JPH1145564A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JPH1145564A
JPH1145564A JP9198641A JP19864197A JPH1145564A JP H1145564 A JPH1145564 A JP H1145564A JP 9198641 A JP9198641 A JP 9198641A JP 19864197 A JP19864197 A JP 19864197A JP H1145564 A JPH1145564 A JP H1145564A
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JP
Japan
Prior art keywords
data
memory cell
bit line
line pairs
memory device
Prior art date
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Pending
Application number
JP9198641A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiro Takai
康浩 高井
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Publication of JPH1145564A publication Critical patent/JPH1145564A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To realize a wide data band without increasing the production cost. SOLUTION: A data line 120 runs parallel with bit line pairs 400, 500 and is commonly used plural memory cell plates 15, 16 as well as two sets of the bit line pairs 400, 500 and 401, 501. Two piece of transfer gate control signals 20, 30 run orthogonally with the bit line pairs and are respectively commonly used in the same memory cell plate 15. A register 100 is connected to the data line 120. The one bit line 400 of the bit line pairs is electrically connected by the transfer gate control signal 20 and the other bit line 402 is connected by the transfer gate control signal 30 to respectively common data line 120.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置に
関し、詳しくは、広いデータバンド幅が必要なダイナミ
ックRAM又はそのダイナミックRAMを搭載したデバ
イス等の半導体記憶装置に関する。
The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly, to a semiconductor memory device such as a dynamic RAM requiring a wide data bandwidth or a device equipped with the dynamic RAM.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来この種の半導体記憶装置では、カラ
ムスイッチ選択信号が複数のメモリセルプレート上を走
行し、選択されたカラムアドレスのデータが、ビット線
対に直交して走行するデータ線対に転送されていた。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a semiconductor memory device of this type, a column switch selection signal runs on a plurality of memory cell plates, and data of a selected column address is transferred to a data line pair orthogonal to a bit line pair. Had been transferred to.

【0003】図6は、半導体記憶装置の第一従来例を示
す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a first conventional example of a semiconductor memory device.

【0004】本従来例の半導体記憶装置は、2つのメモ
リセルプレート15,16から構成され、データバス幅
が2ビット、すなわち2ビットのデータをグローバルデ
ータバス11,12から同時に読み出すことができる。
センスアンプ201,…は、左右のメモリセルプレート
15,…で共有され、チップ面積の増加を抑えている。
The conventional semiconductor memory device is composed of two memory cell plates 15 and 16 and has a data bus width of 2 bits, that is, 2-bit data can be read from the global data buses 11 and 12 simultaneously.
The sense amplifiers 201,... Are shared by the right and left memory cell plates 15,.

【0005】アドレスの同じメモリセル1000,12
00の2ビットのデータを読み出す動作を説明する。ま
ず、ロウアドレスで選択されたワード線300が活性化
されると、メモリセル1000,1100,1200,
1300,1800,1900のデータがそれぞれビッ
ト線400,401,402,403,408,409
に読み出される。基準レベルで、対をなしているビット
線500,501,502,503,508,509と
の差電位が、センスアンプ210,201,212,2
03,218,209で増幅される。カラムアドレス
は、カラムデコーダ回路10でデコードされ、ビット線
対と平行に走行するカラムスイッチ選択信号110が活
性化する。センスアンプ210,212で増幅されたビ
ット線対400,500及び402,502は、それぞ
れカラムスイッチ600,700及び602,702を
介して、ビット線対400,500及び402,502
に直交したローカルデータバスの対41,51及び6
1,71にそれぞれ電気的に接続される。2ビットのデ
ータは、データアンプ81,91によって増幅され、グ
ローバルデータバス11,12に転送される。
Memory cells 1000 and 12 having the same address
The operation of reading 00 2-bit data will be described. First, when the word line 300 selected by the row address is activated, the memory cells 1000, 1100, 1200,
The data of 1300, 1800, and 1900 are bit lines 400, 401, 402, 403, 408, and 409, respectively.
Is read out. At the reference level, the potential difference between the paired bit lines 500, 501, 502, 503, 508, and 509 is the sense amplifier 210, 201, 212, 2
Amplified at 03,218,209. The column address is decoded by the column decoder circuit 10, and a column switch selection signal 110 running parallel to the bit line pair is activated. The bit line pairs 400, 500 and 402, 502 amplified by the sense amplifiers 210, 212 are connected to the bit line pairs 400, 500, 402, 502 via column switches 600, 700, 602, 702, respectively.
Of local data buses 41, 51 and 6 orthogonal to
1 and 71, respectively. The 2-bit data is amplified by data amplifiers 81 and 91 and transferred to global data buses 11 and 12.

