JPH11335419A - Ethylene-based copolymer and its production - Google Patents

Ethylene-based copolymer and its production

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JPH11335419A
JPH11335419A JP14468898A JP14468898A JPH11335419A JP H11335419 A JPH11335419 A JP H11335419A JP 14468898 A JP14468898 A JP 14468898A JP 14468898 A JP14468898 A JP 14468898A JP H11335419 A JPH11335419 A JP H11335419A
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JP
Japan
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group
ethylene
substituted
carbon atoms
groups
Prior art date
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Application number
JP14468898A
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Japanese (ja)
Inventor
Akiji Naganuma
章治 長沼
Hideo Tejima
英雄 手嶋
Masanori Sera
正憲 世良
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Idemitsu Petrochemical Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Petrochemical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Idemitsu Petrochemical Co Ltd filed Critical Idemitsu Petrochemical Co Ltd
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  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an ethylene-based copolymer useful as a macromonomer for producing syndiotactic polystyrene graft copolymers excellent in heat resistance, chemical resistance and improved in tenacity, elongation and rigidity, etc., and a material for obtaining a compatibilizer in compositions of various polystyrenes and rubber components. SOLUTION: This ethylene-based copolymer is a copolymer comprising ethylene (A), a 3-20C α-olefin (B), a diene-based monomer having a styrene-based vinyl group or a diene-based monomer having a conjugated ene (C) and, if needed, an aromatic vinyl monomer (D) and a molar ratio of A/B is 20/80-97/3, C is 0.001-20 mole % and D is 0.01-30 mole %, and has vinyl groups derived from the diene-based monomer in a molecular chain having 0.1-80% rate of partial crosslinks K expressed by the following equation: K=(1-U/V)×100% (U is the amount of unreacted vinyl group units in the diene-based monomer in the polymer and V is the amount of the repeating unit derived from the diene-based monomer in the polymer).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、エチレン系共重合
体及びその製造方法に関し、詳しくは、エチレン系共重
合体の分子鎖中にビニル基を有する新規なエチレン系共
重合体及びその効率的な製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an ethylene copolymer and a method for producing the same, and more particularly, to a novel ethylene copolymer having a vinyl group in a molecular chain of the ethylene copolymer and an efficient ethylene copolymer. Manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】シンジオタクティシティの高いスチレン
系重合体が開発されている(特開昭62−104818
号公報、同63−241009号公報)が、この重合体
は、耐熱性,耐薬品性等に優れるものの、靱性や伸びが
十分ではない上、他の樹脂との相溶性に乏しく、用途が
限定されるのを免れ得なかった。
2. Description of the Related Art A styrenic polymer having a high syndiotacticity has been developed (JP-A-62-104818).
This polymer is excellent in heat resistance, chemical resistance, etc., but has insufficient toughness and elongation, poor compatibility with other resins, and limited applications. I couldn't escape being done.

【0003】かかる欠点を解消するために、スチレンと
オレフィン類とを共重合させることにより、上記シンジ
オタクチック構造を有するスチレン系重合体に靱性を付
与することが提案されている(特開平3−7705号公
報、同4−130114号公報、同4−300904号
公報)。しかしながら、これらにおいても靱性や伸び、
さらに他の樹脂との相溶性の改良は必ずしも十分なもの
とはいえず、また、耐熱性の低下が生じることもあり、
良好な耐熱性を保持しつつ靱性等をより改良しうる技術
が望まれていた。
[0003] In order to solve such a drawback, it has been proposed to impart toughness to the styrenic polymer having the above syndiotactic structure by copolymerizing styrene and olefins (Japanese Patent Laid-Open No. Hei 3 (1991) -1991). 7705, 4-130114, 4-300904). However, also in these, toughness and elongation,
Furthermore, improvement in compatibility with other resins is not always sufficient, and heat resistance may decrease,
There has been a demand for a technique capable of further improving toughness and the like while maintaining good heat resistance.

【0004】このため、チーグラーナッタ系触媒又は担
持型の触媒系を用いてエチレン/α−オレフィン/ジエ
ン系共重合体を製造し、該重合体の反応性ビニル基にシ
ンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体をグラ
フトする靱性向上の手法が提案されている(特開平5−
247147号公報)。この手法では、シンジオタクチ
ックポリスチレン系重合体の靱性は向上するものの、伸
び、剛性および低温衝撃性が充分でなく、改良が望まれ
ていた。
[0004] Therefore, an ethylene / α-olefin / diene copolymer is produced using a Ziegler-Natta catalyst or a supported catalyst system, and a styrene having a syndiotactic structure in the reactive vinyl group of the polymer. There has been proposed a method for improving toughness by grafting a polymer (Japanese Patent Laid-Open No. Hei.
247147). According to this method, although the toughness of the syndiotactic polystyrene-based polymer is improved, elongation, rigidity and low-temperature impact resistance are not sufficient, and improvement has been desired.

【0005】また、これらの触媒系では、エチレンとα
−オレフィンの共重合性が低く低活性であるため、共重
合体の組成や架橋構造の制御等が容易ではなく効率的な
製造方法が望まれていた。
In these catalyst systems, ethylene and α
-Since the copolymerizability of the olefin is low and the activity is low, it is not easy to control the composition of the copolymer and the crosslinked structure, and an efficient production method has been desired.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる状況
下で、伸び、剛性および低温耐衝撃性が優れかつ他樹脂
との相溶性に優れた樹脂を得るためのマクロモノマーと
して極めて有用なエチレン系共重合体及びその効率的な
製造方法を提供することを目的とする。さらには、耐熱
性、耐薬品性に優れるとともに、靱性、伸びおよび剛性
が優れたシンジオタクチックポリスチレングラフト共重
合体を得るためのマクロモノマーとしての用途や、シン
ジオタクチックポリスチレンとゴム成分との組成物や一
般的なポリスチレンとゴム成分との組成物における相溶
化剤を得るための素材として極めて有用なエチレン系共
重合体及びその効率的な製造方法を提供することを目的
とする。
SUMMARY OF THE INVENTION Under such circumstances, the present invention provides an ethylene which is extremely useful as a macromonomer for obtaining a resin having excellent elongation, rigidity and low-temperature impact resistance and excellent compatibility with other resins. An object of the present invention is to provide a system copolymer and an efficient production method thereof. Furthermore, it is used as a macromonomer to obtain a syndiotactic polystyrene graft copolymer having excellent heat resistance, chemical resistance, and toughness, elongation and rigidity, and a composition of syndiotactic polystyrene and a rubber component. It is an object of the present invention to provide an ethylene copolymer which is extremely useful as a material for obtaining a compatibilizer in a product or a general composition of a polystyrene and a rubber component, and an efficient production method thereof.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、エチレン系共
重合体の分子鎖中に架橋したスチレン系ビニル基と未架
橋のスチレン系ビニル基の両方をある割合で導入し、未
架橋のスチレン系ビニル基にスチレンをグラフト重合す
ることにより得たポリスチレングラフト共重合体が伸
び、剛性および低温衝撃性に優れていること、また、該
ポリスチレングラフト共重合体が他樹脂との相溶性に優
れていることを見出し、この知見に基づいて本発明を完
成したものである。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies to achieve the above object, and as a result, have found that a styrene vinyl group crosslinked in the molecular chain of an ethylene copolymer and an uncrosslinked styrene group. Both of the vinyl groups are introduced at a certain ratio, and the polystyrene graft copolymer obtained by graft-polymerizing styrene to an uncrosslinked styrene vinyl group is elongated, and has excellent rigidity and low-temperature impact resistance, The present inventors have found that the polystyrene graft copolymer has excellent compatibility with other resins, and have completed the present invention based on this finding.

【0008】即ち、本発明は、以下を提供するものであ
る。 (1)エチレン(A)、少なくとも1種の炭素数3〜3
0のα−オレフィン(B)及び少なくとも1種のスチレ
ン系ビニル基を有するジエン系モノマーまたは少なくと
も1種の共役エンを有するジエン系モノマー(C)の共
重合体であって、エチレン(A)/α−オレフィン
(B)のモル比が20/80〜97/3であり、成分
(A)KARAジエン系モノマー(C)に由来する繰返
し単位が0.001〜20モル%であり、これらの成分の
合計量が100モル%であり、かつ下記の(1)式で表
されるジエン系モノマーに由来する部分架橋の割合Kが
0.1〜80%である分子鎖中にジエン系モノマーに由来
するビニル基を有するエチレン系共重合体。
That is, the present invention provides the following. (1) Ethylene (A), at least one of 3 to 3 carbon atoms
0-olefin (B) and a diene monomer having at least one styrene vinyl group or a diene monomer (C) having at least one conjugated ene, wherein ethylene (A) / The molar ratio of the α-olefin (B) is 20/80 to 97/3, and the repeating unit derived from the component (A), the KARA diene-based monomer (C), is 0.001 to 20 mol%. Is 100 mol%, and the ratio K of the partial crosslink derived from the diene monomer represented by the following formula (1) is 0.1 to 80%. An ethylene copolymer having a vinyl group.

【0009】[0009]

【数2】 (Equation 2)

【0010】(2)エチレン(A)、少なくとも1種の
炭素数3〜30のα−オレフィン(B)、少なくとも1
種のスチレン系ビニル基を有するジエン系モノマーまた
は少なくとも1種の共役エンを有するジエン系モノマー
(C)及び少なくとも1種の芳香族ビニルモノマー
(D)の共重合体であって、エチレン(A)/α−オレ
フィン(B)のモル比が20/80〜97/3であり、
ジエン系モノマー(C)に由来する繰返し単位が0.00
1〜20モル%、芳香族ビニルモノマー(D)に由来す
る繰返し単位が0.01 〜30モル%であり、これらの成
分の合計量が100モル%であり、かつ上記(1)式で
表されるジエン系モノマーに由来する部分架橋の割合K
が0.1〜80%である分子鎖中にジエン系モノマーに由
来するビニル基を有するエチレン系共重合体。 (3)炭素数3〜30のα−オレフィン(B)が、プロ
ピレンである(1)又は(2)に記載のエチレン系共重
合体。 (4)ジエン系モノマーに由来するビニル基が、スチレ
ン系ビニル基である(1)〜(3)のいずれかに記載の
エチレン系共重合体。 (5)(a)遷移金属化合物,(b)(イ)一般式
(2)
(2) Ethylene (A), at least one α-olefin having 3 to 30 carbon atoms (B), at least 1
A copolymer of a diene monomer having at least one styrene-based vinyl group or a diene monomer having at least one conjugated ene (C) and at least one aromatic vinyl monomer (D), wherein ethylene (A) / Α-olefin (B) molar ratio of 20/80 to 97/3,
When the repeating unit derived from the diene monomer (C) is 0.0
1 to 20 mol%, the repeating unit derived from the aromatic vinyl monomer (D) is 0.01 to 30 mol%, and the total amount of these components is 100 mol%. Of partial crosslinks derived from diene-based monomers
Is an ethylene-based copolymer having a vinyl group derived from a diene-based monomer in a molecular chain of 0.1 to 80%. (3) The ethylene copolymer according to (1) or (2), wherein the α-olefin having 3 to 30 carbon atoms (B) is propylene. (4) The ethylene copolymer according to any one of (1) to (3), wherein the vinyl group derived from the diene monomer is a styrene vinyl group. (5) (a) transition metal compound, (b) (a) general formula (2)

【0011】[0011]

【化6】 Embedded image

【0012】(式中、R1 〜R5 はそれぞれ炭素数1〜
8のアルキル基を示し、それらはたがいに同一でも異な
っていてもよく、Y1 〜Y3 はそれぞれ周期律表13族
元素を示し、それらはたがいに同一でも異なっていても
よく、a及びbはそれぞれ0〜50の数を示すが、a+
bは1以上である。)及び/又は一般式(3)
(Wherein R 1 to R 5 each have 1 to 1 carbon atoms)
8 represents an alkyl group, which may be the same or different; Y 1 to Y 3 each represent a Group 13 element of the periodic table; they may be the same or different; Represents a number from 0 to 50, respectively, and a +
b is 1 or more. ) And / or general formula (3)

【0013】[0013]

【化7】 Embedded image

【0014】(式中、R6 及びR7 はそれぞれ炭素数1
〜8のアルキル基を示し、それらはたがいに同一でも異
なっていてもよく、Y4 及びY5 はそれぞれ周期律表1
3族元素を示し、それらはたがいに同一でも異なってい
てもよく、c及びdはそれぞれ0〜50の数を示すが、
c+dは1以上である。)で表される酸素含有化合物、
及び/又は(ロ)該(a)成分の遷移金属化合物と反応
してイオン性の錯体を形成しうる化合物を用いて形成さ
れる触媒を用いて、各モノマーを共重合させることを特
徴とする(1)〜(4)のいずれかに記載のエチレン系
共重合体の製造方法。 (6)(a)遷移金属化合物が、下記一般式(4)で表
されるものであることを特徴とする(5)に記載のエチ
レン系共重合体の製造方法。
Wherein R 6 and R 7 each have 1 carbon atom
To 8 alkyl groups, which may be the same or different, and Y 4 and Y 5 each represent
Represents a group 3 element, which may be the same or different, c and d each represent a number of 0 to 50,
c + d is 1 or more. An oxygen-containing compound represented by
And / or (ii) each monomer is copolymerized using a catalyst formed using a compound capable of forming an ionic complex by reacting with the transition metal compound of the component (a). The method for producing an ethylene-based copolymer according to any one of (1) to (4). (6) The method for producing an ethylene copolymer according to (5), wherein (a) the transition metal compound is represented by the following general formula (4).

【0015】[0015]

【化8】 Embedded image

【0016】〔式中、M1 は周期律表3〜10族又はラ
ンタノイド系列の金属元素を示し、E 1 及びE2 はそれ
ぞれ置換シクロペンタジエニル基,インデニル基,置換
インデニル基,フルオレニル基,置換フルオレニル基,
ヘキサヒドロアズレニル基,置換ヘキサヒドロアズレニ
ル基,テトラヒドロインデニル基,置換テトラヒドロイ
ンデニル基,テトラヒドロフルオレニル基,置換テトラ
ヒドロフルオレニル基,オクタヒドロフルオレニル基,
置換オクタヒドロフルオレニル基,ヘテロシクロペンタ
ジエニル基,置換ヘテロシクロペンタジエニル基,アミ
ド基,ホスフィド基,炭化水素基及び珪素含有基の中か
ら選ばれた配位子であって、A1 及びA2を介して架橋
構造を形成しており、またそれらはたがいに同一でも異
なっていてもよく、X1 はσ結合性の配位子を示し、X
1 が複数ある場合、複数のX1 は同じでも異なっていて
もよく、他のX1 ,E1 ,E2 又はY6 と架橋していて
もよい。Y6 はルイス塩基を示し、Y6 が複数ある場
合、複数のY6 は同じでも異なっていてもよく、他のY
6 ,E1 ,E2 又はX1 と架橋していてもよく、A1
びA2 はそれぞれ炭素数1以上の炭化水素基からなる架
橋基を示し、それらはたがいに同一でも異なっていても
よい。qは1〜5の整数で〔(M1 の原子価)−2〕を
示し、rは0〜3の整数を示す。〕で表される遷移金属
化合物。 (7)(a)遷移金属化合物が、下記一般式(5)で表
されるものであることを特徴とする(5)に記載のエチ
レン系共重合体の製造方法。
[Wherein M1Is group 3 to 10 of the periodic table or la
E represents a tanthanoid metal element 1And ETwoIs it
Substituted cyclopentadienyl group, indenyl group, substituted
Indenyl group, fluorenyl group, substituted fluorenyl group,
Hexahydroazulenyl group, substituted hexahydroazuleni
Group, tetrahydroindenyl group, substituted tetrahydroyl
Ndenyl group, tetrahydrofluorenyl group, substituted tetra
Hydrofluorenyl group, octahydrofluorenyl group,
Substituted octahydrofluorenyl group, heterocyclopenta
Dienyl group, substituted heterocyclopentadienyl group,
Group, phosphide group, hydrocarbon group and silicon-containing group
A ligand selected from the group consisting of A1And ATwoCross-linked through
Structures, and they are identical or different.
May be X1Represents a σ-binding ligand, and X
1If there are multiple Xs1Are the same but different
Well, other X1, E1, ETwoOr Y6Cross-linked with
Is also good. Y6Represents a Lewis base;6Where there are multiple
If multiple Y6May be the same or different, and the other Y
6, E1, ETwoOr X1May be cross-linked with A1Passing
And ATwoIs a frame composed of hydrocarbon groups having 1 or more carbon atoms.
Bridging groups, which may be the same or different
Good. q is an integer of 1 to 5 [(M1Valence) -2)
And r represents an integer of 0 to 3. The transition metal represented by
Compound. (7) (a) The transition metal compound is represented by the following general formula (5).
Etch described in (5), characterized in that
A method for producing a len-based copolymer.

【0017】[0017]

【化9】 Embedded image

【0018】(式中、ここでE3 及びE4 は、非置換又
は置換シクロペンタジエニル基、インデニル基,置換イ
ンデニル基,フルオレニル基,置換フルオレニル基,ヘ
キサヒドロアズレニル基,置換ヘキサヒドロアズレニル
基,テトラヒドロインデニル基,置換テトラヒドロイン
デニル基,テトラヒドロフルオレニル基,置換テトラヒ
ドロフルオレニル基,オクタヒドロフルオレニル基,置
換オクタヒドロフルオレニル基であり、A3 及びA
4 は、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、又はそ
れぞれ炭素数6〜20のアリール基、アルキルアリール
基、アリールアルキル基もしくはハロゲン化アリール
基、又は酸素、窒素、硫黄もしくは珪素から選ばれたヘ
テロ原子を含む炭素数1〜20の炭化水素基であり、Q
はE3 及びE4 を連結する炭素数2〜10の炭化水素基
又は珪素、ゲルマニウムもしくはスズを含む炭素数1〜
10の炭化水素基、又は炭素、珪素、ゲルマニウムもし
くはスズ原子であり、また、A3 及びA4 は互いに連結
していてA3 ,A4 及びQの間で環構造を形成していて
もよい。R8 及びR9 はハロゲン原子、水素原子、炭素
数1〜10のアルキル基、珪素含有アルキル基、又はそ
れぞれ炭素数6〜20のアリール基、アルキルアリール
基もしくはアリールアルキル基であり、かつM2 はチタ
ン、ジルコニウム又はハフニウムである。) (8) (a)遷移金属化合物が、下記一般式(6)で
表されるものであることを特徴とする(5)に記載のエ
チレン系共重合体の製造方法。
(Wherein, E 3 and E 4 represent an unsubstituted or substituted cyclopentadienyl group, an indenyl group, a substituted indenyl group, a fluorenyl group, a substituted fluorenyl group, a hexahydroazulenyl group, a substituted hexahydroazulle group group, tetrahydroindenyl group, substituted tetrahydroindenyl groups, tetrahydrofluorenyl groups, substituted tetrahydrofluorenyl group, octahydrofluorenyl group, a substituted octahydrofluorenyl group, a 3 and a
4 is selected from a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an alkylaryl group, an arylalkyl group or a halogenated aryl group, or oxygen, nitrogen, sulfur or silicon. A hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms containing a hetero atom,
Is a hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms linking E 3 and E 4 , or a carbon group having 1 to 3 carbon atoms including silicon, germanium or tin.
A hydrocarbon group of 10 or a carbon, silicon, germanium or tin atom, and A 3 and A 4 may be connected to each other to form a ring structure among A 3 , A 4 and Q . R 8 and R 9 is a halogen atom, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, silicon-containing alkyl group, or each aryl group having 6 to 20 carbon atoms, alkylaryl group or arylalkyl group, and M 2 Is titanium, zirconium or hafnium. (8) The method for producing an ethylene-based copolymer according to (5), wherein (a) the transition metal compound is represented by the following general formula (6).

