JPH1196768A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JPH1196768A
JPH1196768A JP9252233A JP25223397A JPH1196768A JP H1196768 A JPH1196768 A JP H1196768A JP 9252233 A JP9252233 A JP 9252233A JP 25223397 A JP25223397 A JP 25223397A JP H1196768 A JPH1196768 A JP H1196768A
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JP
Japan
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signal
dummy
data
semiconductor integrated
dummy cells
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JP9252233A
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Japanese (ja)
Inventor
Tomoaki Shima
友朗 島
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To increase operation speed to operable timing speed by generating a series of operation timing including writing/reading in/from a memory circuit and a peripheral circuit based on a signal generated by dummy cell operation. SOLUTION: After receiving of return of an address selection signal TAD, a timing generating circuit TIM sends a writing/reading signal WO/RO to a sense circuit RWS. Writing/reading operation is performed for dummy cells D1-D4 by this signal, the timing generating circuit TIM turns off the writing/ reading signal WO/RO by 0 of return signals WD1-WD4 written in the dummy cells D1-D4 and 1 of return signals RD1RD4 of data read out from the dummy cells D1-D4. By returning off the reading/writing signal WO/RO, the address selection signal TAD is turned off, next, a pre-charge signal PRI of a data line is turned off, and a series of operation for the memory circuit is finished.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体集積回路に関
し、特に、メモリセルアレイ部を有する半導体集積回路
に関する。
The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly, to a semiconductor integrated circuit having a memory cell array.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、この種の半導体集積回路は、メモ
リセルアレイ部およびその周辺回路から成るメモリ回路
およびその他機能の回路が搭載され、広く用いられてい
る。例えば、図9は、従来の半導体集積回路の1つであ
るLCD駆動用ICにおけるメモリ回路の構成例を示す
ブロック図である。この従来の半導体集積回路のメモリ
回路は、メモリセルアレイ部MARRY,Xアドレスデ
コーダXAD,YアドレスデコーダYAD,センス回路
RWS,タイミング生成回路TIMを備える。
2. Description of the Related Art Heretofore, this kind of semiconductor integrated circuit has been widely used because it has a memory circuit comprising a memory cell array section and its peripheral circuits and a circuit of other functions. For example, FIG. 9 is a block diagram showing a configuration example of a memory circuit in an LCD driving IC which is one of conventional semiconductor integrated circuits. The memory circuit of this conventional semiconductor integrated circuit includes a memory cell array section MERRY, an X address decoder XAD, a Y address decoder YAD, a sense circuit RWS, and a timing generation circuit TIM.

【0003】この従来の半導体集積回路のメモリ回路例
において、メモリセルアレイ部およびその周辺回路MA
RRY,XAD,YAD,RWSは、設計者が固定のタ
イミング設定を行ったタイミング生成回路TIMにより
シーケンシャルな書込み/読出し動作をしている。すな
わち、タイミング回路TIMは、書込み/読出しの選択
信号を受けて、X,Yアドレス信号が確定する時間と、
書込み/読出しを開始して十分データの書込み/読出し
が行える時間と、を考慮して、一連の動作タイミングを
発生していた。
In this conventional example of a memory circuit of a semiconductor integrated circuit, in a memory cell array portion and its peripheral circuit MA,
RRY, XAD, YAD, and RWS perform sequential write / read operations by a timing generation circuit TIM for which a designer has set fixed timing. That is, the timing circuit TIM receives the write / read selection signal, and determines the time when the X and Y address signals are determined.
A series of operation timings has been generated in consideration of the time when writing / reading is started and sufficient data writing / reading can be performed.

