JPH1197194A - Discharge lamp lighting device - Google Patents

Discharge lamp lighting device

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Publication number
JPH1197194A
JPH1197194A JP25961797A JP25961797A JPH1197194A JP H1197194 A JPH1197194 A JP H1197194A JP 25961797 A JP25961797 A JP 25961797A JP 25961797 A JP25961797 A JP 25961797A JP H1197194 A JPH1197194 A JP H1197194A
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JP
Japan
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radiation
pulse
lighting
lamp
excimer light
Prior art date
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Pending
Application number
JP25961797A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideo Nishiyama
英夫 西山
Shigeru Horii
堀井  滋
Mitsuharu Miyazaki
光治 宮崎
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To ensure a high efficiency ultraviolet ray range illumination by optimizing a pulse voltage and current applied to a lamp, application time interval and aftergrow illumination by means of a step-up transformer driven by a control pulse generator and a switching transistor and a variable nonlinear stabilizer. SOLUTION: A plurality of step-up terminals of a step-up transformer 2 and a variable nonlinear stabilizer 5 are controlled so that a pulse voltage Vp and a current Ip required to take out the maximum level of excimer beam of 172 nm, 158 nm and to enhance a ultraviolet radiation efficiency including the radiation of 147 nm can be made constant, in relation to the waveform of pulse. While generation of aftergrow is thus assured sufficiently, with the pulse for securing the maximum duty ratio, a switching transistor is driven. Accordingly, the maximum efficienty of ultraviolet radiation is attained including the radiation of excimer beam of 172 nm, 158 nm and the radiation of 147 nm.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、低圧放電ランプを
点灯するための放電ランプ点灯装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a discharge lamp lighting device for lighting a low pressure discharge lamp.

【0002】[0002]

【従来の技術】低圧放電ランプのうち、混合希ガス封入
の放電ランプ、すなわち希ガス放電ランプは、水銀封入
のランプに比べて発光効率が格段に低い。しかしなが
ら、この希ガス放電ランプの長所は、水銀封入ランプの
欠点である著しい温度特性はもちあわせないことであ
る。このため、複写機やファクシミリ等の情報読み取り
用光源のように、周辺温度の変動に影響されず常に一定
の光出力を要求される光源に利用されることが多い。ま
た、この希ガス放電ランプは水銀を含まないため、いわ
ゆる「地球環境保護」の観点からも注目されつつある。
2. Description of the Related Art Among low-pressure discharge lamps, discharge lamps filled with a mixed rare gas, that is, rare gas discharge lamps, have much lower luminous efficiency than lamps filled with mercury. However, the advantage of this rare gas discharge lamp is that it does not have the remarkable temperature characteristics which are a drawback of the mercury-filled lamp. For this reason, it is often used as a light source such as a copier or a facsimile for reading information, which always requires a constant light output without being affected by fluctuations in the ambient temperature. In addition, since the rare gas discharge lamp does not contain mercury, it is receiving attention from the viewpoint of so-called "global environmental protection".

【0003】この発光効率を高めるための手段は、希ガ
スが放射する紫外放射束をいかに増強するか、また、そ
の紫外放射から蛍光体を介して可視光をいかに効率よく
変換できるか、の2点に大別できる。
[0003] The means for increasing the luminous efficiency are how to enhance the ultraviolet radiant flux emitted by the rare gas, and how to efficiently convert visible light from the ultraviolet radiation via a phosphor. Can be roughly divided into points.

