JPH1166875A - Semiconductor storage circuit - Google Patents

Semiconductor storage circuit

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JPH1166875A
JPH1166875A JP22161897A JP22161897A JPH1166875A JP H1166875 A JPH1166875 A JP H1166875A JP 22161897 A JP22161897 A JP 22161897A JP 22161897 A JP22161897 A JP 22161897A JP H1166875 A JPH1166875 A JP H1166875A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cell
output
circuit
data
sense amplifier
Prior art date
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Pending
Application number
JP22161897A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Junji Kiyono
淳司 清野
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
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Publication of JPH1166875A publication Critical patent/JPH1166875A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To attain the high speed of a read rate by wiring a speed reference cell similarly with a cell being a position where is the farest from the sense amplifier of a cell array and generating a signal permitting the outputting of data from an output buffer when expectations of 0 and 1 from the speed reference cell are read out and to make a delay time for reading data minimum. SOLUTION: The output permitting circuit constituted of a speed reference cell 80, sense amplifiers 82, 84, an inverter 85 and an AND circuit 86 is provided in this circuit and this circuit generates a signal the inverse of OE to supply it to an output buffer 30. The speed reference cell 80 is made to be the same constitution as that of a cell array 26 and expectations 0 and 1 are preliminarily set in the cell 80. The wiring length between the speed reference cell 80 and the sense amplifiers 82, 84 is made to be the same length as that of the cell being a position where is the farest from the sense amplifier 16 being the cell array 26 or more. The sense amplifiers 82, 84 are made to be respectively the same constitution as that of the sense amplifier 16.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体記憶回路に関
し、不揮発性の半導体記憶回路に関する。不揮発性半導
体記憶回路は、MPU(マイクロ・プロセッサ・ユニッ
ト)及び周辺回路に付随してその半導体記憶装置として
広く利用されている。これらMPU及び周辺回路が高速
化される事により、より高速な読み出し動作が要求され
るようになった。
The present invention relates to a semiconductor memory circuit, and more particularly, to a nonvolatile semiconductor memory circuit. 2. Description of the Related Art A nonvolatile semiconductor memory circuit is widely used as a semiconductor memory device in conjunction with an MPU (microprocessor unit) and peripheral circuits. As the speeds of these MPUs and peripheral circuits are increased, higher-speed read operations are required.

【0002】[0002]

【従来の技術】図7は従来の半導体記憶回路の一例のブ
ロック図を示す。同図中、コントロール端子10からコ
ントロールバッファ12にローレベルの信号CE/が供
給されると、コントロールバッファ12はローレベルの
信号PDを出力してアドレスバッファ14及びセンスア
ンプ16が活性状態となる。アドレスバッファ14は活
性状態となってアドレス端子20より入来するアドレス
が決定されると、ローアドレス及びカラムアドレス夫々
をローデコーダ22及びカラムデコーダ24夫々に供給
し、不揮発性メモリのセルアレイ26のうち特定のセル
が選択され、この選択されたセルの出力電位がセンスア
ンプ16に供給される。
2. Description of the Related Art FIG. 7 is a block diagram showing an example of a conventional semiconductor memory circuit. In FIG. 1, when a low-level signal CE / is supplied from a control terminal 10 to a control buffer 12, the control buffer 12 outputs a low-level signal PD and the address buffer 14 and the sense amplifier 16 are activated. When the address buffer 14 is activated and an address coming from the address terminal 20 is determined, the address buffer 14 supplies the row address and the column address to the row decoder 22 and the column decoder 24 respectively, and A specific cell is selected, and the output potential of the selected cell is supplied to the sense amplifier 16.

【0003】一方、リファレンスセル28は読み出しの
基準となる基準電位、つまりセルアレイ26の各セルが
出力する“0”と“1”の中間電位を発生しセンスアン
プ16に供給する。センスアンプ16は選択されたセル
の出力電位を基準電位と比較し、その比較結果を読み出
しデータRDn として出力バッファ30に供給し、この
データは出力データIOn として出力端子32を通して
出力される。
On the other hand, the reference cell 28 generates a reference potential serving as a read reference, that is, an intermediate potential between “0” and “1” output from each cell of the cell array 26 and supplies the same to the sense amplifier 16. The sense amplifier 16 compares the reference potential the output potential of the selected cell is supplied to the output buffer 30 as the data RD n reads the comparison result, the data is output through the output terminal 32 as output data IO n.

【0004】しかし、センスアンプ16の回路動作上、
活性した直後のアクセス時に読み出しデータを反転した
逆データが出力されるおそれがある。このため、コント
ロールバッファ14の出力する信号PDを遅延回路18
で遅延して信号/OEを生成し、この信号/OEの供給
によって出力バッファ30の出力許可を行い、上記の逆
データが出力されることを防止している。
However, due to the circuit operation of the sense amplifier 16,
At the time of access immediately after activation, there is a possibility that inverted data obtained by inverting read data is output. For this reason, the signal PD output from the control buffer 14 is
, A signal / OE is generated, and the output of the output buffer 30 is permitted by the supply of the signal / OE to prevent the output of the reverse data.

【0005】図8はセンスアンプ16の一例の回路図を
示す。図中、MOSトランジスタP1のようにpチャネ
ルMOSトランジスタには斜線を設け、MOSトランジ
スタN1のようにnチャネルMOSトランジスタには斜
線を設けずに区別している。図9において、増幅部34
は信号PDがローレベルとなるとリファレンスセル28
の出力電流を増幅し、基準電圧SAREFに変換して比
較部36のnチャネルMOSトランジスタN2のゲート
に供給する。同様に増幅部38は信号PDがローレベル
となると選択されたセル40の出力電流を増幅し、電圧
SAINに変換して比較部36のnチャネルMOSトラ
ンジスタN3のゲートに供給する。比較部36は上記の
基準電圧SAREFと電圧SAINとを比較し、その比
較結果としての読み出しデータRDn を端子40から出
力バッファ30に向けて出力する。
FIG. 8 is a circuit diagram showing an example of the sense amplifier 16. In the figure, a p-channel MOS transistor like a MOS transistor P1 is hatched, and an n-channel MOS transistor like a MOS transistor N1 is distinguished without a hatch. In FIG. 9, the amplification unit 34
Indicates that when the signal PD goes low, the reference cell 28
Is amplified, converted to a reference voltage SAREF, and supplied to the gate of the n-channel MOS transistor N2 of the comparison unit 36. Similarly, when the signal PD goes low, the amplifier 38 amplifies the output current of the selected cell 40, converts it to a voltage SAIN, and supplies the voltage SAIN to the gate of the n-channel MOS transistor N3 of the comparator 36. Comparing unit 36 compares the above reference voltage SAREF voltage SAIN, reading the data RD n toward the terminal 40 to the output buffer 30 outputs as a result of the comparison.

