JPH1161490A - Solar heat absorption plate - Google Patents

Solar heat absorption plate

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JPH1161490A
JPH1161490A JP23156397A JP23156397A JPH1161490A JP H1161490 A JPH1161490 A JP H1161490A JP 23156397 A JP23156397 A JP 23156397A JP 23156397 A JP23156397 A JP 23156397A JP H1161490 A JPH1161490 A JP H1161490A
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JP
Japan
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weight
solar heat
oxide film
heat absorbing
anodic oxide
Prior art date
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Withdrawn
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JP23156397A
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Japanese (ja)
Inventor
Seiju Maejima
正受 前嶋
Koichi Saruwatari
光一 猿渡
Ryukichi Usuki
隆吉 臼杵
Yutaka Ito
裕 伊藤
Katsuji Takahara
克二 高原
Noriyasu Baba
規泰 馬場
Hiroshi Okada
宏 岡田
Yasushi Iwaizumi
泰 岩泉
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Fujikura Ltd
Original Assignee
Fujikura Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a solar absorption plate which contributes to the reduction of the cost and weight of a solar collector and is capable of effectively utilizing the sunlight without allowing the internally accumulated heat to escape outside. SOLUTION: An anodically oxidized film 3 having fine ruggedness is formed on the surface of Al or Al alloy 2 and further the surface of this anodically oxidized film 3 is provided with a transparent org. resin 4. The thickness of the anodically oxidized film 3 is 0.5 to 45 μm and more particularly the transparent org. resin 4 is an acrylic resin. The Al alloy 2 contains 0.3 to 4.3 wt.% Mn and the balance Al with inevitable impurities.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、太陽熱給湯装置な
どのソーラーコレクターに用いられる太陽熱吸収板に関
するものである。
The present invention relates to a solar heat absorbing plate used for a solar collector such as a solar water heater.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、省エネルギーの観点から、太陽光
の積極的な利用が盛んになっている。太陽光の利用の最
も身近な例としては、ソーラーコレクターを備えた太陽
熱給湯装置が挙げられる。ソーラーコレクターは、太陽
熱を効率よく水に伝導して水温を上げる機能を有するも
のであり、太陽熱給湯装置の最も重要な要素である。一
般に、ソーラーコレクターは、断熱材と、断熱材の上に
配設された水を流通させるための銅管と、銅管の上部に
載置された太陽熱吸収板と、太陽熱吸収板の上に一定の
空間を隔てて備えられた強化ガラスとから構成されてい
る。
2. Description of the Related Art In recent years, from the viewpoint of energy saving, active use of sunlight has become active. The most familiar example of the use of sunlight is a solar water heater equipped with a solar collector. The solar collector has a function of efficiently conducting solar heat to water and increasing the water temperature, and is the most important element of the solar water heater. In general, a solar collector includes an insulating material, a copper pipe for distributing water disposed on the insulating material, a solar heat absorbing plate placed on top of the copper pipe, and a fixed And tempered glass provided with a space therebetween.

【0003】ソーラーコレクターに入射した太陽光は、
強化ガラスを透過して太陽熱吸収板に照射される。太陽
熱吸収板は、照射された太陽光の強さによってそれ自身
の温度が上昇する。このときに太陽熱吸収板に吸収され
た熱が銅管を流れる水に伝導されて水温が上昇する。こ
のようにして、夏の快晴時には水温を65℃程度、冬の
快晴時でも水温を40℃程度までに上昇させることが可
能である。
[0003] The sunlight incident on the solar collector is
The solar heat absorbing plate is irradiated through the tempered glass. The temperature of the solar heat absorbing plate itself increases due to the intensity of the irradiated sunlight. At this time, the heat absorbed by the solar heat absorbing plate is transmitted to the water flowing through the copper tube, and the water temperature rises. In this way, it is possible to raise the water temperature to about 65 ° C. when the weather is fine in summer and to about 40 ° C. even when it is fine in winter.

【0004】ソーラーコレクターに用いられる太陽熱吸
収板は、特に短波長の太陽光(可視光線)を吸収しやす
いもの(吸収係数が大きい)であると共に、黒体放射を
抑制しやすいもの(遠赤外線放射効率が小さい)が最適
とされている。このような特性は、太陽光照射によって
吸収した熱をなるべく外部に逃がさずに迅速に水に伝導
するという太陽熱吸収板の機能を満たすために、要求さ
れているものである。従って、従来の太陽熱吸収板とし
ては、ブラッククロム、ブラックニッケル、酸化銅、酸
化鉄等の選択吸収膜を表面に形成させた金属板が用いら
れてきた。このような選択吸収膜は、可視光線の吸収係
数が0.8〜0.96、遠赤外線放射効率が0.1程度
のものであり、上述の特性を十分に満すものである。
A solar heat absorbing plate used in a solar collector is particularly one that easily absorbs short-wavelength sunlight (visible light) (has a large absorption coefficient) and that easily suppresses blackbody radiation (far-infrared radiation). Efficiency is small). Such characteristics are required in order to satisfy the function of a solar heat absorbing plate that quickly conducts heat absorbed by sunlight irradiation to water without escaping to the outside as much as possible. Therefore, as a conventional solar heat absorbing plate, a metal plate having a selective absorption film such as black chromium, black nickel, copper oxide, iron oxide or the like formed on the surface has been used. Such a selective absorption film has a visible light absorption coefficient of 0.8 to 0.96 and a far-infrared radiation efficiency of about 0.1, and sufficiently satisfies the above-described characteristics.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の太陽熱
吸収板においては、日照時間、日照状態、通風状態等の
気象条件によって太陽熱吸収板の温度が変動し、水温を
安定に維持することができないという課題があった。太
陽吸収板の温度変動は、通風状態の影響が特に大きいた
め、実際のソーラーコレクターには風の侵入を防ぐため
の強化ガラスが備えられおり、ソーラーコレクターの低
価格化、軽量化を図れないという課題もあった。
However, in the conventional solar heat absorbing plate, the temperature of the solar heat absorbing plate fluctuates depending on weather conditions such as sunshine duration, sunshine state, and ventilation state, and the water temperature cannot be stably maintained. There was a problem that. Since the temperature fluctuation of the solar absorption plate is particularly affected by the ventilation, the actual solar collector is equipped with tempered glass to prevent the intrusion of wind, so it is not possible to reduce the cost and weight of the solar collector There were also issues.

【0006】また、従来の太陽熱吸収板は、遠赤外線放
射効率が低いものであり、これは遠赤外線と熱との変換
効率が低いことを意味する。従って、従来の太陽熱吸収
板では、太陽光に含まれる数〜数10μmの波長範囲の
遠赤外線は利用されず、主として0.1〜数μmの波長
範囲の光のみを利用するために、太陽光を有効利用する
ことができないという課題があった。
Further, the conventional solar heat absorbing plate has low far-infrared radiation efficiency, which means that the efficiency of conversion between far-infrared rays and heat is low. Therefore, in the conventional solar heat absorbing plate, far-infrared rays in a wavelength range of several to several tens of μm contained in sunlight are not used, and mainly only light in a wavelength range of 0.1 to several μm is used. There was a problem that it was not possible to make effective use of.

【0007】本発明は上述の課題を解決するためになさ
れたものであって、ソーラーコレクターの低価格化、軽
量化を図り、内部に蓄積した熱を外部に逃がすことな
く、太陽光を有効に利用することができる太陽熱吸収板
を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems, and has been made to reduce the cost and weight of a solar collector and to effectively release sunlight without dissipating heat accumulated inside to the outside. It is an object to provide a solar heat absorbing plate that can be used.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は、上述の課題を
解決するため、以下の構成を採用した。請求項1に記載
の太陽熱吸収板は、AlまたはAl合金の表面に、微細
な凹凸を有する陽極酸化皮膜が形成され、更に、前記陽
極酸化皮膜の表面に透明な有機樹脂が備えられ、前記陽
極酸化皮膜の厚さが0.5〜45μmであることを特徴
とする。
The present invention has the following features to attain the object mentioned above. The solar heat absorbing plate according to claim 1, wherein an anodic oxide film having fine irregularities is formed on a surface of Al or an Al alloy, and further, a transparent organic resin is provided on a surface of the anodic oxide film; The oxide film has a thickness of 0.5 to 45 μm.

