JPH1145589A - Nonvolatile semiconductor memory - Google Patents

Nonvolatile semiconductor memory

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JPH1145589A
JPH1145589A JP20277197A JP20277197A JPH1145589A JP H1145589 A JPH1145589 A JP H1145589A JP 20277197 A JP20277197 A JP 20277197A JP 20277197 A JP20277197 A JP 20277197A JP H1145589 A JPH1145589 A JP H1145589A
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JP
Japan
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memory cell
memory
reading
voltage
data
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JP20277197A
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Hiroshi Iwahashi
弘 岩橋
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Toshiba Corp
Toshiba Electronic Device Solutions Corp
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Toshiba Corp
Toshiba Microelectronics Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To increase the current of memory cells and to improve the data read-out speed by setting the supply voltage to a selected transistor(TR) side memory cell control gate lower than the supply voltage to a switching TR side memory cell at the time of reading out for the purpose of checking after writing. SOLUTION: A voltage generating means 101 outputs a signal VR set at 1 at the time of check reading-out after writing and the voltage meeting the connection position of the memory cell selected up to address input signals A0, A1. When the signal VR turns into the 1, the TRs 1 to 5 turn on and the potentials at nodes A to D are set successively lower with the node A at the highest in a voltage generating section 103. Any of the TRs 7 and 8, 9 and 10, 11 and 12, 13 and 14 turn on in the combination of the address input signals A0, A1 and the potentials of the nodes D to A select the memory cells M1 to M4 and the check reading out is executed in a decoding means 102. The ordinary read-out time is when the signal VR is 0.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明はNAND型のフラ
ッシュEEPROMのデータの読み出し方法に関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for reading data from a NAND flash EEPROM.

【0002】[0002]

【従来の技術】NAND型EEPROMは、図2のよう
な構成をしており選択トランジスタSTr1、直列に接
続された複数のメモリセルM1〜M4、スイッチングト
ランジスタSTr2からなり、これをマトリクス状に図
3のように配置し集積化している。NAND型EEPR
OMでは、メモリセルに記憶させるデータの論理“1”
と論理“0”とをメモリセルのしきい値電圧の正と負と
に対応させて記憶するようにしている。このような正の
しきい値電圧を有するか、負のしきい値電圧を有するか
は、浮遊ゲート中の電子の蓄積状態によって決められ、
浮遊ゲートに電子が注入されている場合は正のしきい値
電圧になり、浮遊ゲートから電子が放出されている状態
のときは負のしきい値電圧となる。浮遊ゲートへの電子
の注入と放出は浮遊ゲートとチャネル領域との間の第1
のゲート絶縁膜を通してトンネル効果を利用して行われ
る。
2. Description of the Related Art A NAND type EEPROM has a configuration as shown in FIG. 2 and includes a selection transistor STr1, a plurality of memory cells M1 to M4 connected in series, and a switching transistor STr2. It is arranged and integrated like this. NAND type EEPROM
In the OM, the logic “1” of the data stored in the memory cell
And logic "0" are stored in association with the positive and negative threshold voltages of the memory cells. Whether to have such a positive threshold voltage or a negative threshold voltage is determined by the accumulation state of electrons in the floating gate,
When electrons are injected into the floating gate, the threshold voltage becomes positive, and when electrons are emitted from the floating gate, the threshold voltage becomes negative. The injection and emission of electrons into the floating gate depends on the first between the floating gate and the channel region.
Through the gate insulating film using the tunnel effect.

【0003】NAND型のEEPROMでは、 データの
読み出しは、選択されたメモリセルの制御ゲートを論理
“0”に、非選択なメモリセルの制御ゲートを論理
“1”に設定する。しきい値電圧が負のメモリセルは制
御ゲートが論理“0”でもオンし、しきい値電圧が正の
メモリセルは制御ゲートが論理“0”になるとオフす
る。このように選択されたメモリセルがオンであるかオ
フであるかによってデータが読み出される。非選択なメ
モリセルの制御ゲートは論理“1”に設定され、非選択
なメモリセルは、そのしきい値電圧の正負にかかわらず
オン状態に設定される。すなわちNAND型のEEPR
OMでは、 メモリセルが直列に接続されているため、非
選択なメモリセルを常にオン状態とし、選択されたメモ
リセルがオンであるかオフであるかにより、直列接続さ
れたメモリセルを通して電流が流れるか流れないかで選
択されたメモリセルに記憶されたデータを読み出す。
In a NAND type EEPROM, when reading data, the control gate of a selected memory cell is set to logic "0" and the control gate of an unselected memory cell is set to logic "1". Memory cells having a negative threshold voltage are turned on even when the control gate is at logic "0", and memory cells having a positive threshold voltage are turned off when the control gate is at logic "0". Data is read depending on whether the selected memory cell is on or off. The control gate of the unselected memory cell is set to logic "1", and the unselected memory cell is set to the ON state regardless of whether the threshold voltage is positive or negative. That is, NAND type EEPR
In the OM, since the memory cells are connected in series, a non-selected memory cell is always turned on, and depending on whether the selected memory cell is on or off, a current flows through the memory cells connected in series. The data stored in the memory cell selected by flowing or not flowing is read.

