JPH1143410A - Mold-removing agent composition - Google Patents

Mold-removing agent composition

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JPH1143410A
JPH1143410A JP9202262A JP20226297A JPH1143410A JP H1143410 A JPH1143410 A JP H1143410A JP 9202262 A JP9202262 A JP 9202262A JP 20226297 A JP20226297 A JP 20226297A JP H1143410 A JPH1143410 A JP H1143410A
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JP
Japan
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group
ligand
mold
integer
complex
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JP9202262A
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Japanese (ja)
Inventor
Takashi Nishino
隆司 西野
Minoru Kishi
実 岸
Nobuyuki Yamamoto
信之 山本
Takayasu Kubozono
隆康 久保園
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Lion Corp
Original Assignee
Lion Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a composition manifesting strong activities for removing mold, and hardly causing stimulus smell by combining a peroxy compound with a metal complex with a specific ligand. SOLUTION: This mold-removing agent composition contains (A) 1-30 wt.%, preferably 5-20 wt.% peroxy compound (e.g. hydrogen peroxide, a hydrogen peroxide-liberating compound, a system for generating the hydrogen peroxide, a peroxy acid and a peroxy acid precursor system) and (B) a metal complex comprising a ligand (e.g. a compound of formula II) of formula I [X is N, P or C-R<3> ; (n) is 0-2; (m) is 0-2; R<1> to R<3> are each H, a (substituted) alkyl, a cycloalkyl or an aryl; A and B are each NR<4> R<5> ; etc.; (p) is 0-4; (q) is 2-7; R<4> and R<5> are each H, OH, a (substituted) alkyl, a cycloalkyl or an aryl], having three or more nitrogen atoms having ligating properties, and a transition metal.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、使用時に有害なガ
スの発生がなく、しかも刺激臭のないカビ取り用として
好適な酸素系のカビ取り剤組成物に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an oxygen-based mold remover composition which is suitable for removing mold without generating harmful gas during use and without irritating odor.

【0002】[0002]

【従来の技術】住居廻りにおける浴室、浴槽、トイレ、
流し台等、特に水を頻繁に使用する箇所の汚れは、カビ
に起因する有機物や不溶性の無機物によるものが多く、
界面活性剤を主成分とする通常の洗浄剤ではなかなか除
去することが出来ないため、これらの汚れを除去するに
は、従来塩素系又は酸素系漂白剤を主成分とするものを
用い、その漂白効果によりカビの色を目立たなくすると
いう方法が採られてきた。
2. Description of the Related Art Bathrooms, bathtubs, toilets around houses,
Stain, such as sinks, especially where water is used frequently, is often due to organic or insoluble inorganic substances caused by mold,
Since ordinary detergents containing surfactants as the main component cannot be easily removed, to remove these stains, use a chlorine- or oxygen-based bleaching agent as the main component, and bleach it. A method has been adopted in which the effect makes the color of the mold inconspicuous.

【0003】しかし、次亜塩素酸ナトリウムのような塩
素系漂白剤を主成分とするものは、カビ色素の漂白力と
カビの除去性能は優れているものの、目や皮膚を痛める
危険性が大きい上、塩素臭が強く使用する際には十分な
換気に留意しなければならず、また酸性の洗浄剤と誤っ
て併用した場合、有害な塩素ガスを発生する等の欠点を
有している。
[0003] However, those containing a chlorine bleach such as sodium hypochlorite as a main component are excellent in the bleaching power of mold dye and the performance of removing mold, but have a great risk of damaging eyes and skin. In addition, when using a chlorine odor strongly, it is necessary to pay attention to sufficient ventilation, and there is a drawback that harmful chlorine gas is generated when used in combination with an acidic cleaning agent by mistake.

【0004】一方、過酸化水素に代表される酸素系漂白
剤を主成分とするものは、塩素ガスを発生するという欠
点はないが、単独では十分な漂白効果によるカビ色素の
退色効果が得られず、そのため各種の漂白活性化剤を併
用しなければならなかった(例えば、特開平2−225
600号、特開平2−196896号、特開昭62−4
794号各公報)。
[0004] On the other hand, those containing an oxygen-based bleaching agent represented by hydrogen peroxide as a main component do not have a drawback of generating chlorine gas, but can provide a sufficient bleaching effect of a mold dye by themselves. Therefore, various bleach activators had to be used in combination (for example, see JP-A-2-225).
No. 600, JP-A-2-196896, JP-A-62-4
No. 794).

【0005】しかしながら、これら有機過酸系漂白活性
化剤を併用しても、カビ色素に対する漂白効果が若干向
上するのみで、カビ本来の除去という点に関しては依然
不十分であるために、繰り返しカビ汚れが付きやすいと
いう欠点がある。
However, even if these organic peracid bleach activators are used in combination, the bleaching effect on mold dyes is only slightly improved, and the removal of mold by itself is still insufficient. There is a drawback that dirt easily adheres.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は上記
従来技術の実情に鑑みてなされたものであって、刺激臭
が無く、カビ本来の除去に適した組成物を提供すること
を、その目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances of the prior art, and it is an object of the present invention to provide a composition which has no pungent odor and is suitable for removing mold. Aim.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、強力なカ
ビ除去力を示し、しかも刺激臭のない組成物を開発する
ために、鋭意研究を重ねた結果、ペルオキシ化合物と、
特定のリガンドを有する金属錯体とを組み合わせること
によって、前記目的を達成し得ることを見出し、この知
見に基づいて本発明を完成するに至った。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present inventors have conducted intensive studies to develop a composition exhibiting a strong mold removing power and having no irritating odor.
It has been found that the above object can be achieved by combining with a metal complex having a specific ligand, and the present invention has been completed based on this finding.

【0008】即ち、本発明によれば、少なくとも(A)
ペルオキシ化合物と(B)金属錯体を含有するカビ取り
剤組成物において、該金属錯体が下記一般式で表される
配位性窒素原子を3個以上持つ配位子(1)と遷移金属
からなることを特徴とするカビ取り剤組成物が提供され
る。
That is, according to the present invention, at least (A)
In a mold remover composition containing a peroxy compound and a metal complex (B), the metal complex comprises a ligand (1) having three or more coordinating nitrogen atoms represented by the following general formula and a transition metal. A fungicide composition is provided.

