JPH11326199A - Gas sensor - Google Patents

Gas sensor

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JPH11326199A
JPH11326199A JP12460598A JP12460598A JPH11326199A JP H11326199 A JPH11326199 A JP H11326199A JP 12460598 A JP12460598 A JP 12460598A JP 12460598 A JP12460598 A JP 12460598A JP H11326199 A JPH11326199 A JP H11326199A
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JP
Japan
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laser
light
gas
dfb
semiconductor laser
Prior art date
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Pending
Application number
JP12460598A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Ryoichi Toumon
領一 東門
Kiyoshi Kimura
潔 木村
Yoshio Takahashi
良夫 高橋
Tomoyuki Kikukawa
知之 菊川
Takeshi Tsukamoto
威 塚本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Anritsu Corp
Original Assignee
Anritsu Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH11326199A publication Critical patent/JPH11326199A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce a sub-mode suppression ratio and to detect gas accurately and inexpensively by a gain-coupling distribution feedback(GC-DFB) laser as the light source of a laser beam. SOLUTION: As a device for light source of a laser beam, a semiconductor laser 6 consisting of a GC-DFB laser that causes less sub-mode suppression ratio due to return light to decrease and cannot become multiple mode easily is provided on a mounting stand 5, thus eliminating the need for executing, especially measures against return light (oblique machining and layout), at a condensing lens 8, a reference gas cell 10, and a light receiver 11 at the side of a reference gas, and eliminating the need for an expensive isolator for preventing the passage of reflection light. Therefore, even if return light due to reflection occurs, the reduction of the sub-mode suppression ratio is small, gas can be detected accurately, and the costs of a device can be reduced.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明はガス検知装置、更
に詳しくは半導体レーザを用いて検知対象ガスを分光分
析するガス検知装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas detecting device, and more particularly to a gas detecting device for performing spectroscopic analysis of a gas to be detected using a semiconductor laser.

【0002】[0002]

【従来の技術】大気中のガス濃度測定や、都市ガスある
いは化学プラント等からのガス漏洩を検出するのに、従
来からガスクロマトグラフ等といった化学式のガス検知
装置が用いられている。
2. Description of the Related Art Conventionally, chemical gas detectors such as gas chromatographs have been used for measuring gas concentrations in the atmosphere and detecting gas leaks from city gas or chemical plants.

【0003】しかし、このような化学的測定を行うガス
検知装置では、簡易な測定、迅速な測定を行うことが困
難であり、この点を考慮してレーザを用いた分光式のガ
ス検知装置が開発されている。
[0003] However, it is difficult to perform simple and quick measurement with such a gas detection device that performs such a chemical measurement, and in consideration of this point, a spectroscopic gas detection device using a laser is considered. Is being developed.

【0004】この分光式のガス検知装置は、ガスがその
種類に応じて特定波長の光を吸収することを利用するも
のである。一般的にガスは赤外領域の電磁波を吸収する
場合が多く、例えばメタンは3.3nmの波長光を吸収
する。したがって、測定対象の空間に特定波長のレーザ
光を射出しその減衰状態を測定すれば、極めて簡便かつ
迅速にガス漏れ検知を行うことが可能となる。
[0004] This spectroscopic gas detector utilizes the fact that a gas absorbs light of a specific wavelength according to its type. Generally, gas often absorbs electromagnetic waves in the infrared region. For example, methane absorbs light having a wavelength of 3.3 nm. Therefore, if a laser beam of a specific wavelength is emitted to the space to be measured and its attenuation state is measured, it is possible to detect gas leakage extremely simply and quickly.

【0005】ところでこのような装置に使用するレーザ
光源は、その前提として小型であることが求められる。
ガスレーザ等は高出力で単一モードの波長光を得られる
ものの上記小型であることの要件を満たさず、現実的に
使用可能なレーザ光源は半導体レーザであろうと考えら
れている。なお、射出されるレーザ光が単一モードであ
ることは、一定波長の光を吸収させて測定を行う装置の
構成からして検知対象ガスの高精度な検出を実現するた
めに極めて重要な要素である。
[0005] By the way, the laser light source used in such an apparatus is required to be small as a premise.
Although a gas laser or the like can obtain a single-mode wavelength light with high output, it does not satisfy the requirement of the above-mentioned compact size, and it is considered that a semiconductor laser can be a practically usable laser light source. The fact that the emitted laser light is in a single mode is an extremely important factor in achieving high-precision detection of the gas to be detected due to the configuration of the device that absorbs light of a certain wavelength and performs measurement. It is.