【0004】データの書き込みはすべてのメモリセルの
浮遊ゲートから電子を放出して、すべてのメモリセルの
閾電圧を負の値にした後、選択的にメモリセルの浮遊ゲ
ートに電子を注入して行う。データの読み出し時には、
上記のように制御ゲートが論理“1”に設定された非選
択なメモリセルは、そのしきい値電圧が正であってもオ
ン状態に設定されなければならないので、電子の注入し
た後にデータの読み出しを行い、注入量が適当かどうか
をチェックして、注入量が足りなければ更に電子を注入
するように、電子の注入とチェックのための読み出しと
を繰り返し行う。通常の読み出し時には、選択されたメ
モリセルの制御ゲートを例えば0Vに設定して読み出す
とすれば、チェックのための読み出しの時には、選択さ
れたメモリセルの制御ゲートには0Vよりも高い電圧を
供給して行う。この0Vよりも高い電圧が供給された時
にメモリセルがオフしていれば電子の注入量は適量と判
断されこれ以上の電子の注入は行わない。このため通常
の読み出しの時に、このメモリセルに0Vが供給されれ
ば完全にオフし、所定のマージンを得ることが出来る。
チェックのための読み出しの時に選択されたメモリセル
の制御ゲートに与えられる電圧はメモリセルに応じて変
化されることはなく、どのメモリセルからデータを読み
出す時にも同じ電圧が与えられる。このため理想的な場
合を想定すれば、電子が注入されたメモリセルは全て同
じしきい値電圧となることになる。
In data writing, electrons are emitted from the floating gates of all the memory cells, the threshold voltages of all the memory cells are made negative, and then electrons are selectively injected into the floating gates of the memory cells. Do. When reading data,
An unselected memory cell whose control gate is set to logic "1" as described above must be set to an on state even if its threshold voltage is positive. Reading is performed to check whether the injection amount is appropriate. If the injection amount is not sufficient, the injection of electrons and the reading for checking are repeatedly performed so as to inject more electrons. At the time of normal reading, if the control gate of the selected memory cell is set to 0 V for reading, for example, a voltage higher than 0 V is supplied to the control gate of the selected memory cell at the time of reading for checking. Do it. If the memory cell is off when a voltage higher than 0 V is supplied, the amount of injected electrons is determined to be appropriate and no more electrons are injected. Therefore, at the time of normal reading, if 0 V is supplied to this memory cell, the memory cell is completely turned off and a predetermined margin can be obtained.
The voltage applied to the control gate of the selected memory cell at the time of reading for checking does not change according to the memory cell, and the same voltage is applied when data is read from any memory cell. Therefore, assuming an ideal case, all the memory cells into which electrons have been injected have the same threshold voltage.

【0005】通常のデータの読み出しを考えると、例え
ば図2において、メモリセルM4の閾電圧が負で、メモ
リセルM1〜M3のしきい値電圧が正であり、メモリセ
ルM4が選択されているとする。データの読み出しの時
には、選択トランジスタSTr1からメモリセルM1、
M2、M3、M4を通して、更にスイッチングトランジ
スタSTr2を通して、基準電位にむかって電流が流れ
る。このため、メモリセルM4のソースVS4の電位よ
りもメモリセルM3のソースVS3の電位が高く、メモ
リセルM3のソースVS3の電位よりもメモリセルM2
のソースVS2の電位が高く、メモリセルM2のソース
VS2の電位よりもメモリセルM1のソースVS1の電
位が高くなる。図4にトランジスタの基板電位VBとし
きい値電圧Vthの関係を示す。図4より明らかなよう
に、メモリセルM1〜M4はそれぞれ基板効果がことな
るため、データが読み出される時には、そのソース電位
が最も高く、ソース電位と基板電位との電位差の最も大
きいメモリセルM1のしきい値電圧Vth1が最も高
く、続いてメモリセルM2、メモリセルM3の順に低く
なる。これはチェックの読み出しの時に制御ゲートに所
定の電圧が与えられたメモリセルがオフするかどうかで
判断しているため、チェックの読み出しでOKと判定さ
れた時にはメモリセルには電流が流れないので、メモリ
セルのソースは0Vとなり、基板効果が発生しないから
である。
Considering normal data reading, for example, in FIG. 2, the threshold voltage of the memory cell M4 is negative, the threshold voltages of the memory cells M1 to M3 are positive, and the memory cell M4 is selected. And At the time of data reading, the memory cell M1,
A current flows toward the reference potential through M2, M3, and M4 and further through the switching transistor STr2. Therefore, the potential of the source VS3 of the memory cell M3 is higher than the potential of the source VS4 of the memory cell M4, and the potential of the memory cell M2 is higher than the potential of the source VS3 of the memory cell M3.
Is higher, the potential of the source VS1 of the memory cell M1 is higher than the potential of the source VS2 of the memory cell M2. FIG. 4 shows a relationship between the substrate potential VB of the transistor and the threshold voltage Vth. As is clear from FIG. 4, since the memory cells M1 to M4 have different substrate effects, when data is read, the memory cell M1 has the highest source potential and the memory cell M1 having the largest potential difference between the source potential and the substrate potential. The threshold voltage Vth1 is the highest, and then decreases in the order of the memory cell M2 and the memory cell M3. This is determined by whether or not the memory cell to which a predetermined voltage is applied to the control gate at the time of reading of the check is turned off. Therefore, when it is determined that the reading of the check is OK, no current flows through the memory cell. This is because the source of the memory cell becomes 0 V and the substrate effect does not occur.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】このように、従来のN
AND型フラッシュEEPROMにおいては、書込み後
のチェック読み出しの時に、メモリセルのゲートに同じ
電圧を与えて読み出しを行うので、通常の読み出し時に
メモリセルを通して電流が流れる時に、浮遊ゲートに電
子が注入されたメモリセルにおいては、選択トランジス
タ側に接続されたメモリセル程しきい値電圧が高くなっ
てしまうという問題点があった。
As described above, the conventional N
In the AND type flash EEPROM, at the time of check reading after writing, reading is performed by applying the same voltage to the gate of the memory cell. Therefore, when a current flows through the memory cell during normal reading, electrons are injected into the floating gate. In a memory cell, there is a problem that the threshold voltage becomes higher as the memory cell is connected to the selection transistor side.

