JPH1149722A - Production of biphenyl derivative - Google Patents
Production of biphenyl derivativeInfo
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- JPH1149722A JPH1149722A JP21979497A JP21979497A JPH1149722A JP H1149722 A JPH1149722 A JP H1149722A JP 21979497 A JP21979497 A JP 21979497A JP 21979497 A JP21979497 A JP 21979497A JP H1149722 A JPH1149722 A JP H1149722A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は医農薬、液晶、耐熱
性高分子、及び液晶性高分子等の中間体として有用であ
るビフェニル誘導体の製造に関する。The present invention relates to the production of biphenyl derivatives useful as intermediates for pharmaceuticals and agricultural chemicals, liquid crystals, heat-resistant polymers, liquid crystalline polymers and the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、ビフェニル誘導体の製造法とし
て、1)Ullman反応による方法(特開平4−25
7564)、2)有機金属化合物とハロゲン化アリール
化合物をPd錯体等の触媒存在下カップリングさせる方
法(特開平5−97813、6−234690)、3)
ハロゲン化アリール化合物をNi触媒および金属粉の存
在下カップリングさせる方法(特開平6−6515
3)、4)α-シアノケイ皮酸エステル類とブタジエン
を環化反応させてテトラヒドロビフェニル誘導体を合成
し、さらに脱水素、脱炭酸することにより合成する方法
(特開平9−87238)などが知られている。2. Description of the Related Art Hitherto, as a method for producing a biphenyl derivative, 1) a method based on the Ullman reaction (Japanese Patent Laid-open No.
7564), 2) A method of coupling an organometallic compound and an aryl halide compound in the presence of a catalyst such as a Pd complex (Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 5-97913, 6-234690), 3)
Method for coupling an aryl halide compound in the presence of a Ni catalyst and metal powder (JP-A-6-6515)
3), 4) A method of synthesizing a tetrahydrobiphenyl derivative by cyclizing an α-cyanocinnamic acid ester with butadiene, followed by dehydrogenation and decarboxylation (JP-A-9-87238) is known. ing.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】従来の方法は有機金属
化合物等を用いる無水条件下での反応や高温・高圧条件
下での反応、また高価な触媒等を必要とするなど製造上
設備及びコスト面において多くの問題があった。さらに
反応の選択性が必ずしも高くないことから、副生成物が
多く生成し、単離精製が煩雑であるなどの問題もあっ
た。The conventional methods involve a reaction under anhydrous conditions using an organometallic compound or the like, a reaction under high-temperature and high-pressure conditions, and require an expensive catalyst or the like in terms of production equipment and cost. There were many problems in terms of surface. Furthermore, since the selectivity of the reaction is not always high, there are also problems such as generation of many by-products and complicated isolation and purification.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明は安価な原料を用
いた穏和な反応条件での選択的なビフェニル化合物の新
規製造法を提供する。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a novel process for the selective production of biphenyl compounds using inexpensive raw materials under mild reaction conditions.
【0005】すなわち一般式(1)That is, the general formula (1)
【0006】[0006]
【化11】 Embedded image
【0007】(式中XはH、C1 〜C4 のアルキル基又
はC1 〜C4 のアルコキシ基を示し、YはCO2 R又は
CNを示し、RはH又はC1 〜C4 のアルキル基を示
す。ただしXがHでYがCO2 Me、CO2 Etの場合
を除く。)で表される化合物から、一般式(2)Wherein X represents H, a C 1 -C 4 alkyl group or a C 1 -C 4 alkoxy group, Y represents CO 2 R or CN, and R represents H or C 1 -C 4 An alkyl group, except that X is H and Y is CO 2 Me or CO 2 Et).
【0008】[0008]
【化12】 Embedded image
【0009】(式中XはH、C1 〜C4 のアルキル基又
はC1 〜C4 のアルコキシ基を示し、YはCO2 R又は
CNを示し、RはH又はC1 〜C4 のアルキル基を示
す。ただしXがHでYがCO2 Me、CO2 Etの場合
を除く。)で表される化合物から、一般式(3)Wherein X represents H, a C 1 -C 4 alkyl group or a C 1 -C 4 alkoxy group, Y represents CO 2 R or CN, and R represents H or C 1 -C 4 An alkyl group, except that X is H and Y is CO 2 Me or CO 2 Et.)
【0010】[0010]
【化13】 Embedded image
【0011】(式中XはH、C1 〜C4 のアルキル基又
はC1 〜C4 のアルコキシ基を示し、YはCO2 R又は
CNを示し、RはH又はC1 〜C4 のアルキル基を示
す。ただしXがHでYがCO2 Me、CO2 Etの場合
を除く。)で表されるシクロヘキセノン誘導体、一般式
(4a)、(4b)Wherein X represents H, a C 1 -C 4 alkyl group or a C 1 -C 4 alkoxy group, Y represents CO 2 R or CN, and R represents H or C 1 -C 4 An alkyl group, except that X is H and Y is CO 2 Me or CO 2 Et), and a cyclohexenone derivative represented by the general formula (4a) or (4b)
【0012】[0012]
【化14】 Embedded image
【0013】で表されるシクロヘキサジエン誘導体及び
それらを中間体とする一般式(5)Cyclohexadiene derivatives represented by the general formula (5)
【0014】[0014]
【化15】 Embedded image
【0015】(式中XはH、C1 〜C4 のアルキル基又
はC1 〜C4 のアルコキシ基を示し、YはCO2 R又は
CNを示し、RはH又はC1 〜C4 のアルキル基を示
す。)で表されるビフェニル誘導体の製造法に関する。(Wherein X represents H, a C 1 -C 4 alkyl group or a C 1 -C 4 alkoxy group, Y represents CO 2 R or CN, and R represents H or C 1 -C 4 Which represents an alkyl group).
