JPH117892A - Cleaning device and cleaning method - Google Patents

Cleaning device and cleaning method

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JPH117892A
JPH117892A JP15638297A JP15638297A JPH117892A JP H117892 A JPH117892 A JP H117892A JP 15638297 A JP15638297 A JP 15638297A JP 15638297 A JP15638297 A JP 15638297A JP H117892 A JPH117892 A JP H117892A
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JP
Japan
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cleaning
electron gun
tank
liquid
rinsing
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JP15638297A
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Japanese (ja)
Inventor
Mariko Mashita
麻理子 真下
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To keep and manage the cleaning effect by monitoring the cleanliness (degree of contamination) of a washing liquid or rinsing liquid. SOLUTION: An electron gun 1 to be cleaned is dipped in a cleaning tank 3, and the material adhered to the electron gun 1 is removed by adding a vibration or ultrasonic wave by an ultrasonic oscillator as occasion demands. The cleaning tank 3 of this cleaning device has an IC 11. In the IC 11, a washing liquid 4 sucked by a pump 11a is passed through a separation column 11b to separate each dissolved ion in the washing liquid 4, and the kind of the ion contained in the washing liquid 4 and its content are detected by a detector cell 11c connected to the rear of the separation column 11b, and displayed. Thus, the cleanliness of the washing liquid 4 can be kept and managed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、陰極線管に封入
される電子銃、又は電子銃部品等の洗浄装置及び洗浄方
法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning apparatus and a cleaning method for an electron gun or an electron gun part enclosed in a cathode ray tube.

【0002】[0002]

【従来の技術】陰極線管に封入する電子銃、及び電子銃
部品は、多数の組立製造工程を経て完成するが、その
際、製造ラインの雰囲気や、製造に携わる人、或いは治
具等によって異物が付着したり汚染を受けたりする。そ
こで、これら電子銃部品等を陰極線管内に組み込む前
に、洗浄装置によって洗浄して、異物等を除去するよう
にしている。
2. Description of the Related Art An electron gun and electron gun parts to be sealed in a cathode ray tube are completed through a number of assembling and manufacturing processes. At this time, foreign matter is generated by the atmosphere of the manufacturing line, the person involved in the manufacturing, or a jig. Adheres or becomes contaminated. Therefore, before incorporating these electron gun parts and the like into the cathode ray tube, they are cleaned by a cleaning device to remove foreign substances and the like.

【0003】図5に、従来の電子銃の洗浄装置の概略構
成を示し、これにより洗浄方法について説明する。
FIG. 5 shows a schematic configuration of a conventional electron gun cleaning apparatus, and a cleaning method will be described with reference to FIG.

【0004】電子銃支持用治具2に組み込まれた電子銃
1は、洗浄液4を満たした洗浄槽3に浸け、その外部に
設置された超音波発振器5で発振された超音波によっ
て、電子銃に付着していた異物等が除去される。
The electron gun 1 incorporated in the jig 2 for supporting an electron gun is immersed in a cleaning tank 3 filled with a cleaning liquid 4, and the electron gun 1 is driven by ultrasonic waves oscillated by an ultrasonic oscillator 5 installed outside the tank. Foreign matter and the like attached to the surface are removed.

【0005】しかし、この電子銃1は、洗浄槽3から出
た状態では、その表面に洗浄液4中の異物が残存してい
る。そのため、次に電子銃支持用治具2に取り付けた状
態で、すすぎ液7を満たしたすすぎ槽6に浸けてすすぎ
を行い、電子銃1の表面に残存している異物等が除去さ
れる。
However, when the electron gun 1 is out of the cleaning tank 3, foreign matter in the cleaning liquid 4 remains on the surface thereof. For this reason, while being attached to the jig 2 for supporting the electron gun, it is immersed in the rinsing tank 6 filled with the rinsing liquid 7 to perform rinsing, thereby removing foreign substances and the like remaining on the surface of the electron gun 1.