【0007】本願発明は上記問題点を鑑みてなされたも
のであり、データ読み出し時の基板効果によって上昇す
るメモリセルのしきい値電圧を従来のものより低くする
ことにより、メモリセルに流れる電流を増加させ、デー
タの読み出し速度を向上させることを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and reduces the threshold voltage of a memory cell, which rises due to the substrate effect at the time of reading data, lower than that of a conventional memory cell. It is intended to increase the data read speed.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1に係る発明では、浮遊ゲートおよび制御ゲ
ートを有し浮遊ゲートの電荷の量によってデータを記憶
する少なくとも2個のメモリセルが第1の端子と第2の
端子との間に直列に接続されてなるメモリブロックを具
備し、前記メモリセルへのデータの書き込み時に、メモ
リセルにデータが書き込まれたかどうかを確認するため
に、前記第1の端子から、前記第2の端子への前記少な
くとも2個のメモリセルを介しての電流経路の形成状態
によって読み出し動作を行う時に、前記電流経路の前記
第2の端子側のメモリセルへのデータの書き込み時に、
このメモリセルにデータが書き込まれたかどうかを確認
するための読み出し動作を行うためこのメモリセルのゲ
ートに印加される電位V2と、前記前記電流経路の前記
第1の端子側のメモリセルへのデータ書き込み時に、こ
のメモリセルにデータが書き込まれたどうか確認するた
めの読み出し動作を行うためこのメモリセルのゲートに
印加される電位V1との関係が、 V1 <V2 となることを特徴とする不揮発性半導体メモリを提供す
る。このため、データの書き込み後のメモリセルにおい
て、第1 の端子側に接続されたメモリセルのしきい値電
圧は第2の端子側に接続されたメモリセルのしきい値電
圧より低く設定することができる。
According to the first aspect of the present invention, there is provided at least two memory cells each having a floating gate and a control gate and storing data according to the amount of charge of the floating gate. Comprises a memory block connected in series between a first terminal and a second terminal, and in order to check whether data has been written to the memory cell when writing data to the memory cell. , When a read operation is performed according to a state of forming a current path from the first terminal to the second terminal via the at least two memory cells, a memory on the second terminal side of the current path When writing data to a cell,
A potential V2 applied to the gate of the memory cell for performing a read operation for confirming whether or not data has been written to the memory cell; and a data to the memory cell on the first terminal side of the current path. A nonvolatile memory characterized in that the relationship with the potential V1 applied to the gate of this memory cell is V1 <V2 in order to perform a read operation for confirming whether data has been written in this memory cell at the time of writing. Provide a semiconductor memory. For this reason, in the memory cell after data writing, the threshold voltage of the memory cell connected to the first terminal side should be set lower than the threshold voltage of the memory cell connected to the second terminal side. Can be.

【0009】また、請求項2に係る発明では、請求項1
に係る発明において、前記メモリセルからの通常のデー
タの読み出し時に、前記第1および第2のメモリセルの
ゲートに印加される電位をV3 とすると、 V3 <V1 <V2 となることを特徴とする不揮発性半導体メモリを提供す
る。このため、通常のデータ読み出し時のしきい値電圧
の読み出しマージンを大きくとることができる。
Further, in the invention according to claim 2, claim 1
In the invention according to the first aspect, when a potential applied to the gates of the first and second memory cells is V3 when normal data is read from the memory cell, V3 <V1 <V2. Provided is a nonvolatile semiconductor memory. For this reason, it is possible to increase the read margin of the threshold voltage during normal data read.

【0010】また、請求項3に係る発明では、浮遊ゲー
トおよび制御ゲートを有し、浮遊ゲート中の電荷の量に
よってデータを記憶する複数のメモリセルが直列に接続
されたメモリブロックと、前記メモリブロックの一端と
読み出し電位供給端子との接続を制御する選択トランジ
スタと、前記メモリブロックの他端と基準電位端子との
接続を制御するスイッチングトランジスタと、前記メモ
リセルにデータを書き込むための書込み手段と、前記メ
モリセルからデータを読み出す時に、第1 の読み出しモ
ードと、前記メモリセルにデータが書き込まれたかどう
かを判断するために前記メモリセルよりデータを読み出
す第2の読み出しモードとを選択的に切り替え可能な読
み出し手段とを具備し、前記第2の読み出しモードでの
読み出しの時に選択されたメモリセルの制御ゲートに供
給される電位が、前記第1の読み出しモードでの読み出
しの時に選択されたメモリセルの制御ゲートに供給され
る電位よりも高く、かつ、前記メモリブロックを構成す
るメモリセルのうち前記スイッチングトランジスタ側に
配置された前記メモリセルが選択された時に選択された
メモリセルの制御ゲートに供給される電位が前記選択ト
ランジスタ側に配置された前記メモリセルが選択された
時に選択されたメモリセルの制御ゲートに供給される電
位よりも高くなるように制御されることを特徴とする不
揮発性半導体メモリを提供する。このため、データの書
き込み時に、選択トランジスタ側に接続されたメモリセ
ルのしきい値電圧をスイッチングトランジスタ側に接続
されたメモリセルのしきい値電圧より低く設定すること
ができる。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a memory block having a floating gate and a control gate, wherein a plurality of memory cells are connected in series to store data according to the amount of charge in the floating gate; A selection transistor for controlling a connection between one end of the block and a read potential supply terminal, a switching transistor for controlling a connection between the other end of the memory block and a reference potential terminal, and a write unit for writing data to the memory cell. When reading data from the memory cell, selectively switching between a first read mode and a second read mode for reading data from the memory cell to determine whether data has been written to the memory cell. And a reading unit capable of selecting at the time of reading in the second reading mode. The potential supplied to the control gate of the selected memory cell is higher than the potential supplied to the control gate of the memory cell selected at the time of reading in the first read mode, and constitutes the memory block. When the memory cell arranged on the switching transistor side is selected from among the memory cells, the potential supplied to the control gate of the selected memory cell is changed when the memory cell arranged on the selection transistor side is selected. A nonvolatile semiconductor memory is controlled to be higher than a potential supplied to a control gate of a selected memory cell. Therefore, at the time of data writing, the threshold voltage of the memory cell connected to the selection transistor can be set lower than the threshold voltage of the memory cell connected to the switching transistor.

【0011】また、請求項4に係る発明では、請求項3
に係る発明において前記第2の読み出しモードでの読み
出し時に、前記メモリセルからデータが読み出される時
は、選択されたメモリセルの制御ゲートに供給される電
位が、前記メモリブロックを構成するメモリセルの前記
スイッチングトランジスタに接続された前記メモリセル
から、前記選択トランジスタに接続された前記メモリセ
ルにむけて順次低くなるように設定されていることを特
徴とする。このため、書込みが完了したメモリセルのし
きい値電圧は、スイッチングトランジスタ側に接続され
たものから選択トランジスタ側に接続されたものにむけ
て順次低くなるように設定される。
In the invention according to claim 4, claim 3
In the invention according to the above, when data is read from the memory cell at the time of reading in the second read mode, the potential supplied to the control gate of the selected memory cell is set to the potential of the memory cell constituting the memory block. The memory cell is set so as to become lower in order from the memory cell connected to the switching transistor to the memory cell connected to the selection transistor. For this reason, the threshold voltage of the memory cell in which writing is completed is set so as to gradually decrease from the one connected to the switching transistor side to the one connected to the selection transistor side.

