JPH1187224A - Coating device and method - Google Patents

Coating device and method

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Publication number
JPH1187224A
JPH1187224A JP9247093A JP24709397A JPH1187224A JP H1187224 A JPH1187224 A JP H1187224A JP 9247093 A JP9247093 A JP 9247093A JP 24709397 A JP24709397 A JP 24709397A JP H1187224 A JPH1187224 A JP H1187224A
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JP
Japan
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coating liquid
coating
tank
liquid
nozzle
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP9247093A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Eiji Okuno
英治 奥野
Kazuto Ozaki
一人 尾崎
Kazuo Kise
一夫 木瀬
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH1187224A publication Critical patent/JPH1187224A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve reproducibility and stability of coating performance, while increasing the design freedom by constantly filling up a coating solution vessel by supplementing the coating solution drawn up from the vessel for the coating work from an external tank. SOLUTION: An external tank 5 and a fixed quantity discharging and sucking up unit 8 are connected to a coating solution vessel 11. In the coating starting time, first, a fixed quantity of coating solution is fed to the vessel 11 from the unit 8, and then coating solution is fed to the vessel 11 from an atmospheric opened external tank 5 so as to initially form a reservoir part. Moreover, the coating solution in the vessel 11 is coated on a substrate S by coating a work, the coating solution equivalent to the consumed amount is supplied to the vessel 11 from the external tank 5 for constantly filling up the vessel 11 with the coating solution at all times. Furthermore, when a nozzle 1 reaches a final coating position, the quantity discharging and sucking up unit 8 sucks up the fixed quantity of the coating solution from the coating solution vessel 11.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示デバイス
(LCD)、プラズマ表示デバイス(PDP)、半導体
デバイスおよび各種電子部品などの製造プロセスにおい
て、LCDまたはPDP用ガラス基板、半導体基板およ
びプリント基板などの各種基板の被塗布面に対して、フ
ォトレジスト膜、カラーフィルタ材、平坦化材、層間絶
縁膜、絶縁膜および導電膜などを形成するために各種塗
布液を毛管現象で汲み上げて塗布する塗布装置および塗
布方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a process for manufacturing a liquid crystal display device (LCD), a plasma display device (PDP), a semiconductor device, various electronic parts, and the like. Coating by pumping various coating liquids by capillary action to form a photoresist film, color filter material, flattening material, interlayer insulating film, insulating film, conductive film, etc. on the coating surface of various substrates The present invention relates to an apparatus and a coating method.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、液晶表示デバイスや半導体デ
バイスなどの製造プロセスにおいて、基板を水平に保っ
た状態で回転させ、その中央部に塗布液を供給して塗布
液に遠心力を与えることで、基板表面上の中央部から外
周部に均一に塗布液を塗布する回転塗布方式が広く利用
されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a manufacturing process of a liquid crystal display device, a semiconductor device, or the like, a substrate is rotated while being kept horizontal, a coating liquid is supplied to a central portion thereof, and a centrifugal force is applied to the coating liquid. A spin coating method for uniformly applying a coating liquid from a central portion to an outer peripheral portion on a substrate surface is widely used.

【0003】ところが、この回転塗布方式では、基板の
大型化や角形化の傾向とも相俟って、塗布液を遠心力で
外方に飛ばすため、使用される塗布液の有効利用という
点で無駄があり、塗布液の利用効率が悪かった。また、
角形の基板を水平姿勢で回転させることで、基板の大型
化にも伴って装置も大型化し、その設置スペースも増大
せざるを得なかった。さらに、角形の基板を高速に回転
させると、基板表面に気流の乱れが発生し易く、しか
も、その基板が大型化すると、その回転時における基板
表面上の線速度差が増大することにより、塗布むらや塗
布膜厚の均一性などの塗布品質を確保することが難しく
なっていた。
[0003] However, in the spin coating method, the coating solution is spun outward by centrifugal force in combination with the tendency of the substrate to become larger and squarer, which is wasteful in terms of effective use of the used coating solution. And the use efficiency of the coating liquid was poor. Also,
By rotating the rectangular substrate in a horizontal posture, the size of the apparatus is increased as the size of the substrate is increased, and the installation space has to be increased. Furthermore, when a rectangular substrate is rotated at a high speed, turbulence of the air flow easily occurs on the substrate surface. It has been difficult to ensure coating quality such as unevenness and uniformity of coating film thickness.

【0004】そこで、このような回転塗布方式の上記問
題、つまり、塗布液の利用効率の低下、設置スペースの
増大および塗布膜厚の不均一を解決すべく、毛管現象を
利用して基板表面に塗布液を塗布する装置および方法
が、例えば特開平8−24740号公報に提案されてい
る。
In order to solve the above-mentioned problems of the spin coating method, that is, a reduction in the use efficiency of the coating liquid, an increase in installation space, and an uneven coating film thickness, the capillary surface is used to solve the problem. An apparatus and a method for applying a coating liquid have been proposed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. H8-24740.

【0005】図15は、上記公報に記載された塗布装置
の概略構成を示す正面図であり、図16は、図15の塗
布装置におけるAA線の断面図である。図15および図
16において、この塗布装置は、基板100を鉛直(垂
直)方向に立てて保持するステージ101と、基板10
0の被塗布面に塗布液102を供給する塗布液槽を内部
に有するノズル103と、このノズル103を基板10
0に沿って下方に直線移動させる移動手段(図示せず)
とから構成されている。このノズル103は、両端が閉
塞され基板100の幅方向に延在する筒状をなしてお
り、基板100の被塗布面と対向する前面壁部104に
槽内から外部に貫通したスリット状の塗布液流出路10
5をその幅方向に形成している。また、基板100の被
塗布面と対向する前面壁部104の前端面106は、基
板100の被塗布面に非接触でかつ近接するように配設
され、その下端106aが塗布液流出路105の出口よ
りも下方で且つその反対側の入口よりも上方に位置し、
その上端106bが、基板100の被塗布面と前端面1
06との間の隙間107を上方へ無限に延長したと仮定
した場合に塗布液流出路105を通って隙間107内に
流入した塗布液が少なくとも毛管現象などによって上昇
するときの到達高さ位置と塗布液流出路105の出口と
の間に位置するようになっている。
FIG. 15 is a front view showing a schematic configuration of the coating apparatus described in the above publication, and FIG. 16 is a cross-sectional view taken along line AA in the coating apparatus of FIG. 15 and 16, the coating apparatus includes a stage 101 for holding a substrate 100 in a vertical (vertical) direction and a stage 101 for holding the substrate 100.
A nozzle 103 having a coating liquid tank for supplying the coating liquid 102 to the surface to be coated with the nozzle 103,
Moving means (not shown) for linearly moving downward along 0
It is composed of The nozzle 103 has a cylindrical shape having both ends closed and extending in the width direction of the substrate 100. The nozzle 103 has a slit-shaped coating penetrating from the inside of the tank to the outside on the front wall portion 104 facing the coated surface of the substrate 100. Liquid outflow channel 10
5 are formed in the width direction. Further, a front end surface 106 of the front wall portion 104 facing the coated surface of the substrate 100 is disposed so as to be in non-contact with and close to the coated surface of the substrate 100. Located below the outlet and above the opposite inlet,
The upper end 106b is formed between the surface to be coated of the substrate 100 and the front end surface 1
06 when the gap 107 extends infinitely upward and the coating liquid flowing into the gap 107 through the coating liquid outflow path 105 at least rises by capillary action or the like. It is located between the outlet of the coating liquid outflow path 105.

【0006】上記構成により、塗布液槽内に塗布液流出
路105の入口と前端面106の下端106aとの間の
高さまで塗布液102を注入し、塗布液槽と大気開放と
すると、塗布液槽内に供給された塗布液102は、少な
くとも毛管現象によって、塗布液流出路105を通って
槽外に流出し、ステージ101によって鉛直姿勢に保持
された基板100の被塗布面と前端面106との間の隙
間107内に流入する。
With the above configuration, the coating liquid 102 is injected into the coating liquid tank to a height between the entrance of the coating liquid outflow passage 105 and the lower end 106a of the front end surface 106, and the coating liquid tank is opened to the atmosphere. The coating liquid 102 supplied into the tank flows out of the tank through the coating liquid outflow path 105 by at least capillary action, and the coating surface and the front end surface 106 of the substrate 100 held in the vertical posture by the stage 101 Flows into the gap 107 between them.

【0007】この隙間107内に流入した塗布液は、毛
管現象などによってその隙間107内を前端面106の
下端106aまで下降するが、表面張力により前端面1
06の下端106aから流下することはない。また、隙
間107内に流入した塗布液の上方への流動は、毛管現
象などによってその隙間107内を前端面106の上端
106bまで上昇するが、前端面106の上端106b
で規制されてそれ以上には上昇しない。このようにし
て、基板100の被塗布面と前端面106との間の隙間
107内に、基板100の幅方向に延びる帯状の塗布液
の液溜りが形成されることになる。
The coating liquid flowing into the gap 107 descends to the lower end 106a of the front end face 106 due to a capillary phenomenon or the like.
06 does not flow down from the lower end 106a. The upward flow of the coating liquid flowing into the gap 107 rises in the gap 107 to the upper end 106b of the front end face 106 due to capillary action or the like.
Is not regulated any more. In this way, a band-like liquid pool of the coating liquid extending in the width direction of the substrate 100 is formed in the gap 107 between the coating surface of the substrate 100 and the front end surface 106.

【0008】さらに、この塗布液の液溜りが形成された
状態で、基板100の被塗布面と前端面106との間の
隙間107を保持したまま、基板100の縦方向(基板
100の幅方向と直交する上下方向)aにノズル103
と基板100とを相対的に直動させると、基板100の
被塗布面に塗布液が塗布されることになる。このとき、
基板100の被塗布面と前端面106の隙間107にあ
る液溜りの塗布液は、基板100の被塗布面に塗布され
ていくに従って消費されるが、大気開放されたノズル1
03の塗布液槽の塗布液にかかる大気圧と毛管現象など
によって、その消費量とほぼ同等の塗布液が塗布液槽内
から塗布液流出路105を通ってその隙間107内に供
給される。そのため、塗布時の隙間107内の塗布液量
は常にほぼ一定に保持されることになって、基板100
に塗布液が連続して塗布されることになる。
Further, in the state where the liquid pool of the coating liquid is formed, the gap 107 between the coated surface of the substrate 100 and the front end surface 106 is maintained, and the longitudinal direction of the substrate 100 (the width direction of the substrate 100) is maintained. Nozzle 103 in the vertical direction a)
When the substrate and the substrate 100 are relatively moved linearly, the application liquid is applied to the application surface of the substrate 100. At this time,
The coating liquid in the liquid pool in the gap 107 between the coating surface of the substrate 100 and the front end surface 106 is consumed as the coating liquid is applied to the coating surface of the substrate 100.
Due to the atmospheric pressure, capillary action, and the like applied to the coating liquid in the coating liquid tank 03, a coating liquid substantially equivalent to the consumption amount is supplied from the coating liquid tank to the gap 107 through the coating liquid outflow path 105. Therefore, the amount of the coating liquid in the gap 107 at the time of coating is always kept substantially constant.
The coating liquid is continuously applied to the substrate.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ように構成された塗布装置では、ノズル103の塗布液
槽は大気開放されており、当該塗布液槽には気相が存在
する。そのため、塗布液がゲル化して塗布液槽の内部を
汚染したり、ゲル状物質が塗布液流出路105を塞いで
塗布液が適切に基板100側に供給されないという問題
が生じやすい。
However, in the coating apparatus configured as described above, the coating liquid tank of the nozzle 103 is open to the atmosphere, and a gas phase exists in the coating liquid tank. Therefore, problems tend to occur such that the coating liquid gels and contaminates the inside of the coating liquid tank, or the gel-like substance blocks the coating liquid outflow passage 105 and the coating liquid is not appropriately supplied to the substrate 100 side.

【0010】また、上記のような問題を解消するため
に、ノズルを塗布装置より取外し、洗浄処理した後、元
の位置に戻すという一連の着脱洗浄処理を頻繁に行う必
要があり、その結果、塗布性能の再現性および安定性を
欠いていた。というのも、塗布性能はノズルの組付精度
(水平精度、および基板との間隔精度・平行度など)と
密接に関係しており、ノズルの着脱洗浄処理の前後にお
けるノズルの組付状態が僅かでも相違すると、塗布性能
が大きく異なってしまうため、頻繁にノズルの着脱洗浄
処理を行う必要がある従来の塗布装置は、必然的に塗布
性能の再現性・安定化に劣る。
Further, in order to solve the above-mentioned problems, it is necessary to frequently perform a series of detachable cleaning processes of removing the nozzle from the coating device, performing the cleaning process, and returning the nozzle to its original position. Coating performance lacked reproducibility and stability. This is because the coating performance is closely related to the nozzle assembly accuracy (horizontal accuracy, spacing accuracy and parallelism with the substrate, etc.), and the nozzle assembly state before and after the nozzle attachment / detachment cleaning process is small. However, if they are different, the coating performance will be greatly different. Therefore, the conventional coating apparatus which needs to frequently perform the nozzle attaching / detaching / cleaning process is necessarily inferior in the reproducibility and stabilization of the coating performance.

【0011】また、塗布性能に密接に関連する因子とし
ては、上記組付精度の他に、ノズルの形状精度が含まれ
る。このことは、塗布性能の再現性・安定性を確保する
ためにはノズルを高精度に仕上げる必要があることを意
味しており、かかる意味から従来よりノズルは金属で形
成されている。このため、次に説明するような問題が生
じていた。
Further, factors closely related to the coating performance include, in addition to the assembling accuracy, the nozzle shape accuracy. This means that it is necessary to finish the nozzle with high precision in order to ensure the reproducibility and stability of the coating performance. For this reason, the nozzle is conventionally formed of metal. For this reason, the following problem has arisen.

【0012】すなわち、塗布液槽内の液面高さ(ここで
いう「液面高さ」とは、ノズル103の塗布液槽からの
塗布液流出路105の前端面106側出口に対する液面
の相対的な高さを意味する。以下、同じ。)は、基板1
00に形成される塗布膜の膜厚と密接に関連しており、
例えば液面高さが低下すると、塗布液流出路105を塗
布液が昇ってゆくための毛管現象による力が相対的に減
少し、隙間107への塗布液の供給が行われにくくなる
ため、膜厚が薄くなる。したがって、基板100に形成
される塗布膜の膜厚の安定化を図るためには、液面高さ
を適宜確認して液面高さが大幅に減少する前に塗布液を
補充することが重要となる。しかしながら、従来の塗布
装置では上記のようにノズルを金属で形成しているた
め、ノズルの外部から塗布液槽内に貯留されている塗布
液の液面を目視確認することができるように、ノズルを
構成すること自体が困難となっており、膜厚の安定化を
図るための有効で、しかも簡便なノズル構成を採用する
ことができなかった。
That is, the liquid level in the coating liquid tank (the “liquid level” as used herein means the liquid level of the nozzle 103 with respect to the outlet on the front end face 106 side of the coating liquid outflow passage 105 from the coating liquid tank 105). The relative height means the same hereinafter.) Is the substrate 1
Is closely related to the thickness of the coating film formed at 00,
For example, when the liquid level height is reduced, the force due to the capillary phenomenon for the coating liquid to rise in the coating liquid outflow path 105 is relatively reduced, and it becomes difficult to supply the coating liquid to the gap 107. The thickness decreases. Therefore, in order to stabilize the thickness of the coating film formed on the substrate 100, it is important to appropriately check the liquid level and replenish the coating liquid before the liquid level is significantly reduced. Becomes However, in the conventional coating apparatus, the nozzle is formed of metal as described above, so that the level of the coating liquid stored in the coating liquid tank can be visually checked from outside the nozzle. However, it has been difficult to construct the nozzle itself, and an effective and simple nozzle configuration for stabilizing the film thickness cannot be adopted.

【0013】また、この種の塗布装置において、塗布を
始める際に基板100とノズル103との隙間107に
塗布液の液溜りを初期形成すべく、この隙間107内へ
塗布液を強制的に供給しなければならない。上記公報に
おいては、毛管現象で塗布液流出路105の流出口まで
上昇している塗布液を、ノズル103内(塗布液槽)の
圧力を上昇させる加圧手段(図示せず)によって、塗布
前に、基板100の被塗布面とノズル103の前端面1
06との隙間107内に供給することで一定量の液溜り
を形成させることが提案されている。
In this type of coating apparatus, when the coating is started, the coating liquid is forcibly supplied into the gap 107 between the substrate 100 and the nozzle 103 in order to initially form a liquid pool in the gap 107. Must. In the above-mentioned publication, the coating liquid rising to the outlet of the coating liquid outflow passage 105 by capillary action is subjected to pressure means (not shown) for increasing the pressure in the nozzle 103 (coating liquid tank) before coating. The surface to be coated of the substrate 100 and the front end surface 1 of the nozzle 103
It has been proposed that a certain amount of liquid pool be formed by supplying the liquid into the gap 107 between the liquid crystal layer and the liquid crystal layer 06.

【0014】しかしながら、例えばフォトレジスト液を
通常使用される厚み(例えば乾燥後で1.5μm)で塗
布しようとする場合、この隙間107は、通常は0.3
mm〜0.7mmと広い隙間寸法であり、加圧手段(図
示せず)のみでこの隙間107内に塗布液を供給するた
めには比較的多量の塗布液量となることから、塗布液の
供給速度と供給量とをかなり正確かつ緻密に圧力制御し
ないと、液溜りの液量が多過ぎたり、場合によっては液
溜りが流下するという問題が生じる。あるいは逆に隙間
107内への液溜りの液量が少な過ぎて、塗布不良を招
くという問題があった。
However, for example, when a photoresist solution is to be applied at a thickness normally used (for example, 1.5 μm after drying), the gap 107 is usually 0.3 μm.
The gap size is as large as 0.7 mm to 0.7 mm, and a relatively large amount of the coating solution is required to supply the coating solution into the gap 107 only by the pressurizing means (not shown). If the supply speed and the supply amount are not precisely and precisely controlled in pressure, there is a problem that the amount of liquid in the liquid pool is too large or the liquid pool flows down in some cases. Or, conversely, there is a problem that the amount of liquid in the liquid pool in the gap 107 is too small, resulting in poor coating.