【0006】図9は遅延回路18の一例の回路図を示
す。同図中、端子42には信号PDが供給される。信号
PDがハイレベル時にはノア回路出力がローレベルであ
り、インバータ46を通して端子48からハイレベルの
信号/OEが出力される。ここで、信号PDがローレベ
ルとなった後、所定時間経過してコンデンサC1,C2
夫々の蓄積電荷がインバータ内の抵抗R1,R2夫々を
通して放電された後、ノア回路44出力がハイレベルと
なり信号/OEがローレベルとなる。
FIG. 9 is a circuit diagram showing an example of the delay circuit 18. In the figure, a signal PD is supplied to a terminal 42. When the signal PD is at the high level, the output of the NOR circuit is at the low level, and a high-level signal / OE is output from the terminal 48 through the inverter 46. Here, after a predetermined time has elapsed after the signal PD has become low level, the capacitors C1 and C2
After each accumulated charge is discharged through each of the resistors R1 and R2 in the inverter, the output of the NOR circuit 44 goes high and the signal / OE goes low.

【0007】図10は出力バッファ30の一例の回路図
を示す。同図中、端子50にはセンスアンプ16からの
読み出しデータRDn が供給され、端子52には信号/
OEが供給される。信号/OEがハイレベル時にはノア
回路54出力はローレベルでpチャネルMOSトランジ
スタP5はオフであり、かつナンド回路56出力はハイ
レベルでnチャネルMOSトランジスタN5はオフであ
り端子32はハイインピーダンス状態となり、データR
n は出力されない。信号/OEがローレベルとなる
と、データRDn がノア回路54,ナンド回路56夫々
を通してMOSトランジスタP5,N5夫々に供給さ
れ、ここで反転されて端子32から出力データIOn
して出力される。
FIG. 10 is a circuit diagram showing an example of the output buffer 30. In the figure, the read data RD n from the sense amplifier 16 is supplied to the terminal 50, the terminal 52 signal /
OE is supplied. When the signal / OE is at a high level, the output of the NOR circuit 54 is at a low level and the p-channel MOS transistor P5 is off, and the output of the NAND circuit 56 is at a high level and the n-channel MOS transistor N5 is off and the terminal 32 is in a high impedance state. , Data R
D n is not output. When the signal / OE goes low, the data RD n is a NOR circuit 54, is supplied to people MOS transistors P5, N5 respectively through s NAND circuit 56 respectively, where it is inverted and output as output data IO n from the terminal 32.

【0008】図12は従来の半導体記憶回路の他の一例
のブロック図を示す。同図中、コントロール端子50か
らコントロールバッファ52にローレベルの信号CE/
が供給されると、コントロールバッファ52はローレベ
ルの信号PDを出力してアドレスバッファ54,センス
アンプ56,出力バッファ70,ATDバッファ74が
活性状態となる。アドレスバッファ54は活性状態とな
ってアドレス端子60より入来するアドレスが決定され
ると、ローアドレス及びカラムアドレス夫々をローデコ
ーダ62及びカラムデコーダ64夫々に供給し、不揮発
性メモリのセルアレイ66のうち特定のセルが選択さ
れ、この選択されたセルの出力電位がセンスアンプ66
に供給される。なお、ATD(アドレス・トラデイショ
ン・ディテクタ)バッファ74はアドレスバッファ54
から供給されるアドレス値の変化を検出し、その検出パ
ルスをローデコーダ62,センスアンプ56,遅延回路
58,リファレンスセル68に供給して、これらを起動
している。
FIG. 12 is a block diagram showing another example of a conventional semiconductor memory circuit. In the figure, a low-level signal CE /
Is supplied, the control buffer 52 outputs a low-level signal PD, and the address buffer 54, the sense amplifier 56, the output buffer 70, and the ATD buffer 74 are activated. When the address buffer 54 is activated and the address coming from the address terminal 60 is determined, the address buffer 54 supplies the row address and the column address to the row decoder 62 and the column decoder 64, respectively, and A specific cell is selected, and the output potential of the selected cell is applied to sense amplifier 66.
Supplied to Note that an ATD (address / tradition detector) buffer 74 is provided in the address buffer 54.
, And supplies the detected pulse to the row decoder 62, the sense amplifier 56, the delay circuit 58, and the reference cell 68 to activate them.

【0009】一方、リファレンスセル28は読み出しの
基準となる基準電位、つまりセルアレイ66の各セルが
出力する“0”と“1”の中間電位を発生しセンスアン
プ66に供給する。センスアンプ66は選択されたセル
の出力電位を基準電位と比較し、その比較結果を読み出
しデータRDn としてデータラッチ78に供給し、これ
が出力バッファ70を通して出力データIOn として出
力端子72から出力される。
On the other hand, the reference cell 28 generates a reference potential serving as a read reference, that is, an intermediate potential between “0” and “1” output from each cell of the cell array 66 and supplies it to the sense amplifier 66. The sense amplifier 66 compares the reference potential the output potential of the selected cell is supplied to the data latch 78 as the data RD n reads the comparison result, which is output from the output terminal 72 as output data IO n through an output buffer 70 You.