【0012】また、請求項5に係る発明では、請求項3
ないし4に係る発明において、前記読み出し手段は、前
記選択されたメモリセルに供給する電圧を発生する電圧
発生手段と、前記選択トランジスタおよび前記メモリセ
ルを選択しその制御ゲートに前記電圧発生手段で発生さ
せた電圧を供給するデコーダ手段とを具備し、前記電圧
発生手段は前記第2の読み出しモードでの読み出し時
に、選択されたメモリセルの接続位置に対応した電圧を
発生することを特徴とする不揮発性半導体メモリを提供
する。このため、電圧発生手段によって発生させた電圧
を、デコーダ手段によってメモリセルの制御ゲートに印
加することができる。
Further, in the invention according to claim 5, according to claim 3,
In the inventions according to the fourth to fourth aspects, the reading means generates a voltage to be supplied to the selected memory cell, and selects the selection transistor and the memory cell and generates a voltage at a control gate thereof by the voltage generating means. And a decoder for supplying a selected voltage, wherein the voltage generator generates a voltage corresponding to a connection position of a selected memory cell at the time of reading in the second read mode. Provided is a nonvolatile semiconductor memory. Therefore, the voltage generated by the voltage generator can be applied to the control gate of the memory cell by the decoder.

【0013】また、請求項6に係る発明では、請求項5
に係る発明において、前記電圧発手段は、複数の電圧を
発生する電圧発生部と前記複数の電圧の中から選択され
たメモリセルに対応した電圧を選択するデコード部とを
有することを特徴とする不揮発性半導体メモリを提供す
る。このため、電圧発生手段の出力電圧は、選択された
メモリセルの接続位置に応じた値となる。
[0013] In the invention according to claim 6, according to claim 5,
In the invention according to the invention, the voltage generation means includes a voltage generation unit that generates a plurality of voltages and a decoding unit that selects a voltage corresponding to a memory cell selected from the plurality of voltages. Provided is a nonvolatile semiconductor memory. Therefore, the output voltage of the voltage generating means has a value corresponding to the connection position of the selected memory cell.

【0014】また、請求項7に係る発明では、請求項6
に係る発明において、前記第1 の読み出しモードでの読
み出し時には、前記デコード部は非選択状態となり、基
準電位を前記デコーダ手段に供給することを特徴とする
請求項6記載の不揮発性半導体メモリを提供する。この
ため、第1の読み出し時には、前記デコーダ手段は、選
択されたメモリセルに第2の読み出しモードでの読み出
し電圧より低い読み出し電圧(接地電位)を選択された
メモリセルの制御ゲートに印加することができる。
In the invention according to claim 7, claim 6
7. The nonvolatile semiconductor memory according to claim 6, wherein when reading in said first read mode, said decoding section is in a non-selected state and supplies a reference potential to said decoder means. I do. Therefore, at the time of the first read, the decoder means applies a read voltage (ground potential) lower than the read voltage in the second read mode to the control gate of the selected memory cell. Can be.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】本願発明の一実施例を図1に示
す。図1に示すメモリセルM1〜M4は図2中に示すよ
うにアドレス入力信号A0およびA1によって選択され
る。アドレス入力信号A0、A1が共に“0”レベルの
時はメモリセルM1が選択され、A0が“1”でA1が
“0”の時はメモリセルM2が選択され、A0が“0”
でA1が“1”の時はメモリセルM3が選択され、アド
レス入力信号A0、A1が共に“1”レベルの時はメモ
リセルM4が選択される。この実施例においては、メモ
リセル4個が直列に接続された例を示しているがこれは
4個の限らず、8個、16個等任意の数で良いことは言
うまでもなく、直列に接続された数によってアドレス入
力信号の数も変えることができる。
FIG. 1 shows an embodiment of the present invention. Memory cells M1 to M4 shown in FIG. 1 are selected by address input signals A0 and A1 as shown in FIG. When the address input signals A0 and A1 are both "0" level, the memory cell M1 is selected. When A0 is "1" and A1 is "0", the memory cell M2 is selected and A0 is "0".
When A1 is "1", the memory cell M3 is selected, and when both the address input signals A0 and A1 are at "1" level, the memory cell M4 is selected. In this embodiment, an example is shown in which four memory cells are connected in series. However, the number of memory cells is not limited to four, and may be an arbitrary number such as eight or sixteen. The number of address input signals can also be changed depending on the number.

【0016】図1に示すように、本願発明の不揮発性メ
モリ装置は、電圧発生手段101とデコーダ手段102
とより構成され、デコーダ手段102の出力はメモリセ
ルM1〜M4の制御ゲートと選択トランジスタSTr
1、スイッチングトランジスタSTr2のゲートに印加
される。さらに、電圧発生手段101は電圧発生部10
3とデコード部104とより構成される。
As shown in FIG. 1, a nonvolatile memory device according to the present invention comprises a voltage generator 101 and a decoder 102.
The output of the decoder means 102 includes the control gates of the memory cells M1 to M4 and the selection transistor STr.
1. Applied to the gate of the switching transistor STr2. Further, the voltage generation means 101 is
3 and a decoding unit 104.

【0017】電圧発生手段101は書込み後のチェック
読み出し時に“1”に設定される信号VRとアドレス入
力信号A0,A1により、選択されるメモリセルの接続
位置に応じた電圧を出力する。デコーダ手段102はア
ドレス入力信号により、電圧発生手段101より出力さ
れる出力電圧を選択されるメモリセルの制御ゲートに印
加する。
The voltage generating means 101 outputs a voltage corresponding to the connection position of the selected memory cell in accordance with the signal VR set to "1" and the address input signals A0 and A1 at the time of checking and reading after writing. The decoder 102 applies the output voltage output from the voltage generator 101 to the control gate of the selected memory cell according to the address input signal.

