JPH1196547A - Magnetic recording medium and its production - Google Patents

Magnetic recording medium and its production

Info

Publication number
JPH1196547A
JPH1196547A JP26072097A JP26072097A JPH1196547A JP H1196547 A JPH1196547 A JP H1196547A JP 26072097 A JP26072097 A JP 26072097A JP 26072097 A JP26072097 A JP 26072097A JP H1196547 A JPH1196547 A JP H1196547A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
magnetic recording
recording medium
laser
laser beam
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP26072097A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Osawa
弘 大澤
Hiroyuki Machida
裕之 町田
Kazuyoshi Matsumoto
和芳 松本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Showa Denko KK filed Critical Showa Denko KK
Priority to JP26072097A priority Critical patent/JPH1196547A/en
Publication of JPH1196547A publication Critical patent/JPH1196547A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form projections of a uniform size and shape in a short time by irradiating the prescribed range of a glass substrate surface with a laser beam, thereby simultaneously forming the plural projections. SOLUTION: The exit light emitted from a kaleidomirror is reflected by a reflection mirror. This reflected light advances toward the substrate D held in a substrate holder 13 and passes a lens, by which the light is made into parallel light beams having a spread of a certain range. When the prescribed range of the surface of the substrate D held in the substrate holder 13 is irradiated with these paralleled laser beams, energy is applied without unevenness on the substrate surface within the range irradiated with the laser beams. The temp. elevation by the irradiation with the laser beams occurs only in the extremely shallow regions near the surface of the substrate D and, therefore, the projecting parts after the irradiation are immediately cooled by the outdoor air or thermal diffusion and the crystal grain parts and amorphous parts are cured without the decrease in their volume, by which the plural projections are formed on the substrate D surface.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク装置
等に用いられる磁気記録媒体およびその製造方法に関
し、さらに詳しくはCSS特性に優れた磁気記録媒体、
およびこの磁気記録媒体を効率よく製造することが可能
な製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium used in a magnetic disk drive and the like and a method for manufacturing the same, and more particularly, to a magnetic recording medium having excellent CSS characteristics.
And a manufacturing method capable of efficiently manufacturing the magnetic recording medium.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気記録の高密度化の進歩はまさに日進
月歩の勢いであり、かつて10年で10倍といわれたハ
ードディスク・ドライブ(HDD)の記録密度向上速度
が最近では10年で100倍という声も聞かれている。
HDDには俗にウィンチェスター様式と呼ばれる、磁気
記録媒体と磁気ヘッド間の接触摺動−ヘッド浮上−接触
摺動を基本動作とするCSS(接触起動停止)方式が主
に採用されている。この方式はHDDの高記録密度化を
一気に加速した画期的なものであるが、一方で深刻なト
ライボロジー上の課題を持ち込む端緒にもなった。HD
Dにおける近年の記録密度の向上は、磁気記録媒体の回
転速度の増加と、磁気ヘッドの浮上高さの減少を伴うも
のであり、HDDにおける摺動耐久性、安定性、および
磁気記録媒体表面の平滑性への要求はますます強まって
いるのが現状である。
2. Description of the Related Art The progress of high-density magnetic recording has been steadily increasing, and the speed of improving the recording density of a hard disk drive (HDD), which was once said to be 10 times in 10 years, has recently been 100 times in 10 years. Voices have also been heard.
For the HDD, a CSS (contact start / stop) system, which is basically called a Winchester style and has a basic operation of contact sliding, head floating and contact sliding between a magnetic recording medium and a magnetic head, is mainly adopted. Although this system is a revolutionary one that has rapidly accelerated the increase in the recording density of HDDs, it has also led to serious tribological issues. HD
The recent improvement in recording density in D is accompanied by an increase in the rotation speed of the magnetic recording medium and a decrease in the flying height of the magnetic head. The demand for smoothness is currently increasing.

【0003】磁気ヘッドと磁気記録媒体の間の摺動耐久
性を向上させる鍵は摩擦係数低下にあり、磁気記録媒体
の側で言えば、従来トップコート技術の検討(ダイヤモ
ンドライクカーボン(DLC)保護膜、各種塗布潤滑剤
等)と並んで磁気記録媒体表面の粗面化によって摩擦係
数を低減させることが検討されてきた。これはテクスチ
ャ処理と呼ばれ、基板表面を粗面化することによって磁
気記録媒体表面に凹凸を形成し、磁気ヘッドと磁気記録
媒体の間の接触面積を低減し摩擦係数を下げ、磁気記録
媒体のCSS耐久性、安定性を高めることを目的として
いる。このテクスチャ処理は磁気記録媒体製造技術の重
要な要素技術となっている。
The key to improving the sliding durability between the magnetic head and the magnetic recording medium lies in the reduction of the coefficient of friction. In terms of the magnetic recording medium, the conventional topcoat technology has been studied (diamond-like carbon (DLC) protection). It has been studied to reduce the coefficient of friction by roughening the surface of the magnetic recording medium along with the film and various kinds of applied lubricants. This is called texture processing, and the surface of the substrate is roughened to form irregularities on the surface of the magnetic recording medium, reducing the contact area between the magnetic head and the magnetic recording medium, lowering the friction coefficient, and The purpose is to increase CSS durability and stability. This texture processing is an important elemental technology of the magnetic recording medium manufacturing technology.

【0004】上記テクスチャ技術は、基板材質に応じて
使い分けられており、NiP被覆Al基板等にテクスチ
ャ加工を施す場合には、研磨粉等を用いた機械的研磨に
よって凹凸を形成する方法が主に用いられている。ま
た、ガラス基板を用いる場合には、リソグラフィー、或
いはそれと印刷技法を組み合わせたエッチング技術等が
テクスチャ技術として提案され、一部では実用化されて
いる。
[0004] The above-mentioned texture technique is properly used depending on the material of the substrate. When texturing is performed on a NiP-coated Al substrate or the like, a method of forming irregularities by mechanical polishing using a polishing powder or the like is mainly used. Used. In the case where a glass substrate is used, lithography or an etching technique that combines the lithography and a printing technique has been proposed as a texture technique, and some of them have been put to practical use.

【0005】テクスチャ技術では、精密な凹凸制御と並
んで生産効率を高めることも重要であるが、両者はしば
しば拮抗する関係にあり、特に前述のようにHDDの高
記録密度化が驚くべき速さで進行している現今の状勢下
では、上記テクスチャ技術はその要求を満足しきれない
だけではなく、もはや工夫や改良の蓄積ではカバーし得
ない様々な問題点を露呈しつつある。
In the texture technology, it is important to increase the production efficiency in addition to the precise unevenness control. However, the two are often in an antagonistic relationship, and particularly, as described above, the increase in the recording density of the HDD is surprisingly rapid. In the current situation of progressing, the above-mentioned texture technique is not only unable to satisfy the demand, but also exposes various problems that can no longer be covered by accumulating ideas and improvements.

【0006】例えば、機械研磨法はすでに微細加工制御
の限界付近にあり、凹凸の高低差のみならず、ゾーンテ
クスチャリング等で重要になるテクスチャ領域の精密制
御でも根本的な困難に遭遇している。具体的には、一定
の割合で発生する所定範囲外の高低差を示す凹凸(過研
磨、バリ等)の発生や、テクスチャ境界のぼやけ等によ
るCSS特性の低下が問題となることがある。また、リ
ソグラフィ的手法は、凹凸高低差制御の点では問題ない
ものの、工程の複雑さが避けられず、それが生産効率の
低下を招くことがある。
[0006] For example, the mechanical polishing method is already near the limit of fine processing control, and has encountered fundamental difficulties not only in the height difference of unevenness but also in the precise control of the texture area which is important in zone texturing and the like. . Specifically, there may be a problem that irregularities (over-polishing, burrs, etc.), which occur at a fixed rate and show a height difference outside a predetermined range, and a decrease in CSS characteristics due to blurring of a texture boundary or the like. In addition, although the lithographic method has no problem in terms of unevenness level control, the complexity of the process is unavoidable, which may cause a reduction in production efficiency.