【0019】[0019]

【化10】 Embedded image

【0020】(式中、M2 はチタン,ジルコニウム又は
ハフニウムであり、Cp* は、M2 にη5 結合様式で結
合するシクロペンタジエニル基,置換シクロペンタジエ
ニル基又はインデニル基,置換インデニル基,フルオレ
ニル基,置換フルオレニル基,ヘキサヒドロアズレニル
基,置換ヘキサヒドロアズレニル基,テトラヒドロイン
デニル基,置換テトラヒドロインデニル基,テトラヒド
ロフルオレニル基,置換テトラヒドロフルオレニル基,
オクタヒドロフルオレニル基,置換オクタヒドロフルオ
レニル基である。X1 はσ配位子を示し、nは1又は2
であり、複数のX 1 はたがいに同一でも異なっていても
よく、また、任意の基を介して結合していてもよい。Y
7 は、O,S,NR,PR又はCR2 であるか、又はO
R,SR,NR2 又はPR2 から選ばれた中性の2個電
子供与性配位子であり、Zは、SiR2 ,CR2 ,Si
2 SiR2 ,CR2 CR2 ,CR=CR,CRSiR
2 ,GeR2 ,BR,BR2 であり、ここにおいて、R
は、各々の場合に、水素,アルキル基,アリール基,シ
リル基,ハロゲン化アルキル,ハロゲン化アリール,及
びこれらの少なくとも2つの組合せからなり、20個以
下の非水素原子をもつものからなる群より選ばれたもの
である。さらに、2個又はそれ以上の上記R基はZ,又
はY7 とZの双方から縮合環系を形成していてもよ
い。)
(Where MTwoIs titanium, zirconium or
Hafnium, Cp*Is MTwoTo ηFiveTied in a join style
Combined cyclopentadienyl group, substituted cyclopentadiene
Nil or indenyl group, substituted indenyl group, fluor
Nyl group, substituted fluorenyl group, hexahydroazulenyl
Group, substituted hexahydroazulenyl group, tetrahydroin
Denenyl group, substituted tetrahydroindenyl group, tetrahydrid
Rofluorenyl group, substituted tetrahydrofluorenyl group,
Octahydrofluorenyl group, substituted octahydrofluor
A enyl group. X1Represents a σ ligand, and n is 1 or 2
And multiple X 1Even if they are the same or different
And may be bonded via any group. Y
7Is O, S, NR, PR or CRTwoOr O
R, SR, NRTwoOr PRTwoNeutral two electricity selected from
Z is a SiRTwo, CRTwo, Si
RTwoSiRTwo, CRTwoCRTwo, CR = CR, CRSiR
Two, GeRTwo, BR, BRTwoWhere R
Represents, in each case, hydrogen, an alkyl group, an aryl group,
Ryl group, alkyl halide, aryl halide, and
And a combination of at least two of these
Selected from the group consisting of the following non-hydrogen atoms
It is. Further, two or more of the R groups may be Z,
Is Y7And Z may form a fused ring system
No. )

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態につ
いて説明する。 1.エチレン系共重合体 本発明にかかるエチレン系共重合体は、エチレン
(A)、少なくとも1種の炭素数3〜30のα−オレフ
ィン(B)、少なくとも1種のスチレン系ビニル基を有
するジエン系モノマーまたは少なくとも1種の共役エン
を有するジエン系モノマー(C)及び、必要に応じて用
いられる少なくとも1種の芳香族ビニルモノマー(D)
の共重合体であって、エチレン(A)/α−オレフィン
(B)のモル比が20/80〜97/3であり、ジエン
系モノマー(C)に由来する繰返し単位が0.001〜2
0モル%、必要に応じて芳香族ビニルモノマー(D)に
由来する繰返し単位が0.01 〜30モル%であり、これ
らの成分の合計量が100モル%であり、かつ下記の
(1)式で表されるジエン系モノマーに由来する部分架
橋の割合Kが0.1〜80%である分子鎖中にジエン系モ
ノマーに由来するビニル基を有するエチレン系共重合体
である。
Embodiments of the present invention will be described below. 1. Ethylene-based copolymer The ethylene-based copolymer according to the present invention comprises ethylene (A), at least one α-olefin having 3 to 30 carbon atoms (B), and at least one diene-based styrene-based vinyl group. Monomer or diene-based monomer (C) having at least one conjugated ene, and at least one aromatic vinyl monomer (D) optionally used
Wherein the molar ratio of ethylene (A) / α-olefin (B) is from 20/80 to 97/3, and the repeating unit derived from the diene monomer (C) is from 0.001 to 2
0 mol%, if necessary, the repeating unit derived from the aromatic vinyl monomer (D) is 0.01 to 30 mol%, the total amount of these components is 100 mol%, and the following (1) An ethylene copolymer having a vinyl group derived from a diene monomer in a molecular chain in which the ratio K of partial crosslinking derived from the diene monomer represented by the formula is 0.1 to 80%.

【0022】[0022]

【数3】 (Equation 3)

【0023】(1)モノマー 本発明にかかるエチレン系共重合体は、下記の各モノマ
ーを共重合してなるものである。 (a)エチレン(A) 特に問わず、水素がハロゲン等で置換されたものでもよ
い。 (b)α−オレフィン(B) エチレンを除くα−オレフィンモノマーである。具体的
には、プロピレン;ブテン−1;ペンテン−1;ヘキセ
ン−1;ヘプテン−1;オクテン−1;ノネン−1;デ
セン−1;4−フェニルブテン−1;6−フェニルヘキ
セン−1;3−メチルブテン−1;4−メチルペンテン
−1;3−メチルペンテン−1;3−メチルヘキセン−
1;4−メチルヘキセン−1;5−メチルヘキセン−
1;3,3−ジメチルペンテン−1;3,4−ジメチル
ペンテン−1;4,4−ジメチルペンテン−1;ビニル
シクロヘキサンなどのα−オレフィン、ヘキサフルオロ
プロペン;テトラフルオロエチレン;2−フルオロプロ
ペン;フルオロエチレン;1,1−ジフルオロエチレ
ン;3−フルオロプロペン;トリフルオロエチレン;
3,4−ジクロロブテン−1などのハロゲン置換α−オ
レフィン、シクロペンテン;シクロヘキセン;ノルボル
ネン;5−メチルノルボルネン;5−エチルノルボルネ
ン;5−プロピルノルボルネン;5,6−ジメチルノル
ボルネン;1−メチルノルボルネン;7−メチルノルボ
ルネン;5,5,6−トリメチルノルボルネン;5−フ
ェニルノルボルネン;5−ベンジルノルボルネンなどの
環状オレフィンなどが挙げられ、これらの1種又は2種
以上が用いられる。 (c)ジエン系モノマー(C) 本発明で用いるジエン系モノマー(C)とは、スチレン
系ビニルを有するジエン系モノマー又は共役エンを有す
るジエン系モノマーである。
(1) Monomer The ethylene copolymer according to the present invention is obtained by copolymerizing the following monomers. (A) Ethylene (A) Any type may be used, in which hydrogen is replaced by halogen or the like. (B) α-olefin (B) α-olefin monomer excluding ethylene. Specifically, propylene; butene-1; pentene-1; hexene-1; heptene-1; octene-1; nonene-1; decene-1; 4-phenylbutene-1; 6-phenylhexene-1; -Methylbutene-1; 4-methylpentene-1; 3-methylpentene-1; 3-methylhexene-
1; 4-methylhexene-1; 5-methylhexene-
1, 3,3-dimethylpentene-1; 3,4-dimethylpentene-1; 4,4-dimethylpentene-1; α-olefin such as vinylcyclohexane, hexafluoropropene; tetrafluoroethylene; 2-fluoropropene; 1,3-difluoroethylene; 3-fluoropropene; trifluoroethylene;
Halogen substituted α-olefins such as 3,4-dichlorobutene-1, cyclopentene; cyclohexene; norbornene; 5-methylnorbornene; 5-ethylnorbornene; 5-propylnorbornene; 5,6-dimethylnorbornene; 1-methylnorbornene; Cyclic olefins such as -methylnorbornene; 5,5,6-trimethylnorbornene; 5-phenylnorbornene; and 5-benzylnorbornene, and one or more of these are used. (C) Diene monomer (C) The diene monomer (C) used in the present invention is a diene monomer having styrene vinyl or a diene monomer having conjugated ene.

【0024】スチレン系ビニルを有するジエン系モノマ
ーとは、フェニル基に結合したビニル基を有するジエン
系モノマーであり、下記一般式(7)や(8)で表され
るビニルスチレン系化合物をいう。
The diene monomer having a styrene vinyl is a diene monomer having a vinyl group bonded to a phenyl group, and is a vinylstyrene compound represented by the following general formulas (7) and (8).

【0025】[0025]

【化11】 Embedded image

【0026】[0026]

【化12】 Embedded image

【0027】(式中、X2 はベンゼン,ナフタレン,ア
ントラセン等の芳香族化合物残基、トルエン,キシレ
ン,エチルベンゼン等、炭素数が1〜20のアルキル基
で置換された芳香族化合物残基、クロロベンゼン,ブロ
モベンゼン等のハロゲン置換芳香族化合物残基であり、
8 はCH2 、アルキレン基、アルキリデン基を示し、
nは0又は1〜20の整数を示す。) 具体的には、一般式(7)で表される化合物としては、
o−ジビニルベンゼン、m−ジビニルベンゼン、p−ジ
ビニルベンゼン、(o−,m−,p−)ジビニルトルエ
ン、(o−,m−,p−)2−プロペニルスチレン、
(o−,m−,p−)3−ブテニルスチレン、(o−,
m−,p−)4−ペンテニルスチレン等が挙げられ、一
般式(8)で表される化合物としては、以下の化合物が
挙げられる。
(Wherein X 2 represents an aromatic compound residue such as benzene, naphthalene, anthracene, etc .; an aromatic compound residue substituted with an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, such as toluene, xylene, ethylbenzene, etc.); , A halogen-substituted aromatic compound residue such as bromobenzene,
Y 8 represents CH 2 , an alkylene group, an alkylidene group,
n represents 0 or an integer of 1 to 20. Specifically, as the compound represented by the general formula (7),
o-divinylbenzene, m-divinylbenzene, p-divinylbenzene, (o-, m-, p-) divinyltoluene, (o-, m-, p-) 2-propenylstyrene,
(O-, m-, p-) 3-butenylstyrene, (o-,
m-, p-) 4-Pentenylstyrene and the like, and examples of the compound represented by the general formula (8) include the following compounds.

【0028】[0028]

【化13】 Embedded image

【0029】また、共役エンを有するジエン系モノマー
とは、分子内に連続する炭素−炭素二重結合を2つ以上
有するモノマーで炭素数4〜20の共役ジエン系化合物
をいう。炭素数4〜20の共役ジエン系化合物として
は、例えば、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、
1,3−ヘキサジエン、1,3,5−ヘキサトリエン、
1,3−ヘプタジエン、1,3,6−ヘプタトリエンな
どが挙げられる。 (d)芳香族ビニルモノマー(D) 本発明で用いる芳香族ビニルモノマー(D)は、一般式
(9)で表される化合物である。
The diene monomer having a conjugated ene is a monomer having at least two continuous carbon-carbon double bonds in the molecule and having 4 to 20 carbon atoms. Examples of the conjugated diene compound having 4 to 20 carbon atoms include butadiene, isoprene, chloroprene,
1,3-hexadiene, 1,3,5-hexatriene,
Examples thereof include 1,3-heptadiene and 1,3,6-heptatriene. (D) Aromatic vinyl monomer (D) The aromatic vinyl monomer (D) used in the present invention is a compound represented by the general formula (9).

【0030】[0030]

【化14】 Embedded image

【0031】〔式中、X3 は次の〜のいずれかを示
す。水素原子,ハロゲン原子,あるいは炭素原
子,スズ原子及びケイ素原子から選ばれたいずれか一種
以上を含む置換基。nは1〜5の整数を示し、nが2以
上のときは、各X3 は、同じでも異なっていてもよ
い。〕で表される化合物が使用される。具体的には、ス
チレン,p−メチルスチレン,m−メチルスチレン,o
−メチルスチレン,2,4−ジメチルスチレン,2,5
−ジメチルスチレン,3,4−ジメチルスチレン,3,
5−ジメチルスチレン,p−エチルスチレン,m−エチ
ルスチレン,p−ターシャリーブチルスチレン等のアル
キルスチレン;p−クロロスチレン,m−クロロスチレ
ン,o−クロロスチレン,p−ブロモスチレン,m−ブ
ロモスチレン,o−ブロモスチレン,p−フルオロスチ
レン,m−フルオロスチレン,o−フルオロスチレン,
o−メチル−p−フルオロスチレン等のハロゲン化スチ
レン、メトキシスチレン,エトキシスチレン,t−ブト
キシスチレン等のアルコキシスチレン、ビニルビフェニ
ル類、ビニルフェニルナフタレン類、ビニルフェニルア
ントラセン類、ハロゲン化ビニルビフェニル類、トリア
ルキルシリルビニルビフェニル類、ハロゲン置換アルキ
ルスチレン、アルキルシリルスチレン類、フェニル基含
有シリルスチレン類、ハロゲン含有シリルスチレン類、
シリル基含有シリルスチレン類、あるいはこれらを二種
以上を混合したものが挙げられる。さらには、ビニルナ
フタレン類やビニルアントラセン類、或いはこれらの置
換体等も用いることができる。 (2)組成 本発明のエチレン系共重合体は、前記の組成を有するも
のであるが、ゴム的性能及び耐寒性を維持するために
は、エチレン(A)/α−オレフィン(B)のモル比が
25/75 〜93/7の範囲にあることが好ましい。さらに好ま
しくは、30/70 〜90/10 である。 (a)エチレン(A)単位 エチレン(A)単位は、α−オレフィン(B)との合計
に対して20〜97モル%であることが必要である。好
ましくは、25〜93モル%である。さらに好ましく
は、30〜90モル%である。20モル%未満である
と、エチレン系共重合体の脆性が大きくなり好ましくな
い。また、97モル%を超えると結晶性が高くなり溶解
性等の物性が低下し好ましくない。 (b)α−オレフィン(B)単位 α−オレフィン(B)単位は、エチレン(A)との合計
にに対して3〜80モル%であることが必要である。好
ましくは、7〜75モル%である。さらに好ましくは、
10〜70モル%である。3モル%未満であると、エチ
レン系共重合体の結晶性が高くなり好ましくない。ま
た、80モル%を超えると脆性が大きくなり好ましくな
い。 (c)ジエン系モノマー(C)単位 ジエン系モノマー(C)単位は、全成分に対して0.00
1 〜20モル%であることが必要である。好ましくは、
0.005〜15モル%である。さらに好ましくは、0.0
1〜10モル%である。0.001 モル%未満では、剛性
が低下し、好ましくない。また、20モル%を超えると
架橋反応が起こりすぎて物性が低下し好ましくない。 (d)芳香族ビニルモノマー(D)単位 本発明のエチレン系共重合体に芳香族ビニルモノマー
(D)単位を導入する場合は、全成分に対して0.01
〜30モル%であることが必要である。0.01 %未満で
は、スチレン系ポリマーとの相溶性が低下し、好ましく
ない。30モル%を超えると脆性が大きくなり好ましく
ない。 (3)ビニル基の位置関係 本発明のエチレン系共重合体中のスチレン系ビニル基ま
たはオレフィン系ビニル基の位置関係は、主鎖構造中に
隣り合っていても離れている構造でもいずれの構造でも
よい。 (4)架橋構造 本発明のエチレン系共重合体においては、ジエン系モノ
マーに由来するビニル基自体が一部反応して架橋構造を
形成する。架橋構造は分子鎖間で反応し結合したもので
もよいし、または分子鎖内で反応し結合したものでもよ
い。架橋の進行は、用いるジエン系モノマーの種類や触
媒の種類によって制御することができる。 (5)部分架橋の割合K 部分架橋の割合Kは、前記(1)式により求めるが、
(1)式中の単位量は1H-NMRや赤外吸収分析等により得
られた値を使用することができる。
Wherein X 3 represents any of the following: A substituent containing at least one selected from a hydrogen atom, a halogen atom, and a carbon atom, a tin atom and a silicon atom; n represents an integer of 1 to 5, and when n is 2 or more, each X 3 may be the same or different. ] Is used. Specifically, styrene, p-methylstyrene, m-methylstyrene, o
-Methylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, 2,5
-Dimethylstyrene, 3,4-dimethylstyrene, 3
Alkyl styrenes such as 5-dimethylstyrene, p-ethylstyrene, m-ethylstyrene and p-tert-butylstyrene; p-chlorostyrene, m-chlorostyrene, o-chlorostyrene, p-bromostyrene, m-bromostyrene , O-bromostyrene, p-fluorostyrene, m-fluorostyrene, o-fluorostyrene,
halogenated styrenes such as o-methyl-p-fluorostyrene, alkoxystyrenes such as methoxystyrene, ethoxystyrene and t-butoxystyrene, vinylbiphenyls, vinylphenylnaphthalenes, vinylphenylanthracenes, halogenated vinylbiphenyls, Alkyl silyl vinyl biphenyls, halogen-substituted alkyl styrene, alkyl silyl styrenes, phenyl group-containing silyl styrenes, halogen-containing silyl styrenes,
Silyl group-containing silyl styrenes, or a mixture of two or more of these. Further, vinyl naphthalenes and vinyl anthracenes, and substituted products thereof can also be used. (2) Composition The ethylene-based copolymer of the present invention has the above-mentioned composition. Ratio
It is preferably in the range of 25/75 to 93/7. More preferably, it is 30/70 to 90/10. (A) Ethylene (A) unit Ethylene (A) unit needs to be 20 to 97 mol% based on the total amount of α-olefin (B). Preferably, it is 25 to 93 mol%. More preferably, it is 30 to 90 mol%. If the amount is less than 20 mol%, the brittleness of the ethylene-based copolymer increases, which is not preferable. On the other hand, if it exceeds 97 mol%, the crystallinity is increased and the physical properties such as solubility are undesirably reduced. (B) α-Olefin (B) unit The α-olefin (B) unit needs to be 3 to 80 mol% with respect to the total amount of ethylene (A). Preferably, it is 7 to 75 mol%. More preferably,
10 to 70 mol%. When the amount is less than 3 mol%, the crystallinity of the ethylene copolymer becomes high, which is not preferable. On the other hand, if it exceeds 80 mol%, the brittleness increases, which is not preferable. (C) Unit of diene monomer (C) The unit of diene monomer (C) is 0.00 relative to all components.
It needs to be 1 to 20 mol%. Preferably,
0.005 to 15 mol%. More preferably, 0.0
1 to 10 mol%. If it is less than 0.001 mol%, the rigidity is undesirably reduced. On the other hand, if it exceeds 20 mol%, the crosslinking reaction takes place too much and the physical properties deteriorate, which is not preferred. (D) Aromatic vinyl monomer (D) unit When an aromatic vinyl monomer (D) unit is introduced into the ethylene copolymer of the present invention, it is required to be 0.01% based on all components.
〜30 mol% is required. If it is less than 0.01%, the compatibility with the styrenic polymer is lowered, which is not preferable. If it exceeds 30 mol%, the brittleness increases, which is not preferable. (3) Positional relation of vinyl group The positional relation of the styrene-based vinyl group or the olefin-based vinyl group in the ethylene-based copolymer of the present invention may be any structure that is adjacent to or separated from the main chain structure. May be. (4) Crosslinked Structure In the ethylene copolymer of the present invention, a vinyl group derived from the diene monomer partially reacts to form a crosslinked structure. The cross-linked structure may be one that has reacted and bonded between molecular chains, or one that has reacted and bonded within a molecular chain. The progress of crosslinking can be controlled by the type of diene monomer or the type of catalyst used. (5) Ratio K of Partial Crosslinking The ratio K of partial crosslinking is determined by the above formula (1)
As the unit amount in the formula (1), a value obtained by 1 H-NMR, infrared absorption analysis or the like can be used.

【0032】Kは、0.1〜80% であることが必要であ
る。好ましくは、0.5〜60% である。さらに好ましく
は、1.0〜50% である。Kが、0.1% 未満であると架橋
割合が低すぎるために剛性が発現しない。また、80% を
超えると架橋が行き過ぎゲル化してしまうため好ましく
ない。 (6)デカリン中135℃で測定した極限粘度[η] 本発明のエチレン系共重合体は、[η]が0.01〜15デシ
リットル/gであることが好ましい。より好ましくは、
0.05 〜12デシリットル/g、さらに好ましくは、0.1〜
10デシリットル/gである。0.01デシリットル/g未満であ
るとグラフト化した場合の相溶化の能力が低下する場合
がある。15デシリットル/gを超えるとグラフト重合する
際の溶媒への溶解性が低下することがある。 (7)GPCで測定した分子量分布(Mw/Mn) 本発明のエチレン系共重合体のMw/Mn は、25以下であ
ることが好ましい。より好ましくは、10以下である。さ
らに好ましくは、5 以下である。Mw/Mn が25を越える
とグラフト重合する際のグラフトする割合が低下し、得
られたグラフト重合体の物性が低下する場合がある。 (8)結晶性 本発明のエチレン系共重合体は、非晶性であることが好
ましい。融点があってもよい。 2.エチレン系共重合体の製造方法 本発明のエチレン系共重合体は、(a)遷移金属化合
物,(b)(イ)含酸素化合物、及び/又は(ロ)該
(a)成分の遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体
を形成しうる化合物、及び必要に応じて(c)アルキル
化剤からなる触媒を用いて共重合することにより製造す
ることができる。 (1)触媒の各成分 (a)遷移金属化合物 遷移金属化合物(a)としては、各種のものが使用可能
であるが、通常は以下に記すものが好ましく用いられ
る。 (i)下記一般式(4)で表される化合物
K needs to be 0.1-80%. Preferably, it is 0.5 to 60%. More preferably, it is 1.0 to 50%. If K is less than 0.1%, the rigidity does not appear because the crosslinking ratio is too low. On the other hand, if it exceeds 80%, crosslinking is excessive and gelation occurs, which is not preferable. (6) Intrinsic viscosity [η] measured in decalin at 135 ° C. The ethylene copolymer of the present invention preferably has an [η] of 0.01 to 15 deciliter / g. More preferably,
0.05 to 12 deciliter / g, more preferably 0.1 to 12 deciliter / g
10 deciliters / g. If it is less than 0.01 deciliter / g, the compatibilizing ability when grafted may be reduced. If it exceeds 15 deciliters / g, the solubility in a solvent at the time of graft polymerization may decrease. (7) Molecular weight distribution (Mw / Mn) measured by GPC Mw / Mn of the ethylene copolymer of the present invention is preferably 25 or less. More preferably, it is 10 or less. More preferably, it is 5 or less. When Mw / Mn exceeds 25, the grafting ratio during graft polymerization decreases, and the physical properties of the obtained graft polymer may decrease. (8) Crystallinity The ethylene copolymer of the present invention is preferably amorphous. It may have a melting point. 2. Method for Producing Ethylene-Based Copolymer The ethylene-based copolymer of the present invention comprises (a) a transition metal compound, (b) (a) an oxygen-containing compound, and / or (b) a transition metal compound of the component (a). The compound can be produced by copolymerization using a compound capable of forming an ionic complex by reacting with the compound and, if necessary, a catalyst comprising (c) an alkylating agent. (1) Each component of the catalyst (a) Transition metal compound As the transition metal compound (a), various compounds can be used, but usually, the following compounds are preferably used. (I) a compound represented by the following general formula (4)

【0033】[0033]