【化1】 〔式中、X、n、m、R1、R2、A及びBは、それぞれ
以下のものを示す。
Embedded image [Wherein, X, n, m, R 1 , R 2 , A and B each represent the following.

【化2】 n;0〜2の整数、 m;0〜2の整数、 R1、R2、R3;それぞれ独立に、水素原子、場合によ
っては置換されたアルキル基、シクロアルキル基又はア
リール基、
Embedded image n; an integer of 0 to 2, m; an integer of 0 to 2, R 1 , R 2 , R 3 ; each independently a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group;

【化3】 p;0〜4の整数、 q;2〜7の整数、 R4、R5、R7、R8、R9;それぞれ独立に、水素原
子、水酸基、場合によっては置換されたアルキル基、シ
クロアルキル基又はアリール基、 R6;水素原子、場合によって置換されたアルキル基、
場合によっては置換されたアルコキシ基、ハロゲン原
子、シアノ基、−NR1011、−N+101112、−
N=CR1011、スルホン酸基、カルボン酸基、水酸
基、ピリジル基、ピリジニウム基又はチエニル基、 R10、R11、R12;それぞれ独立に、水素原子、水酸
基、場合によっては置換されたアルキル基、シクロアル
キル基又はアリール基。〕
Embedded image p; an integer of 0 to 4; q; an integer of 2 to 7; R 4 , R 5 , R 7 , R 8 , and R 9 ; each independently represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an optionally substituted alkyl group, An alkyl group or an aryl group, R 6 ; a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group,
If the alkoxy group substituted is a halogen atom, a cyano group, -NR 10 R 11, -N + R 10 R 11 R 12, -
N = CR 10 R 11 , a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, a hydroxyl group, a pyridyl group, a pyridinium group or a thienyl group, R 10 , R 11 , R 12 ; each independently being a hydrogen atom, a hydroxyl group, or optionally substituted An alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group. ]

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳しく説明
する。本発明のカビ取り剤組成物は、(A)ペルオキシ
化合物と、(B)前記一般式で表される配位性窒素原子
を3個以上持つ配位子(1)と遷移金属からなる金属錯
体とを含有することを特徴とする。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail. The mold remover composition of the present invention is a metal complex comprising (A) a peroxy compound, (B) a ligand (1) having three or more coordinating nitrogen atoms represented by the above general formula, and a transition metal. And is characterized by containing.

【0010】本発明において、(A)成分として用いる
ペルオキシ化合物としては、過酸化水素、過酸化水素遊
離化合物、過酸化水素発生システム、ペルオキシ酸及び
その塩、ペルオキシ酸前駆体システム、並びにこれらの
混合物が挙げられる。
In the present invention, the peroxy compound used as the component (A) includes hydrogen peroxide, a hydrogen peroxide releasing compound, a hydrogen peroxide generation system, peroxy acids and salts thereof, peroxy acid precursor systems, and mixtures thereof. Is mentioned.

【0011】過酸化水素源としては、アルカリ金属酸化
物、過酸化尿素のような有機過酸化物、無機過酸化物、
例えばアルカリ金属過ホウ酸塩、過炭酸塩、過リン酸塩
及び過硫酸塩が挙げられる。これらの化合物を2種以上
混合してもよい。この中でも特に好ましいのは、過酸化
水素、過炭酸ナトリウム、過ホウ酸ナトリウム及び過硫
酸カリウムである。
Examples of the hydrogen peroxide source include alkali metal oxides, organic peroxides such as urea peroxide, inorganic peroxides,
Examples include alkali metal perborates, percarbonates, perphosphates and persulfates. Two or more of these compounds may be mixed. Among them, particularly preferred are hydrogen peroxide, sodium percarbonate, sodium perborate and potassium persulfate.

【0012】これらの化合物は、単独で又はペルオキシ
酸前駆体と組み合わせて使用してもよい。これらのペル
オキシ酸前駆体としては、過酸化水素及び過酸化水素遊
離化合物と共に用いられ、浴中で有機過酸を生成するも
のが挙げられる。具体的には、アシルフェノールスルホ
ネート、アシルアルキルフェノールスルホネート、アシ
ルフェノールカルボキシレート、アルシ化クエン酸エス
テル、アシルアルキルフェノールカルボキシレート、芳
香族二価カルボン酸と四級化アミンを有するアルコール
とのエステル、等のエステル類;ナトリウム−4ベンゾ
イルオキシベンゼンスルホネート、ナトリウム−1−メ
チル−2ベンゾイルオキシベンゼン−4−スルホネー
ト、ナトリウムノナノイルオキシベンゼンカルボキシレ
ート、ナトリウムデカノイルオキシベンゼンカルボキシ
レート、アセチルトリエチルシトレート、2−(4−メ
トキシカルボニルベンゾイルオキシ)−N,N,N−ト
リメチルエタンアミニウムメトサルフェート等が挙げら
れる。
These compounds may be used alone or in combination with a peroxyacid precursor. These peroxyacid precursors include those used with hydrogen peroxide and hydrogen peroxide releasing compounds to produce organic peracids in the bath. Specifically, esters such as acyl phenol sulfonate, acyl alkyl phenol sulfonate, acyl phenol carboxylate, acylated citrate, acyl alkyl phenol carboxylate, ester of aromatic divalent carboxylic acid and alcohol having quaternized amine, etc. , Sodium 4-benzoyloxybenzenesulfonate, sodium-1-methyl-2benzoyloxybenzene-4-sulfonate, sodium nonanoyloxybenzenecarboxylate, sodium decanoyloxybenzenecarboxylate, acetyltriethylcitrate, 2- (4 -Methoxycarbonylbenzoyloxy) -N, N, N-trimethylethanaminium methosulfate and the like.

【0013】また、アシルアミド類としては、N,N,
N’,N’−テトラアセチルエチレンジアミンが、また
第4級アンモニウム置換ペルオキシ前駆体としては、
N,N,N,−トリメチルアンモニウムトルイルオキシ
ベンゼンスルホネート、2−(N,N,N−トリメチル
アンモニウム)エチル−4−スルホフェニルカーボネー
ト等が挙げられる。
The acylamides include N, N,
N ′, N′-tetraacetylethylenediamine, and quaternary ammonium-substituted peroxy precursors include:
N, N, N, -trimethylammonium toluyloxybenzenesulfonate, 2- (N, N, N-trimethylammonium) ethyl-4-sulfophenylcarbonate and the like can be mentioned.