【0015】また、上記のように構成された塗布装置
(図15および図16)では、塗終わりの基板100の
下端部では液溜りができて厚膜化するという問題を有し
ていた。このように、基板の塗終わり部分で厚膜化する
と、現像時に膜残りを来たしたりする。そこで、この問
題を解決するべく、特開平8−155365号公報や特
開平8−141475号公報などに種々の塗布液の回収
手段が提案されている。しかしながら、これらの提案例
においては、余剰の塗布液を別個設けた構成要素に付着
させたり、余剰の塗布液を掻き取る構成要素を設けてお
り、1枚の基板に対して塗布液の回収処理を行うたび
に、これらの構成要素に付着した余剰の塗布液を洗浄す
る必要がある。その結果、かかる洗浄工程を設けた分だ
け作業工程が増え、スループットが低下してしまうとと
もに、回収した塗布液を無駄に浪費してしまうという問
題があった。
Further, the coating apparatus (FIG. 15 and FIG. 16) configured as described above has a problem that a liquid pool is formed at the lower end of the substrate 100 after coating and the film becomes thick. As described above, when the film is thickened at the coating end portion of the substrate, a film residue may be left at the time of development. In order to solve this problem, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 8-155365 and 8-141475 propose various means for collecting a coating liquid. However, in these proposals, a component for adhering an excess coating solution to a separately provided component or for scraping off the excess coating solution is provided. Each time is performed, it is necessary to wash excess coating liquid attached to these components. As a result, there is a problem that the number of work steps is increased by the provision of such a cleaning step, and the throughput is reduced, and the recovered coating liquid is wasted.

【0016】さらに、上記のようにノズル内に大気開放
された塗布液槽を設けている場合には、ノズルを下向き
姿勢に移動させると、塗布液槽内の塗布液が流出する可
能性があるため、ノズルから塗布液がこぼれない姿勢に
維持しなければならず、ノズル姿勢は大きく制限されて
いる。したがって、このノズル姿勢制限を考慮して塗布
装置を設計する必要があり、設計の自由度が低くなって
いる。
Further, when the coating liquid tank which is open to the atmosphere is provided in the nozzle as described above, there is a possibility that the coating liquid in the coating liquid tank flows out when the nozzle is moved downward. For this reason, it is necessary to maintain a posture in which the coating liquid does not spill from the nozzle, and the posture of the nozzle is greatly restricted. Therefore, it is necessary to design the coating apparatus in consideration of the nozzle attitude restriction, and the degree of freedom in designing is low.

【0017】本発明は、上記従来の問題を解決するもの
で、高い設計自由度を有し、しかも優れた塗布性能の再
現性および安定性を有する塗布装置および塗布方法を提
供することを第1の目的とする。
The present invention solves the above-mentioned conventional problems, and it is an object of the present invention to provide a coating apparatus and a coating method which have a high degree of freedom in design and have excellent reproducibility and stability of coating performance. The purpose of.

【0018】また、本発明は、塗布液槽内の塗布液の液
面高さを容易に目視確認することができる塗布装置を提
供することを第2の目的とする。
It is a second object of the present invention to provide a coating apparatus capable of easily visually checking the level of a coating liquid in a coating liquid tank.

【0019】また、本発明は、塗布液の塗布開始時に基
板とノズル手段との隙間に適量の塗布液を供給して液だ
れや塗布不良を防止して優れた塗布性能で塗布液を基板
に塗布することができる塗布装置および塗布方法を提供
することを第3の目的とする。
Further, the present invention provides a method for supplying an appropriate amount of a coating liquid to a gap between a substrate and a nozzle means at the start of coating of the coating liquid to prevent dripping or poor coating and to apply the coating liquid to the substrate with excellent coating performance. A third object is to provide a coating apparatus and a coating method capable of performing coating.

【0020】また、本発明は、塗布終了時に余剰の塗布
液を無駄なく回収して高いスループットで、しかも適切
な膜厚で基板に塗布液を塗布することができる塗布装置
および塗布方法を提供することを第4の目的とする。
Further, the present invention provides a coating apparatus and a coating method which can apply a coating liquid to a substrate with a high throughput and an appropriate film thickness by collecting excess coating liquid without waste at the end of coating. This is the fourth object.

【0021】[0021]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、上記
第1の目的を達成するため、基板を鉛直あるいは傾斜姿
勢で保持する基板保持手段と、塗布液を一時的に貯留す
る塗布液槽を有し、当該塗布液槽内の塗布液を前記被塗
布面に向けて供給可能に構成されたノズル手段と、大気
開放された状態で塗布液を貯留するとともに、前記塗布
液槽に連通されて当該塗布液を前記塗布液槽に補充可能
に構成された外部タンクと、前記基板保持手段に保持さ
れた基板に前記ノズル手段を近接させた状態で、当該基
板の被塗布面に沿って前記ノズル手段を相対的に移動さ
せる移動手段とを備え、前記移動手段によって前記ノズ
ルと前記基板とを相互に近接させた状態で相対的に移動
させつつ、毛管現象で前記塗布液槽から汲み上げられた
塗布液を前記基板の被塗布面に塗布するとともに、当該
塗布処理により前記塗布液槽から汲み上げられた塗布液
量分だけ前記外部タンクから補充して前記塗布液槽を塗
布液で常時充満するように構成している。
According to the first aspect of the present invention, there is provided a substrate holding means for holding a substrate in a vertical or inclined posture, and a coating liquid for temporarily storing a coating liquid. A nozzle means having a tank and capable of supplying the coating liquid in the coating liquid tank toward the surface to be coated, and storing the coating liquid in an open state to the atmosphere and communicating with the coating liquid tank An external tank configured so that the coating liquid can be replenished to the coating liquid tank, and the nozzle means close to the substrate held by the substrate holding means, along the surface to be coated of the substrate. A moving means for relatively moving the nozzle means, and while the moving means relatively moves the nozzle and the substrate in a state of being close to each other, the liquid is pumped from the coating liquid tank by capillary action. The coating solution Together is applied to the coated surface, it is configured so as to fill all the time the coating solution tank to replenish only from the external tank coating liquid amount pumped from the coating liquid tank with the coating liquid by the coating process.

【0022】この発明では、塗布液槽内の塗布液の一部
が汲み上げられて基板の被塗布面に塗布されると同時
に、その汲み上げられた塗布液量に相当する塗布液が外
部タンクから塗布液槽に補充されて塗布液槽は常時塗布
液で充満される。したがって、ノズル手段側では、塗布
液槽に気相が存在せず、塗布液槽内での塗布液のゲル化
が防止され、塗布液槽内の汚染が防止される。一方、大
気開放された外部タンクでは、塗布液のゲル化が生じる
が、外部タンクは塗布性能に直接関連しないため、必要
に応じて適宜外部タンクを洗浄可能であるとともに、洗
浄性などを考慮した上で外部タンクを設計することがで
きる。また、ノズル手段を任意の方向に向けたとして
も、ノズル手段から塗布液が流出することはなく、ノズ
ル姿勢を考慮することなく、塗布装置の各部を設計する
ことができる。
According to the present invention, a part of the coating liquid in the coating liquid tank is pumped up and applied to the surface to be coated of the substrate, and at the same time, the coating liquid corresponding to the amount of the pumped up coating liquid is applied from the external tank. The liquid tank is replenished and the coating liquid tank is always filled with the coating liquid. Therefore, on the nozzle means side, there is no gas phase in the coating liquid tank, so that gelation of the coating liquid in the coating liquid tank is prevented, and contamination in the coating liquid tank is prevented. On the other hand, in the external tank that is open to the atmosphere, the coating liquid gels, but since the external tank is not directly related to the coating performance, the external tank can be appropriately cleaned as necessary, and the cleaning property is considered. Above can design an external tank. Further, even if the nozzle means is oriented in an arbitrary direction, the application liquid does not flow out of the nozzle means, and each part of the coating apparatus can be designed without considering the nozzle attitude.

【0023】請求項2の発明は、上記第2の目的を達成
するため、前記外部タンクの少なくとも一部を透明ある
いは半透明材料で構成して前記外部タンクに貯留されて
いる塗布液の液面高さを目視可能な領域を前記外部タン
クに形成している。
According to a second aspect of the present invention, in order to achieve the second object, at least a part of the external tank is made of a transparent or translucent material, and the level of the coating liquid stored in the external tank is adjusted. An area whose height can be visually recognized is formed in the external tank.

【0024】この発明では、塗布液の液面高さを目視可
能な領域が外部タンクに形成されており、この目視可能
領域を介して外部タンク内の塗布液の液面高さを目視確
認可能となっている。
According to the present invention, the area in which the liquid level of the coating liquid can be visually recognized is formed in the external tank, and the liquid level of the coating liquid in the external tank can be visually confirmed through the visible area. It has become.

【0025】請求項3の発明は、前記目視可能領域に設
けられ、前記外部タンクに貯留されている塗布液の液面
高さを非接触で検出する液面検出手段をさらに備えてい
る。
According to a third aspect of the present invention, there is further provided a liquid level detecting means provided in the viewable area and detecting the liquid level of the coating liquid stored in the external tank in a non-contact manner.

【0026】この発明では、液面検出手段が目視可能領
域に設けられ、液面高さを自動的に検出する。
According to the present invention, the liquid level detecting means is provided in the viewable area, and automatically detects the liquid level.

【0027】請求項4の発明は、前記塗布液槽と前記外
部タンクとの間に設けられ、これらの間での塗布液の流
れを制御可能な第1液流制御手段をさらに備えている。
The invention according to claim 4 further comprises a first liquid flow control means provided between the coating liquid tank and the external tank and capable of controlling the flow of the coating liquid between them.

【0028】この発明では、第1液流制御手段が塗布液
槽と外部タンクとの間での塗布液の流れを制御する。特
に、塗布液槽と外部タンクとの間での塗布液の流れが禁
止されると、ノズル姿勢を例えば下向きにしたとして
も、ノズル手段から塗布液が流出することはない。
According to the present invention, the first liquid flow control means controls the flow of the coating liquid between the coating liquid tank and the external tank. In particular, when the flow of the coating liquid between the coating liquid tank and the external tank is prohibited, the coating liquid does not flow out of the nozzle means even if the nozzle posture is, for example, downward.

【0029】請求項5の発明は、上記第3の目的を達成
するため、前記ノズル手段の前記塗布液槽に連通され、
定量分の塗布液の前記塗布液槽への吐出処理を行う定量
吐出手段と、前記塗布液槽と前記定量吐出手段との間に
設けられ、これらの間での塗布液の流れを制御可能な第
2液流制御手段とをさらに備えている。
According to a fifth aspect of the present invention, in order to achieve the third object, the nozzle means is connected to the coating liquid tank,
A fixed-quantity discharge unit that performs a process of discharging a fixed amount of the coating liquid to the coating liquid tank is provided between the coating liquid tank and the fixed-quantity discharge unit, and a flow of the coating liquid between these can be controlled. And a second liquid flow control means.

【0030】この発明では、第1液流制御手段によって
外部タンクから塗布液槽への塗布液の供給が禁止された
状態で、定量吐出手段から定量の塗布液が第2液流制御
手段を介して塗布液槽に供給され、ノズル手段と被塗布
面との間に微量液溜り部が形成される。
According to the present invention, in a state where the supply of the coating liquid from the external tank to the coating liquid tank is prohibited by the first liquid flow control means, a constant amount of the coating liquid is supplied from the constant discharge means through the second liquid flow control means. The liquid is supplied to the application liquid tank to form a minute liquid reservoir between the nozzle means and the surface to be applied.

【0031】請求項6の発明は、上記第4の目的を達成
するため、前記ノズル手段の前記塗布液槽に連通され、
定量分の塗布液の前記塗布液槽からの吸引処理を行う定
量吸引手段と、前記塗布液槽と前記定量吸引手段との間
に設けられ、これらの間での塗布液の流れを制御可能な
第3液流制御手段とをさらに備えている。
According to a sixth aspect of the present invention, in order to attain the fourth object, the nozzle means is connected to the coating liquid tank,
A fixed amount suction unit that performs a suction process of a fixed amount of the coating solution from the coating solution tank, and is provided between the coating solution tank and the fixed amount suction unit, and the flow of the coating solution between these can be controlled. And third liquid flow control means.

【0032】この発明では、第1液流制御手段によって
塗布液槽から外部タンクへの塗布液の流入が禁止された
状態で、定量吸引手段によって定量の塗布液が塗布液槽
から第3液流制御手段を介して吸引されて回収される。
In the present invention, in a state where the inflow of the coating liquid from the coating liquid tank to the external tank is prohibited by the first liquid flow control means, a constant amount of the coating liquid is supplied from the coating liquid tank to the third liquid flow by the quantitative suction means. It is sucked and collected via the control means.

【0033】請求項7の発明は、上記第3および第4の
目的を達成するため、前記ノズル手段の前記塗布液槽に
連通され、定量分の塗布液の前記塗布液槽への吐出処理
と、定量分の塗布液の前記塗布液槽からの吸引処理とを
選択的に行うことができる定量吐出吸引手段と、前記塗
布液槽と前記定量吐出吸引手段との間に設けられ、これ
らの間での塗布液の流れを制御可能な第2液流制御手段
とをさらに備えている。
According to a seventh aspect of the present invention, in order to achieve the third and fourth objects, the nozzle means is communicated with the coating liquid tank to discharge a predetermined amount of the coating liquid into the coating liquid tank. A fixed-quantity discharge suction unit capable of selectively performing a suction process of a fixed amount of the coating liquid from the coating liquid tank; and a fixed-discharge suction unit provided between the coating liquid tank and the fixed-quantity discharge suction unit. And a second liquid flow control means capable of controlling the flow of the coating liquid in the step (a).

【0034】この発明では、第1液流制御手段によって
外部タンクから塗布液槽への塗布液の供給が禁止された
状態で、定量吐出吸引手段から定量の塗布液が第2液流
制御手段を介して塗布液槽に供給され、ノズル手段と被
塗布面との間に微量液溜り部が形成される。また、第1
液流制御手段によって塗布液槽から外部タンクへの塗布
液の流入が禁止された状態で、定量吐出吸引手段によっ
て定量の塗布液が塗布液槽から第2液流制御手段を介し
て吸引されて回収される。
According to the present invention, in a state in which the supply of the coating liquid from the external tank to the coating liquid tank is prohibited by the first liquid flow control means, a constant amount of the coating liquid is supplied from the constant discharge and suction means to the second liquid flow control means. The liquid is supplied to the coating liquid tank via the nozzle, and a minute liquid pool is formed between the nozzle means and the surface to be coated. Also, the first
In a state where the flow of the coating liquid from the coating liquid tank to the external tank is prohibited by the liquid flow control means, a fixed amount of the coating liquid is sucked from the coating liquid tank through the second liquid flow control means by the constant discharge suction means. Collected.

【0035】請求項8の発明は、吐出処理ごとに前記塗
布液槽への塗布液の吐出量を変更可能に構成されてい
る。
The invention according to claim 8 is configured so that the discharge amount of the coating liquid to the coating liquid tank can be changed every discharge processing.

【0036】この発明では、吐出処理の内容に応じて塗
布液槽への塗布液の吐出量が制御されて常に適切な微量
液溜り部が形成される。
In the present invention, the discharge amount of the coating liquid to the coating liquid tank is controlled in accordance with the content of the discharge processing, so that an appropriate trace liquid reservoir is always formed.

【0037】請求項9の発明は、吸引処理ごとに前記塗
布液槽からの塗布液の吸引量を変更可能に構成されてい
る。
According to a ninth aspect of the present invention, the suction amount of the coating liquid from the coating liquid tank can be changed every suction processing.

【0038】この発明では、吸引処理の内容に応じて塗
布液槽からの塗布液の吸引量が制御されて最終塗布位置
における膜厚が最適化される。
According to the present invention, the suction amount of the coating liquid from the coating liquid tank is controlled in accordance with the contents of the suction processing, and the film thickness at the final coating position is optimized.

【0039】請求項10の発明は、前記移動手段が、所
定の回動中心回りに前記ノズル手段を回動させて前記ノ
ズル手段の向きを変更するノズル回動機構部を有してい
る。
According to a tenth aspect of the present invention, the moving means has a nozzle rotating mechanism for changing the direction of the nozzle means by rotating the nozzle means around a predetermined center of rotation.

【0040】この発明では、ノズル回動機構部によって
ノズル手段の向きが変更されてノズル姿勢が調整され
る。
In the present invention, the direction of the nozzle means is changed by the nozzle rotating mechanism to adjust the nozzle attitude.

【0041】請求項11の発明は、鉛直あるいは傾斜姿
勢で保持された基板の被塗布面に沿ってノズル手段を相
対的に近接移動させた状態で、当該ノズル手段の内部に
設けられた塗布液槽内に貯留された塗布液を毛管現象に
よって汲み上げ、前記被塗布面に塗布する塗布方法であ
って、上記第1の目的を達成するために、当該塗布処理
により前記塗布液槽から汲み上げられた塗布液量分だけ
前記ノズル手段とは別個独立して設けた外部タンクから
塗布液を補充し、前記塗布液槽を塗布液で常時充満させ
ている。
According to an eleventh aspect of the present invention, there is provided a coating liquid provided inside the nozzle means in a state where the nozzle means is relatively moved closely along the coating surface of the substrate held in a vertical or inclined posture. A coating method in which a coating liquid stored in a tank is pumped up by capillary action and applied to the surface to be coated. In order to achieve the first object, the coating liquid is drawn up from the coating liquid tank by the coating treatment. The coating liquid is replenished by an amount corresponding to the amount of the coating liquid from an external tank provided independently of the nozzle means, and the coating liquid tank is always filled with the coating liquid.

