JPH11354665A - Package substrate and semiconductor device using the same - Google Patents

Package substrate and semiconductor device using the same

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JPH11354665A
JPH11354665A JP16160898A JP16160898A JPH11354665A JP H11354665 A JPH11354665 A JP H11354665A JP 16160898 A JP16160898 A JP 16160898A JP 16160898 A JP16160898 A JP 16160898A JP H11354665 A JPH11354665 A JP H11354665A
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JP
Japan
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package substrate
external electrode
package
pad
semiconductor device
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JP16160898A
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Japanese (ja)
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Takashi Miwa
孝志 三輪
Motohiro Suwa
元大 諏訪
Fujiaki Nose
藤明 野瀬
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To mount a multiple kinds of semiconductor chip with respect to a kind of package substrate, by a method wherein a plurality of external electrode pads are disposed surrounding a center part of a package base, and a plurality of power source pads and a grounding pad are arranged in each side in a periphery of the external electrode pad. SOLUTION: A plurality of external electrode pads 4 are disposed surrounding a center part of a surface of a square package base 2 on a package substrate 1, and a plurality of power source pads 5 disposed physically apart on the surface and a plurality of grounding pads 6 disposed physically apart on the surface are disposed in each side in a periphery of the external electrode pad 4. For this reason, even in semiconductor chips 11 of various modes, the same package substrate 1 is applicable and a multiple species of semiconductor chip 11 can be mounted with respect to a kind of package substrate 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、パッケージ基板お
よびそれを用いた半導体装置に関し、特に、一種類のパ
ッケージ基板に対して多品種の半導体チップが搭載でき
るパッケージ基板およびそれを用いた半導体装置に関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a package substrate and a semiconductor device using the same, and more particularly, to a package substrate on which a variety of semiconductor chips can be mounted on one kind of package substrate and a semiconductor device using the same. Things.

【0002】[0002]

【従来の技術】本発明者は、パッケージ基板およびそれ
を用いた半導体装置について検討した。以下は、本発明
者によって検討された技術であり、その概要は次のとお
りである。
2. Description of the Related Art The present inventors have studied a package substrate and a semiconductor device using the same. The following is a technique studied by the present inventors, and the outline is as follows.

【0003】すなわち、最近のLSI(Large Scale In
tegrated Circuit)などの半導体集積回路装置におい
て、ワークステーションやパソコンなどに使用されてい
る場合、性能の向上と共に多ピン化が必要となってお
り、BGA(Ball Grid Array )やCSP(Chip Size
Package )のパッケージ構造のものが採用されている。
That is, a recent LSI (Large Scale In)
In a semiconductor integrated circuit device such as an integrated circuit, when used in a workstation or a personal computer, it is necessary to improve the performance and increase the number of pins, so that a BGA (Ball Grid Array) or a CSP (Chip Size) is required.
Package).

【0004】この場合、BGA(Ball Grid Array )基
板において、正方形状のBGA基板の中央部にLSI
(Large Scale Integrated Circuit)などの半導体チッ
プを搭載し、半導体チップのボンディングパッド(チッ
プ上の電気端子)とBGA基板のパッド(BGA基板の
各辺の端部に設定されているパッド)とがボンディング
ワイヤによって電気的に接続されている。
In this case, in a BGA (Ball Grid Array) substrate, an LSI is provided at the center of a square BGA substrate.
(Large Scale Integrated Circuit) and other semiconductor chips are mounted, and the bonding pads of the semiconductor chips (electrical terminals on the chip) are bonded to the pads of the BGA board (pads set at the ends of each side of the BGA board) They are electrically connected by wires.

【0005】なお、LSIパッケージとしてのBGA型
パッケージについて記載されている文献としては、例え
ば「日経エレクトロニクス1993年8月2日号」p1
04に記載されているものがある。
As a document describing a BGA type package as an LSI package, for example, see “Nikkei Electronics August 2, 1993,” p.
04.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところが、前述したB
GA基板などの従来のパッケージ基板を使用する場合、
半導体チップの電源用ボンディングパッドおよびグラン
ド用ボンディングパッドの配置構造に対応したパッケー
ジ基板を使用することしかできないことにより、半導体
チップの電源用ボンディングパッドおよびグランド用ボ
ンディングパッドの配置構造が異なる場合は、その電源
用ボンディングパッドおよびグランド用ボンディングパ
ッドの配置構造に対応しているパッケージ基板を使用す
る必要がある。
However, the aforementioned B
When using a conventional package substrate such as a GA substrate,
If the arrangement structure of the power supply bonding pads and the ground bonding pads of the semiconductor chip is different because the package substrate corresponding to the arrangement structure of the power supply bonding pads and the ground bonding pads of the semiconductor chip can only be used. It is necessary to use a package substrate corresponding to the arrangement structure of the power supply bonding pads and the ground bonding pads.

【0007】したがって、種々の半導体チップは、その
電源用ボンディングパッドおよびグランド用ボンディン
グパッドの配置構造も種々の態様となっていることによ
り、種々の半導体チップの電源用ボンディングパッドお
よびグランド用ボンディングパッドの配置構造に対応し
たパッケージ基板を用意する必要があるので、電源用パ
ッドおよびグランド用パッドの配置が異なる態様のパッ
ケージ基板を多く用意しなければならない。
Therefore, various semiconductor chips have various modes of arrangement of power supply bonding pads and ground bonding pads, so that power supply bonding pads and ground bonding pads of various semiconductor chips are provided. Since it is necessary to prepare a package substrate corresponding to the arrangement structure, it is necessary to prepare many package substrates having different arrangements of the power supply pad and the ground pad.

【0008】そのため、半導体チップとパッケージ基板
とが一対一で対応していることにより、各品種の半導体
チップに対して、その半導体チップの品種に応じたパッ
ケージ基板を使用する必要があるので、従来のパッケー
ジ基板は、高価となっているという問題点が発生してい
る。
[0008] Therefore, since the semiconductor chip and the package substrate correspond one-to-one, it is necessary to use a package substrate corresponding to the type of the semiconductor chip for each type of semiconductor chip. However, there is a problem that the package substrate is expensive.

【0009】本発明の目的は、一種類のパッケージ基板
に対して多品種の半導体チップが搭載できるパッケージ
基板およびそれを用いた半導体装置を提供することにあ
る。
It is an object of the present invention to provide a package substrate on which a variety of semiconductor chips can be mounted on one type of package substrate, and a semiconductor device using the same.

【0010】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, the outline of a representative one will be briefly described.
It is as follows.