【0006】これら洗浄槽3及びすすぎ槽6には、それ
ぞれ洗浄液4及びすすぎ液7を送り込むためのポンプ
と、各液4、7の清浄度を保つためのフィルタ及びイオ
ン交換膜と、各槽3、6に供給される液量を一定に保つ
ためのタンクとからなる給水装置8が備えられ、この給
水装置8から給水用配管9a,9bを介して洗浄槽3及
びすすぎ槽6に所定の洗浄液4及びすすぎ液7が供給さ
れる。
Each of the cleaning tank 3 and the rinsing tank 6 includes a pump for feeding the cleaning liquid 4 and the rinsing liquid 7, a filter and an ion exchange membrane for maintaining the cleanliness of the liquids 4 and 7, and each tank 3. , 6 is provided with a tank for keeping a constant amount of liquid supplied to the washing tank 3 and the rinsing tank 6 via the water supply pipes 9a, 9b. 4 and a rinsing liquid 7 are supplied.

【0007】また、洗浄槽3及びすすぎ槽6からの排水
は、各槽3、6に接続された排水用配管10a,10b
を通って給水装置8に戻され、その内部のフィルタによ
り液中の異物等が除去された後、再び、洗浄槽3及びす
すぎ槽6へ供給される。
[0007] Drainage from the washing tank 3 and the rinsing tank 6 is supplied to drainage pipes 10 a and 10 b connected to the tanks 3 and 6.
After being returned to the water supply device 8 through the filter, foreign substances and the like in the liquid are removed by a filter inside the water supply device 8, and then supplied to the washing tank 3 and the rinsing tank 6 again.

【0008】このような洗浄装置によって洗浄された電
子銃1は、つぎに乾燥工程を経て、陰極線管内に組み込
まれる。
[0008] The electron gun 1 cleaned by such a cleaning device is then incorporated into a cathode ray tube through a drying step.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の洗浄装置では、その洗浄液やすすぎ液自身が汚
染されている場合には、洗浄による効果は低下する。
However, in the conventional cleaning apparatus described above, if the cleaning liquid or the rinsing liquid itself is contaminated, the effect of the cleaning is reduced.

【0010】この発明は、上述のような課題を解決する
ためになされたもので、洗浄液やすすぎ液の清浄度(汚
染度)をモニタリングすることにより、洗浄効果を維
持、管理できる洗浄装置及び洗浄方法を提供することを
目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and a cleaning apparatus and a cleaning apparatus capable of maintaining and managing a cleaning effect by monitoring the cleanliness (contamination degree) of a cleaning liquid and a rinsing liquid. The aim is to provide a method.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】この発明に係る洗浄装置
は、陰極線管電子銃又は電子銃部品等を洗浄する洗浄装
置において、洗浄槽と、前記洗浄槽又は洗浄槽からの排
水用配管に配置したイオン交換クロマトグラフ装置とを
備えたものである。
A cleaning apparatus according to the present invention is a cleaning apparatus for cleaning a cathode ray tube electron gun or electron gun parts, etc., which is disposed in a cleaning tank and a pipe for draining from the cleaning tank or the cleaning tank. And an ion exchange chromatograph device.

【0012】また、この発明に係る洗浄装置は、陰極線
管電子銃又は電子銃部品等を洗浄する洗浄装置におい
て、洗浄槽と、すずぎ槽と、すずぎ槽又はすすぎ槽から
の排水用配管に配置したイオン交換クロマトグラフ装置
とを備えたものである。
A cleaning apparatus according to the present invention is a cleaning apparatus for cleaning a cathode ray tube electron gun or electron gun parts, etc., in a cleaning tank, a rinsing tank, and a drain pipe from the rinsing tank or the rinsing tank. And an ion exchange chromatograph device arranged.

【0013】また、この発明に係る洗浄装置は、前記イ
オン交換クロマトグラフ装置に代えて電気伝導度検出器
を配置したものである。
Further, the cleaning apparatus according to the present invention has an electric conductivity detector instead of the ion exchange chromatograph apparatus.

【0014】また、この発明に係る洗浄装置は、前記イ
オン交換クロマトグラフ装置とともに電気伝導度検出器
を配置したものである。
Further, the cleaning apparatus according to the present invention is one in which an electric conductivity detector is arranged together with the ion exchange chromatograph apparatus.