【0018】以下に電圧発生手段101の動作を詳述す
る。電圧発生部103において、信号VRが“1”とな
ると、トランジスタ1、2、3、4、5はそれぞれオン
し、節点A,B,C,Dの電位はAが最も高く、その次
がB、C,Dの順に順次低く設定される。デコード部1
04において、信号A0、A1が共に“0”レベルの時
は、その反転信号/A0、/A1が共に“1”レベルに
なるので、トランジスタ7、8がオンしこのトランジス
タを通して節点Dの最も低い電位がデコーダ手段102
に供給される。すなわち、選択トランジスタに直接接続
されるメモリセルM1は最も低い電位が制御ゲートに与
えられチェック読み出しされることになる。A0が
“1”でA1が“0”の時は、信号/A1が“1”であ
るので、トランジスタ9、10がオンし次に高い電位が
デコーダに供給され、メモリセルM2が選択されチェッ
ク読み出しが行われる。信号A0が“0”でA1が
“1”の時は信号/A0が“1”でトランジスタ11、
12がオンし、節点Bの2番目に高い電位がデコーダに
供給され、メモリセルM3が選択されチェック読み出し
が行われる。アドレス入力信号A0、A1が共に“1”
レベルの時には、トランジスタ13、14が共にオンす
るので、節点Aの最も高い電位がデコーダに供給され、
メモリセルM4が選択されチェック読み出しが行われ
る。この時、信号VRの反転信号/VRは“0”である
ため、トランジスタ6はオフする。信号VRが“0”の
時は、通常の読み出しの時で、トランジスタ1〜5はオ
フし、“1”レベルの信号/VRが供給されるトランジ
スタ6はオンし接地電位がデコーダ手段102に供給さ
れる。
The operation of the voltage generating means 101 will be described below in detail. In the voltage generator 103, when the signal VR becomes "1", the transistors 1, 2, 3, 4, and 5 are turned on, and the potentials of the nodes A, B, C, and D are the highest, and the next is B. , C, D are set in this order. Decoding section 1
At 04, when the signals A0 and A1 are both at the "0" level, the inverted signals / A0 and / A1 are both at the "1" level, so that the transistors 7 and 8 are turned on and the lowest node D through this transistor. The potential is the decoder means 102
Supplied to That is, the memory cell M1 directly connected to the selection transistor is supplied with the lowest potential to the control gate and is checked and read. When A0 is "1" and A1 is "0", since the signal / A1 is "1", the transistors 9 and 10 are turned on, the next higher potential is supplied to the decoder, and the memory cell M2 is selected and checked. Reading is performed. When the signal A0 is "0" and A1 is "1", the signal / A0 is "1" and the transistor 11,
12 turns on, the second highest potential at the node B is supplied to the decoder, the memory cell M3 is selected, and the check reading is performed. Address input signals A0 and A1 are both "1"
At the time of the level, the transistors 13 and 14 are both turned on, so that the highest potential at the node A is supplied to the decoder,
The memory cell M4 is selected, and the check reading is performed. At this time, since the inverted signal / VR of the signal VR is "0", the transistor 6 is turned off. When the signal VR is "0", during normal reading, the transistors 1 to 5 are turned off, the transistor 6 to which the "1" level signal / VR is supplied is turned on, and the ground potential is supplied to the decoder means 102. Is done.

【0019】次に、デコーダ手段102の動作を詳述す
る。選択トランジスタSTr1を選択するデコード信号
Siの一つが“1”になると、インバータI1、I2を
介して選択トランジスタSTr1のゲートに“1”レベ
ルの信号が供給され選択トランジスタSTr1がオンす
る。また信号/Pは読み出し時には“1”となるので、
スイッチングトランジスタSTr2もオンする。“1”
レベルの信号Siがゲートに供給されるNチャネルトラ
ンジスタ15はオンし、信号Siが入力されるインバー
タI1の出力の“0”レベルの信号が供給されるPチャ
ネルトランジスタ16もオンするのでアドレス信号A
0、A1が入力されるデコード部D1の出力がトランジ
スタ15、16を通してメモリセルM1に供給される。
同様に、“1”レベルの信号Siがゲートに供給される
Nチャネルトランジスタ17はオンし、信号Siが入力
されるインバータI1の出力の“0”レベルの信号が供
給されるPチャネルトランジスタ18もオンするのでア
ドレス信号/A0、A1が入力されるデコード部D2の
出力がトランジスタ17、18を通してメモリセルM2
に供給される。“1”レベルの信号Siがゲートに供給
されるNチャネルトランジスタ19はオンし、信号Si
が入力されるインバータI1の出力の“0”レベルの信
号が供給されるPチャネルトランジスタ20もオンする
のでアドレス信号A0、/A1が入力されるデコード部
D3の出力がトランジスタ19、20を通してメモリセ
ルM3に供給される。“1”レベルの信号Siがゲート
に供給されるNチャネルトランジスタ21はオンし、信
号Siが入力されるインバータI1の出力の“0”レベ
ルの信号が供給されるPチャネルトランジスタ22もオ
ンするのでアドレス信号/A0、/A1が入力されるデ
コード部D4の出力がトランジスタ21、22を通して
メモリセルM4に供給される。信号Siが入力されるイ
ンバータI1の出力の“0”レベルの信号がゲートに供
給されるNチャネルトランジスタ23〜26はオフして
いるのでメモリセルM1〜M4は、デコード部D1〜D
4の出力電位により制御される。
Next, the operation of the decoder means 102 will be described in detail. When one of the decode signals Si for selecting the selection transistor STr1 becomes "1", a "1" level signal is supplied to the gate of the selection transistor STr1 via the inverters I1 and I2, and the selection transistor STr1 is turned on. Since the signal / P is "1" at the time of reading,
The switching transistor STr2 also turns on. “1”
The N-channel transistor 15 to which the signal Si of the level is supplied to the gate is turned on, and the P-channel transistor 16 to which the "0" level signal of the output of the inverter I1 to which the signal Si is input is also turned on.
The output of the decoding unit D1 to which 0 and A1 are input is supplied to the memory cell M1 through the transistors 15 and 16.
Similarly, the N-channel transistor 17 to which the gate of the signal Si of “1” is supplied is turned on, and the P-channel transistor 18 to which the signal of “0” level of the output of the inverter I1 to which the signal Si is input is also supplied. When turned on, the output of the decoding unit D2 to which the address signals / A0 and A1 are input is supplied to the memory cell M2 through the transistors 17 and 18.
Supplied to The N-channel transistor 19 to which the signal Si of “1” level is supplied to the gate is turned on, and the signal Si
Is also supplied, the P-channel transistor 20 to which the signal of the output of the inverter I1 at the "0" level is supplied is also turned on. M3. The N-channel transistor 21 to which the signal Si of the “1” level is supplied to the gate is turned on, and the P-channel transistor 22 to which the “0” level signal of the output of the inverter I1 to which the signal Si is input is also turned on. The output of the decoding unit D4 to which the address signals / A0 and / A1 are input is supplied to the memory cell M4 through the transistors 21 and 22. Since the N-channel transistors 23 to 26 whose gates are supplied with the "0" level signal of the output of the inverter I1 to which the signal Si is input are turned off, the memory cells M1 to M4 include the decoding units D1 to D
4 is controlled by the output potential.

