JPH1152873A - Computer display - Google Patents
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- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 claims abstract description 32
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 26
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 12
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 11
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 claims description 19
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 15
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 9
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 claims description 8
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 8
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 6
- 238000011109 contamination Methods 0.000 abstract description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 70
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- BGPVFRJUHWVFKM-UHFFFAOYSA-N N1=C2C=CC=CC2=[N+]([O-])C1(CC1)CCC21N=C1C=CC=CC1=[N+]2[O-] Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=[N+]([O-])C1(CC1)CCC21N=C1C=CC=CC1=[N+]2[O-] BGPVFRJUHWVFKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、パーソナルコンピ
ュータ（以下、パソコンと略す）、ワードプロセッサ等
のコンピュータのディスプレイに関し、更に詳述する
と、表示部表面に防汚効果を付与したコンピュータディ
スプレイに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display of a computer such as a personal computer (hereinafter abbreviated as a personal computer) and a word processor, and more particularly, to a computer display having a display unit surface provided with an antifouling effect.
【０００２】[0002]
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】コンピ
ュータディスプレイの表示部は、その表面が埃、指紋な
どによって汚れ易く、鮮明な画面を得るためには、頻繁
に汚れを除去することが必要であるが、このような表示
部表面に対する汚染を少なくすることができれば、使用
者にとって便利である。2. Description of the Related Art The display portion of a computer display is easily stained by dust, fingerprints and the like, and it is necessary to frequently remove the stain in order to obtain a clear screen. However, if it is possible to reduce such contamination on the display unit surface, it is convenient for the user.
【０００３】本発明は上記事情に鑑みなされたもので、
表示部に防汚効果を施したコンピュータディスプレイを
提供することを目的とする。[0003] The present invention has been made in view of the above circumstances,
It is an object of the present invention to provide a computer display in which a display unit has an antifouling effect.
【０００４】[0004]
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明は、上記目的を達成するため、 請求項１：表示部の表面に光触媒膜が形成されてなるこ
とを特徴とするコンピュータディスプレイ 請求項２：光触媒膜が表示部表面に直接形成された請求
項１記載のコンピュータディスプレイ 請求項３：基材の一面に直接又は下地膜を介して光触媒
膜を形成すると共に、基材の他面に粘着剤層を形成した
光触媒フィルムの上記粘着剤層を表示部表面に貼着する
ことにより、光触媒膜が表示部表面に形成された請求項
１記載のコンピュータディスプレイ 請求項４：光触媒膜が、互いに対向するターゲット間の
スパッタ空間の側方に基材を配置し、該基材上にスパッ
タ膜を形成する対向ターゲット式スパッタリング法にて
酸素分子を有するガスを含有する不活性ガス中でリアク
ティブスパッタリングを行うことによって得られた金属
酸化物膜からなるものである請求項１乃至３のいずれか
１項記載のコンピュータディスプレイ 請求項５：光触媒膜が酸化チタン膜である請求項１乃至
４のいずれか１項記載のコンピュータディスプレイを提
供する。Means for Solving the Problems and Embodiments of the Invention In order to achieve the above object, the present invention provides a computer display characterized in that a photocatalytic film is formed on a surface of a display unit. Item 2: The computer display according to claim 1, wherein the photocatalytic film is formed directly on the surface of the display unit. Item 3: The photocatalytic film is formed directly on one surface of the base material or via a base film, and on the other surface of the base material. The computer display according to claim 1, wherein the photocatalyst film is formed on the surface of the display unit by attaching the pressure-sensitive adhesive layer of the photocatalyst film on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed, to the surface of the display unit. A base material is arranged on the side of a sputtering space between opposed targets, and a gas containing oxygen molecules is contained by a facing target type sputtering method for forming a sputtered film on the base material. The computer display according to any one of claims 1 to 3, wherein the computer display comprises a metal oxide film obtained by performing reactive sputtering in an inert gas. A computer display according to any one of claims 1 to 4 is provided.
【０００５】本発明によれば、表示部表面に酸化チタン
等の光触媒膜が形成されているので、この表面光触媒膜
に埃、指紋等の汚れが付着しても、室内光、ディスプレ
イからの紫外光などの光照射で光触媒が励起し、表面の
光触媒膜に付着した各種汚れが分解除去され、これによ
って汚染が可及的に防止されるものである。According to the present invention, since a photocatalyst film such as titanium oxide is formed on the surface of the display unit, even if dirt such as dust and fingerprints adhere to the surface photocatalyst film, room light and ultraviolet light from the display can be used. The photocatalyst is excited by irradiation with light or the like, and various dirt attached to the photocatalyst film on the surface is decomposed and removed, thereby preventing contamination as much as possible.
