JPH1194766A - Method and apparatus for inspecting texture - Google Patents

Method and apparatus for inspecting texture

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JPH1194766A
JPH1194766A JP25484897A JP25484897A JPH1194766A JP H1194766 A JPH1194766 A JP H1194766A JP 25484897 A JP25484897 A JP 25484897A JP 25484897 A JP25484897 A JP 25484897A JP H1194766 A JPH1194766 A JP H1194766A
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JP
Japan
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image
formation
inspection
light
filter
Prior art date
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JP25484897A
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Japanese (ja)
Inventor
Toyoo Iida
豊男 飯田
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Omron Corp
Original Assignee
Omron Corp
Omron Tateisi Electronics Co
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Publication date
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Publication of JPH1194766A publication Critical patent/JPH1194766A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To easily and quantitatively evaluate the texture of an object to be ispected such as a nonwoven fabric or the like without stopping a manufacturing apparatus, by taking the image of the reflected or transmitted light of the object to be inspected and a use reference surface, and extracting a plurality of characteristic quantities of the object from the taken image of the object. SOLUTION: The object 10 such as a nonwoven fabric or the like is irradiated with the light from a luminaire 20, and reflected light is taken in by a CCD camera 30. An image processing and operating apparatus 40 operates and extracts a plurality of characteristic quantities from the images of the object 10 and a use reference surface taken by the CCD camera 30. A characteristic quantity operating and processing part extracts the image data of a part other than the region taking the image of the use reference surface, that is, a texture index operating region and operates and extracts a plurality of characteristic quantities characterizing the texture of the object 10 to be inspected. The texture index operating and processing part connects a plurality of the characteristic quantities operated in the characteristic quantity operating and processing part to operate the texture index to display the same on a display apparatus.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、不織布などの薄
いシート状の検査対象の地合を検査する地合検査方法お
よび装置に関し、特に、製造装置を停止することなく不
織布などの検査対象の地合を容易かつ定量的に評価する
ことができる地合検査方法および装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a formation inspection method and apparatus for inspecting the formation of a thin sheet-like inspection object such as a nonwoven fabric, and more particularly, to an inspection method for a nonwoven fabric or the like without stopping a manufacturing apparatus. TECHNICAL FIELD The present invention relates to a formation inspection method and apparatus capable of easily and quantitatively evaluating a combination.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、サニタリ製品などの伸びに伴い、
不織布等の需要は大きく伸びている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the growth of sanitary products,
Demand for nonwoven fabrics and the like is growing significantly.

【0003】ところで、従来、不織布等の品質は一般に
地合(繊維の分布状態)で評価されるが、品質検査の多
くは検査員による目視に頼っている。
Conventionally, the quality of a nonwoven fabric or the like is generally evaluated based on formation (fiber distribution state), but most quality inspections rely on visual inspection by an inspector.

【0004】また、不織布等の品質の検査の自動化を目
指した装置では、検査対象の不織布の透過光もしくは反
射光をCCDのような撮像素子により撮像し、画像の輝
度の標準偏差、輝度のヒストグラムや、空間周波数分析
に基いた指標を不織布の品質の目安である地合指数とし
ている。
Further, in an apparatus aiming at automation of quality inspection of a non-woven fabric or the like, transmitted light or reflected light of the non-woven fabric to be inspected is imaged by an image pickup device such as a CCD, and a standard deviation of image luminance and a histogram of luminance are obtained. An index based on spatial frequency analysis is used as the formation index, which is a measure of the quality of nonwoven fabric.

【0005】また、この種の不織布等の製造装置は、2
4時間無停止で運転されており、このような不織布等の
製造装置における製品の品質指標の1つである地合を光
学的な手法を用いて計測する場合には、従来、以下の2
つの方法が知られている。
[0005] Further, an apparatus for producing this kind of non-woven fabric or the like has two
It is operated without stopping for 4 hours, and when the formation which is one of the quality indices of the product in the manufacturing apparatus of such a nonwoven fabric is measured by an optical method, conventionally, the following 2
Two methods are known.

【0006】1)相対計測法 計測開始時点の計測値を基準として、その後の値の変動
のみを計測し、地合の程度の変動のみを計測する方法。
[0006] 1) Relative measurement method A method of measuring only a change in a subsequent value based on a measured value at the start of measurement and measuring only a change in the degree of formation.

【0007】2)絶対計測法 何らかの基準を用いて、計測機器を校正し、その基準に
基づいて地合の程度を絶対的に計測する方法。
2) Absolute measurement method A method of calibrating a measuring instrument using some reference and absolutely measuring the degree of formation based on the reference.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、画像の
輝度の標準偏差や輝度のヒストグラムを用いている地合
検査装置では、地合の空間的特徴を捉えることができな
い。例えば、撮像画像の輝度の標準偏差や輝度のヒスト
グラムがほぼ同様な検査対象では人間の目からみて明ら
かに異なっていても地合の程度が全く同じと評価してし
まい、計測する地合の程度が人間の感じる地合の程度と
異なるという問題がある。
However, a formation inspection apparatus using a standard deviation of luminance of an image or a histogram of luminance cannot capture spatial features of formation. For example, in a test object having substantially the same standard deviation of luminance and a histogram of luminance of a captured image, the degree of formation is evaluated to be completely the same even if the degree of formation is completely different from human eyes, and the degree of formation to be measured is evaluated. Is different from the degree of formation felt by humans.

【0009】また、空間周波数を基にする地合検査装置
では、専用の濾過装置や高速な画像処理が必要であり、
空間周波数のみでも、地合指数が人間の感覚と一致しな
いという問題がある。
[0009] In addition, a formation inspection device based on spatial frequency requires a dedicated filtering device and high-speed image processing.
There is a problem that the formation index does not match the human sense even with only the spatial frequency.

【0010】更に、不織布等の地合を定量的に計測する
ためには、不織布の繊維の状態を高いコントラストで鮮
明に得る必要があるが、 1)材質により強い光や光に伴う熱を加えることが困難
であるために、鮮明な画像が得られない場合や 2)外乱光を遮る設備を設置することが困難であるた
め、外乱光により繊維の状態を鮮明に得ることが困難で
ある場合がある。
Further, in order to quantitatively measure the formation of a nonwoven fabric or the like, it is necessary to obtain a clear state of the fibers of the nonwoven fabric with high contrast. 1) Apply strong light or heat accompanying light to the material. Difficult to obtain a clear image, or 2) it is difficult to install equipment to block disturbance light, and it is difficult to obtain a clear fiber state due to disturbance light. There is.

【0011】また、このような薄い膜内の欠陥を検査す
る方法として、特開昭6−148059に開示されてい
るように、計測対象を偏向板の間に設置する方法もある
が、この方法を不織布に適用した場合は、 3)圧着点をすべて欠陥として検出してしまうという問
題がある。
As a method of inspecting for a defect in such a thin film, there is a method of placing a measuring object between deflection plates as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-148059. 3) There is a problem that all the crimping points are detected as defects.

【0012】また、上記24時間無停止で運転される不
織布等の製造装置において、 1)上記相対計測法を採用した場合には、地合の程度の
変動は知ることができるが、地合の程度の絶対値を知る
ことができない。そのため、製造後、製品と計測値の突
き合わせを行う必要がある。
Further, in the above-mentioned apparatus for manufacturing nonwoven fabric and the like which is operated without stopping for 24 hours, 1) When the above-described relative measurement method is adopted, a change in the degree of formation can be known. The absolute value of the degree cannot be known. Therefore, after manufacturing, it is necessary to compare the product with the measured value.

【0013】2)また、絶対計測法を採用した場合に
は、外乱や光源およびカメラの経時変化、温度変化など
の影響を受けるため、計測時にその校正が必要である。
しかし、24時間運転の製造装置においては、製品製造
中に計測装置の校正を行うことが困難である。このた
め、製造後、製品をサンプリングして計測する必要があ
る。
2) When the absolute measurement method is adopted, it is affected by disturbances, aging of the light source and the camera, temperature change, and the like.
However, it is difficult to calibrate the measuring device during the manufacture of a product in a manufacturing device that operates for 24 hours. For this reason, after manufacturing, it is necessary to sample and measure the product.

【0014】3)また、計測面に受光素子などのセンサ
を配置し、その出力を用いて校正を行う方法もあるが、
このセンサも経時変化、温度変化などの影響を受ける。
3) There is also a method of arranging a sensor such as a light receiving element on a measurement surface and performing calibration using the output.
This sensor is also affected by changes over time and changes in temperature.

【0015】4)また、上記校正をカメラの絞り若しく
は照明で行うと、カメラのダイナミックレンジが変動す
る(感度が変化する)。このため、カメラのダイナミッ
クレンジの変動の影響を受けない校正方式が求められて
いる。
4) Further, when the above calibration is performed with the aperture or illumination of the camera, the dynamic range of the camera changes (the sensitivity changes). For this reason, there is a need for a calibration method that is not affected by fluctuations in the dynamic range of the camera.

【0016】そこで、この発明は、製造装置を停止する
ことなく不織布などの検査対象の地合を容易かつ定量的
に評価することができる地合検査方法および装置を提供
することを目的とする。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a formation inspection method and apparatus capable of easily and quantitatively evaluating the formation of an object to be inspected such as a nonwoven fabric without stopping a manufacturing apparatus.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1の発明は、検査対象の地合を検査する地合
検査方法において、上記検査対象および運用参照面の反
射光若しくは透過光の画像を撮像し、該撮像した運用参
照面の画像に基づき校正処理を行うとともに、該撮像し
た検査対象の画像から検査対象の複数の特徴量を抽出
し、該抽出した複数の特徴量から上記検査対象の地合を
検査することを特徴とする。
In order to achieve the above object, the invention of claim 1 provides a formation inspection method for inspecting the formation of an object to be inspected, the method comprising the steps of: Of the inspection target, performs a calibration process based on the captured image of the operation reference plane, extracts a plurality of feature amounts of the inspection target from the captured image of the inspection target, and extracts the plurality of feature amounts from the extracted plurality of feature amounts. It is characterized by inspecting the formation to be inspected.

【0018】また、請求項2の発明は、検査対象の地合
を検査する地合検査装置において、上記検査対象および
運用参照面を照射する光源と、上記光源の照射による上
記検査対象および運用参照面からの反射光若しくは透過
光の画像を撮像する撮像手段と、上記撮像手段で撮像し
た上記運用参照面の画像から上記撮像手段を校正制御す
る校正制御手段と、上記撮像手段で撮像した上記検査対
象の画像から複数の特徴量を抽出する特徴量抽出手段
と、上記特徴量抽出手段で抽出した複数の特徴量から上
記検査対象の地合を検査する検査手段と、を具備するこ
とを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the formation inspection apparatus for inspecting the formation of the inspection object, a light source for irradiating the inspection object and the operation reference surface, and a light source for irradiating the inspection object and the operation reference surface with the light source are provided. Imaging means for capturing an image of reflected light or transmitted light from a surface; calibration control means for calibrating and controlling the imaging means from the image of the operation reference plane taken by the imaging means; and the inspection taken by the imaging means A feature amount extracting unit that extracts a plurality of feature amounts from a target image; and an inspecting unit that inspects the formation of the inspection target from the plurality of feature amounts extracted by the feature amount extracting unit. I do.

【0019】また、請求項3の発明は、検査対象の地合
を検査する地合検査方法において、光源からの光を第1
の偏向フィルタを介して上記検査対象に照射し、該検査
対象の透過光を特定の色の成分を抽出するカラーフィル
タおよび上記第1の偏向フィルタと同一の偏向角に設定
された第2の偏向フィルタを通過させ、上記カラーフィ
ルタおよび上記第2の偏向フィルタを通過した光から上
記検査対象の画像を撮像して該撮像した画像に基づき上
記検査対象の地合を検査することを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, in the formation inspection method for inspecting the formation of the inspection object, the light from the light source is firstly transmitted.
A color filter for irradiating the inspection object with the deflection filter through the deflection filter and extracting a component of a specific color with the transmitted light of the inspection object, and a second deflection set to the same deflection angle as the first deflection filter. The image of the inspection target is captured from the light that has passed through the filter and the color filter and the second deflection filter, and the formation of the inspection target is inspected based on the captured image.

