JPH117084A - Image exposure device - Google Patents

Image exposure device

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JPH117084A
JPH117084A JP16086997A JP16086997A JPH117084A JP H117084 A JPH117084 A JP H117084A JP 16086997 A JP16086997 A JP 16086997A JP 16086997 A JP16086997 A JP 16086997A JP H117084 A JPH117084 A JP H117084A
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JP
Japan
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light
image
pixel
liquid crystal
photosensitive material
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP16086997A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mitsuyoshi Ichihashi
光芳 市橋
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH117084A publication Critical patent/JPH117084A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To use a spatial optical modulation element having general picture element structure as it is in an image exposure device where a picture element is shifted. SOLUTION: In this image exposure device where recording light L emitted from a light source 11 is modulated by the spatial optical modulation element 15 having plural picture elements arranged in a two-dimensional array state so as to irradiate photosensitive material 10; a light shielding mask 17 having plural apertures which are two-dimensionally juxtaposed at a pitch in similar relation to the two-dimensional disposing pitch of the picture element and whose numerical aperture in each arranging direction is <=50% is arranged between the light source 11 and the element 15. The image of the mask 17 is formed on the element 15 by an image-formation lens 14 so that each aperture part is positioned on one picture element. The mask 17 is moved by a driving means 18 so that the position of the aperture part on the picture element of the element 15 may be successively changed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶パネルやミラ
ーアレイデバイス等の空間光変調素子を用いて感光材料
に画像を露光する装置に関し、特に詳細には、画素ズラ
シを行なって高精細画像を露光できるようにした画像露
光装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for exposing an image to a photosensitive material using a spatial light modulator such as a liquid crystal panel or a mirror array device, and more particularly, to a method for performing high-definition images by performing pixel shift. The present invention relates to an image exposure apparatus capable of performing exposure.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より空間光変調素子の代表的なもの
として、液晶パネルが知られている。また空間光変調素
子として、例えば特開平5−150173号に示されて
いるように、2次元アレイ状に配置された複数の微小ミ
ラーと、これらの微小ミラーの各々の向きを独立に変え
させる駆動部とを有し、入射した光を各微小ミラー毎に
2つ方向のいずれかに選択的に反射させるミラーアレイ
デバイスが公知となっている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a liquid crystal panel has been known as a typical spatial light modulator. As a spatial light modulator, as shown in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-150173, a plurality of micromirrors arranged in a two-dimensional array and a drive for independently changing the direction of each of these micromirrors. And a mirror array device that selectively reflects incident light in one of two directions for each micromirror.

【0003】このようなミラーアレイデバイスを用いれ
ば、画像信号に応じて上記駆動部の動作を制御すること
により、それぞれが1画素となる微小ミラーを介して所
定の投写面に入射する光を微小ミラー毎に変調して、該
投写面に画像を投写することができる。そして、この投
写面に感光材料を配置しておけば、該感光材料に画像を
露光することもできる。またそのようにする場合、フレ
ーム時間内において各微小ミラーのオン時間(感光材料
に光を入射させる向きになっている時間)をパルス幅変
調する等により、各微小ミラー毎に感光材料への入射光
量を制御して、階調画像を露光することも可能となる。
When such a mirror array device is used, by controlling the operation of the driving section according to an image signal, light incident on a predetermined projection surface via a minute mirror, each of which constitutes one pixel, is minutely reflected. An image can be projected on the projection surface by modulating each mirror. If a photosensitive material is arranged on the projection surface, an image can be exposed on the photosensitive material. In such a case, the on-time of each micromirror (the time during which light is incident on the photosensitive material) within the frame time is pulse-width-modulated, for example, so that each micromirror is incident on the photosensitive material. It is also possible to control the amount of light to expose a gradation image.

【0004】また、前述の液晶パネル等のその他の空間
光変調素子を用いる場合も、同様に変調した記録光を感
光材料に投写することによって、該感光材料に画像を露
光することができる。
In the case where other spatial light modulators such as the liquid crystal panel described above are used, an image can be exposed on the photosensitive material by projecting similarly modulated recording light onto the photosensitive material.

