JPH1143759A - Plasma spraying method for titanium oxide powder onto substrate, plasma spraying device for titanium oxide powder onto substrate and product having plasma sprayed coating - Google Patents

Plasma spraying method for titanium oxide powder onto substrate, plasma spraying device for titanium oxide powder onto substrate and product having plasma sprayed coating

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JPH1143759A
JPH1143759A JP9196118A JP19611897A JPH1143759A JP H1143759 A JPH1143759 A JP H1143759A JP 9196118 A JP9196118 A JP 9196118A JP 19611897 A JP19611897 A JP 19611897A JP H1143759 A JPH1143759 A JP H1143759A
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plasma
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plasma flame
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plasma spraying method for titanium oxide powder onto a substrate in which titanium oxide sprayed coating is directly plasma- sprayed onto a high temp. weak substrate such as metallic foil and a plastic film without interposing a binder and titanium oxide sprayed coating the bactericidal performance of active oxygen is formed on the substrate, to provide a plasma spraying device for titanium oxide powder onto a substrate and to provide a product having plasma sprayed coating. SOLUTION: The plasma flame 14 of a gaseous mixture G at least composed of gaseous argon and gaseous nitrogen is jetted at a high speed from the plasma flame jetting hole 5 of the main body 1 of a plasma nozzle, anatase type titanium oxide powder is jetted from a spot hole 7 for anatase type titanium oxide powder provided proximately to the outlet of the plasma flame jetting hole 5, and the coating 9 of anatase type titanium oxide having photocatalytic function is spray-formed on the surface of a substrate 8.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、金属箔、ガラス、
布、紙、プラスチックフィルム、或いはれんがやコンク
リート等の基材にアナターゼ型酸化チタン皮膜をプラズ
マ溶射によって形成する酸化チタン粉末の基材へのプラ
ズマ溶射方法並びに酸化チタン粉末の基材へのプラズマ
溶射装置及び光触媒機能を有するアナターゼ型酸化チタ
ンの溶射皮膜が表面に形成されているプラズマ溶射皮膜
を有する製品の技術の分野に属する。
The present invention relates to a metal foil, glass,
Plasma spraying method for titanium oxide powder on a base material such as cloth, paper, plastic film, or brick or concrete by plasma spraying an anatase type titanium oxide film, and plasma spraying apparatus for titanium oxide powder on a base material And belongs to the technical field of products having a plasma sprayed coating having an anatase type titanium oxide sprayed coating having a photocatalytic function formed on the surface.

【0002】[0002]

【従来の技術】微生物の殺菌または抑制方法に関して
は、加熱・凍結殺菌・紫外線・放射線・遠赤外線による
殺菌・超音波細胞破壊・電気殺菌・高磁場殺菌・抗生物
質を含めた薬物・毒物・ハロゲン系界面活性剤等による
薬剤投与殺菌などがあり、広範囲な分野でさまざまな形
態を取りながら利用されている。しかし、これら何れの
方法においても、比較的大がかりな装置を必要とし、ま
た、即効性を重視するため殺菌と同時に製品をも損傷さ
せる場合が多い。さらに薬剤使用の場合は残留性、安全
性が常に考慮されるべきであることなどが指摘されてい
る。
2. Description of the Related Art Methods for sterilizing or controlling microorganisms include heating, freeze sterilization, sterilization by ultraviolet rays, radiation, far infrared rays, ultrasonic cell destruction, electric sterilization, high magnetic field sterilization, drugs, poisons, and halogens including antibiotics. There are drug administration sterilization by a system surfactant and the like, and it is used while taking various forms in a wide range of fields. However, in any of these methods, a relatively large-scale device is required, and the product is often damaged at the same time as sterilization because of emphasis on immediate effect. In addition, it has been pointed out that, in the case of drug use, persistence and safety should always be considered.

【0003】酸化チタン(TiO2)の光触媒反応は、
酸化還元、異性化、置換、縮合、重合などの広範囲の反
応を導くことが知られている。特に、この反応系を利用
した環境汚染物質の分解や飲料水の浄化、殺菌などは活
性酸素生成に基づくものと考えられている。そして、T
iO2 には結晶構造の違いから、ルチル型とアナターゼ
型があるが、本発明者は、ルチル型は活性酸素発生収率
がアナターゼ型の約1/15から約1/200と極めて
効率の悪いことを発見した。
The photocatalytic reaction of titanium oxide (TiO 2 )
It is known to lead to a wide range of reactions such as redox, isomerization, substitution, condensation, polymerization and the like. In particular, it is considered that decomposition of environmental pollutants, purification of drinking water, sterilization, and the like using this reaction system are based on active oxygen generation. And T
iO 2 has a rutile type and an anatase type due to a difference in crystal structure. However, the present inventor has found that the rutile type has a very low active oxygen generation yield of about 1/15 to about 1/200 of the anatase type. I discovered that.

【0004】また、本発明者は、アナターゼ含有量が高
い材料表面を作成する方法に基づいて開発された表面は
ルチル含有量の高い材料表面より、活性酸素生成量が約
15倍から約200倍高く、殺菌効率や汚染物質(タバ
コのヤニ成分)の分解能力も高いことを確認した。
In addition, the present inventor has found that a surface developed based on a method for producing a material surface having a high anatase content has a production amount of active oxygen of about 15 to about 200 times that of a material surface having a high rutile content. It was confirmed that the sterilization efficiency and the ability to decompose pollutants (tobacco tar components) were high.

【0005】また、本発明者は、TiO2を溶射した材
料に長波長紫外線を照射することで活性酸素のスーパー
オキシドラジカル(O2 -)及びヒドロキシルラジカル
(・OH)が生成することを予備実験的に確認した。
Further, the present inventor has superoxide radical active oxygen by irradiating the long-wavelength ultraviolet light of TiO 2 in the spraying material - preliminary experiments that and hydroxyl radicals (· OH) generated (O 2) Confirmed.

