JPS58172529A - 熱的プロセスの実施のための回転ドラムの運転状態を把握する方法及び扁平の特に運動する被測定物、例えばロ−タリキルンのような回転ドラムの表面温度の無接触測定のための装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は熱的プｐセスＯ！１！施の丸めの回転ドラム、
轡にアルミナ、鉱石、セメントキル、カルク１等０黴粒
１ｔＯＪ６１１の九めの回転ドラムの運転状態の把握の
ための方法並びに熱的プロセスの実施のための回転ドラ
ム、４１）にアルミナ。

鉱石、セメントｉル、カルタ１等の微粒−〇処理〇九め
の１転ドラムの運転状態の把握の丸めの方法において、
ロータリキルンの表面Ｏ温度分布が無接触で測定され、
そＯ除熱的プロセス及び又はロータリキルンの運転を記
載する他のパラメータと一連した温度分布からロータリ
キルンＯＷＩ闘的な運転状態及び又はその特性値又は称
呼値の変化が形成される方法を実施するためであって、
＃」定値調整のための一方の機能要素と橢定値を得る九
″込の軸方の機ＩＩ！１！素とを包含し、前記一方ＯＩ
ｔ能張索は電気信号に対する温ＷＬ１１定値０整合Ｏた
めに使用され、稜記０仙方の機ｖＡ畳嵩は入射する赤外
線に相応する電気信号を発生するものに関するものであ
る。

クリンカの８童４０００）ン又はそれ以上に達する今日
使用されているロータリキル／ユニットの大きさの増大
に伴ない、特にれんが損傷に基づく炉停止及びそれによ
り−１約される出費を減少させるために精密な監視ｏ４
１）ｗ性が増大した。こＯ１ｌ炉内の材料突出の不均一
性、リング形成及びリング破壊とみなされ、かつ就中ロ
ータリキルンＯジャケット面の温度変化において極度に
なるリング形成及びリング損傷をできる限夛発生状態で
認識することが１簀である、何故ならば本発明によれば
早い時点で導入された対技装置は僅かな停止時間従って
僅かな生産損失に通ずるからである。しかしこ０ＩＩＯ
炉設備の周囲における皇０多くかつ腐蝕性の雰囲気は複
雑ａｍ定系の使用には問題があり、このような炉設備は
更に湿度及び振動が伴い、実際上丈夫で取扱いの容易な
装置Ｏ１２用しか許されない。

ロータルキル２０１１度監視の丸めに大きな開口角を吃
った丈夫でゆるやかに応答する放射温度針をレール上に
平行Ｋかつロータリキルンのジャケット鋸に対して小さ
い距離において走行可能に配列することが公知である。

しかしこの際ロータリキルンＯ全表面の面状把握は比較
的長い時間間隔Ｏ経過０４ＩＫはじめて達成される。

こＯｓれんが損傷Ｏ１！際上重畳な迅速な認識可能性は
得られない。

伽Ｏ公知の可能性は大きな開放角を有する位置固定０旋
１可能ｅ款射温度針の配置である。

しかしこＯＳ長いロータリキルンでは走査角の制御ｌ卸
ち多くのこの穏０飯置０使用によってのみ得られうる周
縁部における番い解赤力が生ずる。

ロータリキルン０表面温度０既に改良された迅速な面で
被う把握は１９７８都出販された印刷物［ムＧムセムス
キャナ、ロータリキルンのリアルタイムモニタのための
赤外線システム」に記載されている。こＯＷＡ小さい開
口角と回転光学系を備えた調定装置を対象とする。測定
は線に沿って案内される表面の走査に基礎をおき。

そのｊｌ−に沿う走査はロータリキルンの回転速度に対
して無関係の速度で行われる。そＯＷＡ検出され九光線
は回転可能に支承されたプリズムを介して半導体デラク
タに送られ、半導体は光線に対応し良電気信号を発する
。装置は基準放射体を備え、基準放射体は光学系と共に
鋼ノ・ウジンダ内にカプセル状に包含されており、ノ・
ウジフグは同様に空調された保護ハウジングに格納され
ており、保護ハウジングはロータリキルンの長さと、水
平に利用可能な走査角度によって決定され九ロータリキ
ルンからの距離に配設されている。この際、複雑な装置
をロータリキルン０１１８における不適当な環境作用か
ら保護するために多くの安全手段が必要である。場所の
前に比較的大きな構造体、、′！Ｒを必要とする測定装
置があり、その保守は特に複雑化された構造に基いて又
はその設置に基いて熟練した専門ばを必要とする・この
印刷物に記載され九測定システムは閉鎖されておや、そ
してロータリキルンＯＩＩ向の温度分布を表わす相異な
るグラフとして示されているアナログ形で測定値を供給
する。温度分布はプ四セス案内手段の時間正しい導入の
丸めの一充分な情報を得る九めＯ−ロータリキルン運転
Ｏ重畳なパラメータであるが、こ０温度分布は他Ｏ熱的
プロセスと関連して又は例えばＪＩ科供給、燃料供給、
Ｉ８転数及び駆動動力等のようなロータリキルンＯ運転
を表わすパラメータと一連して説明されなければならな
い、この通報はｊｌ科及び燃料供給の不均等な重量Ｏ配
量を知）うる九めである。検出された測定値の評価９例
えば傾崗分析はこの印刷物に記載され友システムでは考
慮されていない。