【0012】すなわち、(1)本発明のパッケージ基板
は、四角形のパッケージベースの表面の中央部の周辺に
複数個の外部電極用パッドが配置されており、外部電極
用パッドの周辺における各辺に複数個の電源用パッドと
複数個のグランド用パッドが配置されているものであ
る。
That is, (1) In the package substrate of the present invention, a plurality of external electrode pads are arranged around the center of the surface of the rectangular package base, and each side around the external electrode pad is provided on each side. A plurality of power supply pads and a plurality of ground pads are arranged.

【0013】(2)本発明の半導体装置は、前記(1)
記載のパッケージ基板を用いて、そのパッケージ基板の
表面に、外部電極としてのボンディングパッドを備えて
いる半導体チップまたは外部電極としてのバンプを備え
ている半導体チップが搭載されているものである。
(2) The semiconductor device of the present invention is characterized in that (1)
A semiconductor chip having bonding pads as external electrodes or a semiconductor chip having bumps as external electrodes is mounted on the surface of the package substrate using the package substrate described above.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明す
るための全図において同一機能を有するものは同一の符
号を付し、重複説明は省略する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. In all the drawings for describing the embodiments, components having the same function are denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted.

【0015】(実施の形態1)図1は、本発明の実施の
形態1であるパッケージ基板を透視的に示す概略平面図
である。図2は、図1におけるA−A矢視断面を示す概
略断面図である。
(First Embodiment) FIG. 1 is a schematic plan view showing a package substrate according to a first embodiment of the present invention in a see-through manner. FIG. 2 is a schematic sectional view showing a section taken along the line AA in FIG.

【0016】図1および図2に示すように、本実施の形
態のパッケージ基板1は、BGA基板であり、四角形の
パッケージベース2の裏面に外部端子としてのハンダボ
ール(ボール)3が配置されているものである。なお、
本実施の形態のパッケージ基板1の他の態様として、ハ
ンダボール3を電線状態のピン線に変換したパッケージ
基板の構造のものなどの種々の構造のパッケージ基板に
適用することができる。
As shown in FIGS. 1 and 2, the package substrate 1 of the present embodiment is a BGA substrate, and solder balls (balls) 3 as external terminals are arranged on the back surface of a rectangular package base 2. Is what it is. In addition,
As another aspect of the package substrate 1 of the present embodiment, the present invention can be applied to package substrates having various structures such as those having a package substrate structure in which the solder balls 3 are converted into pin wires in an electric wire state.

【0017】本実施の形態のパッケージ基板1は、四角
形のパッケージベース2の表面の中央部(チップ搭載領
域)の周辺に複数個の外部電極用パッド4が配置されて
おり、外部電極用パッド4の周辺における各辺にその表
面では物理的に離れて配置された複数個の電源用パッド
(以下、島状の電源用パッドともいう)5と、その表面
では物理的に離れて配置された複数個のグランド用パッ
ド(以下、島状のグランド用パッドともいう)6が配置
されていることを特徴としている。電源用パッド5間の
間隔は均一でもよいし、不均一でもよい。図1では、電
源パッド5において、パッケージベース2の周方向の寸
法のほうが、それに垂直な方向の寸法よりも長いが、こ
の寸法の関係は逆でもよい。すなわちメッキ用配線7の
延在方向に沿う寸法のほうが、それに垂直方向の寸法よ
りも短い。これにより、隣接する電源パッド5間に配置
されるメッキ用配線7を余裕をもって配置でき、かつ、
後述するワイヤボンディング性を損なうこともない。ま
た、電源パッド5を正方形としてもよいし、その他の形
状としてもよい。これはグランド用パッド6についても
同じことがいえる。なお、電源用パッド5とグランド用
パッド6とは互いに交互に配置されている。ただし、交
互に配置されることに限定されるものではない。
In the package substrate 1 of this embodiment, a plurality of external electrode pads 4 are arranged around a central portion (chip mounting area) of the surface of a rectangular package base 2. A plurality of power supply pads (hereinafter, also referred to as island-like power supply pads) 5 which are physically separated from each other on each side in the periphery of the surface, and a plurality of power supply pads which are physically separated from each other on the surface. It is characterized in that a plurality of ground pads (hereinafter also referred to as island-shaped ground pads) 6 are arranged. The spacing between the power supply pads 5 may be uniform or non-uniform. In FIG. 1, in the power supply pad 5, the dimension in the circumferential direction of the package base 2 is longer than the dimension in the direction perpendicular thereto, but the relationship between the dimensions may be reversed. That is, the dimension along the extending direction of the plating wiring 7 is shorter than the dimension in the vertical direction. Thus, the plating wiring 7 arranged between the adjacent power supply pads 5 can be arranged with a margin, and
It does not impair the wire bonding properties described below. Further, the power supply pad 5 may be formed in a square shape or another shape. The same can be said for the ground pad 6. The power supply pads 5 and the ground pads 6 are alternately arranged. However, it is not limited to being alternately arranged.

【0018】また、電源用パッド5とグランド用パッド
6の製造方法は、パッケージベース2の表面に外部電極
用パッド4の本体(メッキ膜を形成する前のパッド)を
形成する製造工程(例えばアルミニウム層を堆積した
後、リソグラフィ技術と選択エッチング技術を使用して
パターン化されたパッドを形成する製造工程)と同時の
製造工程によって、パターン化した島状の電源用パッド
5と島状のグランド用パッド6を形成している。
The method for manufacturing the power supply pad 5 and the ground pad 6 is based on a manufacturing process (for example, aluminum) in which the main body of the external electrode pad 4 (the pad before forming the plating film) is formed on the surface of the package base 2. After the layers are deposited, a manufacturing step of forming a patterned pad using lithography and selective etching techniques) and a patterned island-like power supply pad 5 and an island-like ground A pad 6 is formed.

【0019】また、本実施の形態のパッケージ基板1に
おいて、外部電極用パッド4に電気的に接続されている
メッキ用配線7が、隣接する電源用パッド5とグランド
用パッド6との間の領域にも配置されていることを特徴
としている。
Further, in the package substrate 1 of the present embodiment, the plating wiring 7 electrically connected to the external electrode pad 4 is formed in a region between the adjacent power supply pad 5 and ground pad 6. It is characterized in that it is also arranged.

【0020】メッキ用配線7は、パッケージベース2の
中央部に設置されているスルーホール(接続孔)に埋め
込まれているプラグ8と外部電極用パッド4とを電気的
に接続しており、外部電極用パッド4からパッケージベ
ース2の各辺の端部にも配置されている。
The wiring 7 for plating electrically connects the plug 8 embedded in a through hole (connection hole) provided in the center of the package base 2 and the pad 4 for external electrodes. It is also arranged from the electrode pad 4 to the end of each side of the package base 2.