【0014】これらペルオキシ化合物の含有量は特に限
定されないが、カビ取り剤組成物浴中において、1〜3
0重量%、好ましくは5〜20重量%である。
The content of these peroxy compounds is not particularly limited, but may be 1 to 3 in the bath of the fungicide composition.
0% by weight, preferably 5 to 20% by weight.

【0015】本発明において、(B)成分として用いる
配位性窒素原子を3個以上持つ配位子と遷移金属よりな
る金属錯体は、カビ取り剤組成物浴中に遷移金属イオン
と配位子を別々に添加してもよいし、遷移金属イオンと
配位子から錯体をあらかじめ合成し、金属錯体として添
加してもよい。また、錯体に配位子又は遷移金属イオン
を加えることにより遷移金属量、配位子量を調整しても
よい。
In the present invention, the metal complex comprising a transition metal and a ligand having three or more coordinating nitrogen atoms, which is used as the component (B), is prepared by adding a transition metal ion and a ligand to a mold remover composition bath. May be separately added, or a complex may be previously synthesized from a transition metal ion and a ligand and added as a metal complex. The amount of the transition metal and the amount of the ligand may be adjusted by adding a ligand or a transition metal ion to the complex.

【0016】配位性窒素原子を3個以上持つ配位子とし
ては、下記の一般式(1)で表されるものを挙げること
ができる。
Examples of the ligand having three or more coordinating nitrogen atoms include those represented by the following general formula (1).

【化1】 〔式中、X、n、m、R1、R2、A及びBは、それぞれ
以下のものを示す。
Embedded image [Wherein, X, n, m, R 1 , R 2 , A and B each represent the following.

【化2】 n;0〜2の整数、 m;0〜2の整数、 R1、R2、R3;それぞれ独立に、水素原子、場合によ
っては置換されたアルキル基、シクロアルキル基又はア
リール基、
Embedded image n; an integer of 0 to 2, m; an integer of 0 to 2, R 1 , R 2 , R 3 ; each independently a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group;

【化3】 p;0〜4の整数、 q;2〜7の整数、 R4、R5、R7、R8、R9;それぞれ独立に、水素原
子、水酸基、場合によっては置換されたアルキル基、シ
クロアルキル基又はアリール基、 R6;水素原子、場合によって置換されたアルキル基、
場合によっては置換されたアルコキシ基、ハロゲン原
子、シアノ基、−NR1011、−N+101112、−
N=CR1011、スルホン酸基、カルボン酸基、水酸
基、ピリジル基、ピリジニウム基又はチエニル基、 R10、R11、R12;それぞれ独立に、水素原子、水酸
基、場合によっては置換されたアルキル基、シクロアル
キル基又はアリール基。〕
Embedded image p; an integer of 0 to 4; q; an integer of 2 to 7; R 4 , R 5 , R 7 , R 8 , and R 9 ; each independently represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an optionally substituted alkyl group, An alkyl group or an aryl group, R 6 ; a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group,
If the alkoxy group substituted is a halogen atom, a cyano group, -NR 10 R 11, -N + R 10 R 11 R 12, -
N = CR 10 R 11 , a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, a hydroxyl group, a pyridyl group, a pyridinium group or a thienyl group, R 10 , R 11 , R 12 ; each independently being a hydrogen atom, a hydroxyl group, or optionally substituted An alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group. ]

【0017】即ち、下記に示された配位子性窒素原子を
3個以上持つ配位子で、このうち3個の窒素原子が遷移
金属に対してフェイシャルに配位する(窒素原子同士が
すべてシスになっている;fac)ことができるものが
好ましい。
That is, a ligand having three or more ligand nitrogen atoms as shown below, of which three nitrogen atoms are coordinated with a transition metal in a facial manner (all nitrogen atoms are all Those which can be cis; fac) are preferred.

【化1】 〔式中、X、n、m、R1、R2、A及びBは、それぞれ
以下のものを示す。
Embedded image [Wherein, X, n, m, R 1 , R 2 , A and B each represent the following.

【化2】 n;0〜2の整数、 m;0〜2の整数、 R1、R2、R3;それぞれ独立に、水素原子、場合によ
っては置換されたアルキル基、シクロアルキル基又はア
リール基、
Embedded image n; an integer of 0 to 2, m; an integer of 0 to 2, R 1 , R 2 , R 3 ; each independently a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group;

【化3】 p;0〜4の整数、 q;2〜7の整数、 R4、R5、R7、R8、R9;それぞれ独立に、水素原
子、水酸基、場合によっては置換されたアルキル基、シ
クロアルキル基又はアリール基、 R6;水素原子、場合によって置換されたアルキル基、
場合によっては置換されたアルコキシ基、ハロゲン原
子、シアノ基、−NR1011、−N+101112、−
N=CR1011、スルホン酸基、カルボン酸基、水酸
基、ピリジル基、ピリジニウム基又はチエニル基、 R10、R11、R12;それぞれ独立に、水素原子、水酸
基、場合によっては置換されたアルキル基、シクロアル
キル基又はアリール基。〕
Embedded image p; an integer of 0 to 4; q; an integer of 2 to 7; R 4 , R 5 , R 7 , R 8 , and R 9 ; each independently represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an optionally substituted alkyl group, An alkyl group or an aryl group, R 6 ; a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group,
If the alkoxy group substituted is a halogen atom, a cyano group, -NR 10 R 11, -N + R 10 R 11 R 12, -
N = CR 10 R 11 , a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, a hydroxyl group, a pyridyl group, a pyridinium group or a thienyl group, R 10 , R 11 , R 12 ; each independently being a hydrogen atom, a hydroxyl group, or optionally substituted An alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group. ]

【0018】具体的な化合物の例としては、次の表1に
示されるものが挙げられる。
Examples of specific compounds include those shown in Table 1 below.