【0015】さらに、この発明に係る洗浄方法は、洗浄
液又はすすぎ液に溶解する物質のイオン濃度を測定する
工程と、前記イオン濃度が所定の値を越えたとき、洗浄
を停止する工程とを備えたものである。
Further, the cleaning method according to the present invention includes a step of measuring an ion concentration of a substance dissolved in the cleaning liquid or the rinsing liquid, and a step of stopping the cleaning when the ion concentration exceeds a predetermined value. It is a thing.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、添付した図面を参照して、
この発明の実施の形態を説明する。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG.
An embodiment of the present invention will be described.

【0017】実施の形態1.図1は、実施の形態1の洗
浄装置の要部を説明する図である。図1において、11
は洗浄槽3中の洗浄液4を吸引することができるように
洗浄槽3に取り付けられたIC(イオン交換クロマトグ
ラフ装置;ion-exchange chromatograph)である。この
IC11は、洗浄液4を吸引するポンプ11aと、分離
カラム11bと、検出器セル11cと、検出結果を表示
するとともに異常を警報する警報表示装置11dとから
構成されている。
Embodiment 1 FIG. 1 is a diagram illustrating a main part of the cleaning device according to the first embodiment. In FIG. 1, 11
Is an IC (ion-exchange chromatograph) attached to the washing tank 3 so that the washing liquid 4 in the washing tank 3 can be sucked. The IC 11 includes a pump 11a for sucking the cleaning liquid 4, a separation column 11b, a detector cell 11c, and an alarm display device 11d for displaying a detection result and warning an abnormality.

【0018】洗浄される電子銃1を洗浄槽3に浸し、必
要に応じて超音波発振器5等により振動や超音波を加え
ることで、電子銃1に付着している物質が除去される。
さらに、IC11は、ポンプ11aにより吸引した洗浄
液4を分離カラム11bに通して、洗浄液4中の各溶解
イオンを分離し、その後方に接続されている検出器セル
11cにより、洗浄液4に含まれているイオンの種類及
びその含有量を検出し、それを警報表示装置11dにお
いて表示する。
The substance attached to the electron gun 1 is removed by immersing the electron gun 1 to be cleaned in the cleaning tank 3 and applying vibration or ultrasonic waves by an ultrasonic oscillator 5 or the like as necessary.
Further, the IC 11 passes the washing solution 4 sucked by the pump 11a through the separation column 11b to separate each dissolved ion in the washing solution 4 and is contained in the washing solution 4 by a detector cell 11c connected to the back thereof. The type of ion and its content are detected and displayed on the alarm display device 11d.

【0019】このIC11では、主なイオンとして、F
- ,Cl- ,PO4 3- ,SO4 2- が測定でき、これらの
各イオン含有量が設定値を超えた場合、IC11内の警
報装置により明示されるので、洗浄装置を停止して、洗
浄液を交換する等、不具合の原因を除去することができ
る。電子銃を陰極線管に組込んだ後、上記のイオンが気
化すると、陰極線管のエミッション性能に急激な劣化を
引き起こす可能性がある。そこで、これらの溶解イオン
成分の含有量を測定し、これらの物質の電子銃への付着
を減らすことが重要である。
In this IC 11, F is used as a main ion.
-, Cl -, PO 4 3- , SO 4 2- can be measured, if the ion content of these exceeds the set value, since evidenced by warning device in IC 11, to stop the washing device, It is possible to eliminate the cause of the trouble, such as replacing the cleaning liquid. If the above-mentioned ions are vaporized after the electron gun is assembled in the cathode ray tube, the emission performance of the cathode ray tube may be rapidly deteriorated. Therefore, it is important to measure the content of these dissolved ion components to reduce the adhesion of these substances to the electron gun.

【0020】実施の形態2.図2は、実施の形態2の洗
浄装置の要部を説明する図である。実施の形態2の洗浄
装置は、実施の形態1の洗浄槽3に配置されたIC11
を、すすぎ槽6に取り付けて、すすぎ液に含まれている
溶解イオンを測定するものである。
Embodiment 2 FIG. 2 is a diagram illustrating a main part of a cleaning apparatus according to the second embodiment. The cleaning apparatus according to the second embodiment includes an IC 11 disposed in the cleaning tank 3 according to the first embodiment.
Is attached to the rinsing tank 6, and the dissolved ions contained in the rinsing liquid are measured.