【0009】請求項2に記載の太陽熱吸収板は、請求項
1に記載の太陽熱吸収板であって、前記透明有機樹脂が
アクリル樹脂であることを特徴とする。請求項3に記載
の太陽熱吸収板は、請求項1または請求項2に記載の太
陽熱吸収板であって、前記Al合金が、Mnを0.3〜
4.3重量%含有し、残部Alおよび不可避不純物から
なることを特徴とする。
A solar heat absorbing plate according to a second aspect is the solar heat absorbing plate according to the first aspect, wherein the transparent organic resin is an acrylic resin. The solar heat absorbing plate according to claim 3 is the solar heat absorbing plate according to claim 1 or 2, wherein the Al alloy has Mn of 0.3 to 0.3.
It is characterized by containing 4.3% by weight, with the balance being Al and unavoidable impurities.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下、本発明の太陽熱吸収板につ
いて、詳細に説明する。図1において、太陽熱吸収板1
は、Al-Si系、あるいは、Mnを含有するAl-Mn
系の合金2であって、後述するSi粒子、あるいは、A
l-Mn系金属間化合物が分散析出し、表面に微細な凹
凸を有する陽極酸化皮膜3が形成されたものが用いられ
る。これらの材料からなる板材表面に形成される微細な
凹凸を有する陽極酸化皮膜3は、一例として、その板材
の表面をブラスト処理や液体ホーニング処理などの機械
的粗面化方法で所定範囲の粗さに粗面化した後に、この
板材を陽極酸化処理することにより得られる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a solar heat absorbing plate of the present invention will be described in detail. In FIG. 1, the solar heat absorbing plate 1
Is an Al-Si based or Al-Mn containing Mn
Alloy 2 which is described later and has Si particles or A
The one in which the l-Mn intermetallic compound is dispersed and deposited and the anodic oxide film 3 having fine irregularities on the surface is formed is used. For example, the anodic oxide film 3 having fine irregularities formed on the surface of a plate material made of these materials has a surface roughness of a predetermined range by a mechanical roughening method such as blasting or liquid honing. It is obtained by subjecting this plate material to anodizing treatment after roughening.

【0011】このような微細な凹凸を有する陽極酸化皮
膜3が形成された太陽熱吸収板1にあっては、純Alの
ような通常のAlを基材として用いた場合でも、実用上
有効とされる3〜30μmの波長領域における遠赤外線
の全放射特性が70%以上と高い特性が得られる。遠赤
外線の放射特性に優れるということは、元来、加熱され
た物体から遠赤外線が多量に放射されることであるが、
言い換えれば、遠赤外線と熱との変換効率が高く、太陽
光に含まれる遠赤外線をより効率よく吸収することが可
能であることを意味する。
The solar heat absorbing plate 1 on which the anodic oxide film 3 having such fine irregularities is formed is considered to be practically effective even when ordinary Al such as pure Al is used as a base material. In this case, the total radiation characteristics of far infrared rays in the wavelength region of 3 to 30 μm can be as high as 70% or more. The fact that the far-infrared radiation characteristics are excellent means that a large amount of far-infrared radiation is emitted from a heated object,
In other words, it means that the conversion efficiency between far infrared rays and heat is high, and it is possible to more efficiently absorb far infrared rays contained in sunlight.

【0012】陽極酸化皮膜3を形成したAlまたはAl
合金2が、このような優れた特性を有する理由について
は明らかではないが、表面が微細な凹凸を有するために
見かけ上の表面積が増大することや、粗面化により皮膜
成長が不均一になり、複雑な凹凸と複雑に枝別れしたポ
アとが形成され、入射する太陽光に対する散乱吸収率が
増大することなどが考えられる。また、陽極酸化皮膜3
中にSi粒子やAl-Mn系金属間化合物粒子が分散し
て存在しているために、これらの存在によって入射する
太陽光の散乱吸収率もより一層増大し、遠赤外線をより
効率よく吸収できる。
Al or Al having anodized oxide film 3 formed thereon
It is not clear why Alloy 2 has such excellent properties. However, the surface has fine irregularities, so that the apparent surface area increases, and the film growth becomes uneven due to surface roughening. It is conceivable that complicated irregularities and complicatedly branched pores are formed, and the scattering and absorptivity of incident sunlight increases. Anodized film 3
Since Si particles and Al-Mn intermetallic compound particles are present in a dispersed state, the scattered absorption of incident sunlight is further increased by their presence, and far infrared rays can be absorbed more efficiently. .

【0013】更に本発明の太陽熱吸収板1は、陽極酸化
皮膜3の上に、透明有機樹脂4が備えられている。透明
有機樹脂4の具体例としては、アクリル樹脂が好まし
く、ポリメチルメタアクリル酸樹脂(以下、PMMAと
略す)がより好ましい。PMMAは、広い波長範囲にお
ける光透過性が高く、透明度にも優れるので、太陽光の
大部分の波長領域の光を透過させることが可能であり、
更に、太陽光の遠赤外線の照射によって太陽熱吸収板1
に蓄積された熱の放出を防ぐことができる。即ち、表面
に陽極酸化皮膜3を形成したAlまたはAl合金2は、
遠赤外線の放射特性が高いために、内部に蓄積した熱を
遠赤外線の放射によって外部に放出しやすい性質を有す
る。このような陽極酸化皮膜3の上に、PMMA等のア
クリル樹脂を備えることにより、熱の放出を防ぐことが
できる。従って、光透過性が高く、透明度に優れるもの
であれば、PMMAに限られず、ポリカーボネート、C
R−39(ジエチレングリコールビスアリルカーボネー
ト)、ポリスチレン、MS樹脂、AS樹脂、TPX(ポ
リ4−メチルペンテン−1)等の有機樹脂も使用するこ
とができる。透明有機樹脂4の厚さは、10μm以上1
0mm以下であることが好ましく、10μm以上5mm
以下がより好ましい。透明有機樹脂4の厚さが10μm
以下であると、太陽熱吸収板内に蓄積した熱の外部への
放出を防ぐことができなくなるので好ましくない。ま
た、透明有機樹脂4の厚さが10mm以上であると、透
明有機樹脂4の光路長が長くなり、太陽光の一部が有機
樹脂4に吸収されるおそれがあるので好ましくない。
Further, the solar heat absorbing plate 1 of the present invention is provided with a transparent organic resin 4 on the anodic oxide film 3. As a specific example of the transparent organic resin 4, an acrylic resin is preferable, and a polymethyl methacrylate resin (hereinafter abbreviated as PMMA) is more preferable. Since PMMA has high light transmittance in a wide wavelength range and excellent transparency, it is possible to transmit light in most wavelength regions of sunlight.
Further, the solar heat absorbing plate 1 is irradiated with the far infrared rays of sunlight.
The release of heat accumulated in the battery can be prevented. That is, Al or Al alloy 2 having the anodic oxide film 3 formed on the surface is
Because of the high radiation characteristics of far-infrared rays, it has the property that heat accumulated inside is easily released to the outside by radiation of far-infrared rays. By providing an acrylic resin such as PMMA on such an anodic oxide film 3, the release of heat can be prevented. Therefore, as long as the material has high light transmittance and excellent transparency, it is not limited to PMMA, and polycarbonate, C
Organic resins such as R-39 (diethylene glycol bisallyl carbonate), polystyrene, MS resin, AS resin, and TPX (poly 4-methylpentene-1) can also be used. The thickness of the transparent organic resin 4 is 10 μm or more and 1
0 mm or less, preferably 10 μm or more and 5 mm
The following is more preferred. The thickness of the transparent organic resin 4 is 10 μm
If it is less than the above, it is impossible to prevent the heat accumulated in the solar heat absorbing plate from being released to the outside. On the other hand, if the thickness of the transparent organic resin 4 is 10 mm or more, the optical path length of the transparent organic resin 4 becomes long, and a part of sunlight may be absorbed by the organic resin 4, which is not preferable.

【0014】透明有機樹脂4は、その板材を陽極酸化皮
膜3上に載置したものでもよい。また、フィルム状の透
明有機樹脂4を、陽極酸化皮膜3上に熱プレスや加熱ロ
ーラ等によってラミネートさせたり、焼付け等によって
陽極酸化皮膜3上に被着させてもよい。この場合、陽極
酸化処理後の表面は粗面なので優れた密着性が得られ
る。このような陽極酸化皮膜3と透明有機樹脂4とによ
り選択吸収膜を形成する。
The transparent organic resin 4 may be one obtained by mounting the plate material on the anodic oxide film 3. Further, the film-shaped transparent organic resin 4 may be laminated on the anodic oxide film 3 by a hot press, a heating roller, or the like, or may be adhered to the anodic oxide film 3 by baking or the like. In this case, since the surface after the anodizing treatment is rough, excellent adhesion can be obtained. A selective absorption film is formed by such an anodic oxide film 3 and the transparent organic resin 4.

【0015】陽極酸化皮膜3を形成させる際におけるA
lまたはAl合金2の表面を粗面化する場合の方法の一
例としては、アルミナや炭化けい素、ケイ砂などのよう
に研削作用のある粉末を研削材としたブラスト処理や液
体ホーニング処理、あるいは、コランダムを含有したナ
イロン繊維、あるいは0.1〜1.0mm程度の直径の
ピアノ線を植え込んだ研摩輪を高速回転させて削る方
法、あるいはエメリー紙(布)により削る方法などのよ
うに、機械的に粗面化する方法や、電解エッチングなど
の化学的方法により粗面化する方法などであるが、本発
明の場合においては、機械的な方法を用いてその表面を
平均粗さ0.5〜5.0μm、最大粗さ5〜50μmの
範囲に調整することにより、より優れた特性が得られ
る。
A when forming the anodic oxide film 3
Examples of a method for roughening the surface of the l or Al alloy 2 include a blast treatment or a liquid honing treatment using a powder having a grinding action such as alumina, silicon carbide, silica sand, or the like, or Such as a method in which a grinding wheel in which corundum-containing nylon fiber or a piano wire having a diameter of about 0.1 to 1.0 mm is implanted is rotated at a high speed, or a method in which the grinding wheel is cut with emery paper (cloth). The surface may be roughened by a chemical method such as electrolytic etching or the like, but in the case of the present invention, the surface is formed to have an average roughness of 0.5 by using a mechanical method. By adjusting the average roughness to a range of from 5.0 μm to a maximum roughness of 5 to 50 μm, more excellent characteristics can be obtained.