【0020】信号A0、A1が共に“0”レベルの時
は、トランジスタ27、28は共にオフするので、節点
dは“1”となりトランジスタ29はオンする。このた
めトランジスタ29を通して、このときオンしているト
ランジスタ7、8から節点Dの電圧がメモリセル1の制
御ゲートに供給されチェックのための読み出しが行われ
る。この時トランジスタ31、36、39、40はオン
しているので節点a〜cは“0”になり、トランジスタ
33、37、41はオフし、トランジスタ34、38、
42はオンして電源電圧がメモリセルM2〜M4の制御
ゲートに供給される。
When the signals A0 and A1 are both at "0" level, the transistors 27 and 28 are both turned off, so that the node d becomes "1" and the transistor 29 is turned on. For this reason, the voltage at the node D is supplied to the control gate of the memory cell 1 from the transistors 7 and 8 that are turned on at this time through the transistor 29, and reading for checking is performed. At this time, since the transistors 31, 36, 39, and 40 are on, the nodes a to c are "0", the transistors 33, 37, and 41 are off, and the transistors 34, 38,
Reference numeral 42 turns on, and the power supply voltage is supplied to the control gates of the memory cells M2 to M4.

【0021】A0が“1”でA1が“0”の時は、信号
/A0が“0”であるので、トランジスタ31、32は
共にオフするので、節点cは“1”となりトランジスタ
33はオンする。このためトランジスタ33を通して、
このとときオンしているトランジスタ9、10から節点
Cの電圧がメモリセルM2の制御ゲートに供給されチェ
ックのための読み出しが行われる。この時トランジスタ
27、35、36、40はオンしているので節点a、
b、dは“0”になり、トランジスタ29、37、41
はオフし、トランジスタ30、38、42はオンして電
源電圧がメモリセルM1、M3、M4の制御ゲートに供
給される。同様に、信号A0が“0”でA1が“1”の
時はトランジスタ11、12、37、19、20を通し
て節点Bの電圧がメモリセルM3の制御ゲートに供給さ
れ、アドレス入力信号A0、A1が共に“1”レベルの
時には、トランジスタ13、14、41、21、22を
通して節点Aの最も高い電位がメモリセルM4の制御ゲ
ートに供給され、メモリセルM4が選択されチェック読
み出しが行われる。
When A0 is "1" and A1 is "0", since the signal / A0 is "0", both the transistors 31 and 32 are turned off, so that the node c becomes "1" and the transistor 33 is turned on. I do. Therefore, through the transistor 33,
At this time, the voltage at the node C is supplied to the control gate of the memory cell M2 from the transistors 9 and 10 which are turned on, and reading for checking is performed. At this time, since the transistors 27, 35, 36, and 40 are on, the nodes a,
b and d become “0”, and the transistors 29, 37, 41
Is turned off, the transistors 30, 38, and 42 are turned on, and the power supply voltage is supplied to the control gates of the memory cells M1, M3, and M4. Similarly, when the signal A0 is "0" and A1 is "1", the voltage at the node B is supplied to the control gate of the memory cell M3 through the transistors 11, 12, 37, 19 and 20, and the address input signals A0 and A1 Are both "1" level, the highest potential of the node A is supplied to the control gate of the memory cell M4 through the transistors 13, 14, 41, 21, and 22, the memory cell M4 is selected and the check reading is performed.

【0022】通常の読み出しの時には、信号VRが
“0”になるのでトランジスタ1〜5がオフし、信号V
Rの反転信号/VRの“1”レベルの信号が供給される
トランジスタ6がオンしデコーダには接地電位が供給さ
れ、選択されたメモリセルの制御ゲートにはこの接地電
位が供給される。
At the time of normal reading, since the signal VR becomes "0", the transistors 1 to 5 are turned off, and the signal V
The transistor 6 to which the inverted signal / VR of "1" level signal is supplied is turned on, the ground potential is supplied to the decoder, and the ground potential is supplied to the control gate of the selected memory cell.

【0023】また信号Siが“0”の選択トランジスタ
が非選択の時には、この“0”レベルの信号がインバー
タI1、I2を通して選択トランジスタのゲートに供給
されるので選択トランジスタはオフし、同様にトランジ
スタ15〜22もオフする。この時、インバータI1の
出力は“1”であるのでこの出力がゲートに供給される
トランジスタ23〜26はオンし、このトランジスタ2
3〜26を通してメモリセルM1〜M4の制御ゲートに
は接地電位が印加される。
When the selection transistor whose signal Si is "0" is not selected, this "0" level signal is supplied to the gate of the selection transistor through the inverters I1 and I2, so that the selection transistor is turned off. 15 to 22 are also turned off. At this time, since the output of the inverter I1 is "1", the transistors 23 to 26 supplied with this output to the gate are turned on, and the transistor 23
The ground potential is applied to the control gates of the memory cells M1 to M4 through 3 to 26.

