JPH1197633A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JPH1197633A
JPH1197633A JP9254987A JP25498797A JPH1197633A JP H1197633 A JPH1197633 A JP H1197633A JP 9254987 A JP9254987 A JP 9254987A JP 25498797 A JP25498797 A JP 25498797A JP H1197633 A JPH1197633 A JP H1197633A
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JP
Japan
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bank
memory device
semiconductor chip
banks
internal
Prior art date
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Pending
Application number
JP9254987A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Nakagawa
宏 中川
Tsuratoki Ooishi
貫時 大石
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPH1197633A publication Critical patent/JPH1197633A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor storage device capable of realizing high- speed accessings by reducing variations in the lengths of internal I/O buses and by minimizing interconnection loads. SOLUTION: In a 64M-bit SDRAM semiconductor chip, which is a semiconductor storage device of a TSOP structure constructed of a 54-pin LOC and comprises four banks 0 to 3, the arrangement of internal I/O buses is taken into consideration in assigning I/O terminals to a memory map. In each bank that is halved, I/O terminals are assigned from 0 to C from the right end at a bank 0 on the right side, and I/O terminals are assigned from 4 to 8 from the right end at the bank 0 on the left side. I/O terminals are similarly assigned to the banks 1 to 3. Further, in the banks on the upper side, the terminals 0 to C of the bank 0 to the right side are connected to the terminals 0 to C of the bank 2 on the right side, and the terminals 4 to 8 of the bank 0 on the left side to the corresponding terminals 4 to 8 of the bank 2 on the left side via internal I/O buses IO bus. The banks 1 and 3 on the lower side are also connected similarly.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置技
術に関し、特にシンクロナスDRAM(SDRAM)、
DRAMなどにおいて、メモリマットのIO割り付けと
内部IOバスの配置とを考慮したアクセスの高速化に好
適な半導体記憶装置に適用して有効な技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device technology, and more particularly, to a synchronous DRAM (SDRAM),
The present invention relates to a technology effective when applied to a semiconductor memory device suitable for speeding up access in consideration of IO allocation of memory mats and arrangement of internal IO buses in a DRAM or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】たとえば、本発明者が検討した技術とし
て、半導体記憶装置の一例としてのSDRAMは同期型
DRAMともいい、外部クロック信号による完全同期の
制御により高速動作に適している。通常のSDRAMで
は複数のバンクを有し、ユーザは各バンクを独立なメモ
リとして扱うことができ、16Mビットでは2バンク方
式、64Mビットでは4バンク方式、256Mビットで
は4〜8バンク方式が主として採用されている。
2. Description of the Related Art For example, as a technique studied by the present inventors, an SDRAM as an example of a semiconductor memory device is also called a synchronous DRAM, and is suitable for high-speed operation by controlling perfect synchronization by an external clock signal. A normal SDRAM has a plurality of banks, and a user can treat each bank as an independent memory. A 2-bank system is used for 16M bits, a 4-bank system is used for 64M bits, and a 4 to 8 bank system is mainly used for 256M bits. Have been.

【0003】なお、このようなSDRAMなどの半導体
記憶装置に関する技術としては、たとえば1994年1
1月5日、株式会社培風館発行の「アドバンスト エレ
クトロニクスI−9 超LSIメモリ」P344〜P3
48などに記載される技術などが挙げられる。
Incidentally, as a technique relating to such a semiconductor memory device such as an SDRAM, for example,
"Advanced Electronics I-9 Ultra LSI Memory" published by Baifukan Co., Ltd. on January 5, P344-P3
48 and the like.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、前記のよう
なSDRAMなどの半導体記憶装置においては、メモリ
マットのIO割り付けに内部IOバスは考慮されておら
ず、この内部IOバス長にアンバランスが生じている。
すなわち、メモリマットのIO割り付けはメモリマット
の内部構成に依るところが大きく、高速化を図る上で、
メモリマットのIO割り付けに内部IOバスを考慮した
設計技術が求められてきている。
In the above-mentioned semiconductor memory device such as an SDRAM, the internal IO bus is not taken into account in the IO allocation of the memory mat, and the internal IO bus length becomes unbalanced. ing.
In other words, the IO allocation of the memory mat largely depends on the internal configuration of the memory mat.
There is a need for a design technique that takes into account the internal IO bus for IO allocation of memory mats.

【0005】そこで、本発明の目的は、メモリマットの
IO割り付けに内部IOバスの配置を考慮し、内部IO
バス長のばらつきを小さくし、かつ配線負荷を最小限に
抑えることによってアクセスの高速化を実現することが
できる半導体記憶装置を提供するものである。
Therefore, an object of the present invention is to consider the arrangement of an internal IO bus in IO allocation of a memory mat,
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of realizing high-speed access by minimizing variation in bus length and minimizing wiring load.

【0006】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
次のとおりである。
SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, the outline of a representative one will be briefly described.
It is as follows.