【0016】この機械的方法が優れる理由は定かではな
いが、機械的な粗面化方法では、局部的に大きな力が付
加されることによってアルミ地金の塑性流動や加工硬化
による金属組織の不均質化が起こるとともに、無理矢理
地金が削り取られるための凹凸形状の複雑化が起きるこ
とによるものと推定され、更に、この状態で陽極酸化処
理されると、金属組織の差異により、部分的に陽極酸化
皮膜3の質や成長速度が異なり、また、複雑な凹凸形状
によるランダムな方向への陽極酸化皮膜3の成長などが
原因となって、非常に不均質な凹凸と枝別れした複雑な
ポア構造を有する陽極酸化皮膜3が形成され、これによ
って入射する太陽光の散乱吸収率が増大し、遠赤外線を
より吸収しやすくなるためと思われる。
The reason why this mechanical method is excellent is not clear, but in the mechanical surface roughening method, a large force is locally applied, so that the plastic structure of the aluminum base metal or the metal structure is not formed due to work hardening. It is presumed that homogenization occurred and the irregular shape was complicated due to the scraping of the metal, and further anodization was performed in this state. A complex pore structure that is branched from very uneven unevenness due to differences in the quality and growth rate of the oxide film 3 and the growth of the anodic oxide film 3 in random directions due to complicated uneven shapes. It is considered that the anodic oxide film 3 having the following is formed, whereby the scattered absorption rate of incident sunlight increases, and far infrared rays are more easily absorbed.

【0017】また、陽極酸化処理により形成される陽極
酸化皮膜3の厚さとしては、0.5〜45μmの範囲と
することが好ましく、これより薄い場合には充分な遠赤
外線放射率が得られない。陽極酸化処理方法としては、
通常に良く用いられる方法の多種類のものを用いること
ができる。また、電解浴としては、酸性浴のみならず、
アルカリ浴、あるいはホルムアミド系とホウ酸系などの
非水浴をも用いることができる。
The thickness of the anodic oxide film 3 formed by the anodic oxidation treatment is preferably in the range of 0.5 to 45 μm. If the thickness is less than this, sufficient far-infrared emissivity can be obtained. Absent. As the anodizing method,
Many types of commonly used methods can be used. As an electrolytic bath, not only an acidic bath,
Alkaline baths or non-aqueous baths such as formamide and boric acid baths can also be used.

【0018】例えば、酸性電化浴としては、硫酸、リン
酸、クロム酸、しゅう酸、スルホサリチル酸、ピロリン
酸、スルファミン酸、リンモリブデン酸、ホウ酸、マロ
ン酸、コハク酸、マレイン酸、クエン酸、酒石酸、フタ
ル酸、イタコン酸、リンゴ酸、グリコール酸などを1種
または2種以上溶解した水溶液を用いることができる。
また、アルカリ性電界浴としては、カセイソーダ、カセ
イカリ、炭酸ナトリウム、リン酸カリウム、アンモニア
水などを1種または2種以上溶解した水溶液を用いるこ
とができる。
For example, acidic electrifying baths include sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, oxalic acid, sulfosalicylic acid, pyrophosphoric acid, sulfamic acid, phosphomolybdic acid, boric acid, malonic acid, succinic acid, maleic acid, citric acid, An aqueous solution in which one or more kinds of tartaric acid, phthalic acid, itaconic acid, malic acid, glycolic acid and the like are dissolved can be used.
In addition, as the alkaline electric field bath, an aqueous solution in which one or more kinds of caustic soda, caustic potash, sodium carbonate, potassium phosphate, aqueous ammonia, and the like are dissolved can be used.

【0019】電解時の電流波形については、直流、交
流、交直重畳、交直併用、不完全整流波形、パルス波
形、矩形波などが用いられる。電解方法としては、定電
流、定電圧、定電力法および連続、断続あるいは電流回
復を応用した高速アルマイト法などで行なうことができ
る。以上の中でパルス波形や不完全整流波形を用いて不
均質な陽極酸化皮膜3を生成させたり、断続電解や電流
回復法により多層構造の陽極酸化皮膜3を形成させて、
より高い遠赤外線放射率のものとすることもできる。
As the current waveform at the time of electrolysis, DC, AC, AC / DC superimposition, AC / DC combined use, incomplete rectified waveform, pulse waveform, rectangular wave, and the like are used. As an electrolysis method, a constant current, a constant voltage, a constant power method, a high-speed alumite method using continuous, intermittent, or current recovery can be used. In the above, a heterogeneous anodic oxide film 3 is generated using a pulse waveform or an incomplete rectified waveform, or a multi-layer anodic oxide film 3 is formed by intermittent electrolysis or a current recovery method.
Higher far-infrared emissivity can also be achieved.

【0020】陽極酸化処理により皮膜を形成させた後の
後処理としては、耐食性向上のために、沸騰水浸積や、
金属塩含有熱水浸積法などの通常の方法で封孔処理を行
なっても良い。また、電解着色法により陽極酸化皮膜3
の微細孔中に、Ni、Cu、Co、Sn、Pb、Cdな
どの金属を析出させてから、酸化雰囲気中で析出金属を
酸化させたり、あるいは、ケイ酸塩水溶液やジルコニウ
ム塩水浴などと酸やアルカリと交互に浸積して微細孔中
にケイ酸塩やジルコニウムの水酸化物を沈積させても良
い。これら方法により陽極酸化皮膜3の微細孔に遠赤外
線放射特性の優れた金属酸化物を含有させることによ
り、遠赤外線放射特性に優れる太陽熱吸収板1とするこ
とができる。
The post-treatment after forming the film by the anodic oxidation treatment includes boiling water immersion,
The sealing treatment may be performed by an ordinary method such as a hot water immersion method containing a metal salt. Also, the anodic oxide film 3 is formed by an electrolytic coloring method.
After depositing metals such as Ni, Cu, Co, Sn, Pb, and Cd in the micropores, the deposited metals are oxidized in an oxidizing atmosphere, or an acid is mixed with an aqueous silicate solution or zirconium salt bath. Alternatively, the silicate or zirconium hydroxide may be deposited in the fine pores by alternately immersing the fine pores and alkalis. By including a metal oxide having excellent far-infrared radiation characteristics in the fine pores of the anodic oxide film 3 by these methods, the solar heat absorbing plate 1 having excellent far-infrared radiation characteristics can be obtained.

【0021】次に太陽熱吸収板1に用いるAl-Mn系
合金について説明する。適当量のMnを含有するAl-
Mn系合金では、Al-Mn系金属間化合物が生成さ
れ、そのAl-Mn系金属間化合物の析出状態が適切で
あれば遠赤外線放射特性に寄与する。このAl−Mn系
金属間化合物としては、Al6Mn、Al6(MnF
e)、αAlMn(Fe)Si、およびそれらにCr、
Ti等が少量固溶されたものなどがあるが、このような
Al-Mn系金属間化合物が分散して析出しているアル
ミニウム合金の表面に陽極酸化処理を施すと、そのAl
-Mn系金属間化合物の粒子は分散された状態で陽極酸
化皮膜3中に含有される。
Next, the Al—Mn alloy used for the solar heat absorbing plate 1 will be described. Al- containing an appropriate amount of Mn
In a Mn-based alloy, an Al-Mn-based intermetallic compound is generated, and if the precipitation state of the Al-Mn-based intermetallic compound is appropriate, it contributes to far-infrared radiation characteristics. As the Al-Mn intermetallic compound, Al 6 Mn, Al 6 (MnF
e), αAlMn (Fe) Si and their Cr,
There is a case where a small amount of Ti or the like is dissolved in a solid solution. However, when the surface of an aluminum alloy on which such an Al-Mn intermetallic compound is dispersed and precipitated is subjected to anodizing treatment,
The particles of the -Mn intermetallic compound are contained in the anodic oxide film 3 in a dispersed state.

【0022】このような陽極酸化皮膜3に分散されてい
る金属間化合物粒子によって入射光が散乱吸収されやす
くなり、遠赤外線の放射特性が向上する。また、可視光
線の吸収係数も高いため、目視の色調も黒くなる。更
に、陽極酸化処理時において陽極酸化皮膜3が成長する
過程で、ポアは枝別れした構造となり、このような枝別
れポア構造によって入射光に対する陽極酸化皮膜3内で
の散乱吸収が助長され、遠赤外線放射特性が一層向上す
る。
The incident light is easily scattered and absorbed by the intermetallic compound particles dispersed in the anodic oxide film 3, and the radiation characteristics of far infrared rays are improved. Further, since the visible light absorption coefficient is high, the visual color tone is also black. Further, in the process of growing the anodic oxide film 3 during the anodic oxidation treatment, the pores have a branched structure, and such a branched pore structure promotes the scattering and absorption of the incident light in the anodic oxide film 3, thereby increasing the distance. The infrared radiation characteristics are further improved.

