニルエーテルの製法。 (7)式: Cl−4−フルキル基+C,−4−ハロゲンアルキル基
    又はC1−4−アルコキシ基を表わし。 z3はハロゲン原子、ニトロ基、シアン基1c、−4−
    7A/ キ/lz基、  C,、−ハロゲンアルキルM
    、C+−4−アルコキシM、、C1−4−ハロゲンアル
    キル基。 Cl−4−フルキルメルカプト基I  Cl−4−へロ
    ゲンアルキャメルカブト試r  Cl−4−アルキルス
    ルフィニルa、Cl−4−ハロゲンアルキルスルフィニ
    ル基。 C1−4−アルキルスルホニル基又はC1−4−ハロゲ
    ンアルキルスルホニル基を表わしかつ Rは水紫原子、−X−R’スk(該式中、Xはヒ素原子
    及び硫黄原子全表わしかつR’は水束原子1c、−20
    −アルキルM+C+−20−アルコキシアルキルm、*
    C27,−アルキルチオアルキル基、C2−20−アル
    キルアミノアルキルM+  03−20−ジアルキルア
    ミノアル午ル基*  Cl−20−ハロゲンアルキル基
    、ハロゲン原子によって徴候されていてもよい7〜20
    個の炭素原子を有する芳否脂肋朕蹟、8個までの炭素原
    子を有するC2−8−アルケニ/L/基* 02−s−
    ハロゲンアルケニル基もしくはC2−6−アルキニル基
    、64固までの炭素原子を有するカルボキシアルキル基
    、アルコキシカルボニルアルキル基もしくはカルバモイ
    ルアルキル基、3〜20個の炭素原子を有するシクロア
    ルキル基又は1区換されていてもよいフェニル基を表わ
    す)、又は−N貸?基(該式中、ピ及び卯は同じか又は
    異なっておりかつR’に関して塞げたものを表わすか、
    又はR3が氷菓原子又はCl−4−アルキル基を表わす
    場合には、R’はヒドロキシ基。 Cl−20−アルコキシ基、又はC1−0−アルコキシ
    基。 C,−6−アルキルチオM+  Q+−a−アルキルア
    ミノ抽。 C2−6−ジアルキルアミ7基、ハロゲン原子、カルボ
    キシアルキル基、アルコキシカルボニル&又はフェニル
    基によってhaされたCl−20−アルコキシ基、屓換
    されていてもよいフェノキシ恭、アミ7基1  c、−
    20−アルキル基もしくはフェニルによってI+1侠さ
    れたアミ7基を衣わすか又は評とyは−〜にcl−4−
    アルキル基によって1個以上直侯されていてもよい4又
    は5個の炭素原子をnするアルキレン鎖を表わし、該ア
    シキレンvAはば素原子又は蓋素原子によって中断され
    ていてもよい)を表わす〕で示されるジフェニルエーテ
    ルを製造する方法において1式: 〔式中 zl、  l及びtはDu記のもの′ft表わ
    しかつR−H(Vl 〔式中、RはlU記のものを衣わす〕で示される化名物
    と反応させることを待似とする。ジフェニルエーテルの
    製法。 (f1式: ゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシ基。 C3−2−アルキルM+CH−4−八ロゲンアルキル基
    又はC8−4−アルコキシ基を表わし。 tはハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、Cl−4−ア
    ルキル基+  Cl−4−ハロゲンアルキルM+Cl−
    4−アルコキシ&+01−4−ハロゲンアルコキシん。 C1−4−アルキルメルカプトに+c+−4−ハロゲン
    アルキルメルカプト基、C□−4−アルキルスルフィニ
    ル基、Ct−4−ハロゲンアルキルスルフィニル基。 C1−2−アルキルスルホニル基又はC1−4−ハロゲ
    ンアルキルスルホニル基を表わしかつ Rは水素原子、ハロゲン原子又は−X−R1H(眠式中
    、Xは酸素原子及び硫黄原子を衣わしかつ貸は水素原子
    I Cl−20−アルキル基I Cl−20−アルコキ
    。 ジアルキル基I  C1−20−アルキルチオアルキル
    基。 C2−2o−アルキルアミノアルキル基1 as−t。 −ジアルキルアミノアル井ル基I  Cl−20−ハロ
    ゲンアルキル基、ハロゲン原子によって置換されていて
    もよい・7〜20個の炭素原子を有する芳沓脂肋族基、
    8個までの炭素原子を有するラー、〜アルケニル基、c
    2−6−ハロゲンアルクニル基もしくは嶋−0−アルキ
    ニル基、6個までの炭素原子を有するカルボキシアルキ
    ル基、アルコキシカルボニルアルキル基もしくはカルバ
    モイルアルキル拙、3〜20制の炭素原子を有するシク
    ロアルキル基又はh挨されていてもよいフェニル基を表
    わす)、又は−N貸貸基(該式中、貸及び貸は同じか又
    は!AなっておりかつR1に関して挙げたもの全表わす
    か、又はR’か氷菓−アルキルチオ基1c1−a−アル