【0019】[0019]

【表1−(1)】 [Table 1- (1)]

【0020】[0020]

【表1−(2)】 [Table 1- (2)]

【0021】[0021]

【表1−(3)】 [Table 1- (3)]

【0022】[0022]

【表1−(4)】 [Table 1- (4)]

【0023】[0023]

【表1−(5)】 [Table 1- (5)]

【0024】[0024]

【表1−(6)】 [Table 1- (6)]

【0025】[0025]

【表1−(7)】 [Table 1- (7)]

【0026】これらの化合物の大部分は公知であるが、
新規のものもある。これらの化合物はいくつかの方法で
合成されるが、例えば以下の方法がある。 (1)の合成 ジピリジルアミンと2−ブロモピリジンとの反応[Will
iam R. McWhinnie, J.Chem.Soc.(A),1966,1199 参照] (7)の合成 2−アミノメチルピリジンと2−クロロメチルピリジン
ハイドロクロライドとの反応(Zoltan Tyeklar et.al.,
J.Am.Chem.Soc.,1993,115,2677 参照) (13)の合成 2−ビニルピリジンと酢酸アンモニウムとの反応(Chi-
Ming Che et.al., J.Am.Chem.Soc.,1990,112,2284 参
照) (15)の合成 ビス(2−ピリジル)ケトンをビス(2−ピリジル)メ
タンに還元後、2−ブロモピリジンと反応(Allan J. C
anty et.al., Aust. J. Chem.,1986,39,1063 参照)(F.
Richard Keene et.al., Inorg. Chem.,1988,27,2040
参照) (19)の合成 2−(ヒドロキシメチル)−2−メチル−1,3−プロ
パンジオールを三臭化リンで臭素化後、Gabriel
合成〔北尻ら、日本化学雑誌,91,240(1970) 参照〕
Although most of these compounds are known,
Some are new. These compounds are synthesized by several methods, for example, the following methods. Synthesis of (1) Reaction of dipyridylamine with 2-bromopyridine [Will
iam R. McWhinnie, J. Chem. Soc. (A), 1966 , 1199] Synthesis of (7) Reaction of 2-aminomethylpyridine with 2-chloromethylpyridine hydrochloride (Zoltan Tyeklar et.
J. Am. Chem. Soc., 1993 , 115, 2677) Synthesis of (13) Reaction of 2-vinylpyridine with ammonium acetate (Chi-
See Ming Che et.al., J. Am. Chem. Soc., 1990 , 112, 2284) (15) Synthesis of bis (2-pyridyl) ketone to bis (2-pyridyl) methane followed by 2-bromo Reaction with pyridine (Allan J. C
anty et.al., Aust. J. Chem., 1986 , 39, 1063) (F.
Richard Keene et.al., Inorg. Chem., 1988 , 27,2040
Synthesis of (19) 2- (Hydroxymethyl) -2-methyl-1,3-propanediol is brominated with phosphorus tribromide, followed by Gabriel.
Synthesis (see Kitajiri et al., The Chemical Journal of Japan, 91 , 240 (1970))

【0027】配位子と遷移金属の割合はモル比で1:4
〜200:1、好ましくは1:1〜50:1である。カ
ビ取り剤組成物浴中で錯形成させる場合は、遷移金属に
対して過剰モル量添加することが好ましいが、必要以上
の多量の添加は経済的ではない。
The ratio between the ligand and the transition metal is 1: 4 in molar ratio.
200200: 1, preferably 1: 1 to 50: 1. When forming a complex in the mold remover composition bath, it is preferable to add an excess molar amount to the transition metal, but adding a larger amount than necessary is not economical.

【0028】錯体をあらかじめ合成する場合は、錯体構
造に見合った割合で用いるか、又はどちらかを過剰量用
い、錯体合成後、過剰分を取り除けばよい。また、配位
子を過剰に用いている場合は、必ずしも取り除く必要は
なく、そのまま用いてもよい。
When the complex is synthesized in advance, the complex may be used in a proportion corresponding to the complex structure, or either of them may be used in an excessive amount, and after the complex is synthesized, the excess may be removed. When the ligand is used in excess, it is not always necessary to remove the ligand, and the ligand may be used as it is.

【0029】遷移金属としては、Mn、Fe、Cu、N
i、Co、Cr、V、Ru、Rh、Pd、Re、W、M
o等が挙げられるが、環境安全性を考慮するとMn、F
e、Cuが好ましい。また、これらの金属が混合されて
使用されてもよい。
As transition metals, Mn, Fe, Cu, N
i, Co, Cr, V, Ru, Rh, Pd, Re, W, M
o, etc., but considering environmental safety, Mn, F
e and Cu are preferred. Further, these metals may be used as a mixture.

【0030】遷移金属を金属イオンとして直接用いる場
合は、水溶性金属塩が好ましく、マンガンの場合は、硝
酸マンガン、硫酸マンガン、塩酸マンガン、酢酸マンガ
ン、過塩素酸マンガン、マンガンアセチルアセトナート
等が、鉄の場合は、硝酸鉄、硫酸鉄、塩化鉄、過酸素酸
鉄、鉄アセチルアセトナート、クエン酸鉄、クエン酸鉄
アンモニウム、シュウ酸鉄アンモニウム、硫酸鉄アンモ
ニウム等が、銅の場合は硝酸銅、硫酸銅、塩化銅、酢酸
銅、クエン酸銅、シアン化銅、シュウ酸銅、塩化アンモ
ニウム銅、酒石酸銅、過塩素酸銅等が好ましい。
When a transition metal is directly used as a metal ion, a water-soluble metal salt is preferred. In the case of iron, iron nitrate, iron sulfate, iron chloride, iron peroxygen, iron acetylacetonate, iron citrate, iron ammonium citrate, ammonium ammonium oxalate, ammonium sulfate ammonium, etc. , Copper sulfate, copper chloride, copper acetate, copper citrate, copper cyanide, copper oxalate, ammonium copper chloride, copper tartrate, copper perchlorate and the like are preferred.

【0031】錯体をあらかじめ合成する場合の遷移金属
源も上記の水溶性塩を用いることが多いが、有機溶媒可
溶性塩や過マンガン酸カリウム等適宜適当な遷移金属を
用いてもよい。
The above-mentioned water-soluble salt is often used as a transition metal source when a complex is synthesized in advance, but an appropriate transition metal such as an organic solvent-soluble salt or potassium permanganate may be used.