【0023】ここで、Al-Mn系金属間化合物析出物
の径が0.01μm未満では、前述のようなAl-Mn
系金属間化合物析出物分散による効果が得られず、一
方、3μmを越える粗大なAl-Mn系金属間化合物析
出物は成形性を悪化させるから、粒径が0.01〜3μ
mのものが分散していることが好ましい。また、粒径が
0.01〜3μmのAl-Mn系金属間化合物析出物
は、1×105個/mm3以上の密度で分散していること
が好ましい。
Here, when the diameter of the Al—Mn intermetallic compound precipitate is less than 0.01 μm, the Al—Mn
The effect due to the dispersion of the intermetallic compound precipitate cannot be obtained. On the other hand, since the coarse Al-Mn intermetallic compound precipitate exceeding 3 μm deteriorates the formability, the particle size is 0.01 to 3 μm.
m are preferably dispersed. The Al-Mn intermetallic compound precipitates having a particle size of 0.01 to 3 µm are preferably dispersed at a density of 1 x 10 5 particles / mm 3 or more.

【0024】次に上述のようなAl-Mn系合金におけ
る成分組成の限定理由を述べる。 Mn:Mnは、Al-Mn系金属間化合物析出物を生成
し、前述のように遠赤外線放射特性の向上に寄与する。
ここでMn量が、0.3重量%未満では、良好な遠赤外
線放射特性が得られなくなる。一方、4.3重量%を越
えた場合には、合金から薄板などへの連続鋳造が困難に
なり、実用的でない。即ち、前述のようなAl-Mn系
金属間化合物析出物の析出状態を得るためには、鋳造時
の冷却速度を5℃/秒以上としてMnを充分に固溶させ
ておき、その後、前記金属間化合物析出のための熱処理
を施すことが好ましいが、5℃/秒以上の冷却速度で鋳
造するためには、実用上は薄板連続鋳造法(連続鋳造圧
延)を適用することが最適である。しかしながら、Mn
量が4.3重量%を越えれば薄板連続鋳造が困難になっ
てしまう。従ってMn量は0.3〜4.3重量%の範囲
が好ましい。 Mg:Mgは必ずしも必須の元素ではないが、Al-M
n系金属間化合物析出物の析出を促進し、前述のような
析出状態を達成するに寄与する。特にMn量が比較的少
ない範囲においては、Mgの添加量を多くすることが、
Al-Mn系金属間化合物析出物の析出を促進して遠赤
外線放射特性の向上のために有効である。但し、Mg量
が6.0重量%を越えれば、薄板連続鋳造が困難とな
り、実用的でなくなる。一方、Mn量が0.05重量%
未満ではMg添加による上述の効果が得られない。よっ
てMgの添加量は0.05〜6.0重量%の範囲が好ま
しい。 Fe:FeはAl-Mn系金属間化合物析出物
の析出にある程度の影響を与えるが、遠赤外線放射特性
には本質的には影響はない。鋳造性の点から考慮すると
Fe量は少ないほうが好ましく、0.5重量%を越えれ
ば連続鋳造が困難となるおそれがある。 Si:SiはAl-Mn系金属間化合物析出物の析出に
ある程度の影響を与えるが、遠赤外線放射特性には本質
的に影響はない。鋳造性の点からはSi量は少ないこと
が好ましく、2.0重量%を越えれば連続鋳造が困難と
なるおそれがある。
Next, the reasons for limiting the component composition in the Al-Mn alloy as described above will be described. Mn: Mn forms an Al-Mn intermetallic compound precipitate and contributes to the improvement of far-infrared radiation characteristics as described above.
Here, if the Mn content is less than 0.3% by weight, good far-infrared radiation characteristics cannot be obtained. On the other hand, when the content exceeds 4.3% by weight, continuous casting from an alloy to a thin plate or the like becomes difficult, which is not practical. That is, in order to obtain the precipitation state of the Al-Mn-based intermetallic compound precipitate as described above, the cooling rate at the time of casting is set to 5 ° C / sec or more, and Mn is sufficiently dissolved to form a solid solution. It is preferable to perform a heat treatment for precipitation of intermetallic compounds, but in order to cast at a cooling rate of 5 ° C./sec or more, it is practically most suitable to apply a continuous thin plate casting method (continuous casting and rolling). However, Mn
If the amount exceeds 4.3% by weight, continuous casting of a thin plate becomes difficult. Therefore, the Mn content is preferably in the range of 0.3 to 4.3% by weight. Mg: Mg is not always an essential element, but Al-M
It promotes the precipitation of the n-type intermetallic compound precipitate and contributes to achieving the above-mentioned precipitation state. Particularly in a range where the amount of Mn is relatively small, it is possible to increase the amount of added Mg.
This is effective for promoting the precipitation of Al-Mn-based intermetallic compound precipitates and improving the far-infrared radiation characteristics. However, if the amount of Mg exceeds 6.0% by weight, continuous casting of a thin plate becomes difficult and is not practical. On the other hand, the Mn content is 0.05% by weight.
If the amount is less than the above range, the above-described effect due to the addition of Mg cannot be obtained. Therefore, the addition amount of Mg is preferably in the range of 0.05 to 6.0% by weight. Fe: Fe has some influence on the precipitation of Al—Mn intermetallic compound precipitates, but has essentially no effect on far-infrared radiation characteristics. From the viewpoint of castability, the Fe content is preferably as small as possible. If it exceeds 0.5% by weight, continuous casting may be difficult. Si: Si has some influence on the precipitation of Al-Mn intermetallic compound precipitates, but has essentially no effect on far-infrared radiation characteristics. From the viewpoint of castability, the amount of Si is preferably small, and if it exceeds 2.0% by weight, continuous casting may be difficult.

【0025】更に、通常のAl合金においては、鋳塊の
結晶粒微細化のために、少量のTiを単独であるいは微
量のBと組み合わせて添加することがあるが、Al-M
n系合金にも0.003〜0.15重量%の範囲でTi
を単独で、もしくは1〜100ppmのBと組み合わせ
て添加しても良い。即ち、Tiは鋳塊の結晶粒を微細化
して圧延板のストリークス、キメを防止する効果がある
が、Tiが0.003重量%未満ではその効果が得られ
ず、Tiが0.15重量%を越えればTiAl3系粗大
金属間化合物が生成されてしまう。また、BはTiと共
存して結晶粒微細化を促進する元素であるが、B量が1
ppm未満ではその効果が得られず、一方100ppm
を越えればその効果が飽和し、また粗大TiB2粒子が
生成されて線状欠陥が発生する。このほか、Mgを含有
する系のアルミニウム合金においては、溶湯の酸化を防
止するために微量のBeを添加することが従来から行な
われているが、500ppm程度以下のBeを添加する
ことに特に支障はない。
Further, in a normal Al alloy, a small amount of Ti may be added alone or in combination with a small amount of B in order to refine the crystal grains of the ingot.
In the case of n-type alloys, Ti is added in the range of 0.003 to 0.15% by weight.
May be added alone or in combination with 1 to 100 ppm of B. That is, Ti has the effect of minimizing the crystal grains of the ingot to prevent streaks and texture of the rolled sheet. However, if Ti is less than 0.003% by weight, the effect cannot be obtained, and Ti is 0.15% by weight. %, TiAl 3 -based coarse intermetallic compounds are generated. B is an element that coexists with Ti and promotes crystal grain refinement.
If less than 100 ppm, the effect cannot be obtained.
Is exceeded, the effect is saturated, and coarse TiB 2 particles are generated to cause linear defects. In addition, in an aluminum alloy containing Mg, a small amount of Be has been conventionally added in order to prevent oxidation of the molten metal. However, adding 500 ppm or less of Be particularly hinders. There is no.

【0026】Al-Mn系合金においては、Ni、Z
r、V、Cu、Zn等が含まれることがある。これらの
うち、Ni、Zr、Vは遠赤外線放射特性に本質的に影
響しないが、Niを1.0重量%以上、Zrを0.3重
量%以上、Vを0.3重量%以上では薄板連続鋳造が困
難となるから、Niを1.0重量%未満、Zrを0.3
重量%未満、Vを0.3重量%未満に抑制することが望
ましい。また、Cu、Znは陽極酸化皮膜3の色調に若
干の変化を与えるものの、遠赤外線放射特性に本質的な
影響は与えないが、Cuを1.0重量%以上、Znを
2.0重量%以上では薄板連続鋳造が困難となるから、
Cuを1.0重量%未満、Znを2.0重量%未満に抑
えることが好ましい。
In an Al—Mn alloy, Ni, Z
r, V, Cu, Zn, and the like may be included. Of these, Ni, Zr, and V do not essentially affect far-infrared radiation characteristics, but when Ni is 1.0% by weight or more, Zr is 0.3% by weight or more, and V is 0.3% by weight or more, a thin plate is obtained. Since continuous casting becomes difficult, Ni is less than 1.0% by weight and Zr is less than 0.3% by weight.
It is desirable to control the V to less than 0.3% by weight. Further, although Cu and Zn slightly change the color tone of the anodic oxide film 3, they do not essentially affect the far-infrared radiation characteristics. Above, it becomes difficult to cast thin sheet continuously,
It is preferable that Cu be less than 1.0% by weight and Zn be less than 2.0% by weight.

