JPH115219A - Method of molding resin molded article and molded article - Google Patents

Method of molding resin molded article and molded article

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Publication number
JPH115219A
JPH115219A JP9158953A JP15895397A JPH115219A JP H115219 A JPH115219 A JP H115219A JP 9158953 A JP9158953 A JP 9158953A JP 15895397 A JP15895397 A JP 15895397A JP H115219 A JPH115219 A JP H115219A
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JP
Japan
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styrene
group
molding
heat
mold
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Withdrawn
Application number
JP9158953A
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Japanese (ja)
Inventor
Fusaki Fujibayashi
房樹 藤林
Junichi Nakabashi
順一 中橋
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Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Publication of JPH115219A publication Critical patent/JPH115219A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin molded article and a heat resistant tray for IC, which is excellent in the balance among electrical conductivity, heat resistance and heat aging characteristics and, at the same time, excellent in shape stability at elevated temperature. SOLUTION: A resin composition, which includes 1-50 pts.wt. of electrical conductive carbon to 100 pts.wt. of a mixture consisting of 1-99 wt.% of a styrene-based polymer having a syndiotactic stereoregularity and 99-1 wt.% of one or more different polymer except the polymer just mentioned above, is melted at 27-370 deg.C and molded with a mold having a molding cavity, the wall temperature of which covered with an insulating material having a heat conductivity at 20 deg.C of 0.01 ca/cm.sec. deg.C or less is set to be 20-150 deg.C.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、導電性、耐熱性、
耐熱エージング性のバランスに優れ、かつ高温下におけ
る工程でも形状安定性に優れた樹脂成形品およびIC用
耐熱トレーの成形方法に関する。
[0001] The present invention relates to a conductive material, heat-resistant material,
The present invention relates to a resin molded article having an excellent balance of heat aging resistance and excellent shape stability even in a process under a high temperature, and a method of molding a heat resistant tray for IC.

【0002】[0002]

【従来の技術】IC部品は吸湿していると、封入するエ
ポキシ材の硬化のために100℃以上に加熱する際に、
加熱中に内部に水蒸気が発生し、フクレあるいはクラッ
クが生じ破損する。このため、100℃以上の温度であ
らかじめべーキングする。この時、ICの保護のために
108Ω以下の導電性のある材質で作られたICトレー
が用いられる。
2. Description of the Related Art When an IC component absorbs moisture, when it is heated to 100.degree.
During heating, steam is generated inside, causing blisters or cracks and causing breakage. Therefore, baking is performed at a temperature of 100 ° C. or more. At this time, an IC tray made of a conductive material having a resistance of 108Ω or less is used to protect the IC.

【0003】従来、このトレーは、ポリプロピレン樹
脂、アタクティックな立体構造のポリスチレン樹脂等で
作られていたが、近年、生産性向上を目的に温度上昇に
よるべーキング時問の短縮化、及ぴ環境間題から、従来
の使い捨てから再使用化が進められており、より高温タ
イプが求められている。IC部材用成形材料として特開
平2−175754号公報には、熱変形温度が130℃
以上、メルトフローインデックスが3g/10分(JI
S−K7210準拠、300℃、10kg荷重)以上、
成形物の表面抵抗が107Ω以下で、ポリフェニレンエ
ーテル樹脂が少なくとも50重量%以上含まれる成形材
料が提案されている。具体的に、これらの物性を満たす
手段としては、ポリフェニレンエーテル樹脂/導電性カ
ーボンの系に酸イミド化合物を添加するか、または固有
粘度の低いポリフェニレンエーテル樹脂を用いる二つの
方法が提案されている。
Conventionally, this tray has been made of a polypropylene resin, an atactic three-dimensional polystyrene resin, or the like. Due to the problem, reuse from the conventional disposable is being promoted, and a higher temperature type is required. As a molding material for IC members, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-175754 discloses that a heat deformation temperature is 130 ° C.
As described above, the melt flow index was 3 g / 10 min (JI
S-K7210 compliant, 300 ° C, 10kg load) or more,
A molding material having a molded article having a surface resistance of 107Ω or less and containing at least 50% by weight of a polyphenylene ether resin has been proposed. Specifically, as means for satisfying these physical properties, two methods have been proposed in which an acid imide compound is added to a polyphenylene ether resin / conductive carbon system or a polyphenylene ether resin having a low intrinsic viscosity is used.

【0004】また、特開平2−180958号公報で
は、ポリフェニレンエーテル樹脂/導電性カーボンの系
にA−B−A’型水素添加ブロック共重合体エラストマ
ーを添加した樹脂組成物から成形されるIC用耐熱トレ
ーが提案されている。しかしながら、これらの材料は、
高温タイプの1Cトレーに要求される高温での熱エージ
ング性、成形品の剥離等の面が充分に解決されてなく、
また流動性の改良も不充分である。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-180958 discloses an IC for an IC molded from a resin composition obtained by adding an ABA ′ type hydrogenated block copolymer elastomer to a polyphenylene ether resin / conductive carbon system. Heat resistant trays have been proposed. However, these materials
The surface of heat aging at high temperature required for high temperature type 1C tray, peeling of molded products, etc. has not been sufficiently solved,
Also, the improvement of the fluidity is insufficient.

【0005】また、特開平2−283052号公報に
も、同様な提案がある。一方、特開昭63−15262
8号公報には、ポリフェニレンエーテル樹脂を、炭素−
炭素二重結合を有する化合物の存在下、ラジカル発生剤
無添加の状態でポリフェニレンエーテル樹脂のガラス転
移温度以上に溶融混練することにより、色調の優れたポ
リフェニレンエーテル樹脂を製造する方法が提案されて
いる。
[0005] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-285302 has a similar proposal. On the other hand, JP-A-63-15262
No. 8 discloses a polyphenylene ether resin containing carbon-
In the presence of a compound having a carbon double bond, a method for producing a polyphenylene ether resin having an excellent color tone has been proposed by melt-kneading the glass transition temperature of the polyphenylene ether resin or higher in the absence of a radical generator. .

【0006】また、特公昭57−56941号公報に
は、ポリフェニレンエーテル樹脂にスチレン−ブタジエ
ン−スチレンブロック共重合体の水素添加物を加えるこ
とにより、耐衝撃性を改良されることが示されている
が、このものに示されている組成物は、相溶性が充分で
なく剥離の間題があり、流動性の低下等の問題点を有し
ている。
Further, Japanese Patent Publication No. 57-56941 discloses that the impact resistance can be improved by adding a hydrogenated styrene-butadiene-styrene block copolymer to a polyphenylene ether resin. However, the composition shown in this article has problems such as insufficient compatibility, a problem of peeling, and a decrease in fluidity.

【0007】また、特開平2−276823号公報に
は、環化末端基を有するポリフェニレンエーテル樹脂、
及びこの樹脂とポリスチレン系樹脂とからなる樹脂組成
物が提案されている。さらに、特開平4−288363
号公報には、環化末端基を有するポリフェニレンエーテ
ル樹脂、および異なる2種類のビニル芳香族化合物重合
体ブロックとオレフィン化合物重合体ブロックからなる
ブロック共重合体からなる組成物に導電性カーボンを添
加したIC用耐熱トレー材、IC用耐熱トレーが提案さ
れている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-276823 discloses a polyphenylene ether resin having a cyclized terminal group.
Further, a resin composition comprising this resin and a polystyrene resin has been proposed. Further, JP-A-4-288363
In JP-A-2003-189, conductive carbon was added to a composition comprising a polyphenylene ether resin having a cyclized terminal group, and a block copolymer consisting of two different types of vinyl aromatic compound polymer blocks and olefin compound polymer blocks. A heat-resistant tray material for IC and a heat-resistant tray for IC have been proposed.

【0008】しかしながら、これらの提案においても、
IC用耐熱トレーとして必要な特性である導電性、耐熱
性、耐熱エージング性のバランスを十分に満たすことが
出来ないか、満たすことが出来ても高温下での工程にお
ける形状安定性を満足することが出来ていない。
However, even in these proposals,
The balance of conductivity, heat resistance, and heat aging, which are the characteristics required for heat-resistant trays for ICs, cannot be sufficiently satisfied, or even if they can be satisfied, the shape stability in high-temperature processes must be satisfied. Is not done.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、導電性、耐
熱性、耐熱エージング性のバランスに優れ、かつ高温下
における工程でも形状安定性に優れた樹脂成形品および
IC用耐熱トレーの成形方法を提供することを目的とす
る。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention relates to a method for forming a resin molded article and a heat resistant tray for ICs, which have an excellent balance between conductivity, heat resistance and heat aging resistance and have excellent shape stability even in a process under a high temperature. The purpose is to provide.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記のような状況に鑑
み、本発明者らは、導電性、耐熱性、耐熱エージング性
のバランスに優れ、かつ高温下で行われる工程において
も形状安定性に優れた樹脂成形品およびIC用耐熱トレ
ーを得るために鋭意検討を行った結果、本発明に至った
ものである。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above-mentioned situation, the present inventors have found that the balance of conductivity, heat resistance, and heat aging resistance is excellent, and that the shape stability is improved even in a process performed at a high temperature. As a result of intensive studies to obtain an excellent resin molded product and a heat resistant tray for IC, the present invention has been achieved.

【0011】すなわち、本発明は、(A)シンジオタク
ティックな立体規則性を有するスチレン系重合体1〜9
9重量%、および、(B)(A)成分以外の一種類以上
の重合体99〜1重量%からなる組成の混合物100重
量部に対して、(C)導電性カーボン1〜50重量部を
含む樹脂組成物を、270〜370℃の範囲で加熱溶融
し、20℃における熱伝導率が0.01cal/cm・
sec・℃以下である断熱材料が被覆された型キャビテ
ィを20〜150℃の温度とし、該型キャビティーを有
する金型を用いて成形することを特徴とする樹脂成形品
およびIC用耐熱トレーの成形方法に関する。
That is, the present invention relates to (A) a styrenic polymer having a syndiotactic stereoregularity of 1 to 9;
9% by weight and 100 parts by weight of a mixture of 99% to 1% by weight of one or more polymers other than the component (B) (A), and 1 to 50 parts by weight of the conductive carbon (C) The resulting resin composition is heated and melted in the range of 270 to 370 ° C, and has a thermal conductivity of 0.01 cal / cm · at 20 ° C.
A resin molded product and a heat-resistant tray for ICs, wherein a mold cavity coated with a heat insulating material having a temperature of not more than sec · ° C. is heated to a temperature of 20 to 150 ° C. and molded using a mold having the mold cavity. It relates to a molding method.