【0008】すなわち、本発明の半導体記憶装置は、リ
ードフレームの外部端子の配列が予め決められている場
合に、各外部端子の配列に合わせて半導体チップ上の各
ボンディングパッドの配列を決定し、これらのボンディ
ングパッドの配列に合わせて、各ボンディングパッドと
対応するメモリマットのIO線とを接続する各内部IO
バスの配線長を均一化するようにメモリマットのIO割
り付けを行うものである。
That is, in the semiconductor memory device of the present invention, when the arrangement of the external terminals of the lead frame is predetermined, the arrangement of the bonding pads on the semiconductor chip is determined in accordance with the arrangement of the external terminals. In accordance with the arrangement of these bonding pads, each internal IO connecting each bonding pad to an IO line of the corresponding memory mat is provided.
The IO of the memory mat is allocated so as to make the bus wiring length uniform.

【0009】この際に、メモリマットのIO割り付け
は、各内部IOバスの配線長を最短化するように、半導
体チップ上の一方側/他方側のボンディングパッドはメ
モリマットの一方側/他方側にそれぞれ対応させて割り
付け、さらに半導体チップ上の一方側/他方側のボンデ
ィングパッドに割り付けられた異なるバンクの一方側同
士/他方側同士をそれぞれ対応する内部IOバスで接続
するようにしたものである。
At this time, the IOs of the memory mats are arranged such that the bonding pads on one side / other side on the semiconductor chip are connected to one side / other side of the memory mat so as to minimize the wiring length of each internal IO bus. One side and the other side of different banks allocated to the bonding pads on one side / other side on the semiconductor chip are connected by corresponding internal IO buses.

【0010】また、半導体チップ上において、ボンディ
ングパッドは、半導体チップのほぼ中心線上に配置し、
かつ半導体チップの一方側または他方側の片側に配置
し、またメモリマットはボンディングパッドを挟んで両
側に配置するようにしたものである。
[0010] Further, on the semiconductor chip, the bonding pads are arranged substantially on the center line of the semiconductor chip.
In addition, the semiconductor chip is arranged on one side or the other side of the semiconductor chip, and the memory mats are arranged on both sides of the bonding pad.

【0011】特に、半導体記憶装置は、複数のバンクか
らなる同期型のSDRAM、たとえば4バンク、8バン
ク、さらに多バンク化の傾向にあり、また64Mビッ
ト、256Mビット、さらに多ビット化の傾向にあるS
DRAMなどに適用するようにしたものである。また、
DRAMなどの他の半導体記憶装置についても適用可能
であることはいうまでもない。
In particular, semiconductor memory devices tend to be synchronous SDRAMs composed of a plurality of banks, for example, four banks, eight banks, and more banks, and 64 Mbits, 256 Mbits, and even more bits. Some S
This is applied to a DRAM or the like. Also,
It goes without saying that the present invention can be applied to other semiconductor memory devices such as a DRAM.

【0012】よって、前記のようなSDRAMを含む半
導体記憶装置によれば、ボンディングパッドの配列に合
わせてメモリマットのIO割り付けを行うことにより、
ボンディングパッドと対応するメモリマットのIO線と
を接続する内部IOバスの配線長のばらつきが解消で
き、この内部IOバス長のばらつきを小さくすることが
できる。
Therefore, according to the semiconductor memory device including the SDRAM as described above, IO allocation of the memory mat is performed according to the arrangement of the bonding pads.
Variations in the wiring length of the internal IO bus connecting the bonding pad and the IO line of the corresponding memory mat can be eliminated, and the variation in the internal IO bus length can be reduced.

【0013】特に、ボンディングパッドの一方側/他方
側はメモリマットの一方側/他方側にそれぞれ対応させ
て割り付け、一方側/他方側のボンディングパッドに割
り付けられた異なるバンクの一方側同士/他方側同士を
それぞれ対応する内部IOバスで接続することにより、
余分な配線が不要となるので配線負荷を最小限に抑える
ことができる。
In particular, one side / other side of the bonding pad is allocated corresponding to one side / other side of the memory mat, respectively, and one side / other side of different banks allocated to one side / other side bonding pad. By connecting each with the corresponding internal IO bus,
Since no extra wiring is required, the wiring load can be minimized.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明す
るための全図において同一の部材には同一の符号を付
し、その繰り返しの説明は省略する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. In all the drawings for describing the embodiments, the same members are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will not be repeated.

【0015】図1は本発明の一実施の形態である半導体
記憶装置を示す構成図、図2は本実施の形態の半導体記
憶装置における半導体チップを示すレイアウト図、図3
はバンクを詳細に示すレイアウト図、図4は内部IOバ
スを考慮したメモリマットのIO割り付けを示すレイア
ウト図である。
FIG. 1 is a configuration diagram showing a semiconductor memory device according to one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a layout diagram showing a semiconductor chip in the semiconductor memory device according to this embodiment, and FIG.
FIG. 4 is a layout diagram showing a bank in detail, and FIG. 4 is a layout diagram showing IO allocation of a memory mat in consideration of an internal IO bus.

【0016】まず、図1により本実施の形態の半導体記
憶装置の構成を説明する。
First, the configuration of the semiconductor memory device according to the present embodiment will be described with reference to FIG.