【0042】この発明では、塗布液槽内の塗布液の一部
が汲み上げられて基板の被塗布面に塗布されると同時
に、その汲み上げられた塗布液量に相当する塗布液が外
部タンクから塗布液槽に補充されて塗布液槽は常時塗布
液で充満される。したがって、ノズル手段側では、塗布
液槽に気相が存在せず、塗布液槽内での塗布液のゲル化
が防止され、塗布液槽内の汚染が防止される。一方、大
気開放された外部タンクでは、塗布液のゲル化が生じる
が、外部タンクは塗布性能に直接関連しないため、必要
に応じて適宜外部タンクを洗浄可能であるとともに、洗
浄性などを考慮した上で外部タンクを設計することがで
きる。また、ノズル手段を任意の方向に向けたとして
も、ノズル手段から塗布液の流出が防止される。
According to the present invention, a part of the coating liquid in the coating liquid tank is pumped up and applied to the surface to be coated of the substrate, and at the same time, the coating liquid corresponding to the amount of the pumped up coating liquid is applied from the external tank. The liquid tank is replenished and the coating liquid tank is always filled with the coating liquid. Therefore, on the nozzle means side, there is no gas phase in the coating liquid tank, so that gelation of the coating liquid in the coating liquid tank is prevented, and contamination in the coating liquid tank is prevented. On the other hand, in the external tank that is open to the atmosphere, the coating liquid gels, but since the external tank is not directly related to the coating performance, the external tank can be appropriately cleaned as necessary, and the cleaning property is considered. Above can design an external tank. Further, even if the nozzle means is oriented in any direction, the outflow of the coating liquid from the nozzle means is prevented.

【0043】請求項12の発明は、必要に応じて前記塗
布液槽と前記外部タンクとの間で塗布液の流れを禁止し
ている。
According to the twelfth aspect, the flow of the coating liquid between the coating liquid tank and the external tank is prohibited as required.

【0044】この発明では、塗布液槽と外部タンクとの
間での塗布液の流れが禁止されると、ノズル姿勢を例え
ば下向きにしたとしても、ノズル手段から塗布液が流出
することはない。
According to the present invention, when the flow of the coating liquid between the coating liquid tank and the external tank is prohibited, the coating liquid does not flow out of the nozzle means even if the nozzle posture is downward, for example.

【0045】請求項13の発明は、上記第3の目的を達
成するため、基板への塗布液の塗布開始時において、前
記塗布液槽と前記外部タンクとの間で塗布液の流れを禁
止するとともに、定量の塗布液を前記塗布液槽に吐出す
ることで、前記ノズル手段と前記被塗布面との間に微量
液溜り部を形成している。
According to a thirteenth aspect of the present invention, in order to achieve the third object, the flow of the coating liquid between the coating liquid tank and the external tank is prohibited when the coating liquid is applied to the substrate. At the same time, a small amount of liquid reservoir is formed between the nozzle means and the surface to be coated by discharging a constant amount of the coating liquid into the coating liquid tank.

【0046】この発明では、外部タンクから塗布液槽へ
の塗布液の供給が禁止された状態で、定量吐出手段から
定量の塗布液が第2液流制御手段を介して塗布液槽に吐
出され、ノズル手段と被塗布面との間に微量液溜り部が
形成される。
According to the present invention, in a state in which the supply of the coating liquid from the external tank to the coating liquid tank is prohibited, a fixed amount of the coating liquid is discharged from the constant discharge means to the coating liquid tank via the second liquid flow control means. Thus, a minute liquid pool is formed between the nozzle means and the surface to be coated.

【0047】請求項14の発明は、前記塗布液槽への塗
布液の吐出処理を行うごとに、当該吐出処理に応じて前
記塗布液槽への塗布液の吐出量を変更している。
According to a fourteenth aspect of the present invention, every time the coating liquid is discharged to the coating liquid tank, the discharge amount of the coating liquid to the coating liquid tank is changed according to the discharging processing.

【0048】この発明では、吐出処理の内容に応じて塗
布液槽への塗布液の吐出量が制御されて常に適切な微量
液溜り部が形成される。
According to the present invention, the discharge amount of the coating liquid to the coating liquid tank is controlled in accordance with the content of the discharge processing, so that an appropriate trace liquid reservoir is always formed.

【0049】請求項15の発明は、上記第4の目的を達
成するため、前記ノズル手段が前記被塗布面の最終塗布
位置に位置した時に、前記塗布液槽と前記外部タンクと
の間で塗布液の流れを禁止するとともに、前記ノズル手
段を前記被塗布面に近接しながら、定量の塗布液を前記
塗布液槽から吸引している。
According to a fifteenth aspect of the present invention, in order to attain the fourth object, when the nozzle means is located at a final coating position on the surface to be coated, the coating is performed between the coating liquid tank and the external tank. A fixed amount of the coating liquid is sucked from the coating liquid tank while the flow of the liquid is prohibited and the nozzle means is brought close to the surface to be coated.

【0050】この発明では、塗布液槽から外部タンクへ
の塗布液の流入が禁止された状態で、定量吸引手段によ
って定量の塗布液が塗布液槽から第3液流制御手段を介
して吸引されて回収される。
According to the present invention, in a state in which the flow of the coating liquid from the coating liquid tank to the external tank is prohibited, a constant amount of the coating liquid is sucked from the coating liquid tank through the third liquid flow control means by the constant amount suction means. Collected.

【0051】請求項16の発明は、前記塗布液槽からの
塗布液の吸引処理を行うごとに、当該吸引処理に応じて
前記塗布液槽からの塗布液の吸引量を変更している。
According to a sixteenth aspect of the present invention, the suction amount of the coating liquid from the coating liquid tank is changed in accordance with the suction processing each time the coating liquid suction processing from the coating liquid tank is performed.

【0052】この発明では、吸引処理の内容に応じて塗
布液槽からの塗布液の吸引量が制御されて最終塗布位置
における膜厚が最適化される。
In the present invention, the suction amount of the coating liquid from the coating liquid tank is controlled according to the contents of the suction processing, and the film thickness at the final coating position is optimized.

【0053】[0053]

【発明の実施の形態】図1は、この発明にかかる塗布装
置の一の実施形態を示す斜視図である。この塗布装置
は、鉛直あるいは傾斜姿勢で保持されている基板Sに対
してノズル手段として機能するノズル1を近接させた状
態で基板Sの被塗布面に沿って移動させながら、毛管現
象を利用して塗布液を基板Sの被塗布面に塗布するもの
である。
FIG. 1 is a perspective view showing one embodiment of a coating apparatus according to the present invention. This coating apparatus utilizes a capillary phenomenon while moving the nozzle 1 functioning as a nozzle means in proximity to the substrate S held in a vertical or inclined posture along the surface to be coated of the substrate S. The coating liquid is applied to the surface of the substrate S to be coated.

【0054】この塗布装置では、基板Sを吸着保持すべ
く、壁状に構成されて立設された架台2の表面側中央部
に吸着ステージ3が配設されている。この吸着ステージ
3には、互いに異なる複数の基板サイズに対応するため
に、基板サイズが相互に異なる基板S毎の外周部に対応
した適所に、細長い凹部31が設けられるとともに、各
凹部31を介して吸引可能な吸着部材として機能する吸
盤(図示せず)が出退自在に設けられている。このた
め、処理すべき基板サイズが決まると、突出状態にある
吸盤で基板Sの裏面(塗布処理を施さない面)側を吸着
した後に、吸盤を凹部31内の所定位置に引き込んで収
納することで、被塗布面を外側に向けた状態で基板Sが
吸着ステージ3に吸着保持される。
In this coating apparatus, a suction stage 3 is arranged at the center of the front side of a pedestal 2 which is formed in a wall shape and stands to hold the substrate S by suction. In order to cope with a plurality of substrate sizes different from each other, the suction stage 3 is provided with an elongated concave portion 31 at an appropriate position corresponding to the outer peripheral portion of each substrate S having different substrate sizes, and through each concave portion 31. A suction cup (not shown) functioning as a suction member capable of suction is provided so as to be able to move back and forth. For this reason, when the size of the substrate to be processed is determined, after sucking the rear surface (the surface not subjected to the coating process) of the substrate S with the suction cup in the protruding state, the suction cup is drawn into the predetermined position in the recess 31 and stored. Thus, the substrate S is suction-held on the suction stage 3 with the surface to be coated facing outward.

【0055】なお、この実施形態では、吸着部材として
の吸盤が基板Sの中央部を保持しないように構成されて
いるが、このように構成した理由は、基板Sの中央部は
重要な回路などが配置される部分であり、吸盤による真
空吸引と解除によって温度が下がったり上がったりする
ことで塗布むらとなるのを防止するためである。したが
って、吸盤の形状も基板Sの外周部だけを吸引すべく、
細長い凹部31と同様の細長い吸盤形状に仕上げるのが
望ましい。
In this embodiment, the suction cup as the suction member is configured so as not to hold the central portion of the substrate S, but the reason for this configuration is that the central portion of the substrate S is an important circuit or the like. This is to prevent the application from becoming uneven due to the temperature dropping or rising due to the vacuum suction and release by the suction cup. Accordingly, in order to suck only the outer peripheral portion of the substrate S,
It is desirable to finish in the shape of an elongated suction cup similar to the elongated recess 31.

【0056】また、この吸着ステージ3による基板Sの
保持状態は、鉛直(垂直)方向であってもよく、また傾
斜した姿勢であってもよく、例えば基板Sが吸着ステー
ジ3の上側に位置するように若干傾いた状態でもよい。
すなわち、この実施形態では、吸着ステージ3が基板S
を鉛直あるいは傾斜姿勢で保持する基板保持手段として
機能している。
The holding state of the substrate S by the suction stage 3 may be in a vertical (vertical) direction or in an inclined posture. For example, the substrate S is located above the suction stage 3. It may be slightly inclined as shown.
That is, in this embodiment, the suction stage 3 is
As a substrate holding means for holding the substrate in a vertical or inclined posture.

【0057】さらに、ここでは、基板保持手段として吸
着ステージ3を採用しているが、基板Sの保持方法はこ
れに限定されるものではなく、基板Sの上下左右を爪状
の部材でひっかけて保持するような構成であってもよい
ことは言うまでもないことである。
Further, here, the suction stage 3 is employed as the substrate holding means, but the method of holding the substrate S is not limited to this, and the upper, lower, left and right sides of the substrate S are hooked by nail-like members. Needless to say, a configuration for holding the information may be used.

【0058】上記のように構成された吸着ステージ3に
対向してノズル1が配置されている(図1)。このノズ
ル1は、図2に示すように、塗布液を貯留する塗布液槽
11を有し、当該塗布液槽11内の塗布液をノズル口1
2から吸着ステージ(基板保持手段)3に保持された基
板S側(同図の左手側)に向けて供給可能に構成されて
いる。すなわち、ノズル1はノズル本体13を備えてお
り、このノズル本体13の内底部に細長い筒状の塗布液
槽11が基板Sの幅方向(同図の紙面に対して垂直な方
向)に延設されている。また、ノズル本体13には、基
板Sの被塗布面と対向する前面壁部15に塗布液槽11
内から外部に斜め上向きに貫通した塗布液流出路として
機能するスリット16がその幅方向に形成されている。
このスリット16は、塗布液槽11の下部とノズル口1
2との間で直線状に左上向きに傾斜した状態で連結して
おり、スリット16の下方端が塗布液槽11内に開口
し、その上方端が水平方向に細長いノズル口12となっ
ている。さらに、基板Sの被塗布面SFと対向する前面
壁部15の前端面151は、塗布液の液溜り4が形成可
能なように、基板Sの被塗布面SFに非接触でかつ所定
の隙間Gで近接するように配置される。
The nozzle 1 is arranged opposite to the suction stage 3 configured as described above (FIG. 1). As shown in FIG. 2, the nozzle 1 has a coating liquid tank 11 for storing the coating liquid, and the coating liquid in the coating liquid tank 11 is supplied to the nozzle port 1.
It is configured to be able to be supplied from 2 to the substrate S side (the left-hand side in the figure) held by the suction stage (substrate holding means) 3. That is, the nozzle 1 is provided with a nozzle body 13, and an elongated cylindrical coating solution tank 11 is provided at the inner bottom of the nozzle body 13 in the width direction of the substrate S (a direction perpendicular to the paper surface of FIG. 1). Have been. In addition, the nozzle body 13 has a coating liquid tank 11 on a front wall 15 facing the surface to be coated of the substrate S.
A slit 16 is formed in the width direction, which functions as a coating liquid outflow passage that penetrates obliquely upward from inside to outside.
The slit 16 is formed between the lower part of the coating solution tank 11 and the nozzle port 1.
The lower end of the slit 16 is open in the coating liquid tank 11 and the upper end thereof is a horizontally elongated nozzle port 12. . Further, the front end surface 151 of the front wall portion 15 facing the application surface SF of the substrate S is in a non-contact and predetermined gap with the application surface SF of the substrate S so that the liquid pool 4 of the application liquid can be formed. It is arranged to be close to G.

【0059】さらに、塗布液槽11には、外部タンク5
および定量吐出吸引ユニット8が連結されており、後に
おいて詳述するように、塗布開始時には、まず定量吐出
吸引ユニット8から定量の塗布液が塗布液槽11に供給
された後、それに続いて大気開放された外部タンク5か
ら塗布液が塗布液槽11に供給されて液溜り部を初期形
成し、また塗布処理によって塗布液槽11内の塗布液が
基板Sに塗布されると、その塗布処理に消費された分に
相当する塗布液が外部タンク5から塗布液槽11に補充
されて塗布液槽11を常時塗布液で満たし、さらにノズ
ル1が最終塗布位置に位置した時には、塗布液槽11か
ら定量の塗布液を定量吐出吸引ユニット8が吸引回収す
る。
Further, an external tank 5 is provided in the coating liquid tank 11.
And a fixed-quantity discharge suction unit 8, as described later in detail, at the start of coating, first, a fixed amount of the coating liquid is supplied from the fixed-quantity discharge suction unit 8 to the coating liquid tank 11, and then the atmospheric pressure is applied. The coating liquid is supplied from the opened external tank 5 to the coating liquid tank 11 to initially form a liquid reservoir, and when the coating liquid in the coating liquid tank 11 is coated on the substrate S by the coating processing, the coating processing is performed. The application liquid corresponding to the amount consumed in the application tank is replenished from the external tank 5 to the coating liquid tank 11, so that the coating liquid tank 11 is always filled with the coating liquid. The constant-volume discharge suction unit 8 sucks and collects a constant amount of the application liquid from the above.

【0060】すなわち、塗布液槽11と外部タンク5と
の間には、塗布液供給管91が配設されており、塗布液
供給管91の一方端が塗布液槽11の下方中央部に接続
される一方、その他方端が外部タンク5の底部に接続さ
れている。また、この塗布液供給管91の中間部のうち
ノズル1側にエアバルブ91aが介挿される一方、外部
タンク5側にエアバルブ91bが介挿されている。この
ため、エアバルブ91a,91bを開閉制御することで
塗布液槽11と外部タンク5との間での塗布液の流れを
制御可能となっている。このように、この実施形態で
は、エアバルブ91a,91bが第1液流制御手段とし
て機能している。
That is, a coating liquid supply pipe 91 is provided between the coating liquid tank 11 and the external tank 5, and one end of the coating liquid supply pipe 91 is connected to a lower central portion of the coating liquid tank 11. On the other hand, the other end is connected to the bottom of the external tank 5. An air valve 91a is inserted on the nozzle 1 side of the intermediate portion of the coating liquid supply pipe 91, while an air valve 91b is inserted on the external tank 5 side. Therefore, the flow of the coating liquid between the coating liquid tank 11 and the external tank 5 can be controlled by controlling the opening and closing of the air valves 91a and 91b. Thus, in this embodiment, the air valves 91a and 91b function as the first liquid flow control means.

【0061】また、この外部タンク5の上面には、大気
開放管51が接続されており、この大気開放管51に介
挿されたエアバルブ51aを開放することで外部タンク
5の内部を大気圧に設定可能となっている。また、この
外部タンク5には、外部タンク5内に補給管が差し込ま
れており、後述するようにして塗布液を補給可能となっ
ている。さらに、塗布液供給管91は、エアバルブ91
bと外部タンク5の間で分岐されており、分岐管92は
外部タンク5内の塗布液をリークさせるためのリーク管
として機能しており、このリーク管92に介挿されたバ
ルブ92aを開くことで外部タンク5から塗布液を抜き
取ることができるようになっている。
An air release pipe 51 is connected to the upper surface of the external tank 5, and the interior of the external tank 5 is brought to atmospheric pressure by opening an air valve 51 a inserted in the air release pipe 51. Can be set. In addition, a supply pipe is inserted into the external tank 5 so that the application liquid can be supplied as described later. Further, the application liquid supply pipe 91 is provided with an air valve 91.
b and the external tank 5, the branch pipe 92 functions as a leak pipe for leaking the coating liquid in the external tank 5, and opens a valve 92 a inserted in the leak pipe 92. Thus, the application liquid can be extracted from the external tank 5.

【0062】なお、外部タンク5をどのような材料で構
成してもよいが、この実施形態では、例えばPTFE
(ポリテトラフロロエチレン)やPFA(パーフロロア
ルコキシポリマー)などの樹脂材料で形成されており、
外部タンク5内に貯留されている塗布液の液面高さを目
視確認可能となっている。また、外部タンク5の側面に
は、液面センサ52が取り付けられており、この液面セ
ンサ52で外部タンク5内の塗布液の液面高さを非接触
で検出することができるようになっている。液面センサ
52としては、例えば外部タンク5の高さ方向における
複数の適所(ここでは3個所)にそれぞれ各光センサ5
2aをそれぞれ設けて、外部タンク5内の塗布液の液位
をそれぞれ検出するようになっている。
The external tank 5 may be made of any material, but in this embodiment, for example, PTFE
(Polytetrafluoroethylene) or PFA (perfluoroalkoxy polymer).
The level of the coating liquid stored in the external tank 5 can be visually checked. A liquid level sensor 52 is attached to the side surface of the external tank 5 so that the liquid level sensor 52 can detect the liquid level of the coating liquid in the external tank 5 in a non-contact manner. ing. As the liquid level sensor 52, for example, each optical sensor 5 is provided at a plurality of appropriate places (here, three places) in the height direction of the external tank 5.
2a are provided to detect the liquid level of the coating liquid in the external tank 5, respectively.

【0063】上記のように塗布液槽11と外部タンク5
とを連通する塗布液供給管91は、図2に示すように、
エアバルブ91a,91bの間で分岐されており、この
分岐管93は定量吐出吸引ユニット8の一方端に接続さ
れている。
As described above, the coating liquid tank 11 and the external tank 5
As shown in FIG. 2, a coating liquid supply pipe 91 communicating with
It is branched between the air valves 91a and 91b, and this branch pipe 93 is connected to one end of the fixed quantity discharge suction unit 8.