【0006】しかしながら、半導体レーザは本来多モー
ド発振であり、種々の工夫により、通常は単一モード発
振を実現しているが、レーザ素子に対する戻り光がある
場合には副モード抑圧比が低下し、多モード発振になっ
てしまうと従来から考えられている。
However, semiconductor lasers are inherently multi-mode oscillations, and single-mode oscillations are usually realized by various measures. However, when there is return light to the laser element, the sub-mode suppression ratio decreases. It has been conventionally considered that multi-mode oscillation occurs.

【0007】すなわち反射による戻り光がある場合に
は、レーザ光の射出状態自体が変動し、測定装置光源の
特性が変動することになる。この副モード抑圧比の低下
による光源特性の変動を防止すべく、従来からレーザ素
子に反射光が戻らないような種々の工夫が施されてい
る。
That is, when there is return light due to reflection, the emission state of the laser light itself fluctuates, and the characteristics of the measurement device light source fluctuate. In order to prevent the light source characteristics from fluctuating due to the decrease in the submode suppression ratio, various devices have been conventionally employed so that the reflected light does not return to the laser element.

【0008】図9は従来のガス検知装置における半導体
レーザモジュールの構成例を示す図である。この半導体
レーザモジュールでは、半導体レーザ71からのレーザ
光が非球面レンズ72、アイソレータ73及び保護ガラ
ス74を通過して被測定ガスに対して入射される。ま
た、その反対方向に対しても半導体レーザ71からレー
ザ光が射出され、非球面レンズ76、アイソレータ7
7、参照ガスセル78を通過して、フォト検出器79に
入射されるようになっている。
FIG. 9 is a diagram showing a configuration example of a semiconductor laser module in a conventional gas detection device. In this semiconductor laser module, laser light from a semiconductor laser 71 passes through an aspheric lens 72, an isolator 73, and a protective glass 74 and is incident on a gas to be measured. Laser light is also emitted from the semiconductor laser 71 in the opposite direction, and the aspheric lens 76 and the isolator 7
7. The light passes through the reference gas cell 78 and enters the photodetector 79.

【0009】なお、ガス検知は、検知対象ガスを封入し
た参照ガスセル78を介する受光測定に基づき、ペルチ
ェ素子80による温度制御でレーザ波長が制御される。
こうして波長制御され、出力も安定化されたレーザ71
からのレーザ光は被測定ガスを通過して減衰する。そし
て、通過光が測定系(図示せず)で測定されて被測定ガ
ス内の検知対象ガス濃度が出力される。
In the gas detection, the laser wavelength is controlled by temperature control by the Peltier element 80 based on the light reception measurement through the reference gas cell 78 in which the gas to be detected is sealed.
The laser 71 whose wavelength is controlled in this way and whose output is stabilized
Is attenuated by passing through the gas to be measured. Then, the transmitted light is measured by a measurement system (not shown), and the concentration of the gas to be detected in the gas to be measured is output.

【0010】ここで、上記2つの光経路から半導体レー
ザ71への反射戻り光が極力するなくなるように配慮さ
れている。まず、非球面レンズ72,76を光軸に対し
て斜めに配置しさらにアイソレータ73,77が設けら
れる。アイソレータはその結晶中を通過する光の偏波面
を回転させるものであり、反射光の通過を阻止する。ま
た、被測定ガス側の保護ガラス74も反射光を少なくす
べく、光軸に斜めに設けられている。
Here, consideration is made so that the reflected return light from the two optical paths to the semiconductor laser 71 is minimized. First, aspheric lenses 72 and 76 are arranged obliquely with respect to the optical axis, and isolators 73 and 77 are provided. The isolator rotates the plane of polarization of light passing through the crystal, and blocks the passage of reflected light. Also, the protective glass 74 on the measured gas side is provided obliquely to the optical axis in order to reduce reflected light.