【0017】本実施の形態の半導体記憶装置は、たとえ
ば54ピンのLOCによるTSOP構造の半導体記憶装
置とされ、4バンクからなる64MビットのSDRAM
が形成された半導体チップ1と、この半導体チップ1上
のボンディングパッド2とワイヤ3を介して接続される
リードフレーム4とからなり、この半導体チップ1とリ
ードフレーム4との接続部分は封止樹脂5によりモール
ドされ、その側面から外部端子6がガルウイング状に突
出されて構成される。
The semiconductor memory device according to the present embodiment is, for example, a semiconductor memory device having a TSOP structure with a 54-pin LOC, and a 64-Mbit SDRAM composed of four banks.
And a lead frame 4 connected to the bonding pads 2 on the semiconductor chip 1 via wires 3. A connection portion between the semiconductor chip 1 and the lead frame 4 is formed of a sealing resin. The external terminals 6 are molded in a gull-wing shape from the side surfaces thereof.

【0018】この半導体記憶装置には、外部端子6とし
て、アドレス信号入力用のアドレス端子A0〜A13、
データ入出力用のデータ入出力端子DQ0〜DQ15、
各種制御信号入力用の制御信号端子CLK,CKE,/
CS,/RAS,/CAS,/WE,DQML,DQM
U、各種電源電圧供給用の電源端子Vcc,Vss,V
ccq,Vssq,Vrefなどが設けられている。
In this semiconductor memory device, address terminals A0 to A13 for inputting an address signal are provided as external terminals 6.
Data input / output terminals DQ0 to DQ15 for data input / output,
Control signal terminals for inputting various control signals CLK, CKE, /
CS, / RAS, / CAS, / WE, DQML, DQM
U, power supply terminals Vcc, Vss, V for supplying various power supply voltages
ccq, Vssq, Vref and the like are provided.

【0019】これらの外部端子6は、封止樹脂5による
モールド後に、リードフレーム4の一端のアウターリー
ドが切断・成形されて形成される。一方、このリードフ
レーム4の他端のインナーリードは、モールド前に半導
体チップ1上のボンディングパッド2とワイヤ3を介し
て接続され、外部端子6と半導体チップ1上のボンディ
ングパッド2とが電気的に接続され、さらに後述する半
導体チップ1の内部回路に接続されている。
These external terminals 6 are formed by cutting and molding the outer leads at one end of the lead frame 4 after molding with the sealing resin 5. On the other hand, the inner lead at the other end of the lead frame 4 is connected to the bonding pad 2 on the semiconductor chip 1 via the wire 3 before molding, and the external terminal 6 and the bonding pad 2 on the semiconductor chip 1 are electrically connected. And further connected to an internal circuit of the semiconductor chip 1 described later.

【0020】半導体チップ1は、たとえば図2に示すよ
うに、4つのバンクBank0〜Bank3からなるメ
モリマットと、その周辺回路とから構成されている。バ
ンクBank0〜Bank3は、行方向(水平方向)に
おける左側と右側、列方向(垂直方向)における上側と
下側に分割して配置され、さらにそれぞれ行方向におけ
る左側と右側とに2分割され、メインワードドライバM
WDを挟んで対で配置されている。
The semiconductor chip 1 includes, for example, as shown in FIG. 2, a memory mat including four banks Bank0 to Bank3, and its peripheral circuits. The banks Bank0 to Bank3 are divided into left and right sides in the row direction (horizontal direction) and upper and lower sides in the column direction (vertical direction), and are further divided into left and right sides in the row direction, respectively. Word driver M
They are arranged in pairs across the WD.

【0021】また、半導体チップ1の上側と下側に配置
されたバンクBank0〜Bank3の中央側には、そ
れぞれのバンクBank0〜Bank3に対応するカラ
ムデコーダYDECが配置されている。さらに、その中
央側には、メインアンプMA、セレクタSLAやバッフ
ァBからなるデータ入出力回路、タイミング発生回路な
どの周辺回路が配置され、さらに図1に示す外部接続用
のボンディングパッド2が設けられている。
At the center of the banks Bank0 to Bank3 arranged on the upper and lower sides of the semiconductor chip 1, column decoders YDEC corresponding to the respective banks Bank0 to Bank3 are arranged. Further, on the center side, peripheral circuits such as a main amplifier MA, a data input / output circuit including a selector SLA and a buffer B, a timing generation circuit, and the like, and a bonding pad 2 for external connection shown in FIG. 1 are provided. ing.

【0022】バンクBank0〜Bank3にはそれぞ
れ、たとえば図3(バンクBank0の左側を例に図
示)に示すように、メモリセルMCと、このメモリセル
MCの列方向にセンスアンプSAが配置され、また行方
向にサブワードドライバSWDが配置され、このセンス
アンプSAとサブワードドライバSWDとの交差領域に
はFXドライバ、さらにセンスアンプSAの制御回路な
ども配置されている。
In each of banks Bank0 to Bank3, for example, as shown in FIG. 3 (illustrating the left side of bank Bank0 as an example), a memory cell MC and a sense amplifier SA are arranged in the column direction of memory cell MC. A sub-word driver SWD is arranged in the row direction, and an FX driver, a control circuit for the sense amplifier SA, and the like are also arranged in an intersection area between the sense amplifier SA and the sub-word driver SWD.

