JPS581771B2 - Gravure plate making method - Google Patents

Gravure plate making method

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Publication number
JPS581771B2
JPS581771B2 JP7230578A JP7230578A JPS581771B2 JP S581771 B2 JPS581771 B2 JP S581771B2 JP 7230578 A JP7230578 A JP 7230578A JP 7230578 A JP7230578 A JP 7230578A JP S581771 B2 JPS581771 B2 JP S581771B2
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JP
Japan
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gravure
continuous tone
screen
photoresist
area
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熊野泰三
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Toppan Printing Co Ltd
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Publication date
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はグラビア製版方法に関し、更に詳しくは、二種
類の異なったグラビアスクリーンを用いることにより高
品質の印刷物の得られるグラビア版を得る方法に関する
ものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a gravure plate-making method, and more particularly to a method for obtaining a gravure plate that produces high-quality printed matter by using two different types of gravure screens.

従来のグラビア印刷法としては、グラビア版のセルの大
きさ6]一定で深さのみが変化するいわゆるコンベンシ
ョナルグラビア法と称される方法、グラビア版のセルの
深さは一定でセルの面積が変化する普通網グラビア法及
びグラビア版のセルの深さとセルの面積の両方が変化す
る網グラビア法が良く知られている。
Conventional gravure printing methods include the so-called conventional gravure method, in which the cell size of the gravure plate remains constant and only the depth changes; A plain gravure method in which both the cell depth and the cell area of the gravure plate are varied are well known.

コンベンショナルグラビア法においては、連続階調ポジ
チブを用いるので、網分解したポジチブ(網ポジチブ)
を用いる網グラビア法よりも階調は豊富である。
In the conventional gravure method, a continuous tone positive is used, so a net-resolved positive (half-tone positive) is used.
The gradation is richer than that of the halftone gravure method.

しかしながら、調子再現はグラビア版のセルの深さのみ
に依存しているので、腐蝕の際の深さの誤差はただちに
調子再現に影響を与える。
However, since the tone reproduction depends only on the depth of the cells in the gravure plate, errors in depth during corrosion immediately affect the tone reproduction.

そしてこのような深さの誤差による影響は浅いセルを有
するライト部において顕著である。
The influence of such a depth error is noticeable in the light portion having shallow cells.

例えばコンベンショナルグラビア法においては、セルの
深さが1〜2μ程度のライト部においては腐蝕の際の深
さの誤差は極めて微小なものとしなければならず、常に
一定の深さに安定して腐蝕することは非常に困難である
For example, in the conventional gravure method, in light areas where the cell depth is approximately 1 to 2 μm, the error in depth during corrosion must be extremely small, and corrosion must always be maintained at a constant depth. It is very difficult to do so.

網グラビア法は、コンベンショナルグラビア法の腐蝕の
不安定性を取り除くために考えられたものである。
The net gravure method was devised to eliminate the corrosion instability of the conventional gravure method.

網グラビア法は、ライト部におけるセルの面積は小さい
ので、その分だけセルの深さを大きくすることができる
In the net gravure method, since the area of the cell in the light part is small, the depth of the cell can be increased by that much.

従って網グラビア法においては腐蝕の際に深さの誤差を
生じても、この誤差の影響はコンベンショナル法におけ
るよりも小さい。
Therefore, even if a depth error occurs during corrosion in the net gravure method, the influence of this error is smaller than in the conventional method.

しかしながら、網グラビア法においては、連続階調ポジ
チブをそのまま用いることは出来ず、連続階調ネガチブ
(あるいは連続階調ポジチブ)から網ポジチブ(あるい
は網ネガチブ)に変換してから用いなければならないと
いう不便さがある。
However, in the halftone gravure method, it is not possible to use continuous tone positives as they are, but it is inconvenient that continuous tone negatives (or continuous tone positives) must be converted to halftone positives (or halftone negatives) before use. There is.