【0016】本発明の一般式(1)から一般式(4)に
おいてXとしては例えば水素、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポ
キシ基、ブトキシ基などが挙げられ、好ましくはメチル
基であり、その置換位置としてはパラ位が好ましい。Y
としては例えばシアノ基、カルボン酸基、メトキシカル
ボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニ
ル基、ブトキシカルボニル基がなど挙げられ、好ましく
はシアノ基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
ル基である。In the general formulas (1) to (4) of the present invention, X represents, for example, hydrogen, methyl, ethyl, propyl, butyl, methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy and the like. And preferably a methyl group, and the substitution position is preferably the para position. Y
Examples thereof include a cyano group, a carboxylic acid group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group, and the like. Preferred are a cyano group, a methoxycarbonyl group, and an ethoxycarbonyl group.
【0017】[0017]
【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。反
応工程は次に示すとおりである。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail. The reaction steps are as follows.
【0018】[0018]
【化16】 Embedded image
【0019】(図中XはH、C1 〜C4 のアルキル基又
はC1 〜C4 のアルコキシ基を示し、YはCO2 R又は
CNを示し、RはH又はC1 〜C4 のアルキル基を示
し、Zはハロゲン原子を示す。ただし一般式(1)およ
び(2)においてはXがHでYがCO2 Me、CO2 E
tの場合を除く。)(In the figure, X represents H, a C 1 -C 4 alkyl group or a C 1 -C 4 alkoxy group, Y represents CO 2 R or CN, and R represents H or C 1 -C 4 In the general formulas (1) and (2), X is H, Y is CO 2 Me, and CO 2 E is an alkyl group, and Z is a halogen atom.
Except for the case of t. )
【0020】第1工程:一般式(1)の化合物から一般
式(2)の化合物製造: 一般式(2)First step: Production of compound of general formula (2) from compound of general formula (1): general formula (2)
【0021】[0021]
【化17】 Embedded image
【0022】(式中XはH、C1 〜C4 のアルキル基又
はC1 〜C4 のアルコキシ基を示し、YはCO2 R又は
CNを示し、RはH又はC1 〜C4 のアルキル基を示
す。ただしXがHでYがCO2 Me、CO2 Etの場合
を除く。)の化合物は一般式(1)(Wherein X represents H, a C 1 -C 4 alkyl group or a C 1 -C 4 alkoxy group, Y represents CO 2 R or CN, and R represents H or C 1 -C 4 Represents an alkyl group, except that X is H and Y is CO 2 Me or CO 2 Et).
【0023】[0023]
【化18】 Embedded image
【0024】(式中XはH、C1 〜C4 のアルキル基又
はC1 〜C4 のアルコキシ基を示し、YはCO2 R又は
CNを示し、RはH又はC1 〜C4 のアルキル基を示
す。ただしXがHでYがCO2 Me、CO2 Etの場合
を除く。)の化合物を溶媒中または無溶媒にて塩基存在
下メチルビニルケトンと反応させることにより製造する
ことができる。(Wherein X represents H, a C 1 -C 4 alkyl group or a C 1 -C 4 alkoxy group, Y represents CO 2 R or CN, and R represents H or C 1 -C 4 Represents an alkyl group, provided that X is H and Y is CO 2 Me or CO 2 Et.) The compound can be produced by reacting a compound with methyl vinyl ketone in a solvent or in the absence of a solvent in the presence of a base. it can.
【0025】上記反応に用いる溶媒としては、例えばメ
タノール、エタノールなどの脂肪族低級アルコール、ト
ルエンなどの芳香族炭化水素、テトラヒドロフランなど
のエーテル系炭化水素、ジクロロメタンなどの有機塩素
系炭化水素、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
ドなどの非プロトン性極性溶媒、水及びそれらの混合物
が挙げられる。好ましくは、脂肪族低級アルコール、芳
香族炭化水素、エーテル系炭化水素、水及びそれらの混
合物が挙げられる。反応温度は通常−20℃から溶媒還
流温度であり、好ましくは0℃から溶媒還流温度であ
る。Examples of the solvent used in the above reaction include aliphatic lower alcohols such as methanol and ethanol, aromatic hydrocarbons such as toluene, ether hydrocarbons such as tetrahydrofuran, organic chlorine hydrocarbons such as dichloromethane, dimethylformamide, and the like. Aprotic polar solvents such as dimethyl sulfoxide, water and mixtures thereof. Preferably, aliphatic lower alcohols, aromatic hydrocarbons, ether hydrocarbons, water, and mixtures thereof are used. The reaction temperature is usually from −20 ° C. to the solvent reflux temperature, preferably from 0 ° C. to the solvent reflux temperature.
【0026】縮合剤としては塩基、酸、遷移金属化合物
などが挙げられる。塩基としては、例えばKOH、Na
OHなどのアルカリ金属水酸化物、K2 CO3 、Na2
CO3 などのアルカリ金属炭酸塩、MeONa、EtO
Na、t−BuOKなどの脂肪族低級アルコールのアル
カリ金属塩、NaHなどのアルカリ金属水素化物、ピリ
ジン、トリエチルアミンなどの有機塩基であり、好まし
くはアルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、脂肪
族低級アルコールのアルカリ金属塩、有機塩基である。
また、その使用量は通常0.001から5当量であり、
好ましくは0.005から3当量である。酸としては硫
酸、塩酸などの無機酸、酢酸などの有機酸などが挙げら
れる。遷移金属化合物としてはYb(OTf)3 、Eu
Cl3 、Ni(acac)2などが挙げられる。その使用
量は通常0.001から5当量であり好ましくは0.0
05から0.5当量である。Examples of the condensing agent include bases, acids, transition metal compounds and the like. As the base, for example, KOH, Na
Alkali metal hydroxides such as OH, K 2 CO 3 , Na 2
Alkali metal carbonates such as CO 3 , MeONa, EtO
Alkali metal salts of aliphatic lower alcohols such as Na and t-BuOK; alkali metal hydrides such as NaH; organic bases such as pyridine and triethylamine; preferably alkali metal hydroxides, alkali metal carbonates and aliphatic lower salts Alkali metal salts of alcohols, organic bases.