【0021】この場合、メッキ用配線7およびパッケー
ジベース2の中央部のプラグ8は、図1における左側だ
けに図示されており、図1における右側、上側、下側に
は図示されていない(図示を簡単化するために図示を省
略している)が、図1における右側、上側、下側にもメ
ッキ用配線7およびプラグ8が配置されている。
In this case, the plating wiring 7 and the plug 8 at the center of the package base 2 are shown only on the left side in FIG. 1 and are not shown on the right side, upper side, and lower side in FIG. Although not shown in the figure for simplicity), plating wirings 7 and plugs 8 are also arranged on the right side, upper side, and lower side in FIG.

【0022】メッキ用配線7は、外部電極用パッド4の
製造工程において、例えばアルミニウム層がパターン化
されて形成されたパッドの表面に、例えば金膜または銅
膜などからなる金属膜を電解メッキ法により形成する際
に、そのパッドに電圧を印加する際に使用される配線で
ある。
In the manufacturing process of the external electrode pad 4, for example, a metal film made of, for example, a gold film or a copper film is formed on the surface of the pad formed by patterning an aluminum layer by an electrolytic plating method. This is a wiring used when applying a voltage to the pad when forming by.

【0023】本実施の形態のパッケージ基板1におい
て、パッケージベース2の内層にグランド用配線層10
が形成されている。そして、グランド用配線層10は、
スルーホールに埋め込まれているプラグ8に電気的に接
続されている。この場合、伝熱性の向上化と内層構造の
グランド配線層10の安定化のために、パッケージベー
ス2の中央部すなわち半導体チップが搭載される領域に
もハンダボール3に電気的に接続されているグランド用
配線層10が配置されている。また、グランド用配線層
10の製造方法は、パッケージベース2を製造する工程
において、絶縁膜の下部または上部に例えば銅層などか
らなる信号用配線層を形成する製造工程と同様な製造工
程によって、パターン化したグランド用配線層を形成し
ている。
In the package substrate 1 of the present embodiment, the ground wiring layer 10
Are formed. The ground wiring layer 10 is
It is electrically connected to the plug 8 embedded in the through hole. In this case, the solder ball 3 is also electrically connected to the central portion of the package base 2, that is, the region where the semiconductor chip is mounted, in order to improve the heat transfer property and stabilize the ground wiring layer 10 having the inner layer structure. The ground wiring layer 10 is provided. The method of manufacturing the ground wiring layer 10 is similar to the manufacturing process of forming a signal wiring layer made of, for example, a copper layer below or above an insulating film in the process of manufacturing the package base 2. A patterned ground wiring layer is formed.

【0024】この場合、プラグ8の上部は、グランド用
パッド6に電気的に接続されており、プラグ8の下部
は、パッケージベース2の裏面に形成されている配線層
9を介在してハンダボール3に電気的に接続されてい
る。なお、パッケージベース2には、信号用配線層が形
成されており、絶縁膜によってグランド用配線層10と
絶縁化されているが、図2において、図示を簡単化する
ために、信号用配線層および絶縁膜を図示するのを省略
している。
In this case, the upper part of the plug 8 is electrically connected to the ground pad 6, and the lower part of the plug 8 is connected to the solder ball via the wiring layer 9 formed on the back surface of the package base 2. 3 is electrically connected. Note that a signal wiring layer is formed on the package base 2 and is insulated from the ground wiring layer 10 by an insulating film. In FIG. The illustration of the insulating film is omitted.

【0025】本実施の形態のパッケージ基板1によれ
ば、四角形のパッケージベース2の表面の中央部の周辺
に複数個の外部電極用パッド4が配置されており、外部
電極用パッド4の周辺における各辺に複数個の電源用パ
ッド5と複数個のグランド用パッド6が配置されている
パッケージ基板1であることにより、後述するように、
各種(種々の態様)の半導体チップ11であっても同一
のパッケージ基板1を適用できることにより、一種類の
パッケージ基板1に対して多品種の半導体チップ11が
搭載できるパッケージ基板1とすることができる。
According to the package substrate 1 of the present embodiment, a plurality of external electrode pads 4 are arranged around the center of the surface of the rectangular package base 2, Since the package substrate 1 has a plurality of power supply pads 5 and a plurality of ground pads 6 on each side, as described later,
Since the same package substrate 1 can be applied to various (various aspects) semiconductor chips 11, the package substrate 1 on which various kinds of semiconductor chips 11 can be mounted on one type of package substrate 1 can be obtained. .

【0026】本実施の形態のパッケージ基板1によれ
ば、外部電極用パッド4に電気的に接続されているメッ
キ用配線7が、隣接する電源用パッド5とグランド用パ
ッド6との間の領域にも配置することができることによ
り、外部電極用パッド4の製造工程において、例えばア
ルミニウム層がパターン化されて形成されたパッドの表
面に、例えば金膜または銅膜などからなる金属膜を電解
メッキ法により形成する場合に、そのパッドにメッキ用
配線7を通じて所定の電圧を印加できるので、種々の材
料からなる外部電極用パッド4を適用できると共に高性
能で高信頼度の外部電極用パッド4とすることができ
る。
According to the package substrate 1 of the present embodiment, the plating wiring 7 electrically connected to the external electrode pad 4 is formed in the area between the adjacent power supply pad 5 and ground pad 6. In the manufacturing process of the external electrode pad 4, for example, a metal film made of, for example, a gold film or a copper film is coated on the surface of the pad formed by patterning an aluminum layer by an electrolytic plating method. In this case, a predetermined voltage can be applied to the pad through the plating wiring 7, so that the external electrode pad 4 made of various materials can be applied, and the high performance and high reliability external electrode pad 4 can be obtained. be able to.

【0027】本実施の形態のパッケージ基板1によれ
ば、電源用パッド5、複数個のグランド用パッド6、メ
ッキ用配線7およびグランド用配線層10を備えている
が、それらを形成する際に、他の構成要素の製造工程と
同時の製造工程によって形成することができることによ
り、高製造歩留りをもって低減化されたコストをもって
パッケージ基板を製造することができる。
According to the package substrate 1 of the present embodiment, the power supply pad 5, the plurality of ground pads 6, the plating wiring 7, and the ground wiring layer 10 are provided. Since it can be formed by the same manufacturing process as the manufacturing process of the other components, the package substrate can be manufactured with high manufacturing yield and reduced cost.

【0028】次に、本実施の形態のパッケージ基板1を
用いた半導体装置およびその製造方法を説明する。
Next, a semiconductor device using the package substrate 1 of the present embodiment and a method for manufacturing the same will be described.