【0010】センスアンプ56の回路動作上、活性した
直後のアクセス時に読み出しデータを反転した逆データ
が出力されるおそれがあるため、ATDバッファ74の
出力する検出パルスを遅延回路58で遅延した後、パル
スジェネレータ76でラッチパルスを生成し、このラッ
チパルスを用いてデータラッチ78でセンスアンプ56
出力をラッチし出力バッファ70に供給させることによ
り逆データが出力されることを防止している。
Due to the circuit operation of the sense amplifier 56, there is a possibility that the inverted data obtained by inverting the read data is output at the time of access immediately after activation, so that after the detection pulse output from the ATD buffer 74 is delayed by the delay circuit 58, A latch pulse is generated by a pulse generator 76, and the sense amplifier 56 is generated by a data latch 78 using the latch pulse.
By latching the output and supplying it to the output buffer 70, the output of the reverse data is prevented.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】図7の従来回路におい
て、図11(A)に示すように、時点t0 で信号PDが
立下った後、セル40のゲートに供給されるワードライ
ン電圧WL及びリファレンスセル28のゲートに供給さ
れるリファレンスワードライン電圧RWLは遅延して立
上る。この遅延量はワードラインの負荷、つまりセルが
ワードラインのセンスアンプから近い位置にあるか遠い
位置にあるかで異なっている。
In the conventional circuit of FIG. 7 [SUMMARY OF THE INVENTION], 11 (A), the after signal PD at time t 0 is down standing, the word line voltage WL applied to the gate of the cell 40 The reference word line voltage RWL supplied to the gate of the reference cell 28 rises with a delay. The amount of delay differs depending on the load on the word line, that is, whether the cell is located closer to or farther from the sense amplifier of the word line.

【0012】上記の近い位置のセルについては、セルの
保持データが“1”,“0”夫々で電圧SAINは図1
1(B)の実線Ia,Ibに示すように変化するが、遠
い位置のセルの保持データが“0”のときは電圧SAI
Nは破線Icに示すように初めは実線Ibに沿って立上
り、その後立下って実線Iaに近付く。このため、近い
位置のセルの読み出しデータRDn が“1”,“0”の
とき実線IIa,IIbのように変化するのに対して、遠い
位置のセルの読み出しデータRDn が“1”のときは実
線IIcに示すように初めは実線IIbのように立下り、そ
の後立上って実線IIaに近付く。このため、近い位置の
セルの出力データは“1”,“0”夫々で図11(C)
の実線IIIa,IIIbのように変化するのに対して遠い位置
のセルの出力データは“1”,“0”夫々で破線IIIc,
IIIdのように変化する。
As for the cell at the close position, the data held in the cell is "1" and "0", and the voltage SAIN is
The voltage changes as shown by solid lines Ia and Ib in FIG. 1 (B), but when the data held in the distant cell is “0”, the voltage SAI
N rises along the solid line Ib first, as shown by the broken line Ic, and then falls and approaches the solid line Ia. Therefore, the read data RD n is "1" in the cell of the close, "0" solid IIa when, with respect to changes as IIb, the farther the read data RD n of the cell is "1" At this time, as shown by the solid line IIc, it first falls as shown by the solid line IIb, then rises and approaches the solid line IIa. For this reason, the output data of the cell at the close position is “1” and “0”, respectively, as shown in FIG.
However, the output data of the cell at a position far from the cell changes as shown by the solid lines IIIa and IIIb, and is "1" and "0", respectively.
Changes like IIId.

【0013】つまり、期間T1 はデータ不確定期間であ
り、信号/OEの立下りを破線IVのように期間T1 内に
すると逆データが出力されるおそれがあるため、期間T
2 だけ遅延して信号/OEの立下りを実線Vのように期
間T1 の外にしている。不揮発性半導体記憶回路の読み
出し速度を高速化するにあたって、回路が活性化してか
らの速度(以後tCEと言う)を高速化することは非常
に重要である。しかしながら、不揮発性半導体記憶回路
のtCEにおいては、図8のように逆データを防止する
ために遅延時間をとって、その間出力が出ないようにし
ていた。この遅延回路18は一般的に抵抗Rと容量Cの
時定数で決まる回路であるがセンスアンプ16から来る
逆データとは異なる特性をもっているため、温度や電圧
を変えた場合にも逆データを出力しないように設定する
必要がある。結果として、遅延時間は長くなってしまい
tCEの高速化を防げるという問題があった。
That is, the period T 1 is a data indefinite period, and if the fall of the signal / OE falls within the period T 1 as shown by the broken line IV, there is a possibility that inverted data will be output.
The fall of only 2 to delayed signal / OE are outside the period T 1 as shown by the solid line V. In order to increase the read speed of the nonvolatile semiconductor memory circuit, it is very important to increase the speed after the circuit is activated (hereinafter referred to as tCE). However, at tCE of the nonvolatile semiconductor memory circuit, a delay time is set to prevent reverse data as shown in FIG. 8, and no output is output during that time. The delay circuit 18 is generally a circuit determined by the time constant of the resistance R and the capacitance C, but has characteristics different from the inverse data coming from the sense amplifier 16, so that the inverse data is output even when the temperature or the voltage is changed. Must be set to not. As a result, there has been a problem that the delay time becomes long and the tCE can be prevented from increasing in speed.

【0014】また、図13のようにATDバッファ74
で読みだしデータのラッチをコントロールする場合にお
いても同様で、動作を補償するために遅延回路58は長
い遅延時間をとる必要があり、読み出し動作の高速化を
妨げるという問題があった。本発明は上記の点に鑑みな
されたもので、セルの能力や周囲温度や電源電圧に拘ら
ずデータ読み出しの遅延時間を最小とし、読み出し速度
の高速化を可能とする半導体記憶回路を提供することを
目的とする。
Also, as shown in FIG.
The same applies to the case of controlling the latch of the read data by the delay circuit 58. In order to compensate for the operation, it is necessary for the delay circuit 58 to take a long delay time. The present invention has been made in view of the above points, and provides a semiconductor memory circuit capable of minimizing a data read delay time regardless of cell performance, an ambient temperature, and a power supply voltage and increasing a read speed. With the goal.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、不揮発性メモリのセルアレイからセンスアンプによ
り読み出したデータを出力バッファを介して出力する半
導体記憶回路において、前記セルアレイのセンスアンプ
から最も遠い位置のセルと同様に配線され、予め“0”
と“1”の期待値を設定されたスピードリファレンスセ
ルと、前記スピードリファレンスセルから“0”と
“1”の期待値が読み出されたとき、前記出力バッファ
からのデータの出力を許可する信号を生成する出力許可
回路とを有する。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory circuit for outputting data read by a sense amplifier from a cell array of a non-volatile memory via an output buffer. Wired in the same way as a cell at a distant position,
And a speed reference cell in which an expected value of "1" is set, and a signal for permitting output of data from the output buffer when expected values of "0" and "1" are read from the speed reference cell. And an output permission circuit for generating