【0004】このうち、前者の紫外放射束を効率よく発
光する手段として、矩形波による点灯方式が正弦波によ
る点灯方式よりも優れていることが従来から知られてい
る。また、周波数についても、放電管の管径や管長、及
び封入ガスの種類とガス圧などをパラメータとして、最
適化を図る努力が続けられている。しかしながら、希ガ
ス放電の本来の特性に沿った効率的な点灯制御の方式は
具現化されていない。
Among these, as the former means for efficiently emitting ultraviolet radiation, it is conventionally known that a lighting method using a rectangular wave is superior to a lighting method using a sine wave. Also, efforts have been made to optimize the frequency by using the tube diameter and tube length of the discharge tube, the type and gas pressure of the sealed gas as parameters, and the like. However, an efficient lighting control method according to the intrinsic characteristics of the rare gas discharge has not been realized.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、希ガス放電ランプの放電特性の本質に遡
り、いかに高効率の紫外域発光を実現する実用的な制御
方法を見いだすかにある。
The problem to be solved by the present invention goes back to the essence of the discharge characteristics of rare gas discharge lamps, and how to find a practical control method for realizing highly efficient ultraviolet light emission. is there.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】この課題を解決するた
め、本発明では、制御パルス発生装置とスイッチング用
トランジスタによって駆動する昇圧トランス及び可変非
線形安定器によって、ランプに印加するパルス電圧・電
流及び印加時間間隔、並びにアフターグロー発光の最適
化をはかった点灯制御システムを見いだす。
According to the present invention, a pulse voltage / current applied to a lamp and a voltage applied to a lamp are controlled by a step-up transformer and a variable nonlinear ballast driven by a control pulse generator and a switching transistor. A lighting control system that optimizes the time interval and afterglow emission is found.

【0007】また、前記点灯制御システムにエキシマ光
測定センサの情報を付加して、エキシマ光の発光効率を
極大化した点灯制御システムを見いだす。
Further, a lighting control system which maximizes the luminous efficiency of excimer light by adding information of an excimer light measuring sensor to the lighting control system is found.

【0008】さらに、前記点灯制御システムとエキシマ
光測定センサに加えて、ランプ放射測定センサを付加
し、蛍光体有効紫外放射を極大化した点灯制御システム
を見いだす。
Furthermore, a lamp emission measuring sensor is added to the lighting control system and the excimer light measuring sensor to find a lighting control system that maximizes the effective ultraviolet radiation of the phosphor.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態につ
いて説明する。
Embodiments of the present invention will be described below.

【0010】(実施の形態1)希ガスのうち、Xeガス
を例にとると、このXeガスの簡略化された励起・発光
動作は図2で表される。
(Embodiment 1) Taking Xe gas as an example of a rare gas, a simplified excitation / emission operation of this Xe gas is shown in FIG.

【0011】図2において、低圧放電時のXe原子は供
給する電気エネルギーに応じて、Xe*,Xe**,または
Xe+のもつエネルギー準位に励起され、主要原子発光
として、Xe*からXeに到る共鳴線である147nm
の放射が観測される。
In FIG. 2, Xe atoms at the time of low-pressure discharge are excited to the energy level of Xe *, Xe **, or Xe + according to the supplied electric energy, and Xe * to Xe 147 nm which is the resonance line
Radiation is observed.

【0012】しかしながら、この励起過程において短時
間に過剰な電気エネルギーを供給したり、継続的に電気
エネルギーを供給したりすると、前者の場合、イオン化
されたXeからの両極性拡散や、共鳴線以外の遷移過程
での、例えば中性原子・分子衝突によるエネルギーロス
が増大し、後者の場合にも電子密度の増大による前者と
同様のロスが生ずる。
However, if excessive electric energy is supplied in a short time or electric energy is continuously supplied in the excitation process, in the former case, bipolar diffusion from ionized Xe or non-resonant lines may occur. In the transition process, energy loss due to, for example, neutral atom / molecule collision increases, and in the latter case, a loss similar to the former occurs due to an increase in electron density.

【0013】これにより、適切なエネルギー準位,たと
えばXe*をわずかに越える程度の準位の電気エネルギ
ーを短時間に供給し、一定休止期間を経て次の電気エネ
ルギーを供給することが発光効率を高める上で重要とな
る。
By this means, it is possible to supply an appropriate energy level, for example, electric energy of a level slightly exceeding Xe * in a short time, and to supply the next electric energy after a certain pause, thereby improving the luminous efficiency. It is important in raising.

【0014】一方、Xe2の2原子分子においては、図
2に示すように、主にXe*のエネルギー準位を経て、
2原子分子を構成し、Xe*より低準位のXe2*にシフ
トして172nmや158nmの分子発光、すなわちエ
キシマ発光が観測される。この場合も、Xe*をわずかに
越える程度の準位の電気エネルギーを電子密度の増大し
ない程度の短時間に供給するとともに、Xe2**のレベル
への励起を極力抑制する低電子密度を維持することが効
率向上の上で重要となる。
On the other hand, in the diatomic molecule of Xe 2 , as shown in FIG. 2, mainly through the energy level of Xe *,
It constitutes a diatomic molecule and shifts to Xe 2 * at a lower level than Xe *, and molecular emission at 172 nm or 158 nm, ie, excimer emission is observed. In this case as well, electric energy of a level slightly exceeding Xe * is supplied in a short time so that the electron density does not increase, and a low electron density that suppresses excitation to the Xe 2 ** level as much as possible is maintained. Is important for improving efficiency.

