JPH1183920A - 輻射場測定演算出力装置及び輻射場発生制御装置 - Google Patents
輻射場測定演算出力装置及び輻射場発生制御装置Info
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- JPH1183920A JPH1183920A JP25624197A JP25624197A JPH1183920A JP H1183920 A JPH1183920 A JP H1183920A JP 25624197 A JP25624197 A JP 25624197A JP 25624197 A JP25624197 A JP 25624197A JP H1183920 A JPH1183920 A JP H1183920A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、局所領域の電場と磁場及びそれ
らの勾配を同時に測定することを可能とした一体型電磁
界センサ−と、測定値から数１及び数２及び数３に基づ
いて輻射場およびエネルギ−密度を逐次演算し出力する
機能をもつ輻射場測定演算出力装置と、数１及び数２及
び数３に基づき輻射場の発生を制御もしくは装置のエネ
ルギ−密度を制御する機能をもつ輻射場発生制御装置を
提供することを課題とする。 【解決手段】 局所領域での直交３軸の電場と磁場及
びそれらの勾配の測定に適した電界プロ−ブと磁界プロ
−ブの配置をもつ球型または正八面体または正四面体形
状の一体型電磁界センサ−を提案する。また電磁場の測
定値より、数１及び数２及び数３に基づいて輻射場およ
びエネルギ−密度の時間平均値を逐次演算する機能をも
った回路またはプログラムを有する演算出力装置を設計
する。また電場及び磁場を数１及び数２及び数３に基づ
き発生して輻射場を制御もしくは装置のエネルギ−密度
の平均値を制御できる機能をもった装置を設計する。
らの勾配を同時に測定することを可能とした一体型電磁
界センサ−と、測定値から数１及び数２及び数３に基づ
いて輻射場およびエネルギ−密度を逐次演算し出力する
機能をもつ輻射場測定演算出力装置と、数１及び数２及
び数３に基づき輻射場の発生を制御もしくは装置のエネ
ルギ−密度を制御する機能をもつ輻射場発生制御装置を
提供することを課題とする。 【解決手段】 局所領域での直交３軸の電場と磁場及
びそれらの勾配の測定に適した電界プロ−ブと磁界プロ
−ブの配置をもつ球型または正八面体または正四面体形
状の一体型電磁界センサ−を提案する。また電磁場の測
定値より、数１及び数２及び数３に基づいて輻射場およ
びエネルギ−密度の時間平均値を逐次演算する機能をも
った回路またはプログラムを有する演算出力装置を設計
する。また電場及び磁場を数１及び数２及び数３に基づ
き発生して輻射場を制御もしくは装置のエネルギ−密度
の平均値を制御できる機能をもった装置を設計する。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、局所領域の磁場と
電場及びそれらの勾配を計測することを可能とした一体
型電磁界センサ−と、電磁界計測値から輻射場およびエ
ネルギ−密度を数１及び数２及び数３に基づいて演算し
出力する機能をもつ輻射場測定演算出力装置と、電場と
磁場を数１及び数２及び数３に基づいて発生し、輻射場
の発生または装置のエネルギ−密度を制御する機能をも
つ輻射場発生制御装置と、それらの複合装置とに関す
る。 【０００２】 【数１】 【０００３】 【数２】 【０００４】 【数３】 【０００５】 【従来の技術】電場測定装置と磁場測定装置および電場
と磁場の両測定が単機能で可能である測定装置とは既に
存在するが、局所領域の電場と磁場およびそれらの勾配
を同時に測定し方程式に基づく演算を施して輻射場およ
びエネルギ−密度を出力する機能をもつ装置は一般には
知られていない。また電磁輻射方程式と呼称する数１及
び数２及び数３は一般には活用されていない方程式であ
るので、それに基づく演算や制御をする機能をもつ本発
明の輻射場測定演算出力装置及び輻射場発生制御装置も
一般には知られていない。 【０００６】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、局所領域の
電場と磁場及びそれらの勾配を同時に測定することを可
能とした一体型電磁界センサ−と、測定値から数１及び
数２及び数３に基づいて輻射場およびエネルギ−密度を
逐次演算し出力する機能をもつ輻射場測定演算出力装置
と、数１及び数２及び数３に基づき輻射場の発生を制御
もしくは装置のエネルギ−密度を制御する機能をもつ輻
射場発生制御装置を提供することを課題とする。 【０００７】 【課題を解決するための手段】 （１）一体型電磁界センサ− 電場ベクトルＥと磁場ベクトルＨのベクトル積として知
られるポインティングベクトルＳ（Ｓ＝Ｅ×Ｈ）のロ−