【0032】遷移金属を全く添加しなくても、水道水中
から混入してくる遷移金属を配位子が錯形成して効果を
発揮する場合があるが、安定に効果を発現させるには所
定量の遷移金属の添加が好ましい。遷移金属が少なすぎ
ると安定的な効果や充分な効果が得られない場合があ
り、ある一定以上の添加は更なる効果の増大がみられな
くなるばかりか、遷移金属が酸化物や水酸化物となりペ
ルオキシ化合物を無駄に分解させるなど、好ましくない
問題が新たに生じる場合がある。
Even when no transition metal is added, the ligand may form a complex with the transition metal mixed in from the tap water to exert the effect. Is preferred. If the amount of the transition metal is too small, a stable effect or a sufficient effect may not be obtained.Addition of a certain amount or more not only does not increase the effect further, but also causes the transition metal to become an oxide or a hydroxide. Undesirable problems such as wasteful decomposition of peroxy compounds may newly arise.

【0033】金属錯体は、同一の遷移金属と同一の配位
子を用いて形成される錯体(カビ取り剤組成物浴中で形
成される錯体を含む)であっても、その構造は1種に限
ったものではなく、2種以上である場合も多い。活性種
である真の錯体構造は明らかではないが、遷移金属あた
り、配位子の数は1個ないしは複数個の可能性があり、
錯体を構成する遷移金属も1個ないし複数個の可能性が
ある。
Even if the metal complex is a complex formed by using the same transition metal and the same ligand (including a complex formed in a mold removing composition bath), its structure is one kind. However, there are many cases where two or more types are used. Although the true complex structure of the active species is not clear, the number of ligands per transition metal may be one or more,
The complex may also comprise one or more transition metals.

【0034】従って、錯体は単核、複核、クラスターの
場合が考えられる。また、多核の錯体を構成している遷
移金属は、同種であっても異種であってもよい。
Accordingly, the complex may be mononuclear, dinuclear, or cluster. The transition metals constituting the polynuclear complex may be the same or different.

【0035】配位子は単独で用いられてもよく、異種の
ものと混合して用いられてもよいが、本発明の配位子が
少なくとも一種用いられることが必要である。遷移金属
には、本発明の配位子の他に水、水酸基、フェノール性
水酸基、アミン、カルボン酸基、ハロゲン原子等が配位
してもよい。多核錯体の架橋種としては、酸素、硫黄、
ハロゲン原子等がある。
The ligand may be used alone, or may be used as a mixture with a different kind. However, it is necessary that at least one kind of the ligand of the present invention is used. In addition to the ligand of the present invention, water, a hydroxyl group, a phenolic hydroxyl group, an amine, a carboxylic acid group, a halogen atom, and the like may be coordinated with the transition metal. As the crosslinking species of the polynuclear complex, oxygen, sulfur,
There are halogen atoms and the like.

【0036】錯体中の遷移金属の価数は定かではない。
低原子価の水溶性塩で添加しても、錯形成後、空気酸
化、若しくはカビ取り剤組成物浴中に添加されるペルオ
キシ化合物によって酸化されて、高原子価になっている
場合が多い。複核錯体の場合は同一でなくてもよく、混
合原子価であってもよい。
The valence of the transition metal in the complex is not certain.
Even if it is added as a low-valent water-soluble salt, after complex formation, it is often oxidized by air oxidation or a peroxy compound added to the mold remover composition bath to have a high valence. In the case of a binuclear complex, they may not be the same and may have a mixed valence.

【0037】錯体の対イオンは、用いられた遷移金属塩
由来のものでもよいし、目的にあわせて対イオン交換さ
れてもよい。好ましい対イオンとしては、Cl-、B
-、I-、NO3 -、ClO4 -、NCS-、PF6 -、RS
4 -、OAc-、BPh4 -、CF3SO3 -、RSO3 -、R
SO4 -である。
The counter ion of the complex may be derived from the transition metal salt used, or may be exchanged according to the purpose. Preferred counter ions include Cl , B
r -, I -, NO 3 -, ClO 4 -, NCS -, PF 6 -, RS
O 4 , OAc , BPh 4 , CF 3 SO 3 , RSO 3 , R
SO 4 - is.

【0038】あらかじめ合成される場合の錯体は既知の
場合もあるし、新規の場合もある。錯体は主に他の配位
子を用いて合成された、例えば以下のような方法で合成
される。 遷移金属塩と配位子を水中又は有機溶媒中で混合
し、エバポレーターにより濃縮して錯体を得る。(WO
9525159、特開平8−67687号公報参照) 遷移金属の過塩素酸塩と配位子を水中で混合し、そ
こに過酸化水素を加え、得られた沈殿を再結晶する。
(Masatatsu Suzuki et.al., Chem. Lett. 1988,477 参
照) 遷移金属塩と配位子を反応させ、一旦酸化剤で酸化
後、アルカリ性にして酸素酸化する。(特開平7−88
01号公報参照) 配位子と過マンガン酸カリウムを有機溶媒中で混合
し、得られた沈殿を濾別する。[浅田ら、日本化学会第
70春季年会講演予稿集、p511(1996)参照]
The complex when synthesized in advance may be known or may be new. The complex is mainly synthesized using another ligand, for example, by the following method. The transition metal salt and the ligand are mixed in water or an organic solvent and concentrated by an evaporator to obtain a complex. (WO
9525159, JP-A-8-67687) A transition metal perchlorate and a ligand are mixed in water, hydrogen peroxide is added thereto, and the obtained precipitate is recrystallized.
(See Masatatsu Suzuki et.al., Chem. Lett. 1988 , 477.) The transition metal salt is reacted with the ligand, and once oxidized with an oxidizing agent, alkalized and oxygen-oxidized. (JP-A-7-88
The ligand and potassium permanganate are mixed in an organic solvent, and the obtained precipitate is separated by filtration. [Asada et al., The Chemical Society of Japan
Proceedings of the 70th Annual Meeting, p511 (1996)]

【0039】これら金属錯体の含有量は特に限定されな
いが、カビ取り剤組成物浴中において、0.01〜10
00ppm、好ましくは1〜500ppmである。
The content of these metal complexes is not particularly limited, but may be 0.01 to 10 in the mold remover composition bath.
00 ppm, preferably 1 to 500 ppm.

【0040】本発明のカビ取り剤組成物において、その
使用時の浴中のpHは特に限定されるものではないが、
7〜12、好ましくは8〜11に調整されることが好ま
しい。このための調整剤としては、アルカリ金属やアン
モニウムの水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩等、水に溶解
してアルカリ性を呈するものであればよいが、取り扱い
やすくpHの調整が容易であるという点で炭酸ナトリウ
ム又は炭酸カリウムが好ましい。特に好ましいのは炭酸
カリウムである。
In the mold remover composition of the present invention, the pH in the bath at the time of its use is not particularly limited.
It is preferably adjusted to 7 to 12, preferably 8 to 11. As an adjusting agent for this, an alkali metal or ammonium hydroxide, carbonate, bicarbonate, or the like may be used as long as it dissolves in water and exhibits alkalinity, but it is easy to handle and pH adjustment is easy. Sodium carbonate or potassium carbonate is preferred in this respect. Particularly preferred is potassium carbonate.