【0012】以下、本発明につき詳述する。本発明に用
いられる(A)シンジオタクティックな立体規則性を有
するスチレン系重合体(以下、シンジオタクティックポ
リスチレンともいう)は、炭素−炭素結合から形成され
る主鎖に対してフェニル基あるいは置換フェニル基が交
互に反対方向に位置する立体構造を有するものであり、
そのタクティシティーは同位体炭素による核磁気共鳴法
(13C−NMR法)により定量される。13C−NM
R法により測定されるタクティシティーは、連続する複
数個の構成単位の存在割合、例えば2個の場合はダイア
ッド、3個の場合はトリアッド、5個の場合はペンタッ
ドによって示すことができる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. The (A) styrenic polymer having syndiotactic stereoregularity (hereinafter also referred to as syndiotactic polystyrene) used in the present invention has a phenyl group or a substituent on a main chain formed from carbon-carbon bonds. A phenyl group having a three-dimensional structure alternately located in the opposite direction,
The tacticity is quantified by nuclear magnetic resonance (13C-NMR) using isotope carbon. 13C-NM
Tacticity measured by the R method can be represented by the existence ratio of a plurality of continuous structural units, for example, a dyad for two, a triad for three, and a pentad for five.

【0013】本発明に言うシンジオタクティックポリス
チレンとは、通常ラセミペンタッドで50%以上、好ま
しくは80%以上さらに好ましくは90%以上のシンジ
オタクティシティーを有する下記一般式(I)
The syndiotactic polystyrene referred to in the present invention is generally a racemic pentad having a syndiotacticity of 50% or more, preferably 80% or more, more preferably 90% or more of the following general formula (I):

【0014】[0014]

【化1】 Embedded image

【0015】(式中、Rは水素原子、ハロゲン原子また
は炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン原
子、セレン原子、ケイ素原子およびスズ原子のいずれか
1種類以上を含む置換基を示し、mは1〜3の整数を示
す。但し、mが複数の時は、各Rは同一でも異なるもの
であっても良い。)で表される芳香族ビニル化合物から
なる重合体あるいはこれらの重合体の水素化重合体であ
る。
(In the formula, R represents a hydrogen atom, a halogen atom or a substituent containing at least one of a carbon atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, a phosphorus atom, a selenium atom, a silicon atom and a tin atom. , M represents an integer of 1 to 3. However, when m is plural, each R may be the same or different.) Or a polymer comprising an aromatic vinyl compound represented by It is a combined hydrogenated polymer.

【0016】ここで使用される好ましい芳香族ビニル化
合物としては、スチレン、α−メチルスチレン、メチル
スチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、タ
ーシャリーブチルスチレン、フェニルスチレン、ビニル
スチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、フルオロ
スチレン、クロロメチルスチレン、メトキシスチレン、
エトキシスチレン等があり、これらは1種または2種以
上で使用される。これらのうちさらに好ましい芳香族ビ
ニル化合物としては、スチレン、p−メチルスチレン、
m−メチルスチレン、p−ターシャリーブチルスチレ
ン、p−クロロスチレン、m−クロロスチレン、p−フ
ルオロスチレンである。
Preferred aromatic vinyl compounds used herein include styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, ethylstyrene, isopropylstyrene, tertiary butylstyrene, phenylstyrene, vinylstyrene, chlorostyrene, bromostyrene, and fluorostyrene. Styrene, chloromethylstyrene, methoxystyrene,
There are ethoxystyrene and the like, which are used alone or in combination of two or more. Among these, more preferred aromatic vinyl compounds include styrene, p-methylstyrene,
m-methylstyrene, p-tert-butylstyrene, p-chlorostyrene, m-chlorostyrene and p-fluorostyrene.

【0017】このシンジオタクティックポリスチレン
は、その分子量については特に制限はないが、一般に、
重量平均分子量が10,000以上、好ましくは50,
000以上である。ここで、重量平均分子量が10,0
00未満のものでは、得られる成形品の熱的性質、機械
的性質が低下する傾向がある。さらに、分子量分布につ
いても広狭の制限はなく、様々のものを充当することが
できる。
This syndiotactic polystyrene is not particularly limited in its molecular weight.
The weight average molecular weight is 10,000 or more, preferably 50,
000 or more. Here, the weight average molecular weight is 10,000.
If it is less than 00, the thermal properties and mechanical properties of the obtained molded article tend to decrease. Furthermore, there is no restriction on the molecular weight distribution, and various types can be applied.

【0018】このようなシンジオタクティックポリスチ
レンは、例えば、特開昭63−268709号公報に開
示されている技術を参考にして製造することができる。
すなわち不活性炭化水素溶媒中または溶媒の不存在下
で、チタン化合物および水とトリアルキルアルミニウム
との縮合化合物であるアルモキサンを触媒として、スチ
レン系単量体をを重合することによって製造することが
できる。
Such syndiotactic polystyrene can be produced, for example, by referring to the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-268709.
That is, it can be produced by polymerizing a styrenic monomer in an inert hydrocarbon solvent or in the absence of a solvent, using alumoxane which is a condensation compound of a titanium compound and water with a trialkylaluminum as a catalyst. .

【0019】また、シンジオタクティックポリスチレン
は極性基を有する変性剤により変性されていてもかまわ
ない。極性基を有する変性剤は特に限定されるものでは
なく、その極性基も特に限定されるものではない。極性
基としては、例えば、酸ハイドライド、カルボニル基、
酸無水物、酸アミド、カルボン酸エステル、酸アジド、
スルフォン基、ニトリル基、シアノ基、イソシアン酸エ
ステル、アミノ基、水酸基、イミド基、チオール基、オ
キサゾリン基、エポキシ基などが挙げられる。特に好ま
しい極性基は酸無水物とエポキシ基であり、酸無水物は
特に無水マレイン酸基が好ましい。
The syndiotactic polystyrene may be modified with a polar group-containing modifying agent. The modifier having a polar group is not particularly limited, and the polar group is not particularly limited. As the polar group, for example, acid hydride, carbonyl group,
Acid anhydrides, acid amides, carboxylic esters, acid azides,
Examples include a sulfone group, a nitrile group, a cyano group, an isocyanate ester, an amino group, a hydroxyl group, an imide group, a thiol group, an oxazoline group, and an epoxy group. Particularly preferred polar groups are an acid anhydride and an epoxy group, and the acid anhydride is particularly preferably a maleic anhydride group.

【0020】本発明に用いる(B)(A)成分以外の一
種類以上の重合体としては、本発明の目的を損なわない
限り、あらゆる種類の熱可塑性樹脂とエラストマーから
一種類以上を選択できる。熱可塑性樹脂としては、特に
制限はない。アタクティックな立体構造のスチレン系重
合体、アイソタクティックな立体構造のスチレン系重合
体、アクリロニトリル−スチレン共重合体(AS樹
脂)、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合
体(ABS樹脂)などのスチレン系共重合体、ポリフェ
ニレンエーテル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポ
リエーテルスルホンなどのポリエーテル系重合体、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート
などのポリエステル系重合体、ポリアミド、ポリフェニ
レンスルフィド、ポリオキシメチレンなどの縮合系重合
体、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリメ
チルメタクリレートなどのアクリル系重合体、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリ4−メチルペ
ンテン−1、エチレン−プロピレン共重合体などのポリ
オレフィン系重合体、あるいはポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデ
ンなどの含ハロゲンビニル化合物などが挙げられる。
As the one or more kinds of polymers other than the components (B) and (A) used in the present invention, one or more kinds can be selected from all kinds of thermoplastic resins and elastomers as long as the object of the present invention is not impaired. There is no particular limitation on the thermoplastic resin. Styrene polymers such as styrene polymers having an atactic three-dimensional structure, styrene polymers having an isotactic three-dimensional structure, acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), and acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin) Copolymers, polyphenylene ether, polycarbonate, polysulfone, polyether polymers such as polyethersulfone, polyethylene terephthalate, polyester polymers such as polybutylene terephthalate, polyamide, polyphenylene sulfide, condensation polymers such as polyoxymethylene, Acrylic polymers such as polyacrylic acid, polyacrylate and polymethyl methacrylate, polyethylene, polypropylene, polybutene, poly-4-methylpentene-1, ethylene-propylene Polyolefin polymers such as polymers, or polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl fluoride, and the like halogen-containing vinyl compounds such as polyvinylidene fluoride.

【0021】また、これらの熱可塑性樹脂は極性基を有
する変性剤により変性されていてもかまわない。極性基
を有する変性剤は特に限定されるものではなく、その極
性基も特に限定されるものではない。極性基としては、
例えば、酸ハイドライド、カルボニル基、酸無水物、酸
アミド、カルボン酸エステル、酸アジド、スルフォン
基、ニトリル基、シアノ基、イソシアン酸エステル、ア
ミノ基、水酸基、イミド基、チオール基、オキサゾリン
基、エポキシ基などが挙げられる。特に好ましい極性基
は酸無水物とエポキシ基であり、酸無水物は特に無水マ
レイン酸基が好ましい。
Further, these thermoplastic resins may be modified by a modifier having a polar group. The modifier having a polar group is not particularly limited, and the polar group is not particularly limited. As a polar group,
For example, acid hydride, carbonyl group, acid anhydride, acid amide, carboxylic acid ester, acid azide, sulfone group, nitrile group, cyano group, isocyanate ester, amino group, hydroxyl group, imide group, thiol group, oxazoline group, epoxy And the like. Particularly preferred polar groups are an acid anhydride and an epoxy group, and the acid anhydride is particularly preferably a maleic anhydride group.

【0022】エラストマーとしては、特に制限はない。
スチレンブタジエン共重合体エラストマー(SBR)、
スチレン−ブタジエン−スチレン共重合体エラストマー
(SBS)、一部あるいは全部のブタジエン部が水素化
されたスチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合
体エラストマー(SEBS)、スチレン−イソプレンブ
ロック共重合体エラストマー(SIR)、スチレン−イ
ソプレン−スチレンブロック共重合体エラストマー(S
IS)、一部あるいは全部のブタジエン部が水素化され
たスチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体エ
ラストマー(SEPS)、アクリロニトリル−ブタジエ
ン−スチレン共重合体エラストマー(ABSゴム)、ア
クリロニトリル−アルキルアクリレート−ブタジエン−
スチレン共重合体エラストマー(AABSゴム)、メタ
クリル酸メチル−アルキルアクリレート−スチレン共重
合体エラストマー(MASゴム)、メタクリル酸メチル
−アルキルアクリレート−ブタジエン−スチレン共重合
体エラストマー(MABSゴム)などのスチレン系エラ
ストマー、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ヘ
キセン等のα−オレフィン相互の共重合体からなるオレ
フィン系エラストマー、天然ゴム、ポリアミドエラスト
マー、ポリブタジエン、ポリスルフィドゴム、チオコー
ルゴム、アクリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴ
ム、エピクロルヒドリンゴム、ポリエーテル・エステル
ゴム、ポリエステル・エステルゴムなどが挙げられる。
The elastomer is not particularly limited.
Styrene butadiene copolymer elastomer (SBR),
Styrene-butadiene-styrene copolymer elastomer (SBS), styrene-butadiene-styrene block copolymer elastomer (SEBS) partially or entirely hydrogenated in butadiene portion, styrene-isoprene block copolymer elastomer (SIR) , Styrene-isoprene-styrene block copolymer elastomer (S
IS), styrene-isoprene-styrene block copolymer elastomer (SEPS) partially or entirely hydrogenated with butadiene portion, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer elastomer (ABS rubber), acrylonitrile-alkyl acrylate-butadiene-
Styrene-based elastomers such as styrene copolymer elastomer (ABS rubber), methyl methacrylate-alkyl acrylate-styrene copolymer elastomer (MAS rubber), methyl methacrylate-alkyl acrylate-butadiene-styrene copolymer elastomer (MABS rubber) , Ethylene, propylene, 1-butene, olefin elastomers composed of mutual copolymers of α-olefins such as 1-hexene, natural rubber, polyamide elastomer, polybutadiene, polysulfide rubber, thiochol rubber, acrylic rubber, urethane rubber, silicone rubber, Examples include epichlorohydrin rubber, polyether / ester rubber, polyester / ester rubber, and the like.