【0004】また、従来の半導体集積回路の他のメモリ
回路例として、たとえば、特開平8−138383号公
報に示される半導体記憶装置がある。簡単に説明する
と、この半導体記憶装置は、論理機能付メモリに搭載さ
れるRAMモジュールなどにおいて、書込みパルスの生
成タイミングをメモリセルの書込み遅延特性に合わせ込
むための遅延素子として、メモリセルと同様な構成とさ
れ且つ同様な書込み遅延特性を有する特性補償セルを用
いると共に、この特性補償セルの周囲に、やはりメモリ
セルと同様な構成とされる複数のダミーセルを配置して
ダミーセルアレイを構成する。
Further, as another example of a memory circuit of a conventional semiconductor integrated circuit, there is a semiconductor memory device disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-138383, for example. In brief, this semiconductor memory device is the same as a memory cell as a delay element for adjusting a write pulse generation timing to a write delay characteristic of a memory cell in a RAM module or the like mounted on a memory with a logic function. A characteristic compensating cell having the same configuration and having the same write delay characteristic is used, and a plurality of dummy cells having the same configuration as the memory cell are arranged around the characteristic compensating cell to form a dummy cell array.

【0005】このように、特性補償セルまたはダミーセ
ルアレイをメモリアレイのレイアウト領域内に配置しあ
るいはメモリアレイに隣接配置することで、その周辺部
を含めて、特性補償セルの書込み遅延特性をメモリセル
の書込み遅延特性に近似させることができる。この結
果、書込みパルスのタイミングマージンを圧縮して、論
理機能付メモリに搭載されるRAMモジュールなどのサ
イクルタイムの高速化を図ることができる。
By arranging the characteristic compensating cell or the dummy cell array in the layout area of the memory array or adjacent to the memory array, the write delay characteristic of the characteristic compensating cell including its peripheral portion can be reduced. Can be approximated. As a result, the timing margin of the write pulse can be reduced, and the cycle time of a RAM module mounted on the memory with a logic function can be shortened.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】従来の半導体集積回路
の問題点は、書込み/読出しの動作速度が、固定タイミ
ングの設定により制限され、高速化できないことであ
る。
A problem of the conventional semiconductor integrated circuit is that the operation speed of writing / reading is limited by the setting of a fixed timing and cannot be increased.

【0007】その理由は、従来の半導体集積回路のメモ
リ回路において、最悪条件下の動作保証のため、固定タ
イミングの設計マージンを大きくする必要があるためで
ある。
The reason is that, in a conventional memory circuit of a semiconductor integrated circuit, it is necessary to increase a fixed timing design margin in order to guarantee the operation under the worst condition.

【0008】また、特性補償セルまたはダミーセルによ
りメモリセルの遅延特性に近似してタイミング制御する
場合であっても、製造プロセスなどにより、データ線な
どの配線抵抗にバラツキを生じ、メモリアレイ部内の各
メモリセルの動作保証のため、固定タイミングの設計マ
ージンを付加する必要があるためである。
Further, even when the timing is controlled by approximating the delay characteristic of the memory cell by the characteristic compensation cell or the dummy cell, the wiring resistance of the data line or the like varies due to a manufacturing process or the like, and each of the elements in the memory array section is varied. This is because it is necessary to add a fixed timing design margin in order to guarantee the operation of the memory cell.

【0009】したがって、本発明の目的は、半導体集積
回路に内蔵されたメモリ回路において、固定タイミング
の設計マージンを不要にし、書込み/読出し動作を高速
化することにある。
Accordingly, it is an object of the present invention to eliminate the need for a fixed timing design margin in a memory circuit built in a semiconductor integrated circuit and to speed up the write / read operation.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】そのため、本発明は、ス
タティック型のメモリセルを格子状に配置して形成され
るメモリセルアレイ部を有する半導体集積回路におい
て、前記メモリセルアレイ部に隣接してその4隅にそれ
ぞれ配置され書込み/読出し用のデータ線にそれぞれ接
続され且つ別途に出力端を持つ複数のダミーセルと、こ
れら各ダミーセルの前記各出力端の信号に対応して前記
各メモリセルに対する書込みタイミングが制御された書
込み信号を生成し前記各ダミーセルからの読出しデータ
に対応して前記各メモリセルに対する読出しタイミング
が制御された読出し信号を生成するタイミング生成回路
とを備えている。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, the present invention provides a semiconductor integrated circuit having a memory cell array portion formed by arranging static memory cells in a lattice pattern. A plurality of dummy cells respectively arranged at the corners, each connected to a data line for writing / reading and having a separate output terminal, and a write timing for each of the memory cells corresponding to a signal of each output terminal of each dummy cell. A timing generation circuit that generates a controlled write signal and generates a read signal in which the read timing for each of the memory cells is controlled in accordance with the read data from each of the dummy cells.