【化15】 Embedded image

【0034】〔式中、M1 は周期律表3〜10族又はラ
ンタノイド系列の金属元素を示し、E 1 及びE2 はそれ
ぞれ置換シクロペンタジエニル基,インデニル基,置換
インデニル基,フルオレニル基,置換フルオレニル基,
ヘキサヒドロアズレニル基,置換ヘキサヒドロアズレニ
ル基,テトラヒドロインデニル基,置換テトラヒドロイ
ンデニル基,テトラヒドロフルオレニル基,置換テトラ
ヒドロフルオレニル基,オクタヒドロフルオレニル基,
置換オクタヒドロフルオレニル基, ヘテロシクロペンタ
ジエニル基,置換ヘテロシクロペンタジエニル基,アミ
ド基,ホスフィド基,炭化水素基及び珪素含有基の中か
ら選ばれた配位子であって、A1 及びA2を介して架橋
構造を形成しており、またそれらはたがいに同一でも異
なっていてもよく、X1 はσ結合性の配位子を示し、X
1 が複数ある場合、複数のX1 は同じでも異なっていて
もよく、他のX1 ,E1 ,E2 又はY6 と架橋していて
もよい。Y6 はルイス塩基を示し、Y6 が複数ある場
合、複数のY6 は同じでも異なっていてもよく、他のY
6 ,E1 ,E2 又はX1 と架橋していてもよく、A1
びA2 はそれぞれ炭素数1以上の炭化水素基からなる架
橋基を示し、それらはたがいに同一でも異なっていても
よい。qは1〜5の整数で〔(M1 の原子価)−2〕を
示し、rは0〜3の整数を示す。〕 上記のX1 の具体例としては、ハロゲン原子、炭素数1
〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のアルコキシ基、
炭素数6〜20のアリールオキシ基、炭素数1〜20の
アミド基、炭素数1〜20の珪素含有基、炭素数1〜2
0のホスフィド基、炭素数1〜20のスルフィド基、炭
素数1〜20のアシル基などが挙げられる。また、上記
のY6 の具体例としては、アミン類、エーテル類、ホス
フィン類、チオエーテル類などを挙げることができる。
また、上記のA1 及びA2 の具体例としては、例えば一
般式
[Wherein, M1Is group 3 to 10 of the periodic table or la
E represents a tanthanoid metal element 1And ETwoIs it
Substituted cyclopentadienyl group, indenyl group, substituted
Indenyl group, fluorenyl group, substituted fluorenyl group,
Hexahydroazulenyl group, substituted hexahydroazuleni
Group, tetrahydroindenyl group, substituted tetrahydroyl
Ndenyl group, tetrahydrofluorenyl group, substituted tetra
Hydrofluorenyl group, octahydrofluorenyl group,
Substituted octahydrofluorenyl group, heterocyclopenta
Dienyl group, substituted heterocyclopentadienyl group,
Group, phosphide group, hydrocarbon group and silicon-containing group
A ligand selected from the group consisting of A1And ATwoCross-linked through
Structures, and they are identical or different.
May be X1Represents a σ-binding ligand, and X
1If there are multiple Xs1Are the same but different
Well, other X1, E1, ETwoOr Y6Cross-linked with
Is also good. Y6Represents a Lewis base;6Where there are multiple
If multiple Y6May be the same or different, and the other Y
6, E1, ETwoOr X1May be cross-linked with A1Passing
And ATwoIs a frame composed of hydrocarbon groups having 1 or more carbon atoms.
Bridging groups, which may be the same or different
Good. q is an integer of 1 to 5 [(M1Valence) -2)
And r represents an integer of 0 to 3. ] X above1As a specific example, a halogen atom, a carbon number 1
To 20 hydrocarbon groups, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms,
Aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, 1 to 20 carbon atoms
Amide group, silicon-containing group having 1 to 20 carbon atoms, 1 to 2 carbon atoms
0 phosphide group, sulfide group having 1 to 20 carbon atoms, charcoal
An acyl group having a prime number of 1 to 20 is exemplified. Also,
Of Y6Specific examples of amines, ethers, phos
Examples include fins and thioethers.
In addition, A1And ATwoAs a specific example, for example,
General formula

【0035】[0035]

【化16】 Embedded image

【0036】(T1 及びT 2は、それぞれ水素原子又は
炭素数1〜20の炭化水素基で、それらはたがいに同一
でも異なっていてもよく、また互いに結合して環を形成
していてもよい。eは1〜4の整数を示す。)で表され
るものが挙げられ、その具体例としては、メチレン基、
エチレン基、エチリデン基、プロピリデン基、イソプロ
ピリデン基、シクロヘキシリデン基、1,2−シクロヘ
キシレン基、ビニリデン基(CH =C=)などを挙げ
ることができる。これらの中で、メチレン基、エチレン
基及びイソプロピリデン基が好適である。
(T 1 and T 2 are each a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, which may be the same or different, and may be bonded to each other to form a ring. And e is an integer of 1 to 4. Specific examples thereof include a methylene group,
Examples thereof include an ethylene group, an ethylidene group, a propylidene group, an isopropylidene group, a cyclohexylidene group, a 1,2-cyclohexylene group, and a vinylidene group (CH 2 = C な ど). Among these, a methylene group, an ethylene group and an isopropylidene group are preferred.

【0037】本発明の一般式(4)で表される遷移金属
化合物の具体例としては、(1,1’−エチレン)
(2,2’−エチレン)−ビス(インデニル)ジルコニ
ウムジクロリド,(1,2’−エチレン)(2,1’−
エチレン)−ビス(インデニル)ジルコニウムジクロリ
ド,(1,1’−メチレン)(2,2’−メチレン)−
ビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,
2’−メチレン)(2,1’−メチレン)−ビス(イン
デニル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−イソプ
ロピリデン)(2,2’−イソプロピリデン)−ビス
(インデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−
イソプロピリデン)(2,1’−イソプロピリデン)−
ビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,
1’−エチレン)(2,2’−エチレン)−ビス(3−
メチルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,
2’−エチレン)(2,1’−エチレン)−ビス(3−
メチルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,
1’−エチレン)(2,2’−エチレン)−ビス(4,
5−ベンゾインデニル)ジルコニウムジクロリド,
(1,2’−エチレン)(2,1’−エチレン)−ビス
(4,5−ベンゾインデニル)ジルコニウムジクロリ
ド,(1,1’−エチレン)(2,2’−エチレン)−
ビス(4−イソプロピルインデニル)ジルコニウムジク
ロリド,(1,2’−エチレン)(2,1’−エチレ
ン)−ビス(4−イソプロピルインデニル)ジルコニウ
ムジクロリド,(1,1’−エチレン)(2,2’−エ
チレン)−ビス(5,6−ジメチルインデニル)ジルコ
ニウムジクロリド,(1,2’−エチレン)(2,1’
−エチレン)−ビス(5,6−ジメチルインデニル)ジ
ルコニウムジクロリド,(1,1’−エチレン)(2,
2’−エチレン)−ビス(4,7−ジイソプロピルイン
デニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−エチレ
ン)(2,1’−エチレン)−ビス(4,7−ジイソプ
ロピルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,
1’−エチレン)(2,2’−エチレン)−ビス(4−
フェニルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,
2’−エチレン)(2,1’−エチレン)−ビス(4−
フェニルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,
1’−エチレン)(2,2’−エチレン)−ビス(3−
メチル−4−イソプロピルインデニル)ジルコニウムジ
クロリド,(1,2’−エチレン)(2,1’−エチレ
ン)−ビス(3−メチル−4−イソプロピルインデニ
ル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−エチレン)
(2,2’−エチレン)−ビス(5,6−ベンゾインデ
ニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−エチレ
ン)(2,1’−エチレン)−ビス(5,6−ベンゾイ
ンデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−エチ
レン)(2,2’−イソプロピリデン)−ビス(インデ
ニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−エチレ
ン)(2,1’−イソプロピリデン)−ビス(インデニ
ル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−イソプロピ
リデン)(2,2’−エチレン)−ビス(インデニル)
ジルコニウムジクロリド,(1,2’−メチレン)
(2,1’−エチレン)−ビス(インデニル)ジルコニ
ウムジクロリド,(1,1’−メチレン)(2,2’−
エチレン)−ビス(インデニル)ジルコニウムジクロリ
ド,(1,1’−エチレン)(2,2’−メチレン)−
ビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,
1’−メチレン)(2,2’−イソプロピリデン)−ビ
ス(インデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’
−メチレン)(2,1’−イソプロピリデン)−ビス
(インデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−
イソプロピリデン)(2,2’−メチレン)−ビス(イ
ンデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−メチ
レン)(2,2’−メチレン)(3−メチルシクロペン
タジエニル)(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
クロリド,(1,1’−イソプロピリデン)(2,2’
−イソプロピリデン)(3−メチルシクロペンタジエニ
ル)(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリ
ド,(1,1’−プロピリデン)(2,2’−プロピリ
デン)(3−メチルシクロペンタジエニル)(シクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−
エチレン)(2,2’−メチレン)−ビス(3−メチル
シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,
(1,1’−メチレン)(2,2’−エチレン)−ビス
(3−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロリド,(1,1’−イソプロピリデン)(2,2’−
エチレン)−ビス(3−メチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウムジクロリド,(1,1’−エチレン)
(2,2’−イソプロピリデン)−ビス(3−メチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,
1’−メチレン)(2,2’−メチレン)−ビス(3−
メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリ
ド,(1,1’−メチレン)(2,2’−イソプロピリ
デン)−ビス(3−メチルシクロペンタジエニル)ジル
コニウムジクロリド,(1,1’−イソプロピリデン)
(2,2’−イソプロピリデン)−ビス(3−メチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,
1’−エチレン)(2,2’−メチレン)−ビス(3,
4−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロリド,(1,1’−エチレン)(2,2’−イソプロ
ピリデン)−ビス(3,4−ジメチルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジクロリド,(1,1’−メチレ
ン)(2,2’−メチレン)−ビス(3,4−ジメチル
シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,
(1,1’−メチレン)(2,2’−イソプロピリデ
ン)−ビス(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウムジクロリド,(1,1’−イソプロピリデ
ン)(2,2’−イソプロピリデン)−ビス(3,4−
ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリ
ド,(1,2’−エチレン)(2,1’−メチレン)−
ビス(3−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム
ジクロリド,(1,2’−エチレン)(2,1’−イソ
プロピリデン)−ビス(3−メチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−メチレン)
(2,1’−メチレン)−ビス(3−メチルシクロペン
タジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−メ
チレン)(2,1’−イソプロピリデン)−ビス(3−
メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリ
ド,(1,2’−イソプロピリデン)(2,1’−イソ
プロピリデン)−ビス(3−メチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−エチレン)
(2,1’−メチレン)−ビス(3,4−ジメチルシク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,
2’−エチレン)(2,1’−イソプロピリデン)−ビ
ス(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジクロリド,(1,2’−メチレン)(2,1’−
メチレン)−ビス(3,4−ジメチルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−メチレ
ン)(2,1’−イソプロピリデン)−ビス(3,4−
ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリ
ド,(1,2’−イソプロピリデン)(2,1’−イソ
プロピリデン)−ビス(3,4−ジメチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジクロリドなど及びこれらの化
合物におけるジルコニウムをチタン又はハフニウムに置
換したものを挙げることができる。もちろんこれらに限
定されるものではない。また、他の族又はランタノイド
系列の金属元素の類似化合物であってもよい。 (ii)下記一般式(5)又は一般式(10)で表される
化合物
Specific examples of the transition metal compound represented by the general formula (4) of the present invention include (1,1′-ethylene)
(2,2′-ethylene) -bis (indenyl) zirconium dichloride, (1,2′-ethylene) (2,1′-
Ethylene) -bis (indenyl) zirconium dichloride, (1,1′-methylene) (2,2′-methylene)-
Bis (indenyl) zirconium dichloride, (1,
2′-methylene) (2,1′-methylene) -bis (indenyl) zirconium dichloride, (1,1′-isopropylidene) (2,2′-isopropylidene) -bis (indenyl) zirconium dichloride, 2'-
Isopropylidene) (2,1′-isopropylidene)-
Bis (indenyl) zirconium dichloride, (1,
1′-ethylene) (2,2′-ethylene) -bis (3-
Methylindenyl) zirconium dichloride, (1,
2'-ethylene) (2,1'-ethylene) -bis (3-
Methylindenyl) zirconium dichloride, (1,
1′-ethylene) (2,2′-ethylene) -bis (4
5-benzoindenyl) zirconium dichloride,
(1,2′-ethylene) (2,1′-ethylene) -bis (4,5-benzoindenyl) zirconium dichloride, (1,1′-ethylene) (2,2′-ethylene)-
Bis (4-isopropylindenyl) zirconium dichloride, (1,2′-ethylene) (2,1′-ethylene) -bis (4-isopropylindenyl) zirconium dichloride, (1,1′-ethylene) (2 2'-ethylene) -bis (5,6-dimethylindenyl) zirconium dichloride, (1,2'-ethylene) (2,1 '
-Ethylene) -bis (5,6-dimethylindenyl) zirconium dichloride, (1,1′-ethylene) (2
2′-ethylene) -bis (4,7-diisopropylindenyl) zirconium dichloride, (1,2′-ethylene) (2,1′-ethylene) -bis (4,7-diisopropylindenyl) zirconium dichloride, ( 1,
1′-ethylene) (2,2′-ethylene) -bis (4-
Phenylindenyl) zirconium dichloride, (1,
2'-ethylene) (2,1'-ethylene) -bis (4-
Phenylindenyl) zirconium dichloride, (1,
1′-ethylene) (2,2′-ethylene) -bis (3-
Methyl-4-isopropylindenyl) zirconium dichloride, (1,2′-ethylene) (2,1′-ethylene) -bis (3-methyl-4-isopropylindenyl) zirconium dichloride, (1,1′-ethylene )
(2,2′-ethylene) -bis (5,6-benzoindenyl) zirconium dichloride, (1,2′-ethylene) (2,1′-ethylene) -bis (5,6-benzoindenyl) zirconium Dichloride, (1,1′-ethylene) (2,2′-isopropylidene) -bis (indenyl) zirconium dichloride, (1,2′-ethylene) (2,1′-isopropylidene) -bis (indenyl) zirconium Dichloride, (1,1′-isopropylidene) (2,2′-ethylene) -bis (indenyl)
Zirconium dichloride, (1,2'-methylene)
(2,1′-ethylene) -bis (indenyl) zirconium dichloride, (1,1′-methylene) (2,2′-
Ethylene) -bis (indenyl) zirconium dichloride, (1,1′-ethylene) (2,2′-methylene)-
Bis (indenyl) zirconium dichloride, (1,
1′-methylene) (2,2′-isopropylidene) -bis (indenyl) zirconium dichloride, (1,2 ′
-Methylene) (2,1'-isopropylidene) -bis (indenyl) zirconium dichloride, (1,1'-
Isopropylidene) (2,2′-methylene) -bis (indenyl) zirconium dichloride, (1,1′-methylene) (2,2′-methylene) (3-methylcyclopentadienyl) (cyclopentadienyl) Zirconium dichloride, (1,1′-isopropylidene) (2,2 ′
-Isopropylidene) (3-methylcyclopentadienyl) (cyclopentadienyl) zirconium dichloride, (1,1′-propylidene) (2,2′-propylidene) (3-methylcyclopentadienyl) (cyclopentane Dienyl) zirconium dichloride, (1,1'-
Ethylene) (2,2′-methylene) -bis (3-methylcyclopentadienyl) zirconium dichloride,
(1,1′-methylene) (2,2′-ethylene) -bis (3-methylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, (1,1′-isopropylidene) (2,2′-
Ethylene) -bis (3-methylcyclopentadienyl)
Zirconium dichloride, (1,1'-ethylene)
(2,2′-isopropylidene) -bis (3-methylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, (1,
1′-methylene) (2,2′-methylene) -bis (3-
Methylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, (1,1′-methylene) (2,2′-isopropylidene) -bis (3-methylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, (1,1′-isopropylidene)
(2,2′-isopropylidene) -bis (3-methylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, (1,
1′-ethylene) (2,2′-methylene) -bis (3
4-dimethylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, (1,1′-ethylene) (2,2′-isopropylidene) -bis (3,4-dimethylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, (1,1′- Methylene) (2,2′-methylene) -bis (3,4-dimethylcyclopentadienyl) zirconium dichloride,
(1,1′-methylene) (2,2′-isopropylidene) -bis (3,4-dimethylcyclopentadienyl)
Zirconium dichloride, (1,1′-isopropylidene) (2,2′-isopropylidene) -bis (3,4-
Dimethylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, (1,2′-ethylene) (2,1′-methylene)-
Bis (3-methylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, (1,2′-ethylene) (2,1′-isopropylidene) -bis (3-methylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, (1,2′- Methylene)
(2,1′-methylene) -bis (3-methylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, (1,2′-methylene) (2,1′-isopropylidene) -bis (3-
Methylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, (1,2′-isopropylidene) (2,1′-isopropylidene) -bis (3-methylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, (1,2′-ethylene)
(2,1′-methylene) -bis (3,4-dimethylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, (1,
2'-ethylene) (2,1'-isopropylidene) -bis (3,4-dimethylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, (1,2'-methylene) (2,1'-
Methylene) -bis (3,4-dimethylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, (1,2′-methylene) (2,1′-isopropylidene) -bis (3,4-
Dimethylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, (1,2′-isopropylidene) (2,1′-isopropylidene) -bis (3,4-dimethylcyclopentadienyl) zirconium dichloride and the like, and zirconium in these compounds There can be mentioned those substituted with titanium or hafnium. Of course, it is not limited to these. Further, a similar compound of a metal element of another group or a lanthanoid series may be used. (Ii) a compound represented by the following general formula (5) or (10)

【0038】[0038]

【化17】 Embedded image

【0039】[0039]

【化18】 Embedded image

【0040】(上記(5)及び(10)式中において、
3 及びE4 は、非置換又は置換シクロペンタジエニル
基、インデニル基,置換インデニル基,フルオレニル
基,置換フルオレニル基,ヘキサヒドロアズレニル基,
置換ヘキサヒドロアズレニル基,テトラヒドロインデニ
ル基,置換テトラヒドロインデニル基,テトラヒドロフ
ルオレニル基,置換テトラヒドロフルオレニル基,オク
タヒドロフルオレニル基,置換オクタヒドロフルオレニ
ル基であり、A3 及びA4 は、水素原子、炭素数1〜1
0のアルキル基、又はそれぞれ炭素数6〜20のアリー
ル基、アルキルアリール基、アリールアルキル基もしく
はハロゲン化アリール基、又は酸素、窒素、硫黄もしく
は珪素から選ばれたヘテロ原子を含む炭素数1〜20の
炭化水素基であり、QはE3 及びE4 を連結する炭素数
2〜10の炭化水素基又は珪素、ゲルマニウムもしくは
スズを含む炭素数1〜10の炭化水素基、又は炭素、珪
素、ゲルマニウムもしくはスズ原子であり、また、A3
及びA4 は互いに連結していてA3 ,A4 及びQの間で
環構造を形成していてもよい。R8 及びR9 はハロゲン
原子、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、珪素含
有アルキル基、それぞれ炭素数6〜20のアリール基、
アルキルアリール基もしくはアリールアルキル基であ
り、かつM2 はチタン、ジルコニウム又はハフニウムで
ある。) 上記において、E3 及びE4 として、具体的には、シク
ロペンタジエニル基、メチルシクロペンタジエニル基、
ジメチルシクロペンタジエニル基、テトラメチルシクロ
ペンタジエニル基、インデニル基、3−メチルインデニ
ル基、テトラヒドロインデニル基、フルオレニル基、メ
チルフルオレニル基、ヘキサヒドロアズレニル基、オク
タヒドロフルオレニル基、2,7−ジ−t−ブチルフル
オレニル基等を挙げることができる。
(In the above equations (5) and (10),
E 3 and E 4 represent an unsubstituted or substituted cyclopentadienyl group, an indenyl group, a substituted indenyl group, a fluorenyl group, a substituted fluorenyl group, a hexahydroazulenyl group,
Substituted hexahydroisochromeno Azure group, tetrahydroindenyl group, substituted tetrahydroindenyl groups, tetrahydrofluorenyl groups, substituted tetrahydrofluorenyl group, octahydrofluorenyl group, a substituted octahydrofluorenyl group, A 3 And A 4 are a hydrogen atom, a carbon number of 1 to 1
0 alkyl group, or aryl group having 6 to 20 carbon atoms, alkylaryl group, arylalkyl group or aryl halide group, or 1 to 20 carbon atoms containing a heteroatom selected from oxygen, nitrogen, sulfur or silicon. Q is a hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms linking E 3 and E 4 or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms including silicon, germanium or tin, or carbon, silicon, germanium Or a tin atom, and A 3
And A 4 may be linked to each other to form a ring structure among A 3 , A 4 and Q. R 8 and R 9 are a halogen atom, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a silicon-containing alkyl group, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms,
An alkylaryl group or an arylalkyl group, and M 2 is titanium, zirconium or hafnium. In the above, specific examples of E 3 and E 4 include a cyclopentadienyl group, a methylcyclopentadienyl group,
Dimethylcyclopentadienyl group, tetramethylcyclopentadienyl group, indenyl group, 3-methylindenyl group, tetrahydroindenyl group, fluorenyl group, methylfluorenyl group, hexahydroazulenyl group, octahydrofluorenyl And a 2,7-di-t-butylfluorenyl group.

【0041】また、A3 及びA4 として、具体的には、
水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、フェニル
基、トルイル基、フルオロフェニル基、メトキシフェニ
ル基、ベンジル基等を挙げることができる。さらに、A
3 及びA4 が互いに連結していてA3 ,A4 及びQの間
で環構造を形成している場合、A3 ,A4 及びQがなす
基としては、シクロペンチリデン基、シクロヘキシリデ
ン基、テトラヒドロピラン−4−イリデン基等を挙げる
ことができる。
As A 3 and A 4 , specifically,
Examples include a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a phenyl group, a toluyl group, a fluorophenyl group, a methoxyphenyl group, and a benzyl group. Furthermore, A
If 3 and A 4 are not linked to each other to form a ring structure between the A 3, A 4 and Q, A 3, Examples of the group A 4 and Q forms, cyclopentylidene group, cyclohexylidene And a tetrahydropyran-4-ylidene group.