従って本発明０１１１１には熱的プロセスの実施の友め
０１転ドラム、％にロータリキルンの運転状態の把握方
法を創造することであり、こＯ方１１ 法が特徴あるパラメータのできる限夛完全な姿を供給し
、パラメータは評ＳＯためにデータ部層に適合し九ｙ＃
に調成され、そしてこの基底上に不適当な運転状態又は
附随し九障害を表わす特性値を形成するようにする方法
を提供することである。更に本発ｇＡＯ＊題は簡明性１
丈夫さ及び精度によって％微づけられかつ準備されかつ
データ処理装置による評価のために好適な形で供給され
るような１面状の、特に１転ドラムのような運動する測
定対象０＠面温度の無接触測定Ｏ喪めＯ装置を開発する
ことである。こＯＩＩ題は熱的プロセスの実施Ｏための
回転ドラム。

特にアルミナ、鉱石、セメンＦミル、カルク。

等Ｏ微粒物Ｏ旭理のための回転ドラムの運転状態の把握
〇九めの方法において、ロータリキルンの表面Ｏ温度分
布が無接触で測定され、そＯ除熱的プロ女ス及び又はロ
ータリキルンＯ運転を紀帰するｌ１１１Ｏパラメータと
関連し友温度分布からロータリキルンの瞬間的な運転状
態及び又は千０４１性値又は称呼値の変化が形成される
ことによって解決される。１転ドラム又はロータリキル
ンの運転状態の表示のために包括的な関係、即ち残りの
運転パラメータによって与えられる関係に温度分布の無
飯触糊定が関連づけられる。この方法で例えばその対立
した共働関係の基礎の上に得られた糊定結果Ｏ改嵐され
九評価の可能性が得られ、その結果これらの州定値は相
互に関連して説明されることができる。大きな機能関係
における温ｆｌｉｔ定の連結はプロセス最適又は品質改
良のために利用されることができる時間経過における実
際状態又は運転状態０簡単な分析の可能性をもたらす。

更に存在し又は附随する損傷への炉壁Ｏ敏感な連続的な
検査の可能性があり、そＯ！ｉ１果炉れんが０時間的経
過も認識可能である。炉内の材料央出の不均一性及びリ
ング破口の外に燃焼プロセスのその都度の比熱消費及び
温度分布が１費である他のパラメータも計算されること
ができる。

本発明Ｏ構成において温度分布の測定の際ロータリキル
ンから発した赤外線が位置一定の点によって行状に走査
され、そＯ際検出され九欄定値は既知の一定に保持され
た温度の少なくと４一つＯ基準放射体の温度の類似Ｏ妨
害作用を受は九橢定Ｏ基準に従って修正される。この際
好ましくは二つＯ基準放射体が使用され、その相異なる
温度はロータリキル７Ｃ）ＩＩＩ性温度に相当する。基
準放射体の測定が同一の妨害作用を受けるととによって
測定対象と醐定装置との関Ｏ光路に生ずる変化が自動的
に考慮され、その結果側定値の精度は悪化されない。

全鋼定範囲をカバするために、基準放射体の相異なる温
度は合目的的に上部及び下部の限界温度に調整され、そ
の結果こ０温ｆｌＩＩ定の結果ＫＩＩｉ定値の例えばリ
ニアな修正が可能である。

それによって強い汚染の際に予期される大きな修正要因
でも臨界的に高い及び低い温度が安全に把握されること
が確保される。しかし必要な場合には１例えば高いオー
ダ従って高精［Ｃ）修正を実施することができる丸めに
有利にｉ！ｆＯ異なる二つ以上の光線も使用されること
ができる。

本発明Ｏ他の構成において基準放射体は同時に信号発信
器として利用される。ｍ短工程に基いて周期的に行われ
る。基準放射体も関連しているロータリキルンの走査は
光線から受けた信号を調定過程Ｏ行Ｏはじめと終り又は
走査方向の認識〇九めに利用されることができる特定の
形にするという可能性が開かれたとｔＶ＠Ｏ形成に必要
な補助手段は簡単な構造によって特徴づけられ、そして
例えば所定Ｏ大きさの開口及び願序又社配列を備えかつ
基準放射体Ｏ光路に配置されている絞りとして形成され
ることができる。