【0006】メモリセルにデータを書き込む動作につい
て説明する。グローバルデータバス11,12の2ビッ
トのライトデータは、データアンプ81,91によりカ
ラムスイッチ600,700,602,702を介し
て、センスアンプ210,212に書き込まれ、メモリ
セル1000,1200に書き込まれる。
The operation of writing data to a memory cell will be described. The 2-bit write data of the global data buses 11 and 12 is written to the sense amplifiers 210 and 212 by the data amplifiers 81 and 91 via the column switches 600, 700, 602 and 702, and is written to the memory cells 1000 and 1200. .

【0007】現在の16Mビットクラス以上のDRAM
では、チップサイズやカラムアドレスの空間が大きくな
っているにもかかわらず、センスアンプで微小電位差を
高速に増幅する必要があるため、寄生容量を抑えるため
にビット線対は長くできない。そのため、専有面積の大
きいカラムデコーダ回路をまとめて配置し、カラムスイ
ッチを分散して配置し、カラムスイッチ選択信号にアル
ミニウムなどの低抵抗の金属配線を使っている。しかし
ながら、現在のLSI製造の技術水準では、ビット線の
材料であるシリサイドやポリサイドに比較して、層抵抗
の低減と配線寿命確保のために、金属配線を厚くする必
要があり、またリソグラフィ技術やエッチング技術の制
約により、2倍以上の配線ピッチが必要とされる。した
がって、1本のカラムスイッチ選択信号が2組のカラム
スイッチを同時に選択する図3の構成では、カラムスイ
ッチ選択信号のピッチがビット線のピッチの4倍になる
ため、高歩留まりで製造する上でも有利になっている。
[0007] DRAM of present 16 Mbit class or higher
However, although the chip size and the space of the column address are large, the minute potential difference needs to be amplified at high speed by the sense amplifier. Therefore, the bit line pair cannot be long in order to suppress the parasitic capacitance. Therefore, column decoder circuits having a large occupied area are collectively arranged, column switches are dispersed, and low resistance metal wiring such as aluminum is used for a column switch selection signal. However, in the current state of the art of LSI manufacturing, compared with silicide and polycide, which are the material of bit lines, it is necessary to increase the thickness of metal wiring in order to reduce the layer resistance and secure the wiring life. Due to the limitations of the etching technique, a wiring pitch twice or more is required. Therefore, in the configuration of FIG. 3 in which one column switch selection signal simultaneously selects two sets of column switches, the pitch of the column switch selection signal is four times the pitch of the bit line, so that even in manufacturing at a high yield. It is advantageous.

【0008】図7は、半導体記憶装置の第二従来例を示
す回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a second conventional example of the semiconductor memory device.

【0009】本従来例は、一般にVRAM又はデュアル
ポートRAMと呼ばれるものであり、第一従来例と同様
に、メモリセル1000のデータは、カラムスイッチ6
00,700を介してグローバルデータバス11,12
に転送され、パラレルポートで入出力できる。そのほか
に、メモリセル1000のデータは、データ転送スイッ
チ2400,2500を介してレジスタ2100でラッ
チできる構成になっており、シリアルアドレススイッチ
2600,2700を介してグローバルシリアルデータ
バス2011に転送され、パラレルポートとは独立にシ
リアルポートで入出力できる。この構成では、メモリセ
ルデータはレジスタ2100に転送されるため、シリア
ルポートでデータを入出力している期間に、ワード線3
00を非活性化できる。
This conventional example is generally called a VRAM or a dual-port RAM. As in the first conventional example, data in the memory cell 1000 is stored in the column switch 6.
Global data buses 11 and 12 via 00 and 700
And can be input / output via the parallel port. In addition, the data of the memory cell 1000 can be latched by the register 2100 via the data transfer switches 2400 and 2500, and is transferred to the global serial data bus 2011 via the serial address switches 2600 and 2700, and Can be input / output via the serial port. In this configuration, since the memory cell data is transferred to the register 2100, while the data is being input / output through the serial port, the word line 3
00 can be deactivated.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】近年、マイクロプロセ
サの性能向上に伴い、主記憶メモリとのバンド幅、すな
わちデータ転送速度が性能のボトルネックとなってい
る。解決策の一つとして、ロジックとDRAMのワンチ
ップ化が提案されている。
In recent years, as the performance of microprocessors has been improved, the bandwidth with respect to the main memory, that is, the data transfer speed has become a bottleneck in performance. As one of the solutions, one-chip integration of logic and DRAM has been proposed.