【0011】一方、参照ガスセル78側においても、参
照ガスセル78の各セル端面78a,78bが光軸に斜
めになっており、光反射しにくい構成としている。ま
た、フォト検出器79自体もその検出面が斜めになって
いる。こうして従来のガス検知装置用の半導体レーザモ
ジュールには種々の戻り光が極力生じないような構成と
なっている。
On the other hand, also on the side of the reference gas cell 78, the cell end faces 78a and 78b of the reference gas cell 78 are inclined with respect to the optical axis so that light is hardly reflected. Further, the photodetector 79 itself has an oblique detection surface. Thus, the conventional semiconductor laser module for a gas detection device is configured so that various return lights are not generated as much as possible.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】このように半導体レー
ザを用いた従来のガス検知装置では、反射光の戻りを防
止すべく、保護ガラス74やセル端面78a,78bを
斜め加工し、またアイソレータ73,77等の高価な部
材を使用する必要がある。このような構成を設けない場
合には副モード抑圧比が低下しレーザ発振が多モード化
して測定精度が低下することになる。また場合により測
定不能となる。
As described above, in the conventional gas detector using the semiconductor laser, the protective glass 74 and the cell end faces 78a and 78b are processed obliquely to prevent the return of the reflected light, and the isolator 73 is used. , 77 and the like must be used. If such a configuration is not provided, the sub-mode suppression ratio decreases, the laser oscillation becomes multimode, and the measurement accuracy decreases. In some cases, measurement becomes impossible.

【0013】一方、この不都合を防止すべく上記の装置
のように斜め加工やアイソレータを使用すると装置の製
造コストが上昇し、安価なガス検知装置の提供が困難と
なる。
On the other hand, if oblique machining or an isolator is used to prevent this inconvenience as in the above-described apparatus, the manufacturing cost of the apparatus increases, and it becomes difficult to provide an inexpensive gas detection apparatus.

【0014】本発明は、このような実情を考慮してなさ
れたもので、半導体レーザを光源としかつ反射による戻
り光が生じ得る場合であっても、副モード抑圧比の低下
が少なく高精度かつ低コストなガス検知を可能とするガ
ス検知装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of such circumstances, and even in a case where a semiconductor laser is used as a light source and return light due to reflection can occur, the reduction in the submode suppression ratio is small and high accuracy and high accuracy are achieved. It is an object of the present invention to provide a gas detection device that enables low-cost gas detection.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明の骨子は、ガス検
知装置のレーザ光源として、利得結合分布帰還型(GC
−DFB)あるいは複合結合分布帰還型(CC−DF
B)レーザを用いることにある。この発明は、発明者ら
の実験結果からの発見に基づきなされたものである。上
記説明では、半導体レーザでは戻り光があるときには一
般に多モードになると説明したが、発明者らはある種の
半導体レーザでは、戻り光があっても多モードになりに
くいことを発見したのである。
The gist of the present invention is that a gain-coupled distributed feedback (GC) is used as a laser light source for a gas detection device.
-DFB) or composite coupled distributed feedback type (CC-DF
B) The use of a laser. The present invention has been made based on findings from the inventors' experimental results. In the above description, it has been described that the semiconductor laser generally becomes multi-mode when there is return light. However, the inventors have found that a certain type of semiconductor laser does not easily become multi-mode even when there is return light.

【0016】今回発明者らは、この点について詳細な実
験を行い、GC−DFBレーザ及びCC−DFBレーザ
においては、戻り光が10%程度に増大しても副モード
抑圧比がほとんど変化しないことを見い出した(図5及
び図6参照)。なお、この実験内容については後に細述
する。
The present inventors have conducted detailed experiments on this point, and found that the sub-mode suppression ratio of the GC-DFB laser and the CC-DFB laser hardly changes even if the return light increases to about 10%. (See FIGS. 5 and 6). The details of this experiment will be described later.

【0017】請求項1に対応する発明は、上記知見に基
づくものであり、所定波長のレーザ光を被測定ガスに入
射すると、そのレーザ光が被測定ガスに含まれる検知対
象ガスによって減衰することを利用してガス検知を行う
ガス検知装置において、レーザ光の光源として利得結合
分布帰還型レーザを用いるガス検知装置である。
[0017] The invention corresponding to claim 1 is based on the above knowledge, and when laser light of a predetermined wavelength is incident on a gas to be measured, the laser light is attenuated by the gas to be detected contained in the gas to be measured. This is a gas detection device that uses a gain-coupled distributed feedback laser as a light source of a laser beam in a gas detection device that performs gas detection using a laser beam.

【0018】本発明はこのような構成を設けたので、た
とえレーザ光発振部に対して反射等による戻り光があっ
ても多モード化することがなく、安定して一定波長のレ
ーザ光を被測定ガスに入射し続けることができる。した
がって、安定しかつ高精度なガス検知測定を行うことが
できるとともに、レーザ発振部にアイソレータ等の高価
な部品や反射防止加工等を不要とできるので、簡易な構
成でかつ低コストなガス検知装置を提供できる。
Since the present invention has such a configuration, even if there is a return light due to reflection or the like to the laser light oscillation section, the laser light of a constant wavelength is stably received without multimode operation. It can continue to be incident on the measuring gas. Therefore, stable and highly accurate gas detection measurement can be performed, and expensive parts such as an isolator and anti-reflection processing are not required in the laser oscillation unit. Can be provided.