テ−ションを取ることで得られた数１の右辺は、直交３
軸方向の電場と磁場およびそれらの勾配の項をもってい
る。電界プロ−ブと磁界プロ−ブの局所領域での干渉を
抑制しつつ電場と磁場の勾配を精度よく得るために、測
定波長帯に比して小型の球型または正八面体もしくは正
四面体をセンサ−形状に選択する。 【０００８】（２）演算出力装置 電磁場の測定値より、数１及び数２及び数３に基づいて
輻射場およびエネルギ−密度の時間平均を逐次演算する
機能をもつ回路またはプログラムをもった演算出力装置
を設計する。一体型電磁界センサ−により測定される電
磁界値は、例えば３＋４軸電磁界センサ−の場合、電界
値は直交する３軸にデ−タをもつが磁界値は４軸にデ−
タをもつため直交３軸にデ−タを射影変換した後、数１
及び数２及び数３に基づいて輻射場およびエネルギ−密
度等が演算し出力される。 【０００９】（３）輻射場発生制御装置 電場及び磁場を数１及び数２及び数３に基づき発生して
輻射場を制御もしくは装置のエネルギ−密度を制御する
機能をもつ装置を設計する。エネルギ−密度が同符号の
２つの物体間には万有引力が存在するが、エネルギ−密
度が互いに異符号である２物体間には万有引力が斥力と
して作用することを用い、電磁輻射場もしくはエネルギ
−密度の制御により、支持装置を用いずに装置の重量を
制御することを可能とする。 【００１０】 【発明の実施の形態】本発明の実施例として、数１及び
数２及び数３に基づく近傍領域での直交3軸の電磁界と
その勾配の測定を可能とする小型３＋４軸電磁界センサ
−と、数１及び数２及び数３に基づいて電磁界測定値か
ら逐次演算された輻射場およびエネルギ−密度を出力す
る機能をもつ電磁界測定演算出力装置と、数１及び数２
及び数３に基づいて輻射場の発生もしくは装置のエネル
ギ−密度を制御して装置の重量を制御する機能をもつ輻
射場発生制御装置とを提案する。 【００１１】 【実施例】以下に図面を参照し、本発明の一実施例を詳
述する。 【００１２】図１に、縦１０ｍｍ×横１０ｍｍ×高さ１
４ｍｍの正八面体形状の電磁界センサ−１の平面図を示
す。図２は同センサ−の立面図である。正八面体の頂点
の６点には電界測定用の微小ダイポ−ル２が垂直に立っ
ている。また磁界測定用の微小スリット３は８面の各面
の中心に位置し、局所領域での電場と磁場の同時計測を
可能としている。 【００１３】図３に本発明の輻射場測定演算出力装置の
透視図を示す。長さ１５０ｍｍ×６３ｍｍ×３６ｍｍの
ケ−ス内に半径８ｍｍの球形の電磁界センサ−１をも
つ。球形電磁界センサ−には８ヶの磁界プロ−ブ及び６
ヶの電界プロ−ブが組み込まれ、数１及び数２及び数３
に基づく同一点近傍の磁場と電場及びそれらの勾配を同
時に測定して輻射場およびエネルギ−密度の演算及び出
力を可能とする。ケ−ス内には、電源４と、演算装置５
と、測定値の目視を容易にした表示装置６と、効果音に
よる測定値の認知を可能にした音源装置７とがある。 【００１４】図４に輻射場発生制御装置の上下を転倒し
た平面図を示す。図5は同装置の立面図である。この装
置は、内半径７７ｍｍ×外半径８０ｍｍ×厚さ１ｍｍの
帯電したド−ナッツリング状電極８と、同じ中心点を持
って配置された内半径８１ｍｍ×外半径８４ｍｍ×厚さ
１ｍｍの帯電したド−ナッツリング状電極９が互いに逆
回転することで双方から発生する磁気をキャンセルする
機構をもつ。内側のド−ナッツリング状電極８の回転方
向は平面図でみて右回転、また外側のド−ナッツリング
状電極９は左回転する。ド−ナッツリング状電極の中心
部には磁性体円柱ブロック１１、半径３９ｍｍ×高さ１
９ｍｍ（テ−パ−ド）が中心を同じくして配置されてい
る。磁性体円柱ブロック１０の中心には金属磁性体柱１
２、半径２ｍｍ×長さ１０６ｍｍが垂直に貫通してい
る。この金属磁性体柱１２と互いに逆回転するド−ナッ
ツリング状電極８、９の間には約１０ｋＶの電位差があ
る。また磁性体円柱ブロック１１の外側には、内半径４
０ｍｍ×外半径４３ｍｍ×厚さ１ｍｍのド−ナッツリン
グ状電極１０があり、装置を上からみて左廻りに回転す
る。このリングと金属磁性体柱１２の間には約６ｋＶの
電位差がある。この帯電したリング状電極が回転して発
生する磁力線は磁性体ブロック１１を貫通する。電位差
の存在するド−ナッツリング状電極８、９、１０と金属
磁性体柱１２の間は、誘電体ブロック盤１３により絶縁
されている。この装置から数１及び数２及び数３に基づ
く輻射場が発生して装置のエネルギ−密度の時間平均値
が負に制御されると装置の重量が制御される。 【００１５】 【発明の効果】上述のように本発明の輻射場測定演算出
力装置を用いれば、数１及び数２及び数３に基づく電磁
界の測定および演算により、輻射場及びエネルギ−密度
の状態を知ることができる。また輻射場発生制御装置に
よれば、数１及び数２及び数３に基づく電磁場を発生