【0027】次に上述のようなAl-Mn系合金からな
る圧延板を製造するプロセス条件について説明する。前
述のように、Al-Mn系金属間化合物の適切な析出状
態を得ることで得られる遠赤外線放射特性を達成するた
めには、鋳造速度と、析出のための加熱処理が重要であ
る。鋳造については、鋳造速度を高めてMnを充分に固
溶することにより、その後の析出処理でAl-Mn系金
属間化合物を適切な析出状態で析出させることが可能で
あり、そのためには、5℃/秒以上の鋳造速度が好まし
い。特に大きな板を製造する場合に、5℃/秒以上の冷
却速度を得るためには、直接5〜10mm厚程度の薄板
を得ることが容易にできる薄板連続鋳造法(連続鋳造圧
延法)を適用することが好ましい。
Next, the process conditions for producing a rolled plate made of the above Al-Mn alloy will be described. As described above, in order to achieve the far-infrared radiation characteristics obtained by obtaining an appropriate precipitation state of the Al-Mn intermetallic compound, the casting speed and the heat treatment for the precipitation are important. As for casting, by increasing the casting speed and sufficiently dissolving Mn, it is possible to precipitate the Al-Mn intermetallic compound in an appropriate precipitation state in the subsequent precipitation treatment. C./sec or higher casting rates are preferred. In order to obtain a cooling rate of 5 ° C./sec or more, especially in the case of manufacturing a large plate, a thin plate continuous casting method (continuous casting and rolling method) which can easily obtain a thin plate having a thickness of about 5 to 10 mm is applied. Is preferred.

【0028】一方、析出のための加熱は、300℃以
上、600℃以下の温度で0.5時間以上行なうことが
好ましい。温度が300℃未満では析出物が小さ過ぎて
優れた遠赤外線放射特性が得られず、一方600℃を越
えれば、陽極酸化処理後の色調が悪くなり、また結晶粒
の粗大化が生じる。また時間は、昇温過程から保持し、
冷却過程を通じて300℃以上となっている時間が0.
5時間以上あれば良く、300℃以上の温度となってい
る時間が0.5時間未満では陽極酸化処理後に良好な遠
赤外線特性が得られない。
On the other hand, heating for precipitation is preferably performed at a temperature of 300 ° C. or more and 600 ° C. or less for 0.5 hour or more. If the temperature is lower than 300 ° C., the precipitate is too small to obtain excellent far-infrared radiation characteristics, while if it exceeds 600 ° C., the color tone after the anodic oxidation treatment deteriorates and the crystal grains become coarse. Also, the time is kept from the heating process,
The time during which the temperature is 300 ° C. or higher throughout the cooling process is set to 0.
If it is 5 hours or more, and if the time at which the temperature is 300 ° C. or more is less than 0.5 hour, good far-infrared characteristics cannot be obtained after the anodizing treatment.

【0029】なお、この析出のための加熱は、鋳塊のま
ま行なっても、また圧延の途中で、更には圧延後に行な
っても良い。従ってこの析出処理は、鋳塊に対する均質
化処理、あるいは熱間圧延のための加熱処理、更には熱
間圧延後もしくは冷間圧延の中途で必要に応じて行なわ
れる中間焼鈍、更には冷間圧延後に必要に応じて施され
る最終焼鈍などと兼ねて行なうことができる。そしてま
た、熱間圧延と圧接のための加熱や焼鈍と兼ねて行なっ
ても良い。このほか、熱間圧延や冷間圧延、更には、必
要に応じて行なわれる中間焼鈍や最終焼鈍は常法に従っ
て行なえば良い。
The heating for the precipitation may be performed on the ingot as it is, during the rolling, or after the rolling. Therefore, this precipitation treatment is a homogenization treatment for the ingot, or a heat treatment for hot rolling, furthermore, an intermediate annealing performed as necessary after hot rolling or in the middle of cold rolling, and further cold rolling. This can be performed together with final annealing performed as needed later. Further, the heating and annealing for hot rolling and pressure welding may be performed together. In addition, hot rolling, cold rolling, and, if necessary, intermediate annealing or final annealing may be performed according to a conventional method.

【0030】次にAl-Si系合金における成分組成の
限定理由について説明する。Si:Siは鋳造時にその
添加量に応じて初晶Si、共晶Siとして晶出し、また
これらの晶出Siは必要に応じて行なわれた熱処理や組
成加工によりその形状が変化する。また、必要に応じて
熱処理された場合、Alのマトリックス中からも金属S
iが析出する。これらの初晶Si、共晶Si、析出Si
は、前述のように陽極酸化処理時に金属Si粒子として
陽極酸化皮膜3中に取り込まれ、入射光に対する散乱、
吸収を通じて遠赤外線放射特性の向上に寄与する。更に
金属Si粒子は前述のように陽極酸化皮膜3内のポアを
枝別れ構造とすることに寄与し、これによっても遠赤外
線放射特性の向上に寄与する。基材アルミニウム合金の
Si量が、3重量%未満では金属Si粒子の数が少な
く、遠赤外線放射率が小さくなる。一方、Si量が15
重量%を越えれば、陽極酸化皮膜3中の金属Si粒子の
体積率が大き過ぎて陽極酸化皮膜3の強度、耐食性が低
下してしまい、また圧延性も低下する。従ってSi量
は、3〜15重量%の範囲が好ましい。
Next, the reasons for limiting the component composition in the Al-Si alloy will be described. Si: Si is crystallized as primary crystal eutectic and eutectic Si according to the added amount during casting, and the shape of the crystallized Si changes due to heat treatment and composition processing performed as necessary. Further, when heat treatment is performed as necessary, the metal S
i precipitates. These primary crystal Si, eutectic Si, precipitated Si
Is taken into the anodic oxide film 3 as metal Si particles during the anodic oxidation treatment as described above,
Contributes to the improvement of far-infrared radiation characteristics through absorption. Further, the metal Si particles contribute to the formation of a branched structure in the pores in the anodic oxide film 3 as described above, which also contributes to the improvement of far-infrared radiation characteristics. If the amount of Si in the base aluminum alloy is less than 3% by weight, the number of metal Si particles is small, and the far-infrared emissivity is small. On the other hand, when the amount of Si is 15
If the content is more than 10% by weight, the volume ratio of the metal Si particles in the anodic oxide film 3 is too large, and the strength and corrosion resistance of the anodic oxide film 3 are reduced, and the rolling property is also reduced. Therefore, the amount of Si is preferably in the range of 3 to 15% by weight.

【0031】Al-Si合金としては、上記Siの他
は、基本的にはAlおよび不可避不純物とすれば良い
が、Siの他に、強度向上のために、Fe、Mg、C
u、Mn、Ni、Cr、V、Zn、Zrのうちの1種ま
たは2種以上を含有しても良い。これらの添加量は以下
の通りである。
The Al-Si alloy may be basically Al and inevitable impurities other than the above-mentioned Si. In addition to Si, in addition to Si, Fe, Mg, C
One, two or more of u, Mn, Ni, Cr, V, Zn, and Zr may be contained. The amounts of these additives are as follows.

【0032】Fe:Feは強度向上および結晶粒微細化
のために有効である。Fe量が、0.05重量%未満で
はその効果が得られず、2.0重量%を越えれば陽極酸
化皮膜3の強度と耐食性が低下する。またFe量が、
2.0重量%を越えれば、SiがFeと化合してAl-
Fe-Si系の金属間化合物の量が増加し、遠赤外線放
射特性が低下する。従ってFeを添加する場合のFe量
は、0.05〜2.0重量%の範囲が好ましい。 Mg:Mgも強度向上に寄与する。Mg量が0.05重
量%未満ではその効果が得られず、一方、2.0重量%
を越えればMgとSiが結合してMg2Siの生成量が
増加し、遠赤外線放射特性が低下する。またMg量が
2.0重量%を越えれば、鋳造性、塑性加工性も低下す
る。従ってMgを添加する場合のMg量は0.05〜
2.0重量%の範囲内が好ましい。 Cu:Cuの添加も強度向上に寄与する。Cu量が0.
05重量%未満ではその効果が得られず、6.0重量%
を越えれば鋳造性、塑性加工性、耐食性が低下する。従
ってCuを添加する場合のCu量は0.05〜6.0重
量%の範囲が好ましい。
Fe: Fe is effective for improving strength and refining crystal grains. If the Fe content is less than 0.05% by weight, the effect cannot be obtained, and if it exceeds 2.0% by weight, the strength and corrosion resistance of the anodic oxide film 3 decrease. Also, the amount of Fe is
If it exceeds 2.0% by weight, Si is combined with Fe and Al-
The amount of the Fe-Si based intermetallic compound increases, and the far-infrared radiation characteristic decreases. Therefore, when Fe is added, the amount of Fe is preferably in the range of 0.05 to 2.0% by weight. Mg: Mg also contributes to strength improvement. If the amount of Mg is less than 0.05% by weight, the effect cannot be obtained.
If the ratio exceeds the range, Mg and Si are combined to increase the amount of Mg 2 Si generated, and the far-infrared radiation characteristics deteriorate. If the amount of Mg exceeds 2.0% by weight, castability and plastic workability also decrease. Therefore, when adding Mg, the amount of Mg is 0.05 to
It is preferably in the range of 2.0% by weight. Cu: The addition of Cu also contributes to the improvement in strength. Cu content is 0.
If the content is less than 05% by weight, the effect cannot be obtained.
If the ratio exceeds the above range, castability, plastic workability, and corrosion resistance decrease. Therefore, the amount of Cu when Cu is added is preferably in the range of 0.05 to 6.0% by weight.