画状０．％に運動する測定対象、例えばロータリキルン
のような一転ドラムＯ１Ｉ面温度０非接触欄定〇九めＯ
！ｌ置は負定値Ｗ製のための機能畳嵩が橢定値を得るた
めの機能畳嵩から空間的に分離して配設されていること
によって特徴づけられる。従って敏感な電子構造部分は
弱い積項負荷によって特徴づけられる雰囲気から例えば
切換待期Ｗ１０保護された空間に移行され。

その結果個所の直前に比較的簡単な構造の一つＯ測定ヘ
ッドのみがあり、集際上測定ヘッドは外部Ｏ影響に対し
て敏感でない構成部分のみを含む、この方法で測定ヘッ
ドの範囲における保躾手段社最小限に制限されることが
でき、それによって設置コストが減少されるのみならず
、４１に保守及び修塩作業０＊＊いが改頁される。

この際場所ｏ４り賛性従って全設置コストは公知の装置
又はシステムに比して著しく減少される。

本発明による装置は有利にロータリキル１０みならず、
例えば板、板ガラス、合成横型フィルム、織物１紙勢Ｏ
ような任意Ｏ他０可動物体の表面温ｔｏｅｍにも使用さ
れることができる。

本発明の構成において槻定値調製に役立つ機能張索は少
なくとも一つＯマイク四コンピュータ電子的監視ユニッ
ト、温度検正ユニット、電力供給ユニット轡を含む。

これらの機能登素は橢定値を得るためＯ機能畳素と共に
クローズドシステムを形成し、そＯ出力Ｏ大きさとして
温度欄定値が検査され又は校正されかつ再旭理の丸めに
例えば上位のコンピュータに好適な形で入力される。従
って各測定ヘッドに一つのマイクロコンピュータが付設
されている。本発明によれば上位のコンピュータには続
いて非常に有利な方法でこ０温ｔｍ定値の積分値が大き
な１例えばロータリキルンのパラメータ又はロータリキ
ルン中に実施される熱的プロセスのパラメータによって
与えられる機能ｗ係が実施され、この機能関係はｐ−タ
リキルンのその都度Ｏ運転状態に亘って得られうる認識
のだめの所定０４１定値を検出するために行われる。

本発明の他の構成において、御］定値を得るために役立
つ機能賛意はハウジングの内方にそして温度の既知の少
なくとも一つの基準放射体がハウジングの外方に配設さ
れている。この方法で回転ドラムから出る赤外線がハウ
ジング上に移行した塵による。基準放射体の吸収作用に
匹敵する吸収作用を受けることが保証される。増大する
塵に基いて生ずる測定誤差は自動的に修正されることが
できる。同時に基準放射体の信号は瞬間的に発生する塵
Ｏ量を示しかつこの方法で測定系Ｏ自己監視に役立つこ
とができる。

本発明の有利な構成において測定値を得るために役立つ
様能ｌ！！素が光学システム、並びに赤外線センナに含
まれる。即ち不適当な環境条件の下にある個所の前は測
定値把１１０ために必ず必要な構造部分のみがある。こ
のために赤外線−に７ｆ（）ためのスペクトルフィルタ
、増幅器、並びに基準放射体のみが＃当する。これらの
構造部分は個々に交換可能なモジエールの形で非常に有
利に測定ヘッドに組込まれることができる・保守又は修
理作業はこＯ方法で本質的に簡単化される。

本発明の他Ｏ構成において、基準放射体と回転装置との
間に絞りが配設されてお抄、絞りは制御信号又は鈎定信
号の形成〇九めの開口を備山１ えている。開口は特定の大きさと順序を有し。

開口によって回転装置に周期的に再生されるパルス列が
伝達されることができる。このパルス列の修正量は走査
方向の外に行Ｏａ＋定過程のはじめとおわりの付与にも
存する。しかしこれら０！ＩＩＩ口は動的自己校正Ｏた
めの手段としても非常に有８に関係づけられることがで
きる。

本発明Ｏ他０構威において１転装置は被動軸にエンコー
ダが付設されている駆動装置を備えている０回転装置の
被動輪と一着され九デジタルエンコーダはその瞬間的位
置をマイクロコンピュータに送るだけでなく、Ｊ！にマ
イクロコンピュータが本発明による鋏置Ｏアナクグ信号
をデジタル化しかつ］！に調製する九めＯクロック発信
器として機能する。それＫよってこの種の装置Ｏ共通し
九使用として玉流変動が打消されかつ走査遮縦と走査角
駅間＠１１に異なる場合でも同期が可能にされる。