【0064】図3は、定量吐出吸引ユニットの構成を示
す概略構成図である。この定量吐出吸引ユニット8は、
吐出吸引機構81と、この吐出吸引機構81のノズル側
に接続されたエアバルブ82と、後で説明する塗布液供
給源(図4)側に接続されたエアバルブ83とで構成さ
れている。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing the configuration of the constant-rate discharge suction unit. This fixed-quantity discharge suction unit 8
The discharge suction mechanism 81 includes an air valve 82 connected to the nozzle side of the discharge suction mechanism 81 and an air valve 83 connected to a coating liquid supply source (FIG. 4) described later.

【0065】この吐出吸引機構81では、塗布液を一時
的に貯留する吐出吸引本体811内に、その一方端(同
図の右手)側にベローズ812が伸縮自在に設けられて
いる。また、吐出吸引機構81には、ボールネジ813
が吐出吸引本体811の一方端側からベローズ812の
伸縮方向と平行に伸びており、2つのプーリ814a,
814bとその間に掛け渡されたベルト814cからな
る駆動伝達機構814を介してパルスモータ815の回
転駆動力を受けてボールネジ813が回転するように構
成されている。そして、このボールネジ813には、ブ
ラケット816が螺合されており、ボールネジ813の
回転運動に応じてボールネジ813に沿って直線移動
し、その移動量に応じてベローズ812が伸縮動作する
ようになっている。
In the discharge / suction mechanism 81, a bellows 812 is provided at one end (the right hand side in the figure) of a discharge / suction body 811 for temporarily storing a coating liquid, so as to be extendable and contractible. Further, a ball screw 813 is provided in the discharge suction mechanism 81.
Extends from one end side of the discharge suction main body 811 in parallel with the direction in which the bellows 812 expands and contracts.
The ball screw 813 is configured to receive the rotational driving force of the pulse motor 815 via a drive transmission mechanism 814 including a belt 814c and a belt 814c stretched therebetween. A bracket 816 is screwed onto the ball screw 813, linearly moves along the ball screw 813 according to the rotational movement of the ball screw 813, and the bellows 812 expands and contracts according to the amount of movement. I have.

【0066】このため、例えばエアバルブ82を開く一
方、エアバルブ83を閉じた状態で、パルスモータ81
5を作動させてベローズ812を収縮状態(同図(a))
から伸張状態(同図(b))に移行させると、ベローズ8
12の伸縮量ΔLに応じた量ΔQの塗布液が吐出吸引本
体811からエアバルブ82を介してノズル側に吐出さ
れる。逆に、エアバルブ82、83をそのままの状態に
維持したままで、パルスモータ815を逆回転させてベ
ローズ812を伸張状態(同図(b))から収縮状態(同
図(a))に移行させると、ベローズ812の伸縮量ΔL
に応じた量ΔQの塗布液がエアバルブ82を介してノズ
ル側から吐出吸引本体811内に吸引される。また、エ
アバルブ82を閉じるとともに、エアバルブ83を開い
た状態で、ベローズ812を収縮状態(同図(a))から
伸張状態(同図(b))に移行させると、量ΔQの塗布液
が吐出吸引本体811からエアバルブ83を介して吐出
される一方、逆にベローズ812を伸張状態(同図
(b))から収縮状態(同図(a))に移行させると定量ΔQ
の塗布液がエアバルブ83を介して吐出吸引本体811
内に吸引される。
For this reason, for example, while the air valve 82 is open and the air valve 83 is closed, the pulse motor 81
5 by operating the bellows 812 in the contracted state (FIG. 7A).
To the extended state ((b) in the same figure), the bellows 8
The application liquid having an amount ΔQ corresponding to the expansion / contraction amount ΔL of the nozzle 12 is discharged from the discharge suction main body 811 to the nozzle side via the air valve 82. Conversely, while maintaining the air valves 82 and 83 as they are, the pulse motor 815 is rotated in the reverse direction to shift the bellows 812 from the expanded state (FIG. 2B) to the contracted state (FIG. 2A). And the amount of expansion and contraction ΔL of the bellows 812
Is applied from the nozzle side into the discharge suction main body 811 via the air valve 82. Further, when the bellows 812 is shifted from the contracted state ((a) in the figure) to the expanded state ((b) in the figure) with the air valve 82 closed and the air valve 83 opened, the application liquid of the amount ΔQ is discharged. The ink is discharged from the suction body 811 via the air valve 83, while the bellows 812 is in an extended state (FIG.
(b)) to the contracted state ((a) in the figure)
Is applied to the discharge / suction body 811 via the air valve 83.
Is sucked into.

【0067】このように、定量吐出吸引ユニット8によ
れば、定量ΔQの塗布液を吐出したり、吸引したりする
ことができる。しかも、その量ΔQはベローズ812の
伸縮量ΔLに相当するため、パルスモータ815を制御
することで伸縮量ΔLを調整し、塗布液の吐出量および
吸引量を任意に制御することができる。
As described above, according to the constant-quantity discharge suction unit 8, it is possible to discharge or suck a constant-quantity ΔQ application liquid. Moreover, since the amount ΔQ corresponds to the amount of expansion and contraction ΔL of the bellows 812, the amount of expansion and contraction ΔL can be adjusted by controlling the pulse motor 815, and the discharge amount and suction amount of the application liquid can be arbitrarily controlled.

【0068】なお、上記のようにノズル1、外部タンク
5および定量吐出吸引ユニット8が相互接続されている
本実施形態では、定量吐出吸引ユニット8によって塗布
液をノズル1に供給する、または、逆にノズル1から塗
布液を吸引するためには、エアバルブ91bを閉じて塗
布液の外部タンク5からの塗布液の流出および外部タン
ク5への流入を禁止した状態で、エアバルブ91aを開
いておく必要があり、この実施形態ではエアバルブ91
aが塗布液槽11と定量吐出吸引ユニット8との間での
塗布液の流れを制御する第2液流制御手段として機能し
ている。また、この実施形態では、エアバルブ91aが
第2液流制御手段のみならず、上記したように第1液流
制御手段として機能しているが、当該エアバルブ91a
をノズル1とエアバルブ91bとの間に設ける代わりに
分岐管93に介挿すれば、エアバルブ91bが専属的に
第1液流制御手段として機能するとともに、エアバルブ
91aが専属的に第2液流制御手段として機能する。
In the present embodiment in which the nozzle 1, the external tank 5, and the fixed-quantity suction unit 8 are interconnected as described above, the coating liquid is supplied to the nozzle 1 by the fixed-quantity suction unit 8, or vice versa. In order to suck the application liquid from the nozzle 1, the air valve 91b must be opened with the air valve 91b closed to prevent the application liquid from flowing out of the external tank 5 and flowing into the external tank 5. In this embodiment, the air valve 91
“a” functions as second liquid flow control means for controlling the flow of the coating liquid between the coating liquid tank 11 and the fixed-quantity discharge suction unit 8. In this embodiment, the air valve 91a functions not only as the second liquid flow control means but also as the first liquid flow control means as described above.
Is inserted between the nozzle 1 and the air valve 91b instead of being provided between the nozzle 1 and the air valve 91b, the air valve 91b functions exclusively as the first liquid flow control means, and the air valve 91a exclusively functions as the second liquid flow control. Functions as a means.

【0069】上記においては、上記ノズル1、外部タン
ク5および定量吐出吸引ユニット8の相互接続関係およ
び塗布液の流れについて説明したが、さらにこれらを含
めた塗布装置全体の配管関係について図4を参照しつつ
説明する。同図に示すように、定量吐出吸引ユニット8
のエアバルブ83側には塗布液供給管94の一方端が接
続されるとともに、この塗布液供給管94の他方端が塗
布液供給源(タンク)95に接続されており、さらに塗
布液供給管94の中間部にエアバルブ94aが介挿され
ている。また、塗布液供給管94は定量吐出吸引ユニッ
ト8とエアバルブ94aとの間で分岐されており、その
分岐管96はエアバルブ96aおよびフィルタ96bを
介して外部タンク5に接続されており、その先端部が上
記したように外部タンク5内に差し込まれている。した
がって、エアバルブ83、94a、96aを後で説明す
るように適当に開閉制御するとともに、塗布液供給源9
5内にバルブ97aを介して窒素ガスなどを気体導入管
97より吹き込むと、塗布液供給源95に貯留されてい
る塗布液が定量吐出吸引ユニット8の吐出吸引本体81
1または外部タンク5に選択的に補給される。また、エ
アバルブ83、94a、96aを後で説明するように適
当に開閉制御するとともに、定量吐出吸引ユニット8を
作動させると、吐出吸引本体811内の塗布液が外部タ
ンク5に補給される。
In the above description, the interconnection relationship between the nozzle 1, the external tank 5, and the fixed-quantity discharge / suction unit 8 and the flow of the coating solution have been described. For the piping relationship of the entire coating apparatus including these components, see FIG. It will be explained while doing. As shown in FIG.
One end of a coating liquid supply pipe 94 is connected to the air valve 83 side, and the other end of the coating liquid supply pipe 94 is connected to a coating liquid supply source (tank) 95. An air valve 94a is interposed in the middle part of. The application liquid supply pipe 94 is branched between the fixed quantity discharge suction unit 8 and the air valve 94a, and the branch pipe 96 is connected to the external tank 5 via the air valve 96a and the filter 96b. Are inserted into the external tank 5 as described above. Therefore, the air valves 83, 94a, and 96a are appropriately opened and closed as described later, and the coating liquid supply source 9 is controlled.
When nitrogen gas or the like is blown into the gas supply tube 97 from the gas introduction pipe 97 via the valve 97 a, the application liquid stored in the application liquid supply source 95 is discharged from the discharge / suction main body 81 of the constant-rate discharge / suction unit 8.
1 or the external tank 5 is selectively supplied. When the air valves 83, 94a, and 96a are appropriately opened and closed as described later, and the fixed-quantity discharge suction unit 8 is operated, the coating liquid in the discharge suction main body 811 is supplied to the external tank 5.

【0070】なお、同図における符号98は、塗布液供
給管94のうちノズル1の移動に伴って湾曲変形する箇
所を保護するために、当該箇所を収容したケーブルベア
である。
Reference numeral 98 in the figure denotes a cable bearer which accommodates a portion of the coating liquid supply pipe 94 which protects a portion which bends and deforms as the nozzle 1 moves.

【0071】ところで、上記のように構成されたノズル
1は、次に説明する移動機構6によって吸着ステージ3
に保持された基板Sに近接配置されて、当該基板Sの被
塗布面SF(図2)に沿って移動する。この移動機構6
は大きく分けて、ノズル1を上下方向に移動させる上下
移動機構部61と、ノズル1を基板Sに対して近接させ
たり、離間させることで基板Sの被塗布面SFとの間の
ギャップを変更調整するギャップ可変機構部62と、ノ
ズル1のノズル口12を基板Sの被塗布面SFと対向さ
せたり、下向きに変更するノズル回動機構部63とで構
成されている。
By the way, the nozzle 1 configured as described above is moved by the moving mechanism 6 described below to the suction stage 3.
And is moved along the surface to be coated SF (FIG. 2) of the substrate S. This moving mechanism 6
Is roughly divided into a vertical movement mechanism 61 that moves the nozzle 1 in the vertical direction, and a gap between the coating surface SF of the substrate S by moving the nozzle 1 close to or away from the substrate S. It comprises a variable gap mechanism 62 for adjustment and a nozzle rotating mechanism 63 for causing the nozzle port 12 of the nozzle 1 to face the application surface SF of the substrate S or to change the nozzle opening 12 downward.

【0072】この上下移動機構部61は、図1に示すよ
うに、ノズル1を支持するベース部材611を上下方向
に移動させるものであり、次のように構成されている。
As shown in FIG. 1, the vertical movement mechanism 61 moves the base member 611 supporting the nozzle 1 in the vertical direction, and has the following configuration.

【0073】この上下移動機構部61では、架台2の表
面側および裏面側の幅方向両端部の上下位置の4角部に
それぞれ4個の各アイドルギヤ612が2組回転自在に
各軸受部613でそれぞれ軸支されて配設されている。
そして、これらの上部に位置する左右2組の各アイドル
ギヤ612に左右の各スチールベルト614が掛け渡さ
れるとともに、これらのスチールベルト614の端部が
下部に位置するアイドルギヤ612に巻回されている。
また、架台2の表面側において左右の各スチールベルト
614にベース部材611の両端がそれぞれ連結される
一方、裏面側において、同スチールベルト614にバラ
ンスウェイト615の両端がそれぞれ連結されている。
なお、ベース部材611には、ギャップ可変機構部62
およびノズル回動機構部63を介してノズル1が取り付
けられるとともに、外部タンク5および定量吐出吸引ユ
ニット8が着脱自在に取り付けられている。そして、架
台2の表面側の構成要素(ノズル1、外部タンク5、定
量吐出吸引ユニット8、ベース部材611、ギャップ可
変機構部62およびノズル回動機構部63)と、裏面側
のバランスウェイト615とが、バランスが取れた静止
状態で、保持されるようになっている。
In the vertical movement mechanism 61, two sets of four idle gears 612 are respectively rotatably provided at the upper and lower corners at both ends in the width direction on the front surface side and the rear surface side of the gantry 2. , Each of which is pivotally supported.
Then, the left and right steel belts 614 are wound around the two sets of left and right idle gears 612 located at the upper part, and the ends of the steel belts 614 are wound around the idle gears 612 located at the lower part. I have.
Further, both ends of the base member 611 are connected to the left and right steel belts 614 on the front side of the gantry 2, respectively, while both ends of the balance weight 615 are connected to the steel belt 614 on the back side.
The base member 611 includes the variable gap mechanism 62.
The nozzle 1 is attached via a nozzle rotation mechanism 63, and the external tank 5 and the fixed-quantity discharge suction unit 8 are detachably attached. The components on the front side of the gantry 2 (the nozzle 1, the external tank 5, the fixed-quantity discharge / suction unit 8, the base member 611, the variable gap mechanism 62 and the nozzle rotation mechanism 63), and the balance weight 615 on the back side However, the balance is maintained in a stationary state.

【0074】また、架台2の表面側の両端部にはそれぞ
れ各上下方向に縦型の各リニアモータ616の固定子6
17が配設されており、これら左右の各リニアモータ6
16を駆動制御し、左右のスチールベルト614を同期
して表面側から裏面側に繰り出すことでノズル1を水平
に維持したまま基板Sに対して上方に相対的に移動させ
る一方、逆に巻き戻すことでノズル1を水平に維持した
まま下方に相対的に移動させることができる。すなわ
ち、ノズル1を載置したベース部材611の両端部を各
固定子617に沿って上下に直線移動させる構成となっ
ている。この移動手段としてのリニアモータ616は、
各上下方向に配設された各スチールベルト614にそれ
ぞれ沿ってベース部材611の両端部および各スチール
ベルト614の内側にそれぞれ配設されており、図5に
示すように、幅方向両端部の各レール部617a間にベ
ース部617bを有する固定子617と、ベース部材6
11の両端部裏側の各側壁にそれぞれ各固定子617と
それぞれ対向して配設され、各固定子617の上をスラ
イド自在なスライダ部材618とを有している。このス
ライダ部材618は、その幅方向両側に各レール部61
7aとそれぞれ嵌合して上下方向に案内される各リニア
ガイド部618aと、各リニアガイド部618aの間に
配設されると共に、固定子617のベース部617bに
対向し、図示しない巻線による励磁によって磁力を発生
させる磁気回路部618bと、この磁気回路部618b
の巻線(図示せず)の両端に接続されたコネクタ618
cとを有しており、この磁気回路部618bの励磁によ
る磁力で、スライダ部材618は固定子617の各レー
ル部617aに各リニアガイド部618aで案内されて
上下に移動自在である。このスライダ部材618が、ノ
ズル1を載置したベース部材611の両端部裏側にそれ
ぞれ固着されており、これらの各スライダ部材618の
移動によってベース部材611が上下に移動自在になっ
ている。
The stators 6 of the vertical linear motors 616 are respectively provided at both ends on the front surface side of the gantry 2.
17 are disposed, and these left and right linear motors 6 are provided.
The nozzle 1 is driven and controlled, and the left and right steel belts 614 are synchronously paid out from the front side to the back side, thereby moving the nozzle 1 relatively upward with respect to the substrate S while keeping the nozzle 1 horizontal, and rewinding the nozzle 1 in reverse. Thus, the nozzle 1 can be relatively moved downward while being kept horizontal. That is, both ends of the base member 611 on which the nozzle 1 is mounted are linearly moved up and down along each stator 617. The linear motor 616 as this moving means is
Both ends of the base member 611 and the inside of each of the steel belts 614 are respectively arranged along the respective steel belts 614 arranged in the up and down directions, and as shown in FIG. A stator 617 having a base 617b between the rails 617a;
11 has a slider member 618 that is disposed on each of the side walls on the back side of both ends to face each stator 617 and is slidable on each stator 617. The slider member 618 is provided on both sides in the width direction with the rail portions 61.
7a, each linear guide 618a is fitted between the linear guides 618a and guided in the vertical direction. The linear guides 618a are disposed between the linear guides 618a and face the base 617b of the stator 617. A magnetic circuit portion 618b for generating magnetic force by excitation, and a magnetic circuit portion 618b
618 connected to both ends of a winding (not shown)
The slider member 618 is guided by the respective rail portions 617a of the stator 617 by the respective linear guide portions 618a and can move up and down by the magnetic force generated by the excitation of the magnetic circuit portion 618b. The slider members 618 are fixed to the back sides of both ends of the base member 611 on which the nozzle 1 is mounted, and the base members 611 can be vertically moved by the movement of the slider members 618.