【0006】ところで、活性酸素の強い生体損傷作用に
基づく殺菌作用については既に知られており、機能性複
合材料開発の過程でアナターゼ型のTiO2を溶射した
光半導体による殺菌作用が活性酸素によることも知られ
ている。また、室内に設置した水槽にTiO2溶射した
材料を共存させると緑藻繁茂抑制効果が発揮されること
はすでに公知である。
By the way, the bactericidal action based on the strong biological damaging action of active oxygen is already known, and the bactericidal action of the photo-semiconductor sprayed with anatase TiO 2 during the development of the functional composite material is due to the active oxygen. Is also known. It is already known that the effect of suppressing the growth of green algae is exhibited when a material sprayed with TiO 2 coexists in an aquarium installed indoors.

【0007】そして、特公平2ー46664号公報に
は、金属、セラミック焼結体又はガラスからなる基材の
表面に、シーライト又はワラストナイトの粉末から成る
粉末蛍光材をプラズマ溶射し、上記基材の表面に蛍光発
光機能を有する皮膜を形成する蛍光発光皮膜の形成方法
が記載されている。また、この公報には、プラズマ溶射
用ノズル(米国・ベースデート社製、プラズマ出力17
〜26KW)の構造の例を示し、電極となる中空のノズ
ル本体1内には他方の電極2が固設され、両電極には電
源3が接続され、電極2の先端ノズル本体1にはプラズ
マ炎4の小孔からなる噴出孔5が穿設され、ノズル本体
1内の底部後方にはアルゴン等の不活性ガスを噴入する
(35l/min)ガス導入孔6が形成されている。そ
して、上記各ノズルのプラズマ溶射位置には噴出孔5に
対向せしめて基材(軟鋼)8が対向して位置せしめら
れ、(溶射距離100mm)、粉末蛍光材は供給口7よ
りプラズマ炎4内に噴出溶解し、上記基材Sの表面に溶
射され、膜厚150〜200μmの蛍光皮膜9として付
着するものが記載されている。
[0007] Japanese Patent Publication No. 2-46664 discloses that a powdery fluorescent material made of a celite or wollastonite powder is plasma-sprayed on a surface of a base material made of a metal, a ceramic sintered body or a glass. A method for forming a fluorescent light-emitting film for forming a film having a fluorescent light-emitting function on the surface of a substrate is described. This publication also discloses a plasma spray nozzle (manufactured by Basedate, USA, plasma output 17).
26 KW), the other electrode 2 is fixed in a hollow nozzle body 1 serving as an electrode, a power source 3 is connected to both electrodes, and a plasma is applied to a tip nozzle body 1 of the electrode 2. An ejection hole 5 composed of a small hole of the flame 4 is formed, and a gas introduction hole 6 for injecting an inert gas such as argon (35 l / min) is formed at the rear of the bottom inside the nozzle body 1. A base material (mild steel) 8 is positioned at the plasma spray position of each of the nozzles so as to face the ejection hole 5 (spray distance 100 mm). Are sprayed on the surface of the substrate S and sprayed on the surface of the substrate S, and adhere as a fluorescent film 9 having a thickness of 150 to 200 μm.

【0008】酸化チタンの光触媒は、400nm以下の
光照射を受けると電荷分離を起こし、電子と酸化力の強
い正孔を生成する。さらにこの正孔は、空気中の水蒸気
や酸素と反応して、スーパーオキシドラジカル(O2 -
やヒドロキシルラジカル(・OH)等の活性酸素種を発
生し、表面に吸着した有機物を分解する特徴を持ってお
り、その強い酸化力を利用した脱臭、防汚、殺菌などの
環境浄化用として期待されている。
The photocatalyst of titanium oxide undergoes charge separation when irradiated with light of 400 nm or less, and generates electrons and holes having a strong oxidizing power. Furthermore the hole may react with water vapor or oxygen in the air, the superoxide radical (O 2 -)
It generates active oxygen species such as OH and hydroxyl radical (.OH) and decomposes organic substances adsorbed on the surface. It is expected to be used for environmental purification such as deodorization, antifouling, and sterilization using its strong oxidizing power. Have been.

【0009】ところで、酸素還元は以下の化学式(1)
で示すことができる。 O2 -(溶存酸素) + e- → O2 -(スーパーオキシドラジカル)(1) また、スーパーオキシドラジカルの不均化はつぎの化学
式(2)で示すことができる。 2O2 - + 2H+ →H22(過酸化水素) (2) そして、ヒドロキシルラジカルの生成はつぎの化学式
(3)で示すことができる。 H22 + e- →・OH(ヒドロキシルラジカル)+OH- (3) そしてまた、ヒドロキシルラジカルの生成はつぎの化学
式(4)で示すことができる。 h+(TiO2) + OH- →・OH + TiO2 (4)
The oxygen reduction is represented by the following chemical formula (1)
Can be indicated by O 2 - (dissolved oxygen) + e - → O 2 - The (superoxide radical) (1), disproportionation of superoxide radicals may be represented by the following formula (2). 2O 2 + 2H + → H 2 O 2 (hydrogen peroxide) (2) And the generation of hydroxyl radical can be represented by the following chemical formula (3). H 2 O 2 + e → OH (hydroxyl radical) + OH (3) The generation of the hydroxyl radical can be represented by the following chemical formula (4). h + (TiO 2) + OH - → · OH + TiO 2 (4)

【0010】酸化チタン(TiO2)は白色顔料や紫外
線吸収材料としてペンキ、化粧品などの原料に広く使わ
れ、食品添加物としても認められている安全な材料であ
ること、酸化チタン薄膜をコーティングした材料が、特
別な光源を用意しなくても防汚効果を示すこと、これが
日陰程度の太陽光や、通常の室内での照明光を利用した
光化学反応(光触媒反応)によるものであることも知ら
れている。
Titanium oxide (TiO 2 ) is a safe material widely used as a white pigment and an ultraviolet absorbing material in paints and cosmetics, and is also recognized as a food additive. It is also known that the material exhibits an antifouling effect without preparing a special light source, and that this is due to a photochemical reaction (photocatalytic reaction) using sunlight in the shade or ordinary indoor lighting. Have been.

【0011】光活性の高い酸化チタンを表面に付与した
材料は、非常に顕著な防汚効果(セルフクリーニング効
果)を示し、紫外部にしか吸収がないということは無色
であるということであり、種々の材料に付与するにはか
えって好都合である。
A material having titanium oxide having high photoactivity on its surface shows a very remarkable antifouling effect (self-cleaning effect), and the fact that it absorbs only in the ultraviolet means that it is colorless. It is rather convenient to apply it to various materials.