【0042】R8 及びR9 の好ましい具体例としては、
塩素原子、メチル基、フェニル基、トリメチルシリルメ
チル基等を挙げることができる。上記の遷移金属化合物
として、具体的には、エチレンビス(1−インデニル)
ジルコニウムジクロリド、エチレンビス(テトラヒドロ
−1−インデニル)ジルコニウムジクロリド、イソプロ
ピリデン(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジ
ルコニウムジクロリド、メチルフェニルメチレン(シク
ロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジク
ロリド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニル)
(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、イソプロピ
リデン(9−フルオレニル)(1−インデニル)ジルコ
ニウムジクロリド、ジメチルシリル−ビス−(2−メチ
ルインデニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリ
ル−ビス−(2−メチルベンゾインデニル)ジルコニウ
ムジクロリド、ジメチルシリル−ビス−(2−メチル−
4−フェニルインデニル)ジルコニウムジクロリド、ジ
メチルシリル−ビス−(2−メチル−4−ナフチルイン
デニル)ジルコニウムジクロリド等を挙げることができ
る。 (iii)以下の一般式(6)で表される化合物
Preferred examples of R 8 and R 9 include:
Examples include a chlorine atom, a methyl group, a phenyl group, and a trimethylsilylmethyl group. As the above transition metal compound, specifically, ethylene bis (1-indenyl)
Zirconium dichloride, ethylenebis (tetrahydro-1-indenyl) zirconium dichloride, isopropylidene (cyclopentadienyl) (fluorenyl) zirconium dichloride, methylphenylmethylene (cyclopentadienyl) (fluorenyl) zirconium dichloride, diphenylmethylene (cyclopentadiyl) Enil)
(Fluorenyl) zirconium dichloride, isopropylidene (9-fluorenyl) (1-indenyl) zirconium dichloride, dimethylsilyl-bis- (2-methylindenyl) zirconium dichloride, dimethylsilyl-bis- (2-methylbenzoindenyl) zirconium Dichloride, dimethylsilyl-bis- (2-methyl-
4-phenylindenyl) zirconium dichloride, dimethylsilyl-bis- (2-methyl-4-naphthylindenyl) zirconium dichloride, and the like. (Iii) a compound represented by the following general formula (6)

【0043】[0043]

【化19】 Embedded image

【0044】(式中、M2 はチタン,ジルコニウム又は
ハフニウムであり、Cp* は、M2 にη5 結合様式で結
合するシクロペンタジエニル基,置換シクロペンタジエ
ニル基又はインデニル基,置換インデニル基,フルオレ
ニル基,置換フルオレニル基,ヘキサヒドロアズレニル
基,置換ヘキサヒドロアズレニル基,テトラヒドロイン
デニル基,置換テトラヒドロインデニル基,テトラヒド
ロフルオレニル基,置換テトラヒドロフルオレニル基,
オクタヒドロフルオレニル基,置換オクタヒドロフルオ
レニル基である。X1 はσ配位子を示し、nは1又は2
であり、複数のX 1 はたがいに同一でも異なっていても
よく、また、任意の基を介して結合していてもよい。Y
7 は、O,S,NR,PR又はCR2 であるか、又はO
R,SR,NR2 又はPR2 から選ばれた中性の2個電
子供与性配位子であり、Zは、SiR2 ,CR2 ,Si
2 SiR2 ,CR2 CR2 ,CR=CR,CRSiR
2 ,GeR2 ,BR,BR2 であり、ここにおいて、R
は、各々の場合に、水素,アルキル基,アリール基,シ
リル基,ハロゲン化アルキル,ハロゲン化アリール,及
びこれらの少なくとも2つの組合せからなり、20個以
下の非水素原子をもつものからなる群より選ばれたもの
である。さらに、2個又はそれ以上の上記R基はZ,又
はY7 とZの双方から縮合環系を形成していてもよ
い。) ここにおいて、置換シクロペンタジエニル基は、例え
ば、炭素数1〜6のアルキル基で1個以上置換されたシ
クロペンタジエニル基、具体的には、メチルシクロペン
タジエニル基;1,2−ジメチルシクロペンタジエニル
基;1,2,4−トリメチルシクロペンタジエニル基;
1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエニル
基;トリメチルシリルシクロペンタジエニル基;1,3
−ジ(トリメチルシリル)シクロペンタジエニル基;タ
ーシャリーブチルシクロペンタジエニル基;1,3−ジ
(ターシャリーブチル)シクロペンタジエニル基;炭素
数1〜20のハイドロカルビル基,ハロハイドロカルビ
ル基等である。また、置換インデニル基は、例えば、メ
チルインデニル基,ジメチルインデニル基,テトラメチ
ルインデニル基,ヘキサメチルインデニル基であり、置
換テトラヒドロインデニル基としては、例えば、4,
5,6,7−テトラヒドロインデニル基;1−メチル−
4,5,6,7−テトラヒドロインデニル基;2−メチ
ル−4,5,6,7−テトラヒドロインデニル基;1,
2−ジメチル−4,5,6,7−テトラヒドロインデニ
ル基;1,3−ジメチル−4,5,6,7−テトラヒド
ロインデニル基;1,2,3−トリメチル−4,5,
6,7−テトラヒドロインデニル基;1,2,3,4,
5,6,7−ヘプタメチル−4,5,6,7−テトラヒ
ドロインデニル基;1,2,4,5,6,7−ヘキサメ
チル−4,5,6,7−テトラヒドロインデニル基;
1,3,4,5,6,7−ヘキサメチル−4,5,6,
7−テトラヒドロインデニル基;4,5,6,7−テト
ラヒドロ−1,2,3トリメチルインデニル基等であ
り、置換フルオレニル基は、例えば、メチルフルオレニ
ル基,ジメチルフルオレニル基,テトラメチルフルオレ
ニル基,オクタメチルフルオレニル基である。置換テト
ラヒドロフルオレニル基は、例えば、1,2,3,4−
テトラヒドロフルオレニル基;9−メチル−1,2,
3,4−テトラヒドロフルオレニル基であり、置換オク
タヒドロフルオレニル基は、例えば、9−メチル−オク
タヒドロフルオレニル基等である。置換ヘキサヒドロア
ズレニル基としては、例えば、1−メチルヘキサヒドロ
アズレニル基,2−メチルヘキサヒドロアズレニル基,
1,2−ジメチルヘキサヒドロアズレニル基,1,3−
ジメチルヘキサヒドロアズレニル基,1,2,3−トリ
メチルヘキサヒドロアズレニル基である。
(Where MTwoIs titanium, zirconium or
Hafnium, Cp*Is MTwoTo ηFiveTied in a join style
Combined cyclopentadienyl group, substituted cyclopentadiene
Nil or indenyl group, substituted indenyl group, fluor
Nyl group, substituted fluorenyl group, hexahydroazulenyl
Group, substituted hexahydroazulenyl group, tetrahydroin
Denenyl group, substituted tetrahydroindenyl group, tetrahydrid
Rofluorenyl group, substituted tetrahydrofluorenyl group,
Octahydrofluorenyl group, substituted octahydrofluor
A enyl group. X1Represents a σ ligand, and n is 1 or 2
And multiple X 1Even if they are the same or different
And may be bonded via any group. Y
7Is O, S, NR, PR or CRTwoOr O
R, SR, NRTwoOr PRTwoNeutral two electricity selected from
Z is a SiRTwo, CRTwo, Si
RTwoSiRTwo, CRTwoCRTwo, CR = CR, CRSiR
Two, GeRTwo, BR, BRTwoWhere R
Represents, in each case, hydrogen, an alkyl group, an aryl group,
Ryl group, alkyl halide, aryl halide, and
And a combination of at least two of these
Selected from the group consisting of the following non-hydrogen atoms
It is. Further, two or more of the R groups may be Z,
Is Y7And Z may form a fused ring system
No. Here, the substituted cyclopentadienyl group is, for example,
For example, a group substituted by one or more alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms
Clopentadienyl group, specifically, methylcyclopen
Tadienyl group; 1,2-dimethylcyclopentadienyl
A group; a 1,2,4-trimethylcyclopentadienyl group;
1,2,3,4-tetramethylcyclopentadienyl
Group; trimethylsilylcyclopentadienyl group; 1,3
A di (trimethylsilyl) cyclopentadienyl group;
Tert-butylcyclopentadienyl group; 1,3-di
(Tert-butyl) cyclopentadienyl group; carbon
A hydrocarbyl group of formulas 1 to 20, halohydrocarb
And the like. Further, a substituted indenyl group is, for example,
Tilindenyl group, dimethylindenyl group, tetramethyl
A ruindenyl group and a hexamethylindenyl group.
As the substituted tetrahydroindenyl group, for example, 4,
5,6,7-tetrahydroindenyl group; 1-methyl-
4,5,6,7-tetrahydroindenyl group; 2-methyl
1,4,5,6,7-tetrahydroindenyl group;
2-dimethyl-4,5,6,7-tetrahydroindeni
1,3-dimethyl-4,5,6,7-tetrahydryl
Loindenyl group; 1,2,3-trimethyl-4,5
6,7-tetrahydroindenyl group; 1,2,3,4
5,6,7-heptamethyl-4,5,6,7-tetrahi
Droindenyl group; 1,2,4,5,6,7-hexame
A tyl-4,5,6,7-tetrahydroindenyl group;
1,3,4,5,6,7-hexamethyl-4,5,6
7-tetrahydroindenyl group; 4,5,6,7-tet
Lahydro-1,2,3 trimethylindenyl group, etc.
And a substituted fluorenyl group is, for example, methyl fluorenyl
Group, dimethylfluorenyl group, tetramethylfluoride
And an octamethylfluorenyl group. Replacement tet
Lahydrofluorenyl groups are, for example, 1,2,3,4-
Tetrahydrofluorenyl group; 9-methyl-1,2,2
A 3,4-tetrahydrofluorenyl group,
A tahydrofluorenyl group is, for example, 9-methyl-octyl.
And a tahydrofluorenyl group. Substituted hexahydroa
Examples of the zulenyl group include 1-methylhexahydro
Azulenyl group, 2-methylhexahydroazulenyl group,
1,2-dimethylhexahydroazulenyl group, 1,3-
Dimethylhexahydroazulenyl group, 1,2,3-tri
It is a methylhexahydroazulenyl group.

【0045】また、X1 はσ配位子であるが、具体的に
は、ハイドライド,ハロゲン,アルキル,シリル,アリ
ール,アリールシリル,アミド,アリールオキシ,アル
コキシ,シリルオキシ,ホスファイド,サルファイド,
アシル,シアニド,アジド,アセチルアセトネート等、
及びこれらの組み合わせをあげることができる。具体的
な化合物としては、(t−ブチルアミド)(テトラメチ
ルシクロペンタジエニル)1,2−エタンジイルジルコ
ニウムジクロライド,(t−ブチルアミド)(テトラメ
チルシクロペンタジエニル)1,2−エタンジイルチタ
ンジクロライド,(メチルアミド)(テトラメチルシク
ロペンタジエニル)1,2−エタンジイルジルコニウム
ジクロライド,(メチルアミド)(テトラメチルシクロ
ペンタジエニル)1,2−エタンジイルチタンジクロラ
イド,(エチルアミド)(テトラメチルシクロペンタジ
エニル)−メチレンチタンジクロライド,(t−ブチル
アミド)ジメチル(テトラメチルシクロペンタジエニ
ル)シランチタンジクロライド,(t−ブチルアミド)
ジメチル(テトラメチルシクロペンタジエニル)シラン
ジルコニウムジクロライド,(t−ブチルアミド)ジメ
チル(テトラメチルシクロペンタジエニル)シランチタ
ンジメチル,(t−ブチルアミド)ジメチル(テトラメ
チルシクロペンタジエニル)シランジルコニウムジメチ
ル,(t−ブチルアミド)ジメチル(テトラメチルシク
ロペンタジエニル)シランチタンジベンジル,(t−ブ
チルアミド)ジメチル(テトラメチルシクロペンタジエ
ニル)シランジルコニウムジベンジル,(ベンジルアミ
ド)ジメチル(テトラメチルシクロペンタジエニル)シ
ランチタンジクロライド,(フェニルホスフィド)ジメ
チル(テトラメチルシクロペンタジエニル)シランジル
コニウムジベンジル,(t−ブチルアミド)ジメチル
(テトラメチルシクロペンタジエニル)シランチタンク
ロライド,(ジメチルアミノエチル)テトラメチル−シ
クロペンタジエニルチタニウム(III)ジクロリド, 9−
(ジメチルアミノエチル)オクタヒドロ−フルオレニル
チタニウム(III)ジクロリド, (ジ−n−ブチルアミノ
エチル)テトラメチル−シクロペンタジエニルチタニウ
ム(III)ジクロリド, (ジメチルアミノメチル)テトラ
メチル−シクロペンタジエニルチタニウム(III)ジクロ
リド, (ジメチルアミノプロピル)テトラメチル−シク
ロペンタジエニルチタニウム(III)ジクロリド等が挙げ
られる。 (iv) 以下の一般式(11)で表されるπ配位子R10を1
個有する遷移金属化合物 M3 104n ・・・ (11) (式中、M3 は元素の周期律表の第4族の遷移金属元素
及びランタノイド系金属元素を表す。R10はπ配位子を
示し、具体的にはシクロペンタジエニル骨格を有する基
を表す。X4 は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜2
0の炭化水素基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素
数1〜20のチオアルコキシ基、炭素数6〜20のアリ
ール基、炭素数6〜20のアリールオキシ基、炭素数6
〜20のチオアリールオキシ基、アミノ基、アルキルシ
リル基等を表し、複数のX4 は同一でも異なっていても
よい。また該X4 は特定の基を介してR10と結合してい
てもよい。nはM3 の価数を示す。
X 1 is a σ ligand. Specifically, hydride, halogen, alkyl, silyl, aryl, arylsilyl, amide, aryloxy, alkoxy, silyloxy, phosphide, sulfide,
Acyl, cyanide, azide, acetylacetonate, etc.
And combinations thereof. Specific compounds include (t-butylamide) (tetramethylcyclopentadienyl) 1,2-ethanediylzirconium dichloride and (t-butylamide) (tetramethylcyclopentadienyl) 1,2-ethanediyltitanium dichloride. , (Methylamide) (tetramethylcyclopentadienyl) 1,2-ethanediylzirconium dichloride, (methylamide) (tetramethylcyclopentadienyl) 1,2-ethanediyltitanium dichloride, (ethylamide) (tetramethylcyclopentadiyl (Enyl) -methylene titanium dichloride, (t-butylamido) dimethyl (tetramethylcyclopentadienyl) silanetitanium dichloride, (t-butylamido)
Dimethyl (tetramethylcyclopentadienyl) silane zirconium dichloride, (t-butylamido) dimethyl (tetramethylcyclopentadienyl) silanetitanium dimethyl, (t-butylamido) dimethyl (tetramethylcyclopentadienyl) silanezirconium dimethyl, (t-butylamido) dimethyl (tetramethylcyclopentadienyl) silanetitanium dibenzyl, (t-butylamido) dimethyl (tetramethylcyclopentadienyl) silanezirconium dibenzyl, (benzylamido) dimethyl (tetramethylcyclopentadienyl) Silane titanium dichloride, (phenyl phosphide) dimethyl (tetramethyl cyclopentadienyl) silane zirconium dibenzyl, (t-butyl amide) dimethyl (tetramethyl cycle Pentadienyl) silane titanium dichloride, (dimethylaminoethyl) tetramethyl - cyclopentadienyl titanium (III) dichloride, 9-
(Dimethylaminoethyl) octahydro-fluorenyltitanium (III) dichloride, (di-n-butylaminoethyl) tetramethyl-cyclopentadienyltitanium (III) dichloride, (dimethylaminomethyl) tetramethyl-cyclopentadienyl Titanium (III) dichloride, (dimethylaminopropyl) tetramethyl-cyclopentadienyl titanium (III) dichloride, and the like. (Iv) The π ligand R 10 represented by the following general formula (11) is
M 3 R 10 X 4 n (11) (wherein, M 3 represents a transition metal element belonging to Group 4 of the periodic table of elements and a lanthanoid metal element. R 10 represents π X 4 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a carbon atom having 1 to 2 carbon atoms, and specifically represents a group having a cyclopentadienyl skeleton.
0 hydrocarbon group, C1-C20 alkoxy group, C1-C20 thioalkoxy group, C6-C20 aryl group, C6-C20 aryloxy group, C6-carbon
-20 represents a thioaryloxy group, an amino group, an alkylsilyl group, etc., and a plurality of X 4 may be the same or different. X 4 may be bonded to R 10 via a specific group. n represents the valence of M 3.

【0046】上記一般式(11)で表される化合物とし
て、例えば、モノ(シクロペンタジエニル)遷移金属化
合物、モノ(インデニル)遷移金属化合物、モノ(フル
オレニル)遷移金属化合物などがある。置換シクロペン
タジエニル基は、例えば、炭素数1〜6のアルキル基で
1個以上置換されたシクロペンタジエニル基、具体的に
は、メチルシクロペンタジエニル基;1,3−ジメチル
シクロペンタジエニル基;1,2,4−トリメチルシク
ロペンタジエニル基;1,2,3,4−テトラメチルシ
クロペンタジエニル基;トリメチルシリルシクロペンタ
ジエニル基;1,3−ジ(トリメチルシリル)シクロペ
ンタジエニル基;ターシャリーブチルシクロペンタジエ
ニル基;1,3−ジ(ターシャリーブチル)シクロペン
タジエニル基;ペンタメチルシクロペンタジエニル基な
どである。また、インデニル基,置換インデニル基,フ
ルオレニル基,置換フルオレニル基,ヘキサヒドロアズ
レニル基,置換ヘキサヒドロアズレニル基,テトラヒド
ロインデニル基,置換テトラヒドロインデニル基,テト
ラヒドロフルオレニル基,置換テトラヒドロフルオレニ
ル基,オクタヒドロフルオレニル基,置換オクタヒドロ
フルオレニル基である。遷移金属としてはチタンが好ま
しく用いられる。チタン化合物の具体例としては、シク
ロペンタジエニルトリメチルチタン、シクロペンタジエ
ニルトリエチルチタン、シクロペンタジエニルトリプロ
ピルチタン、シクロペンタジエニルトリブチルチタン、
メチルシクロペンタジエニルトリメチルチタン、1,2
−ジメチルシクロペンタジエニルトリメチルチタン、
1,2,4−トリメチルシクロペンタジエニルトリメチ
ルチタン、1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタ
ジエニルトリメチルチタン、ペンタメチルシクロペンタ
ジエニルトリメチルチタン、ペンタメチルシクロペンタ
ジエニルトリメチルチタン、ペンタメチルシクロペンタ
ジエニルトリエチルチタン、ペンタメチルシクロペンタ
ジエニルトリプロピルチタン、ペンタメチルシクロペン
タジエニルトリブチルチタン、シクロペンタジエニルメ
チルチタンジクロリド、シクロペンタジエニルエチルチ
タンジクロリド、ペンタメチルシクロペンタジエニルメ
チルチタンジクロリド、ペンタメチルシクロペンタジエ
ニルエチルチタンジクロリド、シクロペンタジエニルジ
メチルチタンモノクロリド、シクロペンタジエニルジエ
チルチタンモノクロリド、シクロペンタジエニルチタン
トリメトキシド、シクロペンタジエニルチタントリエト
キシド、シクロペンタジエニルチタントリプロポキシ
ド、シクロペンタジエニルチタントリフェノキシド、ペ
ンタメチルシクロペンタジエニルチタントリメトキシ
ド、ペンタメチルシクロペンタジエニルチタントリエト
キシド、ペンタメチルシクロペンタジエニルチタントリ
プロポキシド、ペンタメチルシクロペンタジエニルチタ
ントリフェノキシド、シクロペンタジエニルチタントリ
クロリド、ペンタメチルシクロペンタジエニルチタント
リクロリド、シクロペンタジエニルメトキシチタンジク
ロリド、シクロペンタジエニルジメトキシチタンクロリ
ド、ペンタメチルシクロペンタジエニルメトキシチタン
ジクロリド、シクロペンタジエニルトリベンジルチタ
ン、ペンタメチルシクロペンタジエニルメチルジエトキ
シチタン、インデニルチタントリクロリド、インデニル
チタントリメトキシド、インデニルチタントリエトキシ
ド、インデニルトリメチルチタン、インデニルトリベン
ジルチタン、ペンタメチルシクロペンタジエニルチタン
トリチオメトキシド、ペンタメチルシクロペンタジエニ
ルチタントリチオフェノキシド、(1,2,3,4,
5,6,7,8−オクタヒドロフルオレニル)チタント
リクロリド、(1,2,3,4,5,6,7,8−オク
タヒドロフルオレニル)チタントリメトキシド等が挙げ
られる。 (V) 下記一般式(12)で表される化合物
Examples of the compound represented by the general formula (11) include a mono (cyclopentadienyl) transition metal compound, a mono (indenyl) transition metal compound, and a mono (fluorenyl) transition metal compound. The substituted cyclopentadienyl group is, for example, a cyclopentadienyl group substituted by one or more alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, specifically, a methylcyclopentadienyl group; 1,3-dimethylcyclopentane 1,2,3-trimethylcyclopentadienyl group; 1,2,3,4-tetramethylcyclopentadienyl group; trimethylsilylcyclopentadienyl group; 1,3-di (trimethylsilyl) cyclopenta Dienyl group; tertiary butyl cyclopentadienyl group; 1,3-di (tertiary butyl) cyclopentadienyl group; pentamethylcyclopentadienyl group. Also, an indenyl group, a substituted indenyl group, a fluorenyl group, a substituted fluorenyl group, a hexahydroazulenyl group, a substituted hexahydroazulenyl group, a tetrahydroindenyl group, a substituted tetrahydroindenyl group, a tetrahydrofluorenyl group, a substituted tetrahydrofluoryl A octyl group, an octahydrofluorenyl group and a substituted octahydrofluorenyl group. Titanium is preferably used as the transition metal. Specific examples of the titanium compound include cyclopentadienyl trimethyl titanium, cyclopentadienyl triethyl titanium, cyclopentadienyl tripropyl titanium, cyclopentadienyl tributyl titanium,
Methylcyclopentadienyltrimethyltitanium, 1,2
-Dimethylcyclopentadienyltrimethyltitanium,
1,2,4-trimethylcyclopentadienyltrimethyltitanium, 1,2,3,4-tetramethylcyclopentadienyltrimethyltitanium, pentamethylcyclopentadienyltrimethyltitanium, pentamethylcyclopentadienyltrimethyltitanium, penta Methylcyclopentadienyltriethyltitanium, pentamethylcyclopentadienyltripropyltitanium, pentamethylcyclopentadienyltributyltitanium, cyclopentadienylmethyltitanium dichloride, cyclopentadienylethyltitanium dichloride, pentamethylcyclopentadienylmethyl Titanium dichloride, pentamethylcyclopentadienylethyl titanium dichloride, cyclopentadienyl dimethyl titanium monochloride, cyclopentadienyl diethyl titanium monochloride Lido, cyclopentadienyl titanium trimethoxide, cyclopentadienyl titanium triethoxide, cyclopentadienyl titanium tripropoxide, cyclopentadienyl titanium triphenoxide, pentamethylcyclopentadienyl titanium trimethoxide, pentamethyl Cyclopentadienyl titanium triethoxide, pentamethylcyclopentadienyl titanium tripropoxide, pentamethylcyclopentadienyl titanium triphenoxide, cyclopentadienyl titanium trichloride, pentamethylcyclopentadienyl titanium trichloride, cyclopenta Dienylmethoxytitanium dichloride, cyclopentadienyldimethoxytitanium chloride, pentamethylcyclopentadienylmethoxytitanium dichloride, cyclopentadienyltrichloride Titanium titanium, pentamethylcyclopentadienylmethyldiethoxytitanium, indenyltitanium trichloride, indenyltitaniumtrimethoxide, indenyltitaniumtriethoxide, indenyltrimethyltitanium, indenyltribenzyltitanium, pentamethylcyclopentadienyl Titanium trithiomethoxide, pentamethylcyclopentadienyltitanium trithiophenoxide, (1,2,3,4,
5,6,7,8-octahydrofluorenyl) titanium trichloride, (1,2,3,4,5,6,7,8-octahydrofluorenyl) titanium trimethoxide and the like. (V) a compound represented by the following general formula (12)