【０００６】この場合、光触媒膜としては、スパッタリ
ング法等によって形成し得るが、特に対向ターゲット式
スパッタリング法により光触媒膜、特に酸化チタン膜を
作製すること、好ましくは不活性ガスと酸素分子を有す
るガスからの酸素ガスとの容量比を２：１〜１：３とし
てスパッタリングを行うこと、更に好ましくはターゲッ
トに対する投入パワーを高くして成膜することが高活性
化の点で有効である。In this case, the photocatalyst film can be formed by a sputtering method or the like. In particular, a photocatalyst film, particularly a titanium oxide film, is preferably produced by a facing target type sputtering method, preferably a gas containing an inert gas and oxygen molecules. It is effective from the viewpoint of high activation to perform sputtering by setting the volume ratio to oxygen gas from 2: 1 to 1: 3, and more preferably to increase the input power to the target to form a film.
【０００７】即ち、対向ターゲット式スパッタリング法
は、特公昭６２−５６５７５号、同６３−２０３０４
号、特公平３−１８１０号公報等で公知の手法であり、
対向ターゲット式スパッタリング法で垂直磁気記録薄膜
などを成膜している。そして、この方法によれば、結晶
性の良好な膜を形成し得ることが記載されている。That is, the facing target type sputtering method is disclosed in JP-B-62-56575 and JP-B-63-20304.
No. 3-1810, etc.
A perpendicular magnetic recording thin film or the like is formed by a facing target type sputtering method. It is described that this method can form a film having good crystallinity.
【０００８】ところで、触媒活性が高い酸化チタン膜を
得るためにはアナターゼ型の結晶系がリッチである必要
があるが、酸化チタンの成膜に当り、種々の方法で結晶
性の高い薄膜を形成することはできるものの、得られた
結晶系はルチル型のものが多いため、光触媒効果が低い
ものである。ところが、対向ターゲット式スパッタリン
グ法により酸化チタンを成膜した場合、低温でアナター
ゼリッチの光触媒膜を作製することができ、特にアルゴ
ンガスと酸素ガスとの比率を上記の比率とすることによ
り、アナターゼ型結晶がよりリッチな光触媒膜を形成し
得ること、また、投入パワーを高くすることで膜質を粗
くし、表面積を大きくすることができるので、触媒活性
をより高くし得るものである。By the way, in order to obtain a titanium oxide film having high catalytic activity, it is necessary that the anatase type crystal system is rich. However, in forming the titanium oxide film, a thin film having high crystallinity is formed by various methods. However, since the obtained crystal systems are often rutile type, the photocatalytic effect is low. However, when titanium oxide is formed by a facing target sputtering method, an anatase-rich photocatalytic film can be produced at a low temperature. In particular, by setting the ratio of argon gas to oxygen gas to the above ratio, anatase type It is possible to form a photocatalytic film in which the crystal is richer, and to increase the input power to make the film quality coarser and to increase the surface area, so that the catalytic activity can be further increased.
【０００９】以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明のコンピュータディスプレイは、図１に示すよう
に、ディスプレイ本体２０の表示部３０上に光触媒膜を
好ましくは０．０５〜５μｍ程度、特に０．３〜１μｍ
程度形成してなるものであるが、光触媒膜は、表示部３
０上に直接形成されていても、或いは図２に示すような
光触媒フィルム１０を表示部３０上に貼着することによ
って形成されていてもよい。Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
In the computer display of the present invention, as shown in FIG.
The photocatalyst film is formed on the display unit 3.
0, or may be formed by attaching a photocatalytic film 10 as shown in FIG.
【００１０】ここで、光触媒フィルム１０は、図２にそ
の一例を示したように、基材１１の一面に下地膜１２を
介して光触媒膜１３を形成すると共に、基材１１の他面
に粘着剤層１４を形成し、必要により、剥離フィルム１
５を剥離可能に貼着したものである。なお、この光触媒
フィルム１０は、剥離フィルム１５を除いて、全体とし
て透明に形成することが好ましい。As shown in FIG. 2, the photocatalyst film 10 has a photocatalyst film 13 formed on one surface of a substrate 11 via a base film 12 and an adhesive film on the other surface of the substrate 11. Agent layer 14 and, if necessary, release film 1
5 is releasably attached. It is preferable that the photocatalyst film 10 be entirely transparent except for the release film 15.