【0023】また、バンクBank0〜Bank3内に
おいて、メインワードドライバMWDによるメインワー
ド線MWL、およびサブワードドライバSWDによるサ
ブワード線SWLはメモリセルMCの行方向に走るよう
に配置され、またカラムデコーダYDECによる列選択
線YS、およびセンスアンプSAによるビット線BLは
メモリセルMCの列方向に走るように配置されている。
In the banks Bank0 to Bank3, the main word line MWL by the main word driver MWD and the sub word line SWL by the sub word driver SWD are arranged so as to run in the row direction of the memory cells MC, and the column by the column decoder YDEC. The selection line YS and the bit line BL formed by the sense amplifier SA are arranged to run in the column direction of the memory cells MC.

【0024】このメモリセルMCに対するデータの読み
出し/書き込みは、メインワード線MWLおよびサブワ
ード線SWLにより行方向アドレスを指定し、また列選
択線YSおよびビット線BLにより列方向アドレスを指
定することによって任意のメモリセルMCが選択され、
このメモリセルMCからローカルIO線LIO、メイン
IO線MIOを介してメインアンプMAにデータが読み
出され、一方、書き込みの際は書き込み回路を介して行
われる。
Data can be read / written from / to the memory cell MC by specifying a row direction address by the main word line MWL and the sub word line SWL, and by specifying a column direction address by the column selection line YS and the bit line BL. Memory cells MC are selected,
Data is read from the memory cell MC to the main amplifier MA via the local IO line LIO and the main IO line MIO, while data is written via a write circuit.

【0025】この半導体チップ1の内部回路は、前記半
導体記憶装置の外部端子6からボンディングパッド2を
介して入力される制御信号に基づいて、半導体チップ1
の周辺回路であるタイミング発生回路によりバンクアク
ティブ、リード、ライト、プリチャージ、リフレッシュ
などのコマンド、内部制御信号が生成され、このコマン
ド、内部制御信号により内部回路の動作が制御されるよ
うになっている。
The internal circuit of the semiconductor chip 1 is controlled based on a control signal input from the external terminal 6 of the semiconductor memory device via the bonding pad 2.
The commands such as bank active, read, write, precharge, and refresh, and internal control signals are generated by a timing generation circuit, which is a peripheral circuit of the device, and the operation of the internal circuit is controlled by the commands and the internal control signals. I have.

【0026】次に、本実施の形態の作用について、始め
にSDRAMの動作の概要を簡単に説明する。なお、こ
のSDRAMの動作は、各種制御信号の立ち上がり/立
ち下がりで制御される汎用DRAMに対して、これらの
制御信号の組み合わせから定義されるコマンドにより制
御される点が異なる。
Next, regarding the operation of the present embodiment, an outline of the operation of the SDRAM will be briefly described first. Note that the operation of the SDRAM is different from that of a general-purpose DRAM controlled by rising / falling of various control signals in that the operation is controlled by a command defined by a combination of these control signals.

【0027】このSDRAMの動作は、全てクロック信
号CLKに同期して行われ、またそれぞれの動作はコマ
ンドにより制御される。このコマンドは、チップセレク
ト信号/CS、カラムアドレスストローブ信号/CA
S、ローアドレスストローブ信号/RAS、ライトイネ
ーブル信号/WEの制御信号の組み合わせにより定義さ
れる。
All operations of the SDRAM are performed in synchronization with the clock signal CLK, and each operation is controlled by a command. This command includes a chip select signal / CS and a column address strobe signal / CA
S, a row address strobe signal / RAS, and a write enable signal / WE are defined by a combination of control signals.

【0028】すなわち、クロック信号CLKの立ち上が
りエッジにおけるこれらの制御信号のHigh/Low
の状態により、バンクアクティブ、リード、ライト、プ
リチャージ、リフレッシュなどの各種コマンドが定義さ
れ、これらのコマンドをデコードして各回路に対してコ
マンドに対応する動作を実行させる。
That is, High / Low of these control signals at the rising edge of the clock signal CLK.
, Various commands such as bank active, read, write, precharge, and refresh are defined, and these commands are decoded to make each circuit execute an operation corresponding to the command.

【0029】たとえば、読み出し動作または書き込み動
作の待機状態において、バンクアクティブコマンドの設
定によりバンクを選択して指定されたワード線を活性化
し、そしてリードコマンドを設定した場合には、選択さ
れたバンクからデータを読み出し、一方ライトコマンド
の設定においては、選択されたバンクにデータを書き込
むことができる。
For example, in a standby state of a read operation or a write operation, a bank is selected by a setting of a bank active command to activate a specified word line, and when a read command is set, a bank is activated from a selected bank. Data can be read, and in the setting of a write command, data can be written to the selected bank.