The amount used is usually 0.001 to 5 equivalents,
Preferably it is 0.005 to 3 equivalents. Examples of the acid include inorganic acids such as sulfuric acid and hydrochloric acid, and organic acids such as acetic acid. Transition metal compounds include Yb (OTf) 3 , Eu
Cl 3 , Ni (acac) 2 and the like. The use amount is usually 0.001 to 5 equivalents, preferably 0.0
05 to 0.5 equivalent.
【0027】第2工程:一般式(2)の化合物から一般
式(3)の化合物の製造: 一般式(3)Step 2: Preparation of a compound of the general formula (3) from a compound of the general formula (2):
【0028】[0028]
【化19】 Embedded image
【0029】(式中XはH、C1 〜C4 のアルキル基又
はC1 〜C4 のアルコキシ基を示し、YはCO2 R又は
CNを示し、RはH又はC1 〜C4 のアルキル基を示
す。ただしXがHでYがCO2 Me、CO2 Etの場合
を除く。)の化合物は一般式(2)Wherein X is H, a C 1 -C 4 alkyl group or a C 1 -C 4 alkoxy group, Y is CO 2 R or CN, and R is H or C 1 -C 4 Represents an alkyl group, except that X is H and Y is CO 2 Me or CO 2 Et.
【0030】[0030]
【化20】 Embedded image
【0031】(式中XはH、C1 〜C4 のアルキル基又
はC1 〜C4 のアルコキシ基を示し、YはCO2 R又は
CNを示し、RはH又はC1 〜C4 のアルキル基を示
す。ただしXがHでYがCO2 Me、CO2 Etの場合
を除く。)の化合物を溶媒中または無溶媒にて塩基また
は酸の存在下もしくはその混在下環化反応を行うことに
より製造することができる。Wherein X represents H, a C 1 -C 4 alkyl group or a C 1 -C 4 alkoxy group, Y represents CO 2 R or CN, and R represents H or C 1 -C 4 A compound wherein X is H and Y is CO 2 Me or CO 2 Et) is subjected to a cyclization reaction in the presence or absence of a base or acid in a solvent or without a solvent. It can be manufactured by the following.
【0032】上記反応に用いる溶媒としては、例えばメ
タノール、エタノールなどの脂肪族低級アルコール、ト
ルエンなどの芳香族炭化水素、テトラヒドロフランなど
のエーテル系炭化水素、ジクロロメタンなどの有機塩素
系炭化水素、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
ドなどの非プロトン性極性溶媒、水及びそれらの混合物
が挙げられる。好ましくは、脂肪族低級アルコール、芳
香族炭化水素、エーテル系炭化水素、水及びそれらの混
合物が挙げられる。反応温度は通常0℃から溶媒還流温
度であり、好ましくは20℃から溶媒還流温度である。Examples of the solvent used in the above reaction include aliphatic lower alcohols such as methanol and ethanol, aromatic hydrocarbons such as toluene, ether hydrocarbons such as tetrahydrofuran, organic chlorine hydrocarbons such as dichloromethane, dimethylformamide, and the like. Aprotic polar solvents such as dimethyl sulfoxide, water and mixtures thereof. Preferably, aliphatic lower alcohols, aromatic hydrocarbons, ether hydrocarbons, water, and mixtures thereof are used. The reaction temperature is usually from 0 ° C. to the solvent reflux temperature, preferably from 20 ° C. to the solvent reflux temperature.
【0033】塩基としては、例えばKOH、NaOHな
どのアルカリ金属水酸化物、K2 CO3 、Na2 CO3
などのアルカリ金属炭酸塩、MeONa、EtONa、
t−BuOKなどの脂肪族低級アルコールのアルカリ金
属塩、NaHなどのアルカリ金属水素化物、ピリジン、
トリエチルアミン、ピロリジン、ピペリジンなどの有機
塩基であり、好ましくはアルカリ金属水酸化物、アルカ
リ金属炭酸塩、脂肪族低級アルコールのアルカリ金属
塩、有機塩基である。また、その使用量は通常0.00
1から5当量であり、好ましくは0.01から3当量で
ある。酸としてはギ酸、酢酸など有機酸、塩酸、硫酸な
どの無機酸であり、好ましくは有機酸である。また、そ
の使用量は通常0.001から5当量であり、好ましく
は0.01から3当量である。上記塩基および酸を混合
して使用することもでき、好ましくは有機塩基と有機酸
の混在である。As the base, for example, alkali metal hydroxides such as KOH and NaOH, K 2 CO 3 , Na 2 CO 3
Alkali metal carbonates such as MeONa, EtONa,
alkali metal salts of aliphatic lower alcohols such as t-BuOK, alkali metal hydrides such as NaH, pyridine,
Organic bases such as triethylamine, pyrrolidine, piperidine and the like, preferably alkali metal hydroxides, alkali metal carbonates, alkali metal salts of aliphatic lower alcohols, and organic bases. The amount used is usually 0.00
It is 1 to 5 equivalents, preferably 0.01 to 3 equivalents. The acid is an organic acid such as formic acid or acetic acid, or an inorganic acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid, and is preferably an organic acid. The amount used is usually 0.001 to 5 equivalents, preferably 0.01 to 3 equivalents. The above bases and acids can be used as a mixture, and are preferably mixed with an organic base and an organic acid.
【0034】第3工程:一般式(3)の化合物から一般
式(4a)または(4b)もしくはその混合物の製造: 一般式(4a)または(4b)Third step: Preparation of general formula (4a) or (4b) or a mixture thereof from compound of general formula (3): general formula (4a) or (4b)
【0035】[0035]
【化21】 Embedded image
【0036】(式中XはH、C1 〜C4 のアルキル基又
はC1 〜C4 のアルコキシ基を示し、YはCO2 R又は
CNを示し、RはH又はC1 〜C4 のアルキル基を示
す。)もしくはその混合物は一般式(3)(Wherein X represents H, a C 1 -C 4 alkyl group or a C 1 -C 4 alkoxy group, Y represents CO 2 R or CN, and R represents H or C 1 -C 4 Represents an alkyl group.) Or a mixture thereof has the general formula (3)
【0037】[0037]
【化22】 Embedded image
【0038】(式中XはH、C1 〜C4 のアルキル基又
はC1 〜C4 のアルコキシ基を示し、YはCO2 R又は
CNを示し、RはH又はC1 〜C4 のアルキル基を示
す。)の化合物を溶媒中または無溶媒にてハロゲン化剤
と反応させることにより製造することができる。Wherein X is H, a C 1 -C 4 alkyl group or a C 1 -C 4 alkoxy group, Y is CO 2 R or CN, and R is H or C 1 -C 4 Which represents an alkyl group)) in a solvent or without a solvent with a halogenating agent.