【００１１】上記基材としては、透明プラスチックフィ
ルムが好ましく、例えばポリエステル、アクリル樹脂、
セルロース樹脂、ポリカーボネートなどのフィルムを用
いることができる。その厚さは、特に限定されないが、
通常１０〜３００μｍ、特に２０〜１００μｍである。The substrate is preferably a transparent plastic film, for example, polyester, acrylic resin,
A film of cellulose resin, polycarbonate, or the like can be used. The thickness is not particularly limited,
Usually, it is 10 to 300 μm, especially 20 to 100 μm.
【００１２】下地膜は、必要により省略し得るが、基材
としてプラスチックフィルムを用いた場合、その劣化を
防ぐため、下地膜を形成することが望ましい。下地膜と
しては、ＳｉＯ2、ＳｎＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＩＴＯなどの光
触媒能を有さない透明酸化物のほか、透明の金属硫化
物、窒化物、ホウ化物、炭化物等の光によって劣化し難
いものが好適である。この下地膜の厚さも適宜選定され
るが、通常１０Å〜５μｍ、特に２０Å〜１μｍであ
り、これら下地膜は、スパッタリング法、真空蒸着法等
の気相めっき法、その他の適宜手段で形成することがで
きる。The base film can be omitted if necessary. However, when a plastic film is used as the base material, it is desirable to form the base film in order to prevent its deterioration. The base film is made of a transparent oxide having no photocatalytic ability, such as SiO 2 , SnO 2 , Al 2 O 3 , and ITO, and is deteriorated by light such as transparent metal sulfide, nitride, boride, and carbide. Difficult ones are preferred. The thickness of the base film is also appropriately selected, but is usually 10 to 5 μm, particularly 20 to 1 μm. Can be.
【００１３】一方、上記粘着剤層は、アクリル系、エポ
キシ系等の公知の粘・接着剤、或いはエチレン−酢酸ビ
ニル共重合体に有機過酸化物もしくは光開始剤を添加し
て熱もしくは光架橋型の粘・接着剤にて形成することが
できる。なお、その厚さは、通常１〜５００μｍ、特に
５〜１００μｍである。On the other hand, the pressure-sensitive adhesive layer is formed by adding an organic peroxide or a photoinitiator to a known adhesive or adhesive such as an acrylic or epoxy resin, or an ethylene-vinyl acetate copolymer, and heat or photocrosslinking. It can be formed with a mold viscous / adhesive. The thickness is usually 1 to 500 μm, particularly 5 to 100 μm.
【００１４】また、剥離フィルムとしては、公知のもの
を使用することができる。As the release film, a known release film can be used.
【００１５】この光触媒フィルム１０は、剥離フィルム
１５を除去し、上記粘着剤層１４を表示部３０に貼着す
ることによって使用される。The photocatalyst film 10 is used by removing the release film 15 and attaching the pressure-sensitive adhesive layer 14 to the display unit 30.
【００１６】本発明において、光触媒膜としては、光触
媒活性を有するチタン、亜鉛、タングステン、鉄等の金
属酸化物によって形成することができる。その形成法は
特に制限されないが、酸素分子を有するガスを含有する
不活性ガス中で金属ターゲットを用いてリアクティブス
パッタリングを行うことによって形成することが好まし
い。In the present invention, the photocatalytic film can be formed of a metal oxide having photocatalytic activity, such as titanium, zinc, tungsten, and iron. The formation method is not particularly limited, but is preferably formed by performing reactive sputtering using a metal target in an inert gas containing a gas having oxygen molecules.
【００１７】ここで、スパッタリングは公知の方法にて
行うことができ、通常のマグネトロンスパッタリング法
等にて形成することができるが、特に対向ターゲット式
スパッタリング法を採用することが好ましい。Here, the sputtering can be performed by a known method, and can be formed by a usual magnetron sputtering method or the like, but it is particularly preferable to adopt a facing target type sputtering method.