【0047】[0047]

【化20】 Embedded image

【0048】(式中、M4 は元素の周期律表の第4族の
遷移金属元素を、Cpはシクロペンタジエニル骨格を有
する基を表す。Y7 はO,S,NR,PR又はCR2
あるか、又はOR,SR,NR2 又はPR2 から選ばれ
た中性の2個電子供与性配位子であり、Bは元素の周期
律表の第14族の原子を表す(ただし、Rは、各々の場
合に、水素,アルキル基,アリール基,シリル基,ハロ
ゲン化アルキル,ハロゲン化アリール,及び20個まで
の非水素原子をもつそれらの組み合わせから選ばれた部
分である)。X5 ,X6 は水素原子、ハロゲン原子、炭
素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のハロゲン
化炭化水素基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数
1〜20のアリールオキシ基又は炭素数2〜20の2置
換アミノ基を表し、それらは同一でも異なっていてもよ
い。R11〜R16は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜
20の炭化水素基、炭素数1〜20のハロゲン化炭化水
素基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20
のアリールオキシ基又は炭素数2〜20の2置換アミノ
基又は炭素数1〜20のシリル基を表し、それらは同一
でも異なっていてもよい。さらにそれらは任意に結合し
て環を形成してもよい。) 上記Cpにおけるシクロペンタジエニル骨格を有する基
とは、シクロペンタジエニル基,置換シクロペンタジエ
ニル基又はインデニル基,置換インデニル基,フルオレ
ニル基,置換フルオレニル基,ヘキサヒドロアズレニル
基,置換ヘキサヒドロアズレニル基,テトラヒドロイン
デニル基,置換テトラヒドロインデニル基,テトラヒド
ロフルオレニル基,置換テトラヒドロフルオレニル基,
オクタヒドロフルオレニル基,置換オクタヒドロフルオ
レニル基等をいう。また、Bとしては、炭素原子、珪素
原子、ゲルマニウム原子が挙げられ、中でも、炭素原
子、珪素原子が好ましい。
(Wherein M 4 represents a transition metal element of Group 4 of the periodic table of elements, Cp represents a group having a cyclopentadienyl skeleton. Y 7 represents O, S, NR, PR or CR. 2 or a neutral two-electron donating ligand selected from OR, SR, NR 2 or PR 2 , and B represents an atom of Group 14 of the periodic table of the element (provided that , R is in each case a moiety selected from hydrogen, alkyl, aryl, silyl, alkyl halide, aryl halide, and combinations thereof having up to 20 non-hydrogen atoms). X 5 and X 6 are a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and an aryl having 1 to 20 carbon atoms. Represents an oxy group or a disubstituted amino group having 2 to 20 carbon atoms, Et good be the same or different .R 11 to R 16 is a hydrogen atom, a halogen atom, 1 to carbon atoms
20 hydrocarbon groups, halogenated hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms, alkoxy groups having 1 to 20 carbon atoms, 1 to 20 carbon atoms
Or a disubstituted amino group having 2 to 20 carbon atoms or a silyl group having 1 to 20 carbon atoms, which may be the same or different. Further, they may be arbitrarily combined to form a ring. The group having a cyclopentadienyl skeleton in the above Cp means a cyclopentadienyl group, a substituted cyclopentadienyl group or an indenyl group, a substituted indenyl group, a fluorenyl group, a substituted fluorenyl group, a hexahydroazulenyl group, a substituted hexagon. Hydroazulenyl, tetrahydroindenyl, substituted tetrahydroindenyl, tetrahydrofluorenyl, substituted tetrahydrofluorenyl,
It refers to an octahydrofluorenyl group, a substituted octahydrofluorenyl group and the like. Examples of B include a carbon atom, a silicon atom and a germanium atom, and among them, a carbon atom and a silicon atom are preferable.

【0049】上記一般式(12)で表される化合物とし
ては、具体的には、イソプロピリデン(シクロペンタジ
エニル)(3−t−ブチル−5−メチル−2−フェノキ
シ)チタニウムジクロリド、イソプロピリデン(メチル
シクロペンタジエニル)(3−t−ブチル−5−メチル
−2−フェノキシ)チタニウムジクロリド、イソプロピ
リデン(ジメチルシクロペンタジエニル)(3−t−ブ
チル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロ
リド、イソプロピリデン(トリメチルシクロペンタジエ
ニル)(3−t−ブチル−5−メチル−2−フェノキ
シ)チタニウムジクロリド、イソプロピリデン(テトラ
メチルシクロペンタジエニル)(3−t−ブチル−5−
メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロリド、イソ
プロピリデン(n−プロピルシクロペンタジエニル)
(3−t−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタ
ニウムジクロリド、イソプロピリデン(第1級ブチルシ
クロペンタジエニル)(3−t−ブチル−5−メチル−
2−フェノキシ)チタニウムジクロリド、イソプロピリ
デン(フェニルシクロペンタジエニル)(3−t−ブチ
ル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロリ
ド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(3−
t−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロリド、
イソプロピリデン(メチルシクロペンタジエニル)(3
−t−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロリ
ド、イソプロピリデン(ジメチルシクロペンタジエニ
ル)(3−t−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジ
クロリド、イソプロピリデン(トリメチルシクロペンタ
ジエニル)(3−t−ブチル−2−フェノキシ)チタニ
ウムジクロリド、イソプロピリデン(テトラメチルシク
ロペンタジエニル)(3−t−ブチル−2−フェノキ
シ)チタニウムジクロリド、、イソプロピリデン(n−
プロピルシクロペンタジエニル)(3−t−ブチル−2
−フェノキシ)チタニウムジクロリド、イソプロピリデ
ン(第1級ブチルシクロペンタジエニル)(3−t−ブ
チル−2−フェノキシ)チタニウムジクロリド、イソプ
ロピリデン(フェニルシクロペンタジエニル)(3−t
−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロリド、イ
ソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(2−フェノ
キシ)チタニウムジクロリド、イソプロピリデン(メチ
ルシクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウ
ムジクロリド、イソプロピリデン(ジメチルシクロペン
タジエニル)(2−フェノキシ)チタニウムジクロライ
ド、イソプロピリデン(トリメチルシクロペンタジエニ
ル)(2−フェノキシ)チタニウムジクロリド、イソプ
ロピリデン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(2
−フェノキシ)チタニウムジクロリド、イソプロピリデ
ン(n−プロピルシクロペンタジエニル)(2−フェノ
キシ)チタニウムジクロリド、イソプロピリデン(第1
級ブチルシクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チ
タニウムジクロリド、イソプロピリデン(フェニルシク
ロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウムジク
ロリド、等が挙げられる。また、上記の具体例における
チタニウムをジルコニウム或いはハフニウムに変更した
化合物、及びそれらをイソプロピリデンをジメチルシリ
レン、ジフェニルシリレン、メチレンに変更した化合物
についても同様に例示できる。更に、ジクロリド、をジ
ブロミド、ジアイオダイド、ジメチル、ジベンジル、ジ
メトキシド、ジエトキシドに変更した化合物についても
同様に例示できる。
Specific examples of the compound represented by the above general formula (12) include isopropylidene (cyclopentadienyl) (3-t-butyl-5-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride, isopropylidene (Methylcyclopentadienyl) (3-t-butyl-5-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride, isopropylidene (dimethylcyclopentadienyl) (3-t-butyl-5-methyl-2-phenoxy) titanium Dichloride, isopropylidene (trimethylcyclopentadienyl) (3-t-butyl-5-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride, isopropylidene (tetramethylcyclopentadienyl) (3-t-butyl-5-
Methyl-2-phenoxy) titanium dichloride, isopropylidene (n-propylcyclopentadienyl)
(3-t-butyl-5-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride, isopropylidene (primary butylcyclopentadienyl) (3-t-butyl-5-methyl-
2-phenoxy) titanium dichloride, isopropylidene (phenylcyclopentadienyl) (3-t-butyl-5-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride, isopropylidene (cyclopentadienyl) (3-
t-butyl-2-phenoxy) titanium dichloride,
Isopropylidene (methylcyclopentadienyl) (3
-T-butyl-2-phenoxy) titanium dichloride, isopropylidene (dimethylcyclopentadienyl) (3-t-butyl-2-phenoxy) titanium dichloride, isopropylidene (trimethylcyclopentadienyl) (3-t-butyl -2-phenoxy) titanium dichloride, isopropylidene (tetramethylcyclopentadienyl) (3-t-butyl-2-phenoxy) titanium dichloride, isopropylidene (n-
Propylcyclopentadienyl) (3-t-butyl-2
-Phenoxy) titanium dichloride, isopropylidene (primary butylcyclopentadienyl) (3-t-butyl-2-phenoxy) titanium dichloride, isopropylidene (phenylcyclopentadienyl) (3-t
-Butyl-2-phenoxy) titanium dichloride, isopropylidene (cyclopentadienyl) (2-phenoxy) titanium dichloride, isopropylidene (methylcyclopentadienyl) (2-phenoxy) titanium dichloride, isopropylidene (dimethylcyclopentadiene) Enyl) (2-phenoxy) titanium dichloride, isopropylidene (trimethylcyclopentadienyl) (2-phenoxy) titanium dichloride, isopropylidene (tetramethylcyclopentadienyl) (2
-Phenoxy) titanium dichloride, isopropylidene (n-propylcyclopentadienyl) (2-phenoxy) titanium dichloride, isopropylidene (first
Tert-butylcyclopentadienyl) (2-phenoxy) titanium dichloride, isopropylidene (phenylcyclopentadienyl) (2-phenoxy) titanium dichloride, and the like. The same applies to compounds in which titanium is changed to zirconium or hafnium and compounds in which isopropylidene is changed to dimethylsilylene, diphenylsilylene, or methylene in the above specific examples. Further, compounds obtained by changing dichloride to dibromide, diiodide, dimethyl, dibenzyl, dimethoxide, and diethoxide can be similarly exemplified.

【0050】以上の遷移金属化合物の中で、共重合性が
優れていることから、一般式(5)または一般式(6)
で表されるものを用いて本発明のエチレン系共重合体を
製造することが好ましい。さらに好ましくは、一般式
(6)を用いた場合である。
Among the above transition metal compounds, because of their excellent copolymerizability, general formula (5) or general formula (6)
It is preferable to produce the ethylene copolymer of the present invention using the compound represented by More preferably, the case where the general formula (6) is used.

【0051】(b)(イ)酸素含有化合物及び/又は
(ロ)遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成
しうる化合物 本発明において用いられる重合用触媒の(b)成分とし
ては、以下に示す、(イ)酸素含有化合物及び/又は
(ロ)遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成
しうる化合物である。 (イ)成分の酸素含有化合物 下記一般式(2)で表される化合物
(B) (a) Compound capable of forming an ionic complex by reacting with an oxygen-containing compound and / or (ii) a transition metal compound The component (b) of the polymerization catalyst used in the present invention includes: The compounds shown below can react with an oxygen-containing compound and / or a transition metal compound to form an ionic complex. (A) Oxygen-containing compound as a component Compound represented by the following general formula (2)

【0052】[0052]

【化21】 Embedded image

【0053】及び/又は一般式(3)And / or general formula (3)

【0054】[0054]

【化22】 Embedded image

【0055】で表される酸素含有化合物である。上記一
般式(2) 及び(3)において、R1 〜R7 はそれぞれ
炭素数1〜8のアルキル基を示し、具体的にはメチル
基,エチル基,n−プロピル基,イソプロピル基,各種
ブチル基,各種ペンチル基,各種ヘキシル基,各種ヘプ
チル基,各種オクチル基が挙げられる。R1 〜R5 はた
がいに同一でも異なっていてもよく、R6 及びR7 はた
がいに同一でも異なっていてもよい。Y1 〜Y5 はそれ
ぞれ周期律表13族元素を示し、具体的にはB,Al,
Ga,In及びTlが挙げられるが、これらの中でB及
びAlが好適である。Y1 〜Y3 はたがいに同一でも異
なっていてもよく、Y4 及びY5 はたがいに同一でも異
なっていてもよい。また、a〜dはそれぞれ0〜50の
数であるが、(a+b)及び(c+d)はそれぞれ1以
上である。a〜dとしては、それぞれ1〜20の範囲が
好ましく、特に1〜5の範囲が好ましい。
An oxygen-containing compound represented by the formula: In the above general formulas (2) and (3), R 1 to R 7 each represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, specifically, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, and various butyl groups. Groups, various pentyl groups, various hexyl groups, various heptyl groups, and various octyl groups. R 1 to R 5 may be the same or different, and R 6 and R 7 may be the same or different. Y 1 to Y 5 each represent a Group 13 element of the periodic table, and specifically, B, Al,
Ga, In, and Tl are mentioned, and among them, B and Al are preferable. Y 1 to Y 3 may be the same or different, and Y 4 and Y 5 may be the same or different. Also, a to d are numbers of 0 to 50, respectively, and (a + b) and (c + d) are each 1 or more. Each of a to d is preferably in the range of 1 to 20, and particularly preferably in the range of 1 to 5.

【0056】このような触媒成分として用いる酸素含有
化合物、特にアルキルアルミノキサンの好適な例は、 1
H−NMRスペクトルで観測されるアルミニウム・メチ
ル基(Al−CH3 )結合に基づくメチルプロトンシグ
ナル領域における高磁場成分が50%以下のものであ
る。つまり、上記の接触生成物を室温下、トルエン溶媒
中でその 1H−NMRスペクトルを観測すると、「Al
−CH3 」に基づくメチルプロトンシグナルはテトラメ
チルシラン(TMS)基準において1.0〜−0.5ppm
の範囲に見られる。TMSのプロトンシグナル(0pp
m)が「Al−CH3 」に基づくメチルプロトン観測領
域にあるため、この「Al−CH3 」に基づくメチルプ
ロトンシグナルを、TMS基準におけるトルエンのメチ
ルプロトンシグナル2.35ppmを基準に測定し高磁場
成分(即ち、0.1〜−0.5ppm)と他の磁場成分(即
ち、1.0〜−0.1ppm)とに分けたときに、該高磁場
成分が全体の50%以下、好ましくは45〜5%のもの
が触媒成分として好適に使用できる。 (ロ)遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成
しうる化合物 遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成しうる
化合物としては、複数の基が金属に結合したアニオンと
カチオンとからなる配位錯化合物又はルイス酸を挙げる
ことができる。複数の基が金属に結合したアニオンとカ
チオンとからなる配位錯化合物としては様々なものがあ
るが、例えば下記一般式(13) 又は(14)で表される化
合物を好適に使用することができる。
[0056] Suitable examples of oxygen containing compounds, in particular alkyl aluminoxane used as such a catalyst component, 1
H-NMR aluminum methyl group (Al-CH 3) observed in the spectral high magnetic field component in the methyl proton signal region based on the binding is of 50% or less. That is, when the 1 H-NMR spectrum of the above contact product in a toluene solvent at room temperature was observed, it was found that “Al
The methyl proton signal based on “—CH 3 ” is 1.0 to −0.5 ppm based on tetramethylsilane (TMS).
Seen in the range. TMS proton signal (0pp
m) is in the methyl proton observation region based on “Al—CH 3 ”, and therefore, the methyl proton signal based on “Al—CH 3 ” was measured based on 2.35 ppm of the methyl proton signal of toluene based on TMS. When divided into a magnetic field component (i.e., 0.1 to -0.5 ppm) and another magnetic field component (i.e., 1.0 to -0.1 ppm), the high magnetic field component is 50% or less of the whole, preferably The one having 45 to 5% can be suitably used as a catalyst component. (B) Compound capable of forming an ionic complex by reacting with a transition metal compound Examples of the compound capable of forming an ionic complex by reacting with a transition metal compound include an anion and a cation having a plurality of groups bonded to a metal. Or a Lewis acid. There are various coordination complex compounds comprising an anion and a cation having a plurality of groups bonded to a metal. For example, a compound represented by the following general formula (13) or (14) is preferably used. it can.

【0057】 (〔L1 −H〕g+h (〔M5 7 8 ・・・Xn (n-m)-i ・・・(13) (〔L2 g+h (〔M6 7 8 ・・・Xn (n-m)-i ・・・(14) 〔式(13) 又は(14)中、L1 はルイス塩基、L2 は後
述のM7 ,R17188,R19 3 C又はR19 4 Nであ
り、M5 及びM6 はそれぞれ周期律表の5族〜15族か
ら選ばれる金属、M7 は周期律表の1族及び8族〜12
族から選ばれる金属、M8 は周期律表の8族〜10族か
ら選ばれる金属、X7 〜Xn はそれぞれ水素原子,ジア
ルキルアミノ基,アルコキシ基,アリールオキシ基,炭
素数1〜20のアルキル基,炭素数6〜20のアリール
基,アルキルアリール基,アリールアルキル基,置換ア
ルキル基,有機メタロイド基又はハロゲン原子を示す。
17及びR18はそれぞれシクロペンタジエニル基,置換
シクロペンタジエニル基,インデニル基又はフルオレニ
ル基、R19はアルキル基を示す。mはM5 ,M6 の原子
価で1〜7の整数、nは2〜8の整数、gはL1 −H,
2 のイオン価数で1〜7の整数、hは1以上の整数,
i=h×g/(n−m)である。〕 M5 及びM6 の具体例としてはB,Al,Si,P,A
s,Sbなどの各原子、M7 の具体例としてはAg,C
u,Na,Liなどの各原子、M8 の具体例としてはF
e,Co,Niなどの各原子が挙げられる。X7 〜Xn
の具体例としては、例えば、ジアルキルアミノ基として
ジメチルアミノ基,ジエチルアミノ基など、アルコキシ
基としてメトキシ基,エトキシ基,n−ブトキシ基な
ど、アリールオキシ基としてフェノキシ基,2,6−ジ
メチルフェノキシ基,ナフチルオキシ基など、炭素数1
〜20のアルキル基としてメチル基,エチル基,n−プ
ロピル基,イソプロピル基,n−ブチル基,n−オクチ
ル基,2−エチルヘキシル基など、炭素数6〜20のア
リール基,アルキルアリール基若しくはアリールアルキ
ル基としてフェニル基,p−トリル基,ベンジル基,ペ
ンタフルオロフェニル基,3,5−ジ(トリフルオロメ
チル)フェニル基,4−ターシャリ−ブチルフェニル
基,2,6−ジメチルフェニル基,3,5−ジメチルフ
ェニル基,2,4−ジメチルフェニル基,1,2−ジメ
チルフェニル基など、ハロゲンとしてF,Cl,Br,
I、有機メタロイド基として五メチルアンチモン基,ト
リメチルシリル基,トリメチルゲルミル基,ジフェニル
アルシン基,ジシクロヘキシルアンチモン基,ジフェニ
ル硼素基などが挙げられる。R17及びR18のそれぞれで
表される置換シクロペンタジエニル基の具体例として
は、メチルシクロペンタジエニル基,ブチルシクロペン
タジエニル基,ペンタメチルシクロペンタジエニル基な
どが挙げられる。
([L 1 -H] g + ) h ([M 5 X 7 X 8 ... X n ] (nm)- ) i ... (13) ([L 2 ] g + ) h ([M 6 X 7 X 8 ... X n ] (nm)- ) i ... (14) [In the formula (13) or (14), L 1 is a Lewis base, and L 2 is M 7 or R 17 described below. R 18 M 8, a R 19 3 C or R 19 4 N, metal selected from 5 to group 15 of M 5 and M 6 are each periodic table, M 7 group 1 of the periodic table and group 8 ~ 12
M 8 is a metal selected from Groups 8 to 10 of the periodic table, and X 7 to X n are a hydrogen atom, a dialkylamino group, an alkoxy group, an aryloxy group, and a C 1 to C 20 group, respectively. It represents an alkyl group, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an alkylaryl group, an arylalkyl group, a substituted alkyl group, an organic metalloid group, or a halogen atom.
R 17 and R 18 each represent a cyclopentadienyl group, a substituted cyclopentadienyl group, an indenyl group or a fluorenyl group, and R 19 represents an alkyl group. m is a valence of M 5 or M 6 and is an integer of 1 to 7, n is an integer of 2 to 8, g is L 1 -H,
Ion valence of 1-7 integer L 2, h is an integer of 1 or more,
i = h × g / (nm). ] Specific examples of M 5 and M 6 B, Al, Si, P, A
Ag, C are specific examples of each atom such as s and Sb, and M 7.
Examples of each atom such as u, Na, Li, and M 8 are F
e, Co, Ni and the like. X 7 ~X n
Specific examples of the above include, for example, a dimethylamino group, a diethylamino group or the like as a dialkylamino group, a methoxy group, an ethoxy group, an n-butoxy group or the like as an alkoxy group, a phenoxy group, a 2,6-dimethylphenoxy group as an aryloxy group, 1 carbon atom such as naphthyloxy group
And an alkyl group having 6 to 20 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an n-octyl group, and a 2-ethylhexyl group. Examples of the alkyl group include phenyl, p-tolyl, benzyl, pentafluorophenyl, 3,5-di (trifluoromethyl) phenyl, 4-tert-butylphenyl, 2,6-dimethylphenyl, Examples of halogen such as 5-dimethylphenyl group, 2,4-dimethylphenyl group, and 1,2-dimethylphenyl group include F, Cl, Br,
I. Examples of the organic metalloid group include a pentamethylantimony group, a trimethylsilyl group, a trimethylgermyl group, a diphenylarsine group, a dicyclohexylantimony group, and a diphenylboron group. Specific examples of the substituted cyclopentadienyl group represented by each of R 17 and R 18 include a methylcyclopentadienyl group, a butylcyclopentadienyl group, and a pentamethylcyclopentadienyl group.