【0011】また、前記各ダミーセルが非選択時に初期
化され、前記各メモリセルの書込み時に選択され前記各
ダミーセルに前記初期化データの反転データが同時にそ
れぞれ書き込まれ、前記各メモリセルの読出し時に選択
され前記各ダミーセルから前記各初期化データが同時に
それぞれ読み出される。
In addition, each of the dummy cells is initialized when not selected, and is selected at the time of writing to each of the memory cells, and the inverted data of the initialization data is simultaneously written to each of the dummy cells, and selected at the time of reading from each of the memory cells. Then, the respective initialization data are simultaneously read from the respective dummy cells.

【0012】また、前記書込み信号が前記各出力端の信
号の一致信号に対応して不活性化され、前記読出し信号
が前記各ダミーセルからの読出しデータの一致信号に対
応して不活性化される。
Further, the write signal is inactivated in accordance with the coincidence signal of the signals at the respective output terminals, and the read signal is inactivated in accordance with the coincidence signal of the read data from each of the dummy cells. .

【0013】また、前記ダミーセルにそれぞれ接続され
るデータ線およびワード線が、前記メモリセルアレイ部
の周辺回路と同等の周辺回路に接続されている。
Further, data lines and word lines respectively connected to the dummy cells are connected to peripheral circuits equivalent to the peripheral circuits of the memory cell array section.

【0014】さらに、前記ダミーセルにそれぞれ接続さ
れるデータ線およびワード線が、前記メモリセルアレイ
部のデータ線およびワード線と同等の配線容量,各線間
容量,配線抵抗を持っている。
Further, the data lines and word lines respectively connected to the dummy cells have the same wiring capacitance, inter-line capacitance, and wiring resistance as the data lines and word lines in the memory cell array.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】次に、本発明について図面を参照
して説明する。図1は、本発明の半導体集積回路の実施
形態におけるメモリ回路部分を示すブロック図である。
図1を参照すると、本実施形態の半導体集積回路におけ
るメモリ回路は、メモリセルアレイ部MARRY,ダミ
ーセルD1〜D4を備え、それぞれの周辺回路として、
XアドレスデコーダXAD,DX1〜DX2と、Yアド
レスデコーダYAD,DY1〜DY4と、センス回路R
WS,DRW1〜DRW4と、タイミング生成回路TI
Mとを備える。
Next, the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing a memory circuit portion in a semiconductor integrated circuit according to an embodiment of the present invention.
Referring to FIG. 1, the memory circuit in the semiconductor integrated circuit according to the present embodiment includes a memory cell array unit MARRY and dummy cells D1 to D4.
X address decoders XAD, DX1 to DX2, Y address decoders YAD, DY1 to DY4, and a sense circuit R
WS, DRW1 to DRW4 and a timing generation circuit TI
M.

【0016】また、図2は、図1におけるメモリセルア
レイ部MARRY,ダミーセルD1〜D4のデータ線と
ワード線との間の具体的接続例を示す接続図である。図
2を参照すると、ダミーセルD1,D2のデータ線に
は、メモリセルアレイ部MARRYのデータ線と同等
に、各ワード線との間の線間容量負荷として、負荷スイ
ッチ群L1,L3が接続されている。また、ダミーセル
D1〜D4のワード線には、ダミーセルD1,D2間お
よびダミーセルD3,D4間に、メモリセルアレイ部M
ARRYのワード線と同等に、各データ線との間の線間
容量負荷として、負荷スイッチ群L2,L4が接続され
ている。
FIG. 2 is a connection diagram showing a specific connection example between the data lines and the word lines of the memory cell array section arry and the dummy cells D1 to D4 in FIG. Referring to FIG. 2, load switch groups L1 and L3 are connected to the data lines of the dummy cells D1 and D2 as the line-to-line capacitive loads between the word lines and the data lines of the memory cell array section arry. I have. The word lines of the dummy cells D1 to D4 have a memory cell array section M between the dummy cells D1 and D2 and between the dummy cells D3 and D4.
Load switch groups L2 and L4 are connected as line capacitance loads between the data lines and the ARRY word lines in the same manner as the ARRY word lines.