【0030】また、プリチャージコマンドを設定した場
合には、指定されたバンクのプリチャージ動作を実行す
ることができ、このプリチャージには、読み出し動作ま
たは書き込み動作終了後に自動的にプリチャージ動作を
実行するオートプリチャージ付きリードコマンド、オー
トプリチャージ付きライトコマンドなどもある。
Further, when a precharge command is set, a precharge operation of a designated bank can be executed. In this precharge, a precharge operation is automatically performed after a read operation or a write operation is completed. There are a read command with auto precharge and a write command with auto precharge to be executed.

【0031】さらに、リフレッシュコマンドには、たと
えばオートリフレッシュとセルフリフレッシュのコマン
ドがあり、オートリフレッシュコマンドの設定において
は、内部でアドレスを発生して自動的にリフレッシュ動
作が実行され、一方セルフリフレッシュ動作はバッテリ
バックアップなどに実行され、このセルフリフレッシュ
動作の終了後はオートリフレッシュ動作が実行される。
Further, the refresh command includes, for example, an auto-refresh command and a self-refresh command. In setting the auto-refresh command, an address is generated internally and a refresh operation is automatically performed. This is performed for battery backup and the like, and after the self-refresh operation is completed, an auto-refresh operation is performed.

【0032】以上のようにして、SDRAMのバンクア
クティブ動作、リード動作、ライト動作、プリチャージ
動作、リフレッシュ動作などが実行される。これらの動
作は、たとえば電源投入後に全てのバンクのプリチャー
ジ、モードレジスタのセット、オートリフレッシュが行
われた後に、実際のオペレーション開始により実行され
る。
As described above, the bank active operation, read operation, write operation, precharge operation, refresh operation and the like of the SDRAM are executed. These operations are executed by, for example, starting the actual operation after precharging all the banks, setting the mode register, and performing auto-refresh after the power is turned on.

【0033】次に、本発明の特徴である内部IOバスを
考慮したメモリマットのIO割り付けを図4のレイアウ
ト図を用いて説明する。
Next, IO allocation of a memory mat in consideration of an internal IO bus, which is a feature of the present invention, will be described with reference to the layout diagram of FIG.

【0034】たとえば、前記のように半導体記憶装置の
外部端子6の配列が予め決められている場合に、リード
フレーム4の外部端子6となるアウターリードから半導
体チップ1のボンディングパッド2と接続するインナー
リードまでの長さ、ワイヤ3の長さなどによる遅延を考
慮してほぼ等しくなるように、各外部端子6の配列に合
わせて半導体チップ1上の各ボンディングパッド2の配
列を決定する。
For example, when the arrangement of the external terminals 6 of the semiconductor memory device is determined in advance as described above, the inner leads connected to the bonding pads 2 of the semiconductor chip 1 from the outer leads serving as the external terminals 6 of the lead frame 4. The arrangement of the bonding pads 2 on the semiconductor chip 1 is determined in accordance with the arrangement of the external terminals 6 so as to be substantially equal in consideration of the delay due to the length to the lead, the length of the wire 3 and the like.

【0035】すなわち、データ入出力用のデータ入出力
端子DQ0〜DQ15は、図1において上部側の左右に
設けられているので、このデータ入出力端子DQ0〜D
Q15の並びに合わせて半導体チップ1のボンディング
パッド2は上部側(図4では右側)の片側にまとめて配
置される。図4において、ボンディングパッド2の配列
は、右端部から0,F(15),1,E(14),2,
D(13),3,C(12),4,B(11),5,A
(10),6,9,7,8の順に並べられている。
That is, since the data input / output terminals DQ0 to DQ15 for data input / output are provided on the upper left and right sides in FIG.
The bonding pads 2 of the semiconductor chip 1 are arranged collectively on one side on the upper side (the right side in FIG. 4) together with the arrangement of Q15. In FIG. 4, the arrangement of the bonding pads 2 is 0, F (15), 1, E (14), 2,
D (13), 3, C (12), 4, B (11), 5, A
(10), 6, 9, 7, 8 are arranged in this order.

【0036】これらのボンディングパッド2の並びに合
わせて、それぞれのボンディングパッド2と対応するバ
ンクBank0〜Bank3のIO線とをメインアンプ
MAなどを介して接続するそれぞれの内部IOバスIO
busの配線長を均一化するようにメモリマットのIO
割り付けを行う。
Each of the internal IO buses IO connecting the bonding pads 2 to the IO lines of the corresponding banks Bank0 to Bank3 via the main amplifier MA, etc.
IO of the memory mat so as to equalize the wiring length of the bus
Make the assignment.

【0037】さらに、これらの内部IOバスIObus
の配線長を最短化するように、一方側のボンディングパ
ッド2の0,F,1,E,2,D,3,CはバンクBa
nk0〜Bank3の2分割された一方側のIO線に、
他方側のボンディングパッド2の4,B,5,A,6,
9,7,8はバンクBank0〜Bank3の他方側の
IO線にそれぞれ対応させて割り付ける。
Further, these internal IO buses IObus
0, F, 1, E, 2, D, 3, C of the bonding pad 2 on one side are set to the bank Ba so that the wiring length of
nk0-Bank3 into two divided IO lines,
4, B, 5, A, 6, of the other bonding pad 2
The numbers 9, 7, and 8 are assigned to the IO lines on the other side of the banks Bank0 to Bank3, respectively.