【0020】また、請求項4の発明は、検査対象の地合
を検査する地合検査方法において、光源からの光を第1
の偏向フィルタを介して上記検査対象に照射し、該検査
対象の透過光を上記第1の偏向フィルタと直交する偏向
角に設定された第2の偏向フィルタを通過させ、上記第
2の偏向フィルタを通過した光から上記検査対象の画像
を撮像して該撮像した画像に基づき上記検査対象の地合
を検査することを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, in the formation inspection method for inspecting the formation of the inspection object, the light from the light source is transmitted to the first light source.
Irradiating the object to be inspected through the deflecting filter, and passing the transmitted light of the object to be inspected through a second deflecting filter set at a deflection angle orthogonal to the first deflecting filter. And picking up the image of the inspection target from the light that has passed through and inspecting the formation of the inspection target based on the captured image.

【0021】また、請求項5の発明は、請求項4の発明
において、上記撮像した画像を2値化し、該2値化した
画像のパターンマッチングにより上記検査対象の圧着点
を検出し、該検出した圧着点の数を地合指数として検査
対象の地合を評価することを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, in the fourth aspect of the present invention, the captured image is binarized, and the crimping point of the inspection object is detected by pattern matching of the binarized image. The formation of the object to be inspected is evaluated using the number of the crimped points as the formation index.

【0022】また、請求項6の発明は、検査対象の地合
を検査する地合検査方法において、光源からの光を第1
の偏向フィルタを介して上記検査対象に照射し、該検査
対象の透過光から特定の色の成分を抽出するとともに、
上記抽出した光を2つの光に分離し、上記分離した一方
の光を上記第1の偏向フィルタと同一の偏向角に設定さ
れた第2の偏向フィルタを通過させるとともに、上記分
離した他方の光を上記第1の偏向フィルタと直交する偏
向角に設定された第3の偏向フィルタを通過させ上記第
2の偏向フィルタを通過した光から上記検査対象の第1
の画像を撮像するとともに、上記第3の偏向フィルタを
通過した光から上記検査対象の第2の画像を撮像し、上
記第1の画像から上記第2の画像を減算した画像に基づ
き上記検査対象の地合を検査することを特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, in the formation inspection method for inspecting the formation of the inspection object, the light from the light source is firstly transmitted.
Irradiating the inspection target through a deflection filter, and extracting a component of a specific color from transmitted light of the inspection target,
The extracted light is separated into two lights, one of the separated lights is passed through a second deflection filter set at the same deflection angle as the first deflection filter, and the other light is separated. Is passed through a third deflection filter set at a deflection angle orthogonal to the first deflection filter, and the light passing through the second deflection filter is converted into a first beam of the inspection target.
And the second image of the inspection target is captured from the light that has passed through the third deflection filter, and the inspection target is determined based on an image obtained by subtracting the second image from the first image. Inspection of the formation is characterized.

【0023】また、請求項7の発明は、検査対象の地合
を検査する地合検査装置において、上記検査対象を照射
する光源と、上記光源と上記検査対象との間に配置され
る第1の偏向フィルタと、上記検査対象の透過光から特
定の色の成分を抽出するカラーフィルタと、上記検査対
象の透過光を通過させる上記第1の偏向フィルタと同一
の偏向角に設定された第2の偏向フィルタと、上記カラ
ーフィルタおよび上記第2の偏向フィルタを通過した光
から上記検査対象の画像を撮像する撮像手段と、上記撮
像手段で撮像した画像に基づき上記検査対象の地合を検
査する検査手段と、を具備することを特徴とする。
According to a seventh aspect of the present invention, in the formation inspection apparatus for inspecting the formation of an inspection object, a first light source irradiating the inspection object and a first light source arranged between the light source and the inspection object are provided. , A color filter for extracting a component of a specific color from the transmitted light of the inspection target, and a second deflection filter set to the same deflection angle as the first deflection filter for transmitting the transmitted light of the inspection target. A deflection filter, imaging means for capturing the image of the inspection object from light passing through the color filter and the second deflection filter, and inspecting the formation of the inspection object based on the image captured by the imaging means. Inspection means.

【0024】また、請求項8の発明は、検査対象の地合
を検査する地合検査装置において、上記検査対象を照射
する光源と、上記光源と上記検査対象との間に配置され
る第1の偏向フィルタと、上記検査対象の透過光を通過
させる上記第1の偏向フィルタと直交する偏向角に設定
された第2の偏向フィルタと、上記第2の偏向フィルタ
を通過した光から上記検査対象の画像を撮像する撮像手
段と、上記撮像手段で撮像した画像に基づき上記検査対
象の地合を検査する検査手段と、を具備することを特徴
とする。
According to an eighth aspect of the present invention, in the formation inspection apparatus for inspecting the formation of an inspection object, a first light source irradiating the inspection object and a first light source disposed between the light source and the inspection object are provided. , A second deflecting filter set at a deflection angle orthogonal to the first deflecting filter for transmitting the transmitted light of the object to be inspected, and the object to be inspected from light passing through the second deflecting filter. And an inspection unit that inspects the formation of the inspection target based on the image captured by the imaging unit.

【0025】また請求9の発明は、請求項8の発明にお
いて、上記撮像手段で撮像した画像を2値化する2値化
手段と、上記2値化手段で2値化した画像のパターンマ
ッチングにより上記検査対象の圧着点を検出する圧着点
検出手段と、上記圧着点検出手段で検出した圧着点の数
を地合指数として出力する出力手段と、を具備すること
を特徴とする。
According to a ninth aspect of the present invention, in accordance with the eighth aspect of the present invention, there is provided a binarizing means for binarizing an image picked up by the image pickup means, and a pattern matching of the image binarized by the binarizing means. It is characterized by comprising a crimping point detecting means for detecting the crimping point to be inspected, and an output means for outputting the number of crimping points detected by the crimping point detecting means as a formation index.

【0026】また、請求項10の発明は、検査対象の地
合を検査する地合検査装置において、上記検査対象を照
射する光源と、上記光源と上記検査対象との間に配置さ
れる第1の偏向フィルタと、上記検査対象の透過光から
特定の色の成分を抽出するカラーフィルタと、上記カラ
ーフィルタで抽出された光を2つの光に分離するビーム
スプリッタと、上記ビームスプリッタで分離した一方の
光を通過させる上記第1の偏向フィルタと同一の偏向角
に設定された第2の偏向フィルタと、上記ビームスプリ
ッタで分離した他方の光を通過させる上記第1の偏向フ
ィルタと直交する偏向角に設定された第3の偏向フィル
タと、上記第2の偏向フィルタを通過した光から上記検
査対象の第1の画像を撮像する第1の撮像手段と、上記
第3の偏向フィルタを通過した光から上記検査対象の第
2の画像を撮像する第2の撮像手段と、上記第1の撮像
手段で撮像された上記第1の画像から上記第2の撮像手
段で撮像された第2の画像を減算する減算手段と、上記
減算手段による減算処理で求められる画像に基づき上記
検査対象の地合を検査する検査手段と、を具備すること
を特徴とする。
According to a tenth aspect of the present invention, in the formation inspection apparatus for inspecting the formation of an inspection object, a first light source irradiating the inspection object and a first light source disposed between the light source and the inspection object are provided. A deflection filter, a color filter that extracts a specific color component from the transmitted light of the inspection target, a beam splitter that separates the light extracted by the color filter into two lights, and a beam splitter that separates the light extracted by the beam splitter. A second deflection filter set to the same deflection angle as that of the first deflection filter that allows the light to pass through, and a deflection angle orthogonal to the first deflection filter that allows the other light split by the beam splitter to pass through A third deflection filter, a first imaging unit that captures a first image of the inspection target from light that has passed through the second deflection filter, and a third deflection filter. A second imaging unit that captures a second image of the inspection target from light that has passed through, and a second imaging unit that is captured by the second imaging unit from the first image that is captured by the first imaging unit. 2. Subtracting means for subtracting the two images, and inspection means for inspecting the formation of the inspection object based on the image obtained by the subtraction processing by the subtracting means.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態につ
いて添付図面を参照して詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.

【0028】図1は、この発明に係わる地合検査方法お
よび装置を適用して構成した地合検査装置の一実施の形
態を概略構成図で示したものである。
FIG. 1 is a schematic block diagram showing one embodiment of a formation inspection apparatus to which the formation inspection method and apparatus according to the present invention are applied.

【0029】図1において、この地合検査装置は、ロー
ル状に巻回された不織布等の検査対象10を光源である
照明20により照射し、この検査対象10からの反射光
をCCDカメラ30で取り込むことにより該検査対象1
0を撮像し、このCCDカメラ30で撮像した検査対象
10の画像を画像処理演算装置40に渡すことにより検
査対象10の地合の検査を行なう。
In FIG. 1, the formation inspection apparatus irradiates an inspection object 10 such as a non-woven fabric wound in a roll form with an illumination 20 as a light source, and reflects a reflected light from the inspection object 10 with a CCD camera 30. Inspection object 1
Then, an image of the inspection target 10 captured by the CCD camera 30 is passed to the image processing operation device 40, thereby inspecting the formation of the inspection target 10.

【0030】また、上記検査対象10に触れず、かつ、
CCDカメラ30の視野(図4に示すCCDカメラの視
野30a)の一部に入る位置に運用参照面50が配置さ
れており、この運用参照面50は、CCDカメラ30の
焦点深度の内部に入るように配置されている。
Further, the inspection object 10 is not touched, and
An operation reference plane 50 is disposed at a position that partially enters the field of view of the CCD camera 30 (the field of view 30a of the CCD camera shown in FIG. 4), and the operation reference plane 50 enters the depth of focus of the CCD camera 30. Are arranged as follows.

【0031】また、不織布等の検査対象10は、数百m
/分の速度で巻き取られている。
The object 10 to be inspected such as a nonwoven fabric is several hundred meters.
/ Min speed.

【0032】画像処理演算装置40は、CCDカメラ3
0で撮像した検査対象10および運用参照面50の画像
から複数の特徴量を演算抽出する。
The image processing operation device 40 includes the CCD camera 3
A plurality of feature amounts are calculated and extracted from the images of the inspection target 10 and the operation reference plane 50 taken at 0.

【0033】図2は、上記画像処理演算装置40の処理
をブロック図で示したものである。
FIG. 2 is a block diagram showing the processing of the image processing arithmetic unit 40.

【0034】図2において、CCDカメラ30で撮像し
た検査対象10の画像は、画像取り込み処理部41によ
り、画像処理演算装置40の図示しないメモリ上に画像
データとして取り込まれる。
In FIG. 2, an image of the inspection object 10 captured by the CCD camera 30 is captured by an image capture processing unit 41 as image data on a memory (not shown) of the image processing arithmetic unit 40.

【0035】この画像取り込み処理部41により、画像
処理演算装置40のメモリ上に取り込まれた画像データ
は、参照輝度演算処理部42、特徴量演算処理部44に
渡される。
The image data fetched by the image fetching unit 41 into the memory of the image processing unit 40 is passed to a reference luminance calculation unit 42 and a feature amount calculation unit 44.

【0036】参照輝度演算処理部42では、画像処理演
算装置40のメモリ上に取り込まれた画像データから、
運用参照面50を撮像している領域、すなわち、図4に
示す運用面平均輝度演算領域50aのみを抽出し、この
抽出した運用参照面50を撮像している運用面平均輝度
演算領域50aの平均輝度(運用面平均輝度)を算出す
る。
The reference luminance calculation processing section 42 converts the image data stored in the memory of the image processing
Only the region where the operation reference plane 50 is imaged, that is, only the operation surface average luminance calculation region 50a shown in FIG. 4 is extracted, and the average of the extracted operation surface average luminance calculation region 50a which images the operation reference surface 50 is extracted. Calculate the luminance (operational surface average luminance).