し、輻射場または装置のエネルギ−密度を制御すること
で装置の重量を制御することができる。
電場及びそれらの勾配を計測することを可能とした一体
型電磁界センサ−と、電磁界計測値から輻射場およびエ
ネルギ−密度を数１及び数２及び数３に基づいて演算し
出力する機能をもつ輻射場測定演算出力装置と、電場と
磁場を数１及び数２及び数３に基づいて発生し、輻射場
の発生または装置のエネルギ−密度を制御する機能をも
つ輻射場発生制御装置と、それらの複合装置とに関す
る。 【０００２】 【数１】 【０００３】 【数２】 【０００４】 【数３】 【０００５】 【従来の技術】電場測定装置と磁場測定装置および電場
と磁場の両測定が単機能で可能である測定装置とは既に
存在するが、局所領域の電場と磁場およびそれらの勾配
を同時に測定し方程式に基づく演算を施して輻射場およ
びエネルギ−密度を出力する機能をもつ装置は一般には
知られていない。また電磁輻射方程式と呼称する数１及
び数２及び数３は一般には活用されていない方程式であ
るので、それに基づく演算や制御をする機能をもつ本発
明の輻射場測定演算出力装置及び輻射場発生制御装置も
一般には知られていない。 【０００６】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、局所領域の
電場と磁場及びそれらの勾配を同時に測定することを可
能とした一体型電磁界センサ−と、測定値から数１及び
数２及び数３に基づいて輻射場およびエネルギ−密度を
逐次演算し出力する機能をもつ輻射場測定演算出力装置
と、数１及び数２及び数３に基づき輻射場の発生を制御
もしくは装置のエネルギ−密度を制御する機能をもつ輻
射場発生制御装置を提供することを課題とする。 【０００７】 【課題を解決するための手段】 （１）一体型電磁界センサ− 電場ベクトルＥと磁場ベクトルＨのベクトル積として知
られるポインティングベクトルＳ（Ｓ＝Ｅ×Ｈ）のロ−
テ−ションを取ることで得られた数１の右辺は、直交３
軸方向の電場と磁場およびそれらの勾配の項をもってい
る。電界プロ−ブと磁界プロ−ブの局所領域での干渉を
抑制しつつ電場と磁場の勾配を精度よく得るために、測
定波長帯に比して小型の球型または正八面体もしくは正
四面体をセンサ−形状に選択する。 【０００８】（２）演算出力装置 電磁場の測定値より、数１及び数２及び数３に基づいて
輻射場およびエネルギ−密度の時間平均を逐次演算する
機能をもつ回路またはプログラムをもった演算出力装置
を設計する。一体型電磁界センサ−により測定される電
磁界値は、例えば３＋４軸電磁界センサ−の場合、電界
値は直交する３軸にデ−タをもつが磁界値は４軸にデ−
タをもつため直交３軸にデ−タを射影変換した後、数１
及び数２及び数３に基づいて輻射場およびエネルギ−密
度等が演算し出力される。 【０００９】（３）輻射場発生制御装置 電場及び磁場を数１及び数２及び数３に基づき発生して
輻射場を制御もしくは装置のエネルギ−密度を制御する
機能をもつ装置を設計する。エネルギ−密度が同符号の
２つの物体間には万有引力が存在するが、エネルギ−密
度が互いに異符号である２物体間には万有引力が斥力と
して作用することを用い、電磁輻射場もしくはエネルギ
−密度の制御により、支持装置を用いずに装置の重量を
制御することを可能とする。 【００１０】 【発明の実施の形態】本発明の実施例として、数１及び
数２及び数３に基づく近傍領域での直交3軸の電磁界と
その勾配の測定を可能とする小型３＋４軸電磁界センサ
−と、数１及び数２及び数３に基づいて電磁界測定値か
ら逐次演算された輻射場およびエネルギ−密度を出力す
る機能をもつ電磁界測定演算出力装置と、数１及び数２
及び数３に基づいて輻射場の発生もしくは装置のエネル
ギ−密度を制御して装置の重量を制御する機能をもつ輻
射場発生制御装置とを提案する。 【００１１】 【実施例】以下に図面を参照し、本発明の一実施例を詳
述する。 【００１２】図１に、縦１０ｍｍ×横１０ｍｍ×高さ１
４ｍｍの正八面体形状の電磁界センサ−１の平面図を示
す。図２は同センサ−の立面図である。正八面体の頂点
の６点には電界測定用の微小ダイポ−ル２が垂直に立っ
ている。また磁界測定用の微小スリット３は８面の各面
の中心に位置し、局所領域での電場と磁場の同時計測を
可能としている。 【００１３】図３に本発明の輻射場測定演算出力装置の
透視図を示す。長さ１５０ｍｍ×６３ｍｍ×３６ｍｍの
ケ−ス内に半径８ｍｍの球形の電磁界センサ−１をも
つ。球形電磁界センサ−には８ヶの磁界プロ−ブ及び６
ヶの電界プロ−ブが組み込まれ、数１及び数２及び数３
に基づく同一点近傍の磁場と電場及びそれらの勾配を同
時に測定して輻射場およびエネルギ−密度の演算及び出
力を可能とする。ケ−ス内には、電源４と、演算装置５
と、測定値の目視を容易にした表示装置６と、効果音に