【0015】このようにして、エキシマ光の発光を増や
しつつ、紫外放射全体の発光効率を上げるためには、供
給する電気エネルギー、すなわち入力パワーの形態を上
述の考えに基づき特定しなければならない。具体的に
は、一定の入力パワーに対するパルス電圧Vp・電流I
pと印加時間幅Twを、発光管の形状諸元や封入ガスの
種類・ガス圧に応じて特定することである。
In this way, in order to increase the luminous efficiency of the entire ultraviolet radiation while increasing the emission of excimer light, it is necessary to specify the electric energy to be supplied, that is, the form of the input power, based on the above-described concept. Specifically, the pulse voltage Vp and the current I for a constant input power
The purpose is to specify p and the application time width Tw according to the specifications of the shape of the arc tube and the type and gas pressure of the sealed gas.

【0016】また、電流遮断時以降に発光するアフター
グロー現象も封入希ガスの種類やガス圧により大きく変
化する。Xeの場合、Xe*の(エネルギー準位)準安定
原子が多ければ、アフターグロー時の発光に147nm
及び172nm・158nmの放射がより多く重畳され
る。このうち、172nm・158nm放射は147n
mにやや遅れて発光するため、この発光が終了して後に
次の電気エネルギーを供給することが重要となる。
Also, the afterglow phenomenon that emits light after the current is cut off greatly changes depending on the type of rare gas and the gas pressure. In the case of Xe, if there are many (energy level) metastable atoms of Xe *, the emission at the time of afterglow is 147 nm.
And 172 nm and 158 nm radiation are superimposed more. Of these, 172 nm and 158 nm radiation is 147 n
Since light is emitted with a slight delay from m, it is important to supply the next electric energy after the light emission ends.

【0017】これに反して、電圧パルス遮断後の再印加
時間を縮めると、アフターグローが急減し発光効率が低
下する。これにより、パルスの最適繰り返し周波数f
は、パルス印加後のアフターグローの消滅時間をTaと
すると、(1)式で表される。
On the other hand, if the re-application time after the interruption of the voltage pulse is shortened, the afterglow sharply decreases and the luminous efficiency decreases. Thereby, the optimum repetition frequency f of the pulse
Is expressed by equation (1), where Ta is the afterglow extinction time after pulse application.

【0018】 f = 1/(Tw+Ta) ・・・・・(1) fが(1)式の右辺の値より大きい値をとれば、上述の
ようにアフターグローが急減し、また、fが(1)式の
右辺の値より小さい値をとれば、印加パルスの実質的な
デューティ比が低下し、いずれの場合も発光効率は低下
する。
F = 1 / (Tw + Ta) (1) If f is larger than the value on the right side of the equation (1), the afterglow sharply decreases as described above, and f becomes ( If the value is smaller than the value on the right side of the equation (1), the substantial duty ratio of the applied pulse is reduced, and the luminous efficiency is reduced in any case.

【0019】図1は上記の点灯条件を実現する第一の実
施例を説明した、他励式インバータの一例を表す図であ
る。
FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a separately-excited inverter for explaining a first embodiment for realizing the above-mentioned lighting conditions.

【0020】図1において、1は直流電源、2は昇圧ト
ランス、3はスイッチング用トランジスタ、4は制御パ
ルス発生装置、5はチョークコイルと非線形コンデンサ
のT型回路からなる可変非線形安定器、6はサージパル
ス吸収用のツェナーダイオード(またはZNRを用いて
もよい)、7は熱陰極形の希ガス蛍光ランプ(以下ラン
プという)、8は始動用スタータである。
In FIG. 1, 1 is a DC power supply, 2 is a step-up transformer, 3 is a switching transistor, 4 is a control pulse generator, 5 is a variable nonlinear stabilizer comprising a T-shaped circuit of a choke coil and a nonlinear capacitor, 6 is A Zener diode (or ZNR may be used) for absorbing a surge pulse, 7 is a hot cathode type rare gas fluorescent lamp (hereinafter referred to as a lamp), and 8 is a starter for starting.