【0029】図3は、本実施の形態のパッケージ基板1
を用いた半導体装置を透視的に示す概略平面図である。
図4は、図3におけるB−B矢視断面を示す概略断面図
である。なお、図3において、図示を簡単化するため
に、パッケージベース2の表面に形成されているメッキ
用配線7の図示化を省略している。
FIG. 3 shows a package substrate 1 according to this embodiment.
FIG. 3 is a schematic plan view showing a semiconductor device using the present invention in a see-through manner.
FIG. 4 is a schematic sectional view showing a section taken along the arrow BB in FIG. In FIG. 3, illustration of the plating wiring 7 formed on the surface of the package base 2 is omitted to simplify the illustration.

【0030】図3および図4に示すように、本実施の形
態のパッケージ基板1のパッケージベース2の中央部
に、絶縁性の接着剤を介在させて例えばLSIなどの半
導体装置の半導体素子を有する半導体チップ11を搭載
し、パッケージベース2の中央部に半導体チップ11を
搭載する。
As shown in FIGS. 3 and 4, a semiconductor element of a semiconductor device such as an LSI is provided at the center of the package base 2 of the package substrate 1 of this embodiment with an insulating adhesive interposed therebetween. The semiconductor chip 11 is mounted, and the semiconductor chip 11 is mounted at the center of the package base 2.

【0031】次に、ワイヤボンディング装置を使用し
て、半導体チップ11の表面に配置されている外部電極
としてのボンディングパッド12とパッケージ基板1に
おける外部電極用パッド4とをボンディングワイヤ13
を用いて電気的に接続する。
Next, using a wire bonding apparatus, bonding pads 12 as external electrodes disposed on the surface of the semiconductor chip 11 and external electrode pads 4 on the package substrate 1 are bonded to bonding wires 13.
To make electrical connection.

【0032】その後、ワイヤボンディング装置を使用し
て、半導体チップ11の電源用ボンディングパッド12
とボンディングワイヤ13によって電気的に接続されて
いる外部電極用パッド4とパッケージ基板1における電
源用パッド5とをボンディングワイヤ13を用いて電気
的に接続する。
Thereafter, the power bonding pad 12 of the semiconductor chip 11 is
The external electrode pads 4 electrically connected to the power supply pads 5 on the package substrate 1 are electrically connected using the bonding wires 13.

【0033】また、ワイヤボンディング装置を使用し
て、半導体チップ11のグランド用ボンディングパッド
12とボンディングワイヤ13によって電気的に接続さ
れている外部電極用パッド4とパッケージ基板1におけ
るグランド用パッド6とをボンディングワイヤ13を用
いて電気的に接続する。
Further, using a wire bonding apparatus, the external electrode pad 4 electrically connected to the ground bonding pad 12 of the semiconductor chip 11 and the bonding wire 13 and the ground pad 6 of the package substrate 1 are connected. Electrical connection is made using a bonding wire 13.

【0034】また、ワイヤボンディング装置を使用し
て、半導体チップ11のボンディングパッド12とボン
ディングワイヤ13によって電気的に接続されていない
外部電極用パッド4とパッケージ基板1における電源用
パッド5またはグランド用パッド6とをボンディングワ
イヤ13を用いて電気的に接続する。なお、この製造工
程は、設計仕様に応じて適用したり、不要としたりする
ことができる。
Also, using a wire bonding apparatus, the external electrode pads 4 not electrically connected to the bonding pads 12 of the semiconductor chip 11 and the bonding wires 13 and the power supply pads 5 or the ground pads on the package substrate 1. 6 are electrically connected using bonding wires 13. In addition, this manufacturing process can be applied or unnecessary according to the design specification.

【0035】その後、樹脂封止装置を使用して、パッケ
ージ基板1におけるパッケージベース2の上に封止用樹
脂14を塗布する。
Thereafter, a sealing resin 14 is applied on the package base 2 of the package substrate 1 using a resin sealing device.

【0036】本実施の形態のパッケージ基板1を用いた
半導体装置およびその製造方法によれば、四角形のパッ
ケージベース2の表面の中央部の周辺に複数個の外部電
極用パッド4が配置されており、外部電極用パッド4の
周辺における各辺に複数個の電源用パッド5と複数個の
グランド用パッド6が配置されているパッケージ基板1
を使用して、パッケージベース2の中央部に半導体チッ
プ11を搭載した後、半導体チップ11のボンディング
パッド12とパッケージ基板1における外部電極用パッ
ド4とをボンディングワイヤ13を用いて電気的に接続
している。その後、半導体チップ11の電源用ボンディ
ングパッド12とボンディングワイヤ13によって電気
的に接続されている外部電極用パッド4とパッケージ基
板1における電源用パッド5とをボンディングワイヤ1
3を用いて電気的に接続すると共に半導体チップ11の
グランド用ボンディングパッド12とボンディングワイ
ヤ13によって電気的に接続されている外部電極用パッ
ド4とパッケージ基板1におけるグランド用パッド6と
をボンディングワイヤ13を用いて電気的に接続してい
る。
According to the semiconductor device using the package substrate 1 of this embodiment and the method of manufacturing the same, the plurality of external electrode pads 4 are arranged around the center of the surface of the rectangular package base 2. Package substrate 1 on which a plurality of power supply pads 5 and a plurality of ground pads 6 are arranged on each side around external electrode pads 4
After mounting the semiconductor chip 11 at the center of the package base 2 by using the bonding wire 13, the bonding pads 12 of the semiconductor chip 11 and the external electrode pads 4 on the package substrate 1 are electrically connected using bonding wires 13. ing. Thereafter, the external electrode pads 4 electrically connected to the power supply bonding pads 12 of the semiconductor chip 11 by the bonding wires 13 and the power supply pads 5 on the package substrate 1 are connected to the bonding wires 1.
3, the external electrode pad 4 electrically connected by the bonding wire 13 to the ground bonding pad 12 of the semiconductor chip 11 and the ground pad 6 of the package substrate 1 are connected to the bonding wire 13 Are electrically connected.

【0037】したがって、本実施の形態のパッケージ基
板1を用いた半導体装置によれば、半導体チップ11の
電源用ボンディングパッド12およびグランド用ボンデ
ィングパッド12の配置が異なっていても、同一のパッ
ケージ基板1を使用することができることにより、種々
の態様の半導体チップ11であっても同一のパッケージ
基板1を適用できる。
Therefore, according to the semiconductor device using the package substrate 1 of the present embodiment, even if the arrangement of the power supply bonding pads 12 and the ground bonding pads 12 of the semiconductor chip 11 is different, the same package substrate 1 is used. Can be used, the same package substrate 1 can be applied to the semiconductor chip 11 of various aspects.