【００１８】この対向ターゲット式スパッタリング装置
としては、公知の装置を用いることができ、例えば図３
に示す装置を使用し得る。即ち、図３において、１は内
部を脱気真空可能な装置本体で、この装置本体１内に一
対の金属ターゲット２，２が互いに所定間隔離間対向し
て配置されたものである。これらターゲット２，２は、
それぞれ支持部３ａ，３ａを有するホールド３，３に保
持され、これらホールド３，３を介して直流電源（スパ
ッタ電源）４の陰極に接続されていると共に、上記ター
ゲット２，２の背後に磁石５，５が互いに異なる磁極が
対向するように配置され、上記ターゲット２，２間のス
パッタ空間６にターゲット２，２に対して垂直方向の磁
界が発生するようになっている。そして、上記スパッタ
空間６の側方には、スパッタ膜を形成すべき基板７が配
置されたものである。なお、８は基板７を所定方向に移
動可能に支持する支持部材である。As the facing target type sputtering apparatus, a known apparatus can be used.
The following apparatus can be used. That is, in FIG. 3, reference numeral 1 denotes an apparatus main body whose inside can be evacuated and evacuated. These targets 2 and 2
Holders 3, 3 having supporting portions 3 a, 3 a, respectively, are connected to a cathode of a DC power source (sputter power source) 4 via the holders 3, 3, and a magnet 5 is provided behind the targets 2, 2. , 5 are arranged such that different magnetic poles are opposed to each other, and a magnetic field perpendicular to the targets 2 is generated in the sputtering space 6 between the targets 2. A substrate 7 on which a sputtered film is to be formed is arranged on the side of the sputtering space 6. Reference numeral 8 denotes a support member that supports the substrate 7 so as to be movable in a predetermined direction.
【００１９】上記のような装置を用いてスパッタリング
を行い、基板上に光触媒膜を形成するに際し、使用する
金属ターゲットとしては、光触媒作用を有する金属酸化
物ＭｅＯx（ＭｅはＡｌ，Ｃｏ，Ｃｕ，Ｆｅ，Ｉｎ，Ｍ
ｇ，Ｓｎ，Ｔｉ，Ｚｎ等の金属を示し、ｘは金属の種類
によって異なるが、０〜１０、好ましくは０〜５の範囲
の正数であり、ｘは必ずしも金属の価数に相当していな
くてもよい）を得るための金属酸化物に対応した金属が
選定されるが、特には酸化チタン膜を形成するチタンが
好ましい。When a photocatalyst film is formed on a substrate by performing sputtering using the above-described apparatus, a metal oxide having photocatalytic action MeO x (Me is Al, Co, Cu, Fe, In, M
represents a metal such as g, Sn, Ti, Zn, etc., and x is a positive number in the range of 0 to 10, preferably 0 to 5, and x necessarily corresponds to the valence of the metal, although it varies depending on the type of the metal. The metal corresponding to the metal oxide for obtaining the metal oxide may be selected, but titanium that forms a titanium oxide film is particularly preferable.
【００２０】また、上記スパッタリングを行う上で真空
度は０．１〜１００ｍＴｏｒｒ、特に１〜３０ｍＴｏｒ
ｒとした後、不活性ガスと酸素分子を有するガスが導入
される。ここで、上記スパッタ空間に供給される酸素分
子を有するガス（酸化性ガス）としては、公知のガスを
使用することができ、具体的には、酸素、オゾン、空
気、水等が挙げられ、通常は酸素が用いられる。また、
不活性ガスとしては、ヘリウム、アルゴンなどを用いる
ことができ、特に工業的に安価なアルゴンが好適に使用
し得る。In performing the above sputtering, the degree of vacuum is 0.1 to 100 mTorr, particularly 1 to 30 mTorr.
After r, a gas containing an inert gas and oxygen molecules is introduced. Here, as the gas containing oxygen molecules (oxidizing gas) supplied to the sputtering space, a known gas can be used, and specific examples thereof include oxygen, ozone, air, and water. Usually, oxygen is used. Also,
Helium, argon, or the like can be used as the inert gas, and industrially inexpensive argon can be suitably used.