【0024】このように、書き込み後のチェックのため
の読み出しを行う時に選択トランジスタ側のメモリセル
の制御ゲートに供給する電圧を、スイッチングトランジ
スタ側のメモリセルに供給する電圧よりも低くすること
によって、電子の注入されたメモリセルのしきい値電圧
は選択トランジスタ側に接続されるメモリセルの方がス
イッチングトランジスタ側に接続されるメモリセルのも
のよりも低くなる。本実施例において、メモリセルM1
〜M4全てに電子が注入された場合、メモリセルのしき
い値はM4が一番高くなり以下M3〜M1の順に順次引
くなるように設定される。したがって、データの読み出
しの時は、基板効果によって上昇した後のしきい値電圧
を従来よりも低い値にできるので、選択トランジスタ側
のメモリセルを通して流れる電流が多くなり、データの
読み出し速度が向上する。また、書込み後のチェックの
ための読み出し時にメモリセルに印加される電圧を、通
常読み出し時にメモリセルに印加される電圧よりも高く
設定することから、従来同様読み出し時のマージンを大
きくとることができる。
As described above, by making the voltage supplied to the control gate of the memory cell on the selection transistor side lower than the voltage supplied to the memory cell on the switching transistor side when reading for checking after writing is performed, The threshold voltage of the memory cell into which the electrons are injected is lower in the memory cell connected to the selection transistor than in the memory cell connected to the switching transistor. In the present embodiment, the memory cell M1
When electrons are injected into all of the memory cells M4 to M4, the threshold value of the memory cell is set so that M4 becomes the highest, and the threshold value becomes lower in the order of M3 to M1. Therefore, at the time of data reading, the threshold voltage after the rise due to the body effect can be made lower than before, so that the current flowing through the memory cell on the selection transistor side increases, and the data reading speed improves. . In addition, since the voltage applied to the memory cell at the time of reading for checking after writing is set higher than the voltage applied to the memory cell at the time of normal reading, a margin at the time of reading can be increased as in the related art. .

【0025】なお本願発明は、上記のように、チェック
のための読み出しを行う時に選択トランジスタ側のメモ
リセルの制御ゲートに供給する電圧を、スイッチングト
ランジスタ側のメモリセルに供給する電圧よりも低くす
るように制御するようにすることが特徴であり、このよ
うに制御するものであるならば、実施例に限定されない
ことは言うまでもない。
In the present invention, as described above, the voltage supplied to the control gate of the memory cell on the selection transistor side when reading for checking is made lower than the voltage supplied to the memory cell on the switching transistor side. It is a feature that such control is performed, and it goes without saying that the control is not limited to the embodiment as long as the control is performed in this manner.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上説明したように、本願発明によれ
ば、チェックのための読み出しを行う時に選択トランジ
スタ側のメモリセルの制御ゲートに供給する電圧を、ス
イッチングトランジスタ側のメモリセルに供給する電圧
よりも低くして、電子の注入されたメモリセルのしきい
値電圧を選択トランジスタ側のほうがスイッチングトラ
ンジスタ側のものよりも低くなるように制御しているの
で、データの読み出しの時の基板効果によって上昇した
しきい値電圧が従来よりも低くなり、このためメモリセ
ルを通して流れる電流が多くなりデータの読み出し速度
を向上させることができる。
As described above, according to the present invention, the voltage supplied to the control gate of the memory cell on the selection transistor side when reading for checking is changed to the voltage supplied to the memory cell on the switching transistor side. Lower than the threshold voltage of the memory cell into which electrons are injected, so that the threshold voltage of the selection transistor side is lower than that of the switching transistor side. The increased threshold voltage becomes lower than before, so that the current flowing through the memory cell increases and the data reading speed can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本願発明の不揮発性半導体メモリ装置の回路構
成を示した図である。
FIG. 1 is a diagram showing a circuit configuration of a nonvolatile semiconductor memory device of the present invention.

【図2】NAND型不揮発性半導体メモリ装置の構成を
示した図である。
FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a NAND type nonvolatile semiconductor memory device.

【図3】NAND型不揮発性半導体メモリ装置のメモリ
セルの接続を示した図である。
FIG. 3 is a diagram showing connections of memory cells of a NAND type nonvolatile semiconductor memory device.

【図4】トランジスタの基板電圧としきい値電圧の関係
を示した図である。
FIG. 4 is a diagram showing a relationship between a substrate voltage and a threshold voltage of a transistor.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

STr1 選択トランジスタ STr2 スイッチングトランジ
スタ M1〜M4 メモリセル 101 電圧発生手段 102 デコーダ手段 103 電圧発生部 104 デコード部
STr1 selection transistor STr2 switching transistor M1 to M4 memory cell 101 voltage generating means 102 decoder means 103 voltage generating section 104 decoding section