【0007】また、HDDの高記録容量化、高品質化を
達成するには、磁気記録媒体製造環境の高い清浄性が不
可欠であり、塵埃等の不純物を高いレベルで排除するこ
とは製造工程における至上課題となっている。この観点
から見て、製造工程は不純物混入が起こりにくい方式で
ある乾式であることが望ましい。
Further, in order to achieve high recording capacity and high quality of the HDD, high cleanliness of the magnetic recording medium manufacturing environment is indispensable. This is the ultimate task. From this viewpoint, it is desirable that the manufacturing process is a dry process, which is a system in which impurities are hardly mixed.

【0008】レーザ光を物質加工や測定に応用する試み
はレーザの発明当初から始まったと言えるが、昨今のレ
ーザ光源の発達は基本特性やハンドリング性の目覚まし
い向上をもたらし、高エネルギー加工から超微細加工、
精密測定まで利用技術の広い裾野を形成している。レー
ザ光によって物質を成膜し、或いは物質表面を加工する
レーザアブレーション(爆蝕)ないしレーザエッチング
は80年代から盛んに検討されている技術であり、これ
によって基板表面にテクスチャ加工を施す、所謂レーザ
テクスチャ技術には、近年、大きな関心が寄せられてい
る(例えばUSP5062021、特開昭62−209
788号公報、特開平3−272018号公報、特開平
7−182655号公報、特開平8−129749号公
報)。
[0008] It can be said that an attempt to apply laser light to material processing and measurement started from the beginning of the invention of the laser, but the recent development of laser light sources has brought about remarkable improvements in basic characteristics and handling properties. ,
It forms a wide base of application technology up to precise measurement. Laser ablation (erosion) or laser etching, which forms a material by laser light or processes a material surface, is a technology that has been actively studied since the 1980s. In recent years, there has been a great interest in texture technology (for example, US Pat. No. 5,620,221, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-209).
788, JP-A-3-272018, JP-A-7-182655, and JP-A-8-129949.

【0009】レーザテクスチャ加工は、通常、パルスレ
ーザ光を、レーザスポットサイズを数μm〜数十μmと
なるまで絞ったうえで基板表面に照射し、照射位置にご
く微小な突起を形成し、上記パルスレーザ光照射を基板
上の照射位置をずらせながら行うことで基板表面に突起
を一つずつ形成していき、基板表面の所定領域に多数の
突起を形成するものとされる。レーザテクスチャ技術
は、突起の高さ、突起同士の間隔、形成位置等の設定を
精度よく行うことができるばかりでなく、基本的に乾式
過程であるため磁気記録媒体への不純物混入を防ぐこと
が可能となるという利点がある。
In the laser texture processing, usually, a pulsed laser beam is irradiated onto the substrate surface after squeezing the laser spot size to several μm to several tens μm to form a very small projection at the irradiation position. By performing the irradiation of the pulse laser beam while shifting the irradiation position on the substrate, projections are formed one by one on the substrate surface, and a large number of projections are formed in a predetermined region of the substrate surface. Laser texture technology can not only accurately set the height of the protrusions, the interval between the protrusions, the formation position, etc., but also can prevent impurities from being mixed into the magnetic recording medium because it is basically a dry process. There is an advantage that it becomes possible.

【0010】レーザを用いてNiPメッキAl基板にテ
クスチャ加工を行う方法は、有効な手法が上記公報など
に提案されており、その中のいくつかの技法は量産段階
での実用化にも成功している。NiPメッキAl基板の
レーザテクスチャ加工には通常、YAGレーザの通常波
(波長1.06μm)、2倍波(波長0.53μm)、
あるいはArレーザからのレーザ光(波長0.33〜
0.53μm)が用いられており、例えば特開平3−2
72018号公報には、Qスイッチパルス発振のNd−
YAGレーザ(波長1.06μm、発振周波数12KH
z)を用い、直径2.5〜100μmのクレータ状突起
を突起間隔12.7〜25.4μmでNiPメッキAl
基板に形成する方法が記載されている。
As for a method of performing texture processing on a NiP-plated Al substrate using a laser, effective methods have been proposed in the above publications and the like, and some of the methods have been successfully commercialized in a mass production stage. ing. For laser texture processing of NiP-plated Al substrate, normal wave of YAG laser (wavelength 1.06 μm), second harmonic wave (wavelength 0.53 μm),
Alternatively, laser light from an Ar laser (wavelength 0.33 to
0.53 μm) is used.
No. 72018 discloses that the Nd-
YAG laser (wavelength 1.06 μm, oscillation frequency 12KH
z), crater-like projections having a diameter of 2.5 to 100 μm are formed with NiP plating Al
A method for forming on a substrate is described.

【0011】近年では、Al基板に代えて、表面硬度が
高く、耐久性に優れた基板として、ガラス基板が多く用
いられている。上記Al基板に対するテクスチャ加工に
おいて通常用いられる波長のレーザ光は、ガラスの主成
分である酸化シリコン(SiO2)に対する吸収率が低
いため、ガラス基板に対するテクスチャ加工において
は、酸化シリコンの吸収率が高い長波長、例えば5μm
以上のレーザ光、または短波長、例えば0.3μm以下
のレーザ光を用いた手法が多く提案されている。
In recent years, a glass substrate has been widely used instead of an Al substrate as a substrate having high surface hardness and excellent durability. Laser light having a wavelength generally used in texturing on the Al substrate has a low absorptivity to silicon oxide (SiO 2 ), which is a main component of glass, and therefore has a high absorptivity of silicon oxide in texturing to a glass substrate. Long wavelength, for example, 5 μm
Many methods using the above laser light or a laser light having a short wavelength, for example, 0.3 μm or less have been proposed.

【0012】例えば、特開平7−182655号公報に
は、CO2レーザを用い、長波長(10.6μm)のレ
ーザ光を用いてガラス基板表面にテクスチャ加工を行う
方法が開示されている。また、特開平6−295433
号公報には、短波長(0.248μm)の紫外線レーザ
光をガラス基板などの非金属基板に照射し、アブレーシ
ョンにより上記非金属基板の原子、分子の堆積物からな
る凸部を形成し、テクスチャ処理を行う方法が開示され
ている。
For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-182655 discloses a method of performing texture processing on a glass substrate surface using a CO 2 laser and a laser beam having a long wavelength (10.6 μm). Also, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-295433
In the publication, a non-metallic substrate such as a glass substrate is irradiated with an ultraviolet laser beam having a short wavelength (0.248 μm), and a convex portion composed of a deposit of atoms and molecules of the non-metallic substrate is formed by ablation. A method for performing the processing is disclosed.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記テ
クスチャ技術には、次に示すような問題があった。上記
レーザテクスチャ技術は、上述のように、通常、パルス
レーザ光照射を基板上の照射位置をずらせながら行うこ
とで基板表面に突起を一つずつ形成していき、基板表面
の所定領域に多数の突起を形成するものとされる。この
ため、操作に長時間を要し、生産効率が低い問題があっ
た。
However, the above-mentioned texture technique has the following problems. As described above, the laser texture technique generally performs pulse laser beam irradiation while shifting the irradiation position on the substrate, thereby forming projections one by one on the substrate surface, and forming a large number of protrusions on a predetermined region of the substrate surface. A projection is formed. For this reason, there has been a problem that the operation requires a long time and the production efficiency is low.