【0017】図3は、図1におけるメモリセルアレイ部
MARRYの具体的構成例を示す回路図である。このメ
モリセルアレイ部MARRYは、データ表示の機能を持
つLCD駆動ICで使用され、表示タイミング信号Tn
の入力で表示出力OUnへデータを別途に出力する構成
となっている。また、基本となるメモリセルも、ワード
線信号AD0〜ADnおよび書込み/読出し用のデータ
線RWD0〜RWDn,RWDB0〜RWDBnにそれ
ぞれ接続され且つ別途に出力線OU1〜OUnにデータ
出力する構成となっている。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a specific example of the configuration of the memory cell array section arry in FIG. This memory cell array section MARRY is used in an LCD drive IC having a data display function, and has a display timing signal Tn.
, The data is separately output to the display output OUn. The basic memory cells are also connected to word line signals AD0 to ADn and write / read data lines RWD0 to RWDn, RWDB0 to RWDBn, respectively, and separately output data to output lines OU1 to OUn. I have.

【0018】図4は、図1におけるダミーセルD1〜D
4の具体的構成例を示す回路図である。これらのダミー
セルDnは、データの書込み/読出し機能に関してはメ
モリセルと全く同じであり、ワード線DAnおよびデー
タ線DDYn,DDYnに接続されている。また、ダミ
ーセルリセット信号DREにより初期化され、ダミーセ
ルに書き込まれたデータの戻り信号WDnが別途出力さ
れている。非選択時にタイミング生成回路TIMからの
ダミーセルリセット信号DREにより初期化され、各メ
モリセルの書込み時に選択され各ダミーセルD1〜D4
に初期化データの反転データが同時にそれぞれ書き込ま
れ、各メモリセルの読出し時に選択され各ダミーセルD
1〜D4から各初期化データが同時にそれぞれ読み出さ
れる。本実施形態では、初期化により“1”になり、書
込み時に“0”をそれぞれ書き込まれ、読出し時に
“1”がそれぞれ読み出される。また、少なくとも、こ
れらダミーセルD1〜D4の1つは、メモリセルアレイ
部MARRYを挟んでタイミング生成回路TIMと対局
に位置するよう配置される。
FIG. 4 shows the dummy cells D1 to D in FIG.
4 is a circuit diagram illustrating a specific configuration example of FIG. These dummy cells Dn are exactly the same as the memory cells with respect to the data write / read function, and are connected to word lines DAn and data lines DDYn, DDYn. Also, a return signal WDn of data initialized by the dummy cell reset signal DRE and written in the dummy cell is separately output. Initialized by a dummy cell reset signal DRE from the timing generation circuit TIM at the time of non-selection, each dummy cell D1 to D4 selected at the time of writing to each memory cell.
, The inverted data of the initialization data is simultaneously written to each of the dummy cells D.
Each initialization data is simultaneously read from 1 to D4. In the present embodiment, the bit is set to "1" by initialization, "0" is written at the time of writing, and "1" is read at the time of reading. In addition, at least one of the dummy cells D1 to D4 is arranged to be opposite to the timing generation circuit TIM with the memory cell array unit MARY interposed therebetween.