【0016】このようにスピードリファレンスセルから
期待値が読み出されて、セルアレイのセンスアンプから
最も遠いセルから正確なデータが読み出されるタイミン
グで出力バッファからのデータ出力が許可されるため、
セルの能力や周囲温度や電源電圧に拘らず正確なデータ
の読み出しが可能となり、読み出しの遅延時間を過大に
する必要がなく、読み出し速度の高速化が可能となる。
As described above, since the expected value is read from the speed reference cell and the accurate data is read from the cell farthest from the sense amplifier in the cell array, the data output from the output buffer is permitted.
Accurate data reading is possible irrespective of the cell performance, ambient temperature, and power supply voltage, and it is not necessary to make the reading delay time excessive, and the reading speed can be increased.

【0017】請求項2に記載の発明は、不揮発性メモリ
のセルアレイからセンスアンプにより読み出したデータ
をアドレス変化時にラッチ回路でラッチして出力する半
導体記憶回路において、前記セルアレイのセンスアンプ
から最も遠い位置のセルと同様に配線され、予め“0”
と“1”の期待値を設定されたスピードリファレンスセ
ルと、前記アドレス変化時に前記スピードリファレンス
セルから読み出される“0”と“1”の期待値から前記
ラッチ回路のラッチを指示する信号を生成するラッチ指
示回路とを有する。
According to a second aspect of the present invention, in a semiconductor memory circuit which latches data read by a sense amplifier from a cell array of a non-volatile memory by a latch circuit when an address changes and outputs the data, a position farthest from the sense amplifier of the cell array Is wired in the same manner as the cell of
And a speed reference cell in which an expected value of "1" is set and a signal instructing the latch circuit to latch from the expected value of "0" and "1" read from the speed reference cell when the address changes. A latch instruction circuit.

【0018】このようにスピードリファレンスセル期待
値が読み出されて、セルアレイのセンスアンプから最も
遠いセルから正確なデータが読み出されるタイミングで
センスアンプ出力のラッチが行われ、データ出力が行わ
れるため、セルの能力や周囲温度や電源電圧に拘らず正
確なデータの読み出しが可能となり、読み出しの遅延時
間を過大にする必要がなく、読み出し速度の高速化が可
能となる。
As described above, the expected value of the speed reference cell is read out, and the sense amplifier output is latched at the timing when accurate data is read from the cell farthest from the sense amplifier of the cell array, and the data output is performed. Accurate data reading is possible irrespective of the cell performance, ambient temperature, and power supply voltage, and it is not necessary to make the reading delay time excessive, and the reading speed can be increased.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】図1は本発明の半導体記憶回路の
第1実施例のブロック図を示す。同図中、コントロール
端子10からコントロールバッファ12にローレベルの
信号CE/が供給されると、コントロールバッファ12
はローレベルの信号PDを出力してアドレスバッファ1
4及びセンスアンプ16,82,84が活性状態とな
る。アドレスバッファ14は活性状態となってアドレス
端子20より入来するアドレスが決定されると、ローア
ドレス及びカラムアドレス夫々をローデコーダ22及び
カラムデコーダ24夫々に供給し、不揮発性メモリのセ
ルアレイ26のうち特定のセルが選択され、この選択さ
れたセルの出力電位がセンスアンプ16に供給される。
FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment of a semiconductor memory circuit according to the present invention. In FIG. 1, when a low-level signal CE / is supplied from the control terminal 10 to the control buffer 12, the control buffer 12
Outputs a low-level signal PD to output the address buffer 1
4 and the sense amplifiers 16, 82, 84 are activated. When the address buffer 14 is activated and an address coming from the address terminal 20 is determined, the address buffer 14 supplies the row address and the column address to the row decoder 22 and the column decoder 24 respectively, and A specific cell is selected, and the output potential of the selected cell is supplied to the sense amplifier 16.

【0020】一方、リファレンスセル28は読み出しの
基準となる基準電位、つまりセルアレイ26の各セルが
出力する“0”と“1”の中間電位を発生しセンスアン
プ16に供給する。センスアンプ16は選択されたセル
の出力電位を基準電位と比較し、その比較結果を読み出
しデータRDn として出力バッファ30に供給し、この
データは出力データIOn として出力端子32を通して
出力される。
On the other hand, the reference cell 28 generates a reference potential serving as a read reference, that is, an intermediate potential between “0” and “1” output from each cell of the cell array 26 and supplies the same to the sense amplifier 16. The sense amplifier 16 compares the reference potential the output potential of the selected cell is supplied to the output buffer 30 as the data RD n reads the comparison result, the data is output through the output terminal 32 as output data IO n.

【0021】しかし、センスアンプ16の回路動作上、
活性した直後のアクセス時に読み出しデータを反転した
逆データが出力されるおそれがある。このため、スピー
ドリファレンスセル80と、センスアンプ82,84
と、インバータ85と、ナンド回路86とで構成した出
力許可回路を設け、この出力許可回路で信号/OEを生
成して出力バッファ30に供給している。
However, due to the circuit operation of the sense amplifier 16,
At the time of access immediately after activation, there is a possibility that inverted data obtained by inverting read data is output. Therefore, the speed reference cell 80 and the sense amplifiers 82 and 84
, An inverter 85 and a NAND circuit 86 are provided, and the output permission circuit generates a signal / OE and supplies it to the output buffer 30.