【0058】本発明において、複数の基が金属に結合し
たアニオンとしては、具体的にはB( C6 5)4 - ,B
( C6 HF4)4 - ,B( C6 2 3)4 - ,B( C6
3 2)4 - ,B( C6 4 F)4 - ,B( C6 (CF3
4)4 - ,B( C6 54 - ,PF6 -,P( C6 5)
6 - ,Al(C6 HF4)4 - などが挙げられる。また、
金属カチオンとしては、Cp2 Fe+ ,(MeCp)2
Fe+ ,(tBuCp)2 Fe+ ,(Me2 Cp)2
+ ,(Me3 Cp)2 Fe+ ,(Me4 Cp)2 Fe
+ ,(Me5 Cp)2 Fe+ ,Ag+ , Na+ ,Li+
などが挙げられ、またその他カチオンとしては、ピリジ
ニウム,2,4−ジニトロ−N,N−ジエチルアニリニ
ウム,ジフェニルアンモニウム,p−ニトロアニリニウ
ム,2,5−ジクロロアニリン,p−ニトロ−N,N−
ジメチルアニリニウム,キノリニウム,N,N−ジメチ
ルアニリニウム,N,N−ジエチルアニリニウム、N,
N,N−トリメチルアニリニウム、N−メチル−2−シ
アノ−ピリジニウム、N−ベンジル−4−シアノ−ピリ
ジニウムなどの窒素含有化合物、トリフェニルカルベニ
ウム,トリ(4−メチルフェニル)カルベニウム,トリ
(4−メトキシフェニル)カルベニウムなどのカルベニ
ウム化合物、CH3 PH3 + ,C2 5 PH 3 + ,C3
7 PH3 + ,(CH3 2 PH2 + ,(C2 5 2
PH2 + ,(C3 7 2 PH2 + ,(CH3 3 PH
+,(C2 5 3 PH +,(C3 7 3 PH +
(CF3 3 PH +,(CH3 4 + ,(C2 5
4 + ,(C3 7 4 + 等のアルキルフォスフォニ
ウムイオン,及びC6 5 PH3 + ,(C6 5 2
2 + ,(C6 5 3 PH+ ,(C6 5 4 +
(C2 5 2 (C6 5 )PH+ ,(CH3 )(C6
5 )PH2 + ,(CH32 (C6 5 )PH+
(C2 5 2 (C6 5 2 + などのアリールフォ
スフォニウムイオンなどが挙げられる。
In the present invention, a plurality of groups are bonded to a metal.
As the anion, specifically, B (C6FFive)Four -, B
(C6HFFour)Four -, B (C6HTwoFThree)Four -, B (C6H
ThreeF Two)Four -, B (C6HFourF)Four -, B (C6(CFThree)
FFour)Four -, B (C6HFive)Four - , PF6 -, P (C6FFive)
6 -, Al (C6HFFour)Four -And the like. Also,
As the metal cation, CpTwoFe+, (MeCp)Two
Fe+, (TBuCp)TwoFe+, (MeTwoCp)TwoF
e+, (MeThreeCp)TwoFe+, (MeFourCp)TwoFe
+, (MeFiveCp)TwoFe+, Ag+, Na+, Li+
And other cations include pyridi
, 2,4-Dinitro-N, N-diethylanilini
, Diphenylammonium, p-nitroanilinium
, 2,5-dichloroaniline, p-nitro-N, N-
Dimethylanilinium, quinolinium, N, N-dimethyl
Luanilinium, N, N-diethylanilinium, N,
N, N-trimethylanilinium, N-methyl-2-cy
Ano-pyridinium, N-benzyl-4-cyano-pyri
Nitrogen-containing compounds such as dinium, triphenylcarbeni
, Tri (4-methylphenyl) carbenium, tri
Carbeni such as (4-methoxyphenyl) carbenium
Compound, CHThreePHThree +, CTwoHFivePH Three +, CThree
H7PHThree +, (CHThree)TwoPHTwo +, (CTwoHFive)Two
PHTwo +, (CThreeH7)TwoPHTwo +, (CHThree)ThreePH
+, (CTwoHFive)ThreePH+, (CThreeH 7)ThreePH+,
(CFThree)ThreePH+, (CHThree)FourP+, (CTwoHFive)
FourP+, (CThreeH7)FourP+Alkylphosphoni such as
Um ion and C6HFivePHThree +, (C6HFive)TwoP
HTwo +, (C6HFive)ThreePH+, (C6HFive)FourP+,
(CTwoHFive)Two(C6HFive) PH+, (CHThree) (C6
HFive) PHTwo +, (CHThree)Two(C6HFive) PH+,
(CTwoHFive)Two(C6HFive)TwoP+Arylpho
Sponium ions and the like can be mentioned.

【0059】一般式(13) 及び(14)の化合物の中で、
具体的には、下記のものを特に好適に使用できる。一般
式(13) の化合物としては、例えばテトラフェニル硼酸
トリエチルアンモニウム,テトラフェニル硼酸トリ(n
−ブチル)アンモニウム,テトラフェニル硼酸トリメチ
ルアンモニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)硼酸トリエチルアンモニウム,テトラキス(ペンタ
フルオロフェニル)硼酸トリ(n−ブチル)アンモニウ
ム,ヘキサフルオロ砒素酸トリエチルアンモニウム,テ
トラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸ピリジニウ
ム,テトラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸ピロリニウ
ム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸N,N
−ジメチルアニリニウム,テトラキス(ペンタフルオロ
フェニル)硼酸メチルジフェニルアンモニウムなどが挙
げられる。一方、一般式(14)の化合物としては、例え
ばテトラフェニル硼酸フェロセニウム,テトラキス(ペ
ンタフルオロフェニル)硼酸ジメチルフェロセニウム,
テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸フェロセニ
ウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸デカ
メチルフェロセニウム,テトラキス(ペンタフルオロフ
ェニル)硼酸アセチルフェロセニウム,テトラキス(ペ
ンタフルオロフェニル)硼酸ホルミルフェロセニウム,
テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸シアノフェ
ロセニウム,テトラフェニル硼酸銀,テトラキス(ペン
タフルオロフェニル)硼酸銀,テトラフェニル硼酸トリ
チル,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸トリ
チル,ヘキサフルオロ砒素酸銀,ヘキサフルオロアンチ
モン酸銀,テトラフルオロ硼酸銀、テトラキス(ペンタ
フルオロフェニル)硼酸−N,N,N−トリメチル4級
アンモニウム塩、テトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)硼酸−N−メチル−2−シアノピリジニウム塩など
が挙げられる。
Among the compounds of the general formulas (13) and (14),
Specifically, the following can be particularly preferably used. Examples of the compound of the general formula (13) include triethylammonium tetraphenylborate and tri (n) tetraphenylborate.
-Butyl) ammonium, trimethylammonium tetraphenylborate, triethylammonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, tri (n-butyl) ammonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, triethylammonium hexafluoroarsenate, tetrakis (pentafluorophenyl) borate Pyridinium, pyrrolium tetra (pentafluorophenyl) borate, tetrakis (pentafluorophenyl) borate N, N
-Dimethylanilinium, methyldiphenylammonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate and the like. On the other hand, examples of the compound of the general formula (14) include ferrocenium tetraphenylborate, dimethylferrocenium tetrakis (pentafluorophenyl) borate,
Ferrocenium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, decamethylferrocenium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, acetylferrocenium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, formylferrocenium tetrakis (pentafluorophenyl) borate,
Cyanoferrocenium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, silver tetraphenylborate, silver tetrakis (pentafluorophenyl) borate, trityl tetraphenylborate, trityl tetrakis (pentafluorophenyl) borate, silver hexafluoroarsenate, hexafluoroantimonic acid Silver, silver tetrafluoroborate, tetrakis (pentafluorophenyl) borate-N, N, N-trimethyl quaternary ammonium salt, tetrakis (pentafluorophenyl) borate-N-methyl-2-cyanopyridinium salt and the like can be mentioned.

【0060】また、ルイス酸として、例えばB(C6
5)3 ,B(C6 HF4)3 ,B(C62 3)3,B(C6
3 2)3,B(C6 4 F)3, B(C6 (CF3 )F4)
3,P(C6 5)5,Al(C6 HF4)3 なども用いるこ
とができる。 本発明の重合用触媒においては、上記
(b)成分として、(イ)成分の酸素含有化合物のみを
一種又は二種以上組み合わせて用いてもよく、また
(ロ)成分の遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体
を形成しうる化合物のみを一種又は二種以上組み合わせ
て用いてもよい。あるいは、該(イ)成分及び(ロ)成
分を適当に組み合わせて用いてもよい。 (c)アルキル化剤 アルキル化剤としては様々なものがあるが、例えば、一
般式(15) R20 m Al(OR21) n 9 3-m-n ・・・(15) 〔式中、R20及びR21は、それぞれ炭素数1〜8、好ま
しくは1〜4のアルキル基を示し、X9 は水素原子ある
いはハロゲン原子を示す。また、mは0<m≦3、好ま
しくは2あるいは3、最も好ましくは3であり、nは0
≦n<3、好ましくは0あるいは1である。〕で表わさ
れるアルキル基含有アルミニウム化合物や一般式(16) R20 2 Mg ・・・(16) 〔式中、R20は前記と同じである。〕で表わされるアル
キル基含有マグネシウム化合物、さらには一般式(17) R20 2 Zn ・・・(17) 〔式中、R20は前記と同じである。〕で表わされるアル
キル基含有亜鉛化合物等が挙げられる。
As the Lewis acid, for example, B (C 6 F
5 ) 3 , B (C 6 HF 4 ) 3 , B (C 6 H 2 F 3 ) 3 , B (C 6
H 3 F 2) 3, B (C 6 H 4 F) 3, B (C 6 (CF 3) F 4)
3 , P (C 6 F 5 ) 5 , Al (C 6 HF 4 ) 3 and the like can also be used. In the polymerization catalyst of the present invention, as the component (b), only the oxygen-containing compound of the component (a) may be used alone or in combination of two or more. Singly or in combination of two or more compounds capable of forming an ionic complex. Alternatively, the component (a) and the component (b) may be used in an appropriate combination. (C) As the alkylating agent alkylating agents there are various, for example, the general formula (15) R 20 m Al ( OR 21) n X 9 3-mn ··· (15) [wherein, R 20 and R 21 each represent an alkyl group having 1 to 8, preferably 1 to 4 carbon atoms, and X 9 represents a hydrogen atom or a halogen atom. Further, m is 0 <m ≦ 3, preferably 2 or 3, and most preferably 3.
≦ n <3, preferably 0 or 1. Alkyl group-containing aluminum compounds or general formula (16) R 20 2 Mg ··· (16) wherein represented by], R 20 is as defined above. Alkyl group-containing magnesium compound represented by], yet the general formula (17) R 20 2 Zn ··· (17) wherein, R 20 is as defined above. And the like.

【0061】これらのアルキル基含有化合物のうち、ア
ルキル基含有アルミニウム化合物、とりわけトリアルキ
ルアルミニウムやジアルキルアルミニウム化合物が好ま
しい。 (2)触媒の調製方法 重合に供せられる触媒における(a)成分と(b)成分
と所望により用いられる(c)成分との接触方法として
は、例えば(a)成分と(b)成分との接触混合物
に、(c)成分を加えて触媒とし、重合すべき各モノマ
ーと接触させる方法、(b)成分と(c)成分との接
触混合物に(a)成分を加えて触媒とし、重合すべきモ
ノマーと接触させる方法、(a)成分と(c)成分と
の接触混合物に(b)成分を加えて触媒とし、重合すべ
きモノマーと接触させる方法、重合すべきモノマー成
分に(a),(b),(c)成分を別々に接触させる方
法、重合すべきモノマー成分と(c)成分との接触混
合物に、上記の〜で調製して触媒を接触させる方法
などがある。
Among these alkyl group-containing compounds, alkyl group-containing aluminum compounds, particularly trialkylaluminum and dialkylaluminum compounds, are preferred. (2) Preparation method of catalyst As a method for contacting the components (a) and (b) with the component (c) optionally used in the catalyst to be subjected to polymerization, for example, the components (a) and (b) A method in which the component (c) is added to the contact mixture as a catalyst to be brought into contact with each monomer to be polymerized, and the component (a) is added to the contact mixture of the components (b) and (c) to form a catalyst, A method of contacting a monomer to be polymerized, a method of adding a component (b) to a contact mixture of a component (a) and a component (c) to make a catalyst, and contacting the monomer component to be polymerized; , (B) and (c) are separately brought into contact, and a catalyst is prepared by contacting the contact mixture of the monomer component to be polymerized with the (c) component with the catalyst prepared in the above (1).

【0062】上記(a)成分と(b)成分と所望により
用いられる(c)成分との接触は、重合温度下で行える
ことはもちろん、−20〜200℃の範囲で行うことも
可能である。また、触媒の各成分を投入する前に、不純
物を捕捉するために、トリイソブチルアルミニウム等の
有機アルミニウム類を添加してもよい。 (3)重合方法 本発明のエチレン系共重合体を製造する重合方法として
は、特に制限はなく、塊状重合でもよく、ペンタン,ヘ
キサン,ヘプタンなどの脂肪族炭化水素、シクロヘキサ
ンなどの脂環族炭化水素あるいはベンゼン,トルエン,
キシレン,エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素溶媒中
で行ってもよい。
The contact between the components (a) and (b) and the component (c) optionally used can be carried out at a polymerization temperature or in a range of -20 to 200 ° C. . Further, before introducing each component of the catalyst, an organic aluminum such as triisobutylaluminum may be added to capture impurities. (3) Polymerization Method The polymerization method for producing the ethylene copolymer of the present invention is not particularly limited, and bulk polymerization may be used. Aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane and heptane, and alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane may be used. Hydrogen or benzene, toluene,
It may be carried out in an aromatic hydrocarbon solvent such as xylene or ethylbenzene.

【0063】具体的には、これらの溶媒中にジエン系モ
ノマ−(C)または芳香族ビニルモノマー(D)を溶解
し、酸素含有化合物を加え、α−オレフィンとエチレン
で所望の圧力に加圧した後、遷移金属化合物を添加し重
合する方法を例示することができる。重合する時の触媒
成分の使用割合については、特に制限はないが、(a)
遷移金属化合物と(b)触媒成分として(イ)の酸素含
有化合物を用いる場合は、(a)1モルに対し(イ)の
1〜106 モルの範囲が好ましく、さらに好ましくは、
(a)1モルに対し(イ)の10〜104 モルの範囲で
ある。この範囲を外れると、重合活性が低下することが
ある。また、(a)遷移金属化合物と(b)触媒成分と
して(ロ)の化合物を用いる場合は、(a)10〜1モ
ルに対し(ロ)の1〜2×103 モルの範囲が好まし
く、さらに好ましくは、(a)5〜1モルに対し(ロ)
の1〜103 モルの範囲である。この範囲を外れると、
重合活性が低下することがある。また、(a)遷移金属
化合物と(c)アルキル化剤を用いる場合は、(a)1
モルに対し(c)の1〜1×104 モルの範囲が好まし
く、さらに好ましくは、(a)1モルに対し(c)の5
〜2×103 モルの範囲である。特に好ましくは、
(a)1モルに対し(c)の10〜1×103 モルの範
囲である。(c)が1×104 モルを超えるとアルキル
化剤が残存し好ましくない場合がある。また、(c)が
1モル未満であると、重合活性が低下する場合がある。
Specifically, a diene monomer (C) or an aromatic vinyl monomer (D) is dissolved in these solvents, an oxygen-containing compound is added, and the mixture is pressurized to a desired pressure with an α-olefin and ethylene. After that, a method of adding a transition metal compound and polymerizing can be exemplified. The proportion of the catalyst component used in the polymerization is not particularly limited, but (a)
When the transition metal compound and the oxygen-containing compound (a) are used as the catalyst component (b), the amount of (a) is preferably from 1 to 10 6 moles, more preferably 1 mole, of (a).
The amount of (a) is in the range of 10 to 10 4 moles per 1 mole of (a). Outside this range, the polymerization activity may decrease. When the compound (b) is used as the (a) transition metal compound and the catalyst component (b), the amount of (b) is preferably from 1 to 2 × 10 3 moles per 10 to 1 mole of (a), More preferably, (b) to 5 to 1 mol of (a)
Is in the range of 1 to 10 3 mol. Outside this range,
The polymerization activity may decrease. When (a) a transition metal compound and (c) an alkylating agent are used, (a) 1
The molar ratio of (c) is preferably from 1 to 1 × 10 4 mol, more preferably 5 mol of (c) per mol of (a).
22 × 10 3 mol. Particularly preferably,
(A) is in the range of 10 to 1 × 10 3 mol of (c) per 1 mol. If (c) exceeds 1 × 10 4 mol, the alkylating agent may remain, which is not preferable. If (c) is less than 1 mol, the polymerization activity may decrease.

【0064】また、モノマー量と(a)遷移金属化合物
の使用割合については、モノマー全量1〜1×1010
ルに対し(a)遷移金属化合物を1モルの割合で使用す
ることが好ましく、さらに好ましくは、モノマー全量1
〜1×108 モルに対し(a)遷移金属化合物を1モル
の割合、特に好ましくは、モノマー全量1〜1×10 6
モルに対し(a)遷移金属化合物を1モルの割合であ
る。この場合、(b)触媒成分または(c)触媒成分の
使用割合は、前記の範囲で適宜選んで使用することがで
きる。
The amount of the monomer and (a) the transition metal compound
Is used, the total amount of the monomers is 1 to 1 × 10TenMo
(A) 1 mole of the transition metal compound is used
Preferably, the total amount of the monomers is 1
~ 1 × 1081 mole of transition metal compound (a) per mole
, Particularly preferably, the total amount of the monomers is 1 to 1 × 10 6
(A) 1 mole of the transition metal compound per mole
You. In this case, the catalyst component (b) or the catalyst component (c)
The use ratio can be appropriately selected and used within the above range.
Wear.

【0065】また、重合温度は特に制限はないが、一般
には0〜200℃、好ましくは20〜100℃である。
また、重合圧力は特に制限はないが、一般には常圧〜1
5MPa,好ましくは常圧〜5MPaである。また、分
子量調節のため、重合時に水素等の連鎖移動剤を加えて
行ってもよい。また、得られるエチレン系共重合体にお
いては、各モノマーに由来する繰り返し単位の含有割合
については、重合に供する各モノマーの使用量によって
適宜、制御することが可能である。具体的には、ジエン
系モノマーの溶剤に対する仕込み量(溶剤に対するモル
比)は、通常0.001〜10モル%である。好ましく
は、0.005〜5モル%である。さらに好ましくは、
0.01〜3モル%である。0.001モル%未満であ
ると、充分にジエン系モノマーが重合しない。また、1
0モル%を超えると架橋しすぎる。
The polymerization temperature is not particularly limited, but is generally 0 to 200 ° C., preferably 20 to 100 ° C.
The polymerization pressure is not particularly limited, but is generally from normal pressure to 1
5 MPa, preferably normal pressure to 5 MPa. In order to control the molecular weight, a chain transfer agent such as hydrogen may be added during polymerization. In addition, in the obtained ethylene copolymer, the content ratio of the repeating unit derived from each monomer can be appropriately controlled by the amount of each monomer used for polymerization. Specifically, the charged amount of the diene monomer to the solvent (molar ratio to the solvent) is usually 0.001 to 10 mol%. Preferably, it is 0.005 to 5 mol%. More preferably,
0.01 to 3 mol%. If the amount is less than 0.001 mol%, the diene monomer will not sufficiently polymerize. Also, 1
If it exceeds 0 mol%, crosslinking is excessive.