【0014】また、一般に、テクスチャ加工によって形
成される突起は、その直径が大きくなると、CSS時に
ヘッドが突起に接触した際にヘッドに加わる衝撃が大き
くなり磁気記録媒体のCSS特性を低下させる傾向があ
る。このため、突起の直径を一定値以下に抑えることは
磁気記録媒体のCSS特性を高める上で重要である。レ
ーザテクスチャ加工において突起の直径を小さくするに
は、レーザスポットサイズを小さくする方法が有効であ
る。レーザスポットサイズは、近似的に(レーザスポッ
トサイズ)=4×(焦点距離)×(波長)/(π×入射
ビーム径)と定義される。したがって、レーザスポット
サイズを小さくするためには、焦点距離を小さく、波長
を短く、入射ビーム径を大きくすればよい。
In general, when the diameter of a projection formed by texture processing increases, the impact applied to the head when the head comes into contact with the projection during CSS tends to increase, and the CSS characteristics of the magnetic recording medium tend to deteriorate. is there. For this reason, it is important to keep the diameter of the projections below a certain value in order to enhance the CSS characteristics of the magnetic recording medium. To reduce the diameter of the protrusion in laser texturing, a method of reducing the laser spot size is effective. The laser spot size is approximately defined as (laser spot size) = 4 × (focal length) × (wavelength) / (π × incident beam diameter). Therefore, in order to reduce the laser spot size, the focal length, the wavelength, and the diameter of the incident beam may be increased.

【0015】しかしながら、ガラス基板にレーザテクス
チャ加工を行う際に長波長のレーザ光を用いる方法にお
いて、レーザスポットサイズを一定の値以下に小さくす
るのは困難である場合が多い。例えば上述の特開平7−
182655号公報に記載されたCO2レーザを用いた
方法では、レーザ光の波長が大きいため、レーザスポッ
トサイズを50μm以下とすることは難しく、形成可能
な突起の直径には一定の下限値がある。上記公報では、
形成される突起の直径はレーザスポットサイズより小さ
くなると報告しているが、レーザスポットサイズを可能
な範囲で最小としても突起の直径を10μm以下にする
ことは極めて難しい。これは、突起の直径が小さくなる
ように焦点距離、入射ビーム径等を調整していくと、上
記直径の2乗に反比例して焦点深度が浅くなってしまう
ためである。
However, it is often difficult to reduce the laser spot size to a certain value or less in a method using a long-wavelength laser beam when performing laser texturing on a glass substrate. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No.
In the method using a CO 2 laser described in Japanese Patent No. 182655, it is difficult to reduce the laser spot size to 50 μm or less because the wavelength of the laser light is large, and there is a certain lower limit to the diameter of the protrusion that can be formed. . In the above publication,
Although it is reported that the diameter of the formed protrusion is smaller than the laser spot size, it is extremely difficult to reduce the diameter of the protrusion to 10 μm or less even if the laser spot size is minimized as much as possible. This is because, if the focal length, the incident beam diameter, and the like are adjusted so that the diameter of the projection becomes smaller, the depth of focus becomes shallower in inverse proportion to the square of the diameter.

【0016】また、短波長のレーザ光を用いる方法、例
えば上述の特開平6−295433号公報に記載された
紫外線レーザを用いた方法では、レーザ光が短波長であ
るためレーザスポットサイズを小さくするのが容易であ
るものの、繰り返し周波数を高めると出力が変動しやす
い、すなわち繰り返し性が低下する問題があり、形成さ
れる突起の高さにばらつきが生じやすく、CSS特性に
優れた磁気記録媒体を効率よく製造することが難しい問
題があった。このように、ガラス基板にレーザテクスチ
ャ加工を行う際には、突起の直径をある程度以下に抑え
るとともに突起高さを均一なものとし、CSS特性に優
れた磁気記録媒体を効率よく製造するのは困難であっ
た。本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、CS
S特性に優れた磁気記録媒体、およびこの磁気記録媒体
を効率よく製造することが可能な製造方法を提供するこ
とを目的とする。
In a method using a laser beam having a short wavelength, for example, a method using an ultraviolet laser disclosed in the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-295433, the laser spot size is reduced because the laser beam has a short wavelength. However, when the repetition frequency is increased, the output tends to fluctuate, that is, there is a problem that the repeatability is reduced, and the height of the formed projections is likely to vary, and a magnetic recording medium having excellent CSS characteristics is obtained. There was a problem that it was difficult to manufacture efficiently. As described above, when performing the laser texturing on the glass substrate, it is difficult to efficiently manufacture a magnetic recording medium having excellent CSS characteristics while keeping the diameter of the projections to a certain level or less and making the projection height uniform. Met. The present invention has been made in view of the above circumstances, and
It is an object of the present invention to provide a magnetic recording medium having excellent S characteristics and a manufacturing method capable of efficiently manufacturing the magnetic recording medium.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】本発明の磁気記録媒体の
製造方法は、多数の結晶粒部が非晶質部により互いに隔
てられた構造を有する結晶化ガラス基板表面の所定範囲
にレーザ光を照射することにより、レーザ光照射範囲の
基板表面に、結晶粒部または非晶質部が基板表面から突
出した複数の突起状構造体を形成することを特徴とする
ものである。上記レーザ光は、エネルギー密度が均一化
されたものとするのが好ましく、その波長は200〜6
00nmまたは5000〜12000nmとするのが好
ましい。また、本発明の磁気記録媒体は、多数の結晶粒
部が非晶質部により互いに隔てられた構造を有する結晶
化ガラス基板表面に、結晶粒部または非晶質部が基板表
面から突出した突起状構造体を形成したことを特徴とす
るものである。上記結晶粒部の粒径(平均粒径)は0.
1〜5.0μmとするのが好ましい。また結晶粒部の基
板単位面積当たりの個数は1000〜10000000
個/mm2とするのが好適である。
According to a method of manufacturing a magnetic recording medium of the present invention, a laser beam is applied to a predetermined area of a surface of a crystallized glass substrate having a structure in which a number of crystal grains are separated from each other by an amorphous portion. Irradiation forms a plurality of protruding structures in which crystal grain portions or amorphous portions protrude from the substrate surface on the substrate surface in the laser light irradiation range. It is preferable that the laser beam has a uniform energy density, and has a wavelength of 200 to 6 nm.
It is preferably set to 00 nm or 5000 to 12000 nm. Further, the magnetic recording medium of the present invention has a structure in which a large number of crystal grains are separated from each other by an amorphous portion. The present invention is characterized in that a shape-like structure is formed. The grain size (average grain size) of the crystal grain portion is 0.1.
It is preferable that the thickness be 1 to 5.0 μm. The number of crystal grains per unit area of the substrate is 1,000 to 100,000,000.
It is preferable to set the number of pieces / mm 2 .

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明の磁気記録媒体の製
造方法の一実施形態を図1および図2を参照して説明す
る。図1は、本発明の磁気記録媒体の製造方法の一実施
形態を実施するために用いられる装置を示すもので、こ
の装置は、レーザ光源11と、レーザ光源11から発せ
られたレーザ光のエネルギー密度を均一化するカライド
スコープ12と、テクスチャ処理を施すべき基板Dを保
持する基板保持装置13とを備えて構成されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of a method for manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention will be described below with reference to FIGS. FIG. 1 shows an apparatus used for carrying out an embodiment of a method for manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention. This apparatus comprises a laser light source 11 and the energy of laser light emitted from the laser light source 11. It comprises a kaleidoscope 12 for making the density uniform, and a substrate holding device 13 for holding a substrate D to be subjected to texture processing.