【0021】昇圧トランス2の1次側回路は、制御パル
ス発生装置4で得られるパルス信号によって駆動するパ
ルス電圧発生回路を表し、昇圧トランス2を介して2次
回路側に発生した昇圧パルスは可変非線形安定器5を経
て矩形波に整形されランプ7に供給される。この可変非
線形安定器5はランプ7に直列に挿入されたチョークコ
イルLと、ランプ7に並列に挿入された非線形コンデン
サCとが一対となって複数個設置されている。
The primary side circuit of the step-up transformer 2 represents a pulse voltage generating circuit driven by a pulse signal obtained by the control pulse generator 4, and a step-up pulse generated on the secondary circuit side through the step-up transformer 2 is a variable non-linear circuit. The light is shaped into a rectangular wave via the ballast 5 and supplied to the lamp 7. The variable nonlinear ballast 5 includes a plurality of choke coils L inserted in series with the lamp 7 and a plurality of nonlinear capacitors C inserted in parallel with the lamp 7.

【0022】また、パルス波形は、既に述べたように1
72nm,158nmのエキシマ光を最大限に取り出し
たり、147nm放射を含めた紫外放射の効率を最大限
高めるために必要なパルス電圧Vp及び電流Ipが一定
値となるように昇圧トランス2の複数のステップアップ
端子及び可変非線形安定器5を調整している。
Further, the pulse waveform is 1 as described above.
A plurality of steps of the step-up transformer 2 are performed so that the pulse voltage Vp and the current Ip necessary to extract the excimer light of 72 nm and 158 nm to the maximum and to maximize the efficiency of ultraviolet radiation including 147 nm radiation are constant. The up terminal and the variable nonlinear stabilizer 5 are adjusted.

【0023】また、制御パルス発生装置4では、上記
(1)式で表される繰り返し周波数に等しい周波数で駆
動する。更に、パルス時間幅Twについては、上述に示
す考えのもとに、発光管内の電子密度を一定値以下に抑
制するように制御パルス発生装置4からスイッチング用
トランジスタ3にオフの制御信号を送出し、その時間幅
を定める。
The control pulse generator 4 is driven at a frequency equal to the repetition frequency represented by the above equation (1). Further, with respect to the pulse time width Tw, a control signal for turning off the control transistor is transmitted from the control pulse generator 4 to the switching transistor 3 so as to suppress the electron density in the arc tube to a certain value or less based on the above-described concept. , Determine the time span.

【0024】このようにして、アフターグローの発生を
十分保障しつつ、デューティ比を最大限に確保できるパ
ルスにてスイッチング用トランジスタ3を駆動する。こ
れにより、172nm,158nmのエキシマ光の極大
化がはかれる。また、147nm放射を含めた紫外放射
の効率についても極大化がはかれ、これにより、長波長
域で高い量子効率が期待できる蛍光体を介して、その紫
外放射から可視光を効率よく変換できるのである。
In this manner, the switching transistor 3 is driven by a pulse capable of ensuring the maximum duty ratio while sufficiently ensuring the occurrence of afterglow. Thereby, the excimer light of 172 nm and 158 nm is maximized. In addition, the efficiency of ultraviolet radiation including 147 nm radiation is also maximized, so that visible light can be efficiently converted from ultraviolet radiation through a phosphor that can be expected to have high quantum efficiency in a long wavelength region. is there.

【0025】なお、ツェナーダイオード6は再点弧時の
高圧キック電圧が発生する場合に備えて、一定高電圧以
上を吸収し、放電管中の電子密度の急激な変動を防止す
る機能を持つ。但し、このツェナーダイオード6はラン
プ始動時に、その障害の程度に応じて回路から切り離さ
れることがあるのは言うまでもない。
The zener diode 6 has a function of absorbing a constant high voltage or more and preventing a sudden change in the electron density in the discharge tube in case a high kick voltage is generated at the time of restriking. However, it goes without saying that the Zener diode 6 may be disconnected from the circuit at the time of starting the lamp, depending on the degree of its failure.