本発明Ｏ他Ｏ構威において絽転装置はプリズムである。

喬直軸線ｏｔわりに回転可能に支承され、水平平面内に
入射する赤外線を赤外線センナの方向ＫＪ向させるプリ
ズムは機械的に簡単かつ許容される実施形態を示す、水
平平面内Ｏ利用可能な走査角はロータリキルンのエミッ
ション特性によって制限され、そＯＩＩ略１２０’まで
Ｏ角度が利用可能である。ｍ通約に両側測定が可能であ
り即ち、とｏｔａｔｖプリズムを備え丸装置は二つのロ
ータリキルンの関に設置されることができ、かつ両方Ｏ
炉からＯＩＩ定値を受けとることができる。

本発明による他の構成によれば偏向装置は多角ＳＯホイ
ールであり、そｏ＊ｉ函は光線案内０丸めに鏡にされて
いる。それによって優崗績置Ｏ駆馳装置０１転数が与え
られている場合走査率は多面鏡ＯＷｉ数に相応して倍増
されることかで龜る。

本発−〇実施例を図面に基いて詳しく説明する。

第１図において１＃−ｉ測定対象機ちロータリキルンで
あり、所定の間隔をおいて表面温度の無接触測定のため
の装Ｗ２が設営されている。測定対象１の表面、％にそ
の放射特性Ｆｉロータリキルン１から装置２までの距離
が与えられている場合Ｓの走査角實けその全長を走査す
るのに充分であるようにされている。しかし必要な場合
時（非常に長いロータリキルンでは水平走査角が相補す
る複数の装Ｗ２も配設されることができる。

装置２は−しく図示しない方法で、例えば簡岸な塔内に
格納されており、塔は測定方向に対応した開口を備えて
いる。開口はロータリ午ルア１によって検出される赤外
線が装置２ができる限り妨げられずにかつむらなく遁し
うるような高さくある。装置２の設置高さでは好ましく
け少なくともロータリキルン１０回転軸＠にぢ応すべき
であり、その際例えば炉を貫流する材料によって制限さ
れる限す測定技術的観点が考慮されることができる。噴
出された信号は導線群５′を経てデータ処理ユニット５
に伝送され、データ処理ユニットは空間的に分離され、
例えばロータリキルン１に付設された切攬保安室内に格
納されている。データ処理ユニツ）！ＳＦｉ導線４を経
て他の測定値収容部と接続してお砂、測定値収容Ｓによ
って１、例えば炉の駆動動力、燃料供給のようなロータ
リキルンの他の運転パラメータが伝送され、運転パラメ
ータは検出された温度測定Ｉ１１と共にロータリキルン
の瞬間的な運転状態又はその長時間挙動の情報を供給す
る。この情報は例えば受借器５上に表示され、そして又
は記録測定装置６上に表示されることができる。

データ処理ユニット５１ｊ−ｒイクロコンピュータを含
み、その出力として試験された１ＩＷＩＬ測定値はデー
タ処理装置での再処理のために例えばβ 上位のコンピュータに好適井形で久方される。

これらの温［測定値は任意の使用に供され、その結果本
発明による装置は例えば板、板ガラス、合成増脂フィル
ム、織物、紙等のような他の可＃に測定対象にも使用さ
れることができる。データ処理ユニット３は多数の機能
モジュールを含み、その交点個所は本発明による装置が
、湿層測定の評価に膣当する限り、任意の関係に使用さ
れるように配設されてお抄、その結果非常にフレキシグ
ルな測定系が与えられる。

本発明の本質的意味は測定償取碍と測定省評価の空間的
分離にある。装置２はそのように赤外線からの電気的信
号を得る食めの手段のみを包活するが、その評価は周囲
の影響（関して保■される他の個所で検査されかつ修正
された温＃瀾定優の象漫がなされる。この方法で装置が
塵の多い雰囲気で使用畜れる場合で４装置の構造は著し
く簡社化され、その結果そのｉ＃Ｌ得は簡琳化される。

＠２図は平行に配役された二つのロータリキルン１又は
１′の間の本発明による二つの装置２及び２′の可能な
配着を示す。この配置では装置が直接相互に向い合って
いるロータリキルンの例えば走行ウェブ（固定ネれるこ
とができることが有利であり、その結果投雪のために例
えば電柱のような追加装置ｔけ必要とされない、しかし
［１的にはロータリキルンのような構成では両者の中央
に装置２を設置するも可能である、そのわけは測定過程
は原則として両方向に実権されることができるからであ
る。