【0033】Mn:Mnは強度向上に寄与するととも
に、結晶粒微細化、耐熱性向上に寄与する。Mn量が
0.05重量%未満ではこれらの効果が得られず、一
方、2.0重量%を越えればMnがSiと結合してAl
-Mn-Si系の金属間化合物の生成量が増加し、遠赤外
線放射特性が向上する。また、Mn量が2.0重量%を
越えれば、鋳造も困難となる。従ってMnを添加する場
合のMn量は0.05〜2.0重量%の範囲が好まし
い。 Ni:Niも強度向上に寄与するとともに、耐熱性向上
に寄与する。Ni量が0.05重量%未満ではこれらの
効果が得られず、一方、3.0重量%を越えれば鋳造が
困難になる。従ってNiを添加する場合のNi量は0.
05〜3.0重量%の範囲が好ましい。 Cr、Zr、V:これらの元素は、強度向上に寄与する
とともに、結晶粒微細化に寄与する。いずれも0.05
重量%未満ではその効果が得られず、一方0.5重量%
を越えれば粗大な金属間化合物が生成されてかえって強
度を低下させる。従ってCr、Zr、Vの1種または2
種以上を添加する場合の添加量は、いずれも単独量で
0.05〜0.5重量%の範囲が好ましい。なお、スラ
ブ、ビレットなどの圧延や押出、あるいは鋳造を適用す
る場合は、これらの元素の単独添加量が0.3重量%を
越えれば塑性加工性が低下して鋳造が困難となるから、
単独添加量で0.3重量%以下とすることが好ましい。
Mn: Mn contributes to the improvement of strength, the refinement of crystal grains, and the improvement of heat resistance. If the amount of Mn is less than 0.05% by weight, these effects cannot be obtained, while if it exceeds 2.0% by weight, Mn bonds to Si and Al
The amount of -Mn-Si-based intermetallic compounds generated is increased, and the far-infrared radiation characteristics are improved. If the amount of Mn exceeds 2.0% by weight, casting becomes difficult. Therefore, when Mn is added, the Mn content is preferably in the range of 0.05 to 2.0% by weight. Ni: Ni also contributes to improvement in strength and also to improvement in heat resistance. If the Ni content is less than 0.05% by weight, these effects cannot be obtained, while if it exceeds 3.0% by weight, casting becomes difficult. Therefore, the amount of Ni when Ni is added is 0.1.
The range of from 0.05 to 3.0% by weight is preferred. Cr, Zr, V: These elements contribute to the improvement of strength and also to the refinement of crystal grains. 0.05 for all
If the amount is less than 0.5% by weight, the effect cannot be obtained.
If the ratio exceeds the above range, a coarse intermetallic compound is generated, and the strength is rather reduced. Therefore, one or two of Cr, Zr, and V
When adding more than one kind, the addition amount is preferably in the range of 0.05 to 0.5% by weight in a single amount. In addition, when rolling, extrusion, or casting of a slab, a billet, or the like is applied, if the single addition amount of these elements exceeds 0.3% by weight, plastic workability is reduced and casting becomes difficult.
It is preferable that the content of the single addition be 0.3% by weight or less.

【0034】Zn:Znは、溶解原材料にスクラップを
使用した場合に必然的に混入する元素であるが、1重量
%を越えて積極的に含有させた場合に強度向上に寄与す
る。Znが1.0重量%以下ではその効果が得られず、
一方7.0重量%を越えれば鋳造性が悪化する。従って
Znを積極的に添加する場合のZn量は1.0重量%を
越え、7.0重量%以下とした。更に、Al-Si系合
金の場合は、組織微細化のためにTiと、P,Na,S
b,Srのうちの1種または2種以上が含有される。こ
れらの成分限定理由は次の通りである。 Ti:Tiは鋳塊結晶粒の微細化を通じて組織の微細化
に寄与する。Tiの添加量が0.005重量%未満では
その効果が得られず、0.2重量%を越えると粗大な金
属間化合物が生成されて好ましくない。従って、Tiを
添加する場合の添加量は、0.005〜0.2重量%が
好ましい。なお、鋳塊結晶粒微細化のためには、Tiと
ともにBを共存させることが効果的である。この場合B
の添加量は1ppm未満ではその効果が得られず、10
0ppmを越えるとその効果が飽和するからTiとあわ
せてBを添加する場合の添加量は、1〜100ppmの
範囲が好ましい。
Zn: Zn is an element that is inevitably mixed when scrap is used as a raw material for melting, but contributes to an improvement in strength when more than 1% by weight is positively contained. If Zn is less than 1.0% by weight, the effect cannot be obtained.
On the other hand, if the content exceeds 7.0% by weight, castability deteriorates. Therefore, when Zn is positively added, the amount of Zn exceeds 1.0% by weight and is set to 7.0% by weight or less. Further, in the case of an Al-Si alloy, Ti, P, Na, S
One or more of b and Sr are contained. The reasons for limiting these components are as follows. Ti: Ti contributes to the refinement of the structure through the refinement of ingot crystal grains. If the amount of Ti is less than 0.005% by weight, the effect cannot be obtained. If the amount exceeds 0.2% by weight, a coarse intermetallic compound is generated, which is not preferable. Therefore, the amount of Ti added is preferably 0.005 to 0.2% by weight. In order to refine the ingot crystal grains, it is effective to make B coexist with Ti. In this case B
The effect cannot be obtained if the amount of
If the content exceeds 0 ppm, the effect is saturated, so that when B is added together with Ti, the addition amount is preferably in the range of 1 to 100 ppm.

【0035】P:Pは初晶Siの微細化に寄与する。こ
の為、Pの添加量は初晶Siが初出するような約10重
量%以上のSiを含有する合金の場合に効果的である。
Pの添加量は0.005重量%未満では初晶Siの微細
化の効果が得られず、0.1重量%を越えるとその効果
が飽和する。従って、Pを添加する場合の添加量は、
0.005〜0.1重量%が好ましい。Na、Sb、S
r、Na、Sb、Srの元素は共晶Siの微細化に寄与
する。いずれも0.005重量%未満ではその効果が得
られない。Na、Srは0.1重量%を越えるとその効
果が飽和し、Sbは0.3重量%を越えるとその効果が
飽和する。従って、Naを添加する場合の添加量は0.
005〜0.1重量%、Sbを添加する場合の添加量は
0.005〜0.3重量%、Srを添加する場合の添加
量は0.005から0.1重量%が好ましい。なお、N
b、Sb、SrがPと共存する場合には、Pによる初晶
Siの微細化効果が失われてしまうから、Pとは共存さ
せないことが望ましい。
P: P contributes to miniaturization of primary crystal Si. Therefore, the addition amount of P is effective in the case of an alloy containing about 10% by weight or more of Si such that primary crystal Si first appears.
If the amount of P is less than 0.005% by weight, the effect of miniaturizing the primary crystal Si cannot be obtained, and if it exceeds 0.1% by weight, the effect is saturated. Therefore, when P is added,
0.005 to 0.1% by weight is preferred. Na, Sb, S
The elements r, Na, Sb, and Sr contribute to miniaturization of eutectic Si. In any case, if less than 0.005% by weight, the effect cannot be obtained. When the content of Na and Sr exceeds 0.1% by weight, the effect is saturated, and when the content of Sb exceeds 0.3% by weight, the effect is saturated. Therefore, when Na is added, the amount of addition is 0.1.
005 to 0.1% by weight, the addition amount when Sb is added is preferably 0.005 to 0.3% by weight, and the addition amount when Sr is added is preferably 0.005 to 0.1% by weight. Note that N
When b, Sb, and Sr coexist with P, the effect of miniaturization of primary crystal Si by P is lost. Therefore, it is preferable that b does not coexist with P.

【0036】以上の各元素の他、溶解時の酸化防止のた
めにBeを1〜100ppm程度添加することに特に支
障はない。またその他の元素も、合計で1重量%以下程
度の微量であれば、特に遠赤外線放射特性に悪影響を及
ぼすことはない。
In addition to the above elements, there is no particular problem in adding about 1 to 100 ppm of Be to prevent oxidation during dissolution. Also, other elements do not particularly adversely affect far-infrared radiation characteristics as long as the total amount is about 1% by weight or less.

【0037】次に、前述のようなAl-Mn系あるいは
Al-Si系のAl合金2の基材の表面に陽極酸化処理
を施せば、その陽極酸化皮膜3は優れた遠赤外線特性を
示す。即ち、陽極酸化処理時には、Al-Mn系Al合
金の基材の場合はAl-Mn系金属間化合物の析出粒子
が、また、Al-Si系Al合金の場合は金属Si粒子
がいずれも皮膜中にそのまま残存した状態で陽極酸化皮
膜3が成長する。そのため、皮膜中のポアの成長がAl
-Mn系金属間化合物粒子もしくは金属Si粒子に妨げ
られ、枝別れした微細なポアを有する多孔質の皮膜が生
成される。更に、陽極酸化皮膜3中にそのまま残存して
分散している微細なポアが入射光を散乱吸収し、遠赤外
線の放射特性も良好となる。
Next, if the surface of the Al-Mn-based or Al-Si-based Al alloy 2 substrate is anodized, the anodized film 3 exhibits excellent far-infrared characteristics. That is, at the time of the anodizing treatment, in the case of the base material of the Al-Mn-based Al alloy, precipitated particles of the Al-Mn-based intermetallic compound, and in the case of the Al-Si-based Al alloy, the metal Si particles are all contained in the film. The anodic oxide film 3 grows as it is. Therefore, the growth of pores in the film
A porous film having fine branched pores is generated, being hindered by -Mn-based intermetallic compound particles or metal Si particles. Further, fine pores which remain and disperse as they are in the anodic oxide film 3 scatter and absorb the incident light, and the radiation characteristics of far-infrared rays are improved.