【0019】請求項2に対応する発明は、請求項1に対
応する発明において、光源として利得結合分布帰還型レ
ーザに代えて、複合結合分布帰還型レーザを用いるガス
検知装置である。
A second aspect of the present invention is a gas detecting apparatus according to the first aspect of the present invention, which uses a composite-coupled distributed feedback laser instead of a gain-coupled distributed feedback laser as a light source.

【0020】本発明においても請求項1に対応する発明
と同様な効果を得ることができる。また、請求項1及び
請求項2に対応する発明に関連して、発明者らは従来型
の屈折率結合分布帰還型(IC−DFB)レーザが、注
入電流を大きくして波長の変化を大きくした場合多モー
ド化やモードホップを起こす確率が高いのに比べ、GC
−DFB及びCC−DFBは単一モードを保つ確率が高
いことを発見した。よって、GC−DFB及びCC−D
FBを光源に用いることで、波長チューニング範囲が広
いガス検知装置を提供できる。
According to the present invention, the same effects as those of the first aspect can be obtained. Further, in connection with the inventions corresponding to the first and second aspects, the present inventors have proposed that a conventional index-coupled distributed feedback (IC-DFB) laser increases an injection current to increase a change in wavelength. If the probability of multi-mode and mode hop is high,
-It has been found that DFB and CC-DFB have a high probability of maintaining a single mode. Therefore, GC-DFB and CC-D
By using FB as a light source, a gas detection device having a wide wavelength tuning range can be provided.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。図1は本発明の第1の実施の形態に係るガ
ス検知装置における半導体レーザモジュールの構成例を
示す図である。
Embodiments of the present invention will be described below. FIG. 1 is a diagram showing a configuration example of a semiconductor laser module in a gas detection device according to a first embodiment of the present invention.

【0022】この半導体レーザモジュールにおいては、
円筒型ケース1における円筒内側の基板2上に基台3が
設けられ、その基台3表面に取り付けられたペルチェ素
子(温度制御素子)4上に取付台5が設けられている。
In this semiconductor laser module,
A base 3 is provided on a substrate 2 inside the cylinder of the cylindrical case 1, and a mount 5 is provided on a Peltier element (temperature control element) 4 mounted on the surface of the base 3.

【0023】GC−DFB又はCC−DFBレーザから
なる半導体レーザ6は、取付台5上に設けられ、円筒型
ケース1の中心軸上に沿ってレーザ光を射出するように
配置されている。また、当該半導体レーザ6は検知対象
ガスの濃度を測定するためのものであり、ペルチェ素子
4によって温度制御されることで検知対象ガスに合わせ
たレーザ波長に制御される。なお、レーザ光は被測定ガ
ス側、参照ガス側の双方に射出されるようになってい
る。
A semiconductor laser 6 composed of a GC-DFB or CC-DFB laser is provided on the mounting base 5 and is arranged to emit laser light along the central axis of the cylindrical case 1. The semiconductor laser 6 is used to measure the concentration of the gas to be detected, and the temperature is controlled by the Peltier element 4 to control the laser wavelength to match the gas to be detected. The laser light is emitted to both the measured gas side and the reference gas side.

【0024】また、被測定ガス側及び参照ガス側に射出
される各レーザ光を集光し平行ビームとするためにそれ
ぞれ集光レンズ7,8が取付台5上に設けられ、レーザ
光軸上に配置されている。
Condensing lenses 7 and 8 are provided on the mounting base 5 for condensing the laser beams emitted to the measured gas side and the reference gas side into parallel beams, respectively. Are located in

【0025】半導体レーザ6からの被測定ガス側への光
はこの集光レンズ7、及び半導体レーザモジュールを保
護する保護ガラス9を介して外部へ出力され、被測定ガ
スに入射される。ここで、集光レンズ7及び保護ガラス
9は光軸に対して特に斜め加工はされておらず、コスト
等を考慮した上で適切な形状となっている。また、アイ
ソレータは特に設けられていない。
Light from the semiconductor laser 6 to the gas to be measured is output to the outside via the condenser lens 7 and the protective glass 9 for protecting the semiconductor laser module, and is incident on the gas to be measured. Here, the condenser lens 7 and the protective glass 9 are not particularly obliquely processed with respect to the optical axis, and have appropriate shapes in consideration of cost and the like. Further, no isolator is provided.