本発明は、網グラビア法におけるようなライト部の腐蝕
作業の安定性及び、コンベンショナルグラビア法におけ
る階調の豊富さを合せ持ったグラビア製版方法を提供す
るものである。
The present invention provides a gravure plate-making method that has both the stability of the corrosion work of the light part as in the net gravure method and the richness of gradation as in the conventional gravure method.

従来、コンベンショナルグラビア法においてはドクター
ブレードを支持するためのドテの形成は一種類のグラビ
アスクリーンを用いて行なっていた。
Conventionally, in conventional gravure methods, one type of gravure screen has been used to form a dowel for supporting a doctor blade.

このために大きな不都合な点が存在していた。ライト部
における腐蝕の安定性を得るためには、グラビアスクリ
ーン10としては、グラビア版のセルの面積に対応する
不透明部1の面積を小さくしたものを用いれば良いこと
は既述の説明から容易に理解できる。
Because of this, there were major inconveniences. It is easily understood from the above explanation that in order to obtain stability of corrosion in the light part, the gravure screen 10 should have a smaller area of the opaque part 1 corresponding to the area of the cells of the gravure plate. It can be understood.

すなわち、不透明部1の透明部2に対する割合を少なく
すれば良い。
That is, the ratio of the opaque portion 1 to the transparent portion 2 may be reduced.

しかしながらこのようにすると、シャドウ部におけるセ
ルの面積も当然小さくなり、また充分な深さのセルとな
るように腐蝕することも困難でシャドウ部における印刷
濃度が不足してしまう。
However, if this is done, the area of the cells in the shadow portion will naturally become smaller, and it will also be difficult to corrode the cells to a sufficient depth, resulting in insufficient printing density in the shadow portion.

また逆にシャドウ部における充分な印刷濃度を得るため
には、グラビアスクリーン10の不透明部1の面積を大
きくすれは良い。
Conversely, in order to obtain sufficient printing density in the shadow area, it is better to increase the area of the opaque area 1 of the gravure screen 10.

すなわち不透明部1の透明部2に対する割合を大きくす
れは良い。
In other words, it is better to increase the ratio of the opaque portion 1 to the transparent portion 2.

しかしながらこのようにすると、ライト部におけるセル
は浅くしなければならず、従って腐蝕工程におけるバラ
ツキが生じ易いことは既述の通りである。
However, in this case, the cells in the light part must be made shallow, and as described above, variations in the corrosion process are likely to occur.

本発明者は二種類のグラビアスクリーンを特殊な方法で
フォトレジストに焼き付けることにより前記欠点を解消
できることを見い出して本発明を完成したものである。
The present inventor has completed the present invention by discovering that the above-mentioned drawbacks can be overcome by printing two types of gravure screens onto photoresist using a special method.

以下図面を参照しながら本発明を更に詳細に説明する。The present invention will be explained in more detail below with reference to the drawings.

本発明においては、少なくとも三つの露光工程を含んで
いる。
The present invention includes at least three exposure steps.

そのうちの一つは第4図に示されている如く、フォトレ
ジスト20の感光層3側にグラビアスクリーン10’及
び連続階調ポジチブ30を積層した後に連続階調ポジチ
ブ側から露光する工程である。
One of them, as shown in FIG. 4, is a step in which a gravure screen 10' and a continuous tone positive layer 30 are laminated on the photosensitive layer 3 side of a photoresist 20, and then the continuous tone positive layer is exposed to light.