【0011】図6に示した第一従来例の半導体記憶装置
では、バンド幅の向上のために、バス幅を拡大するため
には、ビット線と直交して走行するデータ線対を増やさ
なければない。そのため、チップ面積が大幅に増大する
という問題点があった。
In the semiconductor memory device of the first conventional example shown in FIG. 6, in order to increase the bus width in order to improve the bandwidth, the number of data line pairs running perpendicular to the bit lines must be increased. Absent. Therefore, there is a problem that the chip area is greatly increased.

【0012】また、図7に示した第二従来例の半導体記
憶装置の思想を拡張して、複数のメモリセルプレートで
共用するレジスタを設け、データ線でデータ転送する方
法も考えられる。この方法での書き込みは、レジスタの
データをデータ線を介して、メモリセルデータが増幅さ
れたセンスアンプに書き込むことになるため、データ線
は相補の対でなければならない。また、各メモリセルプ
レートから共用レジスタに至るデータ線が長くなるた
め、アクセス時間が悪化しないように、データ線は金属
配線でなければならない。すなわち、ビット線1対につ
き1対のデータ線が必要になる。しかし、前述のよう
に、金属配線のピッチはビット線ピッチの2倍以上にす
る必要があるため、高い歩留まりで製造するためには、
データ線の金属配線が4層必要で、工程数が増大するた
めに製造コストの大幅な上昇を招く。
Further, a method of extending a concept of the semiconductor memory device of the second conventional example shown in FIG. 7 and providing a register shared by a plurality of memory cell plates and transferring data by a data line is also conceivable. In this method, the data in the register is written via the data line to the sense amplifier in which the memory cell data has been amplified. Therefore, the data line must be a complementary pair. In addition, since the data line from each memory cell plate to the shared register becomes longer, the data line must be a metal wiring so that the access time does not deteriorate. That is, one pair of data lines is required for each pair of bit lines. However, as described above, since the pitch of the metal wiring needs to be twice or more the bit line pitch, in order to manufacture with a high yield,
Four layers of metal wiring for the data line are required, and the number of steps is increased, so that the manufacturing cost is significantly increased.

【0013】また、特開昭62−76093号公報で、
隣接する真補のビット線で1本のデータ線を共用して、
活性化されたセンスアンプの半分のデータを転送する方
法が提案されている。しかし、この方法もやはりビット
線1対につき1本のデータ線が必要であり、データ線の
金属配線が2層必要である。
In Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-76093,
Adjacent true complement bit lines share one data line,
There has been proposed a method of transferring half the data of the activated sense amplifier. However, this method also requires one data line for each pair of bit lines, and requires two layers of metal wiring for the data lines.

【0014】[0014]

【発明の目的】そこで、本発明の目的は、製造コストを
上昇させることなく、広いデータバンド幅を実現できる
半導体記憶装置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of realizing a wide data bandwidth without increasing the manufacturing cost.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、上記目的を達成するため、ビット線対に平行に走行
するとともに複数のメモリセルプレート及びN組のビッ
ト線対で共有される複数のデータ線と、前記ビット線対
に直交して走行するとともに同一の前記メモリセルプレ
ート内でそれぞれ共有されるN本の制御信号と、前記デ
ータ線のそれぞれに接続された少なくとも1個のレジス
タと、前記N本の制御信号によって前記N組のビット線
対のうち一対の一方を選択的に前記共通のデータ線に電
気的に接続する手段とを備えている。
In order to achieve the above object, a semiconductor memory device according to the present invention runs in parallel with a bit line pair and has a plurality of memory cell plates and a plurality of memory cell plates and N bit line pairs. A data line, N control signals running orthogonal to the bit line pair and shared in the same memory cell plate, and at least one register connected to each of the data lines. Means for selectively electrically connecting one of a pair of the N bit line pairs to the common data line in accordance with the N control signals.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】図1は、本発明に係る半導体記憶
装置の第一実施形態を示す回路図である。図2は、図1
の半導体記憶装置の動作波形を示すタイミングチャート
である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention. FIG. 2 shows FIG.
5 is a timing chart showing operation waveforms of the semiconductor memory device of FIG.