【0023】また、これらのエラストマーは極性基を有
する変性剤により変性されていてもかまわない。極性基
を有する変性剤は特に限定されるものではなく、その極
性基も特に限定されるものではない。極性基としては、
例えば、酸ハイドライド、カルボニル基、酸無水物、酸
アミド、カルボン酸エステル、酸アジド、スルフォン
基、ニトリル基、シアノ基、イソシアン酸エステル、ア
ミノ基、水酸基、イミド基、チオール基、オキサゾリン
基、エポキシ基などが挙げられる。特に好ましい極性基
は酸無水物とエポキシ基であり、酸無水物は特に無水マ
レイン酸基が好ましい。
Further, these elastomers may be modified by a modifier having a polar group. The modifier having a polar group is not particularly limited, and the polar group is not particularly limited. As a polar group,
For example, acid hydride, carbonyl group, acid anhydride, acid amide, carboxylic acid ester, acid azide, sulfone group, nitrile group, cyano group, isocyanate ester, amino group, hydroxyl group, imide group, thiol group, oxazoline group, epoxy And the like. Particularly preferred polar groups are an acid anhydride and an epoxy group, and the acid anhydride is particularly preferably a maleic anhydride group.

【0024】(B)成分は、これらの熱可塑性樹脂とエ
ラストマーの中から一種類以上選択されるが、スチレン
系重合体、ポリエーテル系重合体、スチレン系エラスト
マーの中から少なくとも一種類以上選択されることが好
ましい。スチレン系重合体の中でも好ましいのは、アタ
クティックな立体構造を有するスチレン系重合体(以
下、アタクティックポリスチレンと称す)である。この
アタクティックポリスチレンは、ゴム状重合体の存在下
あるいは不存在下で、溶液重合、塊状重合、懸濁重合、
塊状−懸濁重合などの重合方法によって得られる、下記
一般式(II)
The component (B) is selected from one or more of these thermoplastic resins and elastomers, and is selected from at least one or more of styrene-based polymers, polyether-based polymers, and styrene-based elastomers. Preferably. Among the styrene-based polymers, a styrene-based polymer having an atactic three-dimensional structure (hereinafter, referred to as atactic polystyrene) is preferable. This atactic polystyrene, in the presence or absence of a rubbery polymer, solution polymerization, bulk polymerization, suspension polymerization,
The following general formula (II) obtained by a polymerization method such as bulk-suspension polymerization

【0025】[0025]

【化2】 Embedded image

【0026】(式中、Rは水素原子、ハロゲン原子また
は炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン原
子、セレン原子、ケイ素原子およびスズ原子のいずれか
1種類以上を含む置換基を示し、mは1〜3の整数を示
す。但し、mが複数の時は、各Rは同一でも異なるもの
であっても良い。)で表される1種類以上の芳香族ビニ
ル化合物からなる重合体、あるいは1種類以上の芳香族
ビニル化合物と共重合可能な1種類以上の他のビニル単
量体との共重合体、これらの重合体の水素化重合体、お
よびこれらの混合物である。
(Wherein, R represents a hydrogen atom, a halogen atom or a substituent containing at least one of a carbon atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, a phosphorus atom, a selenium atom, a silicon atom and a tin atom) , M represents an integer of 1 to 3. However, when m is plural, each R may be the same or different.) A polymer comprising one or more aromatic vinyl compounds Or copolymers with one or more other vinyl monomers copolymerizable with one or more aromatic vinyl compounds, hydrogenated polymers of these polymers, and mixtures thereof.

【0027】ここで使用される好ましい芳香族ビニル化
合物としては、スチレン、α−メチルスチレン、メチル
スチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、タ
ーシャリーブチルスチレン、フェニルスチレン、ビニル
スチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、フルオロ
スチレン、クロロメチルスチレン、メトキシスチレン、
エトキシスチレン等があり、これらは1種または2種以
上で使用される。これらのうちさらに好ましい芳香族ビ
ニル化合物としては、スチレン、p−メチルスチレン、
m−メチルスチレン、p−ターシャリーブチルスチレ
ン、p−クロロスチレン、m−クロロスチレン、p−フ
ルオロスチレンである。
Preferred aromatic vinyl compounds used herein include styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, ethylstyrene, isopropylstyrene, tertiary butylstyrene, phenylstyrene, vinylstyrene, chlorostyrene, bromostyrene and fluorostyrene. Styrene, chloromethylstyrene, methoxystyrene,
There are ethoxystyrene and the like, which are used alone or in combination of two or more. Among these, more preferred aromatic vinyl compounds include styrene, p-methylstyrene,
m-methylstyrene, p-tert-butylstyrene, p-chlorostyrene, m-chlorostyrene and p-fluorostyrene.

【0028】共重合可能な他のビニル単量体としては、
アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のビニルシア
ン化合物、メチルアクリレート、エチルアクリレート、
プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、アミルア
クリレート、ヘキシルアクリレート、オクチルアクリレ
ート、2−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシ
ルアクリレート、ドデシルアクリレート、オクタデシル
アクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリ
レート等のアクリル酸アルキルエステル、メチルメタク
リレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレー
ト、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、
オクチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリ
レート、シクロヘキシルメタクリレート、ドデシルメタ
クリレート、オクタデシルメタクリレート、フェニルメ
タクリレート、ベンジルメタクリレート等のメタクリル
酸アルキルエステル、マレイミド、N−メチルマレイミ
ド、N−エチルマレイミド、N−ブチルマレイミド、N
−ラウリルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミ
ド、N−フェニルマレイミド、N−(p−ブロモフェニ
ル)マレイミド等のマレイミド系化合物等がある。
Other copolymerizable vinyl monomers include:
Acrylonitrile, vinylcyan compounds such as methacrylonitrile, methyl acrylate, ethyl acrylate,
Propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, dodecyl acrylate, octadecyl acrylate, phenyl acrylate, alkyl acrylates such as benzyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, Amyl methacrylate, hexyl methacrylate,
Octyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, dodecyl methacrylate, octadecyl methacrylate, phenyl methacrylate, alkyl methacrylates such as benzyl methacrylate, maleimide, N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-butylmaleimide, N
Maleimide compounds such as -laurylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-phenylmaleimide and N- (p-bromophenyl) maleimide;

【0029】また、ゴム状重合体としては、ポリブタジ
エン、スチレン−ブタジエン共重合体、アクリロニトリ
ル−ブタジエン共重合体、ポリイソプレン等のジエン系
ゴム、エチレン−α−オレフィン共重合体、エチレン−
α−オレフィン−ポリエン共重合体、ポリアクリル酸エ
ステル等の非ジエン系ゴム、スチレン−ブタジエンブロ
ック共重合体、水素化スチレン−ブタジエンブロック共
重合体、エチレン−プロピレンエラストマー、スチレン
グラフトエチレン−プロピレンエラストマー、エチレン
系アイオノマー樹脂、水素化スチレン−イソプレンブロ
ック共重合体等が挙げられる。
Examples of the rubbery polymer include polybutadienes, styrene-butadiene copolymers, acrylonitrile-butadiene copolymers, diene rubbers such as polyisoprene, ethylene-α-olefin copolymers, ethylene-
α-olefin-polyene copolymer, non-diene rubber such as polyacrylate, styrene-butadiene block copolymer, hydrogenated styrene-butadiene block copolymer, ethylene-propylene elastomer, styrene-grafted ethylene-propylene elastomer, Examples include an ethylene-based ionomer resin and a hydrogenated styrene-isoprene block copolymer.

【0030】このアタクティックポリスチレンは、その
分子量については特に制限はないが、一般に、重量平均
分子量が10,000以上、好ましくは50,000以
上である。ここで、重量平均分子量が10,000未満
のものでは、得られる成形品の熱的性質、機械的性質が
低下する傾向がある。さらに、分子量分布についても広
狭の制限はなく、様々のものを充当することができる。
The molecular weight of the atactic polystyrene is not particularly limited, but generally has a weight average molecular weight of 10,000 or more, preferably 50,000 or more. Here, when the weight average molecular weight is less than 10,000, the thermal properties and mechanical properties of the obtained molded article tend to decrease. Furthermore, there is no restriction on the molecular weight distribution, and various types can be applied.

【0031】ポリエーテル系重合体の中でも好ましいの
はポリフェニレンエーテル系重合体である。このポリフ
ェニレンエーテル系重合体としては、次に示す一般式
(III−a)あるいは(III−b)、
Preferred among the polyether-based polymers are polyphenylene ether-based polymers. As the polyphenylene ether polymer, the following general formula (III-a) or (III-b):

【0032】[0032]

【化3】 Embedded image

【0033】[0033]

【化4】 Embedded image

【0034】(式中、R1,R2,R3,R4,R5,
R6は炭素1〜4のアルキル基、アリール基、ハロゲ
ン、水素等の一価の残基であり、R5,R6は同時に水
素ではない。)を繰り返し単位とし、構成単位が一般式
(III−a)あるいは(III−b)からなる単独重
合体、あるいは共重合体が使用できる。ポリフェニレン
エーテル系重合体の単独重合体の代表例としては、ポリ
(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)エーテル、
ポリ(2−メチル−6−エチル1,4−フェニレン)エ
ーテル、ポリ(2,6−ジエチル−1,4−フェニレ
ン)エーテル、ポリ(2−エチル−6−n−プロピル−
1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2,6−ジ−n
−プロピル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2
−メチル−6−n−ブチル−1,4−フェニレン)エー
テル、ポリ(2−エチル−6−イソプロピル−1,4−
フェニレン)エーテル、ポリ(2−メチル−6−クロロ
エチル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2−メ
チル−6−ヒドロキシエチル−1,4−フェニレン)エ
ーテル、ポリ(2−メチル−6−クロロエチル−1,4
−フェニレン)エーテル等のホモポリマーが挙げられ
る。
(Wherein R1, R2, R3, R4, R5
R6 is a monovalent residue such as an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an aryl group, halogen, hydrogen and the like, and R5 and R6 are not simultaneously hydrogen. ) Is a repeating unit, and a homopolymer or a copolymer having a structural unit represented by the general formula (III-a) or (III-b) can be used. Representative examples of the homopolymer of the polyphenylene ether-based polymer include poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) ether,
Poly (2-methyl-6-ethyl-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-diethyl-1,4-phenylene) ether, poly (2-ethyl-6-n-propyl-)
1,4-phenylene) ether, poly (2,6-di-n)
-Propyl-1,4-phenylene) ether, poly (2
-Methyl-6-n-butyl-1,4-phenylene) ether, poly (2-ethyl-6-isopropyl-1,4-)
Phenylene) ether, poly (2-methyl-6-chloroethyl-1,4-phenylene) ether, poly (2-methyl-6-hydroxyethyl-1,4-phenylene) ether, poly (2-methyl-6-chloroethyl) -1, 4
And homopolymers such as (phenylene) ether.