【0037】絞り値演算処理部43は、この画像処理演
算装置40の内部で保持している運用面平均輝度若しく
は入力装置47から入力された平均輝度設定値からなる
基準輝度(設定値)と参照輝度演算処理部42で演算さ
れた運用面平均輝度(参照輝度)とを比較し、設定値と
参照輝度との差の絶対値が計測上の誤差δの範囲以上で
あると、CCDカメラ30に対して絞り制御信号を出力
する。
The aperture value calculation processing unit 43 refers to a reference brightness (set value) composed of the average brightness of the operation surface held in the image processing calculation device 40 or the average brightness set value input from the input device 47. The operation surface average brightness (reference brightness) calculated by the brightness calculation processing unit 42 is compared. If the absolute value of the difference between the set value and the reference brightness is equal to or larger than the measurement error δ, the CCD camera 30 An aperture control signal is output in response.

【0038】CCDカメラ30は、この絞り値演算処理
部43から出力された絞り制御信号に対応してその絞り
が制御される。
The aperture of the CCD camera 30 is controlled in accordance with the aperture control signal output from the aperture value processing unit 43.

【0039】絞り値演算処理部43における設定値と参
照輝度との比較において、設定値と参照輝度との差の絶
対値が計測上の誤差δの範囲より小さいと、特徴量演算
処理部44による検査対象10の特徴量の演算抽出が行
われる。
In the comparison between the set value and the reference brightness in the aperture value calculation processing unit 43, if the absolute value of the difference between the set value and the reference brightness is smaller than the range of the measurement error δ, the feature value calculation processing unit 44 Calculation and extraction of the feature amount of the inspection target 10 are performed.

【0040】特徴量演算処理部44では、画像処理演算
装置40のメモリ上に取り込まれた画像データから、運
用参照面50を撮像している領域以外の部分、すなわ
ち、図4に示す特徴量演算領域(地合指数演算領域)1
0aの画像データを抽出し、この抽出した特徴量演算領
域(地合指数演算領域)10aの画像データから検査対
象10の地合を特徴付ける複数の特徴量を演算抽出す
る。
The feature amount calculation processing section 44 uses the image data fetched on the memory of the image processing calculation device 40 to obtain a portion other than the area where the operation reference plane 50 is imaged, that is, the feature amount calculation section shown in FIG. Area (formation index calculation area) 1
The image data 0a is extracted, and a plurality of feature amounts characterizing the formation of the inspection target 10 are calculated and extracted from the extracted image data of the feature amount calculation region (formation index calculation region) 10a.

【0041】ここで、検査対象10の地合を特徴付ける
複数の特徴量としては、 1)画像の均一度(画像の輝度データの標準偏差) 2)画像の明度(画像の輝度データの平均輝度) 3)画像の粗密度(画像データの一次微分値の内の一定
範囲の値になる画素数の総和) 等を用いることができる。
Here, the plurality of feature amounts characterizing the formation of the inspection object 10 include: 1) uniformity of an image (standard deviation of luminance data of an image) 2) lightness of an image (average luminance of luminance data of an image) 3) The coarse density of the image (sum of the number of pixels within a certain range of the first derivative of the image data) and the like can be used.

【0042】地合指数演算処理部45では、特徴量演算
処理部44で演算された複数の特徴量を線形結合し、検
査対象10の地合指数を演算する。この地合指数演算処
理部45における地合指数の演算において、結合時の重
み(結合係数)は、入力装置47から指定するように構
成することができる。
The formation index calculation processing section 45 linearly combines the plurality of feature amounts calculated by the feature amount calculation processing section 44 to calculate the formation index of the inspection target 10. In the formation index calculation processing by the formation index calculation processing unit 45, the weight (coupling coefficient) at the time of combination can be configured to be designated from the input device 47.

【0043】地合指数演算処理部46で演算された地合
指数は、表示装置47に渡され、ここで表示される。
The formation index calculated by the formation index calculation processing section 46 is passed to a display device 47, where it is displayed.

【0044】図3は、上記画像処理演算装置40の処理
をフローチャートで示したものである。
FIG. 3 is a flowchart showing the processing of the image processing arithmetic unit 40.

【0045】図3において、まず、画像取り込み処理部
41によりCCDカメラ30で撮像した検査対象10の
画像を画像処理演算装置40の図示しないメモリ上に画
像データとして取り込む画像取り込みが行われる(ステ
ップ101)。
In FIG. 3, first, the image capturing processing unit 41 captures an image of the inspection target 10 captured by the CCD camera 30 as image data on a memory (not shown) of the image processing arithmetic unit 40 (step 101). ).

【0046】次に、参照輝度演算処理部42により、参
照輝度、すなわち、図4に示す運用面平均輝度演算領域
50aの平均輝度(運用面平均輝度)が算出される(ス
テップ102)。
Next, the reference luminance calculation processing section 42 calculates the reference luminance, that is, the average luminance (operation plane average luminance) of the operation plane average luminance calculation area 50a shown in FIG. 4 (step 102).

【0047】そして、ステップ102で算出された参照
輝度と設定値、すなわち、この画像処理演算装置40の
内部で保持している運用面平均輝度若しくは入力装置4
7から入力された平均輝度設定値からなる設定値との比
較が行われる(ステップ103)。
Then, the reference luminance and the set value calculated in step 102, that is, the operation surface average luminance or the input device 4 held inside the image processing operation device 40
A comparison is made with the set value consisting of the average brightness set value input from step 7 (step 103).

【0048】ここで、参照輝度=設定値でないと判断さ
れると、すなわち、設定値と参照輝度との差の絶対値が
計測上の誤差δの範囲以上であると(ステップ103で
NO)、絞り値演算処理部43において、CCDカメラ
30に対する絞り制御値が演算され(ステップ10
4)、ステップ101に戻る。
If it is determined that the reference luminance is not equal to the set value, that is, if the absolute value of the difference between the set value and the reference luminance is equal to or larger than the measurement error δ (NO in step 103), In the aperture value calculation processing unit 43, an aperture control value for the CCD camera 30 is calculated (step 10).
4) Return to step 101.

【0049】また、ステップ103で、参照輝度=設定
値であると判断されると、すなわち、設定値と参照輝度
との差の絶対値が計測上の誤差δの範囲より小さいと
(ステップ103でYES)、特徴量演算処理部44に
よる検査対象10の複数の特徴量を演算する特徴量演算
が行われる(ステップ105)。
If it is determined in step 103 that the reference luminance is equal to the set value, that is, if the absolute value of the difference between the set value and the reference luminance is smaller than the range of the measurement error δ (step 103). YES), the feature value calculation processing unit 44 performs feature value calculation for calculating a plurality of feature values of the inspection target 10 (step 105).

【0050】このステップ105で演算された複数の特
徴量は、地合指数演算処理部45に渡され、ここで、複
数の特徴量が線形結合され、検査対象10の地合指数を
演算する処理、すなわち、地合指数演算が行われる(ス
テップ106)。
The plurality of feature values calculated in step 105 are passed to the formation index calculation processing unit 45, where the plurality of feature values are linearly combined to calculate the formation index of the inspection object 10. That is, formation index calculation is performed (step 106).

【0051】このステップ106で演算された地合指数
は、表示装置47に渡され、ここで地合指数表示が行わ
れ(ステップ107)、この処理を終了する。
The formation index calculated in step 106 is passed to the display device 47, where the formation index is displayed (step 107), and the process is terminated.

【0052】なお、図3に示した処理においては、CC
Dカメラ30の絞りを制御する校正処理と、検査対象1
0の地合指数を演算する計測処理とを同時に実行する運
用例を示したが、以下に示すような運用も可能である。
Note that, in the processing shown in FIG.
Calibration processing for controlling the aperture of D camera 30 and inspection object 1
Although the operation example in which the measurement processing for calculating the formation index of 0 is performed at the same time has been described, the following operation is also possible.

【0053】1)校正処理は、検査装置の起動毎に実行
する。 2)校正処理は、地合指数計測処理の実施前に毎回行
う。 3)校正処理は、地合指数計測処理に関係なく、一定時
間毎に行う。
1) The calibration process is executed every time the inspection apparatus is started. 2) The calibration process is performed each time before the formation index measurement process is performed. 3) The calibration process is performed at regular intervals regardless of the formation index measurement process.

【0054】また、上記構成においては、運用参照面5
0をCCDカメラ30の画面の上端に配置したが、以下
に示すような配置も可能である。
In the above configuration, the operation reference plane 5
Although 0 is arranged at the upper end of the screen of the CCD camera 30, the following arrangement is also possible.

【0055】1)運用参照面50をCCDカメラ30の
画面の下端に配置する。 2)運用参照面50をCCDカメラ30の画面の右端若
しくは左端に配置する。 3)運用参照面50を分割し、CCDカメラ30の画面
の4角に配置する。
1) The operation reference plane 50 is arranged at the lower end of the screen of the CCD camera 30. 2) The operation reference plane 50 is arranged at the right or left end of the screen of the CCD camera 30. 3) The operation reference plane 50 is divided and arranged at four corners of the screen of the CCD camera 30.

【0056】なお、上記構成において、CCDカメラ3
0としては、エリアCCDカメラを用いた場合を示した
が、ラインCCDカメラを用いても同様に構成すること
ができる。また、上記構成においては、検査対象からの
反射光を利用したが、透過光を利用しても同様に構成す
ることができる。
In the above configuration, the CCD camera 3
Although the case where an area CCD camera is used is shown as 0, the same configuration can be made by using a line CCD camera. Further, in the above configuration, the reflected light from the inspection target is used. However, the same configuration can be made by using the transmitted light.

【0057】図5は、この発明に係わる地合検査方法お
よび装置を適用して構成した地合検査装置の他の実施の
形態を概略構成図で示したものである。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram showing another embodiment of a formation inspection apparatus to which the formation inspection method and apparatus according to the present invention are applied.

【0058】なお、図5において、図1に示した地合検
査装置と同一の機能を果たす部分には説明の便宜上同一
の符号を付する。
In FIG. 5, the parts performing the same functions as those of the formation inspection apparatus shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals for convenience of explanation.

【0059】図5に示す地合検査装置においては、図1
に示したCCDカメラ30がエリアカメラであったのに
対して、リニアCCDカメラ300を用いて構成されて
おり、また、図1に示した運用参照面50がCCDカメ
ラ30の画面の上端に配置されているのに対し、図5に
示す構成においては、運用参照面500が検査対象10
の搬送方向に沿って配置されており、また、検査対象1
0が巻回されるローラにロータリーエンコーダ60が設
けられている点で図1に示した構成と異なる。
In the formation inspection apparatus shown in FIG.
Is configured using a linear CCD camera 300, whereas the CCD camera 30 shown in FIG. 1 is an area camera, and the operation reference surface 50 shown in FIG. On the other hand, in the configuration shown in FIG.
Are arranged along the transport direction of
It differs from the configuration shown in FIG. 1 in that a rotary encoder 60 is provided on a roller around which 0 is wound.

【0060】なお、この図5に示した構成においては、
図2に示した画像取り込み処理41がロータリーエンコ
ーダ60の出力パルスに同期して行われることになり、
画像処理演算装置500の処理において、画像データが
1次元になるだけで、地合指数の演算および評価方法は
図1に示した構成と同一である。
In the configuration shown in FIG. 5,
The image capturing process 41 shown in FIG. 2 is performed in synchronization with the output pulse of the rotary encoder 60,
In the processing of the image processing arithmetic unit 500, the calculation and evaluation method of the formation index is the same as the configuration shown in FIG. 1 except that the image data is only one-dimensional.