この露光工程においては、グラビアスクリーンと連続階
調ボジチブとを同時に階してフォトレジストを露光する
ので、ライト部Aにおいては多量の光が連続階調ポジチ
ブ30を透過し、次いでグラビアスクリーン10′の透
明部2を透過して透明部2の下部の感光層3を充分に硬
化させ、他方シャドウ部Cにおいては、連続階調ポジチ
ブ30の濃度が高いので、光はほとんどこのポジチブを
透過せず、従ってこの部分においてはグラビアスクリー
ンはフォトレジストには焼付けられない。
In this exposure process, the photoresist is exposed by simultaneously using the gravure screen and the continuous tone positive, so in the light section A, a large amount of light passes through the continuous tone positive 30, and then the gravure screen 10'. The light passes through the transparent part 2 to sufficiently harden the photosensitive layer 3 under the transparent part 2, while in the shadow part C, since the concentration of the continuous tone positive 30 is high, almost no light passes through this positive. Therefore, the gravure screen is not printed onto the photoresist in this area.

また中間調部Bにおいては、連続階調ポジチブ30の濃
度に応じて中程度にフォトレジストの感光層3を硬化さ
せる。
Further, in the halftone portion B, the photosensitive layer 3 of the photoresist is hardened to a moderate degree depending on the density of the continuous tone positive 30.

三つの露光工程のうちの他の一つの工程(必ずしも二番
目に行なうものではないが便宜のため、以下においては
第二露光工程という)は第5図に示されている如く、フ
ォトレジスト20の感光層3側に、第4図で示される露
光工程で用いるグラビアスクリーン10′よりも不透明
部1′の占める割合の大きなグラビアスクリーンと連続
階調ネガチブ40を積層して、連続階調ネガチブ40側
から露光する工程である。
The other one of the three exposure steps (hereinafter referred to as the second exposure step for convenience, although it is not necessarily the second one to be performed) is the process of forming the photoresist 20 as shown in FIG. On the photosensitive layer 3 side, a continuous tone negative 40 and a gravure screen in which the opaque portion 1' accounts for a larger proportion than the gravure screen 10' used in the exposure process shown in FIG. 4 are laminated to form a continuous tone negative 40 side. This is the process of exposing to light.

この露光工程は第4図で示される露光工程(必ずしも最
初に行なうものではないが、便宜土以下においては第一
露光工程という)とは焼付状態は反対になる。
This exposure step is opposite to the exposure step shown in FIG. 4 (hereinafter referred to as the first exposure step, although it is not necessarily the first step) in terms of the printing state.

すなわち、ライト部Rは連続階調ネガチブ40において
は濃度が高いのでグラビアスクリーン10”はフォトレ
ジスト20には焼き付けられない。
That is, since the light portion R has a high density in the continuous tone negative 40, the gravure screen 10'' is not printed on the photoresist 20.

他方シャドウ部Cは連続階調ネガチブ40においては濃
度が低いので、多量の光が連続階調ネガチブ40を透過
し、次いでグラビアスクリーン10’の透明部γを透過
して透明部2′の下部の感光層3を充分に硬化させる。
On the other hand, since the shadow part C has a low density in the continuous tone negative 40, a large amount of light passes through the continuous tone negative 40, and then passes through the transparent part γ of the gravure screen 10' to reach the lower part of the transparent part 2'. The photosensitive layer 3 is sufficiently cured.

また中間調部B’においては、連続階調ネガチブ40の
濃度に応じて中程度に感光層3を硬化させる。
Further, in the halftone portion B', the photosensitive layer 3 is hardened to a moderate degree depending on the density of the continuous tone negative 40.

三つの露光工程のうち残りの工程(以下便宜のために第
三露光工程という)は、第6図に示されている如く、フ
ォトレジスト20の上に連続階調ポジチブ30′を積層
して、連続階調ボジチブ側から露光する工程である。
In the remaining of the three exposure steps (hereinafter referred to as the third exposure step for convenience), as shown in FIG. 6, a continuous tone positive 30' is laminated on the photoresist 20. This is a process of exposing from the continuous tone positive side.

第三露光工程においては、連続階調ボジチブ30′の濃
度に応じてフォトレジスト20の感光層3を硬化させる
In the third exposure step, the photosensitive layer 3 of the photoresist 20 is hardened according to the density of the continuous tone positive 30'.