【0012】殺菌、微生物や藻類の増殖抑制、小動物の
忌避作用に活性酸素の発生系を利用でき、活性酸素は短
寿命ゆえに表面のみでの効果であり、残留性がなく環境
汚染もない。
The system for generating active oxygen can be used for sterilization, for inhibiting the growth of microorganisms and algae, and for repelling small animals. Active oxygen is effective only on the surface because of its short life, and has no persistence and no environmental pollution.

【0013】また、プラズマ溶射法は、金属箔、ガラ
ス、布、紙、プラスチックフィルム、れんが、コンクリ
ートなどの材質からなる基材にTiO2を薄膜として付
着させることが可能であるとともに、TiO2を溶着し
た後の溶出もないことから、その効果は半永続的である
といえる。
Furthermore, plasma spraying, the metal foil, glass, cloth, paper, plastic film, brick, with a substrate made of a material such as concrete is possible to deposit TiO 2 as a thin film, the TiO 2 Since there is no elution after welding, the effect can be said to be semi-permanent.

【0014】活性酸素種は、溶存酸素が関与する反応で
あり、嫌気条件下では以下の反応で活性酸素が生成され
る。 光触媒反応は、 TiO2 + hν(近紫外線) → h+TiO2 + e- ヒドロキシルラジカルの生成は h+(TiO2) + OH- →・OH + TiO2 (4) そして、光触媒の逆反応は、 h+(TiO2) + e- → TiO2 (5) そして、好気条件下で生成される最も酸化力の高い活性
酸素種、ヒロドキシルラジカルは、(3)による生成収
率が90%であり、(4)による生成収率が10%であ
る。以上のことから、TiO2光触媒による酸化反応に
は、スーパーオキシドラジカル、ヒドロキシルラジカ
ル、さらには、h+(TiO2)が関与し、還元にはスー
パーオキシドララジカルとe- が関与すると考えられ
る。
Active oxygen species is a reaction involving dissolved oxygen. Under anaerobic conditions, active oxygen is generated by the following reaction. In the photocatalytic reaction, TiO 2 + hν (near ultraviolet light) → h + TiO 2 + e - hydroxyl radical is generated by h + (TiO 2 ) + OH → OH + TiO 2 (4) And the reverse reaction of the photocatalyst is , H + (TiO 2 ) + e → TiO 2 (5) And, the hydroxyxyl radical, the most oxidative active oxygen species generated under aerobic conditions, has a 90% production yield by (3). And the production yield according to (4) is 10%. From the above, it is considered that a superoxide radical, a hydroxyl radical, and further h + (TiO 2 ) are involved in the oxidation reaction by the TiO 2 photocatalyst, and a superoxide radical and e are involved in the reduction.

【0015】本発明は、アナターゼ型酸化チタンがルチ
ル型酸化チタンに比べて、単位面積当たりの光触媒活性
が高く、活性酸素の殺菌能力が大きいという知見に基づ
くものである。
The present invention is based on the finding that anatase type titanium oxide has a higher photocatalytic activity per unit area and higher active oxygen sterilization ability than rutile type titanium oxide.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、金属箔やプ
ラスチックフィルムのような高温弱体のものを含む基材
の表面にアナターゼ型酸化チタン粉末をバインダーを介
在させることなく直接プラズマ溶射し、活性酸素の殺菌
能力を有するアナターゼ型酸化チタンの溶射皮膜を基材
に形成する酸化チタン粉末の基材へのプラズマ溶射方法
並びに酸化チタン粉末の基材へのプラズマ溶射装置の提
供を目的とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a method for directly plasma-spraying anatase-type titanium oxide powder on a surface of a base material including a high-temperature weak material such as a metal foil or a plastic film without using a binder. It is intended to provide a method for plasma spraying titanium oxide powder on a base material and a plasma spraying apparatus for titanium oxide powder on a base material, wherein the sprayed film of anatase type titanium oxide having a sterilizing ability for oxygen is formed on the base material. is there.

【0017】また、本発明は、殺菌を目的とした医療、
食品分野にとどまらず、活性酸素の殺菌能力に応じた利
用分野である衣料、漁業、工業などきわめて広い分野で
利用することができる酸化チタンの溶射皮膜を有する製
品の提供を目的とするものである。
Further, the present invention provides a medical treatment for sterilization,
It is intended to provide a product having a sprayed coating of titanium oxide that can be used not only in the food field but also in a wide range of fields such as clothing, fisheries, and industry, which are fields of use depending on the sterilizing ability of active oxygen. .

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】本発明に係る酸化チタン
粉末の基材へのプラズマ溶射方法は、プラズマノズル本
体のプラズマ炎噴出孔から少なくともアルゴンガスと窒
素ガスからなる混合ガスのプラズマ炎を高速で噴出さ
せ、前記プラズマ炎噴出孔の出口に近接して設けられた
アナターゼ型酸化チタン粉末の吹き出し口からアナター
ゼ型酸化チタン粉末を前記混合ガスのプラズマ炎中に噴
出させ、基材表面に光触媒機能を有するアナターゼ型酸
化チタンの皮膜を溶射形成するものである。
According to the present invention, there is provided a method for plasma spraying a titanium oxide powder onto a substrate, comprising the steps of: (a) producing a plasma flame of a mixed gas comprising at least argon gas and nitrogen gas from a plasma flame outlet of a plasma nozzle body; And an anatase-type titanium oxide powder is jetted out of the plasma flame of the mixed gas from an anatase-type titanium oxide powder outlet provided in the vicinity of the outlet of the plasma flame jet hole, and a photocatalytic function is applied to the surface of the base material. And spray-forming a film of anatase-type titanium oxide having

【0019】本発明に係る酸化チタン粉末の基材へのプ
ラズマ溶射方法は、プラズマノズル本体のプラズマ炎噴
出孔からアルゴンガスまたは水素ガスと窒素ガスからな
る混合ガスのプラズマ炎で高速で噴出させ、前記プラズ
マ炎噴出孔の出口に近接して設けられたアナターゼ型酸
化チタン粉末の吹き出し口からアナターゼ型酸化チタン
粉末を前記混合ガスのプラズマ炎中に噴出させ、基材表
面に光触媒機能を有するアナターゼ型酸化チタンの皮膜
を溶射形成するものである。
The method for plasma spraying a titanium oxide powder on a substrate according to the present invention is characterized in that the titanium oxide powder is ejected from a plasma flame ejection hole of a plasma nozzle body at a high speed with a plasma flame of an argon gas or a mixed gas of hydrogen gas and nitrogen gas. Anatase-type titanium oxide powder is ejected from the outlet of the anatase-type titanium oxide powder provided in the vicinity of the outlet of the plasma flame ejection hole into the plasma flame of the mixed gas, and an anatase type having a photocatalytic function on a substrate surface. This is for forming a sprayed titanium oxide film.