結局特に非常に長いロータリキルンでは複数の装置を並
べて運用することが可能である。

第３図によれば本発明による装置２け赤外線センサ７、
駆動軸８を備え、プリズム９として形成されている偏向
装置と防塵機能を有するハウジング１０とから成る。こ
の実施形態ではプリズム９及び赤外線センサ７け光学系
７′を形成する。ハウジング１０Ｆｉ上方（向ってケー
ス１１によって及び下方へ向っては底板１１′によって
閉鎖されており、底板にはその被動輪が駆動軸８である
駆動装置１２が配設されている。駆動装置は表面温度の
ライン走査の周波数が一定の場合同期電動磯でありうる
。可変赤青周波数の場合直流モータ本又は例えば相異な
る高速往復のような複雑な運動形態ではステッピングモ
ータ４考慮される。＊Ｍ２は同様に追加の場よけｌｌ＃
！ｉ１５を備えることができる、水晶ガラスから成るハ
ウジング１０の内室を必要Ｋｉじて熱的過電荷から保護
する冷却空気供給装着は図示されていない。

防ｌＩＫ使用されるねじ性剛局なハウジング１０は例え
ば周囲温度が高い場合！Ｉ鯛的（通気される外部ハウジ
ングによって取囲まれることができる。

駆動装置１１１２を支持している底［１１’はＩ極上（
相互に向い合っている外端に基準放射体１５′又は１３
′を支持し、３の表面は好ましくけロータリキルンジャ
ケットと同一材質から成り、その結果全放射（の影響は
打消される。

ロータリキルン１０近くに（第１図）、ロータリキルン
の熱放射によって加熱されかつ例えば位電固定の板とし
て形成されうる図示しない少なくとも一つの別の基準放
射体を配置するととけ有利である。この板の温度はサー
モエレメ／ト（よって測定され、その結果ナーモエレメ
ント及び本発明による装ｆによって測定さｒした１饗の
間の比較が可能である。こうして表面温度として得られ
た測定値の−１の精密化が可能である、そのわけは熱放
射の伝達区間の範囲におりて作用する妨害作用が量的に
考１さルることができるからである。！！＃に相異なる
ａＩｆの断面でロータリキシン１（第１図）Ｋ沿う多数
のそのような基準放射体を配置することは合目的的であ
る赤外線センナ７Ｆ！例えばミリセカンドの範囲の応答
時間を有する重版の非冷却放射温度計か或はマイクロセ
カンド範囲の応答時間を有する例えばＩｎＡｓ又けＨｇ
Ｏ＋ＩＴ・のような熱電気的に冷却される半導体検出器
でありうる。センナの選択は測定対象に関係し、その際
センサのスペクトル感度は略１．５〜５ｍの範囲に制限
される。それによって例えば、レンズ及びハウジング１
０の赤外水晶のようなコストの低い光学材料の使用が可
能になり、この材料は＠度耐久性がありｂつ傷がつかな
いのみならず、可視領域でも透明である。同時にいわゆ
る大気を通じる窓の他ＫＣ！Ｏ，及びＨ，Ｏのような工
業上重要なガスの吸収域が塗られ、その結果赤外域フィ
ルタの前置によってスペクトル特性のフレキシブルな調
整が可能である。この方法でＨｌｏ及びＣＯＨのよう々
赤外線を吸収するガスの影響が除去される。

赤外線センナ７に、光路の案内のための図示しないレン
ズ系が前置されている。レンズ系は例えば投影誤差の修
正のために好ましくはテレセントリックレンズ系であり
得、このレンズ系には一つ又は複数のシリンドリカルレ
ンズが接続されておね、その結果全システムの結ｇＩＩ
特性は非点収差によって特徴づけられている。この際相
互に垂直の１線、メリデオナル及びナシタル悠点距離の
間の光線方向にみた投影横断面積の変化は非点収差の差
だけ相互にへだた轢があ己 る、一方のｇ１１纏は最小距離の点又Ｆｉ面要素上にあ
抄、そして他方の儂１ＩＩｄロータリキルンと装置２と
の間の最大距離ＫＲ’ｌｌされる。シリンドリカルレン
ズの代りに、例えばプリズムのような仕置の他の類似の
歪曲又は非対称を生じさせるような要素が使用されるこ
とができる。

しかしレンズ系は球面レンズからのみ構成されるもでき
、その際最小距離と最大距離の間の限界点の間にある一
点又はロータリキルン１０面要素に関するピント調整を
経て投影誤差の修正がなされる。この投影誤差の修正の
ために結局、その焦点距離がプリズム９の回転に応じて
調整可能な球面レンズを有するレンズ系も考慮される。