【0039】上記反応に用いる溶媒としては、例えばト
ルエンなどの芳香族炭化水素、テトラヒドロフランなど
のエーテル系炭化水素、ジクロロメタンなどの有機塩素
系炭化水素、n−ヘキサンなどの脂肪族炭化水素及びそ
れらの混合物が挙げられる。好ましくは、芳香族炭化水
素、有機塩素系炭化水素、脂肪族炭化水素及びそれらの
混合物が挙げられる。反応温度は通常−20℃から溶媒
還流温度であり、好ましくは0℃から溶媒還流温度であ
る。ハロゲン化剤の種類としては例えばオキザリルクロ
ド、塩化チオニル、オキシ塩化リン等が挙げられ、好ま
しくはオキザリルクロリドである。また、その使用量は
通常0.5から10当量であり、好ましくは1から5当
量である。Examples of the solvent used in the above reaction include aromatic hydrocarbons such as toluene, ether hydrocarbons such as tetrahydrofuran, organic chlorine hydrocarbons such as dichloromethane, aliphatic hydrocarbons such as n-hexane, and mixtures thereof. Is mentioned. Preferably, aromatic hydrocarbons, organic chlorinated hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons and mixtures thereof are used. The reaction temperature is usually from −20 ° C. to the solvent reflux temperature, preferably from 0 ° C. to the solvent reflux temperature. Examples of the type of the halogenating agent include oxalyl chloride, thionyl chloride, and phosphorus oxychloride, and oxalyl chloride is preferable. The amount used is usually 0.5 to 10 equivalents, preferably 1 to 5 equivalents.
【0040】第4工程:一般式(4a)または(4b)
もしくはその混合物から一般式(5)の化合物の製造: 一般式(5)Fourth step: General formula (4a) or (4b)
Or production of a compound of general formula (5) from a mixture thereof: general formula (5)
【0041】[0041]
【化23】 Embedded image
【0042】(式中XはH、C1 〜C4 のアルキル基又
はC1 〜C4 のアルコキシ基を示し、YはCO2 R又は
CNを示し、RはH又はC1 〜C4 のアルキル基を示
す。)の化合物は一般式(4a)または(4b)Wherein X represents H, a C 1 -C 4 alkyl group or a C 1 -C 4 alkoxy group, Y represents CO 2 R or CN, and R represents H or C 1 -C 4 A compound represented by the general formula (4a) or (4b)
【0043】[0043]
【化24】 Embedded image
【0044】(式中XはH、C1 〜C4 のアルキル基又
はC1 〜C4 のアルコキシ基を示し、YはCO2 R又は
CNを示し、RはH又はC1 〜C4 のアルキル基を示
す。)もしくはその混合物を溶媒中または無溶媒にて塩
基で処理することにより製造することができる。(Wherein X represents H, a C 1 -C 4 alkyl group or a C 1 -C 4 alkoxy group, Y represents CO 2 R or CN, and R represents H or C 1 -C 4 Or a mixture thereof with a base in a solvent or without a solvent.
【0045】上記反応に用いる溶媒としては、例えばメ
タノール、エタノールなどの脂肪族低級アルコール、ト
ルエンなどの芳香族炭化水素、テトラヒドロフランなど
のエーテル系炭化水素、ジクロロメタンなどの有機塩素
系炭化水素、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
ド、水及びそれらの混合物が挙げられる。好ましくは、
脂肪族低級アルコール、芳香族炭化水素、エーテル系炭
化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。反応温度
は通常−20℃から溶媒還流温度であり、好ましくは0
℃から溶媒還流温度である。Examples of the solvent used in the above reaction include aliphatic lower alcohols such as methanol and ethanol, aromatic hydrocarbons such as toluene, ether hydrocarbons such as tetrahydrofuran, organic chlorine hydrocarbons such as dichloromethane, dimethylformamide, and the like. Dimethyl sulfoxide, water and mixtures thereof. Preferably,
Examples include aliphatic lower alcohols, aromatic hydrocarbons, ether hydrocarbons, water, and mixtures thereof. The reaction temperature is usually from −20 ° C. to the solvent reflux temperature,
The temperature is from ℃ to the reflux temperature of the solvent.
【0046】塩基としては、例えばKOH、NaOHな
どのアルカリ金属水酸化物、K2 CO3 、Na2 CO3
などのアルカリ金属炭酸塩、MeONa、EtONa、
t−BuOKなどの脂肪族低級アルコールのアルカリ金
属塩、NaHなどのアルカリ金属水素化物、ピリジン、
トリエチルアミンなどの有機塩基であり、好ましくはア
ルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、脂肪族低級
アルコールのアルカリ金属塩である。また、その使用量
は通常0.5から20当量であり、好ましくは1から1
0当量である。Examples of the base include alkali metal hydroxides such as KOH and NaOH, K 2 CO 3 and Na 2 CO 3
Alkali metal carbonates such as MeONa, EtONa,
alkali metal salts of aliphatic lower alcohols such as t-BuOK, alkali metal hydrides such as NaH, pyridine,
Organic bases such as triethylamine are preferred, and alkali metal hydroxides, alkali metal carbonates and alkali metal salts of aliphatic lower alcohols are preferred. The amount used is usually 0.5 to 20 equivalents, preferably 1 to 1 equivalent.
It is 0 equivalent.