【0026】一方、半導体レーザ6からの参照ガス側へ
の光は、集光レンズ8にて平行ビームとなり、さらに参
照ガスセル10を介して受光器11にて受光されるよう
になっている。ここで、参照ガスセル10は、参照ガス
として検知対象ガスを封入したセルであり、後述する波
長安定化制御回路を通してレーザ光波長を検知対象ガス
の吸収波長に合わせるためのものである。また、受光器
11は受光したレーザ光を電気信号(電流)に変換す
る。
On the other hand, light from the semiconductor laser 6 to the reference gas side is converted into a parallel beam by the condenser lens 8, and further received by the light receiver 11 via the reference gas cell 10. Here, the reference gas cell 10 is a cell in which a gas to be detected is sealed as a reference gas, and is for adjusting the wavelength of the laser beam to the absorption wavelength of the gas to be detected through a wavelength stabilization control circuit described later. The light receiver 11 converts the received laser light into an electric signal (current).

【0027】ここでも、被測定ガス側の場合と同様に、
アイソレータは設けられず、また、集光レンズ8、参照
ガスセル10及び受光器11には戻り光対策(斜め加工
や配置等)は特に設けられていない。
Here, as in the case of the gas to be measured,
No isolator is provided, and no countermeasures against return light (oblique processing, arrangement, etc.) are provided in the condenser lens 8, reference gas cell 10, and light receiver 11.

【0028】なお図1に示す半導体レーザモジュールに
おいて、反射による戻り光対策が必要でない理由は、G
C−DFB又はCC−DFBレーザでは戻り光による副
モード抑圧比の低下が少なく、多モードになりにくいこ
とによるものである。この点について発明者らの実験を
説明する。
In the semiconductor laser module shown in FIG. 1, it is not necessary to take measures against return light due to reflection.
This is because in the C-DFB or CC-DFB laser, the reduction of the sub-mode suppression ratio due to the return light is small, and it is difficult for the mode to be multi-mode. In this regard, the inventors' experiments will be described.

【0029】図2は実験対象となった各種類のDFBレ
ーザの主要部構成を示す図である。同図(a)はGC−
DFBレーザ、同図(b)はCC−DFBレーザ、同図
(c)は屈折率結合分布帰還型(IC−DFB)レーザ
の構成を示している。
FIG. 2 is a diagram showing the configuration of the main part of each type of DFB laser that was the subject of the experiment. The figure (a) shows GC-
FIG. 1B shows the configuration of a CC-DFB laser, and FIG. 2C shows the configuration of a refractive index-coupled distributed feedback (IC-DFB) laser.

【0030】各DFBレーザは、In P基板(図示せ
ず)上に、n−In Pクラッド層51、n−In Ga A
s P SCH層(光閉じ込め層)52、活性層(MQ
W)53、p−In Ga As P SCH層54、p−I
n Pクラッド層55が順次積層されて構成される。
Each DFB laser has an n-InP cladding layer 51 and an n-InGaA on an InP substrate (not shown).
s P SCH layer (optical confinement layer) 52, active layer (MQ
W) 53, p-In GaAs SCH layer 54, p-I
The nP clad layer 55 is formed by sequentially laminating.

【0031】また、GC−DFBレーザの場合は、SC
H層54とクラッド層55と間に一定間隔でn−In P
からなる電流ブロック層56が設けられ、利得結合を実
現している。同様に、CC−DFBレーザの場合は、S
CH層54とクラッド層55と間にn−In Ga As P
からなる電流ブロック層57が設けられている。
In the case of the GC-DFB laser, SC
N-InP at regular intervals between the H layer 54 and the cladding layer 55
Is provided to realize gain coupling. Similarly, for a CC-DFB laser, S
N-InGaAsP between the CH layer 54 and the cladding layer 55
Is provided.

【0032】GC−DFB及びCC−DFBレーザには
2次グレーティングを用いている。2次グレーティング
の場合は、取り出し対象となる波長の光がグレーティン
グと平行な方向のみならず直交方向にも生じてしまうた
め理論的には回折効率が落ち、最大の光出力も1次グレ
ーティングのものに比べれば低いはずである。にもかか
わらず、発明者らの実験によれば、2次グレーティング
であっても最大の光出力が1次グレーティングと同等な
ものが得られている。
A secondary grating is used for the GC-DFB and CC-DFB lasers. In the case of a secondary grating, light of the wavelength to be extracted is generated not only in a direction parallel to the grating but also in a direction orthogonal thereto, so that the diffraction efficiency is theoretically reduced and the maximum light output is that of the primary grating. Should be lower than. Nevertheless, according to the experiments performed by the inventors, it is possible to obtain a secondary grating having a maximum light output equivalent to that of the primary grating.