【0061】すなわち、図5において、この地合検査装
置は、ロール状に巻回された不織布等の検査対象10を
光源である照明20により照射し、この検査対象10か
らの反射光をリニアCCDカメラ300で取り込むこと
により該検査対象10を撮像し、このリニアCCDカメ
ラ300で撮像した検査対象10の画像を画像処理演算
装置400に渡すことにより検査対象10の地合の検査
を行なう。
That is, in FIG. 5, the formation inspection apparatus irradiates an inspection object 10 such as a non-woven fabric wound in a roll form with a light source 20 as a light source, and reflects a reflected light from the inspection object 10 into a linear CCD. The inspection object 10 is captured by the camera 300 and the image of the inspection object 10 captured by the linear CCD camera 300 is passed to the image processing arithmetic unit 400 to inspect the formation of the inspection object 10.

【0062】また、上記検査対象10に触れず、かつ、
リニアCCDカメラ300の合成された視野(図6のリ
ニアCCDから合成された視野300a)の一部に入る
位置に運用参照面500が配置されており、この運用参
照面500は、リニアCCDカメラ300の焦点深度の
内部に入るように配置されている。
Further, without touching the inspection object 10,
An operation reference plane 500 is arranged at a position that falls within a part of the field of view synthesized by the linear CCD camera 300 (the field of view 300a synthesized from the linear CCD in FIG. 6). It is arranged so as to be inside the depth of focus.

【0063】また、不織布等の検査対象10は、数百m
/分の速度で巻き取られている。
The object 10 to be inspected such as a nonwoven fabric is several hundred meters.
/ Min speed.

【0064】画像処理演算装置400は、リニアCCD
カメラ300で撮像した検査対象10および運用参照面
500の画像から複数の特徴量を演算抽出する。
The image processing operation device 400 is a linear CCD
A plurality of feature amounts are calculated and extracted from the images of the inspection target 10 and the operation reference plane 500 captured by the camera 300.

【0065】また、画像処理演算装置400は、ロータ
リーエンコーダ60の出力パルスに同期してリニアCC
Dカメラ300から出力される画像データを蓄積する。
Further, the image processing operation device 400 synchronizes with the output pulse of the rotary encoder
The image data output from the D camera 300 is stored.

【0066】この場合、画像処理演算装置400は、図
6に示す画像データ蓄積開始点で、リニアCCDカメラ
300から出力される画像データの蓄積を開始し、図6
に示す画像データ蓄積終了点で、リニアCCDカメラ3
00から出力される1ラインの画像データの蓄積を終了
する。
In this case, the image processing operation device 400 starts to accumulate the image data output from the linear CCD camera 300 at the image data accumulation start point shown in FIG.
At the image data accumulation end point shown in FIG.
The accumulation of one line of image data output from 00 is ended.

【0067】すなわち、この構成において、画像処理演
算装置400は、ロータリーエンコーダ60の出力パル
スに同期してリニアCCDカメラ300から出力される
1次元画像を、画像データを画像処理演算装置400の
図示しないメモリの連続した領域に蓄積する。これによ
りリニアCCDから擬似的にエリアCCDと同じ出力を
得る。この擬似的にエリアCCDと同じ出力を得ること
により図1に示した構成と同一の画像データ処理が可能
になる。
That is, in this configuration, the image processing unit 400 converts the one-dimensional image output from the linear CCD camera 300 in synchronization with the output pulse of the rotary encoder 60 and the image data of the image processing unit 400 (not shown). It accumulates in a contiguous area of memory. Thereby, the same output as the area CCD is obtained from the linear CCD in a pseudo manner. By obtaining the same output as that of the area CCD in a pseudo manner, the same image data processing as the configuration shown in FIG. 1 can be performed.

【0068】図7は、この発明に係わる地合検査方法お
よび装置を適用して構成した地合検査装置のさらに他の
実施の形態を概略構成図で示したものである。
FIG. 7 is a schematic configuration diagram showing still another embodiment of a formation inspection apparatus to which the formation inspection method and apparatus according to the present invention are applied.

【0069】なお、図7においても、図1に示した地合
検査装置と同一の機能を果たす部分には説明の便宜上同
一の符号を付する。
In FIG. 7, the parts having the same functions as those of the formation inspection apparatus shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals for convenience of explanation.

【0070】図7に示す地合検査装置においては、図1
に示した運用参照面50が黒の運用参照面51と白の運
用参照面52に分割されている点が図1に示した構成と
異なる。
In the formation inspection apparatus shown in FIG.
Is different from the configuration shown in FIG. 1 in that the operation reference surface 50 shown in FIG. 1 is divided into a black operation reference surface 51 and a white operation reference surface 52.

【0071】すなわち、図7において、この地合検査装
置は、ロール状に巻回された不織布等の検査対象10を
光源である照明20により照射し、この検査対象10か
らの反射光をCCDカメラ30で取り込むことにより該
検査対象10を撮像し、このCCDカメラ30で撮像し
た検査対象10の画像を画像処理演算装置401に渡す
ことにより検査対象10の地合の検査を行なう。
That is, in FIG. 7, this formation inspection apparatus irradiates an inspection object 10 such as a non-woven fabric wound in a roll shape with a light source 20 as a light source, and reflects a reflected light from the inspection object 10 with a CCD camera. The inspection object 10 is imaged by taking it in at 30, and the formation of the inspection object 10 is inspected by passing the image of the inspection object 10 imaged by the CCD camera 30 to the image processing arithmetic unit 401.

【0072】また、上記検査対象10に触れず、かつ、
CCDカメラ30の視野(図10のCCDカメラ視野3
0a)の一部に入る位置に運用参照面51および52が
配置されており、この運用参照面51および52は、C
CDカメラ30の焦点深度の内部に入るように配置され
ている。
Further, without touching the inspection object 10,
The field of view of the CCD camera 30 (CCD camera field of view 3 in FIG. 10)
0a), operation reference surfaces 51 and 52 are arranged at positions that enter a part of the operation reference surfaces 51 and 52.
It is arranged so as to enter inside the depth of focus of the CD camera 30.

【0073】また、不織布等の検査対象10は、数百m
/分の速度で巻き取られている。
The object 10 to be inspected such as a nonwoven fabric is several hundred meters.
/ Min speed.

【0074】画像処理演算装置401は、CCDカメラ
30で撮像した検査対象10および運用参照面51、5
2の画像から複数の特徴量を演算抽出する。
The image processing arithmetic unit 401 includes the inspection object 10 and the operation reference surfaces 51, 5 taken by the CCD camera 30.
A plurality of feature values are arithmetically extracted from the two images.

【0075】図8は、上記画像処理演算装置401の処
理をブロック図で示したものである。
FIG. 8 is a block diagram showing the processing of the image processing arithmetic unit 401.

【0076】なお、図8においても、図2に示したブロ
ック図と同一の機能を果たす部分には説明の便宜上同一
の符号を付する。
In FIG. 8, the parts having the same functions as those in the block diagram shown in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals for convenience of explanation.

【0077】図8において、CCDカメラ30で撮像し
た検査対象10の画像は、画像取り込み処理部41によ
り、画像処理演算装置401の図示しないメモリ上に画
像データとして取り込まれる。
In FIG. 8, an image of the inspection object 10 picked up by the CCD camera 30 is fetched as image data into a memory (not shown) of the image processing arithmetic unit 401 by the image fetch processing unit 41.

【0078】この画像取り込み処理部41により、画像
処理演算装置401のメモリ上に取り込まれた画像デー
タは、参照輝度演算処理部48、正規化処理部49に渡
される。
The image data fetched by the image fetch processing section 41 into the memory of the image processing operation device 401 is passed to the reference luminance calculation processing section 48 and the normalization processing section 49.

【0079】参照輝度演算処理部48では、画像処理演
算装置40のメモリ上に取り込まれた画像データから、
運用参照面52を撮像している領域、すなわち、図10
に示す運用面平均輝度演算領域52aのみを抽出し、こ
の抽出した運用参照面52を撮像している運用面平均輝
度演算領域52aの平均輝度(運用面平均輝度)を算出
する。
The reference luminance calculation processing section 48 converts the image data fetched into the memory of the image processing
The area where the operation reference plane 52 is imaged, that is, FIG.
Only the operation surface average luminance calculation area 52a shown in (1) is extracted, and the average luminance (operation surface average luminance) of the operation surface average luminance calculation area 52a capturing the extracted operation reference plane 52 is calculated.

【0080】絞り値演算処理部43は、この画像処理演
算装置40の内部で保持している運用面平均輝度若しく
は入力装置47から入力された平均輝度設定値からなる
基準輝度(設定値)と参照輝度演算処理部48で演算さ
れた運用面平均輝度(参照輝度)とを比較し、設定値と
参照輝度との差の絶対値が計測上の誤差δの範囲以上で
あると、CCDカメラ30に対して絞り制御信号を出力
する。
The aperture value calculation processing section 43 refers to the reference brightness (set value) composed of the average brightness of the operation surface held in the image processing calculation device 40 or the average brightness set value input from the input device 47. The operation surface average luminance (reference luminance) calculated by the luminance calculation processing section 48 is compared with the CCD camera 30 if the absolute value of the difference between the set value and the reference luminance is equal to or larger than the range of the measurement error δ. An aperture control signal is output in response.

【0081】CCDカメラ30は、この絞り値演算処理
部43から出力された絞り制御信号に対応してその絞り
が制御される。
The aperture of the CCD camera 30 is controlled in accordance with the aperture control signal output from the aperture value calculation processing section 43.

【0082】絞り値演算処理部43における設定値と参
照輝度との比較において、設定値と参照輝度との差の絶
対値が計測上の誤差δの範囲より小さいと、正規化処理
部49の処理が行われる。
In comparison between the set value and the reference luminance in the aperture value calculation processing section 43, if the absolute value of the difference between the set value and the reference luminance is smaller than the range of the measurement error δ, the processing of the normalization processing section 49 Is performed.

【0083】正規化処理部49では、運用参照面51と
運用参照面52の平均輝度の差を用いて、図10に示す
特徴量演算領域(地合指数演算領域)10aの画像デー
タを正規化する。
The normalization processing section 49 normalizes the image data of the feature amount calculation area (formation index calculation area) 10a shown in FIG. 10 using the difference between the average luminances of the operation reference plane 51 and the operation reference plane 52. I do.

【0084】この構成において画像データは256階調
であるので、運用参照面51の平均輝度を0、運用参照
面52の平均輝度を255となるように正規化する。
In this configuration, since the image data has 256 gradations, the average luminance of the operation reference surface 51 is normalized to be 0, and the average luminance of the operation reference surface 52 is to be 255.

【0085】すなわち、図10に示す特徴量演算領域
(地合指数演算領域)10aの画像データをf(x、
y)、正規化後の画像データをf’(x、y)、運用参
照面51の平均輝度をV1、運用参照面52の平均輝度
をV2とすると、以下に示す演算式により、図10に示
す特徴量演算領域(地合指数演算領域)10aの画像デ
ータを正規化する。
That is, the image data of the feature amount calculation area (formation index calculation area) 10a shown in FIG.
y), if the normalized image data is f ′ (x, y), the average luminance of the operation reference plane 51 is V1, and the average luminance of the operation reference plane 52 is V2, FIG. The image data of the indicated feature amount calculation area (formation index calculation area) 10a is normalized.

【0086】f’(x、y)=(255/(V2−V
1))×f(x、y)−255/(V2−V1)
F '(x, y) = (255 / (V2-V
1)) × f (x, y) −255 / (V2−V1)

【0087】なお、上式においては、最小を0、最大を
255として線形正規化を行ったが、最小値および最大
値および、正規化方式(線形、非線型)はCCDカメラ
30の特性を考慮して決定する。
In the above equation, the linear normalization is performed with the minimum being 0 and the maximum being 255. However, the minimum and maximum values and the normalization method (linear or non-linear) take into account the characteristics of the CCD camera 30. To decide.