【0047】[0047]
【実施例】以下に実施例を示し本発明をさらに具体的に
説明する。 実施例1 2−((4−メチルフェニル)カルボニル)−5−オキ
ソヘキサン酸エチルエステルの製造 4′−メチルベンゾイル酢酸エチルエステル2.28g
(11.1mmol)のエタノール溶液(10ml)に
ナトリウムエトキシド11mg(0.16mmol)を
添加し、メチルビニルケトン2.0g(27.8mmo
l)を冷却下、25℃以下でゆっくり滴下した。同温で
4時間撹拌した。エタノールを減圧下留去後、希塩酸を
加え酸性とした後、酢酸エチルにより抽出した。有機層
を飽和食塩水により洗浄し、無水硫酸マグネシウムによ
り乾燥した。次いで無水硫酸マグネシウムを濾過し、減
圧下溶媒を留去することにより残留物を得た。これをシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサンー酢酸エ
チル系)により精製し目的物を淡黄色オイルとして得
た。(2.73g、収率89.0%)The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. Example 1 Preparation of ethyl 2-((4-methylphenyl) carbonyl) -5-oxohexanoate 2.28 g of 4'-methylbenzoylacetic acid ethyl ester
11 mg (0.16 mmol) of sodium ethoxide was added to an ethanol solution (10 ml) of (11.1 mmol), and 2.0 g (27.8 mmol) of methyl vinyl ketone was added.
1) was slowly added dropwise at 25 ° C. or lower under cooling. The mixture was stirred at the same temperature for 4 hours. After distilling off ethanol under reduced pressure, the mixture was acidified by adding dilute hydrochloric acid, and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with brine and dried over anhydrous magnesium sulfate. Then, anhydrous magnesium sulfate was filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a residue. This was purified by silica gel column chromatography (hexane-ethyl acetate system) to obtain the desired product as a pale yellow oil. (2.73 g, yield 89.0%)
【0048】1H−NMR(ppm,300MHz,C
DCl3 )δ7.92(2H,d,J=8.0Hz)、
7.28(2H,d,J=8.0Hz)、4.41(1
H,t,J=7.0Hz)、4.14(2H,q,J=
6.9Hz)、2.55〜2.60(2H,m)、2.
42(3H,s)、2.20〜2.25(2H,m)、
2.13(3H,s)、1.17(3H,t,J=6.
9Hz) 1 H-NMR (ppm, 300 MHz, C
DCL 3 ) δ 7.92 (2H, d, J = 8.0 Hz),
7.28 (2H, d, J = 8.0 Hz), 4.41 (1
H, t, J = 7.0 Hz), 4.14 (2H, q, J =
6.9 Hz), 2.55 to 2.60 (2H, m), 2.
42 (3H, s), 2.20 to 2.25 (2H, m),
2.13 (3H, s), 1.17 (3H, t, J = 6.
9Hz)
【0049】実施例2 2−((4−メチルフェニル)カルボニル)−5−オキ
ソヘキサンニトリルの製造 4′−メチルベンゾイルアセトニトリル1.0g(6.
29mmol)のトルエン溶液(20ml)にメチルビ
ニルケトン1.0ml(12.6mmol)、トリエチ
ルアミン0.088ml(0.63mmol)を加え室
温にて24時間撹拌した。溶媒を減圧下留去後、得られ
る残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキ
サンー酢酸エチル系)により精製し目的物を淡黄色オイ
ルとして得た。(1.0g、収率69.4%)Example 2 Preparation of 2-((4-methylphenyl) carbonyl) -5-oxohexanenitrile 1.0 g of 4'-methylbenzoylacetonitrile (6.
To a toluene solution (29 mmol) of 29 mmol) was added 1.0 ml (12.6 mmol) of methyl vinyl ketone and 0.088 ml (0.63 mmol) of triethylamine, and the mixture was stirred at room temperature for 24 hours. After evaporating the solvent under reduced pressure, the obtained residue was purified by silica gel column chromatography (hexane-ethyl acetate system) to obtain the desired product as a pale yellow oil. (1.0 g, 69.4% yield)
【0050】1H−NMR(ppm,300MHz,C
DCl3 )δ7.95(2H,d,J=8.0Hz)、
7.33(2H,d,J=8.0Hz)、4.64(1
H,dd,J=9.1,5.1Hz)、2.78〜2.
89(2H)、2.44(3H,s)、2.30〜2.
40(1H,m)、2.21(3H,s)、2.03〜
2.16(1H,m) 1 H-NMR (ppm, 300 MHz, C
DCL 3 ) δ 7.95 (2H, d, J = 8.0 Hz),
7.33 (2H, d, J = 8.0 Hz), 4.64 (1
H, dd, J = 9.1, 5.1 Hz), 2.78-2.
89 (2H), 2.44 (3H, s), 2.30-2.
40 (1H, m), 2.21 (3H, s), 2.03 to
2.16 (1H, m)
【0051】実施例3 2−(4−メチルフェニル)−4−オキソシクロヘキシ
−2−エンカルボン酸エチルエステルの製造 2−((4−メチルフェニル)カルボニル)−5−オキ
ソヘキサン酸エチルエステル4.19g(15.2mm
ol)のトルエン溶液(10ml)に酢酸137mg
(2.28mmol)及びピペリジン129mg(1.
52mmol)を添加し、110℃で9時間加熱した。
室温まで冷却し酢酸エチルを加え、希塩酸及び飽和食塩
水により洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムによ
り乾燥、次いで濾過し、減圧下溶媒を留去することによ
り残留物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(ヘキサンー酢酸エチル系)により精製し目的物
を褐色オイルとして得た。(3.46g、収率88.0
%)Example 3 Preparation of ethyl 2- (4-methylphenyl) -4-oxocyclohex-2-enecarboxylate Ethyl 2-((4-methylphenyl) carbonyl) -5-oxohexanoate 4 .19 g (15.2 mm
ol) in a toluene solution (10 ml) of 137 mg of acetic acid
(2.28 mmol) and 129 mg of piperidine (1.
52 mmol) and heated at 110 ° C. for 9 hours.