【0017】データ線120は、ビット線対400,5
00と平行に走行し、複数のメモリセルプレート15,
16並びに2組のビット線対400,500及び40
1,501で共用されている。また、2本のトランスフ
ァゲート制御信号20,30は、ビット線対に直交して
走行し、同一のメモリセルプレート15の中でそれぞれ
共有されている。レジスタ100はデータ線120に接
続されている。トランスファゲート制御信号20によっ
てビット線対の一方のビット線400が、トランスファ
ゲート制御信号30によって他方のビット線402が、
それぞれ共通のデータ線120に電気的に接続される。
The data line 120 is a pair of bit lines 400 and 5
00 in parallel with a plurality of memory cell plates 15,
16 and two bit line pairs 400, 500 and 40
1,501. The two transfer gate control signals 20 and 30 run orthogonally to the bit line pair and are shared in the same memory cell plate 15. The register 100 is connected to the data line 120. The transfer gate control signal 20 causes one bit line 400 of the bit line pair, and the transfer gate control signal 30 causes the other bit line 402 to
Each is electrically connected to a common data line 120.

【0018】本実施形態の半導体記憶装置は、同時に活
性化されているセンスアンプ数の半分のデータ、図1で
は、明示されている6個のセンスアンプのうち3個のデ
ータを、同時に転送できる。
The semiconductor memory device of the present embodiment can simultaneously transfer half the number of sense amplifiers that are activated at the same time, that is, three data out of the six sense amplifiers shown in FIG. .

【0019】メモリセル1000,1200,1800
のデータを同時に読み出す動作手順を、メモリセル10
00のデータQ1に着目した図2の動作波形を参照して
説明する。まず、ロウアドレスで選択されたワード線3
00が活性化され、第一従来例と同様に、メモリセル1
000,1100,1200,1300,1800,1
900のデータがそれぞれセンスアンプ210,20
1,212,203,218,209で増幅される。続
いて、トランスファゲート制御信号20が活性化され、
センスアンプ210,…で増幅されたビット線対の一方
のビット線400,402,408が、トランスファゲ
ート130,132,138を介して、ビット線40
0,…と平行に走行するデータ線120,122,12
8にそれぞれ接続され、メモリセル1000,120
0,1800の3個のデータが転送される。これらのデ
ータは、レジスタ100,102,108によって増幅
され、メモリセルプレート15の外部に同時に出力され
る。データがレジスタ100,…に転送されると、メモ
リセル1000,…への再書き込みが終わり次第、ワー
ド線300を非活性化し、センスアンプ210,…をバ
ランス・プリチャージして、次のアクセスに備えること
ができる。
Memory cells 1000, 1200, 1800
The operation procedure for simultaneously reading data from memory cells 10
A description will be given with reference to the operation waveform of FIG. First, the word line 3 selected by the row address
00 is activated, and the memory cell 1
000,1100,1200,1300,1800,1
900 data are sense amplifiers 210 and 20 respectively.
It is amplified at 1, 212, 203, 218, 209. Subsequently, the transfer gate control signal 20 is activated,
One of the bit lines 400, 402, 408 of the bit line pair amplified by the sense amplifiers 210,... Is transferred to the bit line 40 via transfer gates 130, 132, 138.
Data lines 120, 122, 12 running parallel to 0,.
8 and the memory cells 1000, 120
Three data of 0,1800 are transferred. These data are amplified by the registers 100, 102, and 108, and are simultaneously output to the outside of the memory cell plate 15. When the data is transferred to the registers 100,..., The word line 300 is deactivated and the sense amplifiers 210,. Can be prepared.