【0038】その結果、本実施の形態のパッケージ基板
1を用いた半導体装置によれば、各種(種々の態様)の
半導体チップ11であっても同一のパッケージ基板1を
適用できることにより、一種類のパッケージ基板1に対
して多品種の半導体チップ11が搭載できるパッケージ
基板1であり、それを用いた半導体装置である。したが
って、半導体装置の低コスト化が実現できる。
As a result, according to the semiconductor device using the package substrate 1 of the present embodiment, the same package substrate 1 can be applied to the semiconductor chips 11 of various types (various modes). A package substrate 1 on which various kinds of semiconductor chips 11 can be mounted on the package substrate 1, and a semiconductor device using the same. Therefore, cost reduction of the semiconductor device can be realized.

【0039】また、本実施の形態のパッケージ基板1を
用いた半導体装置によれば、パッケージベース2の内層
にグランド用配線層10が形成されているパッケージ基
板1を用いていることにより、パッケージベース2の内
層に形成されている各々の信号用配線層の線間容量を低
減できるので、各々の信号用配線層におけるクロストー
クノイズなどのノイズを低減できる。したがって、高性
能で高信頼度の半導体装置とすることができる。
According to the semiconductor device using the package substrate 1 of the present embodiment, the package base 1 having the ground wiring layer 10 formed in the inner layer of the package base 2 is used. Since the line capacitance of each signal wiring layer formed in the inner layer 2 can be reduced, noise such as crosstalk noise in each signal wiring layer can be reduced. Therefore, a semiconductor device with high performance and high reliability can be obtained.

【0040】(実施の形態2)図5は、本発明の実施の
形態2であるパッケージ基板を示す概略断面図である。
(Embodiment 2) FIG. 5 is a schematic sectional view showing a package substrate according to Embodiment 2 of the present invention.

【0041】図5に示すように、本実施の形態のパッケ
ージ基板1において、パッケージベース2の内層に電源
用配線層15が形成されている。そして、電源用配線層
15は、スルーホールに埋め込まれているプラグ8に電
気的に接続されており、そのプラグ8の上部は、電源用
パッド5に電気的に接続されており、プラグ8の下部
は、パッケージベース2の裏面に形成されている配線層
9を介在してハンダボール3に電気的に接続されてい
る。この場合、伝熱性の向上化と内層構造の電源用配線
層15の安定化のために、パッケージベース2の中央部
にもハンダボール3に電気的に接続されている電源用配
線層15が配置されている。また、電源用配線層115
の製造方法は、パッケージベース2を製造する工程にお
いて、絶縁膜の下部または上部に例えば銅層などからな
る信号用配線層を形成する製造工程と同様な製造工程に
よって、パターン化した電源用配線層を形成している。
なお、パッケージベース2には、信号用配線層が形成さ
れており、絶縁膜によって電源用配線層15と絶縁化さ
れているが、図5において、図示を簡単化するために、
信号用配線層および絶縁膜を図示するのを省略してい
る。
As shown in FIG. 5, in the package substrate 1 of the present embodiment, a power supply wiring layer 15 is formed in an inner layer of the package base 2. The power supply wiring layer 15 is electrically connected to the plug 8 embedded in the through hole, and the upper part of the plug 8 is electrically connected to the power supply pad 5. The lower part is electrically connected to the solder balls 3 via a wiring layer 9 formed on the back surface of the package base 2. In this case, the power supply wiring layer 15 electrically connected to the solder balls 3 is also arranged at the center of the package base 2 in order to improve the heat conductivity and stabilize the power supply wiring layer 15 having the inner layer structure. Have been. In addition, the power supply wiring layer 115
Is a method for manufacturing a package base 2 in which a signal wiring layer formed of, for example, a copper layer is formed below or above an insulating film in the same manufacturing step as a power wiring layer patterned for a power supply. Is formed.
Note that a signal wiring layer is formed on the package base 2 and is insulated from the power wiring layer 15 by an insulating film. In FIG. 5, for simplicity of illustration,
Illustration of the signal wiring layer and the insulating film is omitted.

【0042】また、本実施の形態のパッケージ基板1
は、パッケージベース2の内層に電源用配線層15が形
成されていることが特徴であり、それ以外の構造は、前
述した実施の形態1のパッケージ基板1と同様である。
The package substrate 1 of the present embodiment
Is characterized in that the power supply wiring layer 15 is formed in the inner layer of the package base 2, and the other structure is the same as that of the package substrate 1 of the first embodiment.

【0043】したがって、本実施の形態のパッケージ基
板1においても、前述した実施の形態1のパッケージ基
板1と同様に、パッケージベース2の内層にグランド用
配線層10が形成されている。そして、グランド用配線
層10は、スルーホールに埋め込まれているプラグ8に
電気的に接続されており、そのプラグ8の上部は、グラ
ンド用パッド6に電気的に接続されており、プラグ8の
下部は、パッケージベース2の裏面に形成されている配
線層9を介在してハンダボール3に電気的に接続されて
いる。なお、パッケージベース2には、信号用配線層が
形成されており、絶縁膜によってグランド用配線層10
と絶縁されている。
Therefore, also in the package substrate 1 of the present embodiment, the ground wiring layer 10 is formed in the inner layer of the package base 2 similarly to the package substrate 1 of the above-described first embodiment. The ground wiring layer 10 is electrically connected to the plug 8 embedded in the through hole, and the upper portion of the plug 8 is electrically connected to the ground pad 6. The lower part is electrically connected to the solder balls 3 via a wiring layer 9 formed on the back surface of the package base 2. Note that a signal wiring layer is formed on the package base 2, and the ground wiring layer 10 is formed by an insulating film.
And insulated.

【0044】また、図6に示すように、本実施の形態の
パッケージ基板1を用いた半導体装置およびその製造方
法は、前述した実施の形態1のパッケージ基板1を用い
た半導体装置およびその製造方法と同様であることによ
り、説明を省略する。
As shown in FIG. 6, the semiconductor device using the package substrate 1 of the present embodiment and the method of manufacturing the same are the same as the semiconductor device using the package substrate 1 of the first embodiment and the method of manufacturing the same. Therefore, the description is omitted.

【0045】また、本実施の形態のパッケージ基板1を
用いた半導体装置によれば、パッケージベース2の内層
にグランド用配線層10および電源用配線層15が形成
されているパッケージ基板1を用いていることにより、
パッケージベース2の内層に形成されている各々の信号
用配線層の線間容量を低減できるので、各々の信号用配
線層におけるクロストークノイズなどのノイズを低減で
きる。したがって、高性能で高信頼度の半導体装置とす
ることができる。
Further, according to the semiconductor device using the package substrate 1 of the present embodiment, the package substrate 1 in which the ground wiring layer 10 and the power supply wiring layer 15 are formed in the inner layer of the package base 2 is used. By having
Since the line capacitance of each signal wiring layer formed in the inner layer of the package base 2 can be reduced, noise such as crosstalk noise in each signal wiring layer can be reduced. Therefore, a semiconductor device with high performance and high reliability can be obtained.