【0020】本発明に係る酸化チタン粉末の基材へのプ
ラズマ溶射方法は、プラズマノズル本体のプラズマ炎噴
出孔からアルゴンガスとヘリウムガスまたは水素ガスか
らなる混合ガスのプラズマ炎を高速で噴出させ、前記プ
ラズマ炎噴出孔の出口に近接して設けられたアナターゼ
型酸化チタン粉末の吹き出し口からアナターゼ型酸化チ
タン粉末を前記混合ガスのプラズマ炎中に噴出させ、基
材表面に光触媒機能を有するアナターゼ型酸化チタンの
皮膜を溶射形成するものである。
According to the method for plasma spraying titanium oxide powder on a substrate according to the present invention, a plasma flame of a mixed gas comprising argon gas and helium gas or hydrogen gas is ejected at a high speed from a plasma flame ejection hole of a plasma nozzle body. Anatase-type titanium oxide powder is ejected from the outlet of the anatase-type titanium oxide powder provided in the vicinity of the outlet of the plasma flame ejection hole into the plasma flame of the mixed gas, and an anatase type having a photocatalytic function on a substrate surface. This is for forming a sprayed titanium oxide film.

【0021】本発明に係る酸化チタン粉末の基材へのプ
ラズマ溶射装置は、プラズマノズル本体のプラズマ炎噴
出孔の断面積を該プラズマ炎噴出孔の端から陰電極の先
端部までの距離で除した値が1.75mmから0.75
mmであり、酸化チタン粉末の吹き出し口がプラズマノ
ズル本体の前記噴出孔の外に位置しているものである。
In the apparatus for spraying titanium oxide powder on a substrate according to the present invention, the sectional area of the plasma flame ejection hole of the plasma nozzle body is divided by the distance from the end of the plasma flame ejection hole to the tip of the negative electrode. From 1.75mm to 0.75
mm, and the outlet of the titanium oxide powder is located outside the outlet of the plasma nozzle body.

【0022】本発明に係るプラズマ溶射皮膜を有する製
品は、製品を構成する基材の表面にプラズマノズル本体
によりアナターゼ型酸化チタン粉末を加熱された少なく
ともアルゴンガスまたはヘリウムガスと窒素ガスの混合
ガスのプラズマ炎とともに高速噴射して光触媒機能を有
するアナターゼ型酸化チタンの溶射皮膜が形成されてい
るものである。
The product having the plasma sprayed coating according to the present invention is obtained by heating at least an argon gas or a mixed gas of a helium gas and a nitrogen gas by heating an anatase type titanium oxide powder on the surface of a base material constituting the product by a plasma nozzle body. The sprayed film of anatase type titanium oxide having a photocatalytic function is formed by high-speed injection with a plasma flame.

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

【0023】本発明に係る酸化チタン粉末の基材へのプ
ラズマ溶射方法並びに酸化チタン粉末の基材へのプラズ
マ溶射装置及びプラズマ溶射皮膜を有する製品の実施の
形態を実施例に基づき、図面、表を参照して、説明す
る。プラズマ溶射に使用する酸化チタン粉末Pを基材8
にプラズマ溶射する装置は、直流電源3の陽極側がプラ
ズマノズル本体1のCu陽電極12に接続されており、
電源3の陰極側は陰電極2に接続されている。
The method for plasma spraying titanium oxide powder on a substrate, the apparatus for plasma spraying titanium oxide powder on a substrate, and a product having a plasma sprayed coating according to the present invention will be described with reference to the drawings, tables and examples. With reference to FIG. Titanium oxide powder P used for plasma spraying
In the apparatus for plasma spraying, the anode side of the DC power supply 3 is connected to the Cu positive electrode 12 of the plasma nozzle body 1,
The cathode side of the power supply 3 is connected to the negative electrode 2.

【0024】プラズマノズル本体1にはプラズマ炎4の
通過する小孔からなるプラズマ炎噴出孔5が穿設されて
おり、ノズル本体1内の底部後方には、アルゴンガスと
窒素ガス等からなる混合ガスGを噴入する混合ガス導入
口6が形成されている。
The plasma nozzle body 1 is provided with a plasma flame ejection hole 5 composed of a small hole through which the plasma flame 4 passes, and a mixed gas containing argon gas, nitrogen gas and the like is provided behind the bottom of the nozzle body 1. A mixed gas inlet 6 for injecting the gas G is formed.

【0025】酸化チタン粉末Pは、プラズマノズル本体
1のプラズマ炎噴出孔5の出口付近に設けられた酸化チ
タン粉末吹き出し部材10の吹き出し口7からプラズマ
炎4中に吹き出され、溶融状態で基材8の表面に、溶射
され、基材(金属箔、プラスチックフィルム等)8の表
面に酸化チタン皮膜9が形成される。
The titanium oxide powder P is blown into the plasma flame 4 from the blowout port 7 of the titanium oxide powder blowout member 10 provided near the outlet of the plasma flame blowout hole 5 of the plasma nozzle body 1. 8, a titanium oxide film 9 is formed on the surface of the base material (metal foil, plastic film, etc.) 8.