After cooling to room temperature, ethyl acetate was added, and the mixture was washed with dilute hydrochloric acid and saturated saline. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, then filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a residue. This was purified by silica gel column chromatography (hexane-ethyl acetate system) to obtain the desired product as a brown oil. (3.46 g, 88.0 yield)
%)
【0052】1H−NMR(ppm,300MHz,C
DCl3 )δ7.41(2H,d,J=8.2Hz)、
7.21(2H,d,J=8.2Hz)、5.47(1
H,s)、4.11(2H,q,J=7.0Hz)、
3.96(1H,dd,J=4.8,4.8Hz)、
2.55〜2.65(1H,m)、2.40〜2.55
(3H)、2.38(3H,s)、1.14(3H,
t,J=7.0Hz) 1 H-NMR (ppm, 300 MHz, C
DCl 3 ) δ 7.41 (2H, d, J = 8.2 Hz),
7.21 (2H, d, J = 8.2 Hz), 5.47 (1
H, s), 4.11 (2H, q, J = 7.0 Hz),
3.96 (1H, dd, J = 4.8, 4.8 Hz),
2.55 to 2.65 (1H, m), 2.40 to 2.55
(3H), 2.38 (3H, s), 1.14 (3H,
t, J = 7.0 Hz)
【0053】実施例4 2−フェニル−4−オキソシクロヘキシ−2−エンカル
ボン酸エチルエステルの製造 2−フェニルカルボニル−5−オキソヘキサン酸エチル
エステル3.87g(14.8mmol)のトルエン溶
液(5ml)に酢酸130mg(2.17mmol)及
びピペリジン127mg(1.49mmol)を添加
し、110℃で5時間加熱した。室温まで冷却し酢酸エ
チルを加え、希塩酸及び飽和食塩水により洗浄した。有
機層は無水硫酸マグネシウムにより乾燥、次いで濾過
し、減圧下溶媒を留去することにより残留物を得た。シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサンー酢酸エ
チル系)により精製し目的物を褐色オイルとして得た。
(4.02g、収率94.7%)Example 4 Preparation of ethyl 2-phenyl-4-oxocyclohex-2-enecarboxylate Ethyl 2-phenylcarbonyl-5-oxohexanoate (3.87 g, 14.8 mmol) in toluene (5 ml) )), 130 mg (2.17 mmol) of acetic acid and 127 mg (1.49 mmol) of piperidine were added, and the mixture was heated at 110 ° C for 5 hours. After cooling to room temperature, ethyl acetate was added, and the mixture was washed with dilute hydrochloric acid and saturated saline. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, then filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a residue. Purification by silica gel column chromatography (hexane-ethyl acetate system) gave the desired product as a brown oil.
(4.02 g, yield 94.7%)
【0054】1H−NMR(ppm,300MHz,C
DCl3 )δ7.50(2H,d,J=3.0,6.4
Hz)、7.40〜7.48(3H)、6.47(1
H,s)、4.11(2H,q,J=7.0Hz)、
3.96(1H,dd,J=3.7,3.7Hz)、
2.60〜2.70(1H,m)、2.35〜2.55
(3H)、1.12(3H,t,J=7.0Hz) 1 H-NMR (ppm, 300 MHz, C
DCl 3 ) δ 7.50 (2H, d, J = 3.0, 6.4)
Hz), 7.40 to 7.48 (3H), 6.47 (1
H, s), 4.11 (2H, q, J = 7.0 Hz),
3.96 (1H, dd, J = 3.7, 3.7 Hz),
2.60 to 2.70 (1H, m), 2.35 to 2.55
(3H), 1.12 (3H, t, J = 7.0 Hz)
【0055】実施例5 4−クロロ−2−フェニルシクロヘキサ−2,4−ジエ
ンカルボン酸エチルエステル及び4−クロロ−2−フェ
ニルシクロヘキサ−1,3−ジエンカルボン酸エチルエ
ステルの混合物の製造 2−フェニル−4−オキソシクロヘキシ−2−エンカル
ボン酸エチルエステル1.24g(5.1mmol)の
トルエン溶液(10ml)にオギサリルクロリド2.5
8mg(20.4mmol)を加え、70〜75℃で2
時間加熱撹拌した。次いで室温まで冷却し酢酸エチルを
加え、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水
により順次洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムに
より乾燥、次いで濾過し、減圧下溶媒を留去することに
より目的物を淡い黄色オイルとして得た。(1.24
g、収率93.0%)Example 5 Preparation of a mixture of ethyl 4-chloro-2-phenylcyclohexa-2,4-dienecarboxylate and ethyl 4-chloro-2-phenylcyclohexa-1,3-dienecarboxylate Ogisalyl chloride 2.5 was added to a toluene solution (10 ml) of -phenyl-4-oxocyclohex-2-enecarboxylic acid ethyl ester 1.24 g (5.1 mmol).
8 mg (20.4 mmol) and add 2 mg at 70-75 ° C.
The mixture was heated and stirred for an hour. Then, the mixture was cooled to room temperature, ethyl acetate was added, and the mixture was washed sequentially with water, a saturated aqueous solution of sodium hydrogencarbonate and saturated saline. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, then filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain the desired product as a pale yellow oil. (1.24
g, yield 93.0%)
【0056】1H−NMR(ppm,300MHz,C
DCl3 )δ7.25〜7.45(8H)、7.13〜
7.16(2H)、6.35(1H,s)、6.19
(1H,s)、5.87(1H,brs)、4.09
(2H,q,J=7.3Hz)、3.93(2H,q,
J=7.3Hz)、3.64(1H,dd,J=3.
3,8.6Hz)、2.90〜3.05(1H,m)、
2.60〜2.85(5H)、1.34(3H,t,J
=7.3Hz)、0.89(3H,t,J=7.3H
z) 1 H-NMR (ppm, 300 MHz, C
DCl 3) δ7.25~7.45 (8H), 7.13~
7.16 (2H), 6.35 (1H, s), 6.19
(1H, s), 5.87 (1H, brs), 4.09
(2H, q, J = 7.3 Hz), 3.93 (2H, q,
J = 7.3 Hz), 3.64 (1H, dd, J = 3.