【0020】メモリセル1000にデータD1を書き込
むためには、まずレジスタ100にデータD1を書き込
む。これをメモリセル1000にまで書き込むには、以
下の手順で行う。すなわち、選択されたワード線300
を再び活性化させるとともに、トランスファゲート制御
信号20を活性化する。センスアンプ210,201,
212,203,218,209はまだ活性化されてい
ないため、トランスファゲート130,132,138
を介してデータ線120,122,128に接続されて
いるビット線対の一方のビット線400,402,40
8には、レジスタ100,102,108のデータが書
き込まれることになる。すなわち、メモリセル1000
に保持されていたデータQ1は、レジスタ100のデー
タD1に破壊される。もちろん、レジスタ100のデー
タが書き換えられていなければ、もとのメモリセルデー
タがレジスタ100に保持されているので、メモリセル
1000と同じデータが書き込まれる。ビット線対の一
方のビット線401,403,409は、データ線12
0,122,128と接続されるトランスファゲート1
31,133,139のトランスファゲート制御信号3
0が非活性なので、共通のワード線300により選択さ
れたメモリセル1100,1300,1900のデータ
がビット線対401,…に転送される。すなわち、メモ
リセル1100に保持されているデータQ2は、読み出
しの場合と同様に、ビット線対の一方のビット線401
に保持される。センスアンプ210,…が活性化される
と、活性化されたトランスファゲート制御信号20に接
続されたビット線400,402,408ではレジスタ
100,…のデータが増幅され、非活性のトランスファ
ゲート制御信号30に接続されたビット線401,40
3,409ではメモリセル1100,…のデータが増幅
され、それぞれメモリセル1100,…に書き込まれ
る。
In order to write data D1 to memory cell 1000, first, data D1 is written to register 100. To write this to the memory cell 1000, the following procedure is performed. That is, the selected word line 300
Are activated again, and the transfer gate control signal 20 is activated. Sense amplifiers 210, 201,
Since 212, 203, 218 and 209 are not yet activated, the transfer gates 130, 132 and 138 are not activated.
, One of bit lines 400, 402, 40 of a bit line pair connected to data lines 120, 122, 128
8, the data of the registers 100, 102, and 108 is written. That is, the memory cell 1000
Is destroyed by the data D1 of the register 100. Of course, if the data in the register 100 is not rewritten, the same data as the memory cell 1000 is written since the original memory cell data is held in the register 100. One of the bit lines 401, 403, and 409 of the bit line pair is connected to the data line 12
Transfer gate 1 connected to 0, 122, 128
31, 133, 139 transfer gate control signal 3
Since 0 is inactive, data of the memory cells 1100, 1300, 1900 selected by the common word line 300 is transferred to the bit line pair 401,. That is, the data Q2 held in the memory cell 1100 is applied to one of the bit lines 401 of the bit line pair as in the case of reading.
Is held. When the sense amplifiers 210,... Are activated, the data of the registers 100,. Bit lines 401 and 40 connected to
3, 409, the data of the memory cells 1100,... Are amplified and written to the memory cells 1100,.

【0021】以上のように、本実施形態の半導体記憶装
置は、レジスタをキャッシュとみなすと、ライトバック
方式の動作として扱うことができる。すなわち、あるア
ドレスのメモリセルデータをレジスタに転送すると、そ
のアドレスのデータが読み出されたときはもちろん、デ
ータが書き込まれたときもレジスタにのみ書き込み、メ
モリセルにはアクセスしない。レジスタデータと別のア
ドレスがアクセスされると、レジスタデータが書き替わ
っていれば、もとのアドレスのワード線を選択して、上
記手順でメモリセルにライトバックしてから、新しいア
ドレスをアクセスする。書き込みの頻度が比較的小さい
場合には、レジスタにデータが書き込まれるごとにライ
トバックする制御方法もあり、本発明の構成で容易に実
現できる。
As described above, the semiconductor memory device of the present embodiment can be treated as a write-back operation when the register is regarded as a cache. That is, when the memory cell data at a certain address is transferred to the register, not only when the data at that address is read but also when the data is written, only the register is written and the memory cell is not accessed. When an address different from the register data is accessed, if the register data has been rewritten, the word line of the original address is selected, the write back to the memory cell is performed in the above procedure, and then a new address is accessed. . When the frequency of writing is relatively low, there is a control method of writing back every time data is written to the register, and this can be easily realized by the configuration of the present invention.

【0022】図3は、本発明に係る半導体記憶装置の第
二実施形態を示す回路図である。図4は、図3の半導体
記憶装置の動作波形を示すタイミングチャートである。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a second embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention. FIG. 4 is a timing chart showing operation waveforms of the semiconductor memory device of FIG.