【0026】本発明に係るプラズマ溶射方法に使用する
プラズマノズル本体1のノズルの大きさとプラズマ炎噴
出孔5における混合ガスGの流速及び混合ガスGとの関
係について以下に述べる。ノズル本体1の陰電極2の先
端部11からプラズマ炎4の噴出孔5の端部までの距離
すなわち陰電極2とCu陽電極12の外端との距離をL
とし、プラズマ炎噴出孔5の断面積をSとしたときのS
/Lを例えばS/L=9mm2/12mm=0.75m
mの大きさのときのアルゴンガスと窒素ガスの混合ガス
Gのプラズマ炎噴出孔5における流速は550m/se
cという高速流となっている(以下「高速」とい
う。)。また、上記S/L=9mm2/12mm=0.
75mmの大きさのときのアルゴンガスとヘリウムガス
との混合ガスGのプラズマ炎噴出孔5における流速は4
50m/secである(以下「準高速」という。)。本
発明に係るプラズマ溶射方法においては、S/L=28
mm2/16mm=1.75mmの大きさのときの混合
ガスGのプラズマ炎噴出孔5の流速がすくなくとも35
0m/sec以上の流速であることが望ましい。プラズ
マ炎噴出孔5の流速が350m/secの流速を以下
「通常速」という。
The relationship between the size of the nozzle of the plasma nozzle main body 1 used in the plasma spraying method according to the present invention, the flow rate of the mixed gas G in the plasma flame outlet 5 and the mixed gas G will be described below. The distance from the tip 11 of the negative electrode 2 of the nozzle body 1 to the end of the ejection hole 5 of the plasma flame 4, that is, the distance between the negative electrode 2 and the outer end of the Cu positive electrode 12, is L.
Where S is the cross-sectional area of the plasma flame ejection hole 5.
/ L, for example, S / L = 9mm 2 /12mm=0.75m
The flow velocity of the mixed gas G of the argon gas and the nitrogen gas in the plasma flame outlet 5 when the size is m is 550 m / sec.
c (hereinafter referred to as “high speed”). In addition, the S / L = 9mm 2 / 12mm = 0.
The flow rate of the mixed gas G of the argon gas and the helium gas in the plasma flame ejection hole 5 at a size of 75 mm is 4
50 m / sec (hereinafter referred to as “quasi-high speed”). In the plasma spraying method according to the present invention, S / L = 28
mm 2 /16mm=1.75mm mixed flow rate of at least 35 of the plasma flame ejection holes 5 of the gas G when the size of
It is desirable that the flow velocity is 0 m / sec or more. The flow velocity at which the flow velocity of the plasma flame outlet 5 is 350 m / sec is hereinafter referred to as “normal velocity”.

【0027】溶射される酸化粉末を加熱溶融する混合ガ
スGの加熱効率は、高温で熱伝達率(エンタルビー)の
大きい H2>He>N2>Arが望ましく、溶射される
酸化粉末の加速性は、混合ガスGを構成する物質の密度
に左右されることから、密度の大きさから Ar>N2
>He>H2 の順の物質からなるガスの混合ガスGで
あることが望ましい。アナターゼ型酸化チタンを多く残
留させるためには、高速で、しかも粒子が過熱しない条
件を選定する必要がある。このためにはArとHeの混
合ガスよりも、ArとN2の混合ガスGが有利である。
The heating efficiency of the mixed gas G for heating and melting the oxidized powder to be sprayed is desirably H 2 >He> N 2 > Ar with a high heat transfer coefficient (enthalby) at a high temperature. Since the property depends on the density of the substance constituting the mixed gas G, from the magnitude of the density, Ar> N 2
It is desirable that the mixed gas G be a gas composed of substances in the order of>He> H 2 . In order to allow a large amount of anatase-type titanium oxide to remain, it is necessary to select conditions that are high-speed and do not overheat the particles. For this purpose, a mixed gas G of Ar and N 2 is more advantageous than a mixed gas of Ar and He.

【0028】表1は、溶射速度、酸化チタン皮膜又は酸
化チタンの練込み不織布がアナターゼ型かルチル型か、
酸化チタン皮膜がないものかによって、マロンジアルデ
ヒド(MDA)の生成比率を示している。試料ごとの活
性酸素であるヒドロキシルラジカル(・OH)の生成量
を公知のマロンジアルデヒド(MDA)定量法によって
計測した結果をMDAの生成比率として示したものが表
1である。これによると、高速溶射されたアナターゼ型
酸化チタン皮膜9を有するものが格別の数値を示してい
ることがわかる。
Table 1 shows the thermal spray rate, whether the titanium oxide film or the knitted nonwoven fabric of titanium oxide is an anatase type or a rutile type.
The production ratio of malondialdehyde (MDA) is shown depending on whether or not there is a titanium oxide film. Table 1 shows the results obtained by measuring the amount of hydroxyl radical (.OH), which is active oxygen, for each sample by a known malondialdehyde (MDA) determination method as the MDA generation ratio. According to this, it can be seen that those having the anatase type titanium oxide film 9 sprayed at a high speed show exceptional numerical values.

【表1】 [Table 1]

【0029】[0029]

【表2】 表2は、溶射条件、混合ガスの組成、プラズマ出力によ
って酸化チタン溶射皮膜9の中のアナターゼ型の含有量
(wt%)の違いを示すもので、試料No1の高速溶射
型のアルゴン(Ar)と窒素(N2)の混合ガスでプラ
ズマ出力が20KW(500A)のものが、アナターゼ
型の含有量が28.9wt%と最も大きく、次いで試料
No2の準高速溶射型のアルゴン(Ar)とヘリウム
(He)の混合ガスで、プラズマ出力が22KW(70
0A)のものでアナターゼ型の含有量が16.6wt%
のものである。試料No3の通常速溶射型と対比する
と、溶射速度が大きく、混合ガスの組成がアルゴン(A
r)と窒素(N2)、アルゴン(Ar)とヘリウム(H
e)のものが酸化チタン溶射皮膜9中のアナターゼ型の
含有量が著しく多いことがわかる。
[Table 2]  Table 2 shows the spraying conditions, the composition of the mixed gas, and the plasma output.
Is the content of anatase type in the titanium oxide sprayed coating 9
(Wt%), showing high-speed spraying of sample No. 1.
Types of argon (Ar) and nitrogen (NTwo) Mixed gas
With an output of 20KW (500A), anatase
The mold content is the largest at 28.9 wt%, then the sample
No.2 high-speed spray type argon (Ar) and helium
(He) mixed gas with a plasma output of 22 KW (70
OA) having an anatase type content of 16.6 wt%
belongs to. Compare with the normal fast spray type of sample No.3
And the spraying rate is high and the composition of the mixed gas is argon (A
r) and nitrogen (NTwo), Argon (Ar) and helium (H
e) of the anatase type in the titanium oxide sprayed coating 9
It can be seen that the content is remarkably large.