【0005】ところで、上記のような空間変調素子を利
用して感光材料に画像露光する際に、「画素ズラシ」と
いう手法により、露光画像の画素密度を上げて高精細化
することが提案されている。この画素ズラシは、例えば
特開平8−227108号に示されているように、空間
変調素子の画素を経た光により形成された感光材料上の
露光ドットと露光ドットの間に、さらにそれらの画素を
経た光による露光ドットを形成するように、空間変調素
子と感光材料との光学的関係を変化させ、この光学的関
係を変える毎に画像露光する手法である。
By the way, when an image is exposed on a photosensitive material using the spatial modulation element as described above, it has been proposed to increase the pixel density of an exposed image to achieve higher definition by a technique called "pixel shift". I have. As shown in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-227108, this pixel shift is performed between the exposure dots on the photosensitive material formed by the light passing through the pixels of the spatial modulation element, and further between the exposure dots. In this method, the optical relationship between the spatial modulation element and the photosensitive material is changed so as to form an exposure dot by passing light, and image exposure is performed each time the optical relationship is changed.

【0006】なお、露光画像に関しては上述の露光ドッ
トが「画素」となるが、本明細書においては空間変調素
子の方の画素との混同を避けるために、露光画像に関し
ては原則としてこのように「露光ドット」という用語を
用いる。
Although the above-mentioned exposure dots are "pixels" with respect to the exposed image, in this specification, in order to avoid confusion with the pixel of the spatial modulation element, the exposed image is basically defined in this way. The term "exposure dot" is used.

【0007】具体的に、空間変調素子がX方向にi個、
Y方向にj個の画素がアレイ状に配設されてなるもので
ある場合、X、Y方向にそれぞれ1回ずつ画素ズラシを
行なえば、感光材料上でX、Y方向にそれぞれ2i個、
Y方向に2j個の露光ドットが記録される。つまりこの
場合は、画素数が4(i×j)個の空間変調素子を用い
て1回露光する場合と同数の露光ドットを記録でき、画
像の高精細化が達成される。
Specifically, i spatial modulation elements are provided in the X direction,
In a case where j pixels are arranged in an array in the Y direction, if pixel shifting is performed once each in the X and Y directions, 2i pixels in the X and Y directions on the photosensitive material can be obtained.
2j exposure dots are recorded in the Y direction. That is, in this case, the same number of exposure dots can be recorded as in the case where exposure is performed once using 4 (i × j) spatial modulation elements, and high definition of an image is achieved.

【0008】なお、上記のように空間変調素子と感光材
料との光学的関係を変化させるには、空間変調素子を移
動させる、感光材料を移動させる、あるいはそれら両者
の間に介設した光学部材を移動させる、等の方法を用い
ることができる。
In order to change the optical relationship between the spatial modulation element and the photosensitive material as described above, the spatial modulation element is moved, the photosensitive material is moved, or an optical member interposed between the two. Can be used.

【0009】一般に液晶パネル等の空間変調素子にあっ
ては、多数の画素を高密度に集積するのは困難となって
いるが、上述の画素ズラシを適用すれば、画素が比較的
少数で低密度に配されている空間変調素子を用いても、
高密度の画像を露光可能となる。
In general, it is difficult to integrate a large number of pixels at a high density in a spatial modulation element such as a liquid crystal panel. However, if the above-described pixel shift is applied, the number of pixels is relatively small and the number of pixels is low. Even when using spatial modulation elements arranged in density,
High-density images can be exposed.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかし従来は、この画
素ズラシを行なおうとすると、特殊な画素構造の空間光
変調素子を新たに作成したりする必要があった。
However, conventionally, in order to perform the pixel shift, it is necessary to newly create a spatial light modulator having a special pixel structure.