【0088】特徴量演算処理部44では、画像処理演算
装置40のメモリ上に取り込まれた画像データから、運
用参照面51、52を撮像している領域以外の部分、す
なわち、図10に示す特徴量演算領域(地合指数演算領
域)10aの画像データを抽出し、この抽出した特徴量
演算領域(地合指数演算領域)10aの画像データの正
規化データから検査対象10の地合を特徴付ける複数の
特徴量を演算抽出する。
The characteristic amount calculation processing section 44 uses the image data fetched in the memory of the image processing calculation device 40 to a portion other than the area where the operation reference surfaces 51 and 52 are imaged, that is, the characteristic shown in FIG. The image data of the quantity calculation area (formation index calculation area) 10a is extracted, and a plurality of pieces of data that characterize the formation of the inspection target 10 are obtained from normalized data of the extracted image data of the feature quantity calculation area (formation index calculation area) 10a. The feature amount of is calculated and extracted.

【0089】ここで、検査対象10の地合を特徴付ける
複数の特徴量としては、 1)画像の均一度(画像の輝度データの標準偏差) 2)画像の明度(画像の輝度データの平均輝度) 3)画像の粗密度(画像データの一次微分値の内の一定
範囲の値になる画素数の総和) 等を用いることができる。
Here, a plurality of feature amounts characterizing the formation of the inspection object 10 include: 1) uniformity of an image (standard deviation of luminance data of an image) 2) lightness of an image (average luminance of luminance data of an image) 3) The coarse density of the image (sum of the number of pixels within a certain range of the first derivative of the image data) and the like can be used.

【0090】地合指数演算処理部45では、特徴量演算
処理部44で演算された複数の特徴量を線形結合し、検
査対象10の地合指数を演算する。この地合指数演算処
理部45における地合指数の演算において、結合時の重
み(結合係数)は、入力装置47から指定するように構
成することができる。
The formation index calculation processing section 45 linearly combines the plurality of feature values calculated by the feature value calculation processing section 44 and calculates the formation index of the inspection target 10. In the formation index calculation processing by the formation index calculation processing unit 45, the weight (coupling coefficient) at the time of combination can be configured to be designated from the input device 47.

【0091】地合指数演算処理部46で演算された地合
指数は、表示装置47に渡され、ここで表示される。
The formation index calculated by the formation index calculation processing section 46 is passed to the display device 47, where it is displayed.

【0092】図9は、上記画像処理演算装置401の処
理をフローチャートで示したものである。
FIG. 9 is a flowchart showing the processing of the image processing arithmetic unit 401.

【0093】図9において、まず、画像取り込み処理部
41によりCCDカメラ30で撮像した検査対象10の
画像を画像処理演算装置401の図示しないメモリ上に
画像データとして取り込む画像取り込みが行われる(ス
テップ201)。
Referring to FIG. 9, first, the image capture processing unit 41 captures an image of the inspection target 10 captured by the CCD camera 30 into image data on a memory (not shown) of the image processing arithmetic unit 401 (step 201). ).

【0094】次に、参照輝度演算処理部48により、参
照輝度、すなわち、図10に示す運用面平均輝度演算領
域52aの平均輝度(運用面平均輝度)が算出される
(ステップ202)。
Next, the reference luminance calculation processing section 48 calculates the reference luminance, that is, the average luminance (operation plane average luminance) of the operation plane average luminance calculation area 52a shown in FIG. 10 (step 202).

【0095】そして、ステップ202で算出された参照
輝度と設定値、すなわち、この画像処理演算装置401
の内部で保持している運用面平均輝度若しくは入力装置
47から入力された平均輝度設定値からなる設定値との
比較が行われる(ステップ203)。
Then, the reference luminance and the set value calculated in step 202, that is, the image processing arithmetic unit 401
Is compared with the operation surface average luminance stored in the storage unit or the set value including the average luminance set value input from the input device 47 (step 203).

【0096】ここで、参照輝度=設定値でないと判断さ
れると、すなわち、設定値と参照輝度との差の絶対値が
計測上の誤差δの範囲以上であると(ステップ203で
NO)、絞り値演算処理部43において、CCDカメラ
30に対する絞り制御値が演算され(ステップ20
4)、ステップ201に戻る。
If it is determined that the reference luminance is not equal to the set value, that is, if the absolute value of the difference between the set value and the reference luminance is greater than or equal to the range of the measurement error δ (NO in step 203), In the aperture value calculation processing section 43, an aperture control value for the CCD camera 30 is calculated (step 20).
4) Return to step 201.

【0097】また、ステップ203で、参照輝度=設定
値であると判断されると、すなわち、設定値と参照輝度
との差の絶対値が計測上の誤差δの範囲より小さいと
(ステップ203でYES)、正規化処理部44による
図10に示す特徴量演算領域(地合指数演算領域)10
aの画像データを正規化する正規化処理が行われる(ス
テップ205)。
If it is determined in step 203 that the reference luminance is equal to the set value, that is, if the absolute value of the difference between the set value and the reference luminance is smaller than the range of the measurement error δ (step 203). YES), the feature amount calculation area (formation index calculation area) 10 shown in FIG.
A normalization process for normalizing the image data a is performed (step 205).

【0098】次に、特徴量演算処理部44による正規化
処理がなされた画像データを用いた検査対象10の複数
の特徴量を演算する特徴量演算が行われる(ステップ2
06)。
Next, a feature value calculation for calculating a plurality of feature values of the inspection object 10 using the image data subjected to the normalization process by the feature value calculation processing section 44 is performed (step 2).
06).

【0099】このステップ206で演算された複数の特
徴量は、地合指数演算処理部45に渡され、ここで、複
数の特徴量が線形結合され、検査対象10の地合指数を
演算する処理、すなわち、地合指数演算が行われる(ス
テップ207)。
The plurality of feature values calculated in step 206 are passed to the formation index calculation processing unit 45, where the plurality of feature values are linearly combined to calculate the formation index of the inspection object 10. That is, formation index calculation is performed (step 207).

【0100】このステップ207で演算された地合指数
は、表示装置47に渡され、ここで地合指数表示が行わ
れ(ステップ208)、この処理を終了する。
The formation index calculated in step 207 is passed to the display device 47, where the formation index is displayed (step 208), and the process is terminated.

【0101】なお、図9に示した処理においては、CC
Dカメラ30の絞りを制御する校正処理と、検査対象1
0の地合指数を演算する計測処理とを同時に実行する運
用例を示したが、以下に示すような運用も可能である。
Note that, in the processing shown in FIG.
Calibration processing for controlling the aperture of D camera 30 and inspection object 1
Although the operation example in which the measurement processing for calculating the formation index of 0 is performed at the same time has been described, the following operation is also possible.

【0102】1)校正処理は、検査装置の起動毎に実行
する。 2)校正処理は、地合指数計測処理の実施前に毎回行
う。 3)校正処理は、地合指数計測処理に関係なく、一定時
間毎に行う。
1) The calibration process is executed every time the inspection apparatus is started. 2) The calibration process is performed each time before the formation index measurement process is performed. 3) The calibration process is performed at regular intervals regardless of the formation index measurement process.

【0103】また、上記構成においては、運用参照面5
1、52をCCDカメラ30の画面の上端に配置した
が、以下に示すような配置も可能である。
In the above configuration, the operation reference plane 5
Although 1, 52 are arranged at the upper end of the screen of the CCD camera 30, the following arrangements are also possible.

【0104】1)運用参照面51、52をCCDカメラ
30の画面の下端に配置する。 2)運用参照面51、52をCCDカメラ30の画面の
右端若しくは左端に配置する。 3)運用参照面51、52を分割し、 CCDカメラ3
0の画面上に分割配置する。
1) The operation reference surfaces 51 and 52 are arranged at the lower end of the screen of the CCD camera 30. 2) The operation reference surfaces 51 and 52 are arranged at the right end or the left end of the screen of the CCD camera 30. 3) Divide the operation reference surfaces 51 and 52, and
0 is divided and arranged on the screen.

【0105】図11は、この発明に係わる地合検査方法
および装置を適用して構成した地合検査装置の他の実施
の形態を概略構成図で示したものである。
FIG. 11 is a schematic configuration diagram showing another embodiment of a formation inspection apparatus to which the formation inspection method and apparatus according to the present invention are applied.

【0106】図11に示す構成において、検査対象であ
る不織布330は、第1の偏向フィルタである偏向フィ
ルタ320を介して透過光光源310により照射され、
不織布330を透過した光はカラーフィルタ340、第
2の偏向フィルタである偏向フィルタ350を介してC
CDカメラ360に取り込まれ、CCDカメラ360に
よる不織布330の透過画像が撮像される。
In the configuration shown in FIG. 11, the nonwoven fabric 330 to be inspected is irradiated by the transmitted light source 310 through the deflection filter 320 as the first deflection filter.
The light transmitted through the non-woven fabric 330 passes through a color filter 340 and a deflection filter 350 as a second deflection filter, and the light is transmitted through the non-woven fabric 330.
The image is taken into the CD camera 360, and a transmission image of the nonwoven fabric 330 is captured by the CCD camera 360.

【0107】このCCDカメラ360により撮像された
不織布330の画像は、画像処理装置370に取り込ま
れ、画像処理装置370においてこの不織布330の地
合を検査するための所定の処理がなされる。
The image of the nonwoven fabric 330 captured by the CCD camera 360 is taken into the image processing device 370, and the image processing device 370 performs a predetermined process for inspecting the formation of the nonwoven fabric 330.

【0108】ここで、第2の偏向フィルタである偏向フ
ィルタ350は、第1の偏向フィルタである偏向フィル
タ320と同じ偏向角になるように配置されている。
Here, the deflection filter 350 as the second deflection filter is disposed so as to have the same deflection angle as the deflection filter 320 as the first deflection filter.

【0109】また、カラーフィルタ340としては、赤
の光を選択的に透過させる赤のカラーフィルタが使用さ
れる。
As the color filter 340, a red color filter that selectively transmits red light is used.

【0110】なお、図11に示した構成において、偏向
フィルタ350とカラーフィルタ340の配置関係は逆
転してもよい。
In the configuration shown in FIG. 11, the arrangement relationship between the deflection filter 350 and the color filter 340 may be reversed.

【0111】ところで、このような構成によると、検査
対象である不織布330に入射する光は偏向フィルタ3
20によって、その偏光方向がそろっている。
By the way, according to such a configuration, the light incident on the non-woven fabric 330 to be inspected is
20, the polarization directions are aligned.

【0112】この偏光方向がそろっている光が、不織布
330の繊維に衝突すると、散乱によりさまざまな偏向
方向の光になる。
When the light having the same polarization direction collides with the fiber of the non-woven fabric 330, the light is scattered into light in various deflection directions.

【0113】ここで、不織布330の繊維の薄い部分で
は、この散乱の効果が少なく、偏向方向が変わる成分は
少ない。
Here, in the thin portion of the fiber of the nonwoven fabric 330, the scattering effect is small, and the component in which the deflection direction changes is small.

【0114】また、不織布330の繊維の厚い部分で
は、散乱の効果により、偏向方向の変わる成分が発生す
る。
In the thick part of the nonwoven fabric 330, a component whose deflection direction changes due to the scattering effect is generated.

【0115】そして、この不織布330を通過した光が
偏向フィルタ350を通過するとき、不織布330の繊
維の薄い部分を通過して来た光は、 1)繊維の吸収による減衰が少ない 2)散乱による偏向方向の変わった光の成分が少ない という作用により、光の減衰が少ない。
When the light that has passed through the nonwoven fabric 330 passes through the deflection filter 350, the light that has passed through the thin portions of the fibers of the nonwoven fabric 330 has the following effects: 1) little attenuation due to fiber absorption 2) scattering Due to the fact that the component of the light whose deflection direction has changed is small, the attenuation of the light is small.

【0116】逆に、不織布330の繊維の厚い部分を通
過した光は、 1)繊維の吸収による減衰が大きい 2)散乱による偏向方向の変わった光の成分が少ない という2重の作用により、光の減衰が多くなる。
Conversely, light that has passed through the thick portion of the fiber of the nonwoven fabric 330 has the following two effects: 1) the attenuation is large due to the absorption of the fiber; and 2) the component of the light whose deflection direction is changed due to the scattering is small. Increase in attenuation.