【0030】[0030]

【表3】 表3は、前記3つの各試料に市販の抗菌タイル、陶製タ
イル基材そのものを加えた各試料のMDA生成量(単位
はnM)と大腸菌の30分間の生存率(%)の経時変化
を示したものである。この表3によると、本発明に係る
酸化チタン粉末pの基材8へのプラズマ溶射方法によっ
て得られた基材8へ施されたプラズマ溶射皮膜9である
前記3つの試料と、市販の抗菌タイル、陶製タイル基材
とでは、MDA生成量(nM)も大腸菌の生存率(%)
も、格段の差異があることがわかる。すなわち、試料N
o1のものがMDA生成量も大腸菌への滅菌作用も格段
に顕著であり、次いで試料No2のものが上記の面の効
果が大きいことがわかる。
[Table 3] Table 3 shows the change over time in the amount of MDA production (unit: nM) and the viability (%) of E. coli for 30 minutes for each of the three samples obtained by adding the commercially available antibacterial tile and the ceramic tile substrate itself. It is a thing. According to Table 3, the three samples as the plasma sprayed coating 9 applied to the base material 8 obtained by the plasma spraying method of the titanium oxide powder p on the base material 8 according to the present invention, and a commercially available antibacterial tile MDA production (nM) and viability of Escherichia coli (%)
Also, it can be seen that there is a marked difference. That is, the sample N
It can be seen that the sample of No. 1 has remarkably high MDA production and the sterilizing effect on Escherichia coli, and the sample of No. 2 has a large effect in the above aspect.

【0031】本発明に係る酸化チタン粉末の基材へのプ
ラズマ溶射方法に使用する酸化チタン粉末が含有するア
ナターゼの含有量とMDA生成量との関係を示す図3に
よると、試料No1、試料No2そして試料No3の順
でアナターゼ含有量が多く、アナターゼ含有量が多いも
の程MDA生成量が多いことがわかる。
FIG. 3 shows the relationship between the content of anatase and the amount of MDA produced in the titanium oxide powder used in the method of plasma spraying the titanium oxide powder on the substrate according to the present invention. Then, it can be seen that the sample No. 3 has a larger anatase content, and the larger the anatase content, the larger the MDA generation amount.

【0032】本発明に係るプラズマ溶射皮膜9が大腸菌
に対して有する殺菌効果を光照射時間と大腸菌の生存率
との関係で示したグラフ図である図4によると、試料N
o1、試料No2のものが大腸菌に対する光照射時間3
0分間における大腸菌の滅菌効果が著しく大きいことが
わかる。
FIG. 4 is a graph showing the sterilizing effect of the plasma sprayed coating 9 according to the present invention on Escherichia coli as a function of the light irradiation time and the survival rate of Escherichia coli.
o1, the sample No. 2 has a light irradiation time of 3 against E. coli.
It can be seen that the sterilization effect of E. coli in 0 minutes is remarkably large.

【0033】本発明に係るプラズマ溶射皮膜9が腸炎菌
に対して有する殺菌効果を光照射時間と腸炎菌の生存率
との関係で示したグラフ図である図5によると、試料N
o1、試料No2のものが腸炎菌に対する光照射時間3
0分間における腸炎菌の滅菌効果が著しく大きいことが
わかる。
FIG. 5 is a graph showing the bactericidal effect of the plasma sprayed coating 9 according to the present invention on S. Enteritidis in relation to the light irradiation time and the survival rate of S. enteritidis.
o1, the sample No. 2 has a light irradiation time of 3 against S. Enteritidis.
It can be seen that the sterilizing effect of S. Enteritidis in 0 minutes is remarkably large.

【0034】本発明に係るプラズマ溶射皮膜9が黄色ブ
ドウ球菌に対して有する殺菌効果を光照射時間と黄色ブ
ドウ球菌の生存率との関係で示したグラフ図である図6
によると、試料No1、試料No2のものが黄色ブドウ
球菌に対する光照射時間30分間における黄色ブドウ球
菌の滅菌効果が著しく大きいことがわかる。
FIG. 6 is a graph showing the bactericidal effect of the plasma sprayed coating 9 according to the present invention on Staphylococcus aureus in relation to the light irradiation time and the survival rate of Staphylococcus aureus.
According to the results, it can be seen that the samples No. 1 and No. 2 have a remarkably large sterilizing effect on Staphylococcus aureus during a light irradiation time of 30 minutes.

【0035】図7によると、ルチル酸系の酸化チタンを
溶射した市販の抗菌タイルはブドウ球菌、大腸菌及び腸
炎菌に対する30分間の光照射では黄色ブドウ球菌で約
60数パーセント、大腸菌で50数パーセント、腸炎菌
では約30パーセントもの生存率を示しており、各菌に
対する滅菌効果がアナターゼ型酸化チタンを溶射したも
のと比較して格段に低いことがわかる。
According to FIG. 7, a commercially available antibacterial tile sprayed with rutile acid-based titanium oxide shows about 60 percent by weight of S. aureus and 50 percent by weight of E. coli after 30 minutes of light irradiation against staphylococci, Escherichia coli, and enterococci. As a result, the survival rate of S. enteritidis was as high as about 30%, indicating that the sterilization effect on each of the bacteria was remarkably lower than that obtained by spraying anatase type titanium oxide.