【0011】本発明は上記の事情に鑑みてなされたもの
であり、一般的な画素構造の空間光変調素子をそのまま
用いて画素ズラシを行なうことができる画像露光装置を
提供することを目的とするものである。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to provide an image exposure apparatus which can perform pixel shift using a spatial light modulator having a general pixel structure as it is. Things.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明による画像露光装
置は、記録光を通過させる複数の開口を有する遮光マス
クを用いて、空間光変調素子の画素を見かけ上微細にす
ることにより、一般的な画素構造の空間光変調素子をそ
のまま用いて画素ズラシを行なえるようにしたものであ
り、具体的には、感光材料を露光させる記録光を発する
光源と、2次元アレイ状に配置された複数の画素を有
し、前記記録光を受ける位置に配設された空間光変調素
子と、この空間光変調素子を経た記録光を感光材料上に
投写する投写光学系と、前記画素の2次元的配設ピッチ
と相似の関係にあるピッチで2次元的に並設された、各
並び方向についての開口率が50%以下の複数の開口を
有し、前記光源と空間光変調素子との間において前記記
録光の光路に配された遮光マスクと、この遮光マスクの
像を前記空間光変調素子の上に、前記開口の部分の各々
が1つの画素の上に位置するように結像させるマスク結
像光学系と、前記開口部分の前記画素上での位置が順次
変わるように、前記遮光マスクの像と空間光変調素子と
の相対位置を変化させる画素ズラシ手段と、この画素ズ
ラシ手段によって前記相対位置が変化する毎に、各画素
により記録光を変調するように前記空間光変調素子を制
御する変調回路とを備えたことを特徴とするものであ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION An image exposure apparatus according to the present invention uses a light-shielding mask having a plurality of openings through which recording light passes so as to make pixels of a spatial light modulation element seemingly finer. The pixel shift can be performed by using a spatial light modulation element having a simple pixel structure as it is. Specifically, a light source that emits recording light for exposing a photosensitive material and a plurality of light sources arranged in a two-dimensional array are provided. A spatial light modulation element disposed at a position for receiving the recording light, a projection optical system for projecting the recording light having passed through the spatial light modulation element onto a photosensitive material, and a two-dimensional A plurality of openings arranged two-dimensionally at a pitch similar to the arrangement pitch and having an aperture ratio of 50% or less in each arrangement direction, between the light source and the spatial light modulator; Disposed in an optical path of the recording light. A light-shielding mask, a mask image-forming optical system that forms an image of the light-shielding mask on the spatial light modulator so that each of the openings is positioned on one pixel, and Pixel shift means for changing the relative position between the image of the light-shielding mask and the spatial light modulator so that the position on the pixel sequentially changes, and each time the relative position changes by the pixel shift means, each pixel And a modulation circuit for controlling the spatial light modulation element so as to modulate the recording light.

【0013】[0013]

【発明の効果】上記遮光マスクの像と空間光変調素子と
の相対位置を変化させて、遮光マスク像の開口の各々が
空間光変調素子の画素上において取る位置を変化させる
と、この位置が変化する毎に、該遮光マスク像の開口か
らのぞく画素の位置が変わるようになる。つまり見かけ
上は、空間光変調素子の実際の画素よりも小さな画素
が、順次位置を変えるのと同じ状態となる。そこで、こ
のように見かけ上画素の位置が変わる毎に、空間光変調
素子により記録光を空間変調して画像露光を行なえば、
通常の画素ズラシを行なう場合と同様にして、高精細な
画像を露光できるようになる。
The relative position between the image of the light-shielding mask and the spatial light modulator is changed to change the position of each opening of the light-shielding mask image on the pixel of the spatial light modulator. Each time the position changes, the position of the pixel except the opening of the light-shielding mask image changes. That is, apparently, pixels smaller than the actual pixels of the spatial light modulator are in the same state as sequentially changing positions. Therefore, every time the position of the pixel apparently changes in this way, if the recording light is spatially modulated by the spatial light modulator to perform image exposure,
High-definition images can be exposed in the same manner as when performing normal pixel shift.