本発明の連続階調ボジチブ30と30′とは同一のもの
を用いることができる。
The continuous tone positives 30 and 30' of the present invention can be the same.

更に本発明の連続階調ネガチブ40は、連続階調ボジチ
ブ30又は30′に対応するネガチブである。
Furthermore, continuous tone negative 40 of the present invention is a negative corresponding to continuous tone positive 30 or 30'.

本発明においては以上の如き三つの露光工程を任意の順
序で行なうが、グラビアスクリーンをフォトレジストに
焼付ける第一露光工程及び第二露光工程においては、グ
ラビアスクリーンの乳剤面とフォト・レジストの感光層
3とが密着するように積層するのが好ましく、また第三
露光上程においては連続階調ボジチブ30′の乳剤面と
フォト・レジストの感光層3とが密着するように積層す
るのが好ましいがこれに限定されるものではない。
In the present invention, the above three exposure steps are performed in any order, but in the first exposure step and second exposure step of printing the gravure screen onto the photoresist, the emulsion surface of the gravure screen and the photoresist are exposed. It is preferable that the layers 3 and 3 are in close contact with each other, and in the upper stage of the third exposure, it is preferable that the emulsion surface of the continuous tone positive 30' and the photosensitive layer 3 of the photoresist be in close contact with each other. It is not limited to this.

本発明においてはライト部は、グラビアスクリーン10
′がフォトレジスト20に焼き付けられ、グラビアスク
リーン10′は焼き付けられない。
In the present invention, the light section is the gravure screen 10
' is burned into the photoresist 20, and the gravure screen 10' is not burned.

またシャドウ部においては、グラビアスクリーン10”
がフオトレジスト20に焼き付けられ、グラビアスクリ
ーン10’は焼き付けられない。
In addition, in the shadow area, the gravure screen 10"
is printed onto the photoresist 20, and the gravure screen 10' is not printed.

更に中間調部においてはグラビアスクリーン10,10
′の両方がフォトレジスト20に焼き付けられる。
Furthermore, in the halftone part, gravure screens 10, 10
' are printed onto the photoresist 20.

第6図からわかるように中間調部におけるスクリーンの
焼き付けによる感光層3の硬化はライト部あるいはシャ
ドウ部におけるスクリーンの焼き付けによる感光層3の
硬化よりは少なくなるが、現像後のレジスト層3′を介
して腐蝕したときにグラビア版5のドテ6を形成するだ
けの硬化が得られるようにする必要がある(第7図)。
As can be seen from FIG. 6, the hardening of the photosensitive layer 3 due to screen baking in the intermediate tone area is less than the hardening of the photosensitive layer 3 due to screen baking in the light area or shadow area, but It is necessary to obtain sufficient hardening to form the grooves 6 of the gravure plate 5 when the plate corrodes through the plate (FIG. 7).

このようにするのはグラビアスクリーン10又は10′
のフオトレジスト20への焼付時において両者の露光量
を中間調部のドテを形成するのに見合うだけ充分に施こ
してもよく、またどちらかの焼き付け時の露光量を中間
調部のドテを形成するのに見合うだけ充分に施こしても
よい。
To do this, the gravure screen 10 or 10'
When printing onto the photoresist 20, the exposure amount for both may be applied sufficiently to form the dots in the halftone area, or the exposure amount at the time of either printing may be set to be enough to form the dots in the halftone area. It may be applied as much as necessary to form.

本発明においては、第一露光工程から第三露光工程にお
いては、連続階調ボジチブ30 . 30’及び連続階
調ネガチブ40はそれぞれ互いに見当を合わせてグラビ
アスクリーンあるいはフォトレジストに積層する必要が
ある。
In the present invention, from the first exposure step to the third exposure step, continuous tone positive 30. 30' and continuous tone negative 40 must each be laminated to the gravure screen or photoresist in register with each other.