【0019】ここで用いるレーザ光源11としては、波
長が200〜600nm、あるいは5000〜1200
0nmのレーザ光を照射することが可能なレーザを用い
るのが好適である。具体例としては、CO2レーザ、C
Oレーザ、YAGレーザ等が使用可能である。
The laser light source 11 used here has a wavelength of 200 to 600 nm or 5000 to 1200.
It is preferable to use a laser that can emit a laser beam of 0 nm. Specific examples include CO 2 laser, C
An O laser, a YAG laser, or the like can be used.

【0020】レーザ光の好適な波長範囲を示した理由は
次に示すとおりである。200nm未満の波長のレーザ
光は、ガラスに対する吸収率は良好であるものの、波長
200nm未満のレーザ光を発するレーザには安定性に
劣るものが多く、安定的に磁気記録媒体を製造すること
が難しくなるため好ましくない。600nmを越え、5
000nm未満の波長のレーザ光を用いた場合には、ガ
ラスに対する吸収率が低く、十分な大きさの突起を形成
することができず、得られる磁気記録媒体のCSS特性
が低下する。
The reason why the preferable wavelength range of the laser light is indicated is as follows. Although laser light having a wavelength of less than 200 nm has a good absorptivity to glass, lasers emitting laser light having a wavelength of less than 200 nm often have poor stability, and it is difficult to stably produce a magnetic recording medium. Is not preferred. Over 600 nm, 5
When a laser beam having a wavelength of less than 000 nm is used, the absorptivity to glass is low, protrusions of a sufficient size cannot be formed, and the CSS characteristics of the obtained magnetic recording medium deteriorate.

【0021】12000nmを越える波長のレーザ光
は、ガラスに対する吸収率は良好であるものの、波長1
2000nmを越える波長のレーザ光を発するレーザに
は、極低温(15〜90K)でしか動作しない鉛化合物
系半導体レーザなどの安定性に劣るものが多く、安定的
に磁気記録媒体を製造することが難しくなるため好まし
くない。
A laser beam having a wavelength exceeding 12000 nm has a good absorptance with respect to glass but has a wavelength of 12000 nm.
Many lasers emitting laser light having a wavelength exceeding 2,000 nm are inferior in stability, such as lead compound semiconductor lasers that operate only at extremely low temperatures (15 to 90 K), so that a magnetic recording medium can be stably manufactured. It is not preferable because it becomes difficult.

【0022】カライドスコープ12は、レーザ光をエネ
ルギー密度が均一な平行光とするための光学装置であ
り、図2に示すように、筒状のスコープ本体20内に、
入射光を多重反射させ平行化するカライドミラー21
と、カライドミラー21からの出射光の方向を変える反
射ミラー22とを収容し、本体20の外周に反射ミラー
22からの反射光の光路を整えるレンズ23を設けて構
成されたものである。基板保持装置13は、テクスチャ
処理を施すべき基板を周方向に所定の回転速度で回転さ
せることができるように構成されている。
The kaleidoscope 12 is an optical device for converting laser light into parallel light having a uniform energy density. As shown in FIG.
Callide mirror 21 for multiple reflection and parallelization of incident light
And a reflection mirror 22 for changing the direction of the light emitted from the callide mirror 21, and a lens 23 for adjusting the optical path of the light reflected from the reflection mirror 22 is provided on the outer periphery of the main body 20. The substrate holding device 13 is configured to be able to rotate a substrate to be subjected to texture processing at a predetermined rotational speed in a circumferential direction.

【0023】次に、この装置を用いた場合を例として、
本発明の磁気記録媒体の製造方法の一実施形態を説明す
る。まず、基板Dを基板保持装置13に保持させ、所定
の回転速度、例えば25〜1000rpmで回転させ
る。
Next, taking the case where this device is used as an example,
One embodiment of a method for manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention will be described. First, the substrate D is held by the substrate holding device 13 and rotated at a predetermined rotation speed, for example, 25 to 1000 rpm.

【0024】基板Dとしては、リチウムシリケイト結晶
化ガラスなどの結晶化ガラス基板が用いられる。この結
晶化ガラス基板として好適な市販品としては、オハラ社
製のTS−10などがある。結晶化ガラスは、ガラスを
加熱することによってその内部に結晶を析出させた多結
晶体であり、多数の結晶粒部が、非晶質部によって互い
に隔てられた構造を有するものである。ここで用いる結
晶化ガラス基板Dとしては、結晶化時の加熱温度等の製
造条件を調節することによって、結晶粒部の粒径、単位
基板面積当たりの個数等を適宜設定したものを用いるこ
とが好ましい。上記結晶粒部の粒径(平均粒径)は0.
1〜5.0μmとするのが好ましい。また結晶粒部の基
板単位面積当たりの個数は1000〜10000000
個/mm2とするのが好適である。
As the substrate D, a crystallized glass substrate such as a lithium silicate crystallized glass is used. A commercially available product suitable as the crystallized glass substrate is TS-10 manufactured by Ohara Corporation. Crystallized glass is a polycrystal in which crystals are precipitated inside the glass by heating the glass, and has a structure in which many crystal grain parts are separated from each other by amorphous parts. As the crystallized glass substrate D used here, it is possible to use a substrate in which the grain size of the crystal grain portion, the number per unit substrate area, and the like are appropriately set by adjusting the manufacturing conditions such as the heating temperature during crystallization. preferable. The grain size (average grain size) of the crystal grain portion is 0.1.
It is preferable that the thickness be 1 to 5.0 μm. The number of crystal grains per unit area of the substrate is 1,000 to 100,000,000.
It is preferable to set the number of pieces / mm 2 .

【0025】上記結晶粒部の粒径が0.1μm未満であ
ると、磁気記録媒体表面の凹凸の高低差が不足し、CS
S時にヘッドと媒体との間の接触面積が増加し、磁気記
録媒体への磁気ヘッド吸着が起きやすくなる。また粒径
が5.0μmを越えると、磁気記録媒体の最大表面粗さ
が大きくなりヘッドクラッシュが起こりやすくなる。ま
た、上記結晶粒部の単位面積当たり個数が1000個/
mm2未満または10000000個/mm2を越える場
合には、磁気記録媒体表面の凹凸の高低差が不足し磁気
記録媒体に対する磁気ヘッド吸着が起きやすくなる。
When the grain size of the crystal grain portion is less than 0.1 μm, the height difference between the irregularities on the surface of the magnetic recording medium is insufficient, and the CS
In S, the contact area between the head and the medium increases, and the magnetic head is more likely to be attracted to the magnetic recording medium. On the other hand, when the particle size exceeds 5.0 μm, the maximum surface roughness of the magnetic recording medium becomes large, and head crash is likely to occur. Further, the number of the crystal grains per unit area is 1000 /
If it is less than mm 2 or more than 100,000,000 pieces / mm 2 , the height difference of the unevenness on the surface of the magnetic recording medium is insufficient, and the magnetic head is likely to be attracted to the magnetic recording medium.

【0026】次いでレーザ光源11からのレーザ光をカ
ライドスコープ12に入射させる。上記レーザ光とし
て、波長300〜600nmのレーザ光、例えばYAG
レーザの第二高調波(532nm)を用いる場合には、
テクスチャ処理を施すべき基板Dに予めCr、Co、M
n等を含む顔料を適当量添加することによりこのガラス
基板を着色し、レーザ光吸収率を高めておくことが好ま
しい。
Next, the laser light from the laser light source 11 is incident on the kaleidoscope 12. As the laser light, a laser light having a wavelength of 300 to 600 nm, for example, YAG
When using the second harmonic (532 nm) of the laser,
Cr, Co, M
It is preferable that the glass substrate be colored by adding an appropriate amount of a pigment containing n or the like to increase the laser light absorption.