【0021】この実施の形態2の洗浄装置でも、すすぎ
液のイオン含有量が設定値を超えた場合、IC11内の
警報装置により明示されるので、洗浄装置を停止して、
洗浄液を交換する等、不具合の原因を除去することがで
きる。
In the cleaning apparatus according to the second embodiment as well, when the ion content of the rinsing liquid exceeds the set value, it is indicated by an alarm device in the IC 11, so that the cleaning apparatus is stopped.
It is possible to eliminate the cause of the trouble, such as replacing the cleaning liquid.

【0022】実施の形態3.図3は、実施の形態3の洗
浄装置の要部を説明する図である。実施の形態3の洗浄
装置は、実施の形態1の洗浄装置とは異なり、洗浄槽3
にはIC11に代えて電気伝導度検出器12が配置され
ている。電気伝導度検出器12では、そこに流れ込んだ
洗浄液4に電圧をかけ、液中に流れる電流量を検出して
いる。この電流量の検出によって洗浄液4の電気伝導度
(比抵抗)を知ることができる。
Embodiment 3 FIG. FIG. 3 is a diagram illustrating a main part of a cleaning apparatus according to the third embodiment. The cleaning device of the third embodiment differs from the cleaning device of the first embodiment in that the cleaning tank 3
Has an electric conductivity detector 12 instead of the IC 11. In the electric conductivity detector 12, a voltage is applied to the cleaning liquid 4 flowing therein, and the amount of current flowing in the liquid is detected. By detecting the amount of current, the electric conductivity (specific resistance) of the cleaning liquid 4 can be known.

【0023】この電気伝導度の値は、洗浄液4中の溶解
イオンの総数と相関するものであって、前記のIC11
のように特定のイオンの測定は不可能であるが、電気伝
導度検出器12では液中に溶存しているイオン総数を知
ることによって、洗浄液4中の清浄度を測定できるか
ら、洗浄装置での洗浄効果の維持、管理のために非常に
有効である。
The value of the electric conductivity correlates with the total number of dissolved ions in the cleaning solution 4,
Although it is impossible to measure a specific ion as in the above, the electric conductivity detector 12 can measure the cleanliness in the cleaning liquid 4 by knowing the total number of ions dissolved in the liquid. It is very effective for the maintenance and management of the cleaning effect.

【0024】実施の形態4.図4は、実施の形態4の洗
浄装置の要部を説明する図である。実施の形態4の洗浄
装置は、実施の形態3の洗浄槽3に配置された電気伝導
度検出器12を、すすぎ槽6に取り付けて、すすぎ液7
に溶存している溶解イオンの総数を測定するものであ
る。
Embodiment 4 FIG. 4 is a diagram illustrating a main part of a cleaning apparatus according to a fourth embodiment. The cleaning device according to the fourth embodiment attaches the electric conductivity detector 12 disposed in the cleaning tank 3 according to the third embodiment to the rinsing tank 6 and
Is to measure the total number of dissolved ions dissolved in.

【0025】この実施の形態4の洗浄装置でも、電気伝
導度検出器12においてすすぎ液中に溶存しているイオ
ン総数を知ることによって、すすぎ液7中の清浄度を測
定できるから、洗浄装置での洗浄効果の維持、管理のた
めに非常に有効である。
Also in the cleaning apparatus of the fourth embodiment, the cleanness of the rinsing liquid 7 can be measured by knowing the total number of ions dissolved in the rinsing liquid by the electric conductivity detector 12. It is very effective for the maintenance and management of the cleaning effect.

【0026】なお、本発明は電子銃1から洗浄液4、若
しくはすすぎ液7に溶解した物質のイオン濃度を測定
し、その清浄度の維持、管理を行うものであり、上記実
施の形態に限定されるものではない。したがって、上記
実施の形態では、IC11、電気伝導度検出器12はい
ずれも洗浄槽3、又はすすぎ槽6に配置したが、IC1
1、電気伝導度検出器12を洗浄槽3、又はすすぎ槽か
らの排水用配管に配置してもよい。
In the present invention, the ion concentration of a substance dissolved in the cleaning liquid 4 or the rinsing liquid 7 from the electron gun 1 is measured to maintain and control its cleanliness. The present invention is not limited to the above embodiment. Not something. Therefore, in the above embodiment, both the IC 11 and the electric conductivity detector 12 are arranged in the cleaning tank 3 or the rinsing tank 6, but the IC 1
1. The electric conductivity detector 12 may be arranged in the washing tank 3 or the drainage pipe from the rinsing tank.