よる測定値の認知を可能にした音源装置７とがある。 【００１４】図４に輻射場発生制御装置の上下を転倒し
た平面図を示す。図5は同装置の立面図である。この装
置は、内半径７７ｍｍ×外半径８０ｍｍ×厚さ１ｍｍの
帯電したド−ナッツリング状電極８と、同じ中心点を持
って配置された内半径８１ｍｍ×外半径８４ｍｍ×厚さ
１ｍｍの帯電したド−ナッツリング状電極９が互いに逆
回転することで双方から発生する磁気をキャンセルする
機構をもつ。内側のド−ナッツリング状電極８の回転方
向は平面図でみて右回転、また外側のド−ナッツリング
状電極９は左回転する。ド−ナッツリング状電極の中心
部には磁性体円柱ブロック１１、半径３９ｍｍ×高さ１
９ｍｍ（テ−パ−ド）が中心を同じくして配置されてい
る。磁性体円柱ブロック１０の中心には金属磁性体柱１
２、半径２ｍｍ×長さ１０６ｍｍが垂直に貫通してい
る。この金属磁性体柱１２と互いに逆回転するド−ナッ
ツリング状電極８、９の間には約１０ｋＶの電位差があ
る。また磁性体円柱ブロック１１の外側には、内半径４
０ｍｍ×外半径４３ｍｍ×厚さ１ｍｍのド−ナッツリン
グ状電極１０があり、装置を上からみて左廻りに回転す
る。このリングと金属磁性体柱１２の間には約６ｋＶの
電位差がある。この帯電したリング状電極が回転して発
生する磁力線は磁性体ブロック１１を貫通する。電位差
の存在するド−ナッツリング状電極８、９、１０と金属
磁性体柱１２の間は、誘電体ブロック盤１３により絶縁
されている。この装置から数１及び数２及び数３に基づ
く輻射場が発生して装置のエネルギ−密度の時間平均値
が負に制御されると装置の重量が制御される。 【００１５】 【発明の効果】上述のように本発明の輻射場測定演算出
力装置を用いれば、数１及び数２及び数３に基づく電磁
界の測定および演算により、輻射場及びエネルギ−密度
の状態を知ることができる。また輻射場発生制御装置に
よれば、数１及び数２及び数３に基づく電磁場を発生
し、輻射場または装置のエネルギ−密度を制御すること
で装置の重量を制御することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】電磁界センサ−の一実施例を示す平面図であ
る。 【図２】電磁界センサ−の一実施例を示す立面図であ
る。 【図３】輻射場測定演算出力装置の一実施例を示す透視
図である。 【図４】輻射場発生制御装置の一実施例を示す平面図
（天地逆）である。 【図５】輻射場発生制御装置の一実施例を示す立面図で
ある。 【符号の説明】 １ 電磁界センサ− ２ 微小ダイポ−ル ３ 微小スリット ４ 電源 ５ 演算装置 ６ 表示装置 ７ 音源装置 ８、９、１０ ド−ナッツリング状電極 １１ 磁性体円柱ブロック １２ 金属磁性体柱 １３ 誘電体ブロック盤 ^Z
る。 【図２】電磁界センサ−の一実施例を示す立面図であ
る。 【図３】輻射場測定演算出力装置の一実施例を示す透視
図である。 【図４】輻射場発生制御装置の一実施例を示す平面図
（天地逆）である。 【図５】輻射場発生制御装置の一実施例を示す立面図で
ある。 【符号の説明】 １ 電磁界センサ− ２ 微小ダイポ−ル ３ 微小スリット ４ 電源 ５ 演算装置 ６ 表示装置 ７ 音源装置 ８、９、１０ ド−ナッツリング状電極 １１ 磁性体円柱ブロック １２ 金属磁性体柱 １３ 誘電体ブロック盤 ^Z
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 局所領域の電界と磁界及びそれらの勾配
の測定を可能とする電界プロ−ブ及び磁界プロ−ブを有
する一体型を特徴とする電磁界センサ− 【請求項２】 電磁界測定値から輻射場およびエネルギ
−密度を数１及び数２及び数３に基づき演算する機能を
もつ回路およびプログラム 【請求項３】 電場及び磁場を数１及び数２及び数３に
基づき発生して輻射場を制御もしくは装置のエネルギ−
密度を制御する機能をもつ装置 【請求項４】 【請求項１】と 【請求項２】に記載の機能を持つ出力装置および出力表
示装置 【請求項５】 【請求項１】および 【請求項２】および 【請求項３】および 【請求項４】に記載の装置の複合装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25624197A JPH1183920A (ja) | 1997-09-05 | 1997-09-05 | 輻射場測定演算出力装置及び輻射場発生制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25624197A JPH1183920A (ja) | 1997-09-05 | 1997-09-05 | 輻射場測定演算出力装置及び輻射場発生制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1183920A true JPH1183920A (ja) | 1999-03-26 |