基準放射＠１５′又は１５′とプリズム９との関に１［
Ｉ［１、開口を備えた絞り１４又は１４′があり、絞り
は記載される方法で制御信号の形成に役立つ。

構造部分１５又は１５′は放射体１３′又Ｖｉ１５’の
温度の一定保持のための可能な調整装置を意味する。

第４図から明らかなように装置全体２け傾倒軸１６又け
１６′に支承されており、その結果ロータリキル／１の
ジャケットの特定の範囲への調整が可能である。

本発明による装置の作用法は次の如くである。

プリズム９は駆動装管１２によって回転され、−転はキ
ルンの１転数、光学系７′の開口角、並びに赤外線セン
サスの□性を考慮して、炉ジャケットが行状にかつ面状
に走査されるように従って炉ジャケット上の面要素の大
きさが高々れんがの大きさに対厄するように面要素的に
決定される。この方法で、例えばれんが破砕した結果と
して極部過熱の可能性が与えられるが、しかし例えばリ
ング形成のような他の障害も認められる。

ロータリキルン１のジャケットの一行の測定過程の終了
の優毎ＫｊｌＱちこの行の測定値が何らかの形で評価装
置に達するｆＩｌｉに、好ましくけ相異なる温Ｉｆに保
持された基準放射体１３′又は１３′による校正が行わ
れる。基準放射体１５′又は１３′の温（け例えば温度
計によって測定されることができ、その際この測定値は
赤外線センサ７によって検出された測定値と関連して評
価の念めにマイクロコンピュータに伝送される。

この際場合によっては他の幾例学的又＃ｉ経績的要因と
関連して、実際温度と指示書れた温度の比較から修正フ
ァクタが形成され、その結果絶対的なＩｌｆ瀾定値が検
出可能である。

増加する汚染、特にハウジング１０の塵埃の測定値に及
ぼす影＃けこの方法で除去される、そのわけはロータリ
キルンの光路は基準放射体１５１又Ｆｉ１５’と同様の
塵負荷をかけられるからである。更（絶対的１１！ｆｌ
ｌＩｌ定価の検出の際にロータリキルンの近くに配設さ
れている基準放射体による測定結果が使用されることが
できるからである。

絞勢１４又は１４′は特定の大きさ及び特定順序の開口
を備え、かつこの方法で測定過程、特に測定性のけじめ
とおわりのためのみ々らず、システムの速ＩｔＫ依存し
た自動校正のけじめとおわゆのために本使用される。

同時に絞秒はハウジング１０の不必要な加熱を阻止する
。

第５図によれば、プリズム９は測定されるべき光路とけ
反対側に追加の鏡要素１６′を備えている。この鏡要素
は外部光源１７及び外部受光器１８と共働する、従って
光源１７から出た光は受光器１８によって受光される前
に）・ウジング１０の晴を２ｆ通過しなければならず、
その結果送、受信光量の比からノ・ウジ７グ１００塵絞
ｌｆＶでついての正確な結果が得られることができる。

ｊｔ源１７及び受光器１８は測定過糧を阻止しない適当
な個所ＫＭＩ付けられ、その際各投、受光される光喰の
ための測定値は導線１９又は２０を介してデータ処理ユ
ニット３に伝送される（第１図）、この方法で＠５図及
び＠４図において既に想定された可能性と交互に又は補
足的（使用されることができる）・ウジング１０の塵埃
寝の把握のための他の可能性が与えられる。

自動的（送られる汚染報知によるそのような汚染監＊Ｖ
ｉ例えば、ハウジング１０が測定方向にシいては基準放
射体のとけ別様に汚染される場合に必要である。

繞要素１６′は、トリガパルスの発生の念めのエンコー
ダの代りに非常ＫＮ利に利用されることができる。第６
図は結儂光学系及び本発明による装置の偏向装置の特別
の実施形襲を示し、その際１転プリズム９け、本発明で
は４角形であり、ｔｓ面が光の案内のために一面にされ
ている回転町ｌｒＩ！罠支承されたポリゴンミラー２１
によって置換えられている。この際党略はポリゴンミラ
ー２１から出発して閉鎖窓２２を経て放物面鏡要素２３
、いわゆる「オフセットミラーＪの方向に向い、ここか
ら平らな偏向鍵２４と絞り２５を経て入射光に比例した
電気信号を発する半導体検出器２６に至る。

絞り２６は空間フィルタとして役立ちかつ検出し器側で
のみ反射してその結果好ましくけ熱電気的に冷却される
半導体検出器へのハウジング光線の影響は最小にされる
。半導体検出器は精密ねじを備えたホルダ内にあり、精
密ねじけ光路の開口角に１１ｉＩｉ合するために役立つ
。

放物面要素２３、平らな偏向ミラー２４、絞ゆ２５、半
導体検出器２６、並びに閉鎖室２２け内部又は一点鎖線
で表わされたセンナハウジング２７ＫＴｏ＃）、センナ
ハウジングは例えばアルンニウムブロックからつくられ
ることができる。