【0066】ジエン系モノマーの反応率(最初に仕込ん
だジエン系モノマーの量に対するポリマー中に含まれる
ジエン系モノマー単位の量)は、通常0.1〜60%モ
ルである。好ましくは、0.5〜50モル%である。さ
らに好ましくは、1〜40モル%である。0.1モル%
未満であると、ジエン系モノマーが架橋しない。また、
60モル%を超えると架橋しすぎる。
The reaction rate of the diene monomer (the amount of the diene monomer unit contained in the polymer with respect to the amount of the diene monomer initially charged) is usually 0.1 to 60% mol. Preferably, it is 0.5 to 50 mol%. More preferably, it is 1 to 40 mol%. 0.1 mol%
If it is less than 3, the diene monomer does not crosslink. Also,
If it exceeds 60 mol%, crosslinking is excessive.

【0067】[0067]

【実施例】次に、実施例により本発明をさらに詳しく説
明する。これらは、例示的なものであり、本発明はこれ
らの例によって何ら限定されるものではない。 〔実施例1〕乾燥した1リットルの耐圧重合槽に、脱水
したトルエン200ミリリットル、活性アルミナにより
処理した精製パラ−3−ブテニルスチレン50ミリモ
ル、トリイソブチルアルミニウム0.5 ミリモル、メチル
アルミノキサン(アルベマール社製)をアルミ濃度で5
ミリモル及びトリエチルアルミニウム600マイクロモ
ルを投入後、プロピレンをゲージ圧力0.2 MPaになる
まで投入した後、エチレンをゲージ圧力0.9 MPaにな
るまで投入した。その後、(1,2'-エチレン)(2,1'- エチ
レン)-ビス( インデニル) ジルコニウムジクロリドをジ
ルコニウム濃度で2マイクロモル添加し、30℃にて重
合を開始した。その後、エチレン、プロピレンが消費さ
れゲージ圧力が0.5 MPaに低下するごとに、プロピレ
ンをゲージ圧力で0.6 MPaまで投入し、続いてエチレ
ンをゲージ圧力で0.9MPaまで投入する操作を繰り返
し、7分間重合した。
Next, the present invention will be described in more detail by way of examples. These are illustrative and the invention is not limited in any way by these examples. Example 1 200 ml of dehydrated toluene, 50 mmol of purified para-3-butenylstyrene treated with activated alumina, 0.5 mmol of triisobutylaluminum, 0.5 mmol of methylaluminoxane (manufactured by Albemarle Co., Ltd.) were placed in a dry 1 liter pressure-resistant polymerization tank. 5 in aluminum concentration
After charging mmol and 600 micromoles of triethylaluminum, propylene was charged until the gauge pressure reached 0.2 MPa, and then ethylene was charged until the gauge pressure reached 0.9 MPa. Thereafter, (1,2′-ethylene) (2,1′-ethylene) -bis (indenyl) zirconium dichloride was added at 2 μmol in zirconium concentration, and polymerization was started at 30 ° C. Thereafter, every time ethylene and propylene are consumed and the gauge pressure drops to 0.5 MPa, the operation of charging propylene to a gauge pressure of 0.6 MPa and then charging ethylene to a gauge pressure of 0.9 MPa is repeated, and polymerization is performed for 7 minutes. did.

【0068】重合後、エチレン、プロピレンを脱気し、
メタノールを少量添加し、重合を停止した。得られた粘
稠な溶液はメタノール中に沈殿させ、重合物を回収した
後、50℃で減圧乾燥し、7.6グラムのエチレン系共重
合体を得た。1H−NMRから得られた組成は、エチレ
ン/プロピレン/パラ−3−ブテニルスチレン=86.4
2 /16.93 /0.65(モル%)であった。パラ−3−
ブテニルスチレン単位の量は 1H−NMR上のフェニル
基に由来するピークより算出したものである。また、 1
H−NMRから分子鎖中にフェニル基に結合したビニル
基が存在していることが確認され、パラ−3−ブテニル
スチレンの未反応ビニル基単位の量/パラ−3−ブテニ
ルスチレン単位の量の比は0.862 であり、前記(1)
式から求めた部分架橋の割合Kは、13 .8%であった。
After the polymerization, ethylene and propylene are degassed,
A small amount of methanol was added to terminate the polymerization. The obtained viscous solution was precipitated in methanol, and the polymer was recovered and dried at 50 ° C. under reduced pressure to obtain 7.6 g of an ethylene copolymer. The composition obtained from 1 H-NMR was as follows: ethylene / propylene / para-3-butenylstyrene = 86.4
2 / 16.93 / 0.65 (mol%). Para-3-
The amount of the butenylstyrene unit is calculated from the peak derived from the phenyl group on 1 H-NMR. Also 1
H-NMR confirmed that a vinyl group bonded to a phenyl group was present in the molecular chain, and the amount of unreacted vinyl group units of para-3-butenylstyrene / the amount of para-3-butenylstyrene units The ratio of the amounts is 0.862, and the above (1)
The ratio K of partial cross-linking determined by the formula was 13.8%.

【0069】また、この共重合体の赤外線吸収スペクト
ル(IR)から、1630cm-1にフェニル基に結合し
た炭素−炭素二重結合の伸縮振動の吸収のみが観測さ
れ、このビニル基がパラ−3−ブテニルスチレンのスチ
レン残基であることが確認された。得られたエチレン系
共重合体のデカリン中135℃で測定した極限粘度
[η]は2.31であり、GPC測定による分子量分布(M
w/Mn)は2.07であった。
From the infrared absorption spectrum (IR) of this copolymer, only absorption of stretching vibration of a carbon-carbon double bond bonded to a phenyl group was observed at 1630 cm −1 , and this vinyl group was found to be para-3 -It was confirmed to be a styrene residue of butenyl styrene. The intrinsic viscosity [η] of the obtained ethylene-based copolymer measured at 135 ° C. in decalin was 2.31, and the molecular weight distribution (M
w / Mn) was 2.07.

【0070】[実施例2]実施例1においてパラ−3−
ブテニルスチレンの代わりにジビニルベンゼンを40ミ
リモル用い,トリエチルアルミニウムの量を200マイ
クロモルとしたこと以外は、実施例1と同様に行い、1
1.3gのエチレン系共重合体を得た。1 H−NMRか
ら得られたエチレン系共重合体の組成は、エチレン/プ
ロピレン/ジビニルベンゼン(フェニル基由来)=67.9
9/31.27/0.35(モル%)であった。ジビニ
ルベンゼンの未反応ビニル基単位の量/ジビニルベンゼ
ン単位の量の比は0.657 であり,部分架橋の割合Kは
34.3%であった。
[Embodiment 2] In Embodiment 1, para-3-
Example 1 was repeated except that 40 mmol of divinylbenzene was used instead of butenylstyrene and the amount of triethylaluminum was 200 μmol.
1.3 g of an ethylene copolymer was obtained. The composition of the ethylene copolymer obtained from 1 H-NMR was ethylene / propylene / divinylbenzene (derived from phenyl group) = 67.9.
9 / 31.27 / 0.35 (mol%). The ratio of the amount of unreacted vinyl group units to the amount of divinylbenzene units in divinylbenzene was 0.657, and the ratio K of partial crosslinking was 34.3%.

【0071】得られたエチレン系共重合体のデカリン中
135℃で測定した[η]は3.24であり、GPC測
定による分子量分布(Mw/Mn)は2.17であっ
た。 [実施例3]実施例2において (1,2'- エチレン)(2,1'- エチ
レン)-ビス( インデニル) ジルコニウムジクロリドの代わ
りに、 (1,1'- エチレン)(2,2'- エチレン)-ビス( インデニル)
ジルコニウムジクロリドを用いた以外は、実施例2と同
様に行い、7.0gのエチレン系共重合体を得た。
[Η] of the obtained ethylene copolymer measured in decalin at 135 ° C. was 3.24, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) by GPC measurement was 2.17. [Example 3] In Example 2, instead of (1,2'-ethylene) (2,1'-ethylene) -bis (indenyl) zirconium dichloride, (1,1'-ethylene) (2,2'- Ethylene) -bis (indenyl)
Except using zirconium dichloride, it carried out similarly to Example 2 and obtained 7.0 g of ethylene-type copolymers.

【0072】1 H−NMRから得られたエチレン系共重
合体の組成は、エチレン/プロピレン/ジビニルベンゼ
ン(フェニル基由来)=70.28/29.44/0.28
(モル%)であった。ジビニルベンゼンの未反応ビニル
基単位の量/ジビニルベンゼン単位の量の比は0.750
であり,部分架橋の割合Kは25.0%であった。得ら
れたエチレン系共重合体のデカリン中135℃で測定し
た[η]は3.04であり、GPC測定による分子量分
布(Mw/Mn)は2.56であった。
The composition of the ethylene copolymer obtained from 1 H-NMR was as follows: ethylene / propylene / divinylbenzene (derived from phenyl group) = 70.28 / 29.44 / 0.28
(Mol%). The ratio of the amount of unreacted vinyl group units of divinylbenzene / the amount of divinylbenzene units is 0.750.
And the ratio K of partial crosslinking was 25.0%. [Η] of the obtained ethylene-based copolymer measured at 135 ° C. in decalin was 3.04, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) by GPC measurement was 2.56.

【0073】[実施例4]乾燥した1リットルの耐圧重
合槽に、脱水したトルエン200ミリリットル,活性ア
ルミナにより処理した精製パラ−3−ブテニルスチレン
40ミリモル,トリイソブチルアルミニウム0.5ミリ
モル,及びメチルアルミノキサン(アルベマール社製)
をアルミ濃度で5ミリモルを投入後、プロピレンをゲー
ジ圧力で0.2 MPaまで投入した後,エチレンをゲージ
圧力で0.9 MPaになるまで投入した。その後、ラセミ
−エチレンビスインデニルジルコニウムジクロリドをジ
ルコニウム濃度で2マイクロモル添加し、30℃にて重
合を開始した。その後,エチレン,プロピレンが消費さ
れゲージ圧力が0.5 MPaにまで低下するごとに、プロ
ピレンをゲージ圧力で0.6 MPaまで投入し、続いてエ
チレンをゲージ圧力で0.9 MPaまで投入する操作を繰
り返し、7分間重合した。
Example 4 200 ml of dehydrated toluene, 40 mmol of purified para-3-butenylstyrene treated with activated alumina, 0.5 mmol of triisobutylaluminum, and methyl were placed in a dry 1 liter pressure-resistant polymerization tank. Aluminoxane (Albemarle)
Was introduced at an aluminum concentration of 5 mmol, propylene was introduced at a gauge pressure of 0.2 MPa, and ethylene was introduced at a gauge pressure of 0.9 MPa. Thereafter, 2 micromol of racemic-ethylenebisindenyl zirconium dichloride was added at a zirconium concentration, and polymerization was started at 30 ° C. Thereafter, every time ethylene and propylene are consumed and the gauge pressure decreases to 0.5 MPa, the operation of charging propylene to a gauge pressure of 0.6 MPa, and then repeating the operation of charging ethylene to a gauge pressure of 0.9 MPa, is repeated for 7 minutes. did.

【0074】重合後、エチレン,プロピレンを脱気後、
メタノールを少量添加し、重合を停止した。得られた粘
稠な溶液は,メタノール中に沈殿させ、重合物を回収し
た後、50℃で減圧乾燥し、27.0gのエチレン系共
重合体を得た。1 H−NMRから得られた組成は、エチ
レン/プロピレン/パラ−3−ブテニルスチレン=8
1.17/18.28/0.55(モル%)であった。
パラ−3−ブテニルスチレン単位の量は1 H−NMR上
のフェニル基に由来するピークより算出したものであ
る。また、 1H−NMRから分子鎖中にフェニル基に結
合したビニル基が存在していることが確認され、パラ−
3−ブテニルスチレンの未反応ビニル基単位の量/パラ
−3−ブテニルスチレン単位の量の比は0.94 5であ
り、前記(1)式より求めた、部分架橋の割合Kは、
5.5% であった。
After the polymerization, ethylene and propylene are degassed.
A small amount of methanol was added to terminate the polymerization. The resulting viscous solution was precipitated in methanol, and the polymer was recovered. The polymer was dried under reduced pressure at 50 ° C. to obtain 27.0 g of an ethylene copolymer. The composition obtained from 1 H-NMR was ethylene / propylene / para-3-butenylstyrene = 8
1.17 / 18.28 / 0.55 (mol%).
The amount of para-3-butenylstyrene unit was calculated from a peak derived from a phenyl group on 1 H-NMR. Further, 1 H-NMR confirmed that a vinyl group bonded to a phenyl group was present in the molecular chain.
The ratio of the amount of the unreacted vinyl group unit of 3-butenylstyrene / the amount of the para-3-butenylstyrene unit is 0.945, and the ratio K of the partial cross-linking obtained from the above formula (1) is:
It was 5.5%.

【0075】また、この共重合体の赤外線吸収スペクト
ル(IR)解析から、1630cm -1にフェニル基に結
合した炭素−炭素二重結合の伸縮振動の吸収のみが確認
され、このビニル基がパラ−3−ブテニルスチレンのス
チレン残基であることが確認できた。得られたエチレン
系共重合体のデカリン中135℃で測定した[η]は
1.53であり、GPC測定による分子量分布(Mw/
Mn)は4.61であった。
The infrared absorption spectrum of the copolymer
1630cm from IR (IR) analysis -1To a phenyl group
Only absorption of stretching vibration of combined carbon-carbon double bond confirmed
This vinyl group is substituted with para-3-butenylstyrene.
It was confirmed that it was a tylene residue. Ethylene obtained
[Η] of the system copolymer measured at 135 ° C. in decalin is
1.53, which is the molecular weight distribution (Mw /
Mn) was 4.61.

【0076】[実施例5]実施例4においてパラ−3−
ブテニルスチレンの代わりにジビニルベンゼン40ミリ
モルを用いたこと以外は、実施例4と同様に行い、2
6.0gのエチレン系共重合体を得た。1 H−NMRか
ら得られたエチレン系共重合体の組成は、エチレン/プ
ロピレン/ジビニルベンゼン(フェニル基由来)=79.2
6/20.61/0.13(モル%)であった。
[Embodiment 5] In Embodiment 4, para-3-
Example 4 was repeated except that 40 mmol of divinylbenzene was used instead of butenylstyrene.
6.0 g of an ethylene copolymer was obtained. The composition of the ethylene copolymer obtained from 1 H-NMR was ethylene / propylene / divinylbenzene (derived from phenyl group) = 79.2.
6 / 20.61 / 0.13 (mol%).

【0077】ジビニルベンゼンの未反応ビニル基単位の
量/ジビニルベンゼン単位の量の比は0.846 であり,
部分架橋の割合Kは15.4%であった。得られたエチ
レン系共重合体のデカリン中135℃で測定した[η]
は1.26であり、GPC測定による分量分布(Mw/
Mn)は1.90であった。 [実施例6]実施例5においてラセミ−エチレンビスイ
ンデニルジルコニウムジクロリドの代わりにメソ−エチ
レンビスインデニルジルコニウムジクロリドを用いたこ
と以外は、実施例5と同様に行い、22.5gのエチレ
ン系共重合体を得た。
The ratio of the amount of unreacted vinyl group units of divinylbenzene / the amount of divinylbenzene units was 0.846,
The ratio K of partial crosslinking was 15.4%. [Η] of the obtained ethylene copolymer was measured in decalin at 135 ° C.
Is 1.26, and the quantity distribution (Mw /
Mn) was 1.90. Example 6 The procedure of Example 5 was repeated, except that meso-ethylenebisindenyl zirconium dichloride was used instead of racemic-ethylenebisindenyl zirconium dichloride. A polymer was obtained.

【0078】1 H−NMRから得られたエチレン系共重
合体の組成は、エチレン/プロピレン/ジビニルベンゼ
ン(フェニル基由来)=76.02/23.87/0.11
(モル%)であった。ジビニルベンゼンの未反応ビニル
基単位の量/ジビニルベンゼン単位の量の比は0.818
であり,部分架橋の割合Kは18.2%であった。
The composition of the ethylene copolymer obtained from 1 H-NMR was: ethylene / propylene / divinylbenzene (derived from phenyl group) = 76.02 / 23.87 / 0.11
(Mol%). The ratio of the amount of unreacted vinyl group units of divinylbenzene / the amount of divinylbenzene units is 0.818.
And the ratio K of partial cross-linking was 18.2%.

【0079】得られたエチレン系共重合体のデカリン中
135℃で測定した[η]は1.11であり、GPC測
定による分子量分布(Mw/Mn)は2.25であっ
た。 [実施例7]乾燥した1リットルの耐圧重合槽に、脱水
したトルエン350ミリリットル,活性アルミナにより
処理した精製ジビニルベンゼン53ミリモル,トリイソ
ブチルアルミニウム0.5ミリモル,メチルアルミノキ
サン(アルベマール社製)をアルミ濃度で3ミリモル,
及び、トリエチルアルミニウム480マイクロモルを投
入後、プロピレンをゲージ圧力で0.2 MPaまで投入し
た後,エチレンをゲージ圧力で0.9 MPaになるまで投
入した。その後、 (η5-1,2,3,4-テトラヒドロ-9- フル
オレニル)(t-ブチルアミド) ジメチルシランチタニウム
ジクロリドをチタン濃度で3マイクロモル添加し、70
℃にて重合を開始した。その後,エチレン,プロピレン
が消費されゲージ圧力が0.5 MPaにまで低下するごと
に、プロピレンをゲージ圧力で0.6 MPaまで投入し、
続いてエチレンをゲージ圧力で0.9 MPaまで投入する
操作を繰り返し、30分間重合した。
[Η] of the obtained ethylene copolymer measured at 135 ° C. in decalin was 1.11, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) by GPC measurement was 2.25. Example 7 In a dry 1 liter pressure-resistant polymerization tank, 350 ml of dehydrated toluene, 53 mmol of purified divinylbenzene treated with activated alumina, 0.5 mmol of triisobutylaluminum, and methylaluminoxane (manufactured by Albemarle Co.) were subjected to aluminum concentration. 3 mmol,
After charging 480 micromoles of triethylaluminum, propylene was charged to a gauge pressure of 0.2 MPa, and then ethylene was charged to a gauge pressure of 0.9 MPa. Then, 3 μmol of (η 5 -1,2,3,4-tetrahydro-9-fluorenyl) (t-butylamido) dimethylsilanetitanium dichloride was added at a titanium concentration of 70 μm, and
Polymerization was started at ℃. Thereafter, every time ethylene and propylene are consumed and the gauge pressure is reduced to 0.5 MPa, propylene is charged to the gauge pressure of 0.6 MPa,
Subsequently, the operation of charging ethylene up to 0.9 MPa at a gauge pressure was repeated, and polymerization was carried out for 30 minutes.

【0080】重合後、エチレン,プロピレンを脱気後、
メタノールを少量添加し、重合を停止した。得られた粘
稠な溶液は,メタノール中に沈殿させ、重合物を回収し
た後、50℃で減圧乾燥し、18.5gのエチレン系共
重合体を得た。1 H−NMRから得られた組成は、エチ
レン/プロピレン/ジビニルベンゼン(フェニル基由来)=
72.76/26.02/1.22(モル%)であっ
た。
After depolymerization of ethylene and propylene after polymerization,
A small amount of methanol was added to terminate the polymerization. The resulting viscous solution was precipitated in methanol, and the polymer was recovered. The polymer was dried at 50 ° C. under reduced pressure to obtain 18.5 g of an ethylene copolymer. The composition obtained from 1 H-NMR is ethylene / propylene / divinylbenzene (derived from phenyl group) =
72.76 / 26.02 / 1.22 (mol%).

【0081】また、 1H−NMRから、分子鎖中にフェ
ニル基に結合したビニル基が存在していることが確認さ
れ、ジビニルベンゼンの未反応ビニル基単位の量/ジビ
ニルベンゼン単位の量の比は0.754 であり、前記
(1)式から求めた部分架の橋割合Kは、24.6%であ
った。得られたエチレン系共重合体のデカリン中135
℃で測定した[η]は2.80であり、GPC測定によ
る分子量分布(Mw/Mn)は5.31であった。
From 1 H-NMR, it was confirmed that a vinyl group bonded to a phenyl group was present in the molecular chain, and the ratio of the amount of unreacted vinyl group units of divinylbenzene / the amount of divinylbenzene units was observed. Was 0.754, and the bridge ratio K of the partial bridge obtained from the above equation (1) was 24.6%. 135 of the obtained ethylene copolymer in decalin
[Η] measured at ° C. was 2.80, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) by GPC measurement was 5.31.

【0082】[実施例8]実施例1においてトルエン2
00ミリリットルの代わりにトルエン100ミリリット
ル、スチレン100ミリリットルとし、パラ−3−ブテ
ニルスチレンを40ミリモルとし、重合時間を60分間
としたこと以外は、実施例1と同様に行い、4.5gの
エチレン系共重合体を得た。
Example 8 Toluene 2 in Example 1
The procedure of Example 1 was repeated, except that 100 ml of toluene and 100 ml of styrene were used instead of 00 ml, 40 mmol of para-3-butenylstyrene was used, and the polymerization time was 60 minutes. A copolymer was obtained.