【0014】そして本装置においては、上述のような遮
光マスクを用いて空間光変調素子の画素を見かけ上微細
にしているので、一般的な画素構造の空間光変調素子を
そのまま用いることが可能で、装置コストを低く抑える
ことができる。
In this apparatus, since the pixels of the spatial light modulator are made apparently finer by using the above-described light-shielding mask, a spatial light modulator having a general pixel structure can be used as it is. In addition, the apparatus cost can be kept low.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下図面を参照して、本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図1は、本発明の一つの実
施形態による画像露光装置を示すものである。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows an image exposure apparatus according to one embodiment of the present invention.

【0016】図示されるようにこの画像露光装置は、感
光材料10を露光させる無偏光の記録光Lを発するハロゲ
ンランプ等の光源11と、この光源11が焦点位置近傍にあ
るように配されて、該光源11から発せられた記録光Lを
平行光化する集光レンズ12と、平行光化された記録光L
が入射する位置に配された偏光ビームスプリッタ13と、
この偏光ビームスプリッタ13の膜面13aで反射した記録
光Lのs波成分が入射する位置に配された結像レンズ14
と、この結像レンズ14を経たs波の記録光Lが入射する
位置に配された反射型の液晶パネル15と、上記偏光ビー
ムスプリッタ13と感光材料10との間に配された投写レン
ズ16とを有している。
As shown in the figure, the image exposure apparatus includes a light source 11 such as a halogen lamp that emits a non-polarized recording light L for exposing a photosensitive material 10 and a light source 11 disposed near a focal position. A condenser lens 12 for collimating the recording light L emitted from the light source 11, and a collimating recording light L
A polarizing beam splitter 13 disposed at a position where
An imaging lens 14 arranged at a position where the s-wave component of the recording light L reflected by the film surface 13a of the polarization beam splitter 13 is incident.
A reflection type liquid crystal panel 15 disposed at a position where the s-wave recording light L passing through the imaging lens 14 is incident; and a projection lens 16 disposed between the polarization beam splitter 13 and the photosensitive material 10. And

【0017】また集光レンズ12と偏光ビームスプリッタ
13との間の記録光Lの光路には、2次元的に並設された
多数の微小開口を有する遮光マスク17が配されている。
この遮光マスク17は、例えば2個の圧電素子等からなる
画素ズラシ用駆動手段18により、上記開口の2つの並設
方向に移動自在とされている。上記駆動手段18の作動
は、画素ズラシ制御回路19によって制御される。
Also, the condenser lens 12 and the polarization beam splitter
A light-shielding mask 17 having a large number of minute openings arranged two-dimensionally is arranged in the optical path of the recording light L between the light-shielding mask 13 and the recording light L.
The light-shielding mask 17 is made movable in two juxtaposed directions of the openings by a pixel shift driving means 18 composed of, for example, two piezoelectric elements. The operation of the driving means 18 is controlled by a pixel shift control circuit 19.

【0018】一方前述した液晶パネル15は、液晶層を挟
むように配された透明の全面共通電極および2次元マト
リクス画素電極と、各画素電極と共通電極間の印加電圧
を制御するスイッチマトリクスとを有するものである。
この液晶パネル15の作動は、階調画像を示す画像信号S
が入力される変調制御回路20によって制御される。また
この変調制御回路20と上記画素ズラシ制御回路19は、全
体制御装置21によって制御される。
On the other hand, the above-mentioned liquid crystal panel 15 includes a transparent whole-surface common electrode and a two-dimensional matrix pixel electrode arranged so as to sandwich a liquid crystal layer, and a switch matrix for controlling an applied voltage between each pixel electrode and the common electrode. Have
The operation of the liquid crystal panel 15 is based on an image signal S indicating a gradation image.
Is controlled by the modulation control circuit 20 to which is input. The modulation control circuit 20 and the pixel shift control circuit 19 are controlled by an overall control device 21.