【0036】本発明の実施の形態に示す実施例のもの
は、プラズマノズル本体1の陰電極2の先端部11から
プラズマ炎噴出孔5までの距離Lと、噴出孔5の断面積
Sとの比つまりL/Sが0.75mmの大きさのときの
アルゴンガスと窒素ガスとの混合ガスGの噴出孔5にお
ける流速が高速流となり、溶射される酸化チタン粉末P
を加熱溶融する混合ガスGの加熱効率は、高温で熱伝達
率(エンタルビー)の大きい H2>He>N2>Arの
順となる。溶射される酸化チタン粉末Pの加速性は、混
合ガスGを構成する物質の密度に左右されることから、
密度の大きさからAr>N2>He>H2 の順の物質か
らなるガスの混合ガスであることが望ましく、アナター
ゼ型酸化チタン皮膜9を多く残留させるためには、高速
溶射型で、しかも粒子が過熱しない条件を選定する必要
がある。このためにはアルゴン(Ar)ガスとヘリウム
(He)ガスの混合ガスよりも、アルゴン(Ar)ガス
と窒素(N2)ガスの混合ガスGが有利であることを示
している。また、アナターゼ型の酸化チタン粉末Pをプ
ラズマノズル本体1に対向した金属等の基材8の表面に
酸化チタン皮膜9を形成したものは、抗菌試験おいて大
腸菌、腸炎菌、黄色ブドウ球菌の滅菌、減少に多大なる
効果を有している。
In the embodiment shown in the embodiment of the present invention, the distance L from the tip 11 of the negative electrode 2 of the plasma nozzle body 1 to the plasma flame ejection hole 5 and the sectional area S of the ejection hole 5 are determined. When the ratio, that is, L / S is 0.75 mm, the flow rate of the mixed gas G of the argon gas and the nitrogen gas in the ejection hole 5 becomes a high-speed flow, and the sprayed titanium oxide powder P
The heating efficiency of the mixed gas G for heating and melting is in the order of H 2 >He> N 2 > Ar having a large heat transfer coefficient (enthalby) at a high temperature. Since the acceleration of the sprayed titanium oxide powder P depends on the density of the substance constituting the mixed gas G,
It is desirable to use a mixed gas of gases composed of substances in the order of Ar> N 2 >He> H 2 in view of the density. In order to leave a large amount of the anatase type titanium oxide film 9, it is a high-speed spraying type, and It is necessary to select conditions that will not overheat the particles. This shows that a mixed gas G of an argon (Ar) gas and a nitrogen (N 2 ) gas is more advantageous than a mixed gas of an argon (Ar) gas and a helium (He) gas. In addition, an anatase type titanium oxide powder P having a titanium oxide film 9 formed on the surface of a base material 8 made of metal or the like opposed to the plasma nozzle main body 1 was subjected to an antibacterial test to sterilize Escherichia coli, Enteritis bacteria and Staphylococcus aureus. , Has a great effect on the reduction.

【0037】[0037]

【発明の効果】本発明に係る酸化チタン粉末の基材への
プラズマ溶射方法は、いわゆる低温プラズマ溶射法によ
り金属箔やプラスチックフィルムのような高温弱体のも
のを含む基材の表面に、アナターゼ型酸化チタン粉末を
バインダーを介在させることなく直接溶射することがで
き、活性酸素の殺菌能力を有するアナターゼ型酸化チタ
ンの溶射皮膜を基材表面に確実且つ容易に形成すること
ができるという効果を有する。
According to the method for plasma spraying titanium oxide powder on a substrate according to the present invention, a so-called low-temperature plasma spraying method is used to coat an anatase type material on a surface of a substrate including a high-temperature weak material such as a metal foil or a plastic film. Titanium oxide powder can be directly sprayed without a binder, and an effect of reliably and easily forming a sprayed coating of anatase-type titanium oxide having an active oxygen sterilizing ability on a substrate surface can be obtained.

【0038】本発明に係る酸化チタン粉末の基材へのプ
ラズマ溶射装置は、活性酸素の殺菌能力を有するアナタ
ーゼ型酸化チタンの溶射皮膜を基材表面に確実且つ容易
に形成することができるというものでありながら、簡単
な構造のものであり、従来公知のプラズマ溶射装置のわ
ずかの改良によって安価に提供できるものであという効
果を有する。
The apparatus for plasma spraying titanium oxide powder on a substrate according to the present invention can reliably and easily form a sprayed coating of anatase-type titanium oxide having the ability to sterilize active oxygen on the surface of the substrate. However, it has a simple structure, and has an effect that it can be provided at a low cost by slightly improving a conventionally known plasma spraying apparatus.

【0039】本発明に係る酸化チタンの溶射皮膜を有す
る製品は、殺菌を目的とした医療、食品分野にとどまら
ず、活性酸素の殺菌能力に応じた利用分野である衣料、
漁業、工業などきわめて広い分野で利用することができ
るという効果を有する。
The product having a sprayed coating of titanium oxide according to the present invention can be used not only in the medical and food fields for sterilization, but also in clothing, which is a field of application depending on the ability to sterilize active oxygen.
This has the effect that it can be used in a very wide range of fields such as fishing and industry.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る酸化チタン粉末の基材へのプラズ
マ溶射装置のプラズマノズル本体の断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a plasma nozzle body of a plasma spraying apparatus for a titanium oxide powder on a substrate according to the present invention.

【図2】本発明に係る酸化チタン粉末の基材へのプラズ
マ溶射方法を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a method of plasma spraying a titanium oxide powder on a substrate according to the present invention.

【図3】本発明に係る酸化チタン粉末の基材へのプラズ
マ溶射方法に使用する酸化チタン粉末が含有するアナタ
ーゼの含有量とMDA生成量との関係を示すグラフ図で
ある。
FIG. 3 is a graph showing the relationship between the content of anatase and the amount of MDA produced in the titanium oxide powder used in the method for plasma spraying a titanium oxide powder on a substrate according to the present invention.

【図4】本発明に係るプラズマ溶射皮膜が大腸菌に対し
て有する殺菌効果を光照射時間と大腸菌の生存率との関
係で示したグラフ図である。
FIG. 4 is a graph showing the bactericidal effect of the plasma sprayed coating according to the present invention on Escherichia coli in relation to the light irradiation time and the survival rate of Escherichia coli.

【図5】本発明に係るプラズマ溶射皮膜が腸炎菌に対し
て有する殺菌効果を光照射時間と大腸菌の生存率との関
係で示したグラフ図である。
FIG. 5 is a graph showing the bactericidal effect of the plasma sprayed coating according to the present invention on S. Enteritidis in relation to the light irradiation time and the survival rate of Escherichia coli.

【図6】本発明に係るプラズマ溶射皮膜が黄色ブドウ球
菌に対して有する殺菌効果を光照射時間と大腸菌の生存
率との関係で示したグラフ図である。
FIG. 6 is a graph showing the bactericidal effect of the plasma sprayed coating according to the present invention on Staphylococcus aureus in relation to the light irradiation time and the survival rate of Escherichia coli.