【0117】また、外乱光はあらゆる偏向方向の成分を
持っているが、外乱光が偏向フィルタ320を通過し、
また、不織布330で反射してくる間に、偏向フィルタ
320により偏向フィルタ320の偏向角と異なる成分
が落とされるため、外乱光の影響も抑制することができ
る。
Further, the disturbance light has components in all deflection directions, but the disturbance light passes through the deflection filter 320,
Further, while the light is reflected by the nonwoven fabric 330, a component different from the deflection angle of the deflection filter 320 is dropped by the deflection filter 320, so that the influence of disturbance light can be suppressed.

【0118】このような作用により、CCDカメラ36
0ではコントラストの改善された透過光画像を得ること
ができる。
With such an operation, the CCD camera 36
At 0, a transmitted light image with improved contrast can be obtained.

【0119】次に、その作用について説明する。Next, the operation will be described.

【0120】一般に、不織布330では、偏向フィルタ
320を通過した光が不織布330の圧着点(繊維の圧
着部分)で大きく散乱される。このため、カラーフィル
タ340を採用しない場合には、上記圧着点が黒点とし
てCCDカメラ360により撮像される。
In general, in the nonwoven fabric 330, the light that has passed through the deflection filter 320 is largely scattered at the compression point of the nonwoven fabric 330 (the press-bonded portion of the fiber). Therefore, when the color filter 340 is not used, the compression point is imaged by the CCD camera 360 as a black point.

【0121】この現象は、透過光光源310から発せら
れた光に多くの波長の成分が含まれるため、散乱の影響
を受け易いためであると考えられる。そこで、CCDカ
メラ360への光路に赤のカラーフィルタ340を挿入
し、この赤のカラーフィルタ340により散乱の影響が
少ない波長の長い成分のみを透過させるように構成する
ことで、圧着点の影響を最小限に押さえることが可能に
なる。
This phenomenon is considered to be because light emitted from the transmitted light source 310 contains components of many wavelengths and is easily affected by scattering. Therefore, a red color filter 340 is inserted into the optical path to the CCD camera 360, and the red color filter 340 is configured to transmit only a long wavelength component having a small influence of scattering. It is possible to minimize it.

【0122】なお、カラーフィルタの代わりに、赤色の
透過光光源もしくは、3CCDカメラのR出力のみを使
用することもできる。
Instead of the color filter, a red transmitted light source or only the R output of a 3CCD camera can be used.

【0123】このような構成によると、外乱光の影響を
押さえ、コントラストの高い地合画像を得ることが可能
になる。
According to such a configuration, it is possible to suppress the influence of disturbance light and obtain an image with high contrast.

【0124】なお、画像処理装置370においてこの不
織布330の地合を検査するための処理としては、例え
ば、図1乃至図10で説明した画像処理演算装置40、
400、401と同様の処理を採用することができる。
The processing for inspecting the formation of the nonwoven fabric 330 in the image processing device 370 includes, for example, the image processing operation device 40 described with reference to FIGS.
The same processing as 400 and 401 can be adopted.

【0125】このように図11に示したこの発明の実施
の形態においては、以下に示すような効果が期待でき
る。
In the embodiment of the present invention shown in FIG. 11, the following effects can be expected.

【0126】1)第1の偏向フィルタである偏向フィル
タ320と第2の偏向フィルタである偏向フィルタ35
0との偏向角を同一とすることにより、弱い透過光光源
においても、外乱光の影響を押さえた、鮮明な透過光画
像を得ることが可能になる。
1) The deflection filter 320 as the first deflection filter and the deflection filter 35 as the second deflection filter
By setting the deflection angle to 0 to be the same, it is possible to obtain a clear transmitted light image that suppresses the influence of disturbance light even with a weak transmitted light source.

【0127】2)赤系のカラーフィルタ34を使用する
ことにより、不織布330の圧着点において散乱し難い
波長の光による画像を得ることができるので、不織布3
30の圧着点の影響を押さえた画像を得ることができ、
これにより精度の高い地合品質の検査が可能となる。
2) By using the red color filter 34, it is possible to obtain an image with light having a wavelength that is hardly scattered at the compression point of the non-woven fabric 330.
It is possible to obtain an image that suppresses the effect of 30 crimp points,
This enables highly accurate formation quality inspection.

【0128】図12は、この発明に係わる地合検査方法
および装置を適用して構成した地合検査装置の更に他の
実施の形態を概略構成図で示したものである。
FIG. 12 is a schematic configuration diagram showing still another embodiment of a formation inspection apparatus to which the formation inspection method and apparatus according to the present invention are applied.

【0129】図12に示す構成は、図11の構成におい
て、カラーフィルタ340の透過光をビームスプリッタ
830により2つの光に分割し、一方の光は第2の偏向
フィルタである偏向フィルタ350を介してCCDカメ
ラ360に取り込まれ、CCDカメラ360による不織
布330の透過画像(第1の画像)が撮像されるが、他
方の光は反射鏡381、第3の偏向フィルタである偏向
フィルタ351を介してCCDカメラ361に取り込ま
れ、CCDカメラ361による不織布330の透過画像
(第2の画像)が撮像される。
The structure shown in FIG. 12 is different from the structure shown in FIG. 11 in that the light transmitted through the color filter 340 is split into two lights by a beam splitter 830, and one of the lights passes through a deflection filter 350 which is a second deflection filter. Then, a transmission image (first image) of the nonwoven fabric 330 is captured by the CCD camera 360, and the other light is transmitted through the reflecting mirror 381 and the deflection filter 351 which is the third deflection filter. The image is captured by the CCD camera 361, and a transmission image (second image) of the nonwoven fabric 330 is captured by the CCD camera 361.

【0130】ここで、第2の偏向フィルタである偏向フ
ィルタ350は、図6と同様に、第1の偏向フィルタで
ある偏向フィルタ320と同じ偏向角になるように配置
されているが、第3の偏向フィルタである偏向フィルタ
351は、第1の偏向フィルタである偏向フィルタ32
0と直交する偏向角になるように配置されている。
Here, the deflection filter 350 as the second deflection filter is arranged so as to have the same deflection angle as the deflection filter 320 as the first deflection filter, as in FIG. The deflection filter 351 which is the first deflection filter is the deflection filter 32 which is the first deflection filter.
They are arranged to have a deflection angle orthogonal to 0.

【0131】このような構成において、CCDカメラ3
60により撮像される第1の画像は、図11に示した構
成と同様に、主に、透過光光源310を源とした、透過
光による画像である。
In such a configuration, the CCD camera 3
The first image picked up by 60 is mainly an image formed by transmitted light using the transmitted light source 310 as in the configuration shown in FIG.

【0132】しかし、CCDカメラ361により撮像さ
れる第2の画像は、偏向フィルタ320と偏向フィルタ
351の偏向角が直交しているため、 1)外乱光が検査対象の不織布の表面で反射したものに
よる画像と 2)透過光光源から光が不織布の繊維による散乱によっ
て偏向角が変わったことによる透過光の画像の合成画像
である。
However, the second image picked up by the CCD camera 361 is because the deflection angles of the deflection filter 320 and the deflection filter 351 are orthogonal to each other. 1) Disturbance light reflected on the surface of the nonwoven fabric to be inspected 2) is a composite image of the transmitted light image due to the change in the deflection angle due to the scattering of the light from the transmitted light source by the fibers of the nonwoven fabric.

【0133】ここで、上記2)の透過光光源から光が不
織布の繊維による散乱によって偏向角が変わったことに
よる透過光の画像は、繊維の厚い部分が明るく、繊維の
薄い部分が暗くなる。
Here, the image of the transmitted light due to the change in the deflection angle due to the scattering of the light from the transmitted light source by the fibers of the non-woven fabric in the above 2) is such that the thick portions of the fibers are bright and the thin portions of the fibers are dark.

【0134】そこで、この実施の形態においては、CC
Dカメラ360およびCCDカメラ361の後段に、C
CDカメラ360により撮続された第1の画像からCC
Dカメラ361により撮像された第2の画像を減算する
減算回路390を設ける。
Therefore, in this embodiment, CC
After the D camera 360 and the CCD camera 361, C
CC from the first image taken by CD camera 360
A subtraction circuit 390 for subtracting the second image captured by the D camera 361 is provided.

【0135】この減算回路390による減算により得ら
れ画像は、検査対象の不織布330の薄い部分が明る
く、厚い部分が暗いCCDカメラ360の画像から、薄
い部分が暗く、厚い部分が明るいCCDカメラ361の
画像を引くことになるため、明部と暗部のコントラスト
を大きく改善することができる。
The image obtained by the subtraction by the subtraction circuit 390 is different from that of the CCD camera 360 in which the thin portion of the nonwoven fabric 330 to be inspected is bright and the thick portion is dark, and the image of the CCD camera 361 in which the thin portion is dark and the thick portion is bright. Since the image is drawn, the contrast between the bright part and the dark part can be greatly improved.

【0136】なお、減算回路390において、減算結果
が負になるときはゼロを出力する。
In the subtraction circuit 390, when the subtraction result becomes negative, zero is output.

【0137】これにより、外乱光の影響を押さえ、コン
トラストの高い地合の画像を得ることができる。
As a result, it is possible to suppress the influence of disturbance light and obtain an image with a high contrast.

【0138】このように、この図12に示す実施の形態
によると、以下に示す効果が期待できる。
As described above, according to the embodiment shown in FIG. 12, the following effects can be expected.

【0139】1)赤糸のカラーフィルタ340を使用す
ることにより、圧着点において散乱し難い波長の光によ
る画像を得ることができるので、検査対象の不織布33
0の圧着点の影響を押さえた画像を得ることができる。
1) By using the red thread color filter 340, it is possible to obtain an image with light having a wavelength that is hardly scattered at the crimping point.
It is possible to obtain an image in which the influence of the crimping point of 0 is suppressed.

【0140】2)CCDカメラ360の得る画像は、主
に透過光の影響を多く含み、CCDカメラ361の得る
画像は、主に外乱光による反射光の影響を多く含むの
で、CCDカメラ360の画像からCCDカメラ361
の画像を減算することにより、画像から外乱光の影響を
減少させ、検査対象の不織布330の繊維の状態を反映
した、非常にコントラストの高い画像を得ることがで
き、これにより、精度の高い地合い品質の検査が可能と
なる。
2) The image obtained by the CCD camera 360 mainly includes a large amount of transmitted light, and the image obtained by the CCD camera 361 mainly includes a large amount of reflected light due to disturbance light. From the CCD camera 361
By subtracting the image, the influence of disturbance light can be reduced from the image, and a very high-contrast image reflecting the state of the fibers of the nonwoven fabric 330 to be inspected can be obtained. Inspection of quality becomes possible.

【0141】図13は、この発明に係わる地合検査方法
および装置を適用して構成した地合検査装置の更に他の
実施の形態を概略構成図で示したものである。
FIG. 13 is a schematic configuration diagram showing still another embodiment of a formation inspection apparatus to which the formation inspection method and apparatus according to the present invention are applied.

【0142】図13に示す構成は、図11の構成におい
て、図11に示した第2の偏向フィルタである偏向フィ
ルタ350の代わりに第1の偏向フィルタである偏向フ
ィルタ320と直交する偏向角になるように配置された
偏向フィルタ353を設けた点が図11に示した構成と
異なる。他の構成は、図11に示した構成と同様であ
る。
The configuration shown in FIG. 13 is different from the configuration shown in FIG. 11 in that the deflection angle is orthogonal to the deflection filter 320 as the first deflection filter instead of the deflection filter 350 as the second deflection filter shown in FIG. The configuration shown in FIG. 11 differs from the configuration shown in FIG. The other configuration is the same as the configuration shown in FIG.

【0143】この図13に示す構成によると、CCDカ
メラ360により撮像された不織布330の画像は、不
織布330の圧着点が白く鮮明に見える。
According to the configuration shown in FIG. 13, in the image of the nonwoven fabric 330 taken by the CCD camera 360, the pressure-bonded point of the nonwoven fabric 330 looks white and clear.