【0022】スピードリファレンスセル80はセルアレ
イ26と同一構成で、期待値“0”と“1”とを予め設
定されており、スピードリファレンスセル80とセンス
アンプ82,84との配線長は、セルアレイ26内のセ
ンスアンプ16から最も遠い位置のセルと同一又はそれ
以上とされている。センスアンプ82,84夫々はセン
スアンプ16と同一構成であり、リファレンスセル28
と接続されている。
The speed reference cell 80 has the same configuration as that of the cell array 26, and has expected values “0” and “1” set in advance. The wiring length between the speed reference cell 80 and the sense amplifiers 82 and 84 is Of the cell farthest from the sense amplifier 16 in the cell. Each of the sense amplifiers 82 and 84 has the same configuration as the sense amplifier 16, and the reference cell 28
Is connected to

【0023】センスアンプ82,84夫々は信号PDが
ハイレベル時には共に“0”を出力してナンド回路86
はハイレベルを出力するが、信号PDがローレベルとな
るとスピードリファレンスセル80から、それぞれ
“0”,“1”となる期待値SRQ0,SRQ1を読み
出し、ナンド回路86はローレベルの信号/OEを出力
する。これはセルアレイ26のセンスアンプ16から最
も遠いセルの読み出しデータRDn が確定するのと同じ
タイミングである。この信号/OEがローレベルとなっ
た後、出力バッファ30はセンスアンプ16からの読み
出しデータRDn を出力データIOn として端子32よ
り出力する。
Each of the sense amplifiers 82 and 84 outputs "0" when the signal PD is at the high level, and outputs the NAND circuit 86.
Outputs the high level, but when the signal PD goes low, the expected values SRQ0 and SRQ1 that become “0” and “1” are read from the speed reference cell 80, respectively. The NAND circuit 86 outputs the low level signal / OE. Output. This is the same time as placing the read data RD n farthest cell from the sense amplifier 16 of the cell array 26. After the signal / OE is at the low level, the output buffer 30 is output from the terminal 32 to read data RD n from the sense amplifier 16 as the output data IO n.

【0024】図2はセンスアンプ16,82,84夫々
の一実施例の回路図を示す。図中、MOSトランジスタ
P10のようにpチャネルMOSトランジスタには斜線
を設け、MOSトランジスタN10のようにnチャネル
MOSトランジスタには斜線を設けずに区別している。
図2において、増幅部88は信号PDがローレベルとな
るとリファレンスセル28の出力電流を増幅し、基準電
圧SAREFに変換して比較部90のnチャネルMOS
トランジスタN12のゲートに供給する。同様に増幅部
92は信号PDがローレベルとなると期待値“0”又は
“1”を設定されたセル80aの出力電流を増幅し、電
圧SRREF0又はSRREF1に変換して比較部90
のnチャネルMOSトランジスタN13のゲートに供給
する。比較部90は上記の基準電圧SAREFと電圧S
RREF0又はSRREF1とを比較し、その比較結果
としての期待値データSRQ0又はSRQ1を端子94
から出力バッファ30に向けて出力する。
FIG. 2 is a circuit diagram showing one embodiment of each of the sense amplifiers 16, 82 and 84. In the figure, a p-channel MOS transistor like a MOS transistor P10 is hatched, and an n-channel MOS transistor like a MOS transistor N10 is distinguished without hatching.
2, when the signal PD goes low, the amplifier 88 amplifies the output current of the reference cell 28, converts the output current to the reference voltage SAREF,
The voltage is supplied to the gate of the transistor N12. Similarly, when the signal PD goes low, the amplifier 92 amplifies the output current of the cell 80a set to the expected value "0" or "1", converts the output current to the voltage SRREF0 or SRREF1, and
To the gate of the n-channel MOS transistor N13. The comparison unit 90 compares the reference voltage SAREF with the voltage S
RREF0 or SRREF1 is compared with the expected value data SRQ0 or SRQ1 as a comparison result.
To the output buffer 30.

【0025】ここで、図3(A)に示すように、時点t
0 で信号PDが立下った後、ワードライン電圧WL及び
リファレンスセル28のゲートに供給されるリファレン
スワードライン電圧RWLは遅延して立上る。この遅延
量はワードラインの負荷、つまりセルがワードラインの
センスアンプから近い位置にあるか遠い位置にあるかで
異なっている。
Here, as shown in FIG.
After the signal PD falls at 0 , the word line voltage WL and the reference word line voltage RWL supplied to the gate of the reference cell 28 rise with a delay. The amount of delay differs depending on the load on the word line, that is, whether the cell is located closer to or farther from the sense amplifier of the word line.

【0026】上記の近い位置のセルについては、セルの
保持データが“1”,“0”夫々で電圧SAINは図3
(B)の実線Ia,Ibに示すように変化するが、遠い
位置のセルの保持データが“0”のときは電圧SAIN
は破線Icに示すように初めは実線Ibに沿って立上
り、その後立下って実線Iaに近付く。このため、近い
位置のセルの読み出しデータRDn が“1”,“0”の
とき実線IIa,IIbのように変化するのに対して、遠い
位置のセルの読み出しデータRDn が“1”のときは実
線IIcに示すように初めは実線IIbのように立下り、そ
の後立上って実線IIaに近付く。また、センスアンプ8
2,84の電圧SRREF1,SRREF0夫々は図3
(C)の破線IIIa,実線IIIbに示すように変化し、読み
出した期待値SRQ1,SRQ0夫々は実線IVa,IVb
に示すようになって、信号/OEは図3(D)の実線V
に示すようにデータ不確定期間を過ぎた後に立下がる。
これによって出力データは“1”,“0”夫々で図3
(D)の実線VIa,VIb夫々に示すように変化して出力
される。
With respect to the cell at the close position, the data held in the cell is "1" and "0", and the voltage SAIN is
Although the voltage changes as shown by solid lines Ia and Ib in (B), when the data held in a cell at a far position is “0”, the voltage SAIN is changed.
First rises along the solid line Ib as shown by the broken line Ic, then falls and approaches the solid line Ia. Therefore, the read data RD n is "1" in the cell of the close, "0" solid IIa when, with respect to changes as IIb, the farther the read data RD n of the cell is "1" At this time, as shown by the solid line IIc, it first falls as shown by the solid line IIb, then rises and approaches the solid line IIa. Also, the sense amplifier 8
The voltages SRREF1 and SRREF0 of 2,84 are respectively shown in FIG.
The expected values SRQ1 and SRQ0 read out change as shown by the broken line IIIa and the solid line IIIb in FIG.
As shown in FIG. 3, the signal / OE is a solid line V in FIG.
As shown in (1), it falls after the data indefinite period.
As a result, the output data is "1" and "0", respectively, as shown in FIG.
The output is changed as shown by the solid lines VIa and VIb in (D).