【0041】本発明におけるカビ取り剤組成物の使用形
態は特に限定されないが、ペルオキシ化合物の性状によ
り使用形態が異なる。即ち、ペルオキシ化合物として過
酸化水素等の水溶液を用いる場合は、(a)成分として
過酸化水素水溶液を、(b)成分として金属錯体等の混
合物を用意し、これらを使用前に混合して使用すればよ
い。
The use form of the fungicide composition of the present invention is not particularly limited, but the use form differs depending on the properties of the peroxy compound. That is, when an aqueous solution of hydrogen peroxide or the like is used as the peroxy compound, an aqueous solution of hydrogen peroxide is prepared as the component (a), and a mixture of a metal complex or the like is prepared as the component (b). do it.

【0042】また、ペルオキシ化合物として過炭酸ナト
リウム等の粉体を用いる場合は、それと金属錯体等とを
混合した成分を用意し、これを使用前に水と混合して使
用すればよい。また、遷移金属、配位子、又はそれらか
らなる錯体が組成物中で安定性を保持するために、適宜
それらは造粒又はマイクロカプセル化されてもよい。
When a powder of sodium percarbonate or the like is used as the peroxy compound, a component in which the powder is mixed with a metal complex or the like may be prepared, and this may be mixed with water before use. In order for the transition metal, the ligand, or the complex comprising them to maintain stability in the composition, they may be granulated or microencapsulated as appropriate.

【0043】本発明のカビ取り剤組成物には、保存安定
性、使用性などを向上させる目的で、所望により界面活
性剤、ビルダー、ラジカル捕捉剤、アルコール類、増粘
剤、香料、色素、酵素などを適宜配合することが出来
る。
The fungicide composition of the present invention may optionally contain a surfactant, a builder, a radical scavenger, an alcohol, a thickener, a fragrance, a dye, and the like for the purpose of improving storage stability and usability. Enzymes and the like can be appropriately compounded.

【0044】[0044]

【実施例】次に実施例により、本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれらの例によって何ら限定されるも
のではない。
Next, the present invention will be described in more detail by way of examples, which should not be construed as limiting the present invention.

【0045】尚、各表における成分、記号は以下の意味
を持ち、TPDC及び配位子A〜Cは合成品である。 過酸化水素;三菱ガス化学社製 PC;過炭酸ナトリウム;三菱ガス化学社製 TPDC:2−(4−メトキシカルボニルベンゾイルオ
キシ)−N,N,N−トリメチルエタンアミニウム メ
トサルフェート TAED:N,N,N’,N’−テトラアセチルエチレ
ンジアミン;ヘキスト社製 配位子A:トリス(2−ピリジル)アミン 配位子B:トリス〔(2−ピリジル)メチル〕アミン 配位子C:トリス(2−ピリジル)メタン 配位子D:トリス(2−アミノエチル)アミン;試薬 金属塩X:塩化マンガン4水和物;試薬 金属塩Y:酢酸マンガン2水和物;試薬 炭酸カリウム;旭硝子社製
The components and symbols in each table have the following meanings, and TPDC and ligands A to C are synthetic products. Hydrogen peroxide; PC manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company; sodium percarbonate; TPDC manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company: 2- (4-methoxycarbonylbenzoyloxy) -N, N, N-trimethylethanaminium methosulfate TAED: N, N , N ′, N′-tetraacetylethylenediamine; Hoechst Corporation Ligand A: Tris (2-pyridyl) amine Ligand B: Tris [(2-pyridyl) methyl] amine Ligand C: Tris (2- Pyridyl) methane Ligand D: Tris (2-aminoethyl) amine; Reagent Metal salt X: Manganese chloride tetrahydrate; Reagent Metal salt Y: Manganese acetate dihydrate; Reagent Potassium carbonate;

【0046】また、各例におけるカビの除去効果、及び
刺激臭の無さは、次のようにして測定した。
The effect of removing mold and the absence of irritating odor in each example were measured as follows.

【0047】(イ)カビの除去効果;黒カビ(Clad
osporium cladosporioides)
を培養し、被着させて調整した素焼きタイル表面(2.
5×2.5cm)に、各試料を等量(0.5mL)滴下
して、15分間放置した後、水洗を行い、30℃で2時
間乾燥した。このタイルに、フードスタンプ(真菌用:
サブロー寒天)を1時間密着させ、30℃による経時
(2日)変化を観察し、以下の評価基準で判定した。
(A) Mold removing effect; black mold (Clad)
osporium cladosporioides)
Of the unglazed tile surface prepared by culturing, applying and adjusting (2.
An equivalent amount (0.5 mL) of each sample was dropped on 5 × 2.5 cm), left for 15 minutes, washed with water, and dried at 30 ° C. for 2 hours. On this tile, a food stamp (for fungus:
(Sabouraud agar) was adhered for 1 hour, the change with time (2 days) at 30 ° C. was observed, and the evaluation was made according to the following evaluation criteria.

【0048】 [0048]

【0049】(ロ)刺激臭の無さ;5.5m3の密閉さ
れた浴室の側面全体に、各試料200mLをスプレー容
器より満遍なく噴霧し、3分間そのままの状態でいた時
の刺激臭の程度を、以下の評価基準で判定した。尚、試
験は5人で行った。
(B) No irritating odor; the degree of irritating odor when 200 mL of each sample was evenly sprayed from a spray container onto the entire side surface of a 5.5 m 3 sealed bathroom and kept as it was for 3 minutes Was determined based on the following evaluation criteria. The test was performed by five people.