【0019】図5は、図1におけるダミーセル用に設け
たYアドレスデコーダDYn,センス回路DRW1〜D
RW4の具体的構成例を示す回路図である。これらYア
ドレスデコーダDYn,センス回路DRW1〜DRW4
は、メモリセルアレイ部MARRY用のYアドレスデコ
ーダYAD,センス回路RWS内の各データ線単位の回
路と同じ内部構成であり、タイミング生成回路TIMか
ら出力されるデータ線のプリチャージOFF信号PR
I,アドレス選択信号TDA,書込み/読出し信号WO
/ROを受け取り、それぞれに対して動作する。と同時
に、各ダミーセルD1〜D4からそれぞれ読み出された
信号を戻り信号RDnをタイミング生成回路TIMに戻
している。
FIG. 5 shows the Y address decoder DYn and the sense circuits DRW1 to DRW1 provided for the dummy cells in FIG.
FIG. 9 is a circuit diagram illustrating a specific configuration example of RW4. These Y address decoder DYn and sense circuits DRW1 to DRW4
Has the same internal configuration as the Y-address decoder YAD for the memory cell array unit MARRY and the circuit for each data line in the sense circuit RWS, and the data line precharge OFF signal PR output from the timing generation circuit TIM.
I, address selection signal TDA, write / read signal WO
/ RO and operate on each. At the same time, the signals read from the respective dummy cells D1 to D4 are returned and the signal RDn is returned to the timing generation circuit TIM.

【0020】図6は、図1におけるXアドレスデコーダ
XAD,DX1〜DX2の具体的構成例を示す回路図で
ある。メモリセルアレイ部MARRY用に設けたXアド
レスデコーダXADは、Xアドレス信号XADnが入力
されても、タイミング生成回路TIMからのアドレス選
択信号TADが入力されない限り、ワード線信号ADn
を出力しない。また、ダミーセル用に設けたXアドレス
デコーダDX1,DX2は、アドレス選択信号TADが
送られてくると、ダミーセル用のワード線信号DA1〜
DA2を自動的に出力する。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a specific configuration example of the X address decoders XAD and DX1 to DX2 in FIG. The X address decoder XAD provided for the memory cell array unit arry receives the word line signal ADn even if the X address signal XADn is input unless the address selection signal TAD from the timing generation circuit TIM is input.
Is not output. When the address selection signal TAD is sent, the X address decoders DX1 and DX2 provided for the dummy cells receive word line signals DA1 to DA1 for the dummy cells.
DA2 is automatically output.

【0021】図7は、図1におけるタイミング生成回路
TIMの具体的構成例を示す回路図である。また、図8
は、タイミング発生回路TIMの動作を示すタイミング
チャートである。図8を参照して、タイミング発生回路
TIMの機能を説明する。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a specific configuration example of the timing generation circuit TIM in FIG. FIG.
Is a timing chart showing the operation of the timing generation circuit TIM. The function of the timing generation circuit TIM will be described with reference to FIG.

【0022】タイミング生成回路TIMは、リセット信
号RESTが“1”のとき、各タイミング出力信号を初
期状態に設定する。プリチャージOFF信号PRI,書
込み/読出し信号WO/RO,センス回路リセット信号
SREは“0”にそれぞれ設定され、アドレス選択信号
TAD,ダミーセルリセット信号DREは“1”にそれ
ぞれ設定される。
When the reset signal REST is "1", the timing generation circuit TIM sets each timing output signal to an initial state. The precharge OFF signal PRI, the write / read signal WO / RO, and the sense circuit reset signal SRE are set to "0", respectively, and the address selection signal TAD and the dummy cell reset signal DRE are set to "1".

【0023】その後、書込み/読出し選択信号CW/C
Rが“1”に変化すると、プリチャージOFF信号PR
Iが“1”に変化し、その戻り信号PRIDでアドレス
選択信号TADが“0”に変化し、その戻り信号TAD
Dで書込み/読出し信号WO/ROが“1”に変化し、
アクティブとなる。
Thereafter, a write / read selection signal CW / C
When R changes to “1”, the precharge OFF signal PR
I changes to "1", the return signal PRID changes the address selection signal TAD to "0", and the return signal TAD
D causes the write / read signal WO / RO to change to "1",
Become active.

【0024】この書込み/読出し信号WO/ROのアク
ティブ変化により、ダミーセルD1〜D4に対し書込み
/読出し動作を行い、ダミーセルD1〜D4に書き込ま
れたデータの戻り信号WD1〜WD4の“0”と、ダミ
ーセルD1〜D4から読み出されたデータの戻り信号R
D1〜RD4の“1”とを入力し、書込み/読出し信号
WO/ROが“0”になり、インアクティブとなる。
Due to the active change of the write / read signal WO / RO, a write / read operation is performed on the dummy cells D1 to D4, and "0" of the return signals WD1 to WD4 of the data written in the dummy cells D1 to D4 is obtained. Return signal R of data read from dummy cells D1 to D4
When "1" of D1 to RD4 is input, the write / read signal WO / RO becomes "0" and becomes inactive.