【0033】その第1の理由は、製造しやすさによるも
のと考えられる。つまり、2次グレーティングは製造し
やすいため、正確なグレーティングが形成され、最大理
論値により近いところでトップデータが得られている。
このため、結果として正確に製造するのが困難な1次グ
レーティングと同等なトップデータが得られるものであ
る。
The first reason is considered to be due to the ease of manufacturing. That is, since the secondary grating is easy to manufacture, an accurate grating is formed, and top data is obtained at a position closer to the maximum theoretical value.
For this reason, as a result, top data equivalent to the primary grating which is difficult to manufacture accurately can be obtained.

【0034】第2の理由は、電流ブロック層の幅とOC
L(Optical Confinement Layer :光閉じ込め層)の層
厚とのアスペクト比にあると考えられる。OCLは、光
閉じ込め層であるので活性層の発する光を適切に閉じ込
めるために製造条件に対応して最適な厚さが存在する。
本実施形態のレーザの場合は90nm程度である。とこ
ろがOCLが90nmあるのに、1次グレーティングの
ように電流ブロック層の幅がたかだか120nm程度し
かないのでは、十分な電流ブロッキングを行うことがで
きない。この場合、電流がブロック層のない部分を通過
後、活性層に至るまでに回り込みが起こり、活性層に対
し十分な電流差が与えられずひいては十分なゲイン差が
得られないことになる。すなわち利得結合が不十分とな
る。
The second reason is that the width of the current block layer and the OC
It is considered to be in an aspect ratio with the layer thickness of L (Optical Confinement Layer: optical confinement layer). Since the OCL is a light confinement layer, there is an optimum thickness corresponding to the manufacturing conditions in order to appropriately confine the light emitted from the active layer.
In the case of the laser of the present embodiment, it is about 90 nm. However, even if the OCL is 90 nm, a sufficient current blocking cannot be performed if the width of the current blocking layer is at most about 120 nm as in a primary grating. In this case, after the current passes through the portion without the block layer, the current wraps around to reach the active layer, so that a sufficient current difference is not given to the active layer and, consequently, a sufficient gain difference cannot be obtained. That is, the gain coupling becomes insufficient.

【0035】図3は1次及び2次グレーティングにおけ
る電流ブロック層通過後の電流広がりの様子を示す図で
ある。図3(b)に上記説明した電流の回り込みが生じ
て十分なゲイン差が得られなくなっている様子を示す。
1次グレーティングの場合、この電流広がりのために理
論上得られるはずの特性が得られず、トップデータが本
来のものよりも低くなってしまう。
FIG. 3 is a diagram showing the spread of current after passing through the current blocking layer in the primary and secondary gratings. FIG. 3B shows a state in which the above-described current wraparound occurs and a sufficient gain difference cannot be obtained.
In the case of the primary grating, the characteristics that should be theoretically obtained cannot be obtained due to the current spread, and the top data is lower than the original data.

【0036】一方、図3(a)に示す2次グレーティン
グの場合は、OCL56の厚さに対する電流ブロック層
57の幅が240nmと十分に大きく、電流の回り込み
が少ない。従ってこの場合には十分な利得結合が得ら
れ、良好が特性が得られることになる。
On the other hand, in the case of the secondary grating shown in FIG. 3A, the width of the current blocking layer 57 with respect to the thickness of the OCL 56 is sufficiently large as 240 nm, and the current wraparound is small. Therefore, in this case, sufficient gain coupling is obtained, and good characteristics are obtained.

【0037】このように利得結合型を電流ブロック層5
7により実現するとともに、その性能を十分に引き出す
ためには、OCL厚に対する電流ブロック層幅の大きさ
(比率)を十分に大きくする必要がある。一方でOCL
層の厚さはレーザの材料や形式、製造方法によって最適
値が生じる場合が多い。そこで、本実施形態ではあえて
2次グレーティングを採用することにより、上記比率を
適正なものとしたのである。したがって、この最適比率
を得るためには、3次グレーティングや4次グレーティ
ングを用いることも考え得る。
As described above, the gain-coupling type current blocking layer 5
In addition to realizing the performance of the OCL, the size (ratio) of the current block layer width to the OCL thickness needs to be sufficiently large. On the other hand, OCL
The layer thickness often has an optimum value depending on the laser material, type, and manufacturing method. Therefore, in the present embodiment, the ratio is made appropriate by dare to employ a secondary grating. Therefore, in order to obtain this optimum ratio, it is conceivable to use a third-order grating or a fourth-order grating.