【0046】(実施の形態3)図7は、本発明の実施の
形態3であるパッケージ基板を用いた半導体装置を透視
的に示す概略平面図である。図8は、図7におけるC−
C矢視断面を示す概略断面図である。なお、図7におい
て、図示を簡単化するために、パッケージベース2の表
面に形成されているメッキ用配線7の図示化を省略して
いる。
(Embodiment 3) FIG. 7 is a schematic plan view perspectively showing a semiconductor device using a package substrate according to Embodiment 3 of the present invention. FIG. 8 shows C-
It is a schematic sectional drawing which shows the C arrow cross section. In FIG. 7, illustration of the plating wiring 7 formed on the surface of the package base 2 is omitted to simplify the illustration.

【0047】図7および図8に示すように、本実施の形
態3の半導体装置は、外部電極としてのバンプ(例えば
ハンダ、銅などを材料としているバンプ)17を備えて
いる半導体チップ16が使用されているものであり、半
導体チップ16における外部電極としてのバンプ17を
パッケージ基板1の外部電極用パッド6に電気的に接続
しているものである。
As shown in FIGS. 7 and 8, the semiconductor device according to the third embodiment uses a semiconductor chip 16 having a bump (eg, a bump made of solder, copper, or the like) 17 as an external electrode. The bump 17 as an external electrode of the semiconductor chip 16 is electrically connected to the external electrode pad 6 of the package substrate 1.

【0048】次に、本実施の形態のパッケージ基板1を
用いた半導体装置およびその製造方法を説明する。
Next, a semiconductor device using the package substrate 1 of the present embodiment and a method of manufacturing the same will be described.

【0049】前述した実施の形態1のパッケージ基板1
を使用して、前述した実施の形態1のパッケージ基板1
のパッケージベース2の中央部に、例えばLSIなどの
半導体装置の半導体素子を有する半導体チップ16を搭
載し、熱処理を行って、バンプ17の一部を液体化し
て、バンプ17を外部電極用パッド6に接着化して、パ
ッケージベース2の中央部に半導体チップ16を搭載す
る。
The package substrate 1 according to the first embodiment described above.
By using the package substrate 1 of the first embodiment described above.
A semiconductor chip 16 having a semiconductor element of a semiconductor device such as an LSI is mounted on a central portion of the package base 2, and a heat treatment is performed to partially liquefy the bump 17. Then, the semiconductor chip 16 is mounted on the central portion of the package base 2.

【0050】次に、ワイヤボンディング装置を使用し
て、半導体チップ16の電源用バンプ17と電気的に接
続されている外部電極用パッド4とパッケージ基板1に
おける電源用パッド5とをボンディングワイヤ13を用
いて電気的に接続する。
Next, the bonding wire 13 is connected to the external electrode pad 4 electrically connected to the power supply bump 17 of the semiconductor chip 16 and the power supply pad 5 on the package substrate 1 by using a wire bonding apparatus. To make electrical connection.

【0051】また、ワイヤボンディング装置を使用し
て、半導体チップ16のグランド用バンプ17と電気的
に接続されている外部電極用パッド4とパッケージ基板
1におけるグランド用パッド6とをボンディングワイヤ
13を用いて電気的に接続する。
Using a wire bonding apparatus, the external electrode pads 4 electrically connected to the ground bumps 17 of the semiconductor chip 16 and the ground pads 6 on the package substrate 1 are bonded using the bonding wires 13. Electrical connection.

【0052】また、ワイヤボンディング装置を使用し
て、半導体チップ16のバンプ17と電気的に接続され
ていない外部電極用パッド4とパッケージ基板1におけ
る電源用パッド5またはグランド用パッド6とをボンデ
ィングワイヤ13を用いて電気的に接続する。なお、こ
の製造工程は、設計仕様に応じて適用したり、不要とし
たりすることができる。
Using a wire bonding apparatus, the external electrode pads 4 not electrically connected to the bumps 17 of the semiconductor chip 16 and the power supply pads 5 or the ground pads 6 on the package substrate 1 are bonded with wire bonding wires. 13 for electrical connection. In addition, this manufacturing process can be applied or unnecessary according to the design specification.

【0053】この場合、本実施の形態の他の態様とし
て、ワイヤボンディングをパッケージベース2の中央部
に半導体チップ16をセットする前に行う方法を設計仕
様に応じて適用することができる。
In this case, as another aspect of the present embodiment, a method of performing wire bonding before setting the semiconductor chip 16 at the center of the package base 2 can be applied according to design specifications.

【0054】その後、樹脂封止装置を使用して、パッケ
ージ基板1におけるパッケージベース2の上に封止用樹
脂14を塗布する。
Thereafter, a sealing resin 14 is applied onto the package base 2 of the package substrate 1 using a resin sealing device.

【0055】本実施の形態の半導体装置によれば、前述
した実施の形態1のパッケージ基板1を使用して、前述
した実施の形態1のパッケージ基板1のパッケージベー
ス2の中央部に、外部電極としてのバンプ(例えばハン
ダ、銅などを材料としているバンプ)17を備えている
半導体チップ16を搭載した半導体装置とすることがで
きる。
According to the semiconductor device of the present embodiment, using the package substrate 1 of the above-described first embodiment, an external electrode is provided at the center of the package base 2 of the above-described package substrate 1 of the first embodiment. (For example, a bump made of solder, copper, or the like) 17 as a semiconductor device mounted with a semiconductor chip 16.

【0056】したがって、本実施の形態の半導体装置に
よれば、半導体チップ11の電源用バンプ17およびグ
ランド用バンプ17の配置が異なっていても、同一のパ
ッケージ基板1を使用することができることにより、種
々の態様の半導体チップ16であっても同一のパッケー
ジ基板1を適用できる。
Therefore, according to the semiconductor device of the present embodiment, the same package substrate 1 can be used even if the arrangement of the power supply bump 17 and the ground bump 17 of the semiconductor chip 11 is different. The same package substrate 1 can be applied to various types of semiconductor chips 16.

【0057】その結果、本実施の形態の半導体装置によ
れば、各種(種々の態様)の半導体チップ16であって
も同一のパッケージ基板1を適用できることにより、一
種類のパッケージ基板1に対して多品種の半導体チップ
16が搭載できるパッケージ基板1であり、それを用い
た半導体装置である。したがって、半導体装置の低コス
ト化が実現できる。
As a result, according to the semiconductor device of the present embodiment, the same package substrate 1 can be applied to various (various aspects) semiconductor chips 16. It is a package substrate 1 on which various types of semiconductor chips 16 can be mounted, and is a semiconductor device using the same. Therefore, cost reduction of the semiconductor device can be realized.