【0019】次に、上記画像露光装置の作用について説
明する。画像露光時には光源11が点灯され、そこから発
せられた無偏光の記録光Lが偏光ビームスプリッタ13に
入射する。この記録光Lのうち、偏光ビームスプリッタ
13の膜面13aにp波として入射した成分はこの膜面13a
を透過し、s波として入射した成分はこの膜面13aで反
射して結像レンズ14に入射する。結像レンズ14で集光さ
れた記録光Lは液晶パネル15で反射し、その際、該液晶
パネル15により空間変調される。
Next, the operation of the image exposure apparatus will be described. At the time of image exposure, the light source 11 is turned on, and the unpolarized recording light L emitted from the light source 11 enters the polarization beam splitter 13. Of the recording light L, a polarization beam splitter
The component incident as a p-wave on the film surface 13a of the
Is transmitted, and the component incident as an s-wave is reflected by the film surface 13a and enters the imaging lens 14. The recording light L condensed by the imaging lens 14 is reflected by the liquid crystal panel 15 and is spatially modulated by the liquid crystal panel 15 at that time.

【0020】すなわち変調制御回路20は、入力された画
像信号Sに基づいて、液晶パネル15の各画素(共通電極
と1つの画素電極との間の部分)に印加される電圧を制
御し、それにより各画素単位で液晶分子の傾きを制御す
る。そこでこの液晶パネル15に入射した記録光Lは、上
記液晶分子の傾きに応じて偏光形態に変調を受け、楕円
偏光や円偏光に変換される。
That is, the modulation control circuit 20 controls the voltage applied to each pixel (the portion between the common electrode and one pixel electrode) of the liquid crystal panel 15 based on the input image signal S, Controls the tilt of the liquid crystal molecules for each pixel. Therefore, the recording light L incident on the liquid crystal panel 15 is modulated into a polarization form according to the inclination of the liquid crystal molecules, and is converted into elliptically polarized light or circularly polarized light.

【0021】この変調を受けた記録光Lは、結像レンズ
14を経て偏光ビームスプリッタ13の膜面13aに再入射す
る。このとき記録光Lは液晶パネル15の各画素毎に、s
波の状態(無変調の場合)と、p波の状態(最大変調の
場合)との間の状態を取る。この記録光Lのs波成分は
膜面13aで反射し、一方p波成分は膜面13aを透過して
投写レンズ16に入射し、該レンズ16により感光材料10に
投写される。
The modulated recording light L is applied to an imaging lens
After passing through 14, the light re-enters the film surface 13a of the polarizing beam splitter 13. At this time, the recording light L is s for each pixel of the liquid crystal panel 15.
A state between a wave state (in the case of no modulation) and a p-wave state (in the case of maximum modulation) is taken. The s-wave component of the recording light L is reflected by the film surface 13a, while the p-wave component is transmitted through the film surface 13a and enters the projection lens 16, where the s-wave component is projected onto the photosensitive material 10.

【0022】以上のようにして、液晶パネル15の各画素
毎に画像信号Sに基づいて強度変調された記録光Lが感
光材料10に投写され、この感光材料10に、画像信号Sが
示す階調画像が露光される。
As described above, the recording light L whose intensity has been modulated based on the image signal S for each pixel of the liquid crystal panel 15 is projected on the photosensitive material 10 and the floor indicated by the image signal S is projected on the photosensitive material 10. The toned image is exposed.

【0023】なお、本実施形態ではモノクロ画像を露光
するようにしているが、R(赤)フィルター、G(緑)
フィルターおよびB(青)フィルターの各色フィルター
を順次記録光Lの光路に挿入し、各色フィルターが挿入
されている期間にその色に対応する各色画像信号に基づ
いて液晶パネル15を駆動することにより、カラー感光材
料にカラー画像を露光することも可能である。
In this embodiment, a monochrome image is exposed, but an R (red) filter and a G (green) filter are used.
By sequentially inserting each color filter of the filter and the B (blue) filter into the optical path of the recording light L, and driving the liquid crystal panel 15 based on each color image signal corresponding to the color while each color filter is inserted, It is also possible to expose a color image to a color photosensitive material.