【0027】カライドスコープ12に入射したレーザ光
は、入射口21aからカライドミラー21内に入り、そ
の内壁で繰り返し反射しつつ出射口21bに向けて進
む。この際、レーザ光はカライドミラー21内で多重反
射しつつ、エネルギー密度が均一な平行光となって出射
口21bから出射する。
The laser light entering the kaleidoscope 12 enters the kaleidoscope 21 from the entrance 21a, and travels toward the exit 21b while being repeatedly reflected on the inner wall thereof. At this time, the laser light is emitted from the emission port 21b as parallel light having a uniform energy density while being reflected multiple times in the callide mirror 21.

【0028】カライドミラー21から出射した出射光
は、反射ミラー22で反射し、この反射光はレンズ23
を通過し、基板保持装置13に保持された基板Dに向け
て進む。ここで、レンズ23を経たレーザ光は、ある範
囲、例えば2〜20mm四方の範囲の広がりをもった平
行光となる。
Light emitted from the callide mirror 21 is reflected by a reflection mirror 22, and the reflected light is reflected by a lens 23.
And proceeds toward the substrate D held by the substrate holding device 13. Here, the laser light passing through the lens 23 becomes parallel light having a certain range, for example, a range of 2 to 20 mm square.

【0029】上記平行化されたレーザ光は、基板保持装
置13に保持された基板D表面の所定範囲、例えば2〜
20mm四方の範囲に照射される。レーザ光が基板Dに
照射されると、基板D表面付近のごく浅い領域にエネル
ギーが与えられ、この部分の結晶粒部と非晶質部の温度
が上昇する。またこの際、このレーザ光はエネルギー密
度が均一化されたものであるため、レーザ光照射範囲内
の基板表面に偏り無くエネルギーが与えられる。
The collimated laser beam is applied to a predetermined area on the surface of the substrate D held by the substrate holding device 13, for example, from 2 to
Irradiation is performed on a 20 mm square area. When the substrate D is irradiated with the laser beam, energy is applied to a very shallow region near the surface of the substrate D, and the temperature of the crystal grain portion and the amorphous portion in this portion increases. At this time, since the laser light has a uniform energy density, energy is imparted to the substrate surface within the laser light irradiation range without bias.

【0030】一般に、ガラスは、温度が上昇すると、軟
化すると共に熱膨張によりその体積が増大し、この状態
から急冷すると、体積が減少することなくそのまま硬化
する性質がある。また一般に、結晶化ガラス等の多結晶
体では、結晶粒部と非晶質部とは熱膨張率などの物性が
異なることが多いことが知られている。
In general, glass has the property of softening as the temperature rises and increasing in volume due to thermal expansion, and hardening as it cools from this state without reducing the volume. In general, it is known that, in a polycrystalline material such as crystallized glass, physical properties such as a coefficient of thermal expansion often differ between a crystal grain portion and an amorphous portion.

【0031】上記基板D中の結晶粒部と非晶質部の温度
が上昇すると、これらはそれぞれ軟化すると共に熱膨張
等によりその体積が増大する。この際、結晶粒部と非晶
質部のうち体積変化率の大きいものはより大きく基板表
面から突出する。レーザ光照射により温度上昇が起きる
のは基板D表面付近のごく浅い領域のみであるため、レ
ーザ光照射終了後の突出部分は外気または熱拡散によっ
て直ちに冷却され、上記結晶粒部および非晶質部はその
体積が減少することなく硬化し、これにより基板D表面
には複数の突起が形成される。
When the temperature of the crystal grain portion and the amorphous portion in the substrate D rises, they soften and increase in volume due to thermal expansion and the like. At this time, of the crystal grain portion and the amorphous portion, those having a large volume change rate protrude more from the substrate surface. Since the temperature rise occurs only in a very shallow region near the surface of the substrate D due to the laser light irradiation, the protruding portion after the end of the laser light irradiation is immediately cooled by the outside air or thermal diffusion, and the crystal grain portion and the amorphous portion Is cured without reducing its volume, whereby a plurality of protrusions are formed on the surface of the substrate D.

【0032】基板Dの回転によって上記レーザ光は基板
Dの周方向に偏り無く照射され、照射範囲の基板表面に
突起が形成され、テクスチャ処理が施された基板を得
る。なお、上記レーザ光照射の際には、図示せぬマスク
によってレーザ光のビーム形状を、周方向を基板周方向
に一致させた扇形とし、基板面積当たりのレーザ光照射
量が基板径方向に偏ることがないようにするのが好まし
い。また、上記レーザ光は、連続発振されたものであっ
てもよいし、パルス化されたものであってもよい。
The rotation of the substrate D irradiates the laser beam without any deviation in the circumferential direction of the substrate D, and a projection is formed on the surface of the substrate in the irradiation range to obtain a textured substrate. At the time of the laser beam irradiation, the laser beam is shaped into a fan shape with the circumferential direction coinciding with the substrate circumferential direction using a mask (not shown), and the laser beam irradiation amount per substrate area is biased in the substrate radial direction. It is preferred that this does not occur. Further, the laser light may be a continuously oscillated laser beam or a pulsed laser beam.

【0033】上記のようにしてテクスチャ処理を施した
基板上に、Cr、Cr/Ti合金などからなる非磁性下
地層、Co/Cr合金、Co/Cr/Ta合金などから
なる磁性層、カーボンなどからなる保護層をスパッタリ
ング、真空蒸着、イオンプレーティング、メッキなどの
手法により形成する。また保護層上に、パーフルオロポ
リエーテル(PFPE)などからなる潤滑層を設けても
よい。このようにして得られた磁気記録媒体は、基板に
テクスチャ処理が施されたものであるため、その表面に
凹凸を有するものとなる。
A non-magnetic underlayer made of Cr, Cr / Ti alloy, a magnetic layer made of Co / Cr alloy, Co / Cr / Ta alloy, carbon, etc. Is formed by a technique such as sputtering, vacuum deposition, ion plating, and plating. Further, a lubricating layer made of perfluoropolyether (PFPE) or the like may be provided on the protective layer. Since the magnetic recording medium obtained in this way has been subjected to texture processing on the substrate, it has irregularities on its surface.

【0034】図3に、上記方法によって製造された磁気
記録媒体の一例を示す。ここに示す磁気記録媒体は、結
晶粒部1が非晶質部2により互いに隔てられた構造を有
する結晶化ガラス基板Dの表面に、表面付近の結晶粒部
1が基板D表面から突出して突起3が形成されたもので
ある。なお、この例の磁気記録媒体は、結晶粒部1が基
板D表面から突出することにより突起3が形成されたも
のであるが、逆に、非晶質部2が基板D表面から突出す
ることにより突起が形成されていてもよい。
FIG. 3 shows an example of a magnetic recording medium manufactured by the above method. In the magnetic recording medium shown here, a crystal grain portion 1 near a surface protrudes from the surface of a substrate D on a surface of a crystallized glass substrate D having a structure in which crystal grain portions 1 are separated from each other by an amorphous portion 2. No. 3 is formed. In the magnetic recording medium of this example, the projections 3 are formed by the crystal grain portions 1 protruding from the surface of the substrate D. Conversely, the amorphous portions 2 protrude from the surface of the substrate D. The protrusion may be formed by.