【0038】そして、2分割された一方側のバンクBa
nk0〜Bank3のIO線同士、他方側のバンクBa
nk0〜Bank3のIO線同士をメインアンプMAな
どを介してそれぞれ対応する内部IOバスIObusで
接続する。
Then, one of the two banks Ba
IO lines nk0 to Bank3, bank Ba on the other side
The IO lines of nk0 to Bank3 are connected to the corresponding internal IO bus IObus via the main amplifier MA or the like.

【0039】たとえば、図4において、バンクBank
0を見た場合に、2分割された右側のバンクBank0
では、右端部から0,F,1,E,2,D,3,C(0
〜C)の順にIO割り付けを行い、左側のバンクBan
k0では、右端部から4,B,5,A,6,9,7,8
(4〜8)の順にIO割り付けを行う。
For example, in FIG.
0, the right bank Bank0 divided into two
Then, from the right end, 0, F, 1, E, 2, D, 3, C (0
To IO), IO allocation is performed in the order of
At k0, 4, B, 5, A, 6, 9, 7, 8 from the right end
IO allocation is performed in the order of (4 to 8).

【0040】同様に、バンクBank1〜Bank3に
ついても、右側のバンクBank1〜Bank3では右
端部から0〜Cの順に、左側のバンクBank1〜Ba
nk3では右端部から4〜8の順にそれぞれIO割り付
けを行う。
Similarly, with respect to the banks Bank1 to Bank3, the right banks Bank1 to Bank3 are arranged in the order of 0 to C from the right end in order from the left bank Bank1 to Bank3.
In nk3, IO allocation is performed in the order of 4 to 8 from the right end.

【0041】また、内部IOバスIObusについて、
上側のバンクBank0,Bank2では、2分割され
た右側のバンクBank0の0〜Cは右側に隣接する2
分割された右側のバンクBank2の0〜Cにそれぞれ
対応して内部IOバスIObusにより接続し、また左
側のバンクBank0の4〜8は左側のバンクBank
2の4〜8にそれぞれ対応して内部IOバスIObus
により接続する。
Further, regarding the internal IO bus IObus,
In the upper banks Bank0 and Bank2, 0 to C of the right divided bank Bank0 on the right are divided into two adjacent banks on the right side.
The divided IO banks are connected by an internal IO bus IObus corresponding to 0 to C of the right bank Bank2, and 4 to 8 of the left bank Bank0 are connected to the left bank Bank0.
Internal IO bus IObus corresponding to 4 to 8 of 2, respectively
Connect with

【0042】同様に、下側のバンクBank1,Ban
k3についても、右側のバンクBank1の0〜Cは右
側のバンクBank3の0〜Cに、左側のバンクBan
k1の4〜8は左側のバンクBank3の4〜8にそれ
ぞれ対応して内部IOバスIObusにより接続する。
Similarly, the lower banks Bank1, Bank
Regarding k3, 0-C of the right bank Bank1 is replaced by 0-C of the right bank Bank3,
4 to 8 of k1 correspond to 4 to 8 of the left bank Bank3, respectively, and are connected by the internal IO bus IObus.

【0043】なお、上側のバンクBank0,Bank
2と下側のバンクBank1,Bank3との間におい
ても、それぞれ対応する0〜F同士は配線により接続さ
れている。この際に、上側のバンクBank0と下側の
バンクBank1との間は直接、接続され、また上側の
バンクBank2と下側のバンクBank3との間はボ
ンディングパッド2を介して接続されている。
The upper banks Bank0 and Bank
Also between 2 and the lower banks Bank1 and Bank3, the corresponding 0-F are connected by wiring. At this time, the upper bank Bank0 and the lower bank Bank1 are directly connected, and the upper bank Bank2 and the lower bank Bank3 are connected via the bonding pad 2.

【0044】従って、本実施の形態の半導体記憶装置に
よれば、ボンディングパッド2の0〜C/4〜8の配列
に合わせてバンクBank0〜Bank3の0〜C/4
〜8のIO割り付けを行い、バンクBank0とBan
k2/Bank1とBank3の0〜C/4〜8をそれ
ぞれ対応させて内部IOバスIObusにより接続する
ことにより、内部IOバスIObusの配線長のばらつ
きを小さくすることができ、かつ余分な配線が不要とな
るので配線負荷を最小限に抑えることができる。この結
果、アクセスの高速化につなげることができる。
Therefore, according to the semiconductor memory device of the present embodiment, 0 to C / 4 of banks Bank0 to Bank3 are adjusted in accordance with the arrangement of 0 to C / 4 to 8 of bonding pads 2.
~ 8 IO allocation, Bank0 and Bank0
By connecting 0 / C / 4 to 8 of k2 / Bank1 and Bank3 by using the internal IO bus IObus in correspondence with each other, the variation in the wiring length of the internal IO bus IObus can be reduced, and no extra wiring is required. Therefore, the wiring load can be minimized. As a result, access can be speeded up.