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 浮遊ゲートおよび制御ゲートを有し浮遊
ゲートの電荷の量によってデータを記憶する少なくとも
2個のメモリセルが第1の端子と第2の端子との間に直
列に接続されてなるメモリブロックを具備し、 前記メモリセルへのデータの書き込み時に、メモリセル
にデータが書き込まれたかどうかを確認するために、前
記第1の端子から、前記第2の端子への前記少なくとも
2個のメモリセルを介しての電流経路の形成状態によっ
て読み出し動作を行う時に、前記電流経路の前記第2の
端子側のメモリセルへのデータの書き込み時に、このメ
モリセルにデータが書き込まれたかどうかを確認するた
めの読み出し動作を行うためこのメモリセルのゲートに
印加される電位V2と、前記前記電流経路の前記第1の
端子側のメモリセルへのデータ書き込み時に、このメモ
リセルにデータが書き込まれたどうか確認するための読
み出し動作を行うためこのメモリセルのゲートに印加さ
れる電位V1との関係が V1 <V2 となることを特徴とする不揮発性半導体メモリ。
At least two memory cells each having a floating gate and a control gate and storing data according to an amount of charge of the floating gate are connected in series between a first terminal and a second terminal. A memory block, wherein when writing data to the memory cell, the first and second terminals are connected to the second terminal from the first terminal to check whether data is written to the memory cell. When performing a read operation based on the state of formation of a current path through a memory cell, when writing data to a memory cell on the second terminal side of the current path, it is checked whether data has been written to this memory cell. Potential V2 applied to the gate of the memory cell to perform a read operation for reading data from the memory cell on the first terminal side of the current path. A nonvolatile memory characterized in that a relationship with a potential V1 applied to the gate of the memory cell is V1 <V2 in order to perform a read operation for confirming whether data is written in the memory cell at the time of data writing. Semiconductor memory.
【請求項2】 前記メモリセルからの通常のデータの読
み出し時に、前記第1および第2のメモリセルのゲート
に印加される電位をV3 とすると、 V3 <V1 <V2 となることを特徴とする請求項1記載の不揮発性半導体
メモリ。
2. The method according to claim 1, wherein the potential applied to the gates of the first and second memory cells is V3 <V1 <V2 when normal data is read from the memory cells. The nonvolatile semiconductor memory according to claim 1.
【請求項3】 浮遊ゲートおよび制御ゲートを有し、浮
遊ゲート中の電荷の量によってデータを記憶する複数の
メモリセルが直列に接続されたメモリブロックと、 前記メモリブロックの一端と読み出し電位供給端子との
接続を制御する選択トランジスタと、 前記メモリブロックの他端と基準電位端子との接続を制
御するスイッチングトランジスタと、 前記メモリセルにデータを書き込むための書込み手段
と、 前記メモリセルからデータを読み出す時に、第1 の読み
出しモードと、前記メモリセルにデータが書き込まれた
かどうかを判断するために前記メモリセルよりデータを
読み出す第2の読み出しモードとを選択的に切り替え可
能な読み出し手段とを具備し、 前記第2の読み出しモードでの読み出しの時に選択され
たメモリセルの制御ゲートに供給される電位が、前記第
1の読み出しモードでの読み出しの時に選択されたメモ
リセルの制御ゲートに供給される電位よりも高く、か
つ、前記メモリブロックを構成するメモリセルのうち前
記スイッチングトランジスタ側に配置された前記メモリ
セルが選択された時に選択されたメモリセルの制御ゲー
トに供給される電位が前記選択トランジスタ側に配置さ
れた前記メモリセルが選択された時に選択されたメモリ
セルの制御ゲートに供給される電位よりも高くなるよう
に制御されることを特徴とする不揮発性半導体メモリ。
3. A memory block having a floating gate and a control gate, in which a plurality of memory cells for storing data according to the amount of charge in the floating gate are connected in series, one end of the memory block and a read potential supply terminal. A selection transistor for controlling connection between the memory cell, a switching transistor for controlling connection between the other end of the memory block and a reference potential terminal, writing means for writing data to the memory cell, and reading data from the memory cell. A read unit that can selectively switch between a first read mode and a second read mode for reading data from the memory cell to determine whether data has been written to the memory cell. The control gate of the memory cell selected at the time of reading in the second read mode. A potential supplied to the control gate of the memory cell selected at the time of reading in the first read mode, and the switching among the memory cells constituting the memory block is performed. The potential supplied to the control gate of the selected memory cell when the memory cell disposed on the transistor side is selected is the potential of the memory cell selected when the memory cell disposed on the selected transistor side is selected. A nonvolatile semiconductor memory controlled to be higher than a potential supplied to a control gate.
【請求項4】 前記第2の読み出しモードでの読み出し
時に、前記メモリセルからデータが読み出される時は、
選択されたメモリセルの制御ゲートに供給される電位
が、前記メモリブロックを構成するメモリセルの前記ス
イッチングトランジスタに接続された前記メモリセルか
ら、前記選択トランジスタに接続された前記メモリセル
にむけて順次低くなるように設定されていることを特徴
とする請求項3記載の不揮発性半導体メモリ。
4. When data is read from the memory cell at the time of reading in the second reading mode,
The potential supplied to the control gate of the selected memory cell is sequentially changed from the memory cell connected to the switching transistor of the memory cells constituting the memory block to the memory cell connected to the selected transistor. 4. The nonvolatile semiconductor memory according to claim 3, wherein the setting is made lower.
【請求項5】 前記読み出し手段は、前記選択されたメ
モリセルに供給する電圧を発生する電圧発生手段と、前
記選択トランジスタおよび前記メモリセルを選択しその
制御ゲートに前記電圧発生手段で発生させた電圧を供給
するデコーダ手段とを具備し、前記電圧発生手段は前記
第2の読み出しモードでの読み出し時に、選択されたメ
モリセルの接続位置に対応した電圧を発生することを特
徴とする請求項3乃至4記載の不揮発性半導体メモリ。
5. The read means includes a voltage generation means for generating a voltage to be supplied to the selected memory cell, and a selection transistor and the memory cell which are selected and generated by the voltage generation means on a control gate thereof. 4. A decoder for supplying a voltage, wherein the voltage generator generates a voltage corresponding to a connection position of a selected memory cell at the time of reading in the second read mode. 5. The nonvolatile semiconductor memory according to any one of claims 1 to 4.
【請求項6】 前記電圧発手段は、複数の電圧を発生す
る電圧発生部と前記複数の電圧の中から選択されたメモ
リセルに対応した電圧を選択するデコード部とを有する
ことを特徴とする請求項5記載の不揮発性半導体メモ
リ。
6. The voltage generating means includes a voltage generating section for generating a plurality of voltages and a decoding section for selecting a voltage corresponding to a memory cell selected from the plurality of voltages. The nonvolatile semiconductor memory according to claim 5.
【請求項7】 前記第1 の読み出しモードでの読み出し
時には、前記デコード部は非選択状態となり、基準電位
を前記デコーダ手段に供給することを特徴とする請求項
6記載の不揮発性半導体メモリ。
7. The non-volatile semiconductor memory according to claim 6, wherein at the time of reading in said first read mode, said decoding section is in a non-selected state, and supplies a reference potential to said decoder means.
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