これらの露光工程において見当を合わせるには、どのよ
うな手段を用いても良いかレジスタービンを用いるシス
テムを採用すれば見当合せは容易になる。
Any means may be used to achieve registration in these exposure steps.Adoption of a system using register bins will facilitate registration.

見当合わせについては当業者にとって良く知られている
のでこれ以上説明する必要はない。
Registration is well known to those skilled in the art and does not require further explanation.

また中間調部においてはグラビアスクリーン10とクラ
ピアスクリーン10”の両者がフォトレジスト20に焼
き付けられているので、これらグラビアスクリーンの網
点構造の間でモアレを発生する場合がある。
Furthermore, in the halftone area, since both the gravure screen 10 and the crapier screen 10'' are printed on the photoresist 20, moiré may occur between the halftone dot structures of these gravure screens.

従ってこれらグラビアスクリーンをフオトレジストに焼
き付ける場合には、できるだけモアレがめだたないよう
な角度で焼き付けることが好ましい。
Therefore, when printing these gravure screens on photoresist, it is preferable to print at an angle that minimizes moiré.

本発明の第一露光工程及び第二露光工程で用いるグラビ
アスクリーンは第1図で示されるような直交する透明部
2により取り囲まれた四角な不透明部1を有する通常の
グラビアスクリーンを用いることができ、更に第2図で
示されるような丸い不透明部1が透明部2により取り囲
まれているグラビアスクリーンを用いることができる。
As the gravure screen used in the first exposure step and the second exposure step of the present invention, a normal gravure screen having a rectangular opaque portion 1 surrounded by orthogonal transparent portions 2 as shown in FIG. 1 can be used. Furthermore, it is possible to use a gravure screen, as shown in FIG. 2, in which a round opaque part 1 is surrounded by a transparent part 2.

その他第3図で示されるようなレンガを積み合せたよう
な配列に不透明部1と透明部2とか存在するようなグラ
ビアスクリーン、英国特許公報第974884号明細書
に記載されている如き、グラビアスクリーン等種々のも
のを用いることが可能であり、本発明の主旨に適するも
のであればどのようなグラビアスクリーンでも用いるこ
とができる。
In addition, a gravure screen in which an opaque part 1 and a transparent part 2 are arranged in an arrangement like a stack of bricks as shown in FIG. 3, a gravure screen as described in British Patent Publication No. 974884, etc. Any gravure screen can be used as long as it is suitable for the purpose of the present invention.

また本発明においては第一露光工程により、ライト部か
ら中間調部に対応ずる部分に焼き付けられるグラビアス
クリーン10は腐蝕の安定吉シャープ性を出す狙いで不
透明部1′の占める割合が10〜40%程度のグラビア
スクリーンを用いることが好ましく、30〜35%程度
のグラビアスクリーンを用いれば更に好ましい。
In addition, in the present invention, in the first exposure step, the gravure screen 10, which is printed in the areas corresponding to the light area to the intermediate tone area, has an opaque area 1' that accounts for 10 to 40% in order to stabilize corrosion and provide sharpness. It is preferable to use a gravure screen of about 30% to 35%, and it is more preferable to use a gravure screen of about 30 to 35%.

更にこのライト部から中間調部に対応する部分に焼き付
けられるグラビアスクリーン10’は、第2図に不すよ
ラな、不透明部1が丸い形状をしているグラビアスクリ
ーンを用いれば印刷時において、ライト部のインキの転
移が良好に行なわれるので好ましい。
Furthermore, the gravure screen 10' that is printed on the areas corresponding to the light area to the intermediate tone area can be printed using a gravure screen in which the opaque area 1 has a round shape, which is very similar to that shown in FIG. This is preferable because the ink transfer in the light area is performed well.