【0144】ここで、この圧着点は検査対象の不織布3
30の地合の状態がよい場合、背景に対して良好なコン
トラストで見える。
Here, this crimping point is determined by the nonwoven fabric 3 to be inspected.
When the condition of 30 formations is good, the image looks good with respect to the background.

【0145】逆に、検査対象の不織布330の地合の状
態が悪いときには、背景に対するコントラストが低く、
鮮明に見えない。
Conversely, when the condition of the nonwoven fabric 330 to be inspected is poor, the contrast with the background is low.
It doesn't look sharp.

【0146】従って、この鮮明な圧着点の数を数えるこ
とにより、検査対象の不織布330の地合を評価するこ
とができる。
Therefore, the formation of the nonwoven fabric 330 to be inspected can be evaluated by counting the number of the clear pressure bonding points.

【0147】図14は、この図13に示す実施の形態に
おける画像処理装置370における上記地合を評価する
処理をフローチャートで示したものである。
FIG. 14 is a flowchart showing a process of evaluating the formation in the image processing device 370 in the embodiment shown in FIG.

【0148】図14において、まず、CCDカメラ36
0による撮像画像を画像データとして取り込む(ステッ
プ401)。
In FIG. 14, first, the CCD camera 36
The captured image according to 0 is captured as image data (step 401).

【0149】次に、この取り込んだ画像データに平滑フ
ィルタ処理を施し、ノイズを除去する(ステップ40
2)。そして、このノイズを除去した画像データををn
×mピクセルごとの領域に分割し、この分割された各領
域ごとの輝度の平均値を求め、輝度の平均値を閾値とし
て2値化する(ステップ403)。
Next, the captured image data is subjected to smoothing filter processing to remove noise (step 40).
2). Then, the image data from which the noise has been removed is
The image is divided into regions of × m pixels, an average value of the luminance of each of the divided regions is obtained, and binarization is performed using the average value of the luminance as a threshold (step 403).

【0150】次に、この2値化された画像の中から圧着
点を探すために、図15に示すような基準パターンを用
いて、パターンマッチングを行う(ステップ404)。
Next, in order to search for a compression point from the binarized image, pattern matching is performed using a reference pattern as shown in FIG. 15 (step 404).

【0151】このパターンマッチングの結果、適合度が
75%以上の点の数を得、これを圧着点個数として検出
する(ステップ405)。
As a result of this pattern matching, the number of points having a degree of conformity of 75% or more is obtained, and this is detected as the number of crimping points (step 405).

【0152】そして、このステップ405で検出した圧
着点個数を地合指数として出力し(ステップ406)、
この処理を終了する。
Then, the number of crimping points detected in step 405 is output as formation index (step 406),
This processing ends.

【0153】このような構成によると、検査対象である
不織布330の圧着点の画像を鮮明に得ることができる
ので、容易に地合を計測できる。
According to such a configuration, a clear image of the crimping point of the nonwoven fabric 330 to be inspected can be obtained clearly, so that formation can be easily measured.

【0154】この図13に示す実施の形態によると、以
下に示すような効果が期待できる。
According to the embodiment shown in FIG. 13, the following effects can be expected.

【0155】1)経験則的に、不織布の地合のよいもの
は、圧着点が鮮明に検出でき、地合の悪いものは、圧着
点が不鮮明になるので、偏向フィルタ320と偏向フィ
ルタ353を直交して配置することにより、不織布の圧
着点の画像を非常に鮮明に得ることができ、ここで、パ
タンマッチングにより検出できた圧着点の数を数えれ
ば、数の多少で不織布の地合を間接的に評価できる。
1) As a rule of thumb, when the nonwoven fabric is well-formed, the crimping point can be clearly detected, and when the nonwoven fabric is poorly formed, the crimping point becomes unclear. By arranging at right angles, it is possible to obtain a very clear image of the crimping points of the nonwoven fabric. Here, if the number of crimping points detected by pattern matching is counted, the formation of the nonwoven fabric can be obtained with a certain number. Can be evaluated indirectly.

【0156】2)計測上障害となる圧着点を逆に利用す
ることで、容易に不織布の地合品質を評価できる。
2) The formation quality of the nonwoven fabric can be easily evaluated by using the crimping point which is an obstacle in measurement in reverse.

【0157】[0157]

【発明の効果】以上説明したようにこの発明によれば、
以下に示すような効果が得られる。
As described above, according to the present invention,
The following effects can be obtained.

【0158】1)カメラ画像から輝度を基に絞りを調整
するため、光源、CCDなどの経時/温度変化の影響を
受けない計測が可能となる。
1) Since the aperture is adjusted based on the luminance from the camera image, measurement can be performed without being affected by the aging / temperature change of the light source, the CCD, and the like.

【0159】2)また、運用参照面は製造装置の状態に
関係なく配置可能であり、かつ運用参照面を基に製造装
置が稼動中にも校正が可能である。
2) The operation reference plane can be arranged irrespective of the state of the manufacturing apparatus, and can be calibrated based on the operation reference plane while the manufacturing apparatus is operating.

【0160】3)製造装置の稼働中に校正が可能である
ので、地合の絶対値計測が可能になる。
3) Since calibration can be performed during the operation of the manufacturing apparatus, the absolute value of formation can be measured.

【0161】4)第1の偏向フィルタと第2の偏向フィ
ルタの偏向角を同一とすることにより、弱い透過光光源
においても、外乱光の影響を押さえた、鮮明な透過光画
像を得ることが可能となる。
4) By setting the deflection angles of the first deflection filter and the second deflection filter to be the same, it is possible to obtain a clear transmitted light image in which the influence of disturbance light is suppressed even with a weak transmitted light source. It becomes possible.

【0162】5)赤系のカラーフィルタを使用すること
により、圧着点において散乱し難い波長の光による画像
を得ることができるので、圧着点の影響を押さえた画像
を得ることができ、精度の高い地合品質の検査が可能と
なる。
5) By using a red color filter, it is possible to obtain an image with light having a wavelength that is hardly scattered at the compression point, so that it is possible to obtain an image in which the influence of the compression point is suppressed, and to obtain a high accuracy. Inspection of high formation quality becomes possible.

【0163】6)赤系のカラーフィルタを使用すること
により、圧着点において散乱し難い波長の光による画像
を得ることができるので、圧着点の影響を押さえた画像
を得ることができる。
6) By using a red color filter, an image can be obtained with light having a wavelength that is hardly scattered at the compression point, and an image with less influence of the compression point can be obtained.

【0164】7)第1の撮像手段の得る画像は、主に透
過光の影響を多く含み、第2の撮像手段の得る画像は、
主に外乱光による反射光の影響を多く含むので、第1の
撮像手段の画像から第2の撮像手段の画像を減算するこ
とにより、画像から外乱光の影響を減少させ、不織布の
繊維の状態を反映した、非常にコントラストの高い画像
を得ることができ、これにより、精度の高い地合い品質
の検査が可能となる。
7) The image obtained by the first image pickup means mainly includes much influence of transmitted light, and the image obtained by the second image pickup means
Since the influence of the reflected light mainly due to disturbance light is largely included, the influence of disturbance light is reduced from the image by subtracting the image of the second imaging means from the image of the first imaging means, and the state of the fiber of the nonwoven fabric is reduced. , An image having a very high contrast can be obtained, thereby enabling highly accurate formation quality inspection.

【0165】8)経験則的に、不織布の地合のよいもの
は、圧着点が鮮明に検出でき、地合の悪いものは、圧着
点が不鮮明になるので、第1の偏向フィルタと第2の偏
向フィルタを直交して配置し、不織布の圧着点の画像を
非常に鮮明に得ることができるようにし、パタンマッチ
ングにより検出できた圧着点の数を数えれば、数の多少
で不織布の地合を間接的に評価できる。
8) As a rule of thumb, when the nonwoven fabric is well-formed, the crimping point can be clearly detected, and when the nonwoven fabric is poorly formed, the crimping point becomes unclear. Are arranged orthogonally, so that the image of the crimping points of the nonwoven fabric can be obtained very clearly, and if the number of crimping points detected by pattern matching is counted, the Can be evaluated indirectly.

【0166】9)計測上障害となる圧着点を逆に利用す
ることで、容易に不織布の地合品質を評価できる。
9) The formation quality of the nonwoven fabric can be easily evaluated by using the crimping point which is an obstacle in measurement in reverse.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明に係わる地合検査方法および装置を適
用して構成した地合検査装置の一実施の形態を示す概略
構成図。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing one embodiment of a formation inspection apparatus configured by applying a formation inspection method and apparatus according to the present invention.

【図2】図1に示した画像処理演算装置の処理を説明す
るためのブロック図。
FIG. 2 is a block diagram for explaining processing of the image processing operation device shown in FIG. 1;

【図3】図1に示した画像処理演算装置の処理を説明す
るためのフローチャート。
FIG. 3 is a flowchart for explaining processing of the image processing operation device shown in FIG. 1;

【図4】図1に示した画像処理演算装置の処理を説明す
るための図。
FIG. 4 is a view for explaining processing of the image processing operation device shown in FIG. 1;

【図5】この発明に係わる地合検査方法および装置を適
用して構成した地合検査装置の他の実施の形態を示す概
略構成図。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram showing another embodiment of the formation inspection apparatus configured by applying the formation inspection method and apparatus according to the present invention.

【図6】図5に示した画像処理演算装置の処理を説明す
るための図。
FIG. 6 is a view for explaining processing of the image processing operation device shown in FIG. 5;

【図7】この発明に係わる地合検査方法および装置を適
用して構成した地合検査装置のさらに他の実施の形態を
示す概略構成図。
FIG. 7 is a schematic configuration diagram showing still another embodiment of a formation inspection apparatus formed by applying the formation inspection method and apparatus according to the present invention.

【図8】図7に示した画像処理演算装置の処理を説明す
るためのブロック図。
FIG. 8 is a block diagram for explaining processing of the image processing operation device shown in FIG. 7;

【図9】図7に示した画像処理演算装置の処理を説明す
るためのフローチャート。
FIG. 9 is a flowchart for explaining processing of the image processing operation device shown in FIG. 7;

【図10】図7に示した画像処理演算装置の処理を説明
するための図。
FIG. 10 is a view for explaining processing of the image processing operation device shown in FIG. 7;

【図11】この発明に係わる地合検査方法および装置を
適用して構成した地合検査装置の他の実施の形態を示す
概略構成図。
FIG. 11 is a schematic configuration diagram showing another embodiment of a formation inspection apparatus to which the formation inspection method and apparatus according to the present invention are applied.

【図12】この発明に係わる地合検査方法および装置を
適用して構成した地合検査装置の更に他の実施の形態を
示す概略構成図。
FIG. 12 is a schematic configuration diagram showing still another embodiment of a formation inspection apparatus configured by applying the formation inspection method and apparatus according to the present invention.

【図13】この発明に係わる地合検査方法および装置を
適用して構成した地合検査装置の更に他の実施の形態を
示す概略構成図。
FIG. 13 is a schematic configuration diagram showing still another embodiment of a formation inspection apparatus to which the formation inspection method and apparatus according to the present invention are applied.