【0035】上記製造方法にあっては、ガラス基板D表
面の所定範囲にレーザ光を照射することにより、レーザ
光照射範囲内に、同時に複数の突起が形成される。これ
ら複数の突起は一定条件下で形成されたものとなるた
め、基板表面に突起を一つずつ形成する従来の方法によ
り形成されたものに比べ、レーザ光出力の変動に起因す
る突起大きさ、形状のばらつきが生じることが無く、均
一な大きさ、形状を有するものとなる。また上記方法に
あっては、レーザ光照射範囲内に同時に複数の突起を形
成するため、短時間のうちに基板にテクスチャ加工を行
うことができる。さらに、結晶化ガラス基板の製造条
件、例えば結晶化時の加熱温度等の設定により結晶粒部
の粒径、単位基板面積当たり個数などを調節すること
で、上記突起の形状、大きさ、単位基板面積当たりの個
数等を任意に設定することができる。従って、均一な高
さを有しかつ直径が小さい突起を磁気記録媒体表面に形
成し、CSS特性に優れた磁気記録媒体を製造すること
を可能とすると共に、生産性向上、製造コスト削減を図
ることができる。
In the above manufacturing method, a plurality of projections are simultaneously formed in the laser beam irradiation range by irradiating a predetermined range on the surface of the glass substrate D with the laser beam. Since the plurality of protrusions are formed under certain conditions, the size of the protrusions due to the fluctuation of the laser light output is smaller than those formed by the conventional method of forming the protrusions one by one on the substrate surface. It has a uniform size and shape without any variation in shape. Further, in the above method, since a plurality of protrusions are simultaneously formed within the laser beam irradiation range, the substrate can be textured in a short time. Further, by adjusting the production conditions of the crystallized glass substrate, for example, the setting of the heating temperature during crystallization, etc., the particle size of the crystal grain portion, the number per unit substrate area, etc., the shape, size, unit substrate The number per area and the like can be arbitrarily set. Therefore, protrusions having a uniform height and a small diameter are formed on the surface of the magnetic recording medium, thereby enabling a magnetic recording medium having excellent CSS characteristics to be manufactured, while improving productivity and reducing manufacturing costs. be able to.

【0036】また、レーザ光を、エネルギー密度が均一
なものとすることによって、レーザ光照射範囲内で基板
に与えられるエネルギーを均一とすることができる。こ
のため、照射範囲内で形成される突起高さのいっそうの
均一化を促すことができる。従って、磁気記録媒体のC
SS特性をさらに向上させることが可能となる。
Further, by making the energy density of the laser beam uniform, the energy given to the substrate within the laser beam irradiation range can be made uniform. For this reason, the height of the projections formed in the irradiation range can be further uniformed. Therefore, C of the magnetic recording medium
The SS characteristics can be further improved.

【0037】[0037]

【実施例】【Example】

(実施例1)図1に示す装置を用いて磁気記録媒体を製
造した。レーザ光源11としてCO2レーザを用い、繰
り返し周波数5kHz、パルス幅30μsec、波長1
0.6μmのパルスレーザ光をカライドスコープ12を
通過させエネルギー密度を均一化した上で、基板表面に
照射した。
Example 1 A magnetic recording medium was manufactured using the apparatus shown in FIG. Using a CO 2 laser as the laser light source 11, a repetition frequency of 5 kHz, a pulse width of 30 μsec, and a wavelength of 1
A 0.6 μm pulse laser beam was passed through the kaleidoscope 12 to make the energy density uniform, and then irradiated onto the substrate surface.

【0038】この基板としては、リチウムシリケイト結
晶化ガラス(オハラ社製、TS−10、成分比:酸化珪
素75%、酸化リチウム10%、酸化アルミニウム4
%、酸化マグネシウム2%、五酸化燐2%)製であり、
結晶粒部の粒径(平均値)が0.5μm、その基板単位
面積当たりの個数が1000000個/mm2、平均表
面粗さRaが7Å、最大表面粗さRmaxが80Åであ
る直径65mmのものを用いた。レーザ光照射時の基板
回転速度は500rpm、照射時間は2秒とした。基板
上でのレーザパワーは40Wであった。レーザ光照射位
置は、基板上の半径12〜16mmの範囲とした。なお
レーザ光は、隣接する照射位置同士に重なりが生じない
ように、ビーム形状を扇形として照射を行った。
As this substrate, crystallized lithium silicate glass (TS-10, manufactured by OHARA CORPORATION, component ratio: 75% silicon oxide, 10% lithium oxide, 4% aluminum oxide)
%, Magnesium oxide 2%, phosphorus pentoxide 2%)
Crystal grains having a diameter (average value) of 0.5 μm, a number per substrate unit area of 1,000,000 / mm 2 , an average surface roughness Ra of 7 °, and a maximum surface roughness Rmax of 80 ° with a diameter of 65 mm. Was used. The substrate rotation speed during laser light irradiation was 500 rpm, and the irradiation time was 2 seconds. The laser power on the substrate was 40W. The laser light irradiation position was in a range of a radius of 12 to 16 mm on the substrate. The laser beam was irradiated with a fan-shaped beam so that adjacent irradiation positions did not overlap.

【0039】上記操作の結果、基板表面のレーザ光照射
範囲に、直径0.5〜1.0μmの突起が形成され、R
a18Å、Rmax250Åとなった基板を得た。
As a result of the above operation, a projection having a diameter of 0.5 to 1.0 μm was formed in the laser beam irradiation range on the substrate surface.
A substrate having a18 ° and Rmax of 250 ° was obtained.

【0040】上記操作によって得た基板上に、Crから
なる厚さ100nmの下地層、CoCrTa合金からな
る厚さ20nmの磁性層、カーボンからなる厚さ20n
mの保護層を順次スパッタリングによって設け、その上
にPFPE系材料からなる厚さ潤滑層を設け、磁気記録
媒体を得た。得られた磁気記録媒体について、1000
0回のCSSを行った後のフリクション値をCSSテス
ター(光洋社製、KT501)を用いて測定するCSS
特性試験を実施した。
On the substrate obtained by the above operation, a 100 nm thick underlayer made of Cr, a 20 nm thick magnetic layer made of a CoCrTa alloy, and a 20 nm thick carbon
m protective layers were sequentially provided by sputtering, and a lubricating layer having a thickness of PFPE material was provided thereon to obtain a magnetic recording medium. For the obtained magnetic recording medium, 1000
CSS for measuring the friction value after performing 0 times of CSS using a CSS tester (KT501, manufactured by Koyo Co., Ltd.)
A characteristic test was performed.

【0041】(実施例2)レーザ光源11としてCO2
レーザを用いた図1に示す装置を用い、繰り返し周波数
50kHz、パルス幅10μsecの条件で、実施例1
で用いたものと同様の基板上にレーザ光照射を行った。
レーザ光照射位置は実施例1と同様とした。レーザ光照
射時の基板回転速度は1000rpm、照射時間は5秒
とした。基板上でのレーザパワーは20Wであった。上
記操作の結果、レーザ光照射範囲に、直径0.5〜1.
0μmの突起が形成され、Ra16Å、Rmax200
Åとなった基板を得た。この基板上に、実施例1と同様
にして下地層、磁性層、保護層、および潤滑層を設け、
磁気記録媒体を得た。この磁気記録媒体を上記CSS特
性試験に供した。
Example 2 CO 2 was used as the laser light source 11.
Example 1 was performed using a laser shown in FIG. 1 under the conditions of a repetition frequency of 50 kHz and a pulse width of 10 μsec.
Laser light irradiation was performed on the same substrate as that used in the above.
The laser beam irradiation position was the same as in Example 1. The substrate rotation speed at the time of laser beam irradiation was 1000 rpm, and the irradiation time was 5 seconds. The laser power on the substrate was 20W. As a result of the above operation, the laser beam irradiation range is set to 0.5 to 1.
A projection of 0 μm is formed, and Ra16Å, Rmax200
A substrate that became Å was obtained. On this substrate, an underlayer, a magnetic layer, a protective layer, and a lubricating layer were provided in the same manner as in Example 1.
A magnetic recording medium was obtained. This magnetic recording medium was subjected to the CSS characteristic test.