【００２１】この場合、不活性ガスと酸素分子を有する
ガスとは、不活性ガスと酸素ガスとの比率が２：１〜
１：３、特に１．５：１〜１：２（容量比）となるよう
に導入することが好ましい。これにより酸化チタンを成
膜する場合は高活性のアナターゼ型リッチの酸化チタン
結晶を形成し得る。上記比率を逸脱すると、ルチル型結
晶が多くなるおそれがある。なお、上記ガスの流量は、
チャンバーの大きさ、カソードの数などにより適宜選定
されるが、不活性ガスと酸素分子を有するガスとの合計
量で、通常２〜１０００ｃｃ／ｍｉｎ程度である。In this case, the ratio between the inert gas and the oxygen gas is 2: 1 to 2%.
It is preferable to introduce them in a ratio of 1: 3, particularly 1.5: 1 to 1: 2 (volume ratio). Thereby, when forming a titanium oxide film, a highly active anatase-type rich titanium oxide crystal can be formed. If the ratio is out of the above range, rutile type crystals may increase. The flow rate of the above gas is
Although it is appropriately selected depending on the size of the chamber, the number of cathodes, and the like, the total amount of the inert gas and the gas containing oxygen molecules is usually about 2 to 1000 cc / min.
【００２２】投入電力も適宜選定されるが、高い投入電
力とすることが好ましく、例えば２枚の直径１００ｍｍ
のターゲットを用いた場合、４００ワット以上、特に８
００ワット以上とすることが推奨され、この場合、ター
ゲット面積当りのエネルギー量を１．３Ｗ／ｃｍ2以
上、好ましくは２．６Ｗ／ｃｍ2以上、特に５．１Ｗ／
ｃｍ2以上とすることが推奨され、これにより得られる
光触媒膜の膜質を粗くすると共に、表面積を大きくでき
るので、光触媒膜の性能を更に向上させることができ
る。この場合、供給電力が４００ワット未満、ターゲッ
ト面積当りのエネルギー量が１．３Ｗ／ｃｍ2未満であ
ると、活性の高い光触媒膜を得ることができなくなる場
合がある。The input power is also appropriately selected, but it is preferable to use a high input power.
400 watts or more, especially 8
00 It is recommended to watts, in this case, the amount of energy per target area 1.3 W / cm 2 or more, preferably 2.6 W / cm 2 or more, in particular 5.1 W /
cm 2 or more is recommended, and the resulting photocatalyst film can be made coarser and the surface area can be increased, so that the performance of the photocatalyst film can be further improved. In this case, if the supplied power is less than 400 watts and the amount of energy per target area is less than 1.3 W / cm 2 , a photocatalytic film having high activity may not be able to be obtained.
【００２３】なお、電源は、図示の例では直流電流であ
るが、これに限られず、例えば高周波電源等を使用する
ことができ、また装置の構成も図示の例に限定されるも
のではない。The power supply is a direct current in the illustrated example, but is not limited thereto. For example, a high-frequency power supply or the like can be used, and the configuration of the apparatus is not limited to the illustrated example.
【００２４】更に、スパッタリングのその他の条件は公
知の条件でよく、例えばスパッタリング時の圧力は１ｍ
Ｔｏｒｒ〜１Ｔｏｒｒとし得る。Further, other conditions for sputtering may be known conditions, for example, the pressure during sputtering is 1 m
Torr to 1 Torr.
【００２５】この場合、上記金属酸化物膜表面に、公知
のイオン注入方法、装置にて白金、ニッケル、クロム、
コバルト、錫、ニオブ、タンタル等の金属イオンを１×
１０15〜１×１０18個／ｃｍ2程度イオン注入すること
ができ、これによって光触媒膜をより高活性に形成する
ことができる。In this case, platinum, nickel, chromium,
1 × metal ions such as cobalt, tin, niobium, tantalum
About 10 15 to 1 × 10 18 ions / cm 2 can be implanted, whereby the photocatalytic film can be formed with higher activity.