【0045】また、前記のような4つのバンクBank
0〜Bank3からなる半導体記憶装置においては、内
部IOバスIObusを考慮してメモリマットのIO割
り付けを行うことで、それぞれの内部I/OバスIOb
usの配線長をほぼ同じ長さで、半導体チップ1の約1
/2の長さにすることができる。
Further, the four banks Bank as described above are used.
In the semiconductor memory device composed of 0 to Bank3, the internal I / O bus IOb is allocated by allocating the memory mats in consideration of the internal IO bus IObus.
us with approximately the same wiring length and about 1
/ 2 length.

【0046】以上、本発明者によってなされた発明をそ
の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前
記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸
脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもな
い。
As described above, the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiment. However, the present invention is not limited to the embodiment, and various modifications can be made without departing from the gist of the invention. It goes without saying that it is possible.

【0047】たとえば、前記実施の形態においては、5
4ピンのLOCによるTSOP構造の半導体記憶装置の
例で説明したが、これに限定されるものではなく、64
ピン、80ピンなどのより多くのピン数、40ピンなど
の少ないピン数にしたり、SOP、SOJなどの他のパ
ッケージ構造などについても適用可能であり、これらの
ピン数および構造などについては種々の変形が可能であ
る。
For example, in the above embodiment, 5
Although the description has been made with reference to the example of the semiconductor memory device having the TSOP structure using the 4-pin LOC, the present invention is not limited to this.
The present invention can be applied to a larger number of pins such as 80 pins, a smaller number of pins such as 40 pins, and other package structures such as SOP and SOJ. Deformation is possible.

【0048】また、4バンクからなる64MビットのS
DRAMの例で説明したが、8バンク、さらに多バンク
化の傾向にあり、また256Mビット、さらに多ビット
化の傾向にあるSDRAMについても広く適当可能であ
り、このように多バンク、多ビットの構成とすることに
より本発明の効果はますます大きくなる。
A 64-Mbit S consisting of 4 banks
Although the description has been made with reference to the example of a DRAM, an SDRAM which has a tendency to increase the number of banks to 8 banks or more, and 256 Mbits or more bits is also widely applicable. With the configuration, the effect of the present invention is further increased.

【0049】以上の説明では、主として本発明者によっ
てなされた発明をその属する技術分野であるSDRAM
による半導体記憶装置に適用した場合について説明した
が、これに限定されるものではなく、DRAMや、SR
AM、RAM、ROM、PROM、EPROM、EEP
ROMなどの、メモリマットのIO割り付けが必要とさ
れる他の半導体記憶装置についても広く適用可能であ
る。
In the above description, the invention made mainly by the present inventor is described in the technical field to which the invention belongs.
Of the present invention has been described, but the present invention is not limited to this.
AM, RAM, ROM, PROM, EPROM, EEP
The present invention is widely applicable to other semiconductor memory devices, such as ROMs, which require memory mat IO allocation.

【0050】[0050]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
Advantageous effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described.
It is as follows.

【0051】(1).ボンディングパッドの配列に合わせて
メモリマットのIO割り付けを行うことで、ボンディン
グパッドと対応するメモリマットのIO線とを接続する
内部IOバスの配線長のばらつきが解消できるので、こ
の内部IOバス長のばらつきを小さくすることが可能と
なる。
(1) By allocating the IOs of the memory mats in accordance with the arrangement of the bonding pads, the variation in the wiring length of the internal IO bus connecting the bonding pads and the IO lines of the corresponding memory mats can be eliminated. It is possible to reduce the variation in the internal IO bus length.

【0052】(2).ボンディングパッドの一方側/他方側
はメモリマットの一方側/他方側にそれぞれ対応させて
割り付け、一方側/他方側のボンディングパッドに割り
付けられた異なるバンクの一方側同士/他方側同士をそ
れぞれ対応する内部IOバスで接続することで、余分な
配線が不要となるので、内部IOバスの配線負荷を最小
限に抑えることが可能となる。
(2) One side / other side of the bonding pad is assigned to correspond to one side / the other side of the memory mat, respectively. By connecting the other side with the corresponding internal IO bus, no extra wiring is required, so that the wiring load on the internal IO bus can be minimized.

【0053】(3).前記(1),(2) により、SDRAM、D
RAMなどの半導体記憶装置において、メモリマットの
IO割り付けに内部IOバスの配置を考慮することで、
内部IOバスの配線長を均一化かつ最短化することがで
きるので、アクセスの高速化を実現することが可能とな
る。
(3) According to the above (1) and (2), SDRAM, D
In a semiconductor memory device such as a RAM, by considering the arrangement of internal IO buses in IO allocation of a memory mat,
Since the wiring length of the internal IO bus can be made uniform and minimized, high-speed access can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態である半導体記憶装置を
示す構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram illustrating a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention;

【図2】本発明の一実施の形態の半導体記憶装置におけ
る半導体チップを示すレイアウト図である。
FIG. 2 is a layout diagram showing a semiconductor chip in the semiconductor memory device according to one embodiment of the present invention;