【0025】この書込み/読出し信号WO/ROのイン
アクティブ変化により、それらの戻り信号WOD/RO
Dが“0”となり、アドレス選択信号TADが“1”に
なり、その戻り信号TADDでデータ線のプリテャージ
信号PRIが“0”に切り替わり全ての動作が完結す
る。
Due to the inactive change of the write / read signals WO / RO, their return signals WOD / RO
D becomes "0", the address selection signal TAD becomes "1", and the return signal TADD switches the precharge signal PRI of the data line to "0" to complete all operations.

【0026】このように、前の動作のタイミング信号の
戻りを受けて次の動作のタイミング信号を順に発生させ
る回路構成となっている。
As described above, the circuit configuration is such that the timing signal of the next operation is sequentially generated in response to the return of the timing signal of the previous operation.

【0027】次に、本実施形態の半導体集積回路におけ
るメモリ回路の動作について説明する。
Next, the operation of the memory circuit in the semiconductor integrated circuit of this embodiment will be described.

【0028】図1を参照すると、メモリ回路に対して、
書込み/読出し選択信号CW/CRと、Xアドレス信号
XADn,Yアドレス信号YADnが送られてくると、
タイミング生成回路TIMは、データ線に対するプリチ
ャージOFF信号PRIをセンス回路部RWSに送る。
この信号の戻りを受けて、タイミング発生回路TIM
は、アドレス選択信号TADをX,Yの両アドレスデコ
ーダに送る。この信号により、ダミーセルD1〜D4の
ワード線信号も同時に選択される。アドレス選択信号T
ADの戻りを受けて、タイミング発生回路TIMは、書
込み/読出し信号WO/ROをセンス回路RWSに送
る。この信号により、ダミーセルに対して書込み/読出
しの動作が行われ、それによるダミーセルD1〜D4に
書き込まれたデータの戻り信号WD1〜WD4の“0”
と、ダミーセルD1〜D4から読み出されたデータの戻
り信号RD1〜RD4の“1”とで、タイミング発生回
路TIMは書込み/読出し信号WO/ROをオフする。
書込み/読出し信号がオフすることによって、アドレス
選択信号TADがオフし、次にデータ線のプリチャージ
信号PRIがオフして、メモリ回路に対する一連の動作
が完了する。
Referring to FIG. 1, for a memory circuit,
When the write / read selection signal CW / CR and the X address signal XADn and the Y address signal YADn are sent,
The timing generation circuit TIM sends a precharge OFF signal PRI for the data line to the sense circuit unit RWS.
In response to the return of this signal, the timing generation circuit TIM
Sends an address selection signal TAD to both X and Y address decoders. With this signal, the word line signals of the dummy cells D1 to D4 are simultaneously selected. Address selection signal T
In response to the return of AD, the timing generation circuit TIM sends the write / read signal WO / RO to the sense circuit RWS. With this signal, a write / read operation is performed on the dummy cell, and the return signals WD1 to WD4 of the data written in the dummy cells D1 to D4 are set to “0”.
The timing generation circuit TIM turns off the write / read signal WO / RO in response to "1" of the return signals RD1 to RD4 of the data read from the dummy cells D1 to D4.
When the write / read signal is turned off, the address selection signal TAD is turned off, then the precharge signal PRI of the data line is turned off, and a series of operations on the memory circuit is completed.