【００２６】また、本発明において、光触媒膜１３は、
図４に示したように、上記のようにして形成される金属
酸化物膜１３ａと白金、ニッケル、クロム、コバルト、
錫、ニオブ、タンタルから選ばれる金属又はその酸化物
薄膜１３ｂとが最表面層が金属酸化物膜１３ａとなるよ
うに交互に積層すると共に、最表面層から最下層に達す
る深さの孔又は溝１３ｃを多数形成したものとすること
ができ、これにより光触媒膜１３の比表面積が増大する
と共に、上記金属又はその酸化物薄膜による光触媒膜の
電荷分離促進作用で光触媒活性を更に増大させることが
できる。なお、上記金属酸化物膜１３ａと金属又はその
酸化物薄膜１３ｂとの合計積層数は２〜数十層とするこ
とができ、積層膜１層当りの厚さは２０〜２００Å、特
に２０〜５０Å程度とすることができる。また、上記孔
又は溝は、レーザー等によって形成し得るが、その形状
は図示のＶ字状に限られず、種々選定し得る。孔又は溝
の形成個数も限定されないが、通常０．００１〜５ｍｍ
間隔で形成することができる。In the present invention, the photocatalyst film 13 is
As shown in FIG. 4, the metal oxide film 13a formed as described above and platinum, nickel, chromium, cobalt,
A metal or oxide thin film 13b selected from tin, niobium, and tantalum is alternately stacked so that the outermost layer becomes the metal oxide film 13a, and a hole or groove having a depth from the outermost layer to the lowermost layer is formed. A large number of 13c can be formed, thereby increasing the specific surface area of the photocatalytic film 13 and further increasing the photocatalytic activity by the charge separation promoting action of the photocatalytic film by the metal or its oxide thin film. . The total number of layers of the metal oxide film 13a and the metal or the oxide thin film 13b can be two to several tens of layers, and the thickness per one layer of the laminated film is 20 to 200 °, particularly 20 to 50 °. Degree. The holes or grooves can be formed by a laser or the like, but the shape is not limited to the V-shape shown in the figure, and various shapes can be selected. Although the number of holes or grooves formed is not limited, it is usually 0.001 to 5 mm.
It can be formed at intervals.
【００２７】[0027]
【実施例】以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。EXAMPLES The present invention will be described below in detail with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples.
【００２８】〔実施例１、比較例１〕パソコンディスプ
レイの表示部表面に対向ターゲット式スパッタリング法
により表１に示す条件で直接酸化チタン膜を形成した。Example 1, Comparative Example 1 A titanium oxide film was formed directly on the surface of the display section of a personal computer display by the facing target sputtering method under the conditions shown in Table 1.
【００２９】[0029]
【表１】 [Table 1]
【００３０】上記ディスプレイ及び酸化チタン膜が形成
されていないディスプレイ（比較例１）を装着したパソ
コンを室内で３ヶ月間使用し、表面の汚れの程度を目視
により比較、評価した。結果を表２に示す。A personal computer equipped with the above display and a display having no titanium oxide film (Comparative Example 1) was used indoors for three months, and the degree of surface contamination was visually compared and evaluated. Table 2 shows the results.
【００３１】[0031]
【表２】 [Table 2]
【００３２】〔実施例２、比較例２〕厚さ５０μｍのＰ
ＥＴフィルムの表面に、まず下地膜（ＳｎＯ2）を成膜
し、その上に酸化チタン膜を成膜した。この場合、下地
膜及び酸化チタン膜は、いずれも図３に示す装置を用い
て表３に示す条件で対向ターゲット式スパッタリング法
により行った。その後、ＰＥＴフィルムの裏面に透明の
アクリル系粘着剤層を形成した。Example 2, Comparative Example 2 P having a thickness of 50 μm
First, a base film (SnO 2 ) was formed on the surface of the ET film, and a titanium oxide film was formed thereon. In this case, both the base film and the titanium oxide film were formed by the facing target sputtering method under the conditions shown in Table 3 using the apparatus shown in FIG. Thereafter, a transparent acrylic pressure-sensitive adhesive layer was formed on the back surface of the PET film.
【００３３】[0033]
【表３】 [Table 3]
【００３４】次いで、この光触媒膜の粘着剤層をパソコ
ンディスプレイの表示部表面に貼着した。Next, the pressure-sensitive adhesive layer of the photocatalyst film was adhered to the display surface of a personal computer display.
【００３５】上記ディスプレイ及び酸化チタン膜が形成
されていないディスプレイ（比較例２）を装着したパソ
コンを室内で３ヶ月間使用し、表面の汚れの程度を目視
により比較、評価した。結果を表４に示す。A personal computer equipped with the above display and a display having no titanium oxide film (Comparative Example 2) was used indoors for three months, and the degree of surface contamination was visually compared and evaluated. Table 4 shows the results.
【００３６】[0036]
【表４】 [Table 4]
【００３７】[0037]
【発明の効果】本発明によれば、コンピュータディスプ
レイの表示部表面の汚れを可及的に防止することができ
る。According to the present invention, it is possible to prevent the surface of the display section of the computer display from being stained as much as possible.