【0050】 [0050]

【0051】実施例1 1,3,5−トリメチルベンゼン100ml中に2,
2′−ジピリジルアミン10.27g(60mmo
l)、2−ブロモピリジン9.48g(60mmo
l)、炭酸カリウム15g、銅粉8g、及び0.1gの
ヨウ化カリウムを添加し、150〜160℃で12時間
還流した。反応溶液を150℃の状態で濾過し、無機塩
及び銅粉を取り除いた後、濾液を室温で放置することに
より、緑色の針状結晶を得た。この結晶を水及びジエチ
ルエーテルで洗浄し、目的の配位子トリス(2−ピリジ
ル)アミン(A)の白色針状結晶を得た。
Example 1 2,3 in 100 ml of 1,3,5-trimethylbenzene
10.27 g of 2'-dipyridylamine (60 mmol
l), 9.48 g of 2-bromopyridine (60 mmol
l), 15 g of potassium carbonate, 8 g of copper powder, and 0.1 g of potassium iodide were added, and the mixture was refluxed at 150 to 160 ° C. for 12 hours. The reaction solution was filtered at 150 ° C. to remove inorganic salts and copper powder, and the filtrate was left at room temperature to obtain green needle-like crystals. The crystals were washed with water and diethyl ether to obtain white needle-like crystals of the target ligand tris (2-pyridyl) amine (A).

【0052】[0052]

【化4】 Embedded image

【0053】実施例2 脱イオン水50ml中に2−(クロロメチル)ピリジン
の塩酸塩9.84g(60mmol)と2,2′−ジピ
コリルアミン11.96g(60mmol)を溶解し、
5.4N水酸化ナトリウム水溶液の滴下により、pHを
8にした。ここまでの操作はスターラーで撹拌しなが
ら、0℃の条件下で行った。pHが8になったところ
で、反応溶液の温度を60℃に上昇させ、その温度を保
ちながら6時間撹拌した。その際、反応溶液のpHを8
〜9の範囲に保つため、5.4N水酸化ナトリウム水溶
液の滴下を随時行った。50×3mlのジエチルエーテ
ルを用いて反応溶液中から目的の物質を抽出し、そのま
ま冷蔵庫中で放置することにより黄色の結晶を析出させ
た。その結晶を再ジエチルエーテル中で再結晶させるこ
とにより、目的の配位子トリス〔(2−ピリジル)メチ
ル〕アミン(B)の白色針状結晶を得た。
EXAMPLE 2 9.84 g (60 mmol) of 2- (chloromethyl) pyridine hydrochloride and 11.96 g (60 mmol) of 2,2'-dipicolylamine were dissolved in 50 ml of deionized water.
The pH was adjusted to 8 by dropwise addition of a 5.4N aqueous sodium hydroxide solution. The operation up to this point was performed under the condition of 0 ° C. while stirring with a stirrer. When the pH reached 8, the temperature of the reaction solution was increased to 60 ° C., and the mixture was stirred for 6 hours while maintaining the temperature. At that time, the pH of the reaction solution was set to 8
In order to keep in the range of ~ 9, a 5.4 N aqueous solution of sodium hydroxide was dropped at any time. The target substance was extracted from the reaction solution using 50 × 3 ml of diethyl ether, and left in a refrigerator to precipitate yellow crystals. By recrystallizing the crystals in diethyl ether, white needle-like crystals of the objective ligand tris [(2-pyridyl) methyl] amine (B) were obtained.

【0054】[0054]

【化5】 Embedded image

【0055】実施例3 3.6%水酸化カリウム−ジエチレングリコール溶液1
00mlにビス(2−ピリジル)ケトン5.0gを溶解
した。ヒドラジン1水和物4.0mlを加え、150℃
で4時間加熱還流した。冷却後、脱イオン水150ml
を加え、ベンゼン60mlで6回抽出した。ベンゼン層
を水100mlで3回洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥
した。溶媒を減圧留去後、残渣(液体)を、110℃、
0〜5mmHgで減圧蒸留し、下記に示される配位子前
駆体ビス−(2−ピリジル)メタンを得た。
Example 3 3.6% potassium hydroxide-diethylene glycol solution 1
5.0 g of bis (2-pyridyl) ketone was dissolved in 00 ml. Add hydrazine monohydrate (4.0 ml), and add
And refluxed for 4 hours. After cooling, 150 ml of deionized water
Was added and extracted six times with 60 ml of benzene. The benzene layer was washed three times with 100 ml of water and dried over magnesium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the residue (liquid) was evaporated at 110 ° C.
Distillation under reduced pressure at 0 to 5 mmHg gave a ligand precursor bis- (2-pyridyl) methane shown below.

【0056】[0056]

【化6】 Embedded image

【0057】ビス−(2−ピリジル)メタン2.2gを
乾燥ジエチルエーテル25mlに溶解し、−60℃に冷
却した15%n−ブチルリチウム・ヘキサン溶液6.3
ml中に、15分かけて滴下した。温度を−60℃に保
持した反応溶液中に、蒸留した2−ブロモピリジン2.
0gを乾燥ジエチルエーテル25mlに溶解し、90分
かけて滴下した。反応溶液を−60℃で30分間、−2
0℃で60分間、0℃で30分間冷却後室温に戻し、乾
燥ベンゼン60mlを加えた。反応液中よりジエチルエ
ーテルを60℃で加熱留去後、10時間加熱還流した。
ここまでの操作は窒素雰囲気下で行われた。冷却後、脱
イオン水60mlを加えベンゼン層を分離した。水層を
ベンゼン25mlで3回再抽出し、このベンゼン層と先
のベンゼン層と合わせ、硫酸マグネシウムで脱水した。
溶媒を減圧留去後、残渣(液体)を石油エーテル100
mlで抽出した。この溶液を活性炭と共に煮沸し、熱時
濾過後、全量を約40mlまで減圧濃縮し、放置後析出
した無色結晶を濾取して、下記に示される目的の配位子
トリス(2−ピリジル)メタン(C)を得た。
2.2 g of bis- (2-pyridyl) methane was dissolved in 25 ml of dry diethyl ether, and cooled to -60 ° C. in a 6.3% solution of 15% n-butyllithium in hexane.
The solution was added dropwise over 15 minutes. 1. Distilled 2-bromopyridine in a reaction solution maintained at a temperature of −60 ° C.
0 g was dissolved in 25 ml of dry diethyl ether and added dropwise over 90 minutes. The reaction solution was kept at -60 ° C for 30 minutes, -2
After cooling at 0 ° C. for 60 minutes and at 0 ° C. for 30 minutes, the temperature was returned to room temperature, and 60 ml of dry benzene was added. After diethyl ether was distilled off from the reaction solution by heating at 60 ° C., the mixture was refluxed for 10 hours.
The operations so far were performed in a nitrogen atmosphere. After cooling, 60 ml of deionized water was added and the benzene layer was separated. The aqueous layer was re-extracted three times with 25 ml of benzene, combined with the benzene layer and the previous benzene layer, and dried over magnesium sulfate.
After the solvent was distilled off under reduced pressure, the residue (liquid) was distilled off with 100 parts of petroleum ether.
Extracted in ml. This solution was boiled with activated carbon, filtered while hot, concentrated under reduced pressure to a total volume of about 40 ml, and after standing, the precipitated colorless crystals were collected by filtration to obtain the target ligand tris (2-pyridyl) methane shown below. (C) was obtained.