【0024】次に、画素ズラシについて説明する。1つ
の画像を露光する期間に、遮光マスク17の位置は駆動手
段18により4通りに変えられ、その都度、画像信号Sに
基づいて画像露光がなされる。
Next, the pixel shift will be described. During the period of exposing one image, the position of the light-shielding mask 17 is changed in four ways by the driving means 18, and each time the image is exposed based on the image signal S.

【0025】すなわち、遮光マスク17をまず第1位置に
配した状態で液晶パネル15が駆動される。このとき結像
レンズ14の作用により、液晶パネル15の上に遮光マスク
17の像が、図2に示す状態で結像される。つまり、ここ
に図示される通り遮光マスク17は、液晶パネル15の各画
素15aの2次元的配設ピッチと相似の関係にあるピッチ
で2次元的に並設された、各並び方向についての開口率
が50%をやや下回る複数の開口17aを有するものであ
るが、これらの各開口17aの部分が、液晶パネル15の各
画素15aの約1/4の領域A上に位置する状態で遮光マ
スク17の像が結像される。
That is, the liquid crystal panel 15 is driven in a state where the light shielding mask 17 is arranged at the first position. At this time, due to the action of the imaging lens 14, the light shielding mask is placed on the liquid crystal panel 15.
17 images are formed in the state shown in FIG. That is, as shown in the figure, the light-shielding masks 17 are formed in two-dimensionally arranged at pitches similar to the two-dimensionally arranged pitches of the pixels 15a of the liquid crystal panel 15, and are arranged in the respective openings in the respective arrangement directions. It has a plurality of openings 17a whose ratio is slightly lower than 50%, and the light-shielding mask is placed in such a state that these openings 17a are located on a region A of about 1/4 of each pixel 15a of the liquid crystal panel 15. 17 images are formed.

【0026】そしてこのとき液晶パネル15は、露光しよ
うとする画像の奇数行、奇数列の画素に関する画像信号
Sに基づいて駆動される。それにより感光材料10には、
図3の(1)において「1」を付して示すような露光ド
ットDが記録される。なお図3では、露光ドットDの形
状を概略的に円形として示してある。
At this time, the liquid crystal panel 15 is driven based on an image signal S relating to pixels in odd rows and odd columns of an image to be exposed. As a result, the photosensitive material 10
Exposure dots D are recorded as indicated by "1" in (1) of FIG. In FIG. 3, the shape of the exposure dot D is schematically shown as a circle.

【0027】次いで、遮光マスク17が駆動手段18により
図1の紙面と垂直な方向に所定量動かされて第2位置に
配され、この状態で液晶パネル15が駆動される。この際
は、遮光マスク17の開口17aの部分が、液晶パネル15の
各画素15aの約1/4の領域B(図2参照)上に位置す
る状態で遮光マスク17の像が結像される。
Next, the light-shielding mask 17 is moved by a predetermined amount in the direction perpendicular to the plane of FIG. 1 by the driving means 18 and arranged at the second position, and the liquid crystal panel 15 is driven in this state. At this time, an image of the light-shielding mask 17 is formed in a state where the opening 17a of the light-shielding mask 17 is located on a region B (see FIG. 2) of about 1/4 of each pixel 15a of the liquid crystal panel 15. .

【0028】このとき液晶パネル15は、露光しようとす
る画像の奇数行、偶数列の画素に関する画像信号Sに基
づいて駆動される。それにより感光材料10には、図3の
(2)において「2」を付して示すような露光ドットD
が記録される。
At this time, the liquid crystal panel 15 is driven based on an image signal S relating to pixels in odd rows and even columns of an image to be exposed. As a result, the photosensitive material 10 has an exposure dot D as shown in FIG.
Is recorded.