【図１】パソコンの一例を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing an example of a personal computer.
【図２】光触媒フィルムの一例を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating an example of a photocatalyst film.
【図３】対向ターゲット式スパッタリング装置の一例を
示す概略図である。FIG. 3 is a schematic view showing an example of a facing target type sputtering apparatus.
【図４】光触媒膜の一例を示す概略断面図である。FIG. 4 is a schematic sectional view showing an example of a photocatalyst film.
１ 装置本体 ２ 金属ターゲット ３ ホールド ３ａ 支持部 ４ 直流電源 ５ 磁石 ６ スパッタ空間 ７ 基板 ８ 支持部材 １０ 光触媒フィルム ２０ ディスプレイ本体 ３０ 表示部 １１ 基材 １２ 下地膜 １３ 光触媒膜 １３ａ 金属酸化物膜 １３ｂ 金属又はその酸化物薄膜 １３ｃ 孔又は溝 １４ 粘着剤層 １５ 剥離フィルム DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Apparatus main body 2 Metal target 3 Hold 3a Support part 4 DC power supply 5 Magnet 6 Sputter space 7 Substrate 8 Support member 10 Photocatalytic film 20 Display main body 30 Display part 11 Base material 12 Base film 13 Photocatalytic film 13a Metal oxide film 13b Metal or metal The oxide thin film 13c Hole or groove 14 Adhesive layer 15 Release film
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０３Ｃ 17/245 Ｃ０３Ｃ 17/245 Ａ // Ｃ２３Ｃ 14/08 Ｃ２３Ｃ 14/08 Ｅ Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification symbol FI C03C 17/245 C03C 17/245 A // C23C 14/08 C23C 14/08 E G02B 1/10 G02B 1/10 Z
Claims (5)
ることを特徴とするコンピュータディスプレイ。1. A computer display having a photocatalyst film formed on a surface of a display unit.
請求項１記載のコンピュータディスプレイ。2. The computer display according to claim 1, wherein the photocatalytic film is formed directly on the surface of the display unit.
触媒膜を形成すると共に、基材の他面に粘着剤層を形成
した光触媒フィルムの上記粘着剤層を表示部表面に貼着
することにより、光触媒膜が表示部表面に形成された請
求項１記載のコンピュータディスプレイ。3. A photocatalyst film is formed on one surface of a substrate directly or via a base film, and the pressure-sensitive adhesive layer of the photocatalyst film having a pressure-sensitive adhesive layer formed on the other surface of the substrate is adhered to the display unit surface. The computer display according to claim 1, wherein the photocatalyst film is formed on the surface of the display unit.
間のスパッタ空間の側方に基材を配置し、該基材上にス
パッタ膜を形成する対向ターゲット式スパッタリング法
にて酸素分子を有するガスを含有する不活性ガス中でリ
アクティブスパッタリングを行うことによって得られた
金属酸化物膜からなるものである請求項１乃至３のいず
れか１項記載のコンピュータディスプレイ。4. A photocatalyst film in which a base material is disposed on the side of a sputtering space between targets facing each other, and a gas containing oxygen molecules is supplied by a facing target type sputtering method in which a sputtered film is formed on the base material. 4. The computer display according to claim 1, comprising a metal oxide film obtained by performing reactive sputtering in a contained inert gas.
乃至４のいずれか１項記載のコンピュータディスプレ
イ。5. The photocatalyst film is a titanium oxide film.
A computer display according to any one of claims 1 to 4.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22200697A JP3702927B2 (en) | 1997-08-04 | 1997-08-04 | Computer display |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22200697A JP3702927B2 (en) | 1997-08-04 | 1997-08-04 | Computer display |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1152873A true JPH1152873A (en) | 1999-02-26 |
| JP3702927B2 JP3702927B2 (en) | 2005-10-05 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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|---|---|
| JP (1) | JP3702927B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001286766A (en) * | 2000-04-11 | 2001-10-16 | Nippon Soda Co Ltd | Photocatalyst-bearing structure body, production method of the same, composition for intermediate layer |
-
1997
- 1997-08-04 JP JP22200697A patent/JP3702927B2/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001286766A (en) * | 2000-04-11 | 2001-10-16 | Nippon Soda Co Ltd | Photocatalyst-bearing structure body, production method of the same, composition for intermediate layer |
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