【0026】なおまた、図1において、7は熱陰極形蛍
光ランプとして説明しているが、この代わりに、外部平
行電極を具備する電界放電型蛍光ランプを用いてもよい
ことは自明である。
In FIG. 1, 7 is described as a hot cathode fluorescent lamp, but it is obvious that an electric field discharge fluorescent lamp having external parallel electrodes may be used instead.

【0027】(実施の形態2)次に本発明の第2の実施
の形態について図4を用いて説明する。ここでは図1に
示すランプ7のバルブを真空紫外域を透過可能なガラス
材料で構成し、ランプ7は管体の全部または一部が蛍光
体を排除した希ガス放電ランプとする。以下図1と異な
る点を中心に説明する。
(Embodiment 2) Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Here, the bulb of the lamp 7 shown in FIG. 1 is made of a glass material capable of transmitting the vacuum ultraviolet region, and the lamp 7 is a rare gas discharge lamp in which all or a part of the tube excludes a phosphor. Hereinafter, the points different from FIG. 1 will be mainly described.

【0028】エキシマ光測定センサ9は半値幅が10n
m程度で、172nm付近に最大分光応答度をもつよう
に製作され、ランプ放射測定センサ10は130nmか
ら180nmの範囲にほぼ一定の分光応答度をもつ。
The half value width of the excimer light measuring sensor 9 is 10n.
It is manufactured to have a maximum spectral responsivity around 172 nm at about m, and the lamp radiation measurement sensor 10 has a substantially constant spectral responsivity in the range of 130 nm to 180 nm.

【0029】制御パルス発生装置14では、エキシマ光
測定センサ9の情報から検知したエキシマ光の強度とア
フターグローの消滅時間とをもとにエキシマ発光の最適
点灯周波数を演算し、これをスイッチング用トランジス
タ3に入力してランプ7を駆動する。
The control pulse generator 14 calculates the optimal lighting frequency of excimer light emission based on the intensity of excimer light detected from the information of the excimer light measuring sensor 9 and the extinction time of the afterglow, and calculates this as the switching transistor. Input to 3 to drive the lamp 7.

【0030】すなわち、エキシマ光測定センサ9からは
エキシマ光の大小のみならず、パルスオフ直後のアフタ
ーグローの持続時間も計測できるので、これにより、上
述の(1)式の説明で、一定値としたアフターグローの
消滅時間Taの、当該点灯条件以外の変化によって生ず
る微少変動を補正することができ、パルス繰り返し周波
数fの更なる最適化がはかれるのである。
That is, since the excimer light measuring sensor 9 can measure not only the magnitude of the excimer light but also the duration of the afterglow immediately after the pulse is turned off, the constant value is set in the description of the above equation (1). The minute fluctuation of the afterglow extinction time Ta caused by a change other than the lighting condition can be corrected, and the pulse repetition frequency f is further optimized.

【0031】また、別のシステムでは、エキシマ光測定
センサ9及びランプ放射測定センサ10の双方の信号を
制御パルス発生装置14に送出する。制御パルス発生装
置14では、これら2つの信号を解析して、パルス幅と
繰り返し周波数、及び昇圧トランス2に送出するランプ
印加パルス電圧可変信号の3種のパラメータを変えてス
イッチング用トランジスタ3に送出し、エキシマ放射の
極大化をはかったり、有効紫外放射の極大化がはかれ
る。
In another system, signals from both the excimer light measuring sensor 9 and the lamp radiation measuring sensor 10 are sent to the control pulse generator 14. The control pulse generator 14 analyzes these two signals and changes the three parameters of the pulse width and repetition frequency, and the ramp applied pulse voltage variable signal to be sent to the step-up transformer 2 and sends them to the switching transistor 3. And maximizing excimer radiation and maximizing effective ultraviolet radiation.

【0032】又、上記のようなフィードバック回路機能
に、さらに図4に示すような設定周波数入力端子11を
設けることにより、点灯装置外から設定周波数変更の指
令を受けても、制御パルス発生装置14の演算機能を拡
張することにより、上記フィードバック回路の中で最適
な点灯条件を手動ないし自動で定めることができる。
Further, by providing a set frequency input terminal 11 as shown in FIG. 4 to the above-described feedback circuit function, even if a command to change the set frequency is received from outside the lighting device, the control pulse generator 14 By extending the calculation function of the above, the optimum lighting conditions can be manually or automatically determined in the feedback circuit.