【0023】本実施形態の半導体記憶装置は、ビット線
1対につきデータ線を1本走行させているため、バンド
幅は第一実施形態の2倍になる。この場合、データ線と
して2層の金属配線が必要になるため製造コストは上が
るものの、従来例を拡張した4層金属配線や特開昭62
−76093号公報に記載の2層金属配線の方法に比較
しても、費用対効果の面で圧倒的に有利である。この例
では、1本のワード線を活性化して選択されたメモリセ
ルは、すべてレジスタに転送される。そのため、図4の
動作波形に示したように、データを書き込む場合には、
ワード線300を活性化する前にトランスファゲート制
御信号20を活性化できる。したがって、ロウアドレス
をデコードする時間、及びレジスタがメモリセルのデー
タを反転させる時間を待たずにセンスアンプを活性化で
き、第一実施形態に比較すると、高速にしかも安定にセ
ンスできるという利点がある。
In the semiconductor memory device of the present embodiment, one data line runs for each pair of bit lines, so that the bandwidth is twice that of the first embodiment. In this case, although two layers of metal wiring are required as data lines, the manufacturing cost is increased.
It is overwhelmingly advantageous in terms of cost-effectiveness as compared with the two-layer metal wiring method described in JP-A-76093. In this example, all the memory cells selected by activating one word line are transferred to the register. Therefore, as shown in the operation waveform of FIG. 4, when writing data,
Before activating the word line 300, the transfer gate control signal 20 can be activated. Therefore, the sense amplifier can be activated without waiting for the time for decoding the row address and the time for the register to invert the data of the memory cell, and there is an advantage that the sensing can be performed at high speed and stably as compared with the first embodiment. .

【0024】図5は、本発明に係る半導体記憶装置の第
三実施形態を示す回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a third embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention.

【0025】本実施形態の半導体記憶装置は、1本のデ
ータ線120に対して2個のレジスタ100、101を
有する。レジスタ制御信号13,14でレジスタを切り
替えることで、異なるロウアドレス、又は異なるトラン
スファー制御信号のメモリセルを別のレジスタに保存で
きる。いわゆる2ウェイセットアソシアティブ方式とし
て制御することができ、さらなる性能向上が期待でき
る。
The semiconductor memory device of this embodiment has two registers 100 and 101 for one data line 120. By switching the registers using the register control signals 13 and 14, memory cells having different row addresses or different transfer control signals can be stored in different registers. It can be controlled as a so-called 2-way set associative system, and further improvement in performance can be expected.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上説明したように本発明は、Nを自然
数とすると、ビット線対に平行に走行するとともに複数
のメモリセルプレート及びN組のビット線対で共有され
る複数のデータ線と、ビット線対に直交して走行すると
ともに同一のメモリセルプレート内でそれぞれ共有され
るN本の制御信号と、データ線のそれぞれに接続された
少なくとも1個のレジスタと、N本の制御信号によって
N組のビット線対の一対の一方を選択的に共通のデータ
線に電気的に接続する手段とを備えたことにより、金属
配線の層数を増加させず、製造コストを上昇させること
なく、広いデータバンド幅を実現できる。
As described above, according to the present invention, assuming that N is a natural number, the present invention runs in parallel to a bit line pair and has a plurality of memory cell plates and a plurality of data lines shared by N sets of bit line pairs. , N control signals running orthogonal to the bit line pairs and shared in the same memory cell plate, at least one register connected to each of the data lines, and N control signals. Means for selectively electrically connecting one of the N pairs of bit lines to a common data line without increasing the number of metal wiring layers and without increasing manufacturing costs. A wide data bandwidth can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る半導体記憶装置の第一実施形態を
示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention.

【図2】図1の半導体記憶装置の動作波形を示すタイミ
ングチャートである。
FIG. 2 is a timing chart showing operation waveforms of the semiconductor memory device of FIG. 1;

【図3】本発明に係る半導体記憶装置の第二実施形態を
示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a second embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention.

【図4】図3の半導体記憶装置の動作波形を示すタイミ
ングチャートである。
FIG. 4 is a timing chart showing operation waveforms of the semiconductor memory device of FIG. 3;

【図5】本発明に係る半導体記憶装置の第三実施形態を
示す回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a third embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention.