更に本発明において、第二露光工程により中間調部から
シャドウ部に対応する部分に焼き付けられるグラビアス
クリーン10′は、第一露光上程で用いるクラピアスク
リーン10′よりも不透明部の占める割合の大きなグラ
ビアスクリーンを用いる。
Furthermore, in the present invention, the gravure screen 10' that is printed in the areas corresponding to the halftone area to the shadow area in the second exposure process is a gravure screen that has a larger proportion of opaque areas than the crapier screen 10' used in the upper part of the first exposure. Use.

その理由はシャドウ部において印刷物に充分な印刷濃度
を確保するためである。
The reason for this is to ensure sufficient printing density in the printed matter in the shadow area.

第二露光工程においては第1図あるいは第3図に示すよ
うな不透明な点が四角い形状をしているグラビアスクリ
ーンを用いれは文字等の再現性に優れ、更に充分な印刷
濃度が得られ易いので好ましい。
In the second exposure process, using a gravure screen with square opaque dots as shown in Figure 1 or Figure 3 has excellent reproducibility of characters, etc., and it is easy to obtain sufficient print density. preferable.

第二一露光工程において用いられるグラビアスクリーン
10′は不透部1′の占める割合が40〜80%程度の
グラビアスクリーンを用いることが好ましく、55〜6
5%程度のグラビアスクリーンを用いれは更に好ましい
The gravure screen 10' used in the second exposure step is preferably a gravure screen in which the proportion of the opaque portion 1' is approximately 40 to 80%, and is preferably 55 to 60%.
It is more preferable to use a gravure screen of about 5%.

本発明で用いるフオトレジストは、特に限定されるもの
ではなく、例えば、感光性を付与されたカーボンチツシ
ュ、コダックグラビアレジストフイルム、ロトフイルム
、ロタルゴフイルム等が用いられる。
The photoresist used in the present invention is not particularly limited, and for example, photosensitized carbon tissue, Kodak gravure resist film, rotofil, rotargo film, etc. are used.

またポーシエル法の如くグラビアシリンダーにあらかじ
めフオトレジスト用材料が途布されるものでもよい。
Alternatively, a photoresist material may be applied to the gravure cylinder in advance, such as in the Portiel method.

本発明の方法に従って露光されたフォトレジストは通常
の方法に従ってグラビアシリンダー(板状のものも含む
、以下同様)を腐蝕するために用いられる。
The photoresist exposed according to the method of the present invention is used to etch gravure cylinders (including plate-shaped cylinders, hereinafter the same) according to a conventional method.

腐蝕工程はフォトレジストのグラビアシリンダーへの転
与、現像、乾燥、腐蝕の順に行なわれるのが通常である
が、用いられるフオトレジストの種類に従って適した方
法で行なえばよく、このような順序及び作業工程等は上
記に限定されるものではない。
The etching process is usually carried out in the order of transferring the photoresist to the gravure cylinder, developing, drying, and etching, but it may be carried out in an appropriate manner depending on the type of photoresist used, and such order and operations may be carried out. The steps etc. are not limited to the above.

また必要に応じて腐蝕後更にクロムメッキを行なっても
よい。
If necessary, chrome plating may be further performed after corrosion.

以上の如き構成の本発明においては、ライト部及びシャ
ドウ部のそれぞれに適したグラビアスクリーンを用いて
いる。
In the present invention configured as described above, gravure screens suitable for each of the light section and the shadow section are used.

従ってライト部においては、ライト部に適した小さなセ
ル面積を形成することができるので、その分だけライト
部のセルを深くすることができる。
Therefore, in the light part, a small cell area suitable for the light part can be formed, and the cells in the light part can be deepened accordingly.

このためライト部においては、コンベンショナル法のセ
ルの深さのように1〜2μの間のコンマ何ミクロンかの
深さを制御しなくても良く、3〜5μ程度に深く出来、
腐蝕が安定し、網グラビア法のようにシャープになる。
Therefore, in the light part, there is no need to control the depth of several microns between 1 and 2 microns like the depth of the cell in the conventional method, and it can be as deep as 3 to 5 microns.
Corrosion becomes stable and sharp like net gravure method.