【0033】この演算機能の拡張に当たっては、制御パ
ルス発生装置14が当初もっていたスイッチングレギュ
レータ用コントロールICの機能に加えて、CPUすな
わちマイクロコンピュータの演算機能を付加すれば容易
に実現できる。図3は上記CPUの動作を説明する概略
フローチャートの一例を示す。
The expansion of the arithmetic function can be easily realized by adding an arithmetic function of a CPU, that is, a microcomputer, in addition to the function of the control IC for the switching regulator which the control pulse generator 14 originally had. FIG. 3 shows an example of a schematic flowchart for explaining the operation of the CPU.

【0034】図3において、電力一定で点灯後、パルス
電圧・電流を変えながらパルス時間幅Twと繰り返し周
波数fを算出・制御し、有効紫外放射を測定する。ここ
で、有効紫外放射について説明する。蛍光体で紫外放射
を可視放射に変換する際、エキシマ光放射測定センサ9
及び10から得られる172nm放射照度及び全紫外放
射照度をそれぞれa,bとするとka+(b−a)すな
わち(k−1)a+bが,この蛍光体の有効紫外放射照
度を表す。
In FIG. 3, after lighting at a constant power, the pulse time width Tw and the repetition frequency f are calculated and controlled while changing the pulse voltage and current, and the effective ultraviolet radiation is measured. Here, the effective ultraviolet radiation will be described. When converting ultraviolet radiation into visible radiation with a phosphor, the excimer light radiation measurement sensor 9
If the irradiance at 172 nm and the total irradiance at 172 nm obtained from FIGS. 10 and 10 are a and b, respectively, ka + (ba), that is, (k−1) a + b represents the effective ultraviolet irradiance of this phosphor.

【0035】ここで、kはこの蛍光体の172nmにお
ける励起波長感度の増分を示し、1より大きい値をとる
ものとする。このデータ群の中から極大値を選び、更に
繰り返し周波数fをシフトしてアフターグローの消滅時
間Taを実験的に確かめながら、最大有効放射照度とそ
の点灯制御条件を決めるのである。
Here, k represents an increment of the excitation wavelength sensitivity at 172 nm of the phosphor, and is assumed to be a value larger than 1. The maximum effective irradiance and its lighting control conditions are determined by selecting a local maximum value from this data group, further shifting the repetition frequency f, and experimentally confirming the afterglow extinction time Ta.

【0036】なお、図3の概略フローには電力を一定と
してのスタートから示しているが、その電力を自動また
は手動にて変えながら、上記フローを通じて点灯システ
ムを制御する方法をとれることは言うまでもない。
Although the schematic flow in FIG. 3 shows a start from a constant power, it goes without saying that a method of controlling the lighting system through the above flow while automatically or manually changing the power can be used. .

【0037】(実施の形態3)次に、本発明の第3の実
施の形態を下記に示す。上記第2の実施の形態によるフ
ィードバック回路機能付き点灯装置を複写機やファクシ
ミリ等の情報読取り用光源装置として組み込む場合に
は、ランプ7は実施の形態1と同じく、熱陰極形希ガス
蛍光ランプまたは外部平行電極を具備する電界放電型蛍
光ランプとして、エキシマ光測定センサ9及びランプ放
射測定センサ10は、可視域の測光センサとして情報読
みとり用センサの光電出力で代用することができる。
(Embodiment 3) Next, a third embodiment of the present invention will be described below. When the lighting device with the feedback circuit function according to the second embodiment is incorporated as a light source device for reading information such as a copying machine or a facsimile, the lamp 7 may be a hot cathode rare gas fluorescent lamp or a The excimer light measuring sensor 9 and the lamp radiation measuring sensor 10 as electric field discharge fluorescent lamps having external parallel electrodes can be substituted for the photoelectric output of the information reading sensor as a visible range photometric sensor.

【0038】さらにシステム全体から要求される点灯周
波数の切り替え指令を設定周波数入力端子11から受
け、最適点灯条件の設定に即応できる機能も実現でき
る。
Further, a function of receiving a switching command of the lighting frequency required from the entire system from the set frequency input terminal 11 and realizing a function capable of immediately responding to the setting of the optimum lighting condition can be realized.