【0029】なお、本実施形態では、メモリセルアレイ
部MARRYが1つである場合について説明したが、本
実施形態の半導体集積回路の変形例として、メモリセル
アレイ部MARRYが複数あり、一つのタイミング発生
回路TIMで制御する半導体集積回路も同様に可能であ
ることは明らかである。
In the present embodiment, the case where the number of the memory cell array units MARRY is one has been described. However, as a modified example of the semiconductor integrated circuit of the present embodiment, there are a plurality of memory cell array units MARRY and one timing generation circuit. It is clear that a semiconductor integrated circuit controlled by the TIM is also possible.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上説明したように、本発明による半導
体集積回路は、内蔵するメモリ回路および周辺回路に対
する書込み/読出しを含む一連の動作タイミングを、本
来動作可能なタイミング速度まで、高速化できるなどの
効果がある。
As described above, in the semiconductor integrated circuit according to the present invention, a series of operation timings including writing / reading for the built-in memory circuit and the peripheral circuit can be increased to a timing speed at which the operation can be performed. Has the effect.

【0031】その理由は、メモリセルアレイ部に隣接し
てその4隅にそれぞれ配置されたダミーセルを用いて、
メモリセルと同じ条件下でのダミーセルのアドレス選択
からデータの書込み/読出しを行い、そのダミーセルの
動作によって発生する信号を基に、メモリ回路および周
辺回路に対しての書込み/読出しを含む一連の動作タイ
ミングを発生させているため、製造プロセスなどによ
り、データ線などの配線抵抗にバラツキを生じ、メモリ
アレイ部内の各メモリセルの動作保証のため、固定タイ
ミングの設計マージンを付加する必要が無いからであ
る。
The reason is that the dummy cells arranged at the four corners adjacent to the memory cell array are used,
Data writing / reading is performed from address selection of a dummy cell under the same conditions as a memory cell, and a series of operations including writing / reading for a memory circuit and a peripheral circuit are performed based on signals generated by the operation of the dummy cell. Because the timing is generated, the wiring resistance of the data line and the like varies due to the manufacturing process, and it is not necessary to add a fixed timing design margin to guarantee the operation of each memory cell in the memory array section. is there.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の半導体集積回路の実施形態におけるメ
モリ回路部を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a memory circuit unit in a semiconductor integrated circuit according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1におけるメモリセルアレイ部,ダミーセル
のデータ線とワード線との間の具体的接続例を示す接続
図である。
FIG. 2 is a connection diagram showing a specific connection example between a data line and a word line of a memory cell array unit and a dummy cell in FIG. 1;

【図3】図1におけるメモリセルアレイ部の具体的構成
例を示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a specific configuration example of a memory cell array unit in FIG. 1;

【図4】図1におけるダミーセルの具体的構成例を示す
回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a specific configuration example of a dummy cell in FIG. 1;

【図5】図1におけるダミーセル用に設けたYアドレス
デコーダ,センス回路の具体的構成例を示す回路図であ
る。
5 is a circuit diagram showing a specific configuration example of a Y address decoder and a sense circuit provided for a dummy cell in FIG. 1;

【図6】図1におけるXアドレスデコーダの具体的構成
例を示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a specific configuration example of an X address decoder in FIG. 1;

【図7】図1におけるタイミング生成回路の具体的構成
例を示す回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a specific configuration example of a timing generation circuit in FIG. 1;

【図8】図7のタイミング発生回路の動作を示すタイミ
ングチャートである。
FIG. 8 is a timing chart showing an operation of the timing generation circuit of FIG. 7;

【図9】従来の半導体集積回路におけるメモリ回路部を
示すブロック図である。
FIG. 9 is a block diagram showing a memory circuit section in a conventional semiconductor integrated circuit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