【0029】次いで、遮光マスク17が駆動手段18により
図1の紙面と平行な方向に所定量動かされて第3位置に
配され、この状態で液晶パネル15が駆動される。この際
は、遮光マスク17の開口17aの部分が、液晶パネル15の
各画素15aの約1/4の領域C(図2参照)上に位置す
る状態で遮光マスク17の像が結像される。
Next, the light-shielding mask 17 is moved by a predetermined amount in a direction parallel to the plane of FIG. 1 by the driving means 18 and arranged at the third position, and the liquid crystal panel 15 is driven in this state. At this time, the image of the light-shielding mask 17 is formed in a state where the opening 17a of the light-shielding mask 17 is located on a region C (see FIG. 2) of about 1/4 of each pixel 15a of the liquid crystal panel 15. .

【0030】このとき液晶パネル15は、露光しようとす
る画像の偶数行、偶数列の画素に関する画像信号Sに基
づいて駆動される。それにより感光材料10には、図3の
(3)において「3」を付して示すような露光ドットD
が記録される。
At this time, the liquid crystal panel 15 is driven based on an image signal S relating to pixels in even rows and even columns of an image to be exposed. As a result, the photosensitive material 10 has an exposure dot D as shown by adding “3” in FIG.
Is recorded.

【0031】次いで、遮光マスク17が駆動手段18により
図1の紙面と垂直な方向に所定量動かされて第4位置に
配され、この状態で液晶パネル15が駆動される。この際
は、遮光マスク17の開口17aの部分が、液晶パネル15の
各画素15aの約1/4の領域D(図2参照)上に位置す
る状態で遮光マスク17の像が結像される。
Next, the light-shielding mask 17 is moved by a predetermined amount in the direction perpendicular to the plane of FIG. 1 by the driving means 18 and is arranged at the fourth position, and the liquid crystal panel 15 is driven in this state. At this time, the image of the light-shielding mask 17 is formed in a state where the portion of the opening 17a of the light-shielding mask 17 is located on a region D (see FIG. 2) of about 1/4 of each pixel 15a of the liquid crystal panel 15. .

【0032】このとき液晶パネル15は、露光しようとす
る画像の偶数行、奇数列の画素に関する画像信号Sに基
づいて駆動される。それにより感光材料10には、図3の
(4)において「4」を付して示すような露光ドットD
が記録される。
At this time, the liquid crystal panel 15 is driven based on an image signal S relating to pixels in even rows and odd columns of an image to be exposed. As a result, the photosensitive material 10 has an exposure dot D as shown by adding "4" in FIG.
Is recorded.

【0033】以上のようにして、液晶パネル15の画素15
aの並び方向XおよびYについて各々1回ずつ画素ズラ
シがなされるので、これらの方向XおよびYの双方に関
して、画素15aの並設数のそれぞれ2倍の露光ドットD
が記録され、高精細画像が露光されるようになる。
As described above, the pixel 15 of the liquid crystal panel 15
Since the pixel shift is performed once in each of the arrangement directions X and Y, the exposure dots D in each of these directions X and Y are twice as many as the number of pixels 15a arranged in parallel.
Is recorded, and a high-definition image is exposed.

【0034】その後感光材料10は通常の現像処理を受
け、それにより露光画像が顕像化される。
Thereafter, the photosensitive material 10 undergoes a normal developing process, whereby the exposed image is visualized.

【0035】なお以上の例では、液晶パネル15の画素15
aの並び方向XおよびYについて各々1回ずつ画素ズラ
シを行なっているが、画素ズラシの回数はこれに限られ
るものではない。例えば、画素15aの並び方向Xおよび
Yについて各々2回ずつ画素ズラシを行なえば、これら
の方向XおよびYの双方に関して、画素15aの並設数の
それぞれ3倍の露光ドットDが記録される。その場合
は、遮光マスク17として、開口17aの各並び方向につい
ての開口率が33%程度のもの用いればよい。
In the above example, the pixel 15 of the liquid crystal panel 15
The pixel shift is performed once in each of the arrangement directions X and Y of a, but the number of pixel shifts is not limited to this. For example, if the pixel shift is performed twice in each of the arrangement directions X and Y of the pixels 15a, the exposure dots D that are three times the number of the pixels 15a arranged in each of these directions X and Y are recorded. In this case, the light-shielding mask 17 may have an aperture ratio of about 33% in each direction in which the openings 17a are arranged.