【図6】半導体記憶装置の第一従来例を示す回路図であ
る。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a first conventional example of a semiconductor memory device.

【図7】半導体記憶装置の第二従来例を示す回路図であ
る。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a second conventional example of a semiconductor memory device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 カラムデコーダ回路 11,12,150,151,152,153,15
8,159 グローバルデータバス 13,14 レジスタ制御信号 15,16 メモリセルプレート 20,21,30,31 トランスファゲート制御信号 40,41,42,50,51,52,60,61,6
2,70,71,72ローカルデータバス 80,81,82,90,91,92 データアンプ 100,101,102,103,108,109 レ
ジスタ 110,111,118,119 カラムスイッチ選択
信号 120,121,122,123,128,129 デ
ータ線 130,131,132,133,138,139,1
40,141,142,143,148,149 トラ
ンスファゲート 201,203,209,210,212,218,2
21,223,229センスアンプ 300,301,309,310,311,319 ワ
ード線 400,401,402,403,408,409,4
10,411,412,413,418,419,50
0,501,502,503,508,509,51
0,511,512,513,518,519 ビット
線 600,601,602,603,608,609,6
11,613,619,700,701,1702,7
03,708,709,711,713,719 カラ
ムスイッチ 1000,1001,1009,1010,1011,
1019,1100,1101,1109,1110,
1111,1119,1200,1201,1209,
1210,1211,1219,1300,1301,
1309,1310,1311,1319,1800,
1801,1809,1810,1811,1819,
1900,1901,1909,1910,1911,
1919メモリセル 2010 シリアルカウンタ回路 2011 グローバルシリアルデータバス 2020 データ転送制御信号 2040,2050 ローカルシリアルデータバス 2080 シリアルデータアンプ 2100,2101,2109 シリアルレジスタ 2110,2111,2119 シリアルアドレススイ
ッチ選択信号 2400,2401,2409,2500,2501,
2509 データ転送スイッチ 2600,2601,2609,2700,2701,
2709 シリアルアドレススイッチ
10 Column decoder circuit 11, 12, 150, 151, 152, 153, 15
8,159 Global data bus 13,14 Register control signal 15,16 Memory cell plate 20,21,30,31 Transfer gate control signal 40,41,42,50,51,52,60,61,6
2, 70, 71, 72 local data buses 80, 81, 82, 90, 91, 92 data amplifiers 100, 101, 102, 103, 108, 109 registers 110, 111, 118, 119 column switch selection signals 120, 121, 122, 123, 128, 129 Data lines 130, 131, 132, 133, 138, 139, 1
40, 141, 142, 143, 148, 149 Transfer gate 201, 203, 209, 210, 212, 218, 2
21, 223, 229 Sense amplifiers 300, 301, 309, 310, 311, 319 Word lines 400, 401, 402, 403, 408, 409, 4
10,411,412,413,418,419,50
0, 501, 502, 503, 508, 509, 51
0, 511, 512, 513, 518, 519 Bit line 600, 601, 602, 603, 608, 609, 6
11,613,619,700,701,1702,7
03, 708, 709, 711, 713, 719 Column switch 1000, 1001, 1009, 1010, 1011
1019, 1100, 1101, 1109, 1110,
1111, 1119, 1200, 1201, 1209,
1210, 1211, 1219, 1300, 1301,
1309, 1310, 1311, 1319, 1800,
1801, 1809, 1810, 1811, 1819,
1900, 1901, 1909, 1910, 1911,
1919 memory cell 2010 serial counter circuit 2011 global serial data bus 2020 data transfer control signal 2040, 2050 local serial data bus 2020 serial data amplifier 2100, 2101, 1091 serial register 2110, 2111, 119 serial address switch selection signal 2400, 2401, 409 , 2500, 2501,
2509 data transfer switches 2600, 2601, 2609, 2700, 2701,
2709 Serial address switch