【0042】(実施例3)レーザ光源11としてCO2
レーザを用いた図1に示す装置を用い、繰り返し周波数
5kHz、パルス幅30μsecの条件で、実施例1で
用いたものと同様の基板上にレーザ光照射を行った。レ
ーザ光照射位置は実施例1と同様とした。レーザ光照射
時の基板回転速度は500rpm、照射時間は5秒とし
た。基板上でのレーザパワーは10Wであった。上記操
作の結果、レーザ光照射範囲に、直径0.5〜1.0μ
mの突起が形成され、Ra16Å、Rmax220Åと
なった基板を得た。この基板上に、実施例1と同様にし
て下地層、磁性層、保護層、および潤滑層を設け、磁気
記録媒体を得た。この磁気記録媒体を上記CSS特性試
験に供した。
(Embodiment 3) As the laser light source 11, CO 2
Using the apparatus shown in FIG. 1 using a laser, laser light irradiation was performed on the same substrate as that used in Example 1 under the conditions of a repetition frequency of 5 kHz and a pulse width of 30 μsec. The laser beam irradiation position was the same as in Example 1. The substrate rotation speed during laser light irradiation was 500 rpm, and the irradiation time was 5 seconds. The laser power on the substrate was 10W. As a result of the above operation, the diameter of the laser beam irradiation range is 0.5 to 1.0 μm.
m was formed, and a substrate having Ra16 ° and Rmax220 ° was obtained. An underlayer, a magnetic layer, a protective layer, and a lubricating layer were provided on this substrate in the same manner as in Example 1 to obtain a magnetic recording medium. This magnetic recording medium was subjected to the CSS characteristic test.

【0043】(実施例4)レーザ光源11としてYAG
レーザを用いた図1に示す装置を用い、繰り返し周波数
50kHz、パルス幅6nsecの条件で、基板上にレ
ーザ光照射を行った。レーザ光照射位置は実施例1と同
様とした。この基板は、結晶粒部の粒径(平均値)が
0.5μm、その基板単位面積当たりの個数が1000
000個/mm2、平均表面粗さがRa8Å、最大表面
粗さがRmax100Åであるものとした。レーザ光照
射時の基板回転速度は60rpm、照射時間は5秒とし
た。基板上でのレーザパワーは20Wであった。上記操
作の結果、レーザ光照射範囲に、直径0.5〜1.0μ
mの突起が形成され、Ra20Å、Rmax270Åと
なった基板を得た。この基板上に、実施例1と同様にし
て下地層、磁性層、保護層、および潤滑層を設け、磁気
記録媒体を得た。この磁気記録媒体を上記CSS特性試
験に供した。
(Embodiment 4) As the laser light source 11, YAG
Using the apparatus shown in FIG. 1 using a laser, the substrate was irradiated with laser light under the conditions of a repetition frequency of 50 kHz and a pulse width of 6 nsec. The laser beam irradiation position was the same as in Example 1. In this substrate, the grain size (average value) of the crystal grain portion is 0.5 μm, and the number per substrate unit area is 1000 μm.
000 pieces / mm 2 , the average surface roughness was Ra8Å, and the maximum surface roughness was Rmax100Å. The substrate rotation speed during laser light irradiation was 60 rpm, and the irradiation time was 5 seconds. The laser power on the substrate was 20W. As a result of the above operation, the diameter of the laser beam irradiation range is 0.5 to 1.0 μm.
Thus, a substrate having m projections formed thereon and having Ra20 ° and Rmax270 ° was obtained. An underlayer, a magnetic layer, a protective layer, and a lubricating layer were provided on this substrate in the same manner as in Example 1 to obtain a magnetic recording medium. This magnetic recording medium was subjected to the CSS characteristic test.

【0044】(比較例1)レーザ光源としてCO2レー
ザを用い、繰り返し周波数10kHz、パルス幅10μ
secの条件で基板上にレーザ光照射を行い、高さ20
0Å、直径10μmの突起が形成された基板を得た。こ
の際、入射ビーム径10mmのレーザ光を焦点距離6
3.5mmのレンズを通して基板表面に照射し照射位置
に突起を1つずつ形成した。またレーザ光照射時の基板
回転速度は250rpmとし、基板を径方向に速度0.
2mm/sで移動させつつ、20秒間のレーザ光照射を
行うようにした。基板上でのレーザパワーは0.5Wで
あった。レーザ光照射範囲は、実施例1と同様とした。
ここで用いた基板は、アルミナシリケイト製非晶質ガラ
スからなる直径65mmのものとした。上記操作により
得られた基板上に、実施例1と同様にして下地層、磁性
層、保護層、および潤滑層を設け、磁気記録媒体を得
た。この磁気記録媒体を上記CSS特性試験に供した。
Comparative Example 1 A CO 2 laser was used as a laser light source, a repetition frequency was 10 kHz, and a pulse width was 10 μm.
The substrate is irradiated with laser light under the conditions of sec.
A substrate having a projection of 0 ° and a diameter of 10 μm was obtained. At this time, a laser beam having an incident beam diameter of
The surface of the substrate was irradiated through a 3.5 mm lens to form projections one by one at the irradiation position. The substrate rotation speed during laser beam irradiation was set at 250 rpm, and the substrate was rotated at a speed of 0.
Laser light irradiation was performed for 20 seconds while moving at 2 mm / s. The laser power on the substrate was 0.5W. The laser light irradiation range was the same as in Example 1.
The substrate used here was 65 mm in diameter made of amorphous glass made of alumina silicate. An underlayer, a magnetic layer, a protective layer, and a lubricating layer were provided on the substrate obtained by the above operation in the same manner as in Example 1 to obtain a magnetic recording medium. This magnetic recording medium was subjected to the CSS characteristic test.

【0045】(比較例2)レーザ光源としてYAG第二
高周波レーザを用い、繰り返し周波数40kHz、パル
ス幅120nsecの条件で基板上にレーザ光照射を行
い、高さ200Å、直径10μmの突起が形成された基
板を得た。この際、入射ビーム径10mmのレーザ光を
焦点距離40mmのレンズを通して基板表面に照射し照
射位置に突起を1つずつ形成した。またレーザ光照射時
の基板回転速度は250rpmとし、基板を径方向に速
度0.8mm/sで移動させつつ、4秒間のレーザ光照
射を行うようにした。基板上でのレーザパワーは0.3
Wであった。ここで用いた基板は、比較例1と同様のも
のとした。上記操作により得られた基板上に、実施例1
と同様にして下地層、磁性層、保護層、および潤滑層を
設け、磁気記録媒体を得た。この磁気記録媒体を上記C
SS特性試験に供した。上記実施例1〜4、および比較
例1、2の磁気記録媒体をCSS特性試験に供した結果
を表1に示す。
(Comparative Example 2) Using a YAG second high frequency laser as a laser light source, the substrate was irradiated with a laser beam under the conditions of a repetition frequency of 40 kHz and a pulse width of 120 nsec to form a projection having a height of 200 ° and a diameter of 10 μm. A substrate was obtained. At this time, the surface of the substrate was irradiated with a laser beam having an incident beam diameter of 10 mm through a lens having a focal length of 40 mm to form projections one by one at the irradiation position. In addition, the rotation speed of the substrate during laser light irradiation was set to 250 rpm, and the laser light irradiation was performed for 4 seconds while moving the substrate in the radial direction at a speed of 0.8 mm / s. Laser power on substrate is 0.3
W. The substrate used here was the same as in Comparative Example 1. Example 1 was placed on the substrate obtained by the above operation.
An underlayer, a magnetic layer, a protective layer, and a lubricating layer were provided in the same manner as described above to obtain a magnetic recording medium. This magnetic recording medium is
It was subjected to SS characteristic test. Table 1 shows the results of subjecting the magnetic recording media of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 to CSS property tests.