党略の方向にみて閉鎖窓２２の後方にフィルタ２８並び
に入射光線束の制限のためのアイリス絞轢２９がある。

放物面要素２３の使用は幾例学的珊由から球面使又は球
面鎗又は球面レンズに比して正確な光線案内を保証する
。ハウジング２７によって気密に閉鎖され、かつ熱電気
的冷却のための増巾器及び装置も付設されるシステムＦ
ｉ特別にコンパクトかつ頑丈な構造によって特徴づけら
れる。

このセンサハウジング２７にお−て％ＫｌＦ利に偏向装
置も、例えばポリゴンミラー２１が関与されることがで
きる。

零発９４による装置の光学系は例えば水晶、サファイヤ
又は金属表面優のような抵抗性のある材料から特別の保
護なしに構成されてお秒、光学系は前記の自己修正によ
って可能である１本発明による装置は容易に手のとどく
個所にあるので、ルーチン保守プ四グラムが収容される
ことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による装置のロータリキルンの前の配列
、 第２図は本発明による装置の二つのロータリキルンの間
の可能な配列、 ｌＸ５図は本発明による装置の縦断面図、第４図は第Ｓ
図のルール線に沿う断ＷＪ図。 第５図は本発明による装置の他の実施形態の縦ｗＲ優図
そして、 第６−は本発明による装置の光学系の他の実施形態の図
である。　　　、、、。 図中符号 代理人　江　崎　先　史！、マフ ＦｔＧ、３ 第１頁の続き 優先権主張　＠１９８２年９月３０日■西ドイツ（Ｄ　
Ｅ　）＠　Ｐ　３２３６２１５．３（ｌ　　明　者　ヘ
ルベルト・シュペヒトドイツ連邦共和国タウヌスシュ タインーノイホフ・ザウエルブ ルツフストラーセ１３