【0027】すなわち、本発明では洗浄液又はすすぎ液
に対して、(α)IC11を設けること、(β)電気伝
導度検出器12を設けることのいずれかによって、清浄
度の維持、管理という目的を達成するものであればよ
く、また、これら(α)と(β)の手段を組み合わせる
ことにより、洗浄液4、若しくはすすぎ液7の清浄度を
より効果的に維持、管理できる。
That is, in the present invention, the purpose of maintaining and managing cleanliness by providing either the (α) IC 11 or the (β) electric conductivity detector 12 with respect to the cleaning liquid or the rinsing liquid. The cleaning liquid 4 or the rinsing liquid 7 can be maintained and managed more effectively by combining these means (α) and (β).

【0028】[0028]

【発明の効果】この発明は、以上に説明したように構成
されているので、以下に示すような効果を奏する。
Since the present invention is configured as described above, it has the following effects.

【0029】請求項1の洗浄装置によれば、電子銃及び
電子銃部品を洗浄する際に洗浄液中の溶解イオンをモニ
タリングして洗浄液中のF- ,Cl- ,PO4 3- ,SO
4 2-等の溶解イオンの有無を監視し、且つ、その濃度を
測定できるから、清浄度を維持し、洗浄効果の管理を容
易に行うことができる。
According to the cleaning apparatus of claim 1, of monitoring the dissolved ions in the washing liquid when cleaning the electron gun and the electron gun component in the cleaning liquid F -, Cl -, PO 4 3-, SO
Since the presence or absence of dissolved ions such as 42- and the like can be monitored and the concentration thereof can be measured, the cleanliness can be maintained and the cleaning effect can be easily managed.

【0030】請求項2の洗浄装置によれば、すすぎ槽、
若しくはすすぎ槽からの排水用配管にイオン交換クロマ
トグラフ装置を接続することにより、すすぎ液中の溶解
イオンをモニタリングして、すすぎ液中のF- ,Cl
- ,PO4 3- ,SO4 2- 等の溶解イオンの有無を監視
し、且つ、その濃度を測定できる。
According to the cleaning device of the second aspect, the rinsing tank,
Alternatively, an ion exchange chromatograph is connected to a drain pipe from a rinsing tank to monitor dissolved ions in the rinsing liquid, and to measure F and Cl in the rinsing liquid.
-, PO 4 3-, monitors the presence or absence of dissolution ions SO 4 2-like, and can measure the concentration.

【0031】請求項3の洗浄装置では、電気伝導度検出
器により、洗浄液又はすすぎ液中の溶解不純物をモニタ
リングして、液中の溶解イオン総数を表す比抵抗を測定
できるから、清浄度を維持し、洗浄効果の管理を容易に
行うことができる。
In the cleaning device according to the third aspect, the electric conductivity detector monitors the dissolved impurities in the cleaning liquid or the rinsing liquid and can measure the specific resistance indicating the total number of dissolved ions in the liquid. In addition, the cleaning effect can be easily managed.

【0032】請求項4の洗浄装置では、イオン交換クロ
マトグラフ装置とともに電気伝導度検出器を用いること
によって、液中の溶解不純物を一層確実にモニタリング
できる。
In the cleaning device according to the fourth aspect, the use of an electric conductivity detector together with the ion exchange chromatograph device enables more reliable monitoring of dissolved impurities in the liquid.

【0033】請求項5の洗浄方法によれば、洗浄液又は
すすぎ液に溶解する物質のイオン濃度を測定する工程
と、イオン濃度が所定の値を越えたとき、洗浄を停止す
る工程とを備えたので、陰極線管電子銃や電子銃部品等
を確実に洗浄できる。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a method for measuring an ion concentration of a substance dissolved in a cleaning liquid or a rinsing liquid, and a step of stopping the cleaning when the ion concentration exceeds a predetermined value. Therefore, the cathode ray tube electron gun, electron gun parts and the like can be reliably washed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 この発明の実施の形態1の洗浄装置の要部正
面を示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing a main part front of a cleaning apparatus according to Embodiment 1 of the present invention.