Family
ID=17289907
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25624197A Pending JPH1183920A (ja) | 1997-09-05 | 1997-09-05 | 輻射場測定演算出力装置及び輻射場発生制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1183920A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AT501845B1 (de) * | 2005-03-15 | 2008-08-15 | Walter Mag Dr Medinger | Verfahren zur punkt-raster-diagnose von störstellen im raum auf der grundlage der magnetischen flussdichte oder verwandter physikalischer grössen |
| WO2009028186A1 (ja) * | 2007-08-29 | 2009-03-05 | Kanazawa University | 電磁界空間分布可視化装置、電磁界空間分布可視化方法およびそのプログラム |
| WO2012004050A1 (de) * | 2010-07-08 | 2012-01-12 | Contitech Ag | Einrichtung zur überwachung einer förderanlage unter einsatz eines elektrodenbauteils zur erfassung von schäden eines fördergurtes |
| JP2012042401A (ja) * | 2010-08-20 | 2012-03-01 | Kanazawa Univ | 電磁界ベクトル表示装置 |
-
1997
- 1997-09-05 JP JP25624197A patent/JPH1183920A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AT501845B1 (de) * | 2005-03-15 | 2008-08-15 | Walter Mag Dr Medinger | Verfahren zur punkt-raster-diagnose von störstellen im raum auf der grundlage der magnetischen flussdichte oder verwandter physikalischer grössen |
| WO2009028186A1 (ja) * | 2007-08-29 | 2009-03-05 | Kanazawa University | 電磁界空間分布可視化装置、電磁界空間分布可視化方法およびそのプログラム |
| JP5589226B2 (ja) * | 2007-08-29 | 2014-09-17 | 国立大学法人金沢大学 | 電磁界空間分布可視化装置、電磁界空間分布可視化方法およびそのプログラム |
| US9063180B2 (en) | 2007-08-29 | 2015-06-23 | Kanazawa University | Electromagnetic field space distribution visualizing device, electromagnetic field space distribution visualizing method, and program thereof |
| WO2012004050A1 (de) * | 2010-07-08 | 2012-01-12 | Contitech Ag | Einrichtung zur überwachung einer förderanlage unter einsatz eines elektrodenbauteils zur erfassung von schäden eines fördergurtes |
| JP2012042401A (ja) * | 2010-08-20 | 2012-03-01 | Kanazawa Univ | 電磁界ベクトル表示装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20040906 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
| A621 | Written request for application examination |
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