【図14】図13に示した画像処理装置における上記地
合を評価する処理を示すフローチャート。
FIG. 14 is a flowchart showing processing for evaluating the formation in the image processing apparatus shown in FIG. 13;

【図15】図13に示したフローチャートにおけるパタ
ーンマッチングで使用する基準パターンの一例を示す
図。
FIG. 15 is a view showing an example of a reference pattern used in pattern matching in the flowchart shown in FIG. 13;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 検査対象 20 照明 30 CCDカメラ 40、400、401 画像処理演算装置 41 画像取り込み処理部 42、48 参照輝度演算処理部 43 絞り値演算処理部 44 特徴量演算処理部 45 地合指数演算処理部 46 表示装置 47 入力装置 49 正規化処理部 310 透過光光源 320 偏向フィルタ 330 不織布 340 カラーフィルタ 350 偏向フィルタ 351 偏向フィルタ 360 CCDカメラ 361 CCDカメラ 370 画像処理装置 380 ビームスプリッタ 381 反射鏡 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Inspection object 20 Illumination 30 CCD camera 40, 400, 401 Image processing operation unit 41 Image capture processing unit 42, 48 Reference luminance operation processing unit 43 Aperture value operation processing unit 44 Feature amount operation processing unit 45 Formation index operation processing unit 46 Display device 47 Input device 49 Normalization processing unit 310 Transmitted light source 320 Deflection filter 330 Non-woven fabric 340 Color filter 350 Deflection filter 351 Deflection filter 360 CCD camera 361 CCD camera 370 Image processing device 380 Beam splitter 381 Reflecting mirror

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 検査対象の地合を検査する地合検査方法
において、 上記検査対象および運用参照面の反射光若しくは透過光
の画像を撮像し、 該撮像した運用参照面の画像に基づき校正処理を行うと
ともに、該撮像した検査対象の画像から検査対象の複数
の特徴量を抽出し、 該抽出した複数の特徴量から上記検査対象の地合を検査
することを特徴とする地合検査方法。
1. A formation inspection method for inspecting the formation of an inspection object, wherein an image of reflected light or transmitted light of the inspection object and the operation reference surface is captured, and a calibration process is performed based on the captured image of the operation reference surface. And extracting a plurality of feature amounts of the inspection target from the captured image of the inspection target, and inspecting the formation of the inspection target from the extracted plurality of feature amounts.
【請求項2】 検査対象の地合を検査する地合検査装置
において、 上記検査対象および運用参照面を照射する光源と、 上記光源の照射による上記検査対象および運用参照面か
らの反射光若しくは透過光の画像を撮像する撮像手段
と、 上記撮像手段で撮像した上記運用参照面の画像から上記
撮像手段を校正制御する校正制御手段と、 上記撮像手段で撮像した上記検査対象の画像から複数の
特徴量を抽出する特徴量抽出手段と、 上記特徴量抽出手段で抽出した複数の特徴量から上記検
査対象の地合を検査する検査手段と、 を具備することを特徴とする地合検査装置。
2. A formation inspection apparatus for inspecting the formation of an inspection object, comprising: a light source for irradiating the inspection object and the operation reference surface; and reflected light or transmission from the inspection object and the operation reference surface due to irradiation of the light source. Imaging means for capturing an image of light; calibration control means for calibrating and controlling the imaging means from the image of the operation reference plane captured by the imaging means; and a plurality of features from the image of the inspection object captured by the imaging means. A formation inspection apparatus, comprising: a feature amount extraction unit that extracts a quantity; and an inspection unit that inspects the formation of the inspection target from a plurality of feature amounts extracted by the feature amount extraction unit.
【請求項3】 検査対象の地合を検査する地合検査方法
において、 光源からの光を第1の偏向フィルタを介して上記検査対
象に照射し、 該検査対象の透過光を特定の色の成分を抽出するカラー
フィルタおよび上記第1の偏向フィルタと同一の偏向角
に設定された第2の偏向フィルタを通過させ、 上記カラーフィルタおよび上記第2の偏向フィルタを通
過した光から上記検査対象の画像を撮像して該撮像した
画像に基づき上記検査対象の地合を検査することを特徴
とする地合検査方法。
3. A formation inspection method for inspecting the formation of an inspection object, wherein the inspection object is irradiated with light from a light source via a first deflecting filter, and transmitted light of the inspection object has a specific color. The light is passed through a color filter for extracting components and a second deflection filter set at the same deflection angle as the first deflection filter, and from the light passed through the color filter and the second deflection filter, A formation inspection method, comprising taking an image and inspecting the formation of the inspection object based on the taken image.
【請求項4】 検査対象の地合を検査する地合検査方法
において、 光源からの光を第1の偏向フィルタを介して上記検査対
象に照射し、 該検査対象の透過光を上記第1の偏向フィルタと直交す
る偏向角に設定された第2の偏向フィルタを通過させ、 上記第2の偏向フィルタを通過した光から上記検査対象
の画像を撮像して該撮像した画像に基づき上記検査対象
の地合を検査することを特徴とする地合検査方法。
4. A formation inspection method for inspecting the formation of an inspection object, wherein the inspection object is irradiated with light from a light source via a first deflection filter, and transmitted light of the inspection object is transmitted to the first object. The light passes through a second deflection filter set at a deflection angle orthogonal to the deflection filter, captures an image of the inspection target from light passing through the second deflection filter, and performs inspection of the inspection target based on the captured image. A formation inspection method characterized by inspecting formation.
【請求項5】 上記撮像した画像を2値化し、該2値化
した画像のパターンマッチングにより上記検査対象の圧
着点を検出し、該検出した圧着点の数を地合指数として
検査対象の地合を評価することを特徴とする請求項4記
載の地合検査方法。
5. The image picked-up image is binarized, the crimping point of the inspection target is detected by pattern matching of the binarized image, and the number of the detected crimping points is used as a formation index to determine the ground of the inspection target. 5. The formation inspection method according to claim 4, wherein the combination is evaluated.
【請求項6】 検査対象の地合を検査する地合検査方法
において、 光源からの光を第1の偏向フィルタを介して上記検査対
象に照射し、 該検査対象の透過光から特定の色の成分を抽出するとと
もに、 上記抽出した光を2つの光に分離し、 上記分離した一方の光を上記第1の偏向フィルタと同一
の偏向角に設定された第2の偏向フィルタを通過させる
とともに、 上記分離した他方の光を上記第1の偏向フィルタと直交
する偏向角に設定された第3の偏向フィルタを通過させ
上記第2の偏向フィルタを通過した光から上記検査対象
の第1の画像を撮像するとともに、 上記第3の偏向フィルタを通過した光から上記検査対象
の第2の画像を撮像し、 上記第1の画像から上記第2の画像を減算した画像に基
づき上記検査対象の地合を検査することを特徴とする地
合検査方法。
6. A formation inspection method for inspecting the formation of an inspection object, wherein the inspection object is irradiated with light from a light source via a first deflection filter, and a specific color of light is transmitted from the inspection object. A component is extracted, the extracted light is separated into two lights, and one of the separated lights is passed through a second deflection filter set at the same deflection angle as the first deflection filter, The other separated light passes through a third deflection filter set at a deflection angle orthogonal to the first deflection filter, and the first image of the inspection object is converted from the light passing through the second deflection filter. A second image of the inspection target is captured from the light that has passed through the third deflection filter, and the formation of the inspection target is determined based on an image obtained by subtracting the second image from the first image. Inspecting Formation testing method which is characterized.
【請求項7】 検査対象の地合を検査する地合検査装置
において、 上記検査対象を照射する光源と、 上記光源と上記検査対象との間に配置される第1の偏向
フィルタと、 上記検査対象の透過光から特定の色の成分を抽出するカ
ラーフィルタと、 上記検査対象の透過光を通過させる上記第1の偏向フィ
ルタと同一の偏向角に設定された第2の偏向フィルタ
と、 上記カラーフィルタおよび上記第2の偏向フィルタを通
過した光から上記検査対象の画像を撮像する撮像手段
と、 上記撮像手段で撮像した画像に基づき上記検査対象の地
合を検査する検査手段と、 を具備することを特徴とする地合検査装置。
7. A formation inspection apparatus for inspecting the formation of an inspection object, a light source for irradiating the inspection object, a first deflection filter disposed between the light source and the inspection object, A color filter for extracting a component of a specific color from the transmitted light of the object, a second deflection filter set at the same deflection angle as the first deflection filter for transmitting the transmitted light of the inspection object, Imaging means for capturing the image of the inspection target from light having passed through the filter and the second deflection filter; and inspection means for inspecting the formation of the inspection target based on the image captured by the imaging means. A formation inspection device characterized by the above-mentioned.
【請求項8】 検査対象の地合を検査する地合検査装置
において、 上記検査対象を照射する光源と、 上記光源と上記検査対象との間に配置される第1の偏向
フィルタと、 上記検査対象の透過光を通過させる上記第1の偏向フィ
ルタと直交する偏向角に設定された第2の偏向フィルタ
と、 上記第2の偏向フィルタを通過した光から上記検査対象
の画像を撮像する撮像手段と、 上記撮像手段で撮像した画像に基づき上記検査対象の地
合を検査する検査手段と、 を具備することを特徴とする地合検査装置。
8. A formation inspection apparatus for inspecting formation of an inspection object, a light source for irradiating the inspection object, a first deflection filter arranged between the light source and the inspection object, and the inspection A second deflecting filter set at a deflection angle orthogonal to the first deflecting filter that allows the transmitted light of the object to pass therethrough, and an imaging unit that captures the image of the inspection target from the light that has passed through the second deflecting filter And an inspection means for inspecting the formation of the inspection object based on the image picked up by the image pickup means.
【請求項9】 上記撮像手段で撮像した画像を2値化す
る2値化手段と、 上記2値化手段で2値化した画像のパターンマッチング
により上記検査対象の圧着点を検出する圧着点検出手段
と、 上記圧着点検出手段で検出した圧着点の数を地合指数と
して出力する出力手段と、 を具備することを特徴とする請求項8記載の地合検査装
置。
9. A binarizing unit for binarizing an image taken by the imaging unit, and a crimping point detection for detecting the crimping point of the inspection object by pattern matching of the image binarized by the binarizing unit. 9. The formation inspection device according to claim 8, further comprising: means, and output means for outputting the number of compression points detected by the compression point detection means as a formation index.
【請求項10】 検査対象の地合を検査する地合検査装
置において、 上記検査対象を照射する光源と、 上記光源と上記検査対象との間に配置される第1の偏向
フィルタと、 上記検査対象の透過光から特定の色の成分を抽出するカ
ラーフィルタと、 上記カラーフィルタで抽出された光を2つの光に分離す
るビームスプリッタと、 上記ビームスプリッタで分離した一方の光を通過させる
上記第1の偏向フィルタと同一の偏向角に設定された第
2の偏向フィルタと、 上記ビームスプリッタで分離した他方の光を通過させる
上記第1の偏向フィルタと直交する偏向角に設定された
第3の偏向フィルタと、 上記第2の偏向フィルタを通過した光から上記検査対象
の第1の画像を撮像する第1の撮像手段と、 上記第3の偏向フィルタを通過した光から上記検査対象
の第2の画像を撮像する第2の撮像手段と、 上記第1の撮像手段で撮像された上記第1の画像から上
記第2の撮像手段で撮像された第2の画像を減算する減
算手段と、 上記減算手段による減算処理で求められる画像に基づき
上記検査対象の地合を検査する検査手段と、 を具備することを特徴とする地合検査装置。
10. A formation inspection apparatus for inspecting the formation of an inspection object, a light source for irradiating the inspection object, a first deflection filter arranged between the light source and the inspection object, A color filter that extracts a specific color component from the transmitted light of the target, a beam splitter that separates the light extracted by the color filter into two lights, and a light beam that passes one of the lights separated by the beam splitter. A second deflection filter set to the same deflection angle as the first deflection filter, and a third deflection filter set to a deflection angle orthogonal to the first deflection filter that passes the other light separated by the beam splitter. A deflecting filter, a first imaging unit that captures the first image of the inspection target from the light that has passed through the second deflecting filter, and a light that has passed through the third deflecting filter. A second imaging unit that captures a second image of the inspection target, and a second image that is captured by the second imaging unit is subtracted from the first image that is captured by the first imaging unit. 1. A formation inspection device, comprising: a subtraction unit that performs the subtraction processing;
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102998313A (en) * 2012-12-12 2013-03-27 江南大学 Image acquisition and processing method for quality detection of compact spinning lattice apron
KR101254117B1 (en) 2006-12-19 2013-04-12 재단법인 포항산업과학연구원 A Method of image processing for textile inspection
CN104048975A (en) * 2014-06-26 2014-09-17 浙江知音纺织科技有限公司 Assembly line for automatically detecting quality of gray cloth of seamless underwear
CN110715937A (en) * 2018-07-12 2020-01-21 株式会社丰田自动织机 Fabric inspection device for loom

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