【0075】ここでは、ノズル1を載置したベース部材
611の両端部を各固定子617に沿って上下に移動さ
せるように構成したが、ノズル1と基板Sとが被塗布面
に沿って相対的に移動するように構成すればよく、ノズ
ル1を固定して基板Sを吸着ステージ3と共に上下にリ
ニアモータやボールねじなどの移動手段で移動するよう
に構成することもできる。このように、吸着ステージ3
を上下に移動させる方がノズル1を移動させるよりも振
動が少なく、その振動による塗布むら防止などの観点か
ら吸着ステージ3を移動させる方がよいのであるが、吸
着ステージ3を上下に移動させると、装置の高さが倍必
要となり、クリーンルームの天井高さには制限があるの
で、装置の設置が難しくなってしまう。なお、図1中の
符号64は配線や薬液供給チューブなどを収容したケー
ブルベアである。
Here, both ends of the base member 611 on which the nozzle 1 is mounted are moved up and down along each stator 617. However, the nozzle 1 and the substrate S are relatively moved along the surface to be coated. The substrate S may be moved up and down together with the suction stage 3 by a moving means such as a linear motor or a ball screw while the nozzle 1 is fixed. Thus, the suction stage 3
Moving the suction stage 3 up and down has less vibration than moving the nozzle 1, and it is better to move the suction stage 3 from the viewpoint of preventing coating unevenness due to the vibration. However, since the height of the apparatus is required twice and the ceiling height of the clean room is limited, the installation of the apparatus becomes difficult. Reference numeral 64 in FIG. 1 denotes a cable carrier that accommodates wiring, a chemical supply tube, and the like.

【0076】図6は、移動機構6を構成するギャップ可
変機構部62およびノズル回動機構部63の構成を示す
図である。このギャップ可変機構部62はベース部材6
11上に設けられたものであり、ノズル1と後で説明す
るノズル回動機構部63とを一体的に基板Sに対して接
離方向(同図の左右方向)に移動させるものである。具
体的には、このギャップ可変機構部62は、ステッピン
グモータやサーボモータなどの接離モータ621と、前
後の軸受部622,623で軸支され、この接離モータ
621の回転軸に連結部624を介して連結されたボー
ルねじ625と、このボールねじ625に螺合した移動
部材626と、移動部材626の上端が下面で固着され
ていると共にノズル回動機構部63を支持して基板Sの
被塗布面SFに対してノズル1の前端面151が接近ま
たは離間するようにスライド自在なスライド部材627
とを備えており、接離モータ621によるボールねじ6
25の回転で、移動部材626が、ノズル1およびノズ
ル回動機構部63を載置した状態で前後に移動自在に構
成されている。
FIG. 6 is a diagram showing the configuration of the variable gap mechanism 62 and the nozzle rotating mechanism 63 that constitute the moving mechanism 6. The variable gap mechanism 62 is connected to the base member 6.
The nozzle 1 and a nozzle rotation mechanism 63 described later are integrally moved with respect to the substrate S in the direction toward and away from the substrate S (the left-right direction in the figure). More specifically, the variable gap mechanism 62 is supported by a contact / separation motor 621 such as a stepping motor or a servomotor, and front and rear bearings 622 and 623. , A moving member 626 screwed to the ball screw 625, an upper end of the moving member 626 fixed to the lower surface, and supporting the nozzle rotation mechanism 63 to support the substrate S. A slide member 627 that is slidable so that the front end surface 151 of the nozzle 1 approaches or separates from the surface to be coated SF.
And a ball screw 6 by the contact / separation motor 621.
With the rotation of 25, the moving member 626 is configured to be movable back and forth with the nozzle 1 and the nozzle rotating mechanism 63 placed thereon.

【0077】ここでは、ギャップ可変機構部62は中央
部1個所設けているが、ギャップ可変機構部62の配設
数はこれに限定されるものではなく、複数個設けるよう
にしてもよく、例えばギャップ可変機構部62をベース
部材611の左右2個所配設することで次のような効果
が得られる。すなわち、基板Sの幅方向にテーパがあっ
て左右両端部での厚さ寸法に差があるような場合には、
各ギャップ可変機構部62を独立して作動させてノズル
1と基板Sとのギャップ寸法を調整することができる。
Here, the variable gap mechanism 62 is provided at one central portion, but the number of variable gap mechanisms 62 is not limited to this, and a plurality of gap variable mechanisms 62 may be provided. The following effects can be obtained by disposing the gap variable mechanism 62 at two places on the left and right of the base member 611. That is, when there is a difference in the thickness dimension between the right and left ends at the right and left ends, there is a taper in the width direction of the substrate S.
The gap size between the nozzle 1 and the substrate S can be adjusted by operating each of the gap variable mechanisms 62 independently.

【0078】一方、ノズル回動機構部63は上記のよう
に構成されたギャップ可変機構部62上に設けられたも
のである。このノズル回動機構部63では、図示しない
電磁弁で制御されて、ロッド先端部631を伸長位置と
収縮位置との間を移動させるエアーシリンダ632が、
矢印方向Cにシリンダ前方部のピン633を回動中心と
して回動可能に軸支されている。このロッド先端部63
1は、アーム部材634の一方端部と回動可能にピン連
結されてリンク機構を構成しており、アーム部材634
の他方端部は駆動軸635にその長手方向に直交する方
向から回動力を伝達可能に固定されている。この駆動軸
635は、所定幅で水平方向に延びたベース部材636
を下方から支持する支持部材637を横方向に貫通して
固定されている。このベース部材636の前方端縁上側
にはノズル1がそのノズル口12を基板Sの被塗布面S
F側に向けた状態で、ノズル1の長手方向と駆動軸63
5の軸方向が一致する方向になるように取り付けられて
いる。
On the other hand, the nozzle rotating mechanism 63 is provided on the variable gap mechanism 62 configured as described above. In the nozzle rotation mechanism 63, an air cylinder 632 that moves the rod tip 631 between the extended position and the retracted position is controlled by an electromagnetic valve (not shown).
It is pivotally supported in the direction of the arrow C so as to be rotatable around a pin 633 at the front of the cylinder. This rod tip 63
Reference numeral 1 denotes a link mechanism which is rotatably pin-connected to one end of the arm member 634 to form a link mechanism.
Is fixed to the drive shaft 635 so as to be able to transmit rotational power from a direction perpendicular to the longitudinal direction. The drive shaft 635 includes a base member 636 extending horizontally with a predetermined width.
Is fixed by penetrating in the lateral direction through a support member 637 that supports from below. Above the front edge of the base member 636, the nozzle 1 has its nozzle port 12 connected to the surface S to be coated of the substrate S.
In the state facing the F side, the longitudinal direction of the nozzle 1 and the drive shaft 63
5 are mounted so that the axial directions thereof coincide with each other.

【0079】図6は、エアーシリンダ632のロッド先
端部631が伸長した場合であり、このとき、ノズル1
のノズル口12は基板Sの被塗布面SFに対向して塗布
可能な状態である。これに対して、エアーシリンダ63
2のロッド先端部631が短縮した場合には、ノズル1
のノズル口12は、2点鎖線で示すように下方を向いて
洗浄可能な状態となる。このロッド短縮の途中で、ピン
633を回動中心としてエアーシリンダ632が矢印方
向Cに揺動しつつロッド先端部631が短縮されること
になる。
FIG. 6 shows a case where the rod tip 631 of the air cylinder 632 is extended.
Nozzle port 12 is in a state where it can be applied facing the application surface SF of the substrate S. In contrast, the air cylinder 63
When the rod end 631 of No. 2 is shortened, the nozzle 1
The nozzle opening 12 of FIG. 1 is in a state where it can be washed downward as indicated by a two-dot chain line. During the rod shortening, the rod tip 631 is shortened while the air cylinder 632 swings in the arrow direction C about the pin 633 as the center of rotation.

【0080】このように、この実施形態では、ノズル1
を、上下移動機構部61によって上下方向に移動すると
ともに、ギャップ可変機構部62によって基板Sの被塗
布面SFに対して近接させたり、離間させたりすること
ができるように構成されており、これら上下移動機構部
61およびギャップ可変機構部62を次に説明する制御
構成によって制御することで、ノズル1と基板Sとを相
互に近接させた状態でノズル1を基板Sの被塗布面SF
に対して相対的に移動させることができる。また、基板
Sに対するノズル1の相対移動方向も適宜切り換えるこ
とができるようになっている。なお、基板Sに対するノ
ズル1の相対的な上下移動方法については、既に上記し
たようにノズル1を移動させる代わりに吸着ステージ3
を上下移動させたり、ノズル1および吸着ステージ3の
ともに移動させるように構成してもよい。
As described above, in this embodiment, the nozzle 1
Are moved up and down by a vertical moving mechanism 61 and can be moved closer to or away from the application surface SF of the substrate S by a variable gap mechanism 62. By controlling the vertical movement mechanism section 61 and the variable gap mechanism section 62 by a control structure described below, the nozzle 1 is moved in a state where the nozzle 1 and the substrate S are brought close to each other, and
Can be relatively moved with respect to. Further, the direction of relative movement of the nozzle 1 with respect to the substrate S can be appropriately switched. As for the method of moving the nozzle 1 up and down relative to the substrate S, instead of moving the nozzle 1 as described above, the suction stage 3
May be moved up and down, or both the nozzle 1 and the suction stage 3 may be moved.

【0081】図7は、図1の塗布装置の概略制御構成を
示すブロック図である。この塗布装置では、種々のキ
ー、例えば数字を入力するテンキー、電源のオン・オフ
を入力する電源キー、塗布スタートキー、リニアモータ
616の駆動速度の基準値を任意に手動で設定する速度
設定キーおよび、接離モータ621を駆動させて基板S
の被塗布面SFとノズル口12との隙間Gを調整する隙
間設定キー、基板サイズ、基板厚さ、塗布液粘度および
塗布膜厚などを設定する各種設定キーなどを適当に配置
してなる操作部71が設けられており、この操作部71
を介して入力されたデータや指令などが制御部72に入
力されるように構成されている。
FIG. 7 is a block diagram showing a schematic control configuration of the coating apparatus of FIG. In this coating apparatus, various keys, for example, a numeric keypad for inputting numbers, a power key for inputting power on / off, a coating start key, and a speed setting key for arbitrarily manually setting a reference value of a driving speed of the linear motor 616 Then, the contact / separation motor 621 is driven to drive the substrate S
An operation in which a gap setting key for adjusting the gap G between the coating surface SF and the nozzle port 12 and various setting keys for setting a substrate size, a substrate thickness, a coating liquid viscosity, a coating film thickness, and the like are appropriately arranged. An operation unit 71 is provided.
Is configured to input data, commands, and the like input via the control unit 72 to the control unit 72.

【0082】この制御部72は、液面センサ52、RO
M73およびRAM74に接続されており、ROM73
内に登録された各制御プログラムで用いる制御データ
や、上記のように操作部71から入力されたデータなど
をRAM74内に書き込み可能となっている。
The control unit 72 includes a liquid level sensor 52, an RO
M73 and RAM 74 are connected to ROM 73
The control data used in each control program registered in the RAM and the data input from the operation unit 71 as described above can be written in the RAM 74.

【0083】また、これらの操作部71、ROM73お
よびRAM74が接続される制御部72は、リニアモー
タ駆動回路75を介してリニアモータ616に接続され
ており、ROM73内に登録されたリニアモータ駆動制
御プログラムと、操作部71から入力され、リニアモー
タ駆動制御プログラムに対応した制御データに基づい
て、その制御信号をリニアモータ駆動回路75に出力
し、リニアモータ駆動回路75がリニアモータ616を
駆動してベース部材611上のノズル1を基板Sの被塗
布面SFに対する所定上下位置に移動自在に制御可能で
ある。また、制御部72は、ROM73内に登録された
リニアモータ駆動制御プログラムと、基板サイズ、塗布
液粘度および塗布膜厚などの各種設定キーからの入力
や、操作部71の塗布スタートキーの入力によって、リ
ニアモータ駆動制御プログラムに対応した制御データに
基づいて、リニアモータ駆動回路75を介してリニアモ
ータ616を駆動して所定速度で、しかも操作部71で
設定された相対移動方向でノズル走行させつつ塗布可能
なように制御するようになっている。
The control section 72 to which the operation section 71, the ROM 73 and the RAM 74 are connected is connected to the linear motor 616 via the linear motor drive circuit 75, and the linear motor drive control registered in the ROM 73 is controlled. Based on the program and control data input from the operation unit 71 and corresponding to the linear motor drive control program, the control signal is output to the linear motor drive circuit 75, and the linear motor drive circuit 75 drives the linear motor 616. The nozzle 1 on the base member 611 can be movably controlled to a predetermined vertical position with respect to the application surface SF of the substrate S. The control unit 72 receives a linear motor drive control program registered in the ROM 73, inputs from various setting keys such as a substrate size, a coating liquid viscosity and a coating film thickness, and inputs a coating start key of the operation unit 71. Based on the control data corresponding to the linear motor drive control program, the linear motor 616 is driven via the linear motor drive circuit 75 to drive the nozzle at a predetermined speed and in the relative movement direction set by the operation unit 71. Control is performed so that coating is possible.

【0084】また、制御部72は、接離モータ駆動回路
76を介して接離モータ621に接続されており、RO
M73内に登録された接離モータ駆動制御プログラム
と、操作部71から入力され、接離モータ駆動制御プロ
グラムに対応した制御データに基づいて、その制御信号
を接離モータ駆動回路76に出力し、接離モータ駆動回
路76が接離モータ621を駆動してベース部材611
上のノズル1を基板Sの被塗布面SFに対して接近また
は離間させるように制御する。
The control unit 72 is connected to the contact / separation motor 621 via the contact / separation motor drive circuit 76,
Based on the contact / separation motor drive control program registered in M73 and the control data input from the operation unit 71 and corresponding to the contact / separation motor drive control program, the control signal is output to the contact / separation motor drive circuit 76, The contact / separation motor drive circuit 76 drives the contact / separation motor 621 to drive the base member 611.
The upper nozzle 1 is controlled so as to approach or separate from the application surface SF of the substrate S.

【0085】また、制御部72は、パルスモータ駆動回
路77を介してパルスモータ815に接続されており、
ROM73内に登録されたパルスモータ駆動制御プログ
ラムと、操作部71から入力され、パルスモータ駆動制
御プログラムに対応した制御データに基づいて、その制
御信号をパルスモータ駆動回路77に出力し、パルスモ
ータ駆動回路77がパルスモータ815を駆動して定量
吐出吸引ユニット8から吐出される塗布液の量ΔQおよ
び定量吐出吸引ユニット8に吸引される塗布液の量ΔQ
を制御する。
The control unit 72 is connected to a pulse motor 815 via a pulse motor drive circuit 77.
Based on the pulse motor drive control program registered in the ROM 73 and control data input from the operation unit 71 and corresponding to the pulse motor drive control program, the control signal is output to the pulse motor drive circuit 77, and the pulse motor drive The circuit 77 drives the pulse motor 815 and the amount ΔQ of the application liquid discharged from the constant-rate discharge suction unit 8 and the amount ΔQ of the coating liquid sucked by the constant-rate discharge suction unit 8
Control.

【0086】さらに、制御部72は、バルブ駆動回路7
8を介してエアバルブ51a,91a,91b,…を開
閉制御するものであり、ROM73内に登録されたバル
ブ駆動制御プログラムと、操作部71から入力された制
御データに基づいて、その制御信号をバルブ駆動回路7
8に出力し、バルブ駆動回路78がエアバルブ51a,
91a,91b,…を開閉駆動して塗布液の流れを制御
する。
Further, the control section 72 includes a valve drive circuit 7
.. Are controlled through the valve drive control program registered in the ROM 73 and the control data input from the operation unit 71. Drive circuit 7
8 and the valve drive circuit 78 outputs the air valve 51a,
.. Are driven to open and close to control the flow of the coating liquid.

【0087】次に、上記のように構成された塗布装置の
動作について図4、図8ないし図14を参照しつつ説明
する。
Next, the operation of the coating apparatus configured as described above will be described with reference to FIGS. 4, 8 to 14.

【0088】まず、所定の塗布液を塗布処理する基板S
を搬送ロボット(図示せず)などによって搬送後に、基
板Sの外周部を吸着ステージ3の複数の吸盤に対応させ
た状態で所定の位置に位置決めして、基板Sの被塗布面
を外側に向けた状態で基板Sを各吸盤で吸着する。さら
に、各吸盤を吸着ステージ3の凹部31内の所定位置に
引き込んで収納することで基板Sを保持する。
First, a substrate S to be coated with a predetermined coating liquid is processed.
After being transported by a transport robot (not shown) or the like, the outer peripheral portion of the substrate S is positioned at a predetermined position in a state corresponding to the plurality of suction cups of the suction stage 3, and the coated surface of the substrate S faces outward. In this state, the substrate S is sucked by each suction cup. Further, each suction cup is pulled into a predetermined position in the concave portion 31 of the suction stage 3 and stored, thereby holding the substrate S.

【0089】このようにして基板Sの設定が完了する
と、制御部72は、図4に示すように、操作部71を介
して入力された各種の設定キー入力に応じて基板Sの被
塗布面SFに対する原点位置(基板Sの上端)にノズル
1の位置決めするべく、ノズル1と共にベース部材61
1をリニアモータ616によって移動させる。ここで
は、ROM73内に登録されたリニアモータ駆動制御プ
ログラムとその制御データに基づいて、制御部72が、
その制御信号をリニアモータ駆動回路75に出力するこ
とで、リニアモータ駆動回路75がリニアモータ616
を駆動してベース部材611上のノズル1を基板Sの被
塗布面SFに対する所定の塗布開始位置に原点復帰させ
ることができる。この場合の制御データは、基板Sの保
持位置が精密な場合には、登録された原点データであ
り、また、マニュアル的に操作部71から所定の高さ位
置が入力されたデータであってもよい。さらに、塗布液
の塗布開始位置に原点センサ(図示せず)を設けて、そ
の原点センサ(図示せず)がベース部材611を検知す
る所定の塗布開始位置で、制御部72がベース部材61
1を停止するようにリニアモータ駆動回路75を介して
リニアモータ616を駆動制御してもよい。
When the setting of the substrate S is completed in this way, as shown in FIG. 4, the control unit 72 controls the coating surface of the substrate S in response to various setting keys input through the operation unit 71. In order to position the nozzle 1 at the origin position with respect to SF (upper end of the substrate S), the base member 61 together with the nozzle 1
1 is moved by the linear motor 616. Here, based on the linear motor drive control program registered in the ROM 73 and its control data, the control unit 72
By outputting the control signal to the linear motor drive circuit 75, the linear motor drive circuit 75
Is driven, the nozzle 1 on the base member 611 can be returned to the origin at a predetermined coating start position on the coating surface SF of the substrate S. The control data in this case is registered origin data when the holding position of the substrate S is precise, and may be data in which a predetermined height position is manually input from the operation unit 71. Good. Further, an origin sensor (not shown) is provided at the application start position of the application liquid, and the origin unit sensor (not shown) detects the base member 611 at a predetermined application start position.
The drive of the linear motor 616 may be controlled via the linear motor drive circuit 75 so as to stop the motor 1.