【0038】ところで、前述したAlあるいはAl合金
2からなる基材に機械的粗面化処理を施した後に陽極酸
化処理を施すと、基材表面の表面粗さの値がそのまま陽
極酸化皮膜3の表面粗さに表われることとなる。よっ
て、基材表面を平均粗さ0.5〜5μm、最大粗さ5〜
50μmに粗面化することにより、得られた陽極酸化皮
膜3の表面粗さも平均粗さ0.5〜5μm、最大粗さ5
〜50μmに粗面化されることになる。
When the anodic oxidation treatment is performed after the mechanical roughening treatment of the substrate made of Al or Al alloy 2 described above, the surface roughness value of the substrate surface is maintained as it is. It will appear in the surface roughness. Therefore, the average roughness of the substrate surface is 0.5 to 5 μm and the maximum roughness is 5 to 5 μm.
By roughening the surface to 50 μm, the surface roughness of the obtained anodic oxide film 3 is also 0.5 to 5 μm in average roughness and 5 μm in maximum roughness.
It will be roughened to 5050 μm.

【0039】上述の太陽熱吸収板1によれば、Alまた
はAl合金2の表面に、微細な凹凸を有する陽極酸化皮
膜3が形成されており、この陽極酸化皮膜3は、3〜3
0μmの波長領域における遠赤外線の全放射特性が70
%以上と高い特性を有し、遠赤外線と熱との変換効率が
高いので、太陽光に含まれる遠赤外線をより効率よく吸
収することができる。また、この陽極酸化皮膜3は、可
視光線の吸収係数も高く、上述の遠赤外線吸収能と併せ
て、太陽光の大部分の波長の光を吸収することが可能と
なるので、太陽光照射により発生する熱量を大幅に増大
させることが可能となり、太陽光を有効に利用できる。
また、陽極酸化皮膜3の表面には、微細な凹凸が形成さ
れているために、見かけ上の表面積が増大され、また、
複雑な凹凸と複雑に枝別れしたポアとが形成され、入射
する太陽光に対する散乱吸収率を増大させることができ
る。更に、陽極酸化皮膜3の厚さが0.5μm以上であ
るので、充分な遠赤外線放射率が得られる。
According to the above-mentioned solar heat absorbing plate 1, an anodic oxide film 3 having fine irregularities is formed on the surface of Al or Al alloy 2, and this anodic oxide film 3
The total radiation characteristic of far infrared rays in the wavelength region of 0 μm is 70.
% And high conversion efficiency between far infrared rays and heat, so that far infrared rays contained in sunlight can be more efficiently absorbed. In addition, the anodic oxide film 3 has a high absorption coefficient of visible light and, in addition to the above-described far-infrared absorption ability, can absorb light of most wavelengths of sunlight. The amount of generated heat can be greatly increased, and sunlight can be used effectively.
In addition, since fine irregularities are formed on the surface of the anodic oxide film 3, the apparent surface area is increased.
Complicated irregularities and complicatedly branched pores are formed, and the scattering and absorptivity for incident sunlight can be increased. Further, since the thickness of the anodic oxide film 3 is 0.5 μm or more, a sufficient far-infrared emissivity can be obtained.

【0040】上述の太陽熱吸収板1は、陽極酸化皮膜3
の上に透明有機樹脂4が備えられており、この透明有機
樹脂4は、広い波長範囲における光透過性が高く、透明
度にも優れるものであるので、太陽光の大部分の波長領
域の光を透過させることが可能であり、更に、太陽光の
遠赤外線の照射によって太陽熱吸収板1に蓄積された熱
の放出を防ぐことができる。特に、透明有機樹脂4とし
て、ポリメチルメタアクリル酸樹脂等のアクリル樹脂
は、優れた光透過性を有し、熱の放出を防ぐことが可能
である。透明有機樹脂4は、その板材を陽極酸化皮膜3
上に載置したり、フィルム状の透明有機樹脂4をラミネ
ート若しくは焼付け等によって陽極酸化皮膜3上に被着
させることにより、選択吸収膜を備えた太陽熱吸収板1
を簡単に製造できる。
The above-mentioned solar heat absorbing plate 1 has an anodized film 3
The transparent organic resin 4 is provided on the substrate, and the transparent organic resin 4 has high light transmittance in a wide wavelength range and is excellent in transparency. It is possible to transmit the heat, and furthermore, it is possible to prevent the release of the heat accumulated in the solar heat absorbing plate 1 due to the irradiation of the far infrared rays of the sunlight. In particular, an acrylic resin such as a polymethyl methacrylate resin as the transparent organic resin 4 has excellent light transmittance, and can prevent the release of heat. The transparent organic resin 4 is made of an anodized film 3
The solar heat absorbing plate 1 provided with the selective absorption film is placed on the anodic oxide film 3 by being mounted on the anodic oxide film 3 by laminating or baking the film-shaped transparent organic resin 4 or the like.
Can be easily manufactured.

【0041】上述の太陽熱吸収板1のAl合金は、Mn
を0.3〜4.3重量%含有したものであり、Al-M
n系金属間化合物が生成され、このAl-Mn系金属間
化合物の粒子が分散された状態で陽極酸化皮膜3中に含
有されているので、入射光が散乱吸収されやすくなり、
遠赤外線の放射特性を向上させることができる。
The Al alloy of the solar heat absorbing plate 1 is Mn
Containing 0.3 to 4.3% by weight of Al-M
Since the n-based intermetallic compound is generated and the particles of the Al-Mn-based intermetallic compound are contained in the anodic oxide film 3 in a dispersed state, the incident light is easily scattered and absorbed,
The radiation characteristics of far infrared rays can be improved.

【0042】[0042]

【実施例】大きさ10cm×15cm、厚さ0.4mm
のAl板(JIS1100品)の一面に2μmの陽極酸
化皮膜を形成し、ブラックニッケルを陽極酸化皮膜に均
一に充填して下地材を得た。また、大きさ10cm×1
5cm、厚さ0.5mmのAl6Mnの微小な金属間化
合物が析出したAl合金板(Mnを2重量%含有するA
l合金)の一面に、多孔質酸化皮膜である厚さ10μm
の陽極酸化皮膜を形成して別の下地材を得た。 更に、
Al6Mnの微小な金属間化合物が析出した大きさ10
cm×15cm、厚さ0.5mmのAl板の一面に、多
孔質酸化皮膜である厚さ25μmの陽極酸化皮膜を形成
して別の下地材を得た。陽極酸化皮膜は、アルミニウム
板の表面にアルミナ粒子を吹き付けてブラスト処理を行
い、その後20重量%の硫酸浴中において陽極酸化処理
することにより形成した。上述のそれぞれの下地材に、
上地材として2mmの板ガラス、2mmの透明なPMM
Aの板、2mmの透明なポリ塩化ビニル樹脂(PVC)
の板、12μmの透明なPMMAのフィルム、20μm
の透明なPMMAのフィルムを重ね合わせることによ
り、実施例1〜6及び比較例1〜12の太陽熱吸収板を
作製した。12μm及び20μmのPMMAのフィルム
は、焼付けにより下地材上に被着した。それ以外の上地
材は単に下地材に重ね合わせた。また、下地材のみのも
のも太陽熱吸収板とした。
[Example] Size: 10cm x 15cm, thickness: 0.4mm
A 2 μm anodic oxide film was formed on one surface of an Al plate (JIS 1100 product), and black nickel was uniformly filled in the anodic oxide film to obtain a base material. In addition, size 10cm * 1
Al alloy plate having a small intermetallic compound of Al 6 Mn with a thickness of 5 cm and a thickness of 0.5 mm (A containing 2% by weight of Mn)
alloy) on one side, a porous oxide film thickness of 10 μm
To form another base material. Furthermore,
Size at which minute intermetallic compound of Al 6 Mn is precipitated 10
A 25 μm-thick anodic oxide film as a porous oxide film was formed on one surface of an Al plate having a size of cm × 15 cm and a thickness of 0.5 mm to obtain another base material. The anodic oxide film was formed by spraying alumina particles on the surface of the aluminum plate to perform blast treatment, and then performing anodic oxidation treatment in a 20% by weight sulfuric acid bath. For each of the above base materials,
2mm sheet glass as transparent material, 2mm transparent PMM
A plate, 2mm transparent polyvinyl chloride resin (PVC)
Plate, 12 μm transparent PMMA film, 20 μm
The transparent heat-absorbing plates of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 12 were produced by superposing the transparent PMMA films. 12 μm and 20 μm films of PMMA were applied to the substrate by baking. The other top materials were simply superimposed on the base material. In addition, only the base material was used as the solar heat absorbing plate.