【0035】ポリフェニレンエーテル共重合体の例とし
ては、2,6−ジメチルフェノールと2,3,6−トリ
メチルフェノールとの共重合体あるいはo−クレゾール
との共重合体あるいは2,3,6−トリメチルフェノー
ル及びo−クレゾールとの共重合体等、ポリフェニレン
エーテル構造を主体としてなるポリフェニレンエーテル
共重合体を包含する。
Examples of the polyphenylene ether copolymer include a copolymer of 2,6-dimethylphenol and 2,3,6-trimethylphenol, a copolymer of o-cresol, and a copolymer of 2,3,6-trimethyl A polyphenylene ether copolymer mainly composed of a polyphenylene ether structure, such as a copolymer with phenol and o-cresol, is included.

【0036】また、ポリフェニレンエーテル系重合体中
には、本発明の主旨に反しない限り、従来ポリフェニレ
ンエーテル系重合体中に存在させてもよいことが提案さ
れている他の種々のフェニレンエーテルユニットを部分
構造として含んでも構わない。少量共存させることが提
案されているものの例としては、特開昭63−3012
22号公報に記載されている、2−(ジアルキルアミノ
メチル)−6−メチルフェニレンエーテルユニットや、
2−(N−アルキル−N−フェニルアミノメチル)−6
−メチルフェニレンエーテルユニット等が挙げられる。
また、ポリフェニレンエーテル系重合体の主鎖中にジフ
ェノキノン等が少量結合したものも含まれる。
In the polyphenylene ether-based polymer, various other phenylene ether units which have been proposed to be allowed to exist in the polyphenylene ether-based polymer without departing from the gist of the present invention are used. It may be included as a partial structure. Japanese Patent Application Laid-Open (JP-A) No. 63-3012 discloses an example in which coexistence in a small amount is proposed.
No. 22, a 2- (dialkylaminomethyl) -6-methylphenylene ether unit;
2- (N-alkyl-N-phenylaminomethyl) -6
-Methylphenylene ether unit and the like.
Also included are polyphenylene ether-based polymers having a small amount of diphenoquinone or the like bonded in the main chain.

【0037】さらに、例えば特開平2−276823号
公報、特開昭63−108059号公報、特開昭59−
59724号公報などに記載されている、炭素−炭素二
重結合を持つ化合物により変性されたポリフェニレンエ
ーテルも含む。ポリフェニレンエーテル系重合体の分子
量としては、数平均分子量で1,000〜100,00
0の範囲が好ましく、さらに好ましい範囲は6,000
〜60,000である。
Further, for example, JP-A-2-276823, JP-A-63-108059,
Also included are polyphenylene ethers modified with compounds having a carbon-carbon double bond described in, for example, JP-A-59724. The molecular weight of the polyphenylene ether polymer is 1,000 to 100,000 in terms of number average molecular weight.
A range of 0 is preferred, and a more preferred range is 6,000.
~ 60,000.

【0038】スチレン系エラストマーとしては、スチレ
ン系化合物と共役ジエンとのブロック共重合体が好まし
く、これらのブロック共重合体の一般式としては、(A
−B)n+1 、またはA−(B−A)n 、またはB−(A
−B)n+1 で表されるものが最適である(ただし、式中
のAはスチレン系化合物よりなる重合体ブロック、Bは
共役ジエン重合体ブロックであり、nは1〜20の整
数、Aブロックの全体の分子に占める割合は1〜50重
量%である。)。これらの共重合体の平均分子量は1
0,000〜1,000,000、好ましくは30,0
00〜500,000である。これらスチレン系エラス
トマーの具体例としては、スチレン−ブタジエンランダ
ム共重合体、スチレン−イソプレンランダム共重合体、
スチレン−ブタジエン−スチレントリブロック共重合
体、スチレン−イソプレン−スチレントリブロック共重
合体、ポリスチレンブロックが末端であるスチレン−イ
ソプレンラジアルブロック共重合体、スチレン−ブタジ
エンマルチブロック共重合体、スチレン−イソプレンマ
ルチブロック共重合体等のスチレン−共役ジエンブロッ
ク共重合体、およびこれらを水素添加した生成物等を挙
げることができる。
As the styrene-based elastomer, a block copolymer of a styrene-based compound and a conjugated diene is preferred. The general formula of these block copolymers is (A
-B) n + 1 , or A- (BA) n , or B- (A
-B) The one represented by n + 1 is most preferable (where A is a polymer block composed of a styrene compound, B is a conjugated diene polymer block, n is an integer of 1 to 20, The ratio of the A block to the whole molecule is 1 to 50% by weight.) The average molecular weight of these copolymers is 1
0.00-1,000,000, preferably 30,0
00 to 500,000. Specific examples of these styrene-based elastomers, styrene-butadiene random copolymer, styrene-isoprene random copolymer,
Styrene-butadiene-styrene triblock copolymer, styrene-isoprene-styrene triblock copolymer, styrene-isoprene radial block copolymer terminated with polystyrene block, styrene-butadiene multi-block copolymer, styrene-isoprene multi-block Examples include styrene-conjugated diene block copolymers such as block copolymers, and products obtained by hydrogenating them.

【0039】本発明に用いる(C)導電性カーボンは、
組成物中に分散させ導電性を付与し、樹脂成形品の表面
抵抗を大きく低下させる目的で用いるもので、アセチレ
ンブラック及びファーネスブラック等を用いることがで
きる。ファーネスブラックの具体的な例としては、ケッ
チェンブラックEC,EC600JD(アクゾ社製)、
旭HS−500(旭カーボン社製)、パルカンXC72
(CABOT社製)等の市販品が挙げられる。
The conductive carbon (C) used in the present invention comprises:
It is used for the purpose of dispersing in the composition to impart conductivity and greatly reducing the surface resistance of the resin molded article, and acetylene black, furnace black and the like can be used. Specific examples of furnace black include Ketjen Black EC and EC600JD (manufactured by Akzo),
Asahi HS-500 (made by Asahi Carbon Co., Ltd.), Palkan XC72
(Manufactured by CABOT).

【0040】本発明に用いられる樹脂組成物の(A)、
(B)および(C)成分の配合量は、得られる耐熱用I
Cトレーの導電性、耐熱性、耐熱エージング性および高
温下での形状安定性などを考慮した場合、次の関係を満
たす必要がある。(A)成分の配合量は、(A)および
(B)成分からなる組成の混合物中に、99〜1重量
%、好ましくは90〜10重量%、さらに好ましくは8
0〜20重量%である。配合量が99重量%超あるいは
1重量%未満ではICトレーとして求められる諸物性の
バランスが劣ったものになる。
The resin composition used in the present invention (A)
The blending amount of the components (B) and (C) depends on the heat resistance I obtained.
In consideration of the conductivity, heat resistance, heat aging resistance, and shape stability at high temperatures of the C tray, the following relationship must be satisfied. The amount of the component (A) is 99 to 1% by weight, preferably 90 to 10% by weight, and more preferably 8 to 8% by weight in the mixture of the components (A) and (B).
0 to 20% by weight. When the amount is more than 99% by weight or less than 1% by weight, the balance of various properties required for an IC tray is inferior.

【0041】(B)成分の配合量は、(A)および
(B)成分からなる組成の混合物中に、1〜99重量
%、好ましくは10〜90重量%、さらに好ましくは2
0〜80重量%である。配合量が1重量%未満あるいは
99重量%超ではICトレーとして求められる諸物性の
バランスが劣ったものになる。(C)成分の配合量は、
(A)および(B)成分の合計100重量部に対して1
〜50重量部、好ましくは3〜40重量部、さらに好ま
しくは5〜30重量部である。1重量部未満では(C)
成分を配合する効果が無く、50重量部を超えると配合
量に相当する効果はなく、むしろ得られる組成物の成形
性を損なうことになる。
The amount of the component (B) is from 1 to 99% by weight, preferably from 10 to 90% by weight, and more preferably from 2 to 99% by weight in the mixture of the components (A) and (B).
0 to 80% by weight. When the amount is less than 1% by weight or more than 99% by weight, the balance of various properties required for an IC tray is inferior. (C) The amount of the component is
1 to 100 parts by weight of the total of components (A) and (B)
5050 parts by weight, preferably 3-40 parts by weight, more preferably 5-30 parts by weight. Less than 1 part by weight (C)
There is no effect of blending the components, and if it exceeds 50 parts by weight, there is no effect corresponding to the blending amount, but rather the moldability of the obtained composition is impaired.

【0042】本発明に用いられる樹脂組成物は、(A)
成分の重合体、あるいは(A)および(C)成分からな
る混合物に、(B)成分を配合し溶融混練して得ること
ができる。溶融混練は、単軸押出機、二軸押出機等の公
知の溶融混練装置を用いることができるが、好ましくは
ベント付き二軸押出機である。各成分を溶融混練すると
きの溶融混練温度は、通常270〜370℃の範囲、好
ましくは280〜330℃の範囲に設定される。溶融混
練温度が270℃より低いと、原料の溶融が不十分とな
るため均一な組成物を得ることができない場合がある。
溶融混練温度が370℃より高いと、原料の分解が発生
する傾向がある。
The resin composition used in the present invention comprises (A)
It can be obtained by blending the component (B) with a polymer of the component or a mixture of the components (A) and (C) and melt-kneading the mixture. For the melt kneading, a known melt kneading apparatus such as a single screw extruder and a twin screw extruder can be used, but a vented twin screw extruder is preferable. The melt-kneading temperature when each component is melt-kneaded is usually set in the range of 270 to 370 ° C, preferably in the range of 280 to 330 ° C. If the melt-kneading temperature is lower than 270 ° C., the raw materials will be insufficiently melted, so that a uniform composition may not be obtained.
If the melt-kneading temperature is higher than 370 ° C., decomposition of the raw material tends to occur.