又、シャドゥ部は、シャドウ部にあわせた面積のグラビ
アスクリーンか選べ、グラビアらしい、重厚な調子が得
られる。
In addition, for the shadow area, you can choose a gravure screen with an area that matches the shadow area, giving you a deep tone typical of gravure.

更に本発明においては連続階調ポジチブを用いるので網
点分割したボジチブを用いる網グラビア法よりも階調が
豊富であり、更に網撮り工程も不要である。
Further, in the present invention, since continuous tone positive is used, the gradation is richer than in the dot gravure method which uses dot-divided positive, and there is no need for a halftone photographing process.

このような本発明は、コンベンショナルグラビア法と網
グラビア法の利点を兼ね備えたグラビア製版方法を提供
でき、本発明により得られたグラビアシリンダーによる
印刷物は高品質なものが得られ、しかもその品質は安定
したものが得られる。
As described above, the present invention can provide a gravure plate-making method that combines the advantages of the conventional gravure method and the net gravure method, and the printed matter produced by the gravure cylinder obtained by the present invention can be of high quality, and the quality is stable. You get what you get.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図から第3図はグラビアスクリーンの説明図、第4
図から第6図は本発明の露光工程の説明図、第7図は腐
蝕工程の説明図。 1,1’,1”……不透明部、2,2’,2’……透明
図、3……感光層、3′……レジスト層、5……グラビ
ア版、6……ドテ、10,10’,10”……グラビア
スクリーン、20……フォトレジスト、30,30’…
…連続階調ボジチブ、40…・・連続階調ネガチブ、A
,A’……ライト部、B,B……中間調部、C,C’…
…シャドウ部。
Figures 1 to 3 are explanatory diagrams of the gravure screen, and Figure 4 is an illustration of the gravure screen.
6 to 6 are explanatory diagrams of the exposure process of the present invention, and FIG. 7 is an explanatory diagram of the corrosion process. 1, 1', 1''... Opaque part, 2, 2', 2'... Transparent figure, 3... Photosensitive layer, 3'... Resist layer, 5... Gravure plate, 6... Dote, 10, 10', 10"...Gravure screen, 20...Photoresist, 30,30'...
...Continuous tone positive, 40...Continuous tone negative, A
, A'...Light part, B, B...Middle tone part, C, C'...
...Shadow Department.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 フオトレジストの感光層側にグラビアスクリーンと
連続階調ポジチブを積層して、連続階調ポジチグ側から
露光する工程、前記フォトレジストの感光層側に、前記
工程で用いたグラビアスクリーンよりも不透明部の占め
る割合の大きなグラビアスクリーンと連続階調ネガチブ
を積層して、連続階調ネガチブ側から露光する工程及び
、前記フォトレジストの感光層側に連続階調ポジチブを
積層して、連続階調ポジチブ側から露光する工程の三つ
の工程を任意の順序で行なった後に、前記露光済みフォ
トレジストを用いて通常の方法でグラビア版を得ること
を特徴とするグラビア製版方法。
1. A step in which a gravure screen and a continuous tone positive are laminated on the photosensitive layer side of the photoresist and exposed from the continuous tone positive side, and a part is more opaque than the gravure screen used in the step on the photosensitive layer side of the photoresist. A process of laminating a gravure screen with a large proportion of gravure screen and a continuous tone negative and exposing from the continuous tone negative side, and laminating a continuous tone positive on the photosensitive layer side of the photoresist, and exposing the continuous tone negative to the continuous tone positive side. 1. A gravure plate-making method, which comprises performing three steps in an arbitrary order, including a step of exposing to light, and then obtaining a gravure plate by a conventional method using the exposed photoresist.
JP7230578A 1978-06-15 1978-06-15 Gravure plate making method Expired JPS581771B2 (en)

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