    キルアミ/At、Ct−6−ジアル中ルアミノ基、ハロ
    ゲン原子、カルボキシアルキル基、アルコキシカルボニ
    ルM又はフェニル基によって置換されたC1−2゜−ア
    ルコキシ基。 置換されていてもよいフェノキシ基、アミノ基。 c、−20−アルキル基もしくはフェニル基によって置
    換されたアミノ基を表わすか又は評とびは一軸にC7−
    4−アルキル基によって1個以上麓挨されていてもよい
    4個又は511の炭素原子を頁するアルキレン餉を表わ
    し、賊アルキレン輔は酸素原子又は室鴬原子によって中
    断されていてもよい)を表わす〕で示されるジフェニル
    エーテルを含有する除草剤。 (9)不活性泳加物及び式: 〔式中。 t Zl及びz′は夫々枦相に無関係に水素原子、ハロゲン
    原子、ニトロ漬り1.シアノ基、カルホキ>4゜”c、
    +4−アルキルM+C+−4−ハロゲンアルキル基又は
    C1−4−アルコキシ基を表わし。 −ハロゲンアルコキシ基I  Cl−4−アルキルチオ
    力7 ) Its l  Cl−4−ハロゲンアルキル
    メルカプト基。 c、−4−フルキルスルフィニル基fc、−4−ハロゲ
    ンアルキルスルフィニルM*C1−4−アルキルスルホ
    ニルM 又HCl−4−ハロゲンアルキルスルホニル基
    を表わしかつ Rは水嵩原子、ハロゲン原子又は−X−貸基(該・式中
    、Xけ酸素原子及び硫黄原子を表わしかつ貸は水素原子
    1  c+−to−アルキル基* C1−20−アルコ
    キシアルキル基I  C1−20−アルキルチオアルキ
    ル基。 C2−to−アルキルアミノアルキルM +  03−
    20−ジアルキルアミノアルキルM+  c、−2o−
    ハロゲンアルキル晶、へロゲン原子によって置換されて
    いてもよい7〜20個の炭素原子全回する芳晋脂肋族基
    、8個までの炭素原子を臀する(a−a−アルキニル基
    I C2−6−ハロゲンアルケニル基もしくはC2−8
    −アルキニル基、6個までの炭素原子′t−何するカル
    ボキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基も
    しくはカルバモイルアルキIL/基、3〜20個の炭素
    原子を有するシクロアルキル基又は置換されていてもよ
    いフェニル基を表わす)、又は−NRR’基(該式中、
    貸及びR’は同じか又は具なっておりかつ茸に関して挙
    げたものを表わすか、又は貸が水素原子又はC1−4−
    アルキル基を表わす場合には、R′はヒドロキシ&IC
    +−20−アルコキシ基、又はC1−6−アルコキシm
    *  Cl−a−アルキルチオM+  Cl−6−・ア
    ルキルアミノM+ 02−Is−ジアルキルアミ7基。 ハロゲン原子、カルボキシアルキル基、アルコキシカル
    ボニル基又はフェニル基によってh候されたc、−20
    −アルコキシ基、屓挨されていてもよいフェノキシ表緑
    、アミノに+c+−20−アルキル基もしくはフェニル
    基によってfit快されたアミノ基を衣わずか又は1と
    yは一鮪にc、−4−アルキル基によって1個以上協侠
    されていてもよい4又は5個の炭素原子を有するアルキ
    レン嗣t−表わし、該アルキレジ′頼は酸素原子又は屋
    素原子によって甲−[されていてもよい)を表わす〕で
    示されるジフェニルエーテルを含有する除草剤。 (10)不活性添加物及び上記式1中 zl、  it
    及びz3が2.4.6位に荘在しかつ相互に無関係にハ
    ロゲン原子I  Cl−4−ハロゲンアルキル基又はC
    1−3−ハロゲンアルキルメルカプ)Mを表わしかつR
    かハロゲン原子、−X−R’基(該式中、Xはば禦原子
    及びω1c黄原子を表わしかつR’ViC,−8−アル
    キル基+02−a−アルコキシアルキルm+’c2−a
    −カルボキシアルキル基、C3−a−アルコキシカルボ
    ニルアルキルを表わす)、又は−N]”P貸越(該式中
    、V及・□□び貸は同じか又は銭なっておりかつ氷菓原
    子、Cl−10−アルキル&、  C2−a−アルコキ
    シアルキル基又はC2−6−アルキルアミノアルキル恭
    、又はハロゲン原子によって&侠されていてもよいフェ
    ニルMk衣わすか又は貸は水素原子又はC1−4−アル
    キル示を表わしかつyはC1−4−アルコキシ基、アミ
    ノ基。 又はC5−8−アルキル基によって置換されたアミノ
JP58052806A 1982-04-01 1983-03-30 ジフエニルエ−テル、その製法及び該化合物を含有する除草剤 Pending JPS58177961A (ja)

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