【図7】従来公知のルチル型酸化チタン皮膜を有する市
販抗菌タイルが黄色ブドウ球菌、大腸菌、腸炎菌に対し
て有する殺菌効果を光照射時間と各菌の生存率との関係
で示したグラフ図である。
FIG. 7 is a graph showing the bactericidal effect of a commercially available antibacterial tile having a conventionally known rutile-type titanium oxide film on Staphylococcus aureus, Escherichia coli, and Enteritidis in relation to the light irradiation time and the survival rate of each bacterium. It is.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 プラズマノズル本体 2 陰電極 3 電源 4 プラズマ炎 5 プラズマ炎噴出孔 6 混合ガス導入口 7 酸化チタン粉末の吹き出し口 8 基材 9 酸化チタン皮膜 10 酸化チタン粉末吹き出し部材 11 陰電極の先端部 12 Cu陽電極 P 酸化チタン粉末 G 混合ガス DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Plasma nozzle main body 2 Negative electrode 3 Power supply 4 Plasma flame 5 Plasma flame ejection hole 6 Mixed gas introduction port 7 Titanium oxide powder ejection port 8 Substrate 9 Titanium oxide film 10 Titanium oxide powder ejection member 11 Negative electrode tip 12 Cu Positive electrode P Titanium oxide powder G Mixed gas

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 プラズマノズル本体のプラズマ炎噴出孔
から少なくともアルゴンガスと窒素ガスからなる混合ガ
スのプラズマ炎を高速で噴出させ、前記プラズマ炎噴出
孔の出口に近接して設けられたアナターゼ型酸化チタン
粉末の吹き出し口からアナターゼ型酸化チタン粉末を前
記混合ガスのプラズマ炎中に噴出させ、基材表面に光触
媒機能を有するアナターゼ型酸化チタンの皮膜を溶射形
成することを特徴とする酸化チタン粉末の基材へのプラ
ズマ溶射方法。
A plasma flame of at least a mixed gas of argon gas and nitrogen gas is ejected at high speed from a plasma flame ejection hole of a plasma nozzle body, and an anatase type oxidation provided near an outlet of the plasma flame ejection hole. Anatase-type titanium oxide powder is blown out from the outlet of the titanium powder into the plasma flame of the mixed gas, and a film of anatase-type titanium oxide having a photocatalytic function is formed by thermal spraying on the surface of the base material. Plasma spraying method for substrate.
【請求項2】 プラズマノズル本体のプラズマ炎噴出孔
からアルゴンガスまたは水素ガスと窒素ガスからなる混
合ガスのプラズマ炎で高速で噴出させ、前記プラズマ炎
噴出孔の出口に近接して設けられたアナターゼ型酸化チ
タン粉末の吹き出し口からアナターゼ型酸化チタン粉末
を前記混合ガスのプラズマ炎中に噴出させ、基材表面に
光触媒機能を有するアナターゼ型酸化チタンの皮膜を溶
射形成することを特徴とする酸化チタン粉末の基材への
プラズマ溶射方法。
2. An anatase provided in close proximity to an outlet of the plasma flame ejection hole, wherein the plasma flame is ejected from a plasma flame ejection hole of a plasma nozzle body at a high speed by a plasma flame of an argon gas or a mixed gas of hydrogen gas and nitrogen gas. Titanium oxide characterized by spraying anatase-type titanium oxide powder into the plasma flame of the mixed gas from the outlet of the type-titanium oxide powder and spray-forming a film of anatase-type titanium oxide having a photocatalytic function on a substrate surface. A method of plasma spraying a powder onto a substrate.
【請求項3】 プラズマノズル本体のプラズマ炎噴出孔
からアルゴンガスとヘリウムガスまたは水素ガスからな
る混合ガスのプラズマ炎を高速で噴出させ、前記プラズ
マ炎噴出孔の出口に近接して設けられたアナターゼ型酸
化チタン粉末の吹き出し口からアナターゼ型酸化チタン
粉末を前記混合ガスのプラズマ炎中に噴出させ、基材表
面に光触媒機能を有するアナターゼ型酸化チタンの皮膜
を溶射形成することを特徴とする酸化チタン粉末の基材
へのプラズマ溶射方法。
3. A plasma flame of a mixed gas comprising argon gas, helium gas or hydrogen gas is ejected at a high speed from a plasma flame ejection hole of a plasma nozzle body, and anatase provided near an outlet of said plasma flame ejection hole. Titanium oxide characterized by spraying anatase-type titanium oxide powder into the plasma flame of the mixed gas from the outlet of the type-titanium oxide powder and spray-forming a film of anatase-type titanium oxide having a photocatalytic function on a substrate surface. A method of plasma spraying a powder onto a substrate.
【請求項4】 プラズマノズル本体のプラズマ炎噴出孔
の断面積を該プラズマ炎噴出孔の外端から陰電極の先端
部までの距離で除した値が1.75mmから0.75m
mであり、酸化チタン粉末の吹き出し口がプラズマノズ
ル本体の前記噴出孔の外に位置していることを特徴とす
る酸化チタン粉末の基材へのプラズマ溶射装置。
4. The value obtained by dividing the cross-sectional area of the plasma flame ejection hole of the plasma nozzle body by the distance from the outer end of the plasma flame ejection hole to the tip of the negative electrode is 1.75 mm to 0.75 m.
m, wherein the outlet of the titanium oxide powder is located outside the outlet of the plasma nozzle body.
【請求項5】 製品を構成する基材の表面にプラズマノ
ズル本体によりアナターゼ型酸化チタン粉末を少なくと
もアルゴンガスと窒素ガスまたはヘリウムガスからなる
混合ガスのプラズマ炎とともに高速噴射して光触媒機能
を有するアナターゼ型酸化チタンの溶射皮膜が形成され
ていることを特徴とするプラズマ溶射皮膜を有する製
品。
5. An anatase having a photocatalytic function by injecting anatase-type titanium oxide powder at high speed with a plasma flame of at least a mixed gas of argon gas, nitrogen gas or helium gas onto a surface of a base material constituting a product by a plasma nozzle body. A product having a plasma sprayed coating, wherein a sprayed coating of type titanium oxide is formed.
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