【0043】これらの太陽熱吸収板の日照面の裏側にテ
ープ型熱電対を貼り付けた後に、日照面(陽極酸化皮膜
を形成させた面)を太陽の日射方向に向けて、45゜の
角度に傾けて太陽光を照射させつつ、太陽熱吸収板の温
度を測定した。測定は、晴天日の屋外にて8時から16
時までの間(8時間)に、15分間隔で太陽熱吸収板の
温度を記録した。表1に記録した全ての温度値の平均値
を示す。また、10時30分〜12時15分の間の実施
例3(陽極酸化皮膜(25μm)+ポリメチルメタアク
リル酸樹脂板(2mm))と比較例11(ブラックニッ
ケル付陽極酸化皮膜(2μm))の太陽熱吸収板の温度
変化を図2に示す。
After attaching a tape-type thermocouple to the back side of the sunshine surface of these solar heat absorbing plates, the sunshine surface (the surface on which the anodized film was formed) was oriented at an angle of 45 ° toward the sun's solar radiation direction. The temperature of the solar heat absorbing plate was measured while irradiating the solar light at an angle. Measurements were taken from 8:00 to 16 outdoors on a sunny day.
Until the hour (8 hours), the temperature of the solar thermal absorber was recorded at 15 minute intervals. Table 1 shows the average of all the temperature values recorded. In addition, Example 3 (anodized film (25 μm) + polymethyl methacrylate resin plate (2 mm)) and Comparative Example 11 (anodized film with black nickel (2 μm) between 10:30 and 12:15) FIG. 2 shows the change in temperature of the solar heat absorbing plate of FIG.

【0044】[0044]

【表1】 [Table 1]

【0045】表1において、実施例1〜実施例6の太陽
熱吸収板は、比較例1〜11の太陽熱吸収板よりも、温
度が高くなっていることがわかる。また、表1において
は、比較例12の太陽光吸収板は、実施例1〜4の太陽
光吸収板とほぼ同等の温度を示す。しかし、図2におい
て、実施例4の太陽熱吸収板は、温度の変動が小さく、
比較的安定しているのに対して、比較例12の太陽熱吸
収板は、温度の変動が大きく、日照時間、日照状態、通
風状態等の気象条件に大きく影響されることがわかる。
In Table 1, it can be seen that the solar heat absorbing plates of Examples 1 to 6 have higher temperatures than the solar heat absorbing plates of Comparative Examples 1 to 11. In addition, in Table 1, the solar light absorbing plates of Comparative Example 12 show almost the same temperature as the solar light absorbing plates of Examples 1 to 4. However, in FIG. 2, the solar heat absorbing plate of Example 4 has a small temperature fluctuation,
While relatively stable, the solar heat absorbing plate of Comparative Example 12 has a large fluctuation in temperature and is greatly affected by weather conditions such as sunshine duration, sunshine state, and ventilation state.

【0046】[0046]

【発明の効果】本発明の太陽熱吸収板は、AlまたはA
l合金の表面に、微細な凹凸を有する厚さが0.5μm
以上の陽極酸化皮膜が形成されており、太陽光に含まれ
る遠赤外線をより効率よく吸収すると共に、可視光線の
吸収効率が高く、太陽光の大部分の波長の光を吸収する
ことが可能となるので、太陽光照射により発生する熱量
を大幅に増大させることが可能となり、太陽光を有効に
利用することができる。また、微細な凹凸によって見か
け上の表面積が増大され、また、複雑な凹凸と複雑に枝
別れしたポアとが形成されているので、入射する太陽光
に対する散乱吸収率を増大させ、遠赤外線の吸収を更に
増大させることができる。
The solar heat absorbing plate of the present invention is made of Al or A
0.5μm thickness with fine irregularities on the surface of the alloy
With the above anodic oxide film formed, it can absorb far-infrared rays contained in sunlight more efficiently, has high absorption efficiency of visible light, and can absorb light of most wavelengths of sunlight. Therefore, the amount of heat generated by sunlight irradiation can be greatly increased, and sunlight can be used effectively. In addition, the fine irregularities increase the apparent surface area, and the complex irregularities and the complicatedly branched pores are formed, thereby increasing the scattering and absorption of incident sunlight and absorbing far infrared rays. Can be further increased.

【0047】上述の太陽熱吸収板は、陽極酸化皮膜の上
に、光透過性が高く、透明度にも優れる透明有機樹脂が
備えられており、太陽光の大部分の波長領域の光を透過
させ、更に、太陽光の遠赤外線の照射によって太陽熱吸
収板に蓄積された熱の放出を防ぐことにより、気象条件
の変化による太陽熱吸収板の温度の変動を防ぐことがで
きる。従って、本発明に係る太陽光吸収板をソーラーコ
レクター等に使用した場合は、強化ガラスを設置しなく
とも気象条件によらずに水温を安定に維持させることが
できるので、強化ガラスを備える必要がなく、ソーラー
コレクターの低価格化と軽量化を図ることができる。
The above-mentioned solar heat absorbing plate is provided with a transparent organic resin having high light transmittance and excellent transparency on the anodic oxide film, and transmits light in most of the wavelength region of sunlight. Further, by preventing the release of heat accumulated in the solar heat absorbing plate due to the irradiation of the far infrared rays of sunlight, it is possible to prevent the temperature of the solar heat absorbing plate from fluctuating due to a change in weather conditions. Therefore, when the solar absorbing plate according to the present invention is used for a solar collector or the like, the temperature of the water can be stably maintained regardless of weather conditions without installing tempered glass. Therefore, the cost and weight of the solar collector can be reduced.

【0048】また、本発明の上述の太陽熱吸収板のAl
合金は、Mnを0.3〜4.3重量%含有し、Al-M
n系金属間化合物が生成され、このAl-Mn系金属間
化合物の粒子が分散された状態で陽極酸化皮膜中に含有
されているので、入射光が散乱吸収されやすくなり、遠
赤外線の吸収を向上させることができる。
Further, the above-mentioned solar heat absorbing plate of the present invention
The alloy contains 0.3 to 4.3% by weight of Mn, and Al-M
Since an n-based intermetallic compound is generated and the particles of the Al-Mn-based intermetallic compound are contained in a dispersed state in the anodic oxide film, incident light is easily scattered and absorbed, and absorption of far infrared rays is reduced. Can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の実施の形態である太陽熱吸収板を示
す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing a solar heat absorbing plate according to an embodiment of the present invention.

【図2】 太陽熱吸収板の温度の経時変化を示すグラフ
である。
FIG. 2 is a graph showing the change over time in the temperature of a solar heat absorbing plate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 太陽熱吸収板 2 AlまたはAl合金 3 陽極酸化皮膜 4 透明有機樹脂 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Solar heat absorption plate 2 Al or Al alloy 3 Anodized film 4 Transparent organic resin

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 裕 東京都江東区木場1丁目5番1号 株式会 社フジクラ内 (72)発明者 高原 克二 東京都江東区木場1丁目5番1号 株式会 社フジクラ内 (72)発明者 馬場 規泰 東京都江東区木場1丁目5番1号 株式会 社フジクラ内 (72)発明者 岡田 宏 東京都江東区木場1丁目5番1号 株式会 社フジクラ内 (72)発明者 岩泉 泰 東京都江東区木場1丁目5番1号 株式会 社フジクラ内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Hiroshi Ito 1-5-1, Kiba, Koto-ku, Tokyo Inside Fujikura Co., Ltd. (72) Katsuji Takahara 1-1-1, Kiba, Koto-ku, Tokyo Stock Inside Fujikura Corporation (72) Inventor Noriyoshi Baba 1-5-1 Kiba, Koto-ku, Tokyo Inside Fujikura Corporation (72) Inventor Hiroshi Okada 1-15-1 Kiba, Koto-ku, Tokyo Fujikura Corporation (72) Inventor Yasushi Iwaizumi Fujikura Co., Ltd., 1-1-1, Kiba, Koto-ku, Tokyo

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 AlまたはAl合金の表面に、微細な凹
凸を有する陽極酸化皮膜が形成され、更に、前記陽極酸
化皮膜の表面に透明な有機樹脂が備えられ、前記陽極酸
化皮膜の厚さが0.5〜45μmであることを特徴とす
る太陽熱吸収板。
An anodic oxide film having fine irregularities is formed on the surface of Al or an Al alloy, and a transparent organic resin is provided on the surface of the anodic oxide film. A solar heat absorbing plate having a thickness of 0.5 to 45 μm.
【請求項2】 請求項1に記載の太陽熱吸収板であっ
て、前記透明有機樹脂がアクリル樹脂であることを特徴
とする太陽熱吸収板。
2. The solar heat absorbing plate according to claim 1, wherein said transparent organic resin is an acrylic resin.
【請求項3】 請求項1または請求項2に記載の太陽熱
吸収板であって、前記Al合金が、Mnを0.3〜4.
3重量%含有し、残部Alおよび不可避不純物からなる
ことを特徴とする太陽熱吸収板。
3. The solar heat absorbing plate according to claim 1, wherein the Al alloy has a Mn of 0.3 to 4.0.
A solar heat absorbing plate containing 3% by weight, the balance being Al and unavoidable impurities.
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