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）熱的プロセスの実施０ための１転ドラム。 ％にアルミナ、鉱石、セメントミル、カルク。 等Ｏ微粒物の処理の丸めの１転ドラムの運転状態ｏｅｍ
   のための方法において、ロータリキルン（１）の表面の
   温度分布が無接触で捌定され、七〇ＩＩ熱的プロセス及
   び又はロータリキルン（１）の運転を記鍮する他のパラ
   メータと関連し九温度分布からロータリキルン（１）の
   瞬間的な運転状態及び又はそ０４Ｉ性値又は称呼値の変
   化が形成されることを％黴とする方法。 （２）熱的プロセス又はローメリキル７（１）Ｏ運転を
   紀鋒する他Ｏパラメータとして燃料供給。 原料供給１回転数、駆動動力及び又は類似のファクタが
   使用される、特許請求の範＠１ｌｌＫ１項記叡Ｏ方法。 （５）温１分布０Ｉｌｌ定の際ロータリキルン（１）か
   ら発する赤外！Ｉが位置固定の点から行状に走査され、
   その際検出され九測定値は既知の温ｆｏ少なくとｔ一つ
   ｏｘ準ｍＨ体（１５’、１３’）０１１度の＠似Ｏｌｉ
   止概入を受ける槻定を基準として修正される。４１１許
   請求０範１１！ｌ第１項又は３１１２項記載の方法。 （４）　　少なくとも二つＯ基準款射体（１５’、　１
   ５’）が使用され、その相異なる温度がロータリキルン
   （１）の特性温［Ｋ植機している。特許請求０範１ＩＩ
   ＩＩＳ項記載Ｏ方法・ （５）少なくとも一つ０基準放射体が使用され、基単款
   射体はロータリキルン（１）の近くに配設されている１
   ％許請求Ｏ範１Ｍ１１５１［記載の方法。 （６）　　ロータリキルン（１）の近くに配設され九基
   準放射体がロータリキルンＯ熱放射によって加熱される
   。特許請求の範囲第５項記載の方法・ （７）基準放射体（１３’、１５つが同時に信号発信凶
   として利用される。特許請求の範＠１篇５項又は第４項
   記載の方法。 （８）赤外線把ｔＯＷ投影誤差が特に光学系（７′）Ｏ
   款射路Ｏ相応し九案内によって修正される。 特許請求の範ｌ！ｌ第１項から嬉７項までＯうちのいず
   れか一つに記載Ｏ方法。 （９）投影誤差の修正〇九めの赤外ｔｓｏｅＩ１１の際
   に球面レンズ及び相応して調整可能な焦点距離含有する
   光学系（７）が：：利用される、特許請求の範１Ｍ第８
   項記載の方法・ （１０）投影ＷＡｌｌ！の修正の丸めの赤外、＠０把握
   の際光学系（７）の非点収差が利用される。特許請求の
   範囲第１項から第４項までのうちのいずれか一つに記載
   Ｏ方法。 （１１）熱的プロセスの実施のための回転ドラム。 特にアルミナ、鉱石、セメントミル、カルク。 等の微粒物Ｏ処ｌｌＯための１転ドラムの運転状態の把
   握のためＯ方法において、ロータリキルン（１）Ｏ表Ｉ
   ｉｏ温度分布が無接触で測定され、そＯ除熱的プロセス
   及び又はロータリキルン（１）の運転を記−する他Ｏパ
   ラメータと関連し九温度分布からロータリキルン（１）
   Ｏ瞬間的な運転状態及び又はそＱ４Ｉ性値又は称呼値の
   変化−ＩＩＸ形威される方法を実施する丸めであって　
   ｍ定値調整の友め〇一方の機能要素と淘定値を得るため
   の他方の機能要素とを包含し、前記一方の機能要素は電
   気信号に対する温度州定髄Ｏ整合の九めに使用され。 後記Ｏ他方Ｏ機能畳素は入射する赤外１１に相応する電
   気信号を発生するもＯにおいて、掴定代を得る丸めの機
   能要素は渕定値調整〇九めＯ機能要素とは空間的に分離
   して配設されていることを４１徴とする装置。 （１２）測定値調整に役立つａｍ費嵩が少なくとも一つ
   ０ｆｆ（クロコンピユータ、電子的監視０ためＯユニッ
   ト、温度修正部、電力供給部等を含む、４１１許請求の
   範囲第１項記載Ｏ装置。 （１５）　　ＩＩＩ定値取得に使用される＊＊＊素が例
   えばロータリキルン又は−転ドラム（１）Ｃ）ｌｉｉ転
   軸線Ｏ上方に配設されている一点に位ｆｆ一定に配設さ
   れている、特許請求の範＠１ＩＫ１１項又は第１２項記
   載の装置。 （１４）　ａｌｌ定値取得に役立つ機能要素がハウジン
   グ００の内方にそして既知〇一定温度に保持され九少な
   くとも一つＯ基準放射体（１６′、１ｓｔ）がハウジン
   グ（１のの外方に配設されている１％許請求ａｍ囲第１
   １項から第１３項までのうちのいずれか一つに記載の装
   置・ （１５）ａｌｌ定値取得に役立つ機能要素が光学系（７
   ）並びに赤外線セン？（７）を特徴する特許請求の範Ｗ
   ！Ａ１１に１１項から１１１４項までのうちのいずれか
   一つに記載０懺置。 （１６）光学系（７）が赤外線セフｆ（７）０方向に入
   射する赤外！！ＩＯ案内Ｏ丸めの偏向機構を書む。 特許請求の範囲第１５項記載Ｏ懺装。 （１７）基準放射体（１！Ｓ’、１！Ｓ’）と偏向機構
   との間に少なくとも一つＯＭｍ　（１４，１４’）が配
   設されてお勢、赦やは制御１号又は測定信号の形成の九
   め〇−口を備えている１％許饋求Ｏ範ＷＡ第１６項記載
   の装置。 （１８）偏向機構が回転可能に支承された。プリズム（
   ？）　、　４Ｉに４５１１プリズムである。Ｉ￥ｉ許請
   求Ｏ範−嬉１６項又は第１７項記Ｉ！Ｏ装置。 （１９）偏向機構が一転可能に支承され九ポリゴン建う
   −（２１）であや、ポリゴンミラーの端面は光線案内〇
   丸めに鏡面にされている。特許請求の範［ｌｌ１１４項
   又は第１２項記載ａｍ置。 （２０）　　ＩＩ肉機構が駆動装置（１２）を備え、そ
   の被験軸にエンコーダが取付けられている。４Ｉ許請求
   Ｏ範囲第１６項から第１９項までＯうちのいずれか一つ
   に記載Ｏ装置。 （２１）光学系（７）が投影−差Ｏ修正Ｏための手段を
   備えている。特許請求の範１１第１５項記叡の装置。 （２２）投影誤差の修正の丸めの手段が量向機構と赤外
   線セン−！Ｊ−（７）との間の光路に配設されている　
   ４Ｉ許請求０＠囲第２１項記載の装置。 （２３）投影誤差の修正のため０手段が非点収差結１Ｉ
   ＩＩｌｉ性を４つ九し／ズ系である、特許請求の範囲第
   ２１項又は第２２項記載Ｏ装置。 （２４）非点収差レンズ系が少なくと４−りＯシリンド
   リカルレンズ、プリズム又は類似の光学的変換を作用す
   る要素を含む、特許請求の範＠１Ｋ２５＊１ｅｔｌｃ）
   装置。 、１ （２５）少なくとも一つの放物面鏡要素（２３）又はさ
   もなければこれに匹敵する光学的張索及び赤外線センナ
   、特にセンナハウジング（２Ｔ）中の半導体検出器（２
   ６）１０組合せが使用される、特許請求■範囲第２１項
   から第２４項までのうちのいずれか一つに記載の装置。