3,8.6 Hz), 2.90 to 3.05 (1H, m),
2.60 to 2.85 (5H), 1.34 (3H, t, J
= 7.3 Hz), 0.89 (3H, t, J = 7.3H)
z)
【0057】実施例6 2−ビフェニルカルボン酸エチルエステル及び2−ビフ
ェニルカルボン酸の製造 4−クロロ−2−フェニルシクロヘキサ−2,4−ジエ
ンカルボン酸エチルエステル及び4−クロロ−2−フェ
ニルシクロヘキサ−1,3−ジエンカルボン酸エチルエ
ステルの混合物0.62g(2.54mmol)のメタ
ノール溶液(5ml)にナトリウムメトキシド(28%
メタノール溶液)1.98g(10.1mmol)を加
え、室温で17時間撹拌した。減圧下メタノールを留去
した後希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を
飽和食塩水で洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過
した後減圧下で溶媒を留去することによりクルード目的
物を得た。次いでシルカゲルカラムクロマトグラフィー
(ヘキサン−酢酸エチル系)で精製、分離することによ
り目的物である2−ビフェニルカルボン酸エチルエステ
ル(136mg、収率23.7%)及び2−ビフェニル
カルボン酸(236mg、53.8%)を得た。Example 6 Preparation of ethyl 2-biphenylcarboxylate and 2-biphenylcarboxylic acid Ethyl 4-chloro-2-phenylcyclohexa-2,4-dienecarboxylate and 4-chloro-2-phenylcyclohexa To a methanol solution (5 ml) of 0.62 g (2.54 mmol) of a mixture of -1,3-dienecarboxylic acid ethyl ester was added sodium methoxide (28%
1.98 g (10.1 mmol) of a methanol solution) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 17 hours. After distilling off methanol under reduced pressure, dilute hydrochloric acid was added and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated saline, dried over anhydrous magnesium sulfate, and filtered, and then the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a crude target compound. Then, it was purified and separated by silica gel column chromatography (hexane-ethyl acetate system) to give 2-biphenylcarboxylic acid ethyl ester (136 mg, yield 23.7%) and 2-biphenylcarboxylic acid (236 mg, 53.8%).
【0058】2−ビフェニルカルボン酸エチルエステル1 H−NMR(ppm,300MHz,CDCl3 )δ
7.79(1H,d,J=8.3Hz)、7.35〜
7.40(5H)、7.26〜7.30(3H)、4.
07(2H,d,J=7.0Hz)、0.98(3H,
t,J=7.0Hz)2-biphenylcarboxylic acid ethyl ester 1 H-NMR (ppm, 300 MHz, CDCl 3 ) δ
7.79 (1H, d, J = 8.3 Hz), 7.35-
3.40 (5H), 7.26 to 7.30 (3H),
07 (2H, d, J = 7.0 Hz), 0.98 (3H,
t, J = 7.0 Hz)
【0059】2−ビフェニルカルボン酸1 H−NMR(ppm,300MHz,CDCl3 )δ
7.91(1H,d,J=8.2Hz)、7.17〜
7.42(8H)2-biphenylcarboxylic acid 1 H-NMR (ppm, 300 MHz, CDCl 3 ) δ
7.91 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.17-
7.42 (8H)
【0060】[0060]
【発明の効果】本発明によれば医農薬、液晶、耐熱性高
分子、及び液晶性高分子等の中間体として有用であるビ
フェニル誘導体の選択的に製造できる。本合成法は安価
な原料を用い、特殊な設備や反応条件を必要としない選
択的なビフェニル誘導体の工業的製造法を提供すること
ができる。According to the present invention, it is possible to selectively produce a biphenyl derivative which is useful as an intermediate such as a medicinal and agricultural chemical, a liquid crystal, a heat-resistant polymer and a liquid crystalline polymer. This synthesis method can provide a selective industrial production method of a biphenyl derivative using inexpensive raw materials and not requiring special equipment or reaction conditions.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C07C 67/333 C07C 67/333 69/757 69/757 Z 255/46 255/46 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI C07C 67/333 C07C 67/333 69/757 69/757 Z 255/46 255/46
Claims (7)
のアルコキシ基を示し、YはCO2 R又はCNを示し、
RはH又はC1 〜C4 のアルキル基を示す。ただしXが
HでYがCO2 Me、CO2 Etの場合を除く。)で示
される化合物とメチルビニルケトンを溶媒中または無溶
媒にて縮合剤の存在下反応させて、一般式(2) 【化2】 (式中XはH又はC1 〜C4 のアルキル基又はC1 〜C
4 のアルコキシ基を示し、YはCO2 R又はCNを示
し、RはH又はC1 〜C4 のアルキル基を示す。ただし
XがHでYがCO2 Me、CO2 Etの場合を除く。)
で示される化合物を合成した後、さらに溶媒中または無
溶媒にて縮合剤の存在下環化反応を行うことを特徴とす
る一般式(3) 【化3】 (式中XはH又はC1 〜C4 のアルキル基又はC1 〜C
4 のアルコキシ基を示し、YはCO2 R又はCNを示
し、RはH又はC1 〜C4 のアルキル基を示す。ただし
XがHでYがCO2 Me、CO2 Etの場合を除く。)
で表されるシクロヘキセノン誘導体の製造法。1. A compound of the general formula (1) (Wherein X is H, a C 1 -C 4 alkyl group or C 1 -C 4
And Y represents CO 2 R or CN;
R represents an alkyl group of H or C 1 -C 4. However, the case where X is H and Y is CO 2 Me and CO 2 Et is excluded. ) Is reacted with methyl vinyl ketone in a solvent or without solvent in the presence of a condensing agent to give a compound of the general formula (2) (Wherein X is H or a C 1 -C 4 alkyl group or C 1 -C 4
4 represents an alkoxy group, Y represents CO 2 R or CN, and R represents H or a C 1 -C 4 alkyl group. However, the case where X is H and Y is CO 2 Me and CO 2 Et is excluded. )
After synthesizing a compound represented by the general formula (3), a cyclization reaction is further carried out in the presence of a condensing agent in a solvent or in the absence of a solvent. (Wherein X is H or a C 1 -C 4 alkyl group or C 1 -C 4