【0027】このようにセルアレイ26のセンスアンプ
16から最も遠い位置のセルと同様のスピードリファレ
ンスセル80からの期待値“0”,“1”の読み出しデ
ータSRQ0,SRQ1が確定したとき信号/OEを出
力するため、セルの能力や周囲の温度状況や電源電圧の
変動に拘らず、最短時間で逆データ出力を防止した正確
なデータ読み出しが可能となりtCEの高速化を向上で
きる。
As described above, when the read data SRQ0 and SRQ1 of the expected values “0” and “1” from the speed reference cell 80 similar to the cell farthest from the sense amplifier 16 of the cell array 26 are determined, the signal / OE is output. Since the data is output, accurate data reading with the reverse data output prevented can be performed in the shortest time irrespective of the cell performance, ambient temperature conditions, and fluctuations in the power supply voltage, and the speed of tCE can be improved.

【0028】図4は本発明の半導体記憶回路の第2実施
例のブロック図を示す。同図中、コントロール端子50
からコントロールバッファ52にローレベルの信号CE
/が供給されると、コントロールバッファ52はローレ
ベルの信号PDを出力してアドレスバッファ54,セン
スアンプ56,82,84,出力バッファ70,ATD
バッファ74が活性状態となる。アドレスバッファ54
は活性状態となってアドレス端子60より入来するアド
レスが決定されると、ローアドレス及びカラムアドレス
夫々をローデコーダ62及びカラムデコーダ64夫々に
供給し、不揮発性メモリのセルアレイ66のうち特定の
セルが選択され、この選択されたセルの出力電位がセン
スアンプ66に供給される。なお、ATD(アドレス・
トラデイション・ディテクタ)バッファ74はアドレス
バッファ54から供給されるアドレス値の変化を検出
し、その検出パルスをローデコーダ62,リファレンス
セル68,スピードリファレンスセル80,センスアン
プ56,82,84に供給して、これらを起動してい
る。
FIG. 4 is a block diagram showing a second embodiment of the semiconductor memory circuit according to the present invention. In the figure, control terminal 50
To the control buffer 52 from the low level signal CE.
When / is supplied, the control buffer 52 outputs a low-level signal PD to output the address buffer 54, the sense amplifiers 56, 82, 84, the output buffer 70, and the ATD.
Buffer 74 is activated. Address buffer 54
Is activated to supply the row address and the column address respectively to the row decoder 62 and the column decoder 64 when the address coming from the address terminal 60 is determined. Is selected, and the output potential of the selected cell is supplied to the sense amplifier 66. ATD (address
A transition detector buffer 74 detects a change in the address value supplied from the address buffer 54 and supplies the detected pulse to the row decoder 62, the reference cell 68, the speed reference cell 80, and the sense amplifiers 56, 82, and 84. And then launch these.

【0029】一方、リファレンスセル28は読み出しの
基準となる基準電位、つまりセルアレイ66の各セルが
出力する“0”と“1”の中間電位を発生しセンスアン
プ66に供給する。センスアンプ66は選択されたセル
の出力電位を基準電位と比較し、その比較結果を読み出
しデータRDn としてデータラッチ78に供給し、これ
が出力バッファ70を通して出力データIOn として出
力端子72から出力される。
On the other hand, the reference cell 28 generates a reference potential serving as a read reference, that is, an intermediate potential between “0” and “1” output from each cell of the cell array 66 and supplies it to the sense amplifier 66. The sense amplifier 66 compares the reference potential the output potential of the selected cell is supplied to the data latch 78 as the data RD n reads the comparison result, which is output from the output terminal 72 as output data IO n through an output buffer 70 You.

【0030】センスアンプ56の回路動作上、活性した
直後のアクセス時に読み出しデータを反転した逆データ
が出力されるおそれがある。このため、スピードリファ
レンスセル80と、センスアンプ82,84と、インバ
ータ85と、ナンド回路86とで構成したラッチ指示回
路を設け、このラッチ指示回路で信号/OEを生成して
出力バッファ30に供給している。
Due to the circuit operation of the sense amplifier 56, there is a possibility that the inverted data obtained by inverting the read data is output at the time of access immediately after activation. Therefore, a latch instruction circuit including a speed reference cell 80, sense amplifiers 82 and 84, an inverter 85, and a NAND circuit 86 is provided. The latch instruction circuit generates a signal / OE and supplies the signal / OE to the output buffer 30. doing.

【0031】スピードリファレンスセル80はセルアレ
イ26と同一構成で、期待値“0”と“1”とを予め設
定されており、スピードリファレンスセル80とセンス
アンプ82,84との配線長は、セルアレイ26内のセ
ンスアンプ16から最も遠い位置のセルと同一又はそれ
以上とされている。センスアンプ82,84夫々はセン
スアンプ16と同一構成であり、リファレンスセル28
と接続されている。
The speed reference cell 80 has the same configuration as the cell array 26, and has expected values “0” and “1” set in advance. The wiring length between the speed reference cell 80 and the sense amplifiers 82 and 84 is Of the cell farthest from the sense amplifier 16 in the cell. Each of the sense amplifiers 82 and 84 has the same configuration as the sense amplifier 16, and the reference cell 28
Is connected to