【0038】一方、IC−DFBレーザの場合は、SC
H層54とクラッド層55と間で回折格子58を形成す
るように、両層間形状が制御されている。なお、CC−
DFBレーザの場合もSCH層54とクラッド層55と
間で回折格子59が形成されている。
On the other hand, in the case of an IC-DFB laser, SC
The shape of both layers is controlled so that a diffraction grating 58 is formed between the H layer 54 and the cladding layer 55. Note that CC-
Also in the case of the DFB laser, a diffraction grating 59 is formed between the SCH layer 54 and the cladding layer 55.

【0039】図4はDFBレーザの耐戻り光特性を評価
する実験装置の構成を示す図である。この実験装置は、
図2に示すようなDFBレーザ61からの射出光を3d
Bカプラ62で分配し、可変光減衰器63及び光スペク
トラムアナライザ64に入射するようになっている。
FIG. 4 is a diagram showing a configuration of an experimental apparatus for evaluating the anti-return light characteristic of the DFB laser. This experimental device
The emitted light from the DFB laser 61 as shown in FIG.
The light is distributed by the B coupler 62 and enters the variable optical attenuator 63 and the optical spectrum analyzer 64.

【0040】可変光減衰器63に入射したレーザ光はそ
の設定量に応じて減衰され、ミラー65で反射されて再
び可変光減衰器63を通過する。こうして、反射強度を
調整された戻り光は、3dBカプラ62で分配され、D
FBレーザ61及び光パワーメータ66に入射される。
The laser light incident on the variable optical attenuator 63 is attenuated according to the set amount, is reflected by the mirror 65, and passes through the variable optical attenuator 63 again. The return light whose reflection intensity has been adjusted in this way is distributed by the 3 dB coupler 62 and D
The light enters the FB laser 61 and the optical power meter 66.

【0041】DFBレーザ61に入射される戻り光は、
レーザ発振状態に影響を与えるものであり、本明細書で
問題としている反射戻り光である。この反射戻り光の大
きさは、光パワーメータ66で測定される。
The return light incident on the DFB laser 61 is
This is a reflected return light that affects the laser oscillation state and is a problem in this specification. The magnitude of the reflected return light is measured by the optical power meter 66.

【0042】一方、戻り光による影響を受けた後に、D
FBレーザ61から射出されたレーザ光は、3dBカプ
ラ62を経て光スペクトラムアナライザ64に入射され
る。そしてこの光スペクトラムアナライザにて各波長毎
の光強度が測定される。
On the other hand, after being affected by the return light, D
The laser light emitted from the FB laser 61 enters the optical spectrum analyzer 64 via the 3 dB coupler 62. The optical spectrum analyzer measures the light intensity for each wavelength.

【0043】図5は副モード抑圧比の戻り光量依存性を
示す図である。副モード抑圧比は、主モードと副モード
との比率を表すものであり、この値が大きいほど主モー
ド波長光強度に対する副モード波長光強度が小さく、単
一モード発振が行われていることになる。
FIG. 5 is a diagram showing the dependence of the sub-mode suppression ratio on the amount of return light. The submode suppression ratio indicates the ratio between the main mode and the submode. The larger this value is, the smaller the submode wavelength light intensity with respect to the main mode wavelength light intensity is, and the single mode oscillation is performed. Become.

【0044】図4の実験装置において可変光減衰器63
を調整することで、各戻り光比率毎のスペクトラムが測
定され、その結果として図5に、各DFBレーザについ
ての戻り光比率に対する副モード抑圧比が示されてい
る。
In the experimental apparatus shown in FIG.
Is adjusted, the spectrum for each return light ratio is measured. As a result, FIG. 5 shows the sub-mode suppression ratio with respect to the return light ratio for each DFB laser.

【0045】図6は戻り光が10%存在する場合の各D
FBレーザの光スペクトラムを示す図である。図5及び
図6の実験結果より、GC−DFBレーザ及びCC−D
FBレーザでは、戻り光比率が10%程度にまで増大し
ても副モード抑圧比がほとんど低下せず、単一モード発
振が維持されていることがわかる。
FIG. 6 shows each D when the return light is present at 10%.
FIG. 3 is a diagram illustrating an optical spectrum of an FB laser. 5 and 6 show that the GC-DFB laser and the CC-D
In the FB laser, even if the return light ratio increases to about 10%, the sub-mode suppression ratio hardly decreases, indicating that single-mode oscillation is maintained.