【0083】1 H−NMR及び熱分解GCマススペクト
ルから得られたエチレン系共重合体の組成は、エチレン
/プロピレン/スチレン/パラ−3−ブテニルスチレン
(フェニル基由来)=79.12/18.04/2.45/
0.39(モル%)であった。得られたエチレン系共重
合体のパラ−3−ブテニルスチレンの未反応ビニル基単
位の量/パラ−3−ブテニルスチレン単位の量の比は
0.795であり、前記(1)式より求めた、部分架橋の割
合Kは20.5% であった。
The composition of the ethylene copolymer obtained from 1 H-NMR and pyrolysis GC mass spectrum was as follows: ethylene / propylene / styrene / para-3-butenylstyrene (derived from phenyl group) = 79.12 / 18 .04 / 2.45 /
0.39 (mol%). The ratio of the amount of unreacted vinyl group units of para-3-butenylstyrene / the amount of para-3-butenylstyrene units of the obtained ethylene copolymer was 0.795, and from the above formula (1), The determined percentage K of partial crosslinking was 20.5%.

【0084】得られたエチレン系共重合体のデカリン中
135℃で測定した[η]は2.12であり、GPC測
定による分子量分布(Mw/Mn)は2.11であっ
た。 [実施例9]実施例4においてトルエン200ミリリッ
トルの代わりにトルエン150ミリリットル、スチレン
50ミリリットルとし、パラ−3−ブテニルスチレンを
40ミリモルとし、重合時間を60分間としたこと以外
は、実施例4と同様に行い、3.2gのエチレン系共重
合体を得た。
[Η] of the obtained ethylene copolymer measured in decalin at 135 ° C. was 2.12, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) by GPC measurement was 2.11. Example 9 The procedure of Example 4 was repeated, except that 150 ml of toluene and 50 ml of styrene were used instead of 200 ml of toluene, 40 mmol of para-3-butenylstyrene was used, and the polymerization time was 60 minutes. In the same manner as described above, 3.2 g of an ethylene copolymer was obtained.

【0085】1 H−NMR及び熱分解GCマススペクト
ルから得られたエチレン系共重合体の組成は、エチレン
/プロピレン/スチレン/パラ−3−ブテニルスチレン
(フェニル基由来)=77.28/21.61/0.53/
0.58(モル%)であった。得られたエチレン系共重
合体のパラ−3−ブテニルスチレンの未反応ビニル基単
位の量/パラ−3−ブテニルスチレン単位の量の比は
0.621であり、前記(1)式より求めた、部分架橋の割
合Kは37.9% であった。
The composition of the ethylene copolymer obtained from 1 H-NMR and pyrolysis GC mass spectrum was as follows: ethylene / propylene / styrene / para-3-butenylstyrene (derived from phenyl group) = 77.28 / 21 .61 / 0.53 /
0.58 (mol%). The ratio of the amount of unreacted vinyl group units of para-3-butenylstyrene / the amount of para-3-butenylstyrene units in the obtained ethylene copolymer was 0.621. The determined percentage K of partial crosslinking was 37.9%.

【0086】得られたエチレン系共重合体のデカリン中
135℃で測定した[η]は3.34であり、GPC測
定による分子量分布(Mw/Mn)は2.91であっ
た。 [実施例10]実施例7においてトルエン350ミリリ
ットルの代わりにトルエン350ミリリットル、活性ア
ルミナにより処理したスチレン5ミリリットルとしたこ
と以外は、実施例7と同様に行い、20.1gのエチレ
ン系共重合体を得た。
[Η] of the obtained ethylene copolymer measured at 135 ° C. in decalin was 3.34, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) by GPC measurement was 2.91. Example 10 The procedure of Example 7 was repeated, except that 350 ml of toluene was used instead of 350 ml of toluene, and 5 ml of styrene treated with activated alumina was used. I got

【0087】1 H−NMR及び熱分解GCマススペクト
ルから得られたエチレン系共重合体の組成は、エチレン
/プロピレン/スチレン/パラ−3−ブテニルスチレン
(フェニル基由来)=72.46/25.68/0.92/
0.94(モル%)であった。ジビニルベンゼン単位の
はフェニル基に由来するピークより算出したものであ
る。得られたエチレン系共重合体のジビニルベンゼンの
未反応ビニル基単位の量/ジビニルベンゼン単位の量の
比は0.553 であり、前記(1)式から求めた部分架の
橋割合Kは、44.7%であった。得られたエチレン系共
重合体のデカリン中135℃で測定した[η]は2.5
4であり、GPC測定による分子量分布(Mw/Mn)
は4.27であった。
The composition of the ethylene-based copolymer obtained from 1 H-NMR and pyrolysis GC mass spectrum was as follows: ethylene / propylene / styrene / para-3-butenylstyrene (derived from phenyl group) = 72.46 / 25 .68 / 0.92 //
0.94 (mol%). The divinylbenzene unit is calculated from the peak derived from the phenyl group. The ratio of the amount of unreacted vinyl group units of divinylbenzene / the amount of divinylbenzene units in the obtained ethylene copolymer was 0.553, and the bridge ratio K of the partial bridge obtained from the above equation (1) was: It was 44.7%. The [η] of the obtained ethylene copolymer measured at 135 ° C. in decalin was 2.5.
4 and molecular weight distribution (Mw / Mn) by GPC measurement
Was 4.27.

【0088】[0088]

【発明の効果】本発明により得られたエチレン系共重合
体は、部分的に架橋した構造を有し、かつ未架橋の反応
性ビニル基も有しているので耐熱性,耐薬品性等に優れ
るとともに、良好な靱性,伸び及び剛性や相溶化能を有
し、複合材料の素材や耐熱エラストマーとして有用なシ
ンジオタクチックポリスチレングラフト共重合体を得る
ためのマクロモノマーとしての用途や、シンジオタクチ
ックポリスチレンとゴム成分との組成物や一般的なポリ
スチレンとゴム成分との組成物における相溶化剤を得る
ための素材として極めて有用である。また、本発明の製
造方法により、該エチレン系共重合体を効率的に得るこ
とができる。
The ethylene copolymer obtained according to the present invention has a partially crosslinked structure and also has an uncrosslinked reactive vinyl group. It has excellent toughness, elongation, rigidity and compatibilizing ability, and is useful as a macromonomer for obtaining syndiotactic polystyrene graft copolymers useful as composite materials and heat-resistant elastomers, as well as syndiotactic. It is extremely useful as a material for obtaining a compatibilizer in a composition of a polystyrene and a rubber component or a general composition of a polystyrene and a rubber component. Further, the ethylene-based copolymer can be efficiently obtained by the production method of the present invention.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C08F 210:04) ────────────────────────────────────────────────── ─── of the front page continued (51) Int.Cl 6 identification symbol FI C08F 210:. 04)

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 エチレン(A)、少なくとも1種の炭素
数3〜30のα−オレフィン(B)及び少なくとも1種
のスチレン系ビニル基を有するジエン系モノマーまたは
少なくとも1種の共役エンを有するジエン系モノマー
(C)の共重合体であって、エチレン(A)/α−オレ
フィン(B)のモル比が20/80〜97/3であり、
成分(A)〜(C)に由来する繰り返し単位の合計量を
100モル%としたとき、ジエン系モノマー(C)に由
来する繰返し単位が0.001〜20モル%であり、かつ
下記の(1)式で表されるジエン系モノマーに由来する
部分架橋の割合Kが0.1〜80%である分子鎖中にジエ
ン系モノマーに由来するビニル基を有するエチレン系共
重合体。 【数1】
1. A diene monomer having at least one ethylene (A), at least one α-olefin having 3 to 30 carbon atoms (B) and at least one styrene vinyl group, or at least one diene having a conjugated ene. A copolymer of the system monomer (C), wherein the molar ratio of ethylene (A) / α-olefin (B) is 20/80 to 97/3;
When the total amount of the repeating units derived from the components (A) to (C) is 100 mol%, the repeating unit derived from the diene monomer (C) is 0.001 to 20 mol%, and the following ( 1) An ethylene copolymer having a vinyl group derived from a diene monomer in a molecular chain in which a ratio K of partial crosslinking derived from the diene monomer represented by the formula is 0.1 to 80%. (Equation 1)
【請求項2】 エチレン(A)、少なくとも1種の炭素
数3〜30のα−オレフィン(B)、少なくとも1種の
スチレン系ビニル基を有するジエン系モノマーまたは少
なくとも1種の共役エンを有するジエン系モノマー
(C)及び少なくとも1種の芳香族ビニルモノマー
(D)の共重合体であって、エチレン(A)/α−オレ
フィン(B)のモル比が20/80〜97/3であり、
成分(A)〜(D)に由来する繰り返し単位の合計量を
100モル%としたとき、ジエン系モノマー(C)に由
来する繰返し単位が0.001〜20モル%、芳香族ビニ
ルモノマー(D)に由来する繰返し単位が0.01 〜30
モル%であり、かつ上記(1)式で表されるジエン系モ
ノマーに由来する部分架橋の割合Kが0.1〜80%であ
る分子鎖中にジエン系モノマーに由来するビニル基を有
するエチレン系共重合体。
2. An ethylene (A), at least one α-olefin having 3 to 30 carbon atoms (B), at least one diene monomer having a styrene-based vinyl group, or a diene having at least one conjugated ene. A copolymer of a system monomer (C) and at least one aromatic vinyl monomer (D), wherein the molar ratio of ethylene (A) / α-olefin (B) is 20/80 to 97/3;
When the total amount of the repeating units derived from the components (A) to (D) is 100 mol%, the repeating units derived from the diene monomer (C) are 0.001 to 20 mol%, and the aromatic vinyl monomer (D ) Is from 0.01 to 30.
Ethylene having a vinyl group derived from a diene monomer in a molecular chain having a mole percentage of 0.1 to 80% of a partial crosslink derived from the diene monomer represented by the above formula (1). Based copolymer.
【請求項3】 炭素数3〜30のα−オレフィン(B)
が、プロピレンである請求項1又は2に記載のエチレン
系共重合体。
3. An α-olefin having 3 to 30 carbon atoms (B)
Is an ethylene copolymer according to claim 1 or 2.
【請求項4】 ジエン系モノマーに由来するビニル基
が、スチレン系ビニル基である請求項1〜3のいずれか
に記載のエチレン系共重合体。
4. The ethylene copolymer according to claim 1, wherein the vinyl group derived from the diene monomer is a styrene vinyl group.
【請求項5】 (a)遷移金属化合物,(b)(イ)一
般式(2) 【化1】 (式中、R1 〜R5 はそれぞれ炭素数1〜8のアルキル
基を示し、それらはたがいに同一でも異なっていてもよ
く、Y1 〜Y3 はそれぞれ周期律表13族元素を示し、
それらはたがいに同一でも異なっていてもよく、a及び
bはそれぞれ0〜50の数を示すが、a+bは1以上で
ある。)及び/又は一般式(3) 【化2】 (式中、R6 及びR7 はそれぞれ炭素数1〜8のアルキ
ル基を示し、それらはたがいに同一でも異なっていても
よく、Y4 及びY5 はそれぞれ周期律表13族元素を示
し、それらはたがいに同一でも異なっていてもよく、c
及びdはそれぞれ0〜50の数を示すが、c+dは1以
上である。)で表される酸素含有化合物、及び/又は
(ロ)該(a)成分の遷移金属化合物と反応してイオン
性の錯体を形成しうる化合物を用いて形成される触媒を
用いて、各モノマーを共重合させることを特徴とする請
求項1〜4のいずれかに記載のエチレン系共重合体の製
造方法。
(5) (a) a transition metal compound, (b) (a) a general formula (2) (Wherein, R 1 to R 5 each represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, which may be the same or different, Y 1 to Y 3 each represent a Group 13 element of the periodic table,
They may be the same or different, a and b each represent a number of 0 to 50, and a + b is 1 or more. ) And / or general formula (3) (Wherein, R 6 and R 7 each represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, which may be the same or different, Y 4 and Y 5 each represent a Group 13 element in the periodic table, They may be the same or different, c
And d each represent a number from 0 to 50, and c + d is 1 or more. And / or (b) a catalyst formed using a compound capable of forming an ionic complex by reacting with the transition metal compound of the component (a). The method for producing an ethylene-based copolymer according to any one of claims 1 to 4, wherein
【請求項6】 (a)遷移金属化合物が、下記一般式
(4)で表されるものであることを特徴とする請求項5
に記載のエチレン系共重合体の製造方法。 【化3】 〔式中、M1 は周期律表3〜10族又はランタノイド系
列の金属元素を示し、E 1 及びE2 はそれぞれ置換シク
ロペンタジエニル基,インデニル基,置換インデニル
基,フルオレニル基,置換フルオレニル基,ヘキサヒド
ロアズレニル基,置換ヘキサヒドロアズレニル基,テト
ラヒドロインデニル基,置換テトラヒドロインデニル
基,テトラヒドロフルオレニル基,置換テトラヒドロフ
ルオレニル基,オクタヒドロフルオレニル基,置換オク
タヒドロフルオレニル基,ヘテロシクロペンタジエニル
基,置換ヘテロシクロペンタジエニル基,アミド基,ホ
スフィド基,炭化水素基及び珪素含有基の中から選ばれ
た配位子であって、A1 及びA2を介して架橋構造を形
成しており、またそれらはたがいに同一でも異なってい
てもよく、X1 はσ結合性の配位子を示し、X1 が複数
ある場合、複数のX1 は同じでも異なっていてもよく、
他のX1 ,E1 ,E2 又はY6 と架橋していてもよい。
6 はルイス塩基を示し、Y6 が複数ある場合、複数の
6 は同じでも異なっていてもよく、他のY6 ,E1
2 又はX1 と架橋していてもよく、A1 及びA2 はそ
れぞれ炭素数1以上の炭化水素基からなる架橋基を示
し、それらはたがいに同一でも異なっていてもよい。q
は1〜5の整数で〔(M1 の原子価)−2〕を示し、r
は0〜3の整数を示す。〕
(6) The transition metal compound represented by the following general formula:
6. The method according to claim 5, wherein:
3. The method for producing an ethylene copolymer according to item 1. Embedded image[Where M1Is group 3 to 10 of the periodic table or lanthanoid
Indicates the metal element of the column, E 1And ETwoAre the replacement symbols
Lopentadienyl group, indenyl group, substituted indenyl
Group, fluorenyl group, substituted fluorenyl group, hexahydric
Loazulenyl group, substituted hexahydroazulenyl group, tet
Lahydroindenyl group, substituted tetrahydroindenyl
Group, tetrahydrofluorenyl group, substituted tetrahydrofuran
Fluorenyl group, octahydrofluorenyl group, substituted octane
Tahydrofluorenyl group, heterocyclopentadienyl
Group, substituted heterocyclopentadienyl group, amide group,
Selected from sulfide groups, hydrocarbon groups and silicon-containing groups
Ligand1And ATwoForm a crosslinked structure through
And they are the same or different
May be X1Represents a σ-binding ligand, and X1Is multiple
If there is more than one X1May be the same or different,
Other X1, E1, ETwoOr Y6And may be crosslinked.
Y6Represents a Lewis base;6If there are multiple
Y6May be the same or different, and the other Y6, E1,
ETwoOr X1May be cross-linked with A1And ATwoHaso
Each represents a cross-linking group comprising a hydrocarbon group having 1 or more carbon atoms.
However, they may be identical or different. q
Is an integer of 1 to 5 [(M1Valence-2), and r
Represents an integer of 0 to 3. ]
【請求項7】 (a)遷移金属化合物が、下記一般式
(5)で表されるものであることを特徴とする請求項5
に記載のエチレン系共重合体の製造方法。 【化4】 (式中、ここでE3 及びE4 は、非置換又は置換シクロ
ペンタジエニル基、インデニル基,置換インデニル基,
フルオレニル基,置換フルオレニル基,ヘキサヒドロア
ズレニル基,置換ヘキサヒドロアズレニル基,テトラヒ
ドロインデニル基,置換テトラヒドロインデニル基,テ
トラヒドロフルオレニル基,置換テトラヒドロフルオレ
ニル基,オクタヒドロフルオレニル基,置換オクタヒド
ロフルオレニル基であり、A3 及びA4 は、水素原子、
炭素数1〜10のアルキル基、又はそれぞれ炭素数6〜
20のアリール基、アルキルアリール基、アリールアル
キル基もしくはハロゲン化アリール基、又は酸素、窒
素、硫黄もしくは珪素から選ばれたヘテロ原子を含む炭
素数1〜20の炭化水素基であり、QはE3 及びE4
連結する炭素数2〜10の炭化水素基又は珪素、ゲルマ
ニウムもしくはスズを含む炭素数1〜10の炭化水素
基、又は炭素、珪素、ゲルマニウムもしくはスズ原子で
あり、また、A3 及びA4 は互いに連結していてA3
4 及びQの間で環構造を形成していてもよい。R8
びR9 はハロゲン原子、水素原子、炭素数1〜10のア
ルキル基、珪素含有アルキル基、又はそれぞれ炭素数6
〜20のアリール基、アルキルアリール基もしくはアリ
ールアルキル基であり、かつM2 はチタン、ジルコニウ
ム又はハフニウムである。)
7. The method according to claim 5, wherein (a) the transition metal compound is represented by the following general formula (5).
3. The method for producing an ethylene copolymer according to item 1. Embedded image (Wherein E 3 and E 4 are unsubstituted or substituted cyclopentadienyl groups, indenyl groups, substituted indenyl groups,
Fluorenyl, substituted fluorenyl, hexahydroazulenyl, substituted hexahydroazulenyl, tetrahydroindenyl, substituted tetrahydroindenyl, tetrahydrofluorenyl, substituted tetrahydrofluorenyl, octahydrofluorenyl , A substituted octahydrofluorenyl group, wherein A 3 and A 4 are a hydrogen atom,
C1-C10 alkyl group, or C6-C6 respectively
20 aryl groups, alkylaryl groups, arylalkyl groups or halogenated aryl groups, or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms containing a heteroatom selected from oxygen, nitrogen, sulfur or silicon, and Q is E 3 And E 4 are a C 2-10 hydrocarbon group or a C 1-10 hydrocarbon group containing silicon, germanium or tin, or carbon, silicon, germanium or tin atom, and A 3 and A 4 is connected to each other and A 3 ,
A 4 and Q may form a ring structure. R 8 and R 9 each represent a halogen atom, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a silicon-containing alkyl group,
20 aryl group, alkylaryl group or arylalkyl group, and M 2 is titanium, zirconium or hafnium. )
【請求項8】 (a)遷移金属化合物が、下記一般式
(6)で表されるものであることを特徴とする請求項5
に記載のエチレン系共重合体の製造方法。 【化5】 (式中、M2 はチタン,ジルコニウム又はハフニウムで
あり、Cp* は、M2 にη5 結合様式で結合するシクロ
ペンタジエニル基,置換シクロペンタジエニル基又はイ
ンデニル基,置換インデニル基,フルオレニル基,置換
フルオレニル基,ヘキサヒドロアズレニル基,置換ヘキ
サヒドロアズレニル基,テトラヒドロインデニル基,置
換テトラヒドロインデニル基,テトラヒドロフルオレニ
ル基,置換テトラヒドロフルオレニル基,オクタヒドロ
フルオレニル基,置換オクタヒドロフルオレニル基であ
る。X1 はσ配位子を示し、nは1又は2であり、複数
のX 1 はたがいに同一でも異なっていてもよく、また、
任意の基を介して結合していてもよい。Y7 は、O,
S,NR,PR又はCR2 であるか、又はOR,SR,
NR2 又はPR2 から選ばれた中性の2個電子供与性配
位子であり、Zは、SiR2 ,CR2 ,SiR2 SiR
2 ,CR2 CR2 ,CR=CR,CRSiR2 ,GeR
2 ,BR,BR2 であり、ここにおいて、Rは、各々の
場合に、水素,アルキル基,アリール基,シリル基,ハ
ロゲン化アルキル,ハロゲン化アリール,及びこれらの
少なくとも2つの組合せからなり、20個以下の非水素
原子をもつものからなる群より選ばれたものである。さ
らに、2個又はそれ以上の上記R基はZ,又はY7 とZ
の双方から縮合環系を形成していてもよい。)
8. The method according to claim 1, wherein (a) the transition metal compound has the following general formula:
6. The method according to claim 5, wherein:
3. The method for producing an ethylene copolymer according to item 1. Embedded image(Where MTwoIs titanium, zirconium or hafnium
Yes, Cp*Is MTwoTo ηFiveCyclo bonded in a bonding mode
Pentadienyl group, substituted cyclopentadienyl group or i
Ndenyl group, substituted indenyl group, fluorenyl group, substituted
Fluorenyl group, hexahydroazulenyl group, substituted hex
Sahydroazulenyl group, tetrahydroindenyl group,
Substituted tetrahydroindenyl group, tetrahydrofluorenyl
Group, substituted tetrahydrofluorenyl group, octahydro
A fluorenyl group or a substituted octahydrofluorenyl group
You. X1Represents a σ ligand; n is 1 or 2;
X 1May be the same or different,
It may be bonded via any group. Y7Is O,
S, NR, PR or CRTwoOr OR, SR,
NRTwoOr PRTwoNeutral two-electron donating donor selected from
And Z is SiRTwo, CRTwo, SiRTwoSiR
Two, CRTwoCRTwo, CR = CR, CRSiRTwo, GeR
Two, BR, BRTwoWhere R is each
In some cases, hydrogen, an alkyl group, an aryl group, a silyl group,
Alkylated halogenates, aryl halides, and the like
Not more than 20 non-hydrogens, consisting of at least two combinations
It is selected from the group consisting of those having atoms. Sa
Furthermore, two or more of the R groups may be Z or Y7And Z
May form a fused ring system. )
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