【図2】 この発明の実施の形態2の洗浄装置の要部正
面を示す断面図である。
FIG. 2 is a sectional view showing a main part front of a cleaning apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図3】 この発明の実施の形態3の洗浄装置の要部正
面を示す断面図である。
FIG. 3 is a sectional view showing a main part front of a cleaning apparatus according to Embodiment 3 of the present invention.

【図4】 この発明の実施の形態4の洗浄装置の要部正
面を示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a front part of a main part of a cleaning apparatus according to Embodiment 4 of the present invention.

【図5】 従来の洗浄装置を示す断面図である。FIG. 5 is a sectional view showing a conventional cleaning device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 電子銃、 2 電子銃支持用治具、 3 洗浄槽、
4 洗浄液、 5超音波発振器、 6 すすぎ槽、
7 すすぎ液、 8 給水装置、 9a,9b 給水用
配管、 10a,10b 排水用配管、 11 イオン
交換クロマトグラフ装置、 12 電気伝導度検出器。
1 electron gun, 2 electron gun support jig, 3 cleaning tank,
4 cleaning liquid, 5 ultrasonic oscillator, 6 rinsing tank,
7 Rinse solution, 8 Water supply device, 9a, 9b Water supply piping, 10a, 10b Drainage piping, 11 Ion exchange chromatograph device, 12 Electrical conductivity detector.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H01J 9/14 H01J 9/14 F 9/18 9/18 B ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI H01J 9/14 H01J 9/14 F 9/18 9/18 B

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 陰極線管電子銃又は電子銃部品等を洗浄
する洗浄装置において、 洗浄槽と、 前記洗浄槽又は洗浄槽からの排水用配管に配置したイオ
ン交換クロマトグラフ装置とを備えたことを特徴とする
洗浄装置。
1. A cleaning apparatus for cleaning a cathode ray tube electron gun, electron gun parts, or the like, comprising: a cleaning tank; and an ion exchange chromatograph apparatus disposed in the cleaning tank or a drainage pipe from the cleaning tank. Characterized cleaning equipment.
【請求項2】 陰極線管電子銃又は電子銃部品等を洗浄
する洗浄装置において、 洗浄槽と、 すずぎ槽と、 すずぎ槽又はすすぎ槽からの排水用配管に配置したイオ
ン交換クロマトグラフ装置とを備えたことを特徴とする
洗浄装置。
2. A cleaning apparatus for cleaning a cathode ray tube electron gun or electron gun parts, comprising: a cleaning tank, a tin bath, and an ion exchange chromatograph device disposed in a drain pipe from the tin bath or the rinse tank. A cleaning device comprising:
【請求項3】 前記請求項1又は請求項2に記載の洗浄
装置において、前記イオン交換クロマトグラフ装置に代
えて電気伝導度検出器を配置したことを特徴とする洗浄
装置。
3. The cleaning apparatus according to claim 1, wherein an electric conductivity detector is provided in place of the ion exchange chromatography apparatus.
【請求項4】 前記請求項1又は請求項2に記載の洗浄
装置において、前記イオン交換クロマトグラフ装置とと
もに電気伝導度検出器を配置したことを特徴とする洗浄
装置。
4. The cleaning device according to claim 1, wherein an electric conductivity detector is arranged together with the ion exchange chromatograph device.
【請求項5】 陰極線管電子銃又は電子銃部品等を洗浄
する洗浄方法において、 洗浄液又はすすぎ液に溶解する物質のイオン濃度を測定
する工程と、 前記イオン濃度が所定の値を越えたとき、洗浄を停止す
る工程とを備えたことを特徴とする洗浄方法。
5. A cleaning method for cleaning a cathode ray tube electron gun, electron gun parts, or the like, comprising: a step of measuring an ion concentration of a substance dissolved in a cleaning liquid or a rinsing liquid; and when the ion concentration exceeds a predetermined value. A step of stopping the cleaning.
JP15638297A 1997-06-13 1997-06-13 Cleaning device and cleaning method Withdrawn JPH117892A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7077915B2 (en) 1999-05-20 2006-07-18 Renesas Technology Corp. Method of and apparatus for washing photomask and washing solution for photomask
JP2008044990A (en) * 2006-08-11 2008-02-28 Mitsubishi Rayon Co Ltd Method for producing polymer, polymer and resist composition

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