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のワード線と複数のビット線対との
マトリクス上に、複数のメモリセルが配置されたメモリ
セルプレートと、それぞれの前記ビット線対に接続され
たセンスアンプの列とを有し、少なくとも2個の前記メ
モリセルプレートで構成される半導体記憶装置におい
て、 前記ビット線対に平行に走行するとともに複数の前記メ
モリセルプレートで共有される複数のデータ線と、前記
ビット線対に直交して走行するとともに同一の前記メモ
リセルプレート内で共有される単一の制御信号と、前記
データ線のそれぞれに接続された少なくとも1個のレジ
スタと、前記制御信号の活性化によって前記ビット線対
の一方を前記データ線に電気的に接続する手段とを備え
たことを特徴とする半導体記憶装置。
1. A memory cell plate on which a plurality of memory cells are arranged on a matrix of a plurality of word lines and a plurality of bit line pairs, and columns of sense amplifiers connected to the respective bit line pairs. A semiconductor memory device comprising at least two memory cell plates, comprising: a plurality of data lines running parallel to the bit line pairs and shared by the plurality of memory cell plates; A single control signal running orthogonally to and shared within the same memory cell plate; at least one register connected to each of the data lines; and Means for electrically connecting one of the line pairs to the data line.
【請求項2】 同一の前記メモリセルプレートにおい
て、前記制御信号が非活性で前記ワード線のいずれかが
選択されてから前記センスアンプを活性化する手段と、
前記ワード線のいずれも選択されずに前記制御信号が活
性化されてから前記センスアンプを活性化する手段とを
備えた請求項1の半導体記憶装置。
Means for activating the sense amplifier after the control signal is inactive and one of the word lines is selected in the same memory cell plate;
2. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising: means for activating said sense amplifier after said control signal is activated without selecting any of said word lines.
【請求項3】 同一の前記メモリセルプレートにおい
て、前記制御信号が非活性で前記ワード線のいずれかが
選択されてから前記センスアンプを活性化する手段と、
前記ワード線のいずれかが選択され前記制御信号が活性
化されてから前記センスアンプを活性化する手段とを備
えた請求項1の半導体記憶装置。
3. A means for activating the sense amplifier after the control signal is inactive and one of the word lines is selected in the same memory cell plate;
2. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising: means for activating said sense amplifier after one of said word lines is selected and said control signal is activated.
【請求項4】 複数のワード線と複数のビット線対との
マトリクス上に、複数のメモリセルが配置されたメモリ
セルプレートと、それぞれ前記ビット線対に接続された
センスアンプの列とを有し、少なくとも2個の前記メモ
リセルプレートで構成される半導体記憶装置において、 Nを2以上の整数とすると、前記ビット線対に平行に走
行するとともに複数の前記メモリセルプレート及びN組
の前記ビット線対で共有される複数のデータ線と、前記
ビット線対に直交して走行するとともに同一の前記メモ
リセルプレート内でそれぞれで共有されるN本の制御信
号と、前記データ線のそれぞれに接続された少なくとも
1個のレジスタと、前記N本の制御信号によって前記N
組のビット線対のうち一対の一方を選択的に前記共通の
データ線に電気的に接続する手段とを備えたことを特徴
とする半導体記憶装置。
4. A memory cell plate on which a plurality of memory cells are arranged on a matrix of a plurality of word lines and a plurality of bit line pairs, and columns of sense amplifiers respectively connected to the bit line pairs. In a semiconductor memory device including at least two memory cell plates, if N is an integer of 2 or more, the semiconductor memory device travels in parallel with the bit line pair and has a plurality of the memory cell plates and N sets of the bits. A plurality of data lines shared by a pair of lines, N control signals running orthogonal to the bit line pairs and shared by the same memory cell plate, and connected to each of the data lines; And at least one register, and the N control signals
Means for selectively electrically connecting one of the pair of bit line pairs to the common data line.
【請求項5】 同一の前記メモリセルプレートにおい
て、前記制御信号のいずれも非活性で前記ワード線のい
ずれかが選択されてから前記センスアンプを活性化する
手段と、前記ワード線のいずれかが選択され前記制御信
号のいずれかが活性化されてから前記センスアンプを活
性化する手段とを備えた請求項4記載の半導体記憶装
置。
5. In the same memory cell plate, means for activating the sense amplifier after one of the word lines is selected while none of the control signals are inactive, and one of the word lines is 5. The semiconductor memory device according to claim 4, further comprising: means for activating said sense amplifier after one of said selected control signals is activated.
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014080756A1 (en) * 2012-11-22 2014-05-30 ピーエスフォー ルクスコ エスエイアールエル Semiconductor device

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