【0032】センスアンプ82,84夫々は信号PDが
ハイレベル時には共に“0”を出力してナンド回路86
はハイレベルを出力するが、信号PDがローレベルとな
るとスピードリファレンスセル80から、それぞれ
“0”,“1”となる期待値SRQ0,SRQ1を読み
出し、ナンド回路86はローレベルの信号/SPを出力
する。これはセルアレイ26のセンスアンプ16から最
も遠いセルの読み出しデータRDn が確定するのと同じ
タイミングである。この信号/SPがローレベルとなっ
た後、パルスジェネレータ76でラッチパルス/LEを
生成し、このラッチパルス/LEを用いてデータラッチ
78でセンスアンプ56出力をラッチし、出力バッファ
70に供給させ、出力端子72から出力する。
Each of the sense amplifiers 82 and 84 outputs "0" when the signal PD is at the high level, and outputs the NAND circuit 86.
Outputs a high level. When the signal PD goes low, the expected values SRQ0 and SRQ1 that become “0” and “1” are read from the speed reference cell 80, respectively. The NAND circuit 86 outputs the low level signal / SP. Output. This is the same time as placing the read data RD n farthest cell from the sense amplifier 16 of the cell array 26. After the signal / SP becomes low level, the pulse generator 76 generates the latch pulse / LE, and the data latch 78 latches the output of the sense amplifier 56 using the latch pulse / LE, and supplies the output to the output buffer 70. , From the output terminal 72.

【0033】図5はパルスジェネレータ76の一実施例
の回路図を示す。同図中、端子100には信号/SPが
供給され、インバータ102で反転されてナンド回路1
04に供給される。また、インバータ102出力は縦続
接続されたインバータ106,108,110夫々で反
転されてナンド回路104に供給される。これによって
ナンド回路104は信号/SPの立下りを検出した負極
性パルスであるラッチパルス/LEを生成し、端子11
2から出力する。
FIG. 5 is a circuit diagram of one embodiment of the pulse generator 76. In the figure, a signal / SP is supplied to a terminal 100, inverted by an inverter 102, and
04. The output of the inverter 102 is inverted by the cascade-connected inverters 106, 108, and 110 and supplied to the NAND circuit 104. As a result, the NAND circuit 104 generates a latch pulse / LE which is a negative-polarity pulse that has detected the fall of the signal / SP.
Output from 2.

【0034】ここで、図6(A)に示すように、時点t
0 で信号PDが立下った後、ワードライン電圧WL及び
リファレンスセル28のゲートに供給されるリファレン
スワードライン電圧RWLは遅延して立上る。この遅延
量はワードラインの負荷、つまりセルがワードラインの
センスアンプから近い位置にあるか遠い位置にあるかで
異なっている。
Here, as shown in FIG.
After the signal PD falls at 0 , the word line voltage WL and the reference word line voltage RWL supplied to the gate of the reference cell 28 rise with a delay. The amount of delay differs depending on the load on the word line, that is, whether the cell is located closer to or farther from the sense amplifier of the word line.

【0035】上記の近い位置のセルについては、セルの
保持データが“1”,“0”夫々で電圧SAINは図6
(B)の実線Ia,Ibに示すように変化するが、遠い
位置のセルの保持データが“0”のときは電圧SAIN
は破線Icに示すように初めは実線Ibに沿って立上
り、その後立下って実線Iaに近付く。みのため、近い
位置のセルの読み出しデータRDn が“0”,“1”の
とき実線IIa,IIbのように変化するのに対して、遠い
位置のセルの読み出しデータRDn が“1”のときは実
線IIcに示すように初めは実線IIbのように立下り、そ
の後立上って実線IIaに近付く。
As for the cell at the close position, the data held in the cell is "1" and "0", respectively, and the voltage SAIN is
Although the voltage changes as shown by solid lines Ia and Ib in (B), when the data held in a cell at a far position is “0”, the voltage SAIN is changed.
First rises along the solid line Ib as shown by the broken line Ic, then falls and approaches the solid line Ia. Minotame, the read data RD n is "0" in the cell of the close, "1" solid IIa when, with respect to change as IIb, read data RD n of cells farther "1" At this time, as shown by the solid line IIc, it first falls as shown by the solid line IIb, then rises and approaches the solid line IIa.

【0036】このため、データ不確定期間に図6(C)
に破線VIIaで示すようなラッチパルスが出力されないよ
うに、従来は大きなマージン(遅延時間)を持たせて実
線VIIbに示すラッチパルス/LEを発生させていたが、
本実施例では実線VIIcに示すように必要最小限のマージ
ンを持つラッチパルス/LEを発生でき、セルの能力や
周囲の温度状況や電源電圧の変動に拘らず、最短時間で
逆データ出力を防止した正確なデータ読み出しが可能と
なりtCEの高速化を向上できる。
Therefore, during the data indefinite period, FIG.
Conventionally, the latch pulse / LE shown by the solid line VIIb is generated with a large margin (delay time) so that the latch pulse shown by the broken line VIIa is not output.
In this embodiment, a latch pulse / LE having a minimum necessary margin can be generated as shown by a solid line VIIc, and reverse data output can be prevented in the shortest time irrespective of cell performance, ambient temperature conditions and fluctuations in power supply voltage. Thus, accurate data reading can be performed, and the speeding up of tCE can be improved.

【0037】[0037]

【発明の効果】上述の如く、請求項1に記載の発明は、
不揮発性メモリのセルアレイからセンスアンプにより読
み出したデータを出力バッファを介して出力する半導体
記憶回路において、 前記セルアレイのセンスアンプか
ら最も遠い位置のセルと同様に配線され、予め“0”と
“1”の期待値を設定されたスピードリファレンスセル
と、前記スピードリファレンスセルから“0”と“1”
の期待値が読み出されたとき、前記出力バッファからの
データの出力を許可する信号を生成する出力許可回路と
を有する。
As described above, the first aspect of the present invention provides
In a semiconductor memory circuit that outputs data read by a sense amplifier from a cell array of a nonvolatile memory via an output buffer, the semiconductor memory circuit is wired in the same manner as a cell farthest from the sense amplifier of the cell array, and is previously set to “0” and “1”. A speed reference cell in which an expected value is set, and “0” and “1” from the speed reference cell.
And an output permitting circuit for generating a signal for permitting output of data from the output buffer when the expected value is read out.