【0043】本発明に用いられる樹脂組成物には、
(A)、(B)および(C)成分を溶融混練する際、物
性を損なわない範囲において、他の成分、例えば、無機
充填材、顔料、染料、熱安定剤、酸化防止剤、耐候剤、
核剤、滑剤、帯電防止剤、熱可塑性樹脂、エラストマ
ー、難燃剤、難燃助剤等を添加することができる。他の
熱可塑性樹脂としては、特に制限はない。アタクティッ
クな立体構造のスチレン系重合体、アイソタクティック
な立体構造のスチレン系重合体、アクリロニトリル−ス
チレン共重合体(AS樹脂)、アクリロニトリル−ブタ
ジエン−スチレン共重合体(ABS樹脂)などのスチレ
ン系共重合体、ポリフェニレンエーテル、ポリカーボネ
ート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホンなどのポリ
エーテル系重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
ブチレンテレフタレートなどのポリエステル系重合体、
ポリアミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリオキシメ
チレンなどの縮合系重合体、ポリアクリル酸、ポリアク
リル酸エステル、ポリメチルメタクリレートなどのアク
リル系重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブ
テン、ポリ4−メチルペンテン−1、エチレン−プロピ
レン共重合体などのポリオレフィン系重合体、あるいは
ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニ
ル、ポリフッ化ビニリデンなどの含ハロゲンビニル化合
物などが挙げられる。
The resin composition used in the present invention includes:
When melt-kneading the components (A), (B) and (C), other components such as an inorganic filler, a pigment, a dye, a heat stabilizer, an antioxidant, a weathering agent, and the like, as long as the physical properties are not impaired.
Nucleating agents, lubricants, antistatic agents, thermoplastic resins, elastomers, flame retardants, flame retardant auxiliaries and the like can be added. The other thermoplastic resin is not particularly limited. Styrene polymers such as styrene polymers having an atactic three-dimensional structure, styrene polymers having an isotactic three-dimensional structure, acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), and acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin) Copolymers, polyphenylene ether, polycarbonate, polysulfone, polyether polymers such as polyethersulfone, polyethylene terephthalate, polyester polymers such as polybutylene terephthalate,
Condensation polymers such as polyamide, polyphenylene sulfide and polyoxymethylene, acrylic polymers such as polyacrylic acid, polyacrylate and polymethyl methacrylate, polyethylene, polypropylene, polybutene, poly 4-methylpentene-1, ethylene- Examples thereof include polyolefin-based polymers such as propylene copolymers, and halogen-containing vinyl compounds such as polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl fluoride, and polyvinylidene fluoride.

【0044】また、これらの熱可塑性樹脂は極性基を有
する変性剤により変性されていてもかまわない。極性基
を有する変性剤は特に限定されるものではなく、その極
性基も特に限定されるものではない。極性基としては、
例えば、酸ハイドライド、カルボニル基、酸無水物、酸
アミド、カルボン酸エステル、酸アジド、スルフォン
基、ニトリル基、シアノ基、イソシアン酸エステル、ア
ミノ基、水酸基、イミド基、チオール基、オキサゾリン
基、エポキシ基などが挙げられる。特に好ましい極性基
は酸無水物とエポキシ基であり、酸無水物は特に無水マ
レイン酸基が好ましい。
Further, these thermoplastic resins may be modified by a modifier having a polar group. The modifier having a polar group is not particularly limited, and the polar group is not particularly limited. As a polar group,
For example, acid hydride, carbonyl group, acid anhydride, acid amide, carboxylic acid ester, acid azide, sulfone group, nitrile group, cyano group, isocyanate ester, amino group, hydroxyl group, imide group, thiol group, oxazoline group, epoxy And the like. Particularly preferred polar groups are an acid anhydride and an epoxy group, and the acid anhydride is particularly preferably a maleic anhydride group.

【0045】他のエラストマーとしては、特に制限はな
い。スチレンブタジエン共重合体エラストマー(SB
R)、スチレン−ブタジエン−スチレン共重合体エラス
トマー(SBS)、一部あるいは全部のブタジエン部が
水素化されたスチレン−ブタジエン−スチレンブロック
共重合体エラストマー(SEBS)、スチレン−イソプ
レンブロック共重合体エラストマー(SIR)、スチレ
ン−イソプレン−スチレンブロック共重合体エラストマ
ー(SIS)、一部あるいは全部のブタジエン部が水素
化されたスチレン−イソプレン−スチレンブロック共重
合体エラストマー(SEPS)、アクリロニトリル−ブ
タジエン−スチレン共重合体エラストマー(ABSゴ
ム)、アクリロニトリル−アルキルアクリレート−ブタ
ジエン−スチレン共重合体エラストマー(AABSゴ
ム)、メタクリル酸メチル−アルキルアクリレート−ス
チレン共重合体エラストマー(MASゴム)、メタクリ
ル酸メチル−アルキルアクリレート−ブタジエン−スチ
レン共重合体エラストマー(MABSゴム)などのスチ
レン系エラストマー、エチレン、プロピレン、1−ブテ
ン、1−ヘキセン等のα−オレフィン相互の共重合体か
らなるオレフィン系エラストマー、天然ゴム、ポリアミ
ドエラストマー、ポリブタジエン、ポリスルフィドゴ
ム、チオコールゴム、アクリルゴム、ウレタンゴム、シ
リコーンゴム、エピクロルヒドリンゴム、ポリエーテル
・エステルゴム、ポリエステル・エステルゴムなどが挙
げられる。
The other elastomer is not particularly limited. Styrene butadiene copolymer elastomer (SB
R), styrene-butadiene-styrene copolymer elastomer (SBS), styrene-butadiene-styrene block copolymer elastomer (SEBS) partially or wholly hydrogenated with butadiene, and styrene-isoprene block copolymer elastomer (SIR), styrene-isoprene-styrene block copolymer elastomer (SIS), styrene-isoprene-styrene block copolymer elastomer partially or wholly hydrogenated (SEPS), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer Polymer elastomer (ABS rubber), acrylonitrile-alkyl acrylate-butadiene-styrene copolymer elastomer (ABS rubber), methyl methacrylate-alkyl acrylate-styrene copolymer elastomer (MAS rubber), styrene-based elastomers such as methyl methacrylate-alkyl acrylate-butadiene-styrene copolymer elastomer (MABS rubber) and α-olefins such as ethylene, propylene, 1-butene and 1-hexene. Olefinic elastomers, natural rubbers, polyamide elastomers, polybutadienes, polysulfide rubbers, thiochol rubbers, acrylic rubbers, urethane rubbers, silicone rubbers, epichlorohydrin rubbers, polyether ester rubbers, polyester ester rubbers, etc., which are formed by coalescence.

【0046】また、これらのエラストマーは、極性基を
有する変性剤により変性されていてもかまわない。極性
基を有する変性剤は特に限定されるものではなく、その
極性基も特に限定されるものではない。極性基として
は、例えば、酸ハイドライド、カルボニル基、酸無水
物、酸アミド、カルボン酸エステル、酸アジド、スルフ
ォン基、ニトリル基、シアノ基、イソシアン酸エステ
ル、アミノ基、水酸基、イミド基、チオール基、オキサ
ゾリン基、エポキシ基などが挙げられる。特に好ましい
極性基は酸無水物とエポキシ基であり、酸無水物は特に
無水マレイン酸基が好ましい。
These elastomers may be modified with a modifier having a polar group. The modifier having a polar group is not particularly limited, and the polar group is not particularly limited. Examples of the polar group include acid hydride, carbonyl group, acid anhydride, acid amide, carboxylic acid ester, acid azide, sulfone group, nitrile group, cyano group, isocyanate ester, amino group, hydroxyl group, imide group, and thiol group. Oxazoline group, epoxy group and the like. Particularly preferred polar groups are an acid anhydride and an epoxy group, and the acid anhydride is particularly preferably a maleic anhydride group.

【0047】難燃剤としては種々のものが用いられ、特
に制限はないが、混練、成形温度を考慮すると、プロセ
ス耐熱性に優れることが重要であり、特に有機ハロゲン
系難燃剤が好ましい。ハロゲン系難燃剤としては、例え
ば、ハロゲン化エポキシ化合物、ペンタブロモベンジル
アクリレート、ハロゲン化アミド化合物、ポリ(ジブロ
モフェニレンオキシド)、ポリトリブロモスチレン、ポ
リジブロモスチレンなどの臭素化ポリスチレン、テトラ
ブロモビスフェノールA、テトラブロモ無水フタール
酸、ヘキサブロモベンゼン、トリブロモフェニルアリル
エーテル、ペンタブロモトルエン、ペンタブロモフェノ
ール、トリブロモフェニル−2,3−ジブロモ−プロピ
ルエーテル、トリス(2,3−ジブロモプロピル)ホス
フェート、トリス(2−クロロ−3−ブロモプロピル)
ホスフェート、オクタブロモジフェニルエーテル、デカ
ブロモジフェニルエーテル、オクタブロモビフェニル、
ペンタクロロペンタシクロデカン、ヘキサブロモシクロ
ドデカン、ヘキサクロロベンゼン、ペンタクロロトルエ
ン、ヘキサブロモビフェニル、デカブロモビフェニル、
テトラブロモブタン、デカブロモジフェニルエーテル、
ヘキサブロモジフェニルエーテル、エチレン−ビス−
(テトラブロモフタルイミド)、テトラクロロビスフェ
ノールA、テトラブロモビスフェノールA、テトラクロ
ロビスフェノールAまたはテトラブロモビスフェノール
Aのオリゴマー、臭素化ポリカーボネートオリゴマーな
どのハロゲン化ポリカーボネートオリゴマー、ポリクロ
ロスチレン、ビス(トリブロモフェノキシ)エタンなど
が挙げられる。
Various flame retardants are used, and there is no particular limitation. However, considering the kneading and molding temperatures, it is important that the process has excellent heat resistance, and an organic halogen-based flame retardant is particularly preferred. Examples of the halogen-based flame retardant include brominated polystyrene such as halogenated epoxy compound, pentabromobenzyl acrylate, halogenated amide compound, poly (dibromophenylene oxide), polytribromostyrene and polydibromostyrene, tetrabromobisphenol A, Tetrabromophthalic anhydride, hexabromobenzene, tribromophenyl allyl ether, pentabromotoluene, pentabromophenol, tribromophenyl-2,3-dibromo-propyl ether, tris (2,3-dibromopropyl) phosphate, tris (2 -Chloro-3-bromopropyl)
Phosphate, octabromodiphenyl ether, decabromodiphenyl ether, octabromobiphenyl,
Pentachloropentacyclodecane, hexabromocyclododecane, hexachlorobenzene, pentachlorotoluene, hexabromobiphenyl, decabromobiphenyl,
Tetrabromobutane, decabromodiphenyl ether,
Hexabromodiphenyl ether, ethylene-bis-
(Tetrabromophthalimide), tetrachlorobisphenol A, tetrabromobisphenol A, oligomers of tetrachlorobisphenol A or tetrabromobisphenol A, halogenated polycarbonate oligomers such as brominated polycarbonate oligomers, polychlorostyrene, bis (tribromophenoxy) ethane And the like.