【0039】[0039]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、低圧希ガ
ス放電ランプを点灯する際、印加パルス電圧・電流、パ
ルス時間間隔及びパルス繰り返し周波数を最適化するこ
とにより、172nm,158nmのエキシマ光を最大
限に取り出すことができる。
As described above, according to the present invention, when operating a low-pressure rare gas discharge lamp, the excimer of 172 nm and 158 nm is optimized by optimizing the applied pulse voltage / current, pulse time interval and pulse repetition frequency. Light can be extracted to the maximum.

【0040】また、147nm放射を含めた紫外放射の
効率の極大化がはかれ、また、その紫外放射から147
nmより長波長紫外域で高い量子効率が期待できる蛍光
体を介して可視光を効率よく変換でき、産業応用面にお
ける実用的な価値は大きい。
The efficiency of ultraviolet radiation including 147 nm radiation is maximized, and 147
Visible light can be efficiently converted through a phosphor that can be expected to have a high quantum efficiency in the ultraviolet region longer than nm, and has a great practical value in industrial applications.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態における放電ランプ
点灯装置を表わす構成図
FIG. 1 is a configuration diagram illustrating a discharge lamp lighting device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】希ガス放電の原理図FIG. 2 Principle diagram of rare gas discharge

【図3】本発明の第2の実施の形態における点灯制御の
概略フローチャート
FIG. 3 is a schematic flowchart of lighting control according to a second embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第2の実施の形態における放電ランプ
点灯装置を表わす構成図
FIG. 4 is a configuration diagram illustrating a discharge lamp lighting device according to a second embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 直流電源 2 昇圧トランス 3 スイッチング用トランジスタ 4 制御パルス発生装置 5 可変非線形安定器 6 ツェナーダイオード 7 希ガス蛍光ランプ 8 始動用スタータ 9 エキシマ光測定センサ 10 ランプ放射測定センサ 14 制御パルス発生装置 REFERENCE SIGNS LIST 1 DC power supply 2 Step-up transformer 3 Switching transistor 4 Control pulse generator 5 Variable nonlinear ballast 6 Zener diode 7 Rare gas fluorescent lamp 8 Starter 9 Excimer light measurement sensor 10 Lamp radiation measurement sensor 14 Control pulse generator

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】低圧希ガス放電ランプをエキシマ光を含む
紫外放射を極大化するパルス電圧・電流と点灯時間幅で
点灯制御し、かつ繰り返し周波数が、点灯時間幅とアフ
ターグロー消滅時間の和の逆数で表される周波数で駆動
する点灯回路を具備する放電ランプ点灯装置。
1. A low-pressure rare gas discharge lamp is controlled to be turned on with a pulse voltage and a current for maximizing ultraviolet radiation including excimer light and a lighting time width, and a repetition frequency is a sum of the lighting time width and the after-glow extinction time. A discharge lamp lighting device including a lighting circuit driven at a frequency represented by a reciprocal.
【請求項2】エキシマ光測定センサと、当該センサの情
報から検知したエキシマ光の強度とアフターグローの消
滅時間と点灯時間幅とをもとにエキシマ光の最適繰り返
し周波数を発生する制御パルス発生装置とを具備する放
電ランプ点灯装置。
2. An excimer light measuring sensor, and a control pulse generator for generating an optimum repetition frequency of the excimer light based on the intensity of the excimer light detected from information of the sensor, the afterglow extinction time and the lighting time width. A discharge lamp lighting device comprising:
【請求項3】エキシマ光測定用センサと、ランプ放射測
定センサと、上記2種類のセンサ情報をもとに蛍光体有
効紫外放射を算出して、最適繰り返し周波数と点灯時間
間隔及びパルス電圧・電流を発生する制御パルス発生装
置とを具備する放電ランプ点灯装置。
3. An excimer light measuring sensor, a lamp radiation measuring sensor, and a phosphor effective ultraviolet radiation are calculated based on the above two types of sensor information to obtain an optimum repetition frequency, lighting time interval, pulse voltage and current. And a control pulse generator for generating a discharge pulse.
JP25961797A 1997-09-25 1997-09-25 Discharge lamp lighting device Pending JPH1197194A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004108415A3 (en) * 2003-06-05 2005-04-28 Roland Man Druckmasch Control for an excimer emitter

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