【0058】以上、本発明者によってなされた発明を発
明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を
逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでも
ない。
As described above, the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiments of the invention. However, the invention is not limited to the above embodiments, and various modifications may be made without departing from the gist of the invention. Needless to say, it can be changed.

【0059】例えば、本発明の半導体装置は、半導体チ
ップとして、LSIチップ以外の種々の半導体集積回路
装置チップを適用でき、そのチップに形成されている半
導体素子として、MOSFET、CMOSFETまたは
バイポーラトランジスタあるいはそれらを組み合わせた
半導体素子とすることができ、MOS型、CMOS型、
BiMOS型またはBiCMOS型の半導体集積回路装
置に適用できる。
For example, in the semiconductor device of the present invention, various semiconductor integrated circuit device chips other than the LSI chip can be applied as the semiconductor chip, and as the semiconductor element formed on the chip, a MOSFET, a CMOSFET, a bipolar transistor, or a , A MOS element, a CMOS type,
The present invention can be applied to a BiMOS type or BiCMOS type semiconductor integrated circuit device.

【0060】また、本発明の半導体装置は、MOSFE
T、CMOSFET、BiCMOSFETなどを構成要
素とするDRAM(Dynamic Random Access Memory)、
SRAM(Static Random Access Memory )などのメモ
リ系、あるいはロジック系などを有する種々の半導体集
積回路装置に適用できる。
Further, the semiconductor device of the present invention has a MOSFE
DRAM (Dynamic Random Access Memory) having T, CMOSFET, BiCMOSFET, etc. as constituent elements,
The present invention can be applied to various semiconductor integrated circuit devices having a memory system such as an SRAM (Static Random Access Memory) or a logic system.

【0061】[0061]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
Advantageous effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described.
It is as follows.

【0062】(1).本発明のパッケージ基板によれ
ば、四角形のパッケージベースの表面の中央部の周辺に
複数個の外部電極用パッドが配置されており、外部電極
用パッドの周辺における各辺にその表面において物理的
に離れて配置された複数個の電源用パッド(島状の電極
用パッド)と、その表面において物理的に離れて配置さ
れた複数個のグランド用パッド(島状のグランド用パッ
ド)とが配置されているパッケージ基板であることによ
り、各種(種々の態様)の半導体チップであっても同一
のパッケージ基板を適用できることにより、一種類のパ
ッケージ基板に対して多品種の半導体チップが搭載でき
るパッケージ基板とすることができる。
(1). According to the package substrate of the present invention, a plurality of external electrode pads are arranged around the center of the surface of the rectangular package base, and each side around the external electrode pads is physically located on the surface. A plurality of power supply pads (island-shaped electrode pads) spaced apart and a plurality of ground pads (island-shaped ground pads) physically spaced apart on the surface are arranged. Package substrate, the same package substrate can be applied to various (various aspects) semiconductor chips, and a package substrate on which a variety of semiconductor chips can be mounted on one type of package substrate. can do.

【0063】(2).本発明のパッケージ基板によれ
ば、外部電極用パッドに電気的に接続されているメッキ
用配線が、隣接する電源用パッドとグランド用パッドと
の間の領域にも配置することができることにより、外部
電極用パッドの製造工程において、例えばアルミニウム
層がパターン化されて形成されたパッドの表面に、例え
ば金膜または銅膜などからなる金属膜をメッキ法により
形成する場合に、そのパッドにメッキ用配線を通じて所
定の電圧を印加することができるので、種々の材料から
なる外部電極用パッドを適用できると共に高性能で高信
頼度の外部電極用パッドとすることができる。
(2). According to the package substrate of the present invention, the plating wiring electrically connected to the external electrode pad can be arranged also in the region between the adjacent power supply pad and ground pad, so that the external In the manufacturing process of the electrode pad, for example, when a metal film made of, for example, a gold film or a copper film is formed by a plating method on the surface of the pad formed by patterning an aluminum layer, a wiring for plating , A predetermined voltage can be applied to the external electrode pad made of various materials, and a high-performance and highly reliable external electrode pad can be obtained.

【0064】(3).本発明のパッケージ基板によれ
ば、電源用パッド、複数個のグランド用パッド、メッキ
用配線およびグランド用配線層を備えているが、それら
を形成する際に、他の構成要素の製造工程と同時の製造
工程によって形成することができることにより、高い製
造歩留りを維持しつつ低い製造コストでパッケージ基板
を製造することができる。したがって、これを用いて製
造される半導体装置のコストを低減できる。
(3). According to the package substrate of the present invention, the power supply pad, the plurality of ground pads, the plating wiring, and the ground wiring layer are provided. In this manner, the package substrate can be manufactured at a low manufacturing cost while maintaining a high manufacturing yield. Therefore, the cost of a semiconductor device manufactured using the same can be reduced.

【0065】(4).本発明の半導体装置によれば、外
部電極としてのボンディングパッドを有する半導体チッ
プまたは外部電極としてのバンプを有する半導体チップ
などの各種(種々の態様)の半導体チップであっても同
一のパッケージ基板を適用できることにより、一種類の
パッケージ基板に対して多品種の半導体チップが搭載で
きるパッケージ基板であり、それを用いた半導体装置で
ある。したがって、半導体装置の低コスト化ができる。
(4). According to the semiconductor device of the present invention, the same package substrate is applied to various (various aspects) semiconductor chips such as a semiconductor chip having bonding pads as external electrodes or a semiconductor chip having bumps as external electrodes. This is a package substrate on which various kinds of semiconductor chips can be mounted on one type of package substrate, and a semiconductor device using the same. Therefore, the cost of the semiconductor device can be reduced.

【0066】(5).本発明の半導体装置によれば、パ
ッケージベースの内層にグランド用配線層またはグラン
ド用配線層および電源用配線層が形成されているパッケ
ージ基板を用いていることにより、パッケージベースの
内層に形成されている各々の信号用配線層の線間容量を
低減できるので、各々の信号用配線層におけるクロスト
ークノイズなどのノイズを低減できる。したがって、高
性能で高信頼度の半導体装置とすることができる。
(5). According to the semiconductor device of the present invention, since the ground wiring layer or the package substrate in which the ground wiring layer and the power supply wiring layer are formed in the inner layer of the package base, the semiconductor device is formed in the inner layer of the package base. Since the line capacitance of each signal wiring layer can be reduced, noise such as crosstalk noise in each signal wiring layer can be reduced. Therefore, a semiconductor device with high performance and high reliability can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態1であるパッケージ基板を
透視的に示す概略平面図である。
FIG. 1 is a schematic plan view perspectively showing a package substrate according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1におけるA−A矢視断面を示す概略断面図
である。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing a section taken along the line AA in FIG. 1;

【図3】本発明の実施の形態1であるパッケージ基板を
用いた半導体装置を透視的に示す概略平面図である。
FIG. 3 is a schematic plan view perspectively showing a semiconductor device using the package substrate according to the first embodiment of the present invention;

【図4】図3におけるB−B矢視断面を示す概略断面図
である。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a cross section taken along line BB in FIG.