【0090】なお、このとき、ノズル1、外部タンク
5、定量吐出吸引ユニット8およびエアバルブ51a,
91a,91b,…は初期状態に設定されている。つま
り、ノズル1は、図4に示すように、塗布液槽11を塗
布液で満たした状態で基板Sから隙間G3だけ離れた位
置に待機している。また、外部タンク5内には、同図の
1点破線で示すように、塗布液槽11とスリット16と
の境界位置と同じ液面高さで塗布液が貯留されている。
また、定量吐出吸引ユニット8の吐出吸引本体811内
には、容量Q0の塗布液が貯留されている。さらに、す
べてのバルブ51a,91a,91b,92a,…は閉
じられている。
At this time, the nozzle 1, the external tank 5, the fixed-quantity discharge suction unit 8, and the air valve 51a,
.. Are set to the initial state. That is, as shown in FIG. 4, the nozzle 1 stands by at a position separated by the gap G3 from the substrate S in a state where the coating liquid tank 11 is filled with the coating liquid. Further, in the external tank 5, the coating liquid is stored at the same liquid level as the boundary position between the coating liquid tank 11 and the slit 16, as indicated by the one-dot broken line in FIG.
Further, a coating liquid having a capacity Q0 is stored in the discharge suction main body 811 of the fixed discharge discharge suction unit 8. Further, all the valves 51a, 91a, 91b, 92a,... Are closed.

【0091】上記のようにしてノズル1の塗布開始位置
への位置決めが完了すると、それに続いて、基板Sの被
塗布面SFとノズル1との隙間を所定のギャップ寸法G1
に変更するべく、接離モータ621の駆動によるボール
ねじ625および移動部材626によりノズル1を基板
Sの被塗布面SFに対して接近するように移動させる
(図8の白抜き矢印を参照)。このとき、ROM73内
に登録された接離モータ駆動制御プログラムとその制御
データに基づいて、制御部72が、その出力制御信号を
接離モータ駆動回路76に出力し、接離モータ駆動回路
76が接離モータ621を駆動してベース部材611上
のノズル1を基板Sの被塗布面SFに対する所定のギャ
ップ位置に移動させる。この場合の制御データは、塗布
液の粘度や必要塗布膜厚、塗布速度などの各種塗布条件
に応じて設定され登録されたギャップデータ(所定ギャ
ップ位置データ)であってもよく、また、これらの各種
条件に応じた実験データを参照してマニュアル的に操作
部71から入力されたギャップデータであってもよい。
なお、以下で説明するノズル1の基板Sに対する近接あ
るいは後退移動に関するギャップデータについても同様
である。
When the positioning of the nozzle 1 to the coating start position is completed as described above, the gap between the coating surface SF of the substrate S and the nozzle 1 is subsequently reduced to a predetermined gap size G1.
The nozzle 1 is moved by the ball screw 625 and the moving member 626 driven by the contact / separation motor 621 so as to approach the application surface SF of the substrate S (see the white arrow in FIG. 8). At this time, based on the contact / separation motor drive control program registered in the ROM 73 and the control data, the control unit 72 outputs the output control signal to the contact / separation motor drive circuit 76, and the contact / separation motor drive circuit 76 The contact / separation motor 621 is driven to move the nozzle 1 on the base member 611 to a predetermined gap position with respect to the coating surface SF of the substrate S. The control data in this case may be gap data (predetermined gap position data) set and registered according to various application conditions such as the viscosity of the application liquid, the required application film thickness, and the application speed. The gap data may be manually input from the operation unit 71 with reference to experimental data corresponding to various conditions.
The same applies to gap data relating to the approach or retreat of the nozzle 1 to or from the substrate S described below.

【0092】次に、制御部72が、エアバルブ91a,
82を開く旨の制御信号をバルブ駆動回路78に出力す
ることで、バルブ駆動回路78がエアバルブ91a,8
2を駆動して吐出吸引機構81と塗布液槽11とを連通
状態にする。そして、制御部72は、操作部71を介し
て予め設定されている塗布液量の微量液溜り部41を基
板Sの被塗布面SFとノズル1との隙間G1に形成すべ
く、その制御信号をパルスモータ駆動回路77に出力す
ることで、パルスモータ駆動回路77がパルスモータ8
15を駆動してベローズ812をΔL1だけ伸張させ
る。これによって、吐出吸引機構81からその伸張量Δ
L1に相当する容量ΔQ1の塗布液がエアバルブ82,9
1aを介して塗布液槽11に供給され、その結果、塗布
液槽11からスリット16を介して隙間G1に押し出さ
れ、吐出吸引機構81に貯留される塗布液量Q1は、Q1
=Q0−ΔQ1となる。こうして、図8に示すように、
隙間G1に容量ΔQ1の微量液溜り部41が形成される。
なお、この実施形態では、パルスモータ815を使って
ベローズ812を駆動制御しているために、塗布液の種
類や粘度などに応じてパルスモータ815に与えるパル
ス数を調整することでベローズ812の伸張量ΔL1を
変更し、微量液溜り部41の容量ΔQ1を制御すること
ができる。
Next, the controller 72 controls the air valve 91a,
By outputting a control signal to open the valve 82 to the valve drive circuit 78, the valve drive circuit 78
2 is driven to make the discharge suction mechanism 81 and the coating liquid tank 11 communicate with each other. Then, the control unit 72 controls the control signal to form a small amount reservoir 41 of a predetermined amount of the coating liquid through the operation unit 71 in the gap G1 between the coating surface SF of the substrate S and the nozzle 1. Is output to the pulse motor drive circuit 77 so that the pulse motor drive circuit 77
15 is driven to extend the bellows 812 by ΔL1. As a result, the amount of extension Δ
The coating liquid having a volume ΔQ1 corresponding to L1 is supplied to the air valves 82, 9
1a, the amount of the coating liquid Q1 pushed out of the coating liquid tank 11 into the gap G1 through the slit 16 and stored in the discharge suction mechanism 81 is Q1.
= Q0-ΔQ1. Thus, as shown in FIG.
A small amount of liquid reservoir 41 having a capacity ΔQ1 is formed in the gap G1.
In this embodiment, since the drive of the bellows 812 is controlled by using the pulse motor 815, the extension of the bellows 812 is controlled by adjusting the number of pulses given to the pulse motor 815 according to the type and viscosity of the application liquid. By changing the amount ΔL1, it is possible to control the volume ΔQ1 of the minute liquid reservoir 41.

【0093】上記のようにして微量液溜り部41が形成
されると、直ちに制御部72は、ROM73内に登録さ
れたバルブ駆動制御プログラムとその制御データに基づ
くバルブ制御信号をバルブ駆動回路78に出力すること
で、図9に示すように、バルブ駆動回路78がエアバル
ブ82を閉じる一方、エアバルブ91bを開いて外部タ
ンク5と塗布液槽11とを連通状態にすると同時に、エ
アバルブ51aを開いて外部タンク5の内部を大気開放
して大気圧に設定する。すると、塗布液槽11内の塗布
液が基板S側に汲み上げられて微量液溜り部41がノズ
ル1の前端面151全体に毛管現象により広がろうとす
るとともに、その汲み上げられた塗布液分だけ外部タン
ク5内の塗布液がエアバルブ91b,91aを介して塗
布液槽11に補充される。こうして、塗布液槽11から
の塗布液の供給を受けて液溜り部が拡大しながらも、塗
布液槽11は塗布液で充満されている。
As soon as the minute liquid reservoir 41 is formed as described above, the control unit 72 sends the valve drive control program registered in the ROM 73 and the valve control signal based on the control data to the valve drive circuit 78. By outputting, as shown in FIG. 9, the valve drive circuit 78 closes the air valve 82, opens the air valve 91b to connect the external tank 5 and the coating liquid tank 11, and simultaneously opens the air valve 51a to open the external The inside of the tank 5 is opened to the atmosphere and set to the atmospheric pressure. Then, the coating liquid in the coating liquid tank 11 is pumped to the substrate S side, and the trace liquid reservoir 41 tries to spread to the entire front end surface 151 of the nozzle 1 by capillary action. The coating liquid in the tank 5 is supplied to the coating liquid tank 11 via the air valves 91b and 91a. In this way, the coating liquid tank 11 is filled with the coating liquid while the liquid reservoir is expanded by receiving the supply of the coating liquid from the coating liquid tank 11.

【0094】また、液溜り部の拡大と並行して、基板S
の被塗布面SFとノズル1との隙間を塗布時の所定のギ
ャップ寸法G2(>G1)に変更するべく、接離モータ6
21の駆動によるボールねじ625および移動部材62
6によりノズル1を基板Sの被塗布面SFから離隔する
ように移動させて(図9の白抜き矢印を参照)、所定の
液溜り部4を形成し、塗布開始の準備を完了する。この
間も、ギャップ寸法G2に拡大するのに伴って液溜り部
4の塗布液量も増大し、その分の塗布液が塗布液槽11
から汲み上げられる。
In parallel with the enlargement of the liquid reservoir, the substrate S
In order to change the gap between the coating surface SF and the nozzle 1 to a predetermined gap dimension G2 (> G1) at the time of coating, the contact / separation motor 6
21 and the moving member 62
6, the nozzle 1 is moved so as to be separated from the application surface SF of the substrate S (see the white arrow in FIG. 9) to form a predetermined liquid reservoir 4, and the preparation for starting the application is completed. During this time, as the gap size G2 increases, the amount of the coating liquid in the liquid reservoir 4 also increases, and the coating liquid corresponding to the amount increases.
Pumped from.

【0095】そして、基板Sの被塗布面SFに所定の塗
布膜厚で塗布するべく、操作部71の塗布スタートキー
を操作すると、エアバルブ51a,91a,91bを開
いた状態のまま、ROM73内に登録されたリニアモー
タ駆動制御プログラムと所定の相対移動方向および塗布
膜厚に応じた制御データとに基づいて、制御部72は、
その出力制御信号をリニアモータ駆動回路75に出力
し、リニアモータ駆動回路75がリニアモータ616を
駆動してベース部材611をノズル1、外部タンク5と
共に基板Sの被塗布面SFに対して下方に移動させてノ
ズル走行を行ないつつ(図10の白抜き矢印)、基板S
の被塗布面SFに対して塗布液を塗布する。
When the application start key of the operation section 71 is operated to apply a predetermined coating film thickness to the application surface SF of the substrate S, the ROM 73 is kept in the ROM 73 with the air valves 51a, 91a and 91b opened. Based on the registered linear motor drive control program and the control data according to the predetermined relative movement direction and the coating film thickness, the control unit 72
The output control signal is output to the linear motor drive circuit 75, and the linear motor drive circuit 75 drives the linear motor 616 to move the base member 611 together with the nozzle 1 and the external tank 5 downward with respect to the application surface SF of the substrate S. The substrate S is moved while moving the nozzle (outline arrow in FIG. 10).
Is applied to the surface SF to be coated.

【0096】このようにして基板Sの被塗布面SFへの
塗布処理を行うと、塗布液槽11の塗布液が連続して汲
み上げられて塗布液槽11内の塗布液が持ち出される
が、これと同時に、外部タンク5からエアバルブ91
b,91aを介して塗布液槽11に補充され、塗布液槽
11は塗布液で充満される。
When the coating process is performed on the coating surface SF of the substrate S in this manner, the coating liquid in the coating liquid tank 11 is continuously pumped up, and the coating liquid in the coating liquid tank 11 is taken out. At the same time, the air valve 91
The coating liquid tank 11 is replenished via the b and 91a, and the coating liquid tank 11 is filled with the coating liquid.

【0097】上記のようにして被塗布面SF全体への塗
布処理が完了し、ノズル1が最終塗布位置で停止すると
(図11)、制御部72は、ROM73内に登録された
バルブ駆動制御プログラムとその制御データに基づくバ
ルブ制御信号をバルブ駆動回路78に出力することで、
バルブ駆動回路78がエアバルブ91a,91bを閉じ
る一方、エアバルブ83,96aを開いて外部タンク5
と吐出吸引機構81とを連通状態にする。なお、エアバ
ルブ51aについては、依然として開いた状態に維持さ
れており、外部タンク5の内部を大気開放して大気圧に
設定したままである。
When the coating process on the entire surface SF to be coated is completed as described above and the nozzle 1 stops at the final coating position (FIG. 11), the control unit 72 executes the valve drive control program registered in the ROM 73. By outputting a valve control signal based on the control data to the valve drive circuit 78,
The valve driving circuit 78 closes the air valves 91a and 91b, and opens the air valves 83 and 96a to open the external tank 5.
And the discharge suction mechanism 81 are brought into a communicating state. Note that the air valve 51a is still kept open, and the inside of the external tank 5 is opened to the atmosphere and kept at the atmospheric pressure.

【0098】これに続いて、制御部72は、操作部71
を介して予め設定されている塗布液の所定量ΔQ2分だ
け外部タンク5に送り込むべく、その制御信号をパルス
モータ駆動回路77に出力することで、パルスモータ駆
動回路77がパルスモータ815を駆動してベローズ8
12をΔL2だけ伸張させる。これによって、吐出吸引
機構81からその伸張量ΔL2に相当する容量ΔQ2の塗
布液がエアバルブ83,96a、フィルタ96bを介し
て外部タンク5に供給され、吐出吸引機構81に貯留さ
れる塗布液量Q2は、 Q2 =Q1−ΔQ2 =Q0−(ΔQ1+ΔQ2) となる。このように所定量ΔQ2の塗布液を外部タンク
5に送り出すのは、次のサックバック処理に備えるため
である。
Subsequently, the control section 72 operates the operation section 71.
The pulse motor drive circuit 77 drives the pulse motor 815 by outputting a control signal to the pulse motor drive circuit 77 in order to send the coating liquid to the external tank 5 by a predetermined amount ΔQ2 which is set in advance. Bellows 8
12 is extended by ΔL2. As a result, the application liquid having a capacity ΔQ2 corresponding to the expansion amount ΔL2 is supplied from the discharge suction mechanism 81 to the external tank 5 via the air valves 83 and 96a and the filter 96b, and the coating liquid amount Q2 stored in the discharge suction mechanism 81 Is as follows: Q2 = Q1−ΔQ2 = Q0− (ΔQ1 + ΔQ2) The reason why the coating liquid of the predetermined amount ΔQ2 is sent to the external tank 5 in order to prepare for the next suckback processing.

【0099】次に、制御部72は、ROM73内に登録
されたバルブ駆動制御プログラムとその制御データに基
づくバルブ制御信号をバルブ駆動回路78に出力するこ
とで、バルブ駆動回路78がエアバルブ51a,83,
96aを閉じる一方、エアバルブ91a,82を開いて
塗布液槽11と吐出吸引機構81とを連通状態にした
後、サックバック処理を行う。すなわち、制御部72
が、基板Sの被塗布面SFとノズル1との隙間を所定の
ギャップ寸法G1に変更するべく、接離モータ621の
駆動によるボールねじ625および移動部材626によ
りノズル1を基板Sの被塗布面SFに近接するように移
動させる(図12の白抜き矢印を参照)とともに、操作
部71を介して予め設定されているサックバック量ΔQ
3(=ΔQ1+ΔQ2)分だけ吸引すべく、その制御信号
をパルスモータ駆動回路77に出力することで、パルス
モータ駆動回路77がパルスモータ815を駆動してベ
ローズ812をΔL3だけ収縮させる。これによって、
塗布液槽11からその収縮量ΔL3に相当する容量ΔQ3
の塗布液がエアバルブ91a,82を介して吐出吸引機
構81に吸引され、その結果、最終塗布位置で余剰とな
っていた塗布液が塗布液槽11に戻される。なお、こう
して所定量ΔQ3の塗布液をサックバックすると、吐出
吸引機構81に貯留される塗布液量Q3は、 Q3 =Q2+ΔQ3 =Q2+(ΔQ1+ΔQ2) =Q0 となり、吐出吸引機構81に貯留される塗布液量は塗布
開始時と同一となる。
Next, the control section 72 outputs a valve drive control program based on the valve drive control program registered in the ROM 73 and the control data to the valve drive circuit 78, so that the valve drive circuit 78 causes the air valves 51a, 83 ,
While closing 96a, the air valves 91a and 82 are opened to bring the application liquid tank 11 into communication with the discharge suction mechanism 81, and then suck back processing is performed. That is, the control unit 72
The nozzle 1 is moved by the ball screw 625 and the moving member 626 driven by the contact / separation motor 621 to change the gap between the coating surface SF of the substrate S and the nozzle 1 to a predetermined gap dimension G1. It is moved so as to be close to SF (see the white arrow in FIG. 12), and a suck-back amount ΔQ preset through the operation unit 71 is set.
By outputting the control signal to the pulse motor drive circuit 77 in order to suck by 3 (= ΔQ1 + ΔQ2), the pulse motor drive circuit 77 drives the pulse motor 815 to contract the bellows 812 by ΔL3. by this,
The capacity ΔQ3 corresponding to the contraction amount ΔL3 from the coating solution tank 11
Is applied to the discharge / suction mechanism 81 via the air valves 91a and 82, and as a result, the excess application liquid at the final application position is returned to the application liquid tank 11. When sucking back the coating liquid of the predetermined amount ΔQ3 in this manner, the coating liquid amount Q3 stored in the discharge suction mechanism 81 is as follows: Q3 = Q2 + ΔQ3 = Q2 + (ΔQ1 + ΔQ2) = Q0, and the coating liquid stored in the discharge suction mechanism 81 The amount will be the same as at the start of the application.