【0058】[0058]

【化7】 Embedded image

【0059】実施例4〜7及び比較例1〜3 濃度5重量%の過酸化水素水溶液に、表2に示す組成
(前記水溶液に対する重量%)のペルオキシ化合物と配
位子及び金属塩等を混合し、カビの除去効果、及び刺激
臭の無さの試験を行った。その結果を表2に示す。
Examples 4 to 7 and Comparative Examples 1 to 3 An aqueous solution of hydrogen peroxide having a concentration of 5% by weight was mixed with a peroxy compound having the composition shown in Table 2 (% by weight based on the aqueous solution), a ligand, a metal salt and the like. Then, a test was conducted on the effect of removing mold and the absence of pungent odor. Table 2 shows the results.

【0060】[0060]

【表2】 [Table 2]

【0061】実施例8〜15 表3に示す組成(トータル水溶液に対する重量%)のペ
ルオキシ化合物と配位子及び金属塩等を水に混合し、カ
ビの除去効果、及び刺激臭の無さの試験を行った。その
結果を表3に示す。
Examples 8 to 15 A mixture of a peroxy compound having the composition shown in Table 3 (% by weight based on the total aqueous solution), a ligand, a metal salt, and the like was mixed with water to test for a mold removing effect and no irritating odor. Was done. Table 3 shows the results.

【0062】[0062]

【表3】 [Table 3]

【0063】実施例16〜23 表4に示す組成(トータル水溶液に対する重量%)のペ
ルオキシ化合物と配位子及び金属塩等を水に混合し、カ
ビの除去効果、及び刺激臭の無さの試験を行った。その
結果を表4に示す。
Examples 16 to 23 A test was conducted in which a peroxy compound having the composition shown in Table 4 (% by weight based on the total aqueous solution), a ligand, a metal salt, and the like were mixed with water to remove mold and an irritating odor. Was done. Table 4 shows the results.

【0064】[0064]

【表4】 [Table 4]

【0065】表2〜表4の結果から、本発明の前記
(A)及び(B)成分を含むカビ取り剤組成物は、刺激
臭がなく、しかも非常に優れたカビ除去力を示すことが
判る。
From the results shown in Tables 2 to 4, it can be seen that the fungicide-removing composition containing the components (A) and (B) of the present invention has no pungent odor and shows very excellent mold removing power. I understand.

【0066】[0066]

【発明の効果】本発明のカビ取り剤組成物は、(A)ペ
ルオキシ化合物と、(B)配位性窒素原子を3個以上持
つ配位子と遷移金属よりなる金属錯体とを含有するもの
としたことから、高いカビ除去能力を有するため、カビ
の再繁殖を極力低下させる上に、刺激臭がなく、しかも
使用時に有害なガスが発生する危険性がないので、実用
上極めて有用である。
The fungicide composition of the present invention comprises (A) a peroxy compound, (B) a ligand having at least three coordinating nitrogen atoms, and a metal complex comprising a transition metal. Since it has a high mold removal ability, it is extremely useful in practical use because it has no irritating odor and has no danger of generating harmful gas at the time of use, in addition to minimizing the reproduction of mold, and has no danger of generating harmful gas when used. .

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 久保園 隆康 東京都墨田区本所一丁目3番7号 ライオ ン株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Takayasu Kuboen 1-3-7 Honjo, Sumida-ku, Tokyo Inside Lion Corporation

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも(A)ペルオキシ化合物と
(B)金属錯体を含有するカビ取り剤組成物において、
該金属錯体が下記一般式で表される配位性窒素原子を3
個以上持つ配位子(1)と遷移金属からなることを特徴
とするカビ取り剤組成物。 【化1】 〔式中、X、n、m、R1、R2、A及びBは、それぞれ
以下のものを示す。 【化2】 n;0〜2の整数、 m;0〜2の整数、 R1、R2、R3;それぞれ独立に、水素原子、場合によ
っては置換されたアルキル基、シクロアルキル基又はア
リール基、 【化3】 p;0〜4の整数、 q;2〜7の整数、 R4、R5、R7、R8、R9;それぞれ独立に、水素原
子、水酸基、場合によっては置換されたアルキル基、シ
クロアルキル基又はアリール基、 R6;水素原子、場合によって置換されたアルキル基、
場合によっては置換されたアルコキシ基、ハロゲン原
子、シアノ基、−NR1011、−N+101112、−
N=CR1011、スルホン酸基、カルボン酸基、水酸
基、ピリジル基、ピリジニウム基又はチエニル基、 R10、R11、R12;それぞれ独立に、水素原子、水酸
基、場合によっては置換されたアルキル基、シクロアル
キル基又はアリール基。〕
1. A mold remover composition containing at least (A) a peroxy compound and (B) a metal complex,
The metal complex has a coordinating nitrogen atom represented by the following general formula:
A fungicide composition comprising a ligand (1) having at least one and a transition metal. Embedded image [Wherein, X, n, m, R 1 , R 2 , A and B each represent the following. Embedded image n is an integer of 0 to 2; m is an integer of 0 to 2; R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, 3] p; an integer of 0 to 4; q; an integer of 2 to 7; R 4 , R 5 , R 7 , R 8 , and R 9 ; each independently represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an optionally substituted alkyl group, An alkyl group or an aryl group, R 6 ; a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group,
If the alkoxy group substituted is a halogen atom, a cyano group, -NR 10 R 11, -N + R 10 R 11 R 12, -
N = CR 10 R 11 , sulfonic acid group, carboxylic acid group, hydroxyl group, pyridyl group, pyridinium group or thienyl group, R 10 , R 11 , R 12 ; each independently being a hydrogen atom, a hydroxyl group, or optionally substituted An alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group. ]
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