【0036】また本発明においては液晶パネルに限ら
ず、前述したミラーアレイデバイス等、その他の反射型
あるいは透過型の空間光変調素子を用いることも勿論可
能である。さらに、液晶パネルを用いる場合も、上記実
施形態で説明した電気的アドレス方式のものに限らず、
光学的アドレス方式の液晶パネルも適用可能である。
In the present invention, not only the liquid crystal panel but also other reflective or transmissive spatial light modulators such as the above-mentioned mirror array device can of course be used. Furthermore, even when a liquid crystal panel is used, the liquid crystal panel is not limited to the electric address type described in the above embodiment.
An optical address type liquid crystal panel is also applicable.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態による画像露光装置の平面
FIG. 1 is a plan view of an image exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】上記画像露光装置における液晶パネルの画素と
遮光マスク像との位置関係を示す概略図
FIG. 2 is a schematic diagram showing a positional relationship between a pixel of a liquid crystal panel and a light shielding mask image in the image exposure apparatus.

【図3】上記画像露光装置による露光ドットの記録状態
を説明する概略図
FIG. 3 is a schematic diagram illustrating a recording state of exposure dots by the image exposure apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 感光材料 11 光源 12 集光レンズ 13 偏光ビームスプリッタ 14 結像レンズ 15 液晶パネル 15a 液晶パネルの画素 16 投写レンズ 17 遮光マスク 17a 遮光マスクの開口 18 画素ズラシ用駆動手段 19 画素ズラシ制御回路 20 変調制御回路 21 全体制御装置 L 記録光 10 Photosensitive material 11 Light source 12 Condensing lens 13 Polarizing beam splitter 14 Imaging lens 15 Liquid crystal panel 15a Liquid crystal panel pixel 16 Projection lens 17 Light shielding mask 17a Light shielding mask opening 18 Pixel shift driving means 19 Pixel shift control circuit 20 Modulation control Circuit 21 Overall control device L Recording light

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 感光材料を露光させる記録光を発する光
源と、 2次元アレイ状に配置された複数の画素を有し、前記記
録光を受ける位置に配設された空間光変調素子と、 この空間光変調素子を経た記録光を感光材料上に投写す
る投写光学系と、 前記画素の2次元的配設ピッチと相似の関係にあるピッ
チで2次元的に並設された、各並び方向についての開口
率が50%以下の複数の開口を有し、前記光源と空間光
変調素子との間において前記記録光の光路に配された遮
光マスクと、 この遮光マスクの像を前記空間光変調素子の上に、前記
開口の部分の各々が1つの画素の上に位置するように結
像させるマスク結像光学系と、 前記開口部分の前記画素上での位置が順次変わるよう
に、前記遮光マスクの像と空間光変調素子との相対位置
を変化させる画素ズラシ手段と、 この画素ズラシ手段によって前記相対位置が変化する毎
に、各画素により記録光を変調するように前記空間光変
調素子を制御する変調回路とを備えてなる画像露光装
置。
1. A light source for emitting recording light for exposing a photosensitive material, a spatial light modulator having a plurality of pixels arranged in a two-dimensional array, and arranged at a position for receiving the recording light; A projection optical system for projecting the recording light having passed through the spatial light modulation element onto a photosensitive material, and each arrangement direction two-dimensionally arranged at a pitch similar to the two-dimensional arrangement pitch of the pixels. A plurality of apertures each having an aperture ratio of 50% or less, and a light-shielding mask disposed in the optical path of the recording light between the light source and the spatial light modulator; A mask image forming optical system for forming an image so that each of the openings is positioned on one pixel, and the light-shielding mask so that the position of the opening on the pixel is sequentially changed. The relative position between the image of the A pixel shifting unit that, each time the relative position is changed by the pixel shifting means, the image exposure device including a modulation circuit for controlling said spatial light modulator to modulate the recording light by each pixel.
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