4 represents an alkoxy group, Y represents CO 2 R or CN, and R represents H or a C 1 -C 4 alkyl group. However, the case where X is H and Y is CO 2 Me and CO 2 Et is excluded. )
A method for producing a cyclohexenone derivative represented by the formula:
のアルコキシ基を示し、YはCO2 R又はCNを示し、
RはH又はC1 〜C4 のアルキル基を示す。)で表され
るシクロヘキセノン誘導体を溶媒中または無溶媒にてハ
ロゲン化剤と反応させ、一般式(4a)若しくは(4
b) 【化5】 (式中XはH、C1 〜C4 のアルキル基又はC1 〜C4
のアルコキシ基を示し、YはCO2 R又はCNを示し、
RはH又はC1 〜C4 のアルキル基を示し、Zはハロゲ
ン原子を示す。)又はその混合物とした後、さらに溶媒
中または無溶媒にて塩基存在下ハロゲン原子の脱離反応
を行うことを特徴とする、一般式(5) 【化6】 (式中XはH、C1 〜C4 のアルキル基又はC1 〜C4
のアルコキシ基を示し、YはCO2 R又はCNを示し、
RはH又はC1 〜C4 のアルキル基を示す。)で表され
るビフェニル誘導体の製造法。2. A compound of the general formula (3) (Wherein X is H, a C 1 -C 4 alkyl group or C 1 -C 4
And Y represents CO 2 R or CN;
R represents an alkyl group of H or C 1 -C 4. ) Is reacted with a halogenating agent in a solvent or without solvent to obtain a compound represented by the general formula (4a) or (4).
b) embedded image (Wherein X is H, a C 1 -C 4 alkyl group or C 1 -C 4
And Y represents CO 2 R or CN;
R represents an alkyl group of H or C 1 ~C 4, Z is a halogen atom. Or a mixture thereof, followed by elimination of a halogen atom in the presence of a base in a solvent or in the absence of a solvent, characterized by the following general formula (5): (Wherein X is H, a C 1 -C 4 alkyl group or C 1 -C 4
And Y represents CO 2 R or CN;
R represents an alkyl group of H or C 1 -C 4. )).
のアルコキシ基を示し、YはCO2 R又はCNを示し、
RはH又はC1 〜C4 のアルキル基を示す。ただしXが
HでYがCO2 Me、CO2 Etの場合を除く。)で表
されるシクロヘキセノン誘導体を合成し、次いで請求項
2の方法により一般式(5) 【化8】 (式中XはH、C1 〜C4 のアルキル基又はC1 〜C4
のアルコキシ基を示し、YはCO2 R又はCNを示し、
RはH又はC1 〜C4 のアルキル基を示す。)で表され
るビフェニル誘導体を製造する方法。3. The method according to claim 1, wherein the compound has the general formula (3) (Wherein X is H, a C 1 -C 4 alkyl group or C 1 -C 4
And Y represents CO 2 R or CN;
R represents an alkyl group of H or C 1 -C 4. However, the case where X is H and Y is CO 2 Me and CO 2 Et is excluded. )), And then the general formula (5) according to the method of claim 2. (Wherein X is H, a C 1 -C 4 alkyl group or C 1 -C 4
And Y represents CO 2 R or CN;
R represents an alkyl group of H or C 1 -C 4. )).
〜3記載の製造方法。4. The method of claim 1, wherein X is methyl and Y is CN.
The production method according to any one of claims 1 to 3.
O2 Etである請求項1〜3記載の製造方法。5. X is methyl and Y is CO 2 Me or C
The production method according to claim 1, wherein the production method is O 2 Et.
のアルコキシ基を示し、YはCO2 R又はCNを示し、
RはH又はC1 〜C4 のアルキル基を示す。ただしXが
HでYがCO2 Me、CO2 Etの場合を除く。)で表
される中間体。6. A compound of the general formula (3) (Wherein X is H, a C 1 -C 4 alkyl group or C 1 -C 4
And Y represents CO 2 R or CN;
R represents an alkyl group of H or C 1 -C 4. However, the case where X is H and Y is CO 2 Me and CO 2 Et is excluded. ).
のアルコキシ基を示し、YはCO2 R又はCNを示し、
RはH又はC1 〜C4 のアルキル基を示し、Zはハロゲ
ン原子を示す。)もしくはその混合物で表される中間
体。7. A compound of the formula (4a) or (4b) (Wherein X is H, a C 1 -C 4 alkyl group or C 1 -C 4
And Y represents CO 2 R or CN;
R represents an alkyl group of H or C 1 ~C 4, Z is a halogen atom. ) Or an intermediate represented by a mixture thereof.
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JP21979497A JP3869531B2 (en) | 1997-08-01 | 1997-08-01 | Production method of biphenyl derivatives |
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JPH1149722A true JPH1149722A (en) | 1999-02-23 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001014314A1 (en) * | 1999-08-20 | 2001-03-01 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Benzene derivatives having aromatic substituents and processes for the preparation thereof |
US6271418B1 (en) | 2000-02-22 | 2001-08-07 | Nippon Kayaku Co., Ltd. | Process for preparing (hetero) aromatic substituted benzene derivatives |
-
1997
- 1997-08-01 JP JP21979497A patent/JP3869531B2/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2001014314A1 (en) * | 1999-08-20 | 2001-03-01 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Benzene derivatives having aromatic substituents and processes for the preparation thereof |
US6271418B1 (en) | 2000-02-22 | 2001-08-07 | Nippon Kayaku Co., Ltd. | Process for preparing (hetero) aromatic substituted benzene derivatives |
US6340772B2 (en) | 2000-02-22 | 2002-01-22 | Nippon Kayaku Co., Ltd. | Process for preparing (hetero) aromatic substituted benzene derivatives |
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