【0048】難燃剤としては、これらの中でも特に臭素
化ポリスチレンおよびポリ(ジブロモフェニレンオキシ
ド)が好適である。臭素化ポリスチレンばポリジブロモ
スチレン、ポリトリブロモスチレンまたはそれらの共重
合体であってもよい。また、臭素化ポリスチレンは、ポ
リスチレンを臭素化して製造してもよいし、臭素化スチ
レンを重合して得たものでもよい。これらの難燃剤の臭
素含有率は、50%以上であるのが好ましい。
Among these, brominated polystyrene and poly (dibromophenylene oxide) are particularly preferable. Brominated polystyrene may be polydibromostyrene, polytribromostyrene, or a copolymer thereof. The brominated polystyrene may be produced by brominating polystyrene or may be obtained by polymerizing brominated styrene. The bromine content of these flame retardants is preferably at least 50%.

【0049】難燃剤を配合した場合、難燃助剤も配合す
る方が好ましい。ここで、難燃助剤としては、種々のも
のがあり、特に制限はないが、例えば、三酸化アンチモ
ン、四酸化アンチモン、五酸化アンチモン、アンチモン
酸ナトリウム、金属アンチモン、三塩化アンチモン、五
塩化アンチモン、三硫化アンチモン、五硫化アンチモン
などのアンチモン難燃助剤が挙げられる。また、これら
以外にホウ酸亜鉛、メタホウ酸バリウム、酸化ジルコニ
ウムなどを挙げることができる。これらの中で、特に三
酸化アンチモンが好ましい。
When a flame retardant is blended, it is preferable to blend a flame retardant auxiliary. Here, there are various flame retardant assistants, and there is no particular limitation. For example, antimony trioxide, antimony tetroxide, antimony pentoxide, sodium antimonate, metal antimony, antimony trichloride, antimony pentachloride , Antimony trisulfide, antimony pentasulfide and the like. In addition to these, zinc borate, barium metaborate, zirconium oxide, and the like can be given. Among these, antimony trioxide is particularly preferred.

【0050】無機充填材については特に制限はなく、繊
維状、粒状、粉状のいずれであってもよい。繊維状充填
材としては、例えば、ガラス繊維、炭素繊維、ウィスカ
ーなどが挙げられ、形状としてはクロス状、マット状、
集束切断状、短繊維、フィラメント状、ウィスカーなど
があるが、集束切断状の場合、長さが、0.05〜50
mm、繊維径が5〜20μmのものが好ましい。
The inorganic filler is not particularly limited, and may be any of fibrous, granular, and powdery materials. Examples of the fibrous filler include, for example, glass fiber, carbon fiber, whisker, and the like, and the shape is a cloth shape, a mat shape,
There are a bundle cut shape, a short fiber, a filament shape, a whisker, and the like. In the case of a bundle cut shape, the length is 0.05 to 50.
mm and a fiber diameter of 5 to 20 μm are preferred.

【0051】一方、粒状や粉状充填材としては、例え
ば、タルク、グラファイト、二酸化チタン、シリカ、マ
イカ、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、炭酸バリウ
ム、炭酸マグネシウム、硫酸マグネシウム、硫酸バリウ
ム、カルシウムオキシサルフェート、酸化スズ、アルミ
ナ、カオリン、炭化ケイ素、金属粉末、ガラスパウダ
ー、ガラスフレーク、ガラスビーズなどが挙げられる。
On the other hand, as the granular or powdery filler, for example, talc, graphite, titanium dioxide, silica, mica, calcium carbonate, calcium sulfate, barium carbonate, magnesium carbonate, magnesium sulfate, barium sulfate, calcium oxysulfate, oxide Examples include tin, alumina, kaolin, silicon carbide, metal powder, glass powder, glass flake, and glass beads.

【0052】これらの充填材の中で、特にガラス充填
材、例えば、ガラスパウダー、ガラスフレーク、ガラス
ビーズ、ガラスフィラメント、ガラスファイパー、ガラ
スロビング、ガラスマットなどが好適である。また、上
記充填材としては、カップリング剤により表面処理した
ものが好ましい。表面処理に用いられるカップリング剤
は、充填材と樹脂との接着性を良好にするために用いら
れるものであり、いわゆるシラン系カップリング剤、チ
タン系カップリング剤など、従来公知のものの中から任
意のものを選択して用いることができる。中でもγ−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノメ
チル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−(3,
4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラ
ンなどのアミノシラン、エポキシシラン、イソプロピル
トリ(N−アミドエチル、アミノエチル)チタネートが
好ましい。上記無機充填材は一種用いてもよいし、二種
以上を組み合わせて用いてもよい。
Among these fillers, glass fillers, such as glass powder, glass flake, glass beads, glass filament, glass fiber, glass lobing, and glass mat, are particularly preferable. Further, as the above-mentioned filler, those subjected to a surface treatment with a coupling agent are preferable. The coupling agent used for the surface treatment is used to improve the adhesiveness between the filler and the resin, and is a so-called silane-based coupling agent, a titanium-based coupling agent, or any of conventionally known coupling agents. Any one can be selected and used. Among them, γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminomethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-
Glycidoxypropyltrimethoxysilane, β- (3,
Preferred are aminosilanes such as 4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, epoxysilane, and isopropyltri (N-amidoethyl, aminoethyl) titanate. The above-mentioned inorganic filler may be used alone or in combination of two or more.

【0053】本発明の成形方法により得られる樹脂成形
品は、上述の組成物を270〜370℃の範囲、好まし
くは280〜330℃の範囲に加熱溶融し、20〜15
0℃の、好ましくは30〜145℃、さらに好ましくは
40〜140℃の金型温度で、型キャビティを形成する
型壁面に20℃における熱伝導率が0.01cal/c
m・sec・℃以下である断熱材料が被覆された金型を
用いて成形することによって得られる。
The resin molded product obtained by the molding method of the present invention is prepared by heating and melting the above-mentioned composition in the range of 270 to 370 ° C., preferably in the range of 280 to 330 ° C.
At a mold temperature of 0 ° C., preferably 30 to 145 ° C., more preferably 40 to 140 ° C., the thermal conductivity at 20 ° C. on the wall of the mold forming the mold cavity is 0.01 cal / c.
It can be obtained by molding using a mold coated with a heat insulating material having a temperature of m · sec · ° C. or less.

【0054】加熱溶融温度が270℃より低いと、組成
物の溶融が不十分となるため均一な物性の成形品を得る
ことができない。加熱溶融温度が370℃より高いと、
組成物の分解が発生するため好ましくない。金型温度が
150℃を越えると、シンジオタクティックポリスチレ
ンの結晶化を十分進行させることができるが、冷却時間
が長くせねばならなかったり、成形品の離型性が悪くな
ったりする。金型温度が20℃未満では、もはやシンジ
オタクティックポリスチレンを結晶化させることはでき
ない。
If the heat melting temperature is lower than 270 ° C., the composition is insufficiently melted, so that a molded article having uniform physical properties cannot be obtained. When the heat melting temperature is higher than 370 ° C,
It is not preferable because the decomposition of the composition occurs. If the mold temperature exceeds 150 ° C., the crystallization of syndiotactic polystyrene can proceed sufficiently, but the cooling time must be long or the releasability of the molded product will be poor. If the mold temperature is below 20 ° C., the syndiotactic polystyrene can no longer be crystallized.

【0055】また、成形の手法としては成形すべき成形
品に応じて、適宜選択すればよいが、従来のアタクティ
ックポリスチレンの成形に採用されている熱成形法等の
種々の成形法、具体的には射出成形、ブロー成形、プレ
ス成形、押出成形、真空成形、注入成形、注型成形等の
手法によればよいが、この中でも射出成形、ブロー成
形、プレス成形が特に好ましい。
The molding method may be appropriately selected according to the molded product to be molded. Various molding methods such as a thermoforming method employed in the conventional molding of atactic polystyrene, and specific molding methods may be used. Injection molding, blow molding, press molding, extrusion molding, vacuum molding, injection molding, casting molding, etc. may be used, but among them, injection molding, blow molding, and press molding are particularly preferable.

【0056】本発明で使用する断熱材料の熱伝導率は
0.01cal/cm・sec・℃以下、好ましくは
0.005cal/cm・sec・℃以下であることが
必要である。熱伝導率が0.01cal/cm・sec
・℃より大きいと、シンジオタクティックポリスチレン
の結晶化を十分進めるためには金型温度を150℃以上
にする必要があるので、成形サイクルが長くなり、また
成形品の離型性が悪くなる。しかるに、本発明で使用さ
れる断熱材料として好適なものは、樹脂およびセラミッ
クが挙げられる。特に、樹脂は熱伝導率が0.002c
al/cm・sec・℃以下で断熱効果が大きいので好
ましい。さらに、樹脂の中でもポリイミドが熱伝導度と
耐久性の面から特に好ましい。セラミックの熱伝導率は
樹脂よりやや大きいため樹脂と同様な断熱効果を発現さ
せるためには被覆層を幾分厚めにしなければならない。
The thermal conductivity of the heat insulating material used in the present invention must be 0.01 cal / cm · sec · ° C. or less, preferably 0.005 cal / cm · sec · ° C. or less. Thermal conductivity is 0.01 cal / cm · sec
If the temperature is higher than ° C., the mold temperature must be 150 ° C. or higher in order to sufficiently promote the crystallization of syndiotactic polystyrene, so that the molding cycle becomes longer and the releasability of the molded product deteriorates. However, suitable materials for the heat insulating material used in the present invention include resins and ceramics. In particular, the resin has a thermal conductivity of 0.002c.
Al / cm · sec · ° C. or less is preferable because the heat insulating effect is large. Further, among resins, polyimide is particularly preferable in terms of thermal conductivity and durability. Since the thermal conductivity of ceramic is slightly higher than that of resin, the coating layer must be somewhat thicker in order to exhibit the same heat insulating effect as resin.

【0057】さらに、本発明における金型を被覆する断
熱材料は、上記の要件の他に、耐熱性に優れること、冷
熱サイクルに強いこと、耐摩耗性に優れること、金型本
体への被覆が良好にできること、金型本体との密着性が
良いこと、表面研磨ができることなどの性質が付与され
ることが望ましい。また、断熱材料の被覆厚みに関して
は、実質的に金型最表層にあって薄層であることが、冷
却時間の増大を抑えることができ好ましい。結晶化を十
分に進めることができ、さらに成形効率を損なわないた
めの好ましい断熱材料の被覆厚みは、用いる断熱材料の
熱伝導率、成形時の溶融温度、金型温度などの成形条件
によって変化するので、これらの条件と成形サイクルを
考慮して決定するのがよい。
Further, in addition to the above requirements, the heat insulating material for coating the mold according to the present invention is excellent in heat resistance, resistant to heat and cold cycles, excellent in wear resistance, and capable of covering the mold body. It is desirable that properties such as good performance, good adhesion to the mold body, and surface polishing be provided. Regarding the coating thickness of the heat insulating material, it is preferable that the heat insulating material is substantially in the outermost layer of the mold and is a thin layer since the increase in cooling time can be suppressed. The preferable thickness of the heat insulating material to be able to sufficiently promote crystallization and not to impair the molding efficiency varies depending on the molding conditions such as the thermal conductivity of the heat insulating material used, the melting temperature during molding, and the mold temperature. Therefore, it is better to determine them in consideration of these conditions and the molding cycle.