【0100】上記のようにしてサックバック処理が完了
すると、制御部72は、ROM73内に登録されたバル
ブ駆動制御プログラムとその制御データに基づくバルブ
制御信号をバルブ駆動回路78に出力することでバルブ
駆動回路78がエアバルブ91a,82を閉じ、すべて
のバルブ51a,91a,…を閉状態にした後、リニア
モータ駆動制御プログラムとその制御データに基づく制
御信号をリニアモータ駆動回路75に出力するととも
に、接離モータ駆動制御プログラムとその制御データに
基づく制御信号を接離モータ駆動回路76に出力して、
ノズル1を待機位置(図示省略)に退避させる。
When the suck-back process is completed as described above, the control section 72 outputs a valve drive control program registered in the ROM 73 and a valve control signal based on the control data to the valve drive circuit 78 so as to output the valve control signal. After the drive circuit 78 closes the air valves 91a, 82 and closes all the valves 51a, 91a,..., The control circuit 78 outputs a control signal based on the linear motor drive control program and its control data to the linear motor drive circuit 75, A control signal based on the contact / separation motor drive control program and its control data is output to the contact / separation motor drive circuit 76,
The nozzle 1 is retracted to a standby position (not shown).

【0101】こうして1枚の基板Sに対する塗布処理を
完了し、吸着ステージ3による基板Sの吸着保持を解除
した後、当該基板Sを搬送ロボットなどによって後処理
工程に搬送する。そして、次の基板Sが搬送されてくる
と、上記一連の動作を繰り返して塗布処理を実行する。
After the coating process on one substrate S is completed in this way and the suction holding of the substrate S by the suction stage 3 is released, the substrate S is transferred to a post-processing step by a transfer robot or the like. Then, when the next substrate S is transported, the above series of operations is repeated to execute the coating process.

【0102】ところで、上記実施形態にかかる塗布装置
では、塗布液槽11は常に塗布液で満たされているた
め、塗布処理によって消費された分だけ外部タンク5や
吐出吸引機構81に貯留されている塗布液の量が減少す
る。そこで、この実施形態では、上記一連の動作を1回
行うごとに、あるいは複数回行うごとに塗布液供給源9
5から塗布液を補給している。
In the coating apparatus according to the above embodiment, since the coating liquid tank 11 is always filled with the coating liquid, only the amount consumed by the coating processing is stored in the external tank 5 or the discharge suction mechanism 81. The amount of coating liquid decreases. Therefore, in this embodiment, each time the series of operations is performed once or a plurality of times, the coating liquid supply source 9 is turned on.
5, the application liquid is supplied.

【0103】図13および図14は、定量吐出吸引ユニ
ット8を利用した外部タンク5への塗布液の補給処理を
示す図である。この補給処理においては、図13に示す
ように、制御部72が、ROM73内に登録されたバル
ブ駆動制御プログラムとその制御データに基づくバルブ
制御信号をバルブ駆動回路78に出力することで、バル
ブ駆動回路78がエアバルブ83,96aを開いて外部
タンク5と吐出吸引機構81とを連通状態にするととも
に、エアバルブ51aを開いて外部タンク5の内部を大
気開放して大気圧に設定する。その後、制御部72が、
補給量ΔQ4分だけ外部タンク5に送り込むべく、その
制御信号をパルスモータ駆動回路77に出力すること
で、パルスモータ駆動回路77がパルスモータ815を
駆動してベローズ812をΔL4だけ伸張させる。これ
によって、吐出吸引機構81からその伸張量ΔL4に相
当する容量ΔQ4の塗布液がエアバルブ83,96a、
フィルタ96bを介して外部タンク5に補給される。一
方、吐出吸引機構81では、上記補給量ΔQ4分だけ貯
留している塗布液が減少し、塗布液量Q4となる。
FIG. 13 and FIG. 14 are diagrams showing a process of replenishing the external tank 5 with the application liquid using the fixed quantity discharge suction unit 8. In the replenishment process, as shown in FIG. 13, the control unit 72 outputs a valve drive control program registered in the ROM 73 and a valve control signal based on the control data to the valve drive circuit 78, so that the valve drive circuit 78 operates. The circuit 78 opens the air valves 83 and 96a to make the external tank 5 and the discharge suction mechanism 81 communicate with each other, and opens the air valve 51a to open the inside of the external tank 5 to the atmospheric pressure and set the atmospheric pressure. After that, the control unit 72
By outputting a control signal to the pulse motor drive circuit 77 to send the replenishment amount ΔQ4 to the external tank 5, the pulse motor drive circuit 77 drives the pulse motor 815 to extend the bellows 812 by ΔL4. As a result, the application liquid having a capacity ΔQ4 corresponding to the expansion amount ΔL4 is supplied from the discharge suction mechanism 81 to the air valves 83 and 96a,
It is supplied to the external tank 5 via the filter 96b. On the other hand, in the discharge suction mechanism 81, the amount of the coating liquid stored by the supply amount ΔQ4 decreases, and the amount of the coating liquid becomes Q4.

【0104】そこで、図14に示すように、制御部72
が、ROM73内に登録されたバルブ駆動制御プログラ
ムとその制御データに基づくバルブ制御信号をバルブ駆
動回路78に出力することで、バルブ駆動回路78がエ
アバルブ51a,96aを閉じる一方、エアバルブ94
aを開いて塗布液供給源95と吐出吸引機構81とを連
通状態にする。それに続いて、バルブ97aを開いて窒
素ガスを塗布液供給源95に導入しながら、制御部72
が操作部71を介して予め設定されている補給量ΔQ5
分だけ補給すべく、その制御信号をパルスモータ駆動回
路77に出力することで、パルスモータ駆動回路77が
パルスモータ815を駆動してベローズ812をΔL5
だけ収縮させる。これによって、塗布液供給源95から
その収縮量ΔL5に相当する容量ΔQ5の塗布液がエアバ
ルブ94a,83を介して吐出吸引機構81に吸引さ
れ、その結果、吐出吸引機構81に貯留される塗布液量
は、(Q4+ΔQ5)となり、塗布開始時と同一量Q0に
戻される。
Therefore, as shown in FIG.
Outputs a valve drive control program registered in the ROM 73 and a valve control signal based on the control data to the valve drive circuit 78 so that the valve drive circuit 78 closes the air valves 51a and 96a while the air valve 94
a is opened to make the application liquid supply source 95 and the discharge suction mechanism 81 communicate with each other. Subsequently, while opening the valve 97 a and introducing nitrogen gas into the coating liquid supply source 95,
Is a replenishment amount ΔQ5 preset via the operation unit 71.
By outputting the control signal to the pulse motor drive circuit 77 in order to replenish the bellows, the pulse motor drive circuit 77 drives the pulse motor 815 to drive the bellows 812 to ΔL5
Just shrink. As a result, the coating liquid having a capacity ΔQ5 corresponding to the contraction amount ΔL5 is sucked from the coating liquid supply source 95 to the discharge suction mechanism 81 via the air valves 94a and 83, and as a result, the coating liquid stored in the discharge suction mechanism 81 The amount is (Q4 + ΔQ5), and is returned to the same amount Q0 as at the start of coating.

【0105】なお、塗布液供給源95から外部タンク5
に直接塗布液を補給してもよい。また、外部タンク5に
補給する必要がなく、吐出吸引機構81にのみ補給すれ
ばよい場合には、図14に示す補給処理のみを行えばよ
い。
The external tank 5 is supplied from the coating liquid supply source 95.
May be directly supplied with a coating liquid. When it is not necessary to replenish the external tank 5 and only replenish the discharge suction mechanism 81, only the replenishment process shown in FIG. 14 may be performed.

【0106】以上のように、この実施形態にかかる塗布
装置によれば、次のような効果が得られるとともに、次
のように変形することができる。
As described above, according to the coating apparatus of this embodiment, the following effects can be obtained, and the coating apparatus can be modified as follows.

【0107】(1) ノズル1に対して外部タンク5を別
個独立して設けるとともに、ノズル1と外部タンク5と
を連通してノズル1内に設けられた塗布液槽11に塗布
液を適宜補充し、当該塗布液槽11には、塗布液が常時
満たされているので、このノズル1内での塗布液のゲル
化を防止することができ、ノズル1の着脱洗浄処理の必
要性を大幅に低減することができる。このため、ノズル
1の着脱回数を最小限に抑えることができ、高い頻度で
着脱洗浄を必要としていた従来の塗布装置に比べて、塗
布性能の再現性および安定性を高めることができる。ま
た、上記のようにゲル化を防止してノズル1内部の汚染
を抑制することができるため、ノズル1を金属などの精
密加工が可能な材料で形成することができ、この点から
も塗布性能の再現性および安定性をより一層高めること
ができる。
(1) The external tank 5 is provided separately and independently from the nozzle 1, and the nozzle 1 and the external tank 5 are communicated with each other to appropriately replenish the coating liquid in the coating liquid tank 11 provided in the nozzle 1. Since the coating liquid tank 11 is always filled with the coating liquid, the coating liquid in the nozzle 1 can be prevented from gelling, and the necessity of the detachment cleaning processing of the nozzle 1 is greatly reduced. Can be reduced. For this reason, the number of times of attaching and detaching the nozzles 1 can be minimized, and the reproducibility and stability of the coating performance can be improved as compared with the conventional coating apparatus which requires the cleaning to be performed at a high frequency. In addition, since the gelation can be prevented and the contamination inside the nozzle 1 can be suppressed as described above, the nozzle 1 can be formed of a material such as a metal that can be precisely machined. Can be further improved in reproducibility and stability.

【0108】(2) また、上記のように塗布液槽11に
は、塗布液が常時満たされていて空気が入っていないの
で、ノズル1の向きを変えてもノズル1からの液こぼれ
を防止することができる。したがって、従来のように液
こぼれが生じないようにノズルの待機位置や洗浄位置を
考慮しなければならなかった従来の塗布装置に比べてノ
ズル1の向きによる設計上の制限が少なくなり、設計の
自由度を高めることができる。
(2) Since the coating liquid tank 11 is always filled with the coating liquid and does not contain air as described above, even if the direction of the nozzle 1 is changed, the liquid spilling from the nozzle 1 is prevented. can do. Therefore, as compared with the conventional coating apparatus in which the standby position and the cleaning position of the nozzle have to be considered so that the liquid does not spill as in the related art, the design limitation due to the direction of the nozzle 1 is reduced, and the design is reduced. The degree of freedom can be increased.

【0109】(3) 一方、外部タンク5については、ノ
ズル1に塗布液を補充するために、大気開放されてお
り、当該外部タンク5の内部には気相が存在し、塗布液
のゲル化が生じるが、外部タンク5については、ノズル
1とは異なり、着脱洗浄したとしても塗布性能に悪影響
を与えないため、適宜必要に応じて着脱洗浄することが
でき、メンテナンス性に優れているといえる。また、外
部タンク5をどのような材料で形成しても上記した効果
は得られるが、特に実施形態のようにPTFEやPFA
などの樹脂材料で形成した場合、洗浄性をより向上させ
ることができる。
(3) On the other hand, the external tank 5 is opened to the atmosphere in order to replenish the nozzle 1 with the coating liquid. A gas phase exists inside the external tank 5 and the coating liquid is gelled. However, unlike the nozzle 1, the external tank 5 does not adversely affect the coating performance even if it is detached and cleaned, so that the external tank 5 can be appropriately detached and cleaned as needed, and is excellent in maintenance. . Although the above-described effects can be obtained even if the external tank 5 is formed of any material, particularly, PTFE or PFA as in the embodiment is used.
When it is formed of such a resin material as above, the cleaning property can be further improved.

【0110】(4) また、上記実施形態では、外部タン
ク5を樹脂材料で形成しており、外部タンク5全体が透
明あるいは半透明状態となっているので、作業者が装置
外部から外部タンク5に貯留される塗布液量を目視確認
することができ、液面高さを確認して液面高さが大幅に
減少する前に塗布液を補充することが容易となる。な
お、この点からいえば、外部タンク5をガラスなどの透
明材料で形成してもよい。また、液面高さの目視確認の
みを考慮すれば、外部タンク5全体を透明あるいは半透
明材料で形成する必然性はなく、少なくとも外部タンク
5の一部領域を透明あるいは半透明材料で形成し、当該
領域で液面高さを目視可能に構成すればよい。
(4) In the above embodiment, the external tank 5 is formed of a resin material, and the entire external tank 5 is in a transparent or translucent state. The amount of the coating liquid stored in the container can be visually checked, and it is easy to check the liquid level and to replenish the coating liquid before the liquid level is significantly reduced. Note that, from this point, the external tank 5 may be formed of a transparent material such as glass. Further, if only the visual check of the liquid level is considered, it is not necessary to form the entire outer tank 5 with a transparent or translucent material, and at least a part of the outer tank 5 is formed with a transparent or translucent material. What is necessary is just to comprise so that the liquid level may be visually checked in the said area | region.

【0111】(5) また、目視可能領域(上記実施形態
における外部タンク5の側面領域)に液面センサ52を
設けているので、液面高さの確認を自動化することがで
きる。すなわち、液面センサ52からの検出信号に基づ
き、制御部72が、液面高さが所定範囲に収まっていな
いことを確認すると、その旨を作業者に警告するように
すれば、作業者の作業負担を低減することができる。
(5) In addition, since the liquid level sensor 52 is provided in the viewable area (the side area of the external tank 5 in the above embodiment), it is possible to automatically check the liquid level. That is, based on the detection signal from the liquid level sensor 52, when the control unit 72 confirms that the liquid level is not within the predetermined range, the control unit 72 warns the operator to that effect. Work load can be reduced.

【0112】(6) また、上記実施形態では、定量吐出
吸引ユニット8によって定量の塗布液を塗布液槽11に
供給して塗布開始に先立って基板Sとノズル1との間に
微量液溜り部41を形成するようにしているので、塗布
開始時に過不足のない適切な液溜り部4を形成すること
ができ、液だれや塗布不良などの不具合を防止すること
ができる。特に、上記実施形態では、塗布開始時におい
て微量液溜り部41を形成するために供給される塗布液
量を調整することができるので、塗布液の種類や粘度な
どに対応する最適な微量液溜り部41を形成することが
できる。
(6) In the above embodiment, a fixed amount of application liquid is supplied to the application liquid tank 11 by the constant-quantity discharge / suction unit 8 so that a small amount of liquid is stored between the substrate S and the nozzle 1 before the start of application. Since the liquid reservoir 41 is formed, it is possible to form an appropriate liquid reservoir 4 with no excess or shortage at the start of the application, and it is possible to prevent problems such as dripping and poor application. In particular, in the above-described embodiment, since the amount of the coating liquid supplied to form the minute liquid pool portion 41 at the start of coating can be adjusted, the optimum amount of the micro liquid pool corresponding to the type and viscosity of the coating liquid can be adjusted. The part 41 can be formed.

【0113】(7) また、最終塗布位置において余剰の
塗布液を定量吐出吸引ユニット8によって吸引回収する
ように構成しているので、当該最終塗布位置での膜厚増
大や基板Sの下側端部への塗布液の回り込みなどを防止
して、適切な膜厚で基板に塗布液を塗布することができ
る。しかも、余剰の塗布液のノズル1への付着を防止し
ているので、処理が終わるごとにノズル1などを洗浄す
る必要はなく、高いスループットで塗布処理を行うこと
ができる。しかも、回収した塗布液は再利用されるた
め、塗布液を無駄なく利用することができる。なお、上
記実施形態では、吸引回収する塗布液量を調整すること
ができるので、塗布液の種類や粘度などに応じて制御す
ることができ、塗布装置の汎用性を高めることができ
る。
(7) Further, since the surplus application liquid is suctioned and collected at the final application position by the constant-quantity discharge suction unit 8, the film thickness increases at the final application position and the lower end of the substrate S The coating liquid can be applied to the substrate with an appropriate film thickness by preventing the coating liquid from flowing into the part. In addition, since the surplus coating liquid is prevented from adhering to the nozzle 1, it is not necessary to clean the nozzle 1 and the like every time the processing is completed, and the coating processing can be performed with high throughput. In addition, since the collected coating liquid is reused, the coating liquid can be used without waste. In the above embodiment, since the amount of the coating liquid to be suctioned and collected can be adjusted, it can be controlled according to the type and viscosity of the coating liquid, and the versatility of the coating apparatus can be improved.

【0114】(8) また、上記実施形態では、定量吐出
および定量吸引することができる定量吐出吸引ユニット
8を設けているが、定量吐出することができる定量吐出
機構および定量吸引することができる定量吸引機構の一
方にのみ、あるいはそれぞれを別個に設けてもよい。
(8) In the above embodiment, the fixed-quantity discharge suction unit 8 capable of performing fixed-quantity discharge and constant-quantity suction is provided. Only one of the suction mechanisms may be provided, or each may be separately provided.

【0115】(9) さらに、塗布処理を行わない場合に
は、エアバルブを閉じて圧縮性の気相が存在しないよう
に構成しているので、仮にノズル1を下向きにしたとし
てもノズル1からの液だれやそれに伴うエア混入がなく
なり、ノズル1を任意の位置、姿勢にすることができ
る。
(9) Further, when the coating process is not performed, the air valve is closed to prevent the presence of a compressible gas phase. Therefore, even if the nozzle 1 is turned downward, Liquid dripping and accompanying air mixing are eliminated, and the nozzle 1 can be set at any position and posture.

【0116】[0116]

【発明の効果】以上のように、この発明によれば、塗布
液槽内の塗布液の一部が汲み上げられて基板の被塗布面
に塗布されると同時に、その汲み上げられた塗布液量に
相当する塗布液が外部タンクから塗布液槽に補充されて
塗布液槽は常時塗布液で充満されるように構成している
ので、ノズル手段側では、塗布液槽に気相が存在せず、
塗布液槽内での塗布液のゲル化を防止して塗布液槽内の
汚染を防止することができ、その結果、塗布性能の再現
性および安定性を向上させることができる。
As described above, according to the present invention, a part of the coating liquid in the coating liquid tank is pumped and applied to the surface to be coated of the substrate, and at the same time, the amount of the pumped coating liquid is reduced. Since the corresponding coating liquid is replenished from the external tank to the coating liquid tank so that the coating liquid tank is always filled with the coating liquid, on the nozzle means side, there is no gas phase in the coating liquid tank,
Gelling of the coating solution in the coating solution tank can be prevented to prevent contamination in the coating solution tank, and as a result, reproducibility and stability of coating performance can be improved.