【図3】本発明の一実施の形態の半導体記憶装置におい
て、バンクを詳細に示すレイアウト図である。
FIG. 3 is a layout diagram showing a bank in detail in the semiconductor memory device according to one embodiment of the present invention;

【図4】本発明の一実施の形態の半導体記憶装置におい
て、内部IOバスを考慮したメモリマットのIO割り付
けを示すレイアウト図である。
FIG. 4 is a layout diagram showing IO allocation of a memory mat in consideration of an internal IO bus in the semiconductor memory device according to one embodiment of the present invention;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体チップ 2 ボンディングパッド 3 ワイヤ 4 リードフレーム 5 封止樹脂 6 外部端子 Bank0〜Bank3 バンク MWD メインワードドライバ YDEC カラムデコーダ MA メインアンプ SLA セレクタ B バッファ MC メモリセル SA センスアンプ SWD サブワードドライバ MWL メインワード線 SWL サブワード線 YS 列選択線 BL ビット線 LIO ローカルIO線 MIO メインIO線 IObus 内部IOバス Reference Signs List 1 semiconductor chip 2 bonding pad 3 wire 4 lead frame 5 sealing resin 6 external terminal Bank0 to Bank3 bank MWD main word driver YDEC column decoder MA main amplifier SLA selector B buffer MC memory cell SA sense amplifier SWD subword driver MWL main word line SWL Sub word line YS Column select line BL Bit line LIO Local IO line MIO Main IO line IObus Internal IO bus

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 メモリマットとその周辺回路とが形成さ
れた半導体チップと、この半導体チップのボンディング
パッドに一端が接続され、他端が外部端子となるリード
フレームとを有する半導体記憶装置であって、前記リー
ドフレームの各外部端子の配列に合わせて前記半導体チ
ップ上の各ボンディングパッドの配列を決定し、これら
のボンディングパッドの配列に合わせて、各ボンディン
グパッドと対応するメモリマットのIO線とを接続する
各内部IOバスの配線長を均一化するように前記メモリ
マットのIO割り付けを行うことを特徴とする半導体記
憶装置。
1. A semiconductor memory device comprising: a semiconductor chip having a memory mat and a peripheral circuit formed thereon; and a lead frame having one end connected to a bonding pad of the semiconductor chip and the other end serving as an external terminal. The arrangement of each bonding pad on the semiconductor chip is determined according to the arrangement of each external terminal of the lead frame, and each bonding pad and the IO line of the corresponding memory mat are determined according to the arrangement of these bonding pads. A semiconductor memory device, wherein IO allocation of said memory mat is performed so as to equalize the wiring length of each connected internal IO bus.
【請求項2】 請求項1記載の半導体記憶装置であっ
て、前記メモリマットのIO割り付けは、前記各内部I
Oバスの配線長を最短化するように、前記半導体チップ
上の一方側のボンディングパッドは前記メモリマットの
一方側、前記半導体チップ上の他方側のボンディングパ
ッドは前記メモリマットの他方側にそれぞれ対応させて
割り付けることを特徴とする半導体記憶装置。
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein IO allocation of said memory mat is performed by each of said internal I / Os.
One bonding pad on the semiconductor chip corresponds to one side of the memory mat, and the other bonding pad on the semiconductor chip corresponds to the other side of the memory mat, so that the wiring length of the O bus is minimized. A semiconductor memory device characterized by being assigned.
【請求項3】 請求項2記載の半導体記憶装置であっ
て、前記メモリマットが複数のバンクからなる場合は、
前記半導体チップ上の一方側のボンディングパッドに割
り付けられた異なるバンクの一方側同士、前記半導体チ
ップ上の他方側のボンディングパッドに割り付けられた
異なるバンクの他方側同士をそれぞれ対応する内部IO
バスで接続することを特徴とする半導体記憶装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein said memory mat comprises a plurality of banks.
The internal IOs correspond to one side of different banks allocated to one bonding pad on the semiconductor chip and the other side of different banks allocated to the other bonding pad on the semiconductor chip, respectively.
A semiconductor memory device connected by a bus.
【請求項4】 請求項1記載の半導体記憶装置であっ
て、前記半導体チップ上において、前記ボンディングパ
ッドは、前記半導体チップのほぼ中心線上に配置し、か
つ前記半導体チップの一方側または他方側の片側に配置
し、また前記メモリマットは前記ボンディングパッドを
挟んで両側に配置することを特徴とする半導体記憶装
置。
4. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein on said semiconductor chip, said bonding pad is arranged substantially on a center line of said semiconductor chip, and on one side or the other side of said semiconductor chip. The semiconductor memory device is arranged on one side, and the memory mats are arranged on both sides of the bonding pad.
【請求項5】 請求項1、2、3または4記載の半導体
記憶装置であって、前記半導体記憶装置は、複数のバン
クからなる同期型のシンクロナスDRAMであることを
特徴とする半導体記憶装置。
5. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said semiconductor memory device is a synchronous synchronous DRAM comprising a plurality of banks. .
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007242736A (en) * 2006-03-06 2007-09-20 Toshiba Corp Nonvolatile semiconductor storage device

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