【0058】断熱材料としてポリイミドを使用すること
は、射出成形、ブロー成形などで用いられる複雑な形状
の金型表面を被覆する場合に特に好都合である。本発明
で使用する断熱材料は、繰り返し多数回の成形に耐える
ように金型表面に強固に密着していることが好ましい、
そのためには金型に十分密着する耐久性の良い皮膜で金
型面をコートすることが望ましい。複雑な金型表面をポ
リイミドで被覆し、かつ強固に密着させるには、ポリイ
ミドの前駆体であるポリアミド酸をN−メチルピロリド
ンなどの溶媒に溶かし金型表面に塗布し、ついで加熱し
てポリイミドを形成させる方法により好ましく行うこと
ができる。ポリイミド前駆体のポリマーはカルボキシル
基などの極性基のため、金型との密着性が良く、金型表
面上でポリイミドを反応形成させることにより金型表面
に密着したポリイミド薄層が得られる。
The use of polyimide as a heat insulating material is particularly advantageous when coating the surface of a mold having a complicated shape used in injection molding, blow molding and the like. The heat insulating material used in the present invention is preferably firmly adhered to the mold surface so as to withstand repeated molding many times,
For this purpose, it is desirable to coat the mold surface with a highly durable film that adheres sufficiently to the mold. In order to coat the complex mold surface with polyimide and firmly adhere, polyamic acid, a precursor of polyimide, is dissolved in a solvent such as N-methylpyrrolidone and applied to the mold surface, and then heated to form the polyimide. It can be carried out preferably by a method of forming. Since the polymer of the polyimide precursor is a polar group such as a carboxyl group, it has good adhesion to the mold, and a polyimide thin layer adhered to the mold surface can be obtained by reacting and forming polyimide on the mold surface.

【0059】また、加熱可塑化された樹脂あるいは樹脂
組成物を金型内に供給して、加圧冷却して成形体を得る
行程では、各成形ごとに金型表面では100℃にもおよ
ぶ温度差の加熱と冷却が繰り返される。一般に断熱材料
と金属の熱膨張係数は大きく異なるので、金属と断熱材
料との界面に激しい応力が発生することになる。この応
力に数万回にわたって耐え得る断熱材料として、破断強
度、破断伸度が共に大きく、かつ金属との密着力が大き
いことが要求されるが、ポリイミドはこれらの要求を満
たし好都合である。中でも、フッ素などの金属との密着
性を阻害する物質を含まない強靱な直鎖型の高分子量ポ
リイミドが最も好ましい。
In the step of supplying the heat-plasticized resin or resin composition into a mold and cooling it under pressure to obtain a molded body, the temperature of the mold surface reaches 100 ° C. for each molding. The difference heating and cooling are repeated. Generally, since the thermal expansion coefficient of the heat insulating material is significantly different from that of the metal, severe stress occurs at the interface between the metal and the heat insulating material. As a heat insulating material capable of withstanding this stress for tens of thousands of times, it is required that both the breaking strength and the breaking elongation are large and the adhesion to metal is large. Polyimide meets these requirements and is convenient. Among them, a tough linear high molecular weight polyimide containing no substance that inhibits adhesion to a metal such as fluorine is most preferable.

【0060】また、耐熱性を得るために、用いるポリイ
ミドのガラス転移温度(Tg)は高い方が好ましい。直
鎖型ポリイミドのTgは構成成分によって異なるが、T
gが200℃以上のものが好ましく、さらに好ましくは
230℃以上であり、最も好ましくは270℃以上であ
る。ポリイミドの熱伝導率は小さいほど好ましいが、熱
伝導率が0.002cal/cm・sec・℃以下のも
のが特に好ましく使用できる。
In order to obtain heat resistance, the glass transition temperature (Tg) of the polyimide used is preferably higher. Although the Tg of the linear polyimide varies depending on the constituent components,
g is preferably 200 ° C. or higher, more preferably 230 ° C. or higher, and most preferably 270 ° C. or higher. The smaller the thermal conductivity of the polyimide is, the more preferable it is. However, those having a thermal conductivity of 0.002 cal / cm · sec · ° C. or less can be particularly preferably used.

【0061】ポリイミド層の厚みは、0.01〜2mm
の範囲で適度に選択される。0.01mm未満の厚みで
は、結晶化が十分進んだ成形品を得るためには金型温度
を高くせねばならなく成形効率が落ちる。逆に金型温度
を低くすると成形効率は上がるが結晶化が十分進んだ成
形品を得ることができない。2mmを越えると、冷却効
果が低下し、成形効率が低下する。さらに、成形手法に
よっても好ましいポリイミド層の厚みは異なる。成形手
法が射出成形の場合では、0.01〜0.5mmの厚み
が好ましく、さらに好ましくは0.03〜0.2mmの
厚みである。成形手法がブロー成形あるいはプレス成形
の場合では、0.1〜1mmの厚みが好ましい。なお、
ここで言う「ポリイミドの厚み」は、層厚みが均一でな
い場合にはその最大厚みを意味する。
The thickness of the polyimide layer is 0.01 to 2 mm
Moderately selected in the range. If the thickness is less than 0.01 mm, the mold temperature must be increased to obtain a molded product with sufficiently advanced crystallization, and the molding efficiency is reduced. Conversely, when the mold temperature is lowered, the molding efficiency increases, but a molded product with sufficiently advanced crystallization cannot be obtained. If it exceeds 2 mm, the cooling effect is reduced and the molding efficiency is reduced. Further, the preferable thickness of the polyimide layer differs depending on the molding technique. When the molding technique is injection molding, the thickness is preferably from 0.01 to 0.5 mm, more preferably from 0.03 to 0.2 mm. When the molding technique is blow molding or press molding, a thickness of 0.1 to 1 mm is preferable. In addition,
The “thickness of the polyimide” mentioned here means the maximum thickness when the layer thickness is not uniform.

【0062】さらに、本発明に使用される直鎖型高分子
量ポリイミドの強度および伸度は大きいことが好まし
く、特に破断伸度が大きいことが耐冷熱サイクルには好
都合であり、その必要破断伸度は10%以上、好ましく
は20%以上である。破断伸度の測定はASTM D6
38に準じて行う。本発明に使用できる高分子量ポリイ
ミドの好適な例として、カプトン(商標、東レ(株)
製、Tg=428℃)、ノバックス(商標、三菱化学
(株)製、Tg=399℃)、ユーピレックスR(商
標、宇部興産(株)製、Tg=303℃)、ユーピレッ
クスS(商標、宇部興産(株)製、Tg=359℃)、
LarcTPI(商標、三井東圧化学(株)製、Tg=
256℃)などが挙げられる。
Further, the strength and elongation of the straight-chain high molecular weight polyimide used in the present invention are preferably high, and particularly, high elongation at break is advantageous for the cold-heat resistance cycle. Is at least 10%, preferably at least 20%. ASTM D6 for elongation at break
38. As a preferred example of the high molecular weight polyimide that can be used in the present invention, Kapton (trademark, Toray Industries, Inc.)
Tg = 428 ° C), Novax (trademark, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, Tg = 399 ° C), Iupirex R (trademark, manufactured by Ube Industries, Ltd., Tg = 303 ° C), Iupirex S (trademark, Ube Industries) (Tg = 359 ° C)
LarcTPI (trademark, manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc., Tg =
256 ° C.).

【0063】[0063]

【発明の実施の形態】以下に実施例を挙げて本発明をさ
らに具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない
限り、これらの実施例に何ら制約されるものではない。
本発明の実施例および比較例で用いられる金型は下記の
ものを使用した。 金型I:鋼材(S55C)で作られ、100mm×10
0mmの正方形、厚さ2mmの平板状キャビティを有す
る金型の型表面に、電気分解によって0.02mm厚み
に鏡面状硬質クロムメッキを施し、射出成型用金型Iと
した。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described more specifically below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples unless it exceeds the gist thereof.
The following molds were used in Examples and Comparative Examples of the present invention. Die I: Made of steel (S55C), 100mm × 10
The surface of a mold having a square cavity of 0 mm and a flat cavity having a thickness of 2 mm was subjected to mirror-like hard chrome plating to a thickness of 0.02 mm by electrolysis to obtain a mold I for injection molding.

【0064】金型II:金型Iの表面を十分脱脂し、直
鎖状ポリイミド前駆体、ポリイミドワニス「トレニース
#3000」(商標、東レ(株)製、硬化後のTg=3
00℃、熱伝導率0.0005cal/cm・sec・
℃、破断伸度60%)を塗布し、120℃、210℃、
290℃の順に加熱硬化させる。この塗布、加熱硬化を
3回繰り返してポリイミド層を形成する。ついで、バフ
にダイヤモンドペーストをつけて電動グラインダーで研
磨を行い、0.05mm厚みの鏡面状直鎖型ポリイミド
被覆層を形成し射出成型用金型IIとした。
Mold II: The surface of mold I was sufficiently degreased, and a linear polyimide precursor, polyimide varnish “Trenice # 3000” (trade name, manufactured by Toray Industries, Inc., Tg = 3 after curing)
00 ° C, thermal conductivity 0.0005 cal / cm · sec ·
° C, elongation at break of 60%)
Heat and cure in the order of 290 ° C. This coating and heat curing are repeated three times to form a polyimide layer. Next, a diamond paste was applied to the buff and polished with an electric grinder to form a mirror-like linear polyimide coating layer having a thickness of 0.05 mm to obtain an injection mold II.

【0065】本発明の実施例および比較例で用いた各種
物性は、以下の試験方法に基づいて測定した。 (1)耐熱性 試験片を、5mm×5mm×2mmの大きさに切り出
し、JIS K7196に準拠して、軟化温度を測定し
た。
Various physical properties used in Examples and Comparative Examples of the present invention were measured based on the following test methods. (1) Heat resistance A test piece was cut into a size of 5 mm × 5 mm × 2 mm, and the softening temperature was measured in accordance with JIS K7196.

【0066】(2)導電性 ASTM D−257に準拠して表面抵抗率を測定し
た。 (3)熱エージング性 150℃の熱風オーブン中で1週間エージングした後、
引張り試験を行い、エージング前後の引張り強度保持率
を求めた。
(2) Conductivity The surface resistivity was measured according to ASTM D-257. (3) Thermal aging property After aging for 1 week in a hot air oven at 150 ° C,
A tensile test was performed to determine a tensile strength retention before and after aging.