【0117】一方、大気開放された外部タンクでは、塗
布液のゲル化が生じるが、外部タンクは塗布性能に直接
関連しないため、必要に応じて適宜外部タンクを洗浄可
能であるとともに、洗浄性などを考慮した上で外部タン
クを設計することができる。
On the other hand, in an external tank that is open to the atmosphere, the coating solution gels. However, since the external tank is not directly related to the coating performance, the external tank can be appropriately cleaned as needed, The external tank can be designed in consideration of the above.

【0118】また、ノズル手段を任意の方向に向けたと
しても、ノズル手段から塗布液が流出することはなく、
ノズル姿勢を考慮することなく、塗布装置の各部を設計
することができる。
Further, even if the nozzle means is oriented in an arbitrary direction, the coating liquid does not flow out of the nozzle means.
Each part of the coating apparatus can be designed without considering the nozzle attitude.

【0119】また、塗布液の液面高さを目視可能な領域
を外部タンクに形成し、この目視可能領域を介して外部
タンク内の塗布液の液面高さを目視確認可能としている
ので、液面高さを確認して液面高さが大幅に減少する前
に塗布液を補充することが容易となる。特に、液面検出
手段を目視可能領域に設けることで、液面高さを自動的
に検出することができる。
Further, an area where the liquid level of the coating liquid can be visually confirmed is formed in the external tank, and the liquid level of the coating liquid in the external tank can be visually confirmed through the visible area. It is easy to check the liquid level and to replenish the coating liquid before the liquid level significantly decreases. In particular, by providing the liquid level detecting means in the viewable area, the liquid level can be automatically detected.

【0120】また、第1液流制御手段によって塗布液槽
と外部タンクとの間での塗布液の流れを制御するように
構成しているので、塗布液槽と外部タンクとの間での塗
布液の流れを禁止して、ノズル姿勢を例えば下向きにし
たとしても、ノズル手段から塗布液が流出するのを効果
的に防止している。このため、塗布装置の設計にあたっ
て、ノズル手段の向きを比較的考慮することなく、塗布
装置の設計自由度を高めることができる。
Further, since the flow of the coating liquid between the coating liquid tank and the external tank is controlled by the first liquid flow control means, the coating liquid between the coating liquid tank and the external tank is controlled. Even if the flow of the liquid is prohibited and the nozzle attitude is, for example, downward, the coating liquid is effectively prevented from flowing out of the nozzle means. Therefore, the degree of freedom in designing the coating apparatus can be increased without relatively considering the direction of the nozzle means in designing the coating apparatus.

【0121】また、第1液流制御手段によって外部タン
クから塗布液槽への塗布液の供給が禁止された状態で、
定量吐出手段から定量の塗布液を第2液流制御手段を介
して塗布液槽に供給して、ノズル手段と被塗布面との間
に微量液溜り部を形成するように構成しているので、液
だれや塗布不良などの不具合を防止することができる。
In a state where the supply of the coating liquid from the external tank to the coating liquid tank is prohibited by the first liquid flow control means,
Since a fixed amount of application liquid is supplied from the constant amount discharge means to the application liquid tank via the second liquid flow control means, and a minute liquid reservoir is formed between the nozzle means and the surface to be applied. In addition, problems such as dripping and poor coating can be prevented.

【0122】また、第1液流制御手段によって塗布液槽
から外部タンクへの塗布液の流入が禁止された状態で、
定量吸引手段によって定量の塗布液を塗布液槽から第3
液流制御手段を介して吸引されて回収するように構成し
ているので、最終塗布位置での膜厚増大や基板の下側端
部への塗布液の回り込みなどを防止して、適切な膜厚で
基板に塗布液を塗布することができる。しかも、余剰の
塗布液のノズル手段への付着を防止しているので、処理
が終わるごとにノズル手段などを洗浄する必要はなく、
高いスループットで塗布処理を行うことができる。しか
も、回収した塗布液を再利用すれば、塗布液を無駄なく
利用することができる。
In a state where the inflow of the coating liquid from the coating liquid tank to the external tank is prohibited by the first liquid flow control means,
A fixed amount of the coating solution is removed from the coating solution tank by the
Since it is configured to be sucked and collected through the liquid flow control means, it is possible to prevent an increase in the film thickness at the final coating position and to prevent the coating liquid from flowing to the lower edge of the substrate, and to prevent the liquid from flowing. The coating liquid can be applied to the substrate with a large thickness. Moreover, since the excess coating solution is prevented from adhering to the nozzle means, it is not necessary to clean the nozzle means etc. every time the processing is completed.
The coating process can be performed with high throughput. Moreover, if the collected coating liquid is reused, the coating liquid can be used without waste.

【0123】さらに、吐出処理の内容に応じて塗布液槽
への塗布液の吐出量を制御しているので、常に適切な微
量液溜り部を形成することができる。これと同様に、吸
引回収する塗布液量を調整することができるように構成
しているので、塗布液の種類や粘度などに応じて制御す
ることができ、塗布装置の汎用性を高めることができ
る。
Further, since the discharge amount of the coating liquid to the coating liquid tank is controlled according to the contents of the discharge processing, an appropriate minute liquid reservoir can be always formed. Similarly, since the configuration is such that the amount of the coating liquid to be suctioned and collected can be adjusted, it can be controlled according to the type and viscosity of the coating liquid, and the versatility of the coating apparatus can be improved. it can.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明にかかる塗布装置の一の実施形態を示
す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing one embodiment of a coating apparatus according to the present invention.

【図2】図1の塗布装置におけるノズル、外部タンクお
よび定量吐出吸引ユニットの構成および相互接続関係を
示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a configuration and an interconnecting relationship of a nozzle, an external tank, and a fixed-quantity discharge suction unit in the coating apparatus of FIG.

【図3】定量吐出吸引ユニットの構成を示す概略構成図
である。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing a configuration of a fixed-quantity discharge suction unit.

【図4】図1の塗布装置における配管系を示す図であ
る。
FIG. 4 is a view showing a piping system in the coating apparatus of FIG.

【図5】図1のリニアモータの概略構成を示す一部破断
斜視図である。
FIG. 5 is a partially cutaway perspective view showing a schematic configuration of the linear motor of FIG. 1;

【図6】移動機構を構成するギャップ可変機構部および
ノズル回動機構部の構成を示す図である。
FIG. 6 is a diagram illustrating the configuration of a variable gap mechanism and a nozzle rotation mechanism that constitute a moving mechanism.

【図7】図1の塗布装置の概略制御構成を示すブロック
図である。
FIG. 7 is a block diagram illustrating a schematic control configuration of the coating apparatus of FIG. 1;

【図8】図1の塗布装置の動作を示す図である。FIG. 8 is a view showing the operation of the coating apparatus of FIG.

【図9】図1の塗布装置の動作を示す図である。FIG. 9 is a view showing the operation of the coating apparatus of FIG. 1;

【図10】図1の塗布装置の動作を示す図である。FIG. 10 is a view showing the operation of the coating apparatus of FIG. 1;

【図11】図1の塗布装置の動作を示す図である。FIG. 11 is a view showing the operation of the coating apparatus of FIG. 1;

【図12】図1の塗布装置の動作を示す図である。FIG. 12 is a view showing the operation of the coating apparatus of FIG. 1;

【図13】図1の塗布装置の動作を示す図である。FIG. 13 is a view showing the operation of the coating apparatus of FIG. 1;

【図14】図1の塗布装置の動作を示す図である。FIG. 14 is a view showing the operation of the coating apparatus of FIG. 1;

【図15】提案例にかかる塗布装置の概略構成を示す正
面図である。
FIG. 15 is a front view showing a schematic configuration of a coating apparatus according to a proposal example.

【図16】図15の塗布装置におけるAA線の断面図で
ある。
FIG. 16 is a sectional view taken along line AA in the coating apparatus of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ノズル 3 吸着ステージ(基板保持手段) 5 外部タンク 6 移動機構 8 定量吐出吸引ユニット 11 塗布液槽 51a,82,83,91a,91b,96a エアバ
ルブ 52 液面センサ 52a 光センサ 63 ノズル回動機構部 72 制御部 81 吐出吸引機構 SF 被塗布面 S 基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Nozzle 3 Suction stage (substrate holding means) 5 External tank 6 Moving mechanism 8 Quantitative discharge suction unit 11 Application liquid tank 51a, 82, 83, 91a, 91b, 96a Air valve 52 Liquid level sensor 52a Optical sensor 63 Nozzle rotation mechanism 72 control unit 81 discharge suction mechanism SF coated surface S substrate

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板を鉛直あるいは傾斜姿勢で保持する
基板保持手段と、 塗布液を一時的に貯留する塗布液槽を有し、当該塗布液
槽内の塗布液を前記被塗布面に向けて供給可能に構成さ
れたノズル手段と、 大気開放された状態で塗布液を貯留するとともに、前記
塗布液槽に連通されて当該塗布液を前記塗布液槽に補充
可能に構成された外部タンクと、 前記基板保持手段に保持された基板に前記ノズル手段を
近接させた状態で、当該基板の被塗布面に沿って前記ノ
ズル手段を相対的に移動させる移動手段とを備え、 前記移動手段によって前記ノズルと前記基板とを相互に
近接させた状態で相対的に移動させつつ、毛管現象で前
記塗布液槽から汲み上げられた塗布液を前記基板の被塗
布面に塗布するとともに、 当該塗布処理により前記塗布液槽から汲み上げられた塗
布液量分だけ前記外部タンクから補充されて前記塗布液
槽が塗布液で常時充満されることを特徴とする塗布装
置。
A substrate holding means for holding the substrate in a vertical or inclined posture; and a coating liquid tank for temporarily storing a coating liquid, wherein the coating liquid in the coating liquid tank is directed toward the surface to be coated. A nozzle means configured to be capable of being supplied, and an external tank configured to store the coating liquid in a state of being opened to the atmosphere, communicate with the coating liquid tank, and refill the coating liquid tank with the coating liquid, Moving means for relatively moving the nozzle means along an application surface of the substrate in a state where the nozzle means is brought close to the substrate held by the substrate holding means; While the substrate and the substrate are relatively moved in a state of being brought close to each other, the coating liquid pumped up from the coating liquid tank by capillary action is applied to the coating surface of the substrate, and the coating is performed by the coating process. Liquid tank Coating apparatus, wherein the application liquid chamber by the coating liquid amount pumped et been supplemented from the external tank is filled continuously with the coating solution.
【請求項2】 前記外部タンクの少なくとも一部が透明
あるいは半透明材料で構成されて前記外部タンクに貯留
されている塗布液の液面高さを目視可能な領域が前記外
部タンクに形成された請求項1記載の塗布装置。
2. An external tank, wherein at least a part of the external tank is made of a transparent or translucent material, and a region in which the liquid level of the coating liquid stored in the external tank can be visually observed is formed in the external tank. The coating device according to claim 1.
【請求項3】 前記目視可能領域に設けられ、前記外部
タンクに貯留されている塗布液の液面高さを非接触で検
出する液面検出手段をさらに備えた請求項2記載の塗布
装置。
3. The coating apparatus according to claim 2, further comprising a liquid level detecting means provided in the viewable area and detecting a liquid level of the coating liquid stored in the external tank in a non-contact manner.
【請求項4】 前記塗布液槽と前記外部タンクとの間に
設けられ、これらの間での塗布液の流れを制御可能な第
1液流制御手段をさらに備えた請求項1ないし3のいず
れかに記載の塗布装置。
4. The method according to claim 1, further comprising a first liquid flow control means provided between said coating liquid tank and said external tank and capable of controlling the flow of the coating liquid between them. A coating device according to any one of the above.
【請求項5】 前記ノズル手段の前記塗布液槽に連通さ
れ、定量分の塗布液の前記塗布液槽への吐出処理を行う
定量吐出手段と、 前記塗布液槽と前記定量吐出手段との間に設けられ、こ
れらの間での塗布液の流れを制御可能な第2液流制御手
段とをさらに備えた請求項4記載の塗布装置。
5. A fixed-quantity discharge unit which is communicated with the coating liquid tank of the nozzle means and discharges a predetermined amount of the coating liquid to the coating liquid tank; and between the coating liquid tank and the fixed-quantity discharge means. 5. The coating apparatus according to claim 4, further comprising: a second liquid flow control unit that is provided in the apparatus and that can control a flow of the coating liquid therebetween.
【請求項6】 前記ノズル手段の前記塗布液槽に連通さ
れ、定量分の塗布液の前記塗布液槽からの吸引処理を行
う定量吸引手段と、 前記塗布液槽と前記定量吸引手段との間に設けられ、こ
れらの間での塗布液の流れを制御可能な第3液流制御手
段とをさらに備えた請求項4または5記載の塗布装置。
6. A constant-quantity suction means which is communicated with the coating liquid tank of the nozzle means and performs a suction process of a fixed amount of the coating liquid from the coating liquid tank, and between the coating liquid tank and the constant-quantity suction means. The coating apparatus according to claim 4, further comprising: a third liquid flow control unit provided in the apparatus, and capable of controlling a flow of the coating liquid therebetween.
【請求項7】 前記ノズル手段の前記塗布液槽に連通さ
れ、定量分の塗布液の前記塗布液槽への吐出処理と、定
量分の塗布液の前記塗布液槽からの吸引処理とを選択的
に行うことができる定量吐出吸引手段と、 前記塗布液槽と前記定量吐出吸引手段との間に設けら
れ、これらの間での塗布液の流れを制御可能な第2液流
制御手段とをさらに備えた請求項4記載の塗布装置。
7. A process in which the nozzle means communicates with the coating solution tank to select a process of discharging a predetermined amount of the coating solution to the coating solution tank and a process of suctioning a predetermined amount of the coating solution from the coating solution tank. A constant discharge and suction unit that can be performed in a fixed manner; and a second liquid flow control unit that is provided between the coating liquid tank and the constant discharge and suction unit and that can control the flow of the coating liquid therebetween. The coating device according to claim 4, further comprising:
【請求項8】 吐出処理ごとに前記塗布液槽への塗布液
の吐出量を変更可能に構成された請求項5または7記載
の塗布装置。
8. The coating apparatus according to claim 5, wherein a discharge amount of the coating liquid to the coating liquid tank can be changed every discharge processing.
【請求項9】 吸引処理ごとに前記塗布液槽からの塗布
液の吸引量を変更可能に構成された請求項6または7記
載の塗布装置。
9. The coating apparatus according to claim 6, wherein a suction amount of the coating liquid from the coating liquid tank can be changed every suction processing.
【請求項10】 前記移動手段が、所定の回動中心回り
に前記ノズル手段を回動させて前記ノズル手段の向きを
変更するノズル回動機構部を有する請求項4ないし9の
いずれかに記載の塗布装置。
10. The apparatus according to claim 4, wherein the moving means has a nozzle rotating mechanism for changing the direction of the nozzle means by rotating the nozzle means around a predetermined center of rotation. Coating equipment.
【請求項11】 鉛直あるいは傾斜姿勢で保持された基
板の被塗布面に沿ってノズル手段を相対的に近接移動さ
せた状態で、当該ノズル手段の内部に設けられた塗布液
槽内に貯留された塗布液を毛管現象によって汲み上げ、
前記被塗布面に塗布する塗布方法において、 当該塗布処理により前記塗布液槽から汲み上げられた塗
布液量分だけ前記ノズル手段とは別個独立して設けた外
部タンクから塗布液を補充し、前記塗布液槽を塗布液で
常時充満させていることを特徴とする塗布方法。
11. A nozzle which is stored in a coating liquid tank provided inside the nozzle means in a state where the nozzle means is relatively moved along the coating surface of the substrate held in a vertical or inclined posture. Pumped by the capillary action
In the coating method for coating on the surface to be coated, a coating liquid is replenished from an external tank provided independently of the nozzle means by an amount of the coating liquid pumped up from the coating liquid tank by the coating processing, and A coating method, wherein the liquid tank is always filled with a coating liquid.
【請求項12】 必要に応じて前記塗布液槽と前記外部
タンクとの間で塗布液の流れを禁止する請求項11記載
の塗布方法。
12. The coating method according to claim 11, wherein the flow of the coating liquid between the coating liquid tank and the external tank is prohibited as required.
【請求項13】 基板への塗布液の塗布開始時におい
て、前記塗布液槽と前記外部タンクとの間で塗布液の流
れを禁止するとともに、定量の塗布液を前記塗布液槽に
吐出することで、前記ノズル手段と前記被塗布面との間
に微量液溜り部を形成する請求項12記載の塗布方法。
13. At the start of application of a coating liquid to a substrate, a flow of the coating liquid is prohibited between the coating liquid tank and the external tank, and a fixed amount of the coating liquid is discharged to the coating liquid tank. 13. The coating method according to claim 12, wherein a minute liquid pool is formed between the nozzle means and the surface to be coated.
【請求項14】 前記塗布液槽への塗布液の吐出処理を
行うごとに、当該吐出処理に応じて前記塗布液槽への塗
布液の吐出量を変更する請求項13記載の塗布方法。
14. The coating method according to claim 13, wherein the discharge amount of the coating liquid to the coating liquid tank is changed in accordance with the discharging processing each time the processing for discharging the coating liquid to the coating liquid tank is performed.
【請求項15】 前記ノズル手段が前記被塗布面の最終
塗布位置に位置した時に、前記塗布液槽と前記外部タン
クとの間で塗布液の流れを禁止するとともに、前記ノズ
ル手段を前記被塗布面に近接しながら、定量の塗布液を
前記塗布液槽から吸引する請求項12ないし14のいず
れかに記載の塗布方法。
15. When the nozzle means is positioned at a final coating position on the surface to be coated, the flow of the coating liquid between the coating liquid tank and the external tank is inhibited, and the nozzle means is moved to the position to be coated. The coating method according to any one of claims 12 to 14, wherein a fixed amount of the coating liquid is sucked from the coating liquid tank while approaching the surface.
【請求項16】 前記塗布液槽からの塗布液の吸引処理
を行うごとに、当該吸引処理に応じて前記塗布液槽から
の塗布液の吸引量を変更する請求項15記載の塗布方
法。
16. The coating method according to claim 15, wherein the suction amount of the coating liquid from the coating liquid tank is changed in accordance with the suction processing each time the suction processing of the coating liquid from the coating liquid tank is performed.
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