【図5】本発明の実施の形態2であるパッケージ基板を
示す概略断面図である。
FIG. 5 is a schematic sectional view showing a package substrate according to a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施の形態2であるパッケージ基板を
用いた半導体装置を示す概略断面図である。
FIG. 6 is a schematic sectional view showing a semiconductor device using the package substrate according to the second embodiment of the present invention.

【図7】本発明の実施の形態3であるパッケージ基板を
用いた半導体装置を透視的に示す概略平面図である。
FIG. 7 is a schematic plan view perspectively showing a semiconductor device using a package substrate according to a third embodiment of the present invention;

【図8】図7におけるC−C矢視断面を示す概略断面図
である。
FIG. 8 is a schematic cross-sectional view showing a cross section taken along the line CC in FIG. 7;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 パッケージ基板 2 パッケージベース 3 ハンダボール 4 外部電極用パッド 5 電源用パッド 6 グランド用パッド 7 メッキ用配線 8 プラグ 9 配線層 10 グランド用配線層 11 半導体チップ 12 ボンディングパッド 13 ボンディングワイヤ 14 封止用樹脂 15 電源用配線層 16 半導体チップ 17 バンプ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Package board 2 Package base 3 Solder ball 4 Pad for external electrodes 5 Power supply pad 6 Ground pad 7 Plating wiring 8 Plug 9 Wiring layer 10 Ground wiring layer 11 Semiconductor chip 12 Bonding pad 13 Bonding wire 14 Sealing resin 15 Wiring layer for power supply 16 Semiconductor chip 17 Bump

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 四角形のパッケージベースの表面のチッ
プ搭載領域の周辺に複数個の外部電極用パッドが配置さ
れており、前記外部電極用パッドの周辺における各辺
に、前記表面では物理的に離れて配置された複数個の電
源用パッドと、前記表面では物理的に離れて配置された
複数個のグランド用パッドとが配置されていることを特
徴とするパッケージ基板。
1. A plurality of external electrode pads are arranged around a chip mounting area on a surface of a rectangular package base, and are physically separated on each side around the external electrode pads on the surface. A plurality of power supply pads arranged at a predetermined distance and a plurality of ground pads physically separated from each other on the surface.
【請求項2】 請求項1記載のパッケージ基板であっ
て、前記外部電極用パッドに電気的に接続されているメ
ッキ用配線が、隣接する前記電源用パッドと前記グラン
ド用パッドとの間の領域にも配置されており、前記メッ
キ用配線が、前記パッケージベースの各辺の端部にも配
置されていることを特徴とするパッケージ基板。
2. The package substrate according to claim 1, wherein the plating wiring electrically connected to the external electrode pad is a region between the adjacent power supply pad and the ground pad. Wherein the plating wiring is also disposed at an end of each side of the package base.
【請求項3】 請求項1または2記載のパッケージ基板
であって、前記パッケージベースの内層にグランド用配
線層が形成されていることを特徴とするパッケージ基
板。
3. The package substrate according to claim 1, wherein a ground wiring layer is formed on an inner layer of the package base.
【請求項4】 請求項1または2記載のパッケージ基板
であって、前記パッケージベースの内層にグランド用配
線層および電源用配線層が形成されていることを特徴と
するパッケージ基板。
4. The package substrate according to claim 1, wherein a ground wiring layer and a power wiring layer are formed in an inner layer of the package base.
【請求項5】 請求項3または4記載のパッケージ基板
であって、前記パッケージベースの内層にグランド配線
層またはグランド用配線層および電源用配線層が形成さ
れており、前記グランド配線層が前記パッケージベース
の内層に形成されているスルーホールに埋め込まれてい
るプラグに電気的に接続されており、前記電源用配線層
が前記パッケージベースの内層に形成されているスルー
ホールに埋め込まれているプラグに電気的に接続されて
いることを特徴とするパッケージ基板。
5. The package substrate according to claim 3, wherein a ground wiring layer, a ground wiring layer, and a power supply wiring layer are formed in an inner layer of the package base, and the ground wiring layer is formed of the package. The power supply wiring layer is electrically connected to a plug embedded in a through hole formed in an inner layer of the base, and the power supply wiring layer is electrically connected to a plug embedded in a through hole formed in an inner layer of the package base. A package substrate, which is electrically connected.
【請求項6】 請求項1〜5のいずれか1項に記載のパ
ッケージ基板を用いて、そのパッケージベースの表面
に、半導体チップが搭載されていることを特徴とする半
導体装置。
6. A semiconductor device using the package substrate according to claim 1, wherein a semiconductor chip is mounted on a surface of the package base.
【請求項7】 請求項6記載の半導体装置であって、前
記半導体チップの表面に配置されている外部電極として
のボンディングパッドと前記パッケージ基板における外
部電極用パッドとがボンディングワイヤによって電気的
に接続されていることを特徴とする半導体装置。
7. The semiconductor device according to claim 6, wherein a bonding pad as an external electrode disposed on a surface of the semiconductor chip and an external electrode pad on the package substrate are electrically connected by a bonding wire. A semiconductor device characterized by being performed.
【請求項8】 請求項6記載の半導体装置であって、前
記半導体チップの裏面に配置されている外部電極として
のバンプと前記パッケージ基板における外部電極用パッ
ドとが電気的に接続されていることを特徴とする半導体
装置。
8. The semiconductor device according to claim 6, wherein a bump as an external electrode disposed on a back surface of the semiconductor chip is electrically connected to an external electrode pad on the package substrate. A semiconductor device characterized by the above-mentioned.
【請求項9】 請求項6〜8のいずれか1項に記載の半
導体装置であって、前記半導体チップのグランド用外部
電極と電気的に接続されている前記パッケージ基板にお
ける外部電極用パッドが、前記パッケージ基板における
グランド用パッドとボンディングワイヤを用いて電気的
に接続されており、前記半導体チップの電源用外部電極
と電気的に接続されている前記パッケージ基板における
外部電極用パッドが、前記パッケージ基板における電源
用パッドとボンディングワイヤを用いて電気的に接続さ
れていることを特徴とする半導体装置。
9. The semiconductor device according to claim 6, wherein an external electrode pad on the package substrate electrically connected to a ground external electrode of the semiconductor chip, An external electrode pad on the package substrate electrically connected to a ground pad on the package substrate using a bonding wire and electrically connected to a power supply external electrode of the semiconductor chip is provided on the package substrate. A semiconductor device, wherein the semiconductor device is electrically connected to a power supply pad of the first embodiment by using a bonding wire.
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