【0067】(4)高温下形状安定性 射出成形された300mm×135mmのICトレーを
20枚重ねて、130℃の熱風オーブン中にすばやく設
置し、10分後にこのオーブンより取り出し、室温で3
0分放置、冷却後、トレー間の間隙量を測定した。ま
た、本発明の実施例で用いた(A)、(B)および
(C)の各成分は、次に挙げたものを用いた。
(4) Shape stability at high temperature Twenty IC-molded 300 mm × 135 mm IC trays were stacked, quickly placed in a 130 ° C. hot air oven, taken out of the oven after 10 minutes, and cooled at room temperature for 3 hours.
After leaving for 0 minute and cooling, the gap amount between the trays was measured. The components (A), (B) and (C) used in the examples of the present invention were as follows.

【0068】(A)シンジオタクティックポリスチレン 1,2,4−トリクロロベンゼンを溶媒とし、130℃
でゲルパーミエーションクロマトグラフィーにて測定し
た重量平均分子量が310,000、重量平均分子量/
数平均分子量が2.6、13C−NMRの分析によるラ
セミペンタッドでのシンジオタクティシティーが97%
であるシンジオタクティックポリスチレン。
(A) Syndiotactic polystyrene 1,2,4-trichlorobenzene as a solvent at 130 ° C.
The weight average molecular weight measured by gel permeation chromatography was 310,000, and the weight average molecular weight /
The number average molecular weight is 2.6, and the syndiotacticity in racemic pentad by 13C-NMR analysis is 97%.
Is syndiotactic polystyrene.

【0069】(B)(A)成分以外の重合体 B−1:クロロホルムを溶媒とし、40℃でゲルパーミ
エーションクロマトグラフィーにて測定した重量平均分
子量が270,000、重量平均分子量/数平均分子量
が2.2である熱重合により重合したアタクティックポ
リスチレン。 B−2:ポリカーボネート(商標:パンライトL−12
25、帝人化成(株)製) B−3:ポリエチレンテレフタレート(商標:パイロペ
ットRY533、東洋紡績(株)製) B−4:ナイロン66(商標:2015B、宇部興産
(株)製) B−5:米国特許4,788,277号明細書に記載さ
れている方法に従い、ジブチルアミンの存在下に2,6
−キシレノールを酸化カップリング重合した、η(sp
/c)=0.42であるポリ(2,6−ジメチル−1,
4−フェニレン)エーテル。
(B) Polymer other than the component (A) B-1: Weight average molecular weight measured by gel permeation chromatography at 40 ° C. using chloroform as a solvent at 270,000, weight average molecular weight / number average molecular weight Is atactic polystyrene which is polymerized by thermal polymerization, wherein is 2.2. B-2: Polycarbonate (trademark: Panlite L-12)
25, Teijin Chemicals Ltd.) B-3: Polyethylene terephthalate (trademark: Pyropet RY533, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) B-4: Nylon 66 (trademark: 2015B, manufactured by Ube Industries, Ltd.) B-5 : 2,6 in the presence of dibutylamine according to the method described in U.S. Patent 4,788,277.
-Xylene is oxidatively coupled and polymerized, η (sp
/C)=0.42 poly (2,6-dimethyl-1,1)
4-phenylene) ether.

【0070】B−6:A−5のポリエーテルを無水マレ
イン酸で変性した無水マレイン酸変性ポリフェニレンエ
ーテル。 B−7:スチレン−水素化ブタジエンブロック共重合体
エラストマー(商標:タフテック H1272、旭化成
工業(株)製) B−8:無水マレイン酸変性スチレン−水素化ブタジエ
ンブロック共重合体エラストマー(商標:タフテック
M1913、旭化成工業(株)製) (C)導電性カーボン ケッチェンブラック EC600JD(アクゾ社製、導
電性カーボン)
B-6: Maleic anhydride-modified polyphenylene ether obtained by modifying the polyether of A-5 with maleic anhydride. B-7: Styrene-hydrogenated butadiene block copolymer elastomer (trade name: TUFTEC H1272, manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.) B-8: Maleic anhydride-modified styrene-hydrogenated butadiene block copolymer elastomer (trade name: TUFTEC
(M1913, manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.) (C) Conductive carbon Ketjen Black EC600JD (Conducted carbon, manufactured by Akzo)

【0071】[0071]

【実施例1】表1に示す所定量にて(A)、(B)およ
び(C)成分をドライブレンドして調整した。これを、
ベント付き同方向回転二軸押出機(内径40mm、L/
D=46)を使用して、バレル設定温度330℃で溶融
混練しペレットを作成した。なお、溶融混練の際、酸化
防止剤として(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフ
ェニル)ペンタエリストールジホスファイトを0.1重
量部およびテトラキス〔メチレン−3−(3’,5’−
ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)〕を0.
1重量部、核剤としてメチレンビス(2,4−ジ−t−
ブチルフェノール)アシッドホスフェートナトリウムを
0.5重量部添加した。
Example 1 Components (A), (B) and (C) were dry-blended and adjusted in predetermined amounts shown in Table 1. this,
Co-rotating twin screw extruder with vent (40 mm inner diameter, L /
D = 46), and melt-kneaded at a barrel setting temperature of 330 ° C. to form pellets. In addition, at the time of melt kneading, 0.1 parts by weight of (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite as an antioxidant and tetrakis [methylene-3- (3 ′, 5'-
Di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl)].
1 part by weight, methylene bis (2,4-di-t-
0.5 parts by weight of sodium butylphenol) acid phosphate were added.

【0072】得られたペレットを、金型IIを用い、成
形温度330℃、金型温度80℃で射出成形し、100
mm×100mm×2mmの試験片および300mm×
135mmのICトレーを得た。測定結果を表1に示
す。
The obtained pellets were injection-molded using a mold II at a molding temperature of 330 ° C. and a mold temperature of 80 ° C.
mm × 100mm × 2mm test piece and 300mm ×
A 135 mm IC tray was obtained. Table 1 shows the measurement results.

【0073】[0073]

【実施例2〜5】組成を表1に示すようにし、バレル設
定温度330℃で溶融混練してペレット化し、成形温度
300℃、金型温度80℃で射出成形したこと以外は、
実施例1と同様である。
Examples 2 to 5 Except that the composition was as shown in Table 1, melt-kneading was performed at a barrel setting temperature of 330 ° C. to form pellets, and injection molding was performed at a molding temperature of 300 ° C. and a mold temperature of 80 ° C.
This is similar to the first embodiment.

【0074】[0074]

【実施例6、7】組成を表1に示すようにし、バレル設
定温度300℃で溶融混練してペレット化し、成形温度
300℃、金型温度80℃で射出成形したこと以外は、
実施例1と同様である。
Examples 6 and 7 Except that the composition was as shown in Table 1, melt-kneading was performed at a barrel setting temperature of 300 ° C. to form pellets, and injection molding was performed at a molding temperature of 300 ° C. and a mold temperature of 80 ° C.
This is similar to the first embodiment.

【0075】[0075]

【実施例8】組成を表1に示すようにし、バレル設定温
度330℃で溶融混練してペレット化し、成形温度33
0℃、金型温度80℃で射出成形したこと以外は、実施
例1と同様である。
Example 8 The composition was as shown in Table 1, and the mixture was melt-kneaded at a barrel setting temperature of 330 ° C. to form a pellet.
It is the same as Example 1 except that injection molding was performed at 0 ° C. and a mold temperature of 80 ° C.

【0076】[0076]

【実施例9】組成を表1に示すようにし、バレル設定温
度300℃で溶融混練してペレット化し、成形温度30
0℃、金型温度80℃で射出成形したこと以外は、実施
例1と同様である。
EXAMPLE 9 The composition was as shown in Table 1, and the mixture was melt-kneaded at a barrel setting temperature of 300 ° C., pelletized, and formed at a molding temperature of 30 ° C.
It is the same as Example 1 except that injection molding was performed at 0 ° C. and a mold temperature of 80 ° C.

【0077】[0077]

【実施例10、11】組成を表1に示すようにし、バレ
ル設定温度330℃で溶融混練してペレット化し、成形
温度330℃、金型温度80℃で射出成形したこと以外
は、実施例1と同様である。
Examples 10 and 11 Example 1 was repeated except that the composition was as shown in Table 1, melt-kneaded at a barrel setting temperature of 330 ° C., pelletized, and injection-molded at a molding temperature of 330 ° C. and a mold temperature of 80 ° C. Is the same as

【0078】[0078]

【比較例1〜11】表2に示すように、金型Iを使用し
た以外は、実施例1〜11とそれぞれ同様である。
Comparative Examples 1 to 11 As shown in Table 2, the same procedures as in Examples 1 to 11 were carried out except that the mold I was used.

【0079】[0079]

【表1】 [Table 1]

【0080】[0080]

【表2】 [Table 2]

【0081】[0081]

【発明の効果】本発明により得られた樹脂成形品および
ICトレーは、良好な耐熱性、熱エージング性を示し、
導電性も108Ω以下と良好であり、かつ高温下におけ
る形状安定性も優れることから、耐熱用ICトレーとし
て優れる。
The resin molded article and the IC tray obtained by the present invention show good heat resistance and heat aging,
Since the conductivity is as good as 108Ω or less and the shape stability under high temperature is also excellent, it is excellent as a heat-resistant IC tray.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)シンジオタクティックな立体規則
性を有するスチレン系重合体1〜99重量%、および、
(B)(A)成分以外の一種類以上の重合体99〜1重
量%からなる組成の混合物100重量部に対して、
(C)導電性カーボン1〜50重量部を含む樹脂組成物
を、270〜370℃の範囲で加熱溶融し、20℃にお
ける熱伝導率が0.01cal/cm・sec・℃以下
である断熱材料が被覆された型キャビティを20〜15
0℃の温度とし、該型キャビティーを有する金型を用い
て成形することを特徴とする樹脂成形品の成形方法。
(A) 1 to 99% by weight of a styrene polymer having syndiotactic stereoregularity, and
(B) For 100 parts by weight of a mixture of 99 to 1% by weight of one or more polymers other than the component (A),
(C) A heat insulating material having a thermal conductivity of 0.01 cal / cm · sec · ° C. or less at 20 ° C. by heating and melting a resin composition containing 1 to 50 parts by weight of conductive carbon in a range of 270 to 370 ° C. The mold cavity coated with
A method for molding a resin molded article, comprising: molding at a temperature of 0 ° C. using a mold having the mold cavity.
【請求項2】 請求項1記載の成形方法で成形された樹
脂成形品。
2. A resin molded article molded by the molding method according to claim 1.
【請求項3】 樹脂成形品がIC用耐熱トレーである請
求項1記載の成形方法。
3. The molding method according to claim 1, wherein the resin molded product is a heat-resistant tray for IC.
【請求項4】 請求項3記載の成形方法で成形されたI
C用耐熱トレー。
4. An I molded by the molding method according to claim 3.
Heat-resistant tray for C.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018123266A (en) * 2017-02-02 2018-08-09 古河電気工業株式会社 Conductive resin molding and conductive resin composition

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