JPS58151799U - 液循環用ダクトを有する低温貯槽 - Google Patents

液循環用ダクトを有する低温貯槽

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Publication number
JPS58151799U
JPS58151799U JP5046082U JP5046082U JPS58151799U JP S58151799 U JPS58151799 U JP S58151799U JP 5046082 U JP5046082 U JP 5046082U JP 5046082 U JP5046082 U JP 5046082U JP S58151799 U JPS58151799 U JP S58151799U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
duct
low temperature
storage tank
temperature storage
liquid circulation
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Pending
Application number
JP5046082U
Other languages
English (en)
Inventor
英夫 久保
清 中田
木ノ内 渉
板宮 康男
Original Assignee
石川島播磨重工業株式会社
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Filing date
Publication date
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  • Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は従来例の縦断正面図、第2図は本考案の縦断正
面図、第3図は第2図の■−■線断面図である。 1・・・外槽、2・・・内槽、3・・・断熱材、4・・
・液化ガス、5・・・ダクト、6・・・孔、7・・・開
口、8・・・気体パイプ、9・・・ガス排出パイプ。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 内槽の壁に沿ってダクトを垂直に設け、該ダクトに多数
    の孔を設け、かつダクトの下部開口を内槽の底に設け、
    該開口に流体を噴出せしめる流体パイプを設けてなる液
    循環用ダクトを有する低温貯槽。
JP5046082U 1982-04-07 1982-04-07 液循環用ダクトを有する低温貯槽 Pending JPS58151799U (ja)

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JP5046082U JPS58151799U (ja) 1982-04-07 1982-04-07 液循環用ダクトを有する低温貯槽

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JP5046082U JPS58151799U (ja) 1982-04-07 1982-04-07 液循環用ダクトを有する低温貯槽

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JPS58151799U true JPS58151799U (ja) 1983-10-11

Family

ID=30061256

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5046082U Pending JPS58151799U (ja) 1982-04-07 1982-04-07 液循環用ダクトを有する低温貯槽

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5371365A (en) * 1976-12-08 1978-06-24 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd Method for stirring gas within low-temperature liquefied gas tank

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5371365A (en) * 1976-12-08 1978-06-24 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd Method for stirring gas within low-temperature liquefied gas tank

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