AD0〜ADn,DAn ワード線 D1〜D4 ダミーセル DDYn,DDBYn,RWD0〜RWDn,RWDB
0〜RWDBn データ線 DRE ダミーセルリセット信号 DRW1〜DRW4,RWS センス回路 DX1〜DX2,XAD Xアドレスデコーダ DY1〜DY4,YAD Yアドレスデコーダ L1〜L4 負荷スイッチ群 MARRY メモリセルアレイ部 PRI プリチャージOFF信号 PRID,RD1〜RD4,TADD,WD1〜WD
4,WOD/ROD戻り信号 REST リセット信号 SRE センス回路リセット信号 TAD アドレス選択信号 TIM タイミング生成回路 Tn 表示タイミング信号 WO/RO 書込み/読出し信号 XADn Xアドレス信号 YADn Yアドレス信号
AD0 to ADn, DAn Word lines D1 to D4 Dummy cells DDYn, DDBYn, RWD0 to RWDn, RWDB
0 to RWDBn Data line DRE Dummy cell reset signal DRW1 to DRW4, RWS sense circuit DX1 to DX2, XAD X address decoder DY1 to DY4, YAD Y address decoder L1 to L4 Load switch group MARRY Memory cell array unit PRI Precharge OFF signal PRID, RD1 RD4, TADD, WD1 to WD
4, WOD / ROD return signal REST reset signal SRE sense circuit reset signal TAD address selection signal TIM timing generation circuit Tn display timing signal WO / RO write / read signal XADn X address signal YADn Y address signal

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 スタティック型のメモリセルを格子状に
配置して形成されるメモリセルアレイ部を有する半導体
集積回路において、前記メモリセルアレイ部に隣接して
その4隅にそれぞれ配置され書込み/読出し用のデータ
線にそれぞれ接続され且つ別途に出力端を持つ複数のダ
ミーセルと、これら各ダミーセルの前記各出力端の信号
に対応して前記各メモリセルに対する書込みタイミング
が制御された書込み信号を生成し前記各ダミーセルから
の読出しデータに対応して前記各メモリセルに対する読
出しタイミングが制御された読出し信号を生成するタイ
ミング生成回路とを備えることを特徴とする半導体集積
回路。
1. A semiconductor integrated circuit having a memory cell array portion formed by arranging static memory cells in a lattice pattern, and arranged at four corners adjacent to the memory cell array portion for writing / reading. A plurality of dummy cells each connected to a data line and having a separate output terminal, and generating a write signal in which a write timing for each of the memory cells is controlled in accordance with a signal at each of the output terminals of each of the dummy cells; A semiconductor integrated circuit comprising: a timing generation circuit that generates a read signal in which read timing for each of the memory cells is controlled in accordance with read data from a dummy cell.
【請求項2】 前記各ダミーセルが非選択時に初期化さ
れ、前記各メモリセルの書込み時に選択され前記各ダミ
ーセルに前記初期化データの反転データが同時にそれぞ
れ書き込まれ、前記各メモリセルの読出し時に選択され
前記各ダミーセルから前記各初期化データが同時にそれ
ぞれ読み出される、請求項1記載の半導体集積回路。
2. Each of the dummy cells is initialized when it is not selected, and is selected at the time of writing to each of the memory cells, and inverted data of the initialization data is simultaneously written to each of the dummy cells, and selected at the time of reading of each of the memory cells. 2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein said initialization data is simultaneously read out from each of said dummy cells.
【請求項3】 前記書込み信号が前記各出力端の信号の
一致信号に対応して不活性化され、前記読出し信号が前
記各ダミーセルからの読出しデータの一致信号に対応し
て不活性化される、請求項1または2記載の半導体集積
回路。
3. The write signal is inactivated in response to a coincidence signal of the signals at the respective output terminals, and the read signal is inactivated in response to a coincidence signal of read data from each of the dummy cells. The semiconductor integrated circuit according to claim 1.
【請求項4】 前記ダミーセルにそれぞれ接続されるデ
ータ線およびワード線が、前記メモリセルアレイ部の周
辺回路と同等の周辺回路に接続される、請求項1,2ま
たは3記載の半導体集積回路。
4. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein data lines and word lines respectively connected to said dummy cells are connected to peripheral circuits equivalent to peripheral circuits of said memory cell array section.
【請求項5】 前記ダミーセルにそれぞれ接続されるデ
ータ線およびワード線が、前記メモリセルアレイ部のデ
ータ線およびワード線と同等の配線容量,各線間容量,
配線抵抗を持つ、請求項1,2,3または4記載の半導
体集積回路。
5. A data line and a word line respectively connected to the dummy cell, wherein the data line and the word line of the memory cell array section have the same wiring capacity, the inter-line capacity,
5. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, having a wiring resistance.
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