【0046】[0046]

【表1】 [Table 1]

【0047】表1に示すように、比較例1、2の磁気記
録媒体に比べ、実施例1〜4の磁気記録媒体は、フリク
ション値が低くCSS特性に優れたものとなったことが
わかる。
As shown in Table 1, it can be seen that the magnetic recording media of Examples 1 to 4 had lower friction values and better CSS characteristics than the magnetic recording media of Comparative Examples 1 and 2.

【0048】以上本発明を実施例に基づいて説明した
が、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、特
許請求の範囲に記載の構成を変更しない限りどのように
でも実施することができる。例えば、基板の上に成膜す
る各層、下地層、磁性膜、保護膜、潤滑剤等は、特にそ
の材質や組成、成膜方法等に限定するものではなく、公
知の材料、公知の方法を適宜に選定、組み合わせて使用
することができる。
Although the present invention has been described based on the embodiments, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be implemented in any manner unless the configuration described in the claims is changed. it can. For example, the layers formed on the substrate, the underlayer, the magnetic film, the protective film, the lubricant, and the like are not particularly limited to the material and composition, the film forming method, and the like, and may be formed of a known material or a known method. They can be appropriately selected and combined for use.

【0049】[0049]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の磁気記録
媒体の製造方法にあっては、ガラス基板表面の所定範囲
にレーザ光を照射することによりレーザ光照射範囲の基
板表面に複数の突起を同時に形成するので、大きさ、形
状が均一な突起を短時間のうちに形成することができ
る。従って、CSS特性に優れた磁気記録媒体を効率よ
く製造することが可能となる。また、レーザ光を、エネ
ルギー密度が均一なものとすることによって、レーザ光
照射範囲内で形成される突起高さのいっそうの均一化を
促し、磁気記録媒体のCSS特性をさらに向上させるこ
とが可能となる。
As described above, in the method of manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention, a plurality of projections are formed on the surface of the glass substrate by irradiating the laser light onto a predetermined region of the surface of the glass substrate. Are simultaneously formed, so that a projection having a uniform size and shape can be formed in a short time. Therefore, it is possible to efficiently manufacture a magnetic recording medium having excellent CSS characteristics. Further, by making the energy density of the laser light uniform, it is possible to further uniform the height of the protrusions formed within the laser light irradiation range, thereby further improving the CSS characteristics of the magnetic recording medium. Becomes

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の磁気記録媒体の製造方法の一実施形
態を実施するために用いられる製造装置を示す概略構成
図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a manufacturing apparatus used for carrying out a magnetic recording medium manufacturing method according to an embodiment of the present invention.

【図2】 図1に示す製造装置の要部拡大図である。FIG. 2 is an enlarged view of a main part of the manufacturing apparatus shown in FIG.

【図3】 本発明の磁気記録媒体の一例の要部を示す断
面図である。
FIG. 3 is a sectional view showing a main part of an example of the magnetic recording medium of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・結晶粒部、2・・・非晶質部、3・・・突起、11・・・レ
ーザ光源、12・・・カライドスコープ、D・・・基板(結晶
化ガラス基板)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Grain part, 2 ... Amorphous part, 3 ... Protrusion, 11 ... Laser light source, 12 ... Kaleidoscope, D ... Substrate (crystallized glass substrate)

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 多数の結晶粒部が非晶質部により互いに
隔てられた構造を有する結晶化ガラス基板表面の所定範
囲にレーザ光を照射することにより、レーザ光照射範囲
の基板表面に、結晶粒部または非晶質部が基板表面から
突出した複数の突起状構造体を形成することを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法。
A laser beam is applied to a predetermined area of a surface of a crystallized glass substrate having a structure in which a large number of crystal grain parts are separated from each other by an amorphous part. A method for manufacturing a magnetic recording medium, comprising forming a plurality of protruding structures in which grain portions or amorphous portions protrude from a substrate surface.
【請求項2】 請求項1記載の磁気記録媒体の製造方法
において、レーザ光を、エネルギー密度が均一化された
ものとすることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
2. The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the laser beam has a uniform energy density.
【請求項3】 請求項1または2記載の磁気記録媒体の
製造方法において、レーザ光を、波長が200〜600
nmまたは5000〜12000nmであるものとする
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
3. The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the laser beam has a wavelength of 200 to 600.
nm or 5000 to 12000 nm.
【請求項4】 多数の結晶粒部が非晶質部により互いに
隔てられた構造を有する結晶化ガラス基板表面に、結晶
粒部または非晶質部が基板表面から突出した突起状構造
体を形成したことを特徴とする磁気記録媒体。
4. A protruding structure in which a crystal grain portion or an amorphous portion protrudes from the surface of a crystallized glass substrate having a structure in which a number of crystal grain portions are separated from each other by an amorphous portion. A magnetic recording medium characterized in that:
JP26072097A 1997-09-25 1997-09-25 Magnetic recording medium and its production Withdrawn JPH1196547A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26072097A JPH1196547A (en) 1997-09-25 1997-09-25 Magnetic recording medium and its production

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26072097A JPH1196547A (en) 1997-09-25 1997-09-25 Magnetic recording medium and its production

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1196547A true JPH1196547A (en) 1999-04-09

Family

ID=17351830

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP26072097A Withdrawn JPH1196547A (en) 1997-09-25 1997-09-25 Magnetic recording medium and its production

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH1196547A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016185977A1 (en) * 2015-05-19 2016-11-24 日本電気硝子株式会社 Glass chip for authenticity identification and method for manufacturing same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016185977A1 (en) * 2015-05-19 2016-11-24 日本電気硝子株式会社 Glass chip for authenticity identification and method for manufacturing same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5861196A (en) Laser texturing a glass or glass-ceramic substrate
JPH1196547A (en) Magnetic recording medium and its production
JPH09237419A (en) Production of magnetic recording medium
JP3146917B2 (en) Manufacturing method of magnetic recording medium
JPH1196548A (en) Production of magnetic recording medium
JPH0877554A (en) Magnetic recording medium and substrate
JP3013717B2 (en) Magnetic recording medium and substrate
JP3030246B2 (en) Texture device and texture processing method
JP2970466B2 (en) Manufacturing method of magnetic recording medium
JP2843539B2 (en) Texture device and texture processing method
JPH08224676A (en) Texture device and texture machining method
JPH11316945A (en) Substrate for magnetic recording medium, its surface treatment, magnetic recording medium and its production
JPH11273066A (en) Substrate for magnetic record medium, its surface treatment, magnetic record medium and its production
US6068728A (en) Laser texturing with reverse lens focusing system
JPH09295178A (en) Laser texture device
JPH09231562A (en) Magnetic recording medium and its production
JPH10134345A (en) Magnetic recording medium and its production
JPH08147687A (en) Magnetic recording medium and its manufacture
JPH0830963A (en) Magnetic disk and its production
JPH103658A (en) Surface treatment of magnetic recording medium
JPH08287457A (en) Production of magnetic recording medium
JPH09178458A (en) Bump disc and manufacture thereof
JPH09231559A (en) Substrate for magnetic recording medium, its manufacture and magnetic recording medium
JPH11110751A (en) Manufacture of magnetic recording medium and its manufacture device
JPH09180180A (en) Magnetic disk

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20041207