【0038】このようにスピードリファレンスセルから
期待値が読み出されて、セルアレイのセンスアンプから
最も遠いセルから正確なデータが読み出されるタイミン
グで出力バッファからのデータ出力が許可されるため、
セルの能力や周囲温度や電源電圧に拘らず正確なデータ
の読み出しが可能となり、読み出しの遅延時間を過大に
する必要がなく、読み出し速度の高速化が可能となる。
As described above, since the expected value is read from the speed reference cell and the accurate data is read from the cell farthest from the sense amplifier of the cell array, data output from the output buffer is permitted.
Accurate data reading is possible irrespective of the cell performance, ambient temperature, and power supply voltage, and it is not necessary to make the reading delay time excessive, and the reading speed can be increased.

【0039】また、請求項2に記載の発明は、不揮発性
メモリのセルアレイからセンスアンプにより読み出した
データをアドレス変化時にラッチ回路でラッチして出力
する半導体記憶回路において、前記セルアレイのセンス
アンプから最も遠い位置のセルと同様に配線され、予め
“0”と“1”の期待値を設定されたスピードリファレ
ンスセルと、前記アドレス変化時に前記スピードリファ
レンスセルから読み出される“0”と“1”の期待値か
ら前記ラッチ回路のラッチを指示する信号を生成するラ
ッチ指示回路とを有する。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory circuit in which data read by a sense amplifier from a cell array of a nonvolatile memory is latched and output by a latch circuit when an address changes, and A speed reference cell that is wired in the same manner as a cell at a distant position, and has an expected value of “0” and “1” set in advance, and an expected value of “0” and “1” read from the speed reference cell when the address changes. A latch instruction circuit for generating a signal for instructing the latch circuit to latch from the value.

【0040】このようにスピードリファレンスセル期待
値が読み出されて、セルアレイのセンスアンプから最も
遠いセルから正確なデータが読み出されるタイミングで
センスアンプ出力のラッチが行われ、データ出力が行わ
れるため、セルの能力や周囲温度や電源電圧に拘らず正
確なデータの読み出しが可能となり、読み出しの遅延時
間を過大にする必要がなく、読み出し速度の高速化が可
能となる。
As described above, the expected value of the speed reference cell is read, and the output of the sense amplifier is latched at the timing when accurate data is read from the cell farthest from the sense amplifier of the cell array, and the data is output. Accurate data reading is possible irrespective of the cell performance, ambient temperature, and power supply voltage, and it is not necessary to make the reading delay time excessive, and the reading speed can be increased.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施例のブロック図である。FIG. 1 is a block diagram of a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の遅延制御回路の要部回路図である。FIG. 2 is a main part circuit diagram of the delay control circuit of the present invention.

【図3】図1の信号波形図である。FIG. 3 is a signal waveform diagram of FIG.

【図4】本発明の第2実施例のブロック図である。FIG. 4 is a block diagram of a second embodiment of the present invention.

【図5】パルスジェネレータの回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram of a pulse generator.

【図6】図4の信号波形図である。FIG. 6 is a signal waveform diagram of FIG.

【図7】従来回路のブロック図である。FIG. 7 is a block diagram of a conventional circuit.

【図8】センスアンプの回路図である。FIG. 8 is a circuit diagram of a sense amplifier.

【図9】遅延回路の回路図である。FIG. 9 is a circuit diagram of a delay circuit.

【図10】出力バッファの回路図である。FIG. 10 is a circuit diagram of an output buffer.

【図11】図7の信号波形図である。11 is a signal waveform diagram of FIG.

【図12】従来回路のブロック図である。FIG. 12 is a block diagram of a conventional circuit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

12 コントロールバッファ 14 アドレス 16,82,84 センスアンプ 22 ローデコーダ 24 カラムデコーダ 26 セルアレイ 28 リファレンスアンプ 30 出力バッファ 74 ATDバッファ 76 パルスジェネレータ 78 データラッチ 80 スピードリファレンスセル 85 インバータ 86 ナンド回路 12 Control Buffer 14 Address 16, 82, 84 Sense Amplifier 22 Row Decoder 24 Column Decoder 26 Cell Array 28 Reference Amplifier 30 Output Buffer 74 ATD Buffer 76 Pulse Generator 78 Data Latch 80 Speed Reference Cell 85 Inverter 86 NAND Circuit

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 不揮発性メモリのセルアレイからセンス
アンプにより読み出したデータを出力バッファを介して
出力する半導体記憶回路において、 前記セルアレイのセンスアンプから最も遠い位置のセル
と同様に配線され、予め“0”と“1”の期待値を設定
されたスピードリファレンスセルと、 前記スピードリファレンスセルから“0”と“1”の期
待値が読み出されたとき、前記出力バッファからのデー
タの出力を許可する信号を生成する出力許可回路とを有
することを特徴とする半導体記憶回路。
1. A semiconductor memory circuit for outputting data read by a sense amplifier from a cell array of a nonvolatile memory via an output buffer, wherein the semiconductor memory circuit is wired in the same manner as a cell farthest from the sense amplifier of the cell array, and is set to "0" in advance. A speed reference cell set with expected values of "1" and "1"; and when the expected values of "0" and "1" are read from the speed reference cell, output of data from the output buffer is permitted. A semiconductor memory circuit having an output permission circuit for generating a signal.
【請求項2】 不揮発性メモリのセルアレイからセンス
アンプにより読み出したデータをアドレス変化時にラッ
チ回路でラッチして出力する半導体記憶回路において、 前記セルアレイのセンスアンプから最も遠い位置のセル
と同様に配線され、予め“0”と“1”の期待値を設定
されたスピードリファレンスセルと、 前記アドレス変化時に前記スピードリファレンスセルか
ら読み出される“0”と“1”の期待値から前記ラッチ
回路のラッチを指示する信号を生成するラッチ指示回路
とを有することを特徴とする半導体記憶回路。
2. A semiconductor memory circuit which latches data read out from a cell array of a nonvolatile memory by a sense amplifier by a latch circuit when an address changes and outputs the data, in the same manner as a cell farthest from the sense amplifier in the cell array. A speed reference cell in which expected values of “0” and “1” are set in advance, and an instruction to latch the latch circuit based on expected values of “0” and “1” read from the speed reference cell when the address changes. And a latch instructing circuit for generating a signal to perform the operation.
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