【0046】一方、IC−DFBレーザでは、戻り光比
率が1%くらいから副モード抑圧比の低下が顕著となり
(図5)、10%では完全に多モード発振となっている
ことがわかる。
On the other hand, in the IC-DFB laser, the return light ratio is about 1%, and the submode suppression ratio is remarkably reduced (FIG. 5).

【0047】以上のように、本実施形態に用いる半導体
レーザ(GC−DFBレーザ又はCC−DFBレーザ)
は、反射による戻り光があっても、その発振特性の変動
がほどんどなく、半導体レーザモジュールを図1に示す
ような構成としても測定精度の低下がもたらされないこ
とが確認された。次に、この半導体レーザモジュールを
用いた半導体レーザ発振部及び受光測定系の構成につい
て説明する。
As described above, the semiconductor laser (GC-DFB laser or CC-DFB laser) used in the present embodiment
It was confirmed that even if there was a return light due to reflection, the oscillation characteristics did not fluctuate substantially, and even if the semiconductor laser module was configured as shown in FIG. 1, no reduction in measurement accuracy was caused. Next, a configuration of a semiconductor laser oscillation unit and a light receiving measurement system using the semiconductor laser module will be described.

【0048】図7は本実施形態のガス検知装置における
半導体レーザ発振部の構成例を示す図である。この半導
体レーザ発振部は、図1にて説明した半導体レーザモジ
ュール20にガス濃度測定レーザ光安定回路が付加され
て構成される。また、図1において示したペルチェ素子
4は、ここでは上段ペルチェ素子4a及び下段ペルチェ
素子4bから構成されている。
FIG. 7 is a diagram showing a configuration example of a semiconductor laser oscillation section in the gas detection device of the present embodiment. This semiconductor laser oscillation section is configured by adding a gas concentration measurement laser light stabilizing circuit to the semiconductor laser module 20 described in FIG. The Peltier element 4 shown in FIG. 1 is composed of an upper Peltier element 4a and a lower Peltier element 4b.

【0049】このガス濃度測定レーザ光安定回路は、電
流電圧変換器21と、基本波信号増幅器22と、信号微
分検出器23と、波長安定化制御回路24と、温度安定
化PID回路25と、電流安定化回路26とから構成さ
れている。
The gas concentration measuring laser light stabilizing circuit comprises a current-voltage converter 21, a fundamental wave signal amplifier 22, a signal differential detector 23, a wavelength stabilizing control circuit 24, a temperature stabilizing PID circuit 25, And a current stabilizing circuit 26.

【0050】ここでまず電流電圧変換器21は、受光器
11の受光電流を電圧に変換するものである。基本波信
号増幅器22は、電流電圧変換器21で変換された電圧
を増幅する。信号微分検出器23は、基本波信号増幅器
22で増幅された電圧波形を微分し、検知対象ガスの吸
収線波長からのずれ信号を生成する。
Here, first, the current-voltage converter 21 converts the light reception current of the light receiver 11 into a voltage. The fundamental signal amplifier 22 amplifies the voltage converted by the current-voltage converter 21. The signal differential detector 23 differentiates the voltage waveform amplified by the fundamental signal amplifier 22 to generate a deviation signal from the absorption line wavelength of the gas to be detected.

【0051】波長安定化制御回路24は半導体レーザの
発光波長を検知対象ガス吸収線波長に安定化させる制御
を行う。すなわち信号微分検出器23からのずれ信号を
半導体レーザ温度に変換し温度安定化PID回路25に
出力するとともに、そのずれ信号に基づき制御信号を電
流安定化回路26に対して出力する。
The wavelength stabilization control circuit 24 performs control for stabilizing the emission wavelength of the semiconductor laser to the wavelength of the gas absorption line to be detected. That is, the shift signal from the signal differential detector 23 is converted into a semiconductor laser temperature and output to the temperature stabilizing PID circuit 25, and a control signal is output to the current stabilizing circuit 26 based on the shift signal.

【0052】温度安定化PID回路25は、各ペルチェ
素子4(4a,4b)を制御するものである。すなわち
波長安定化制御回路24からの温度信号にしたがって半
導体レーザ6が所望の波長で発振する温度となるようP
ID制御を行い、当該半導体レーザの温度を一定温度に
安定に保持する。
The temperature stabilizing PID circuit 25 controls each Peltier element 4 (4a, 4b). That is, P is set so that the semiconductor laser 6 oscillates at a desired wavelength in accordance with the temperature signal from the wavelength stabilization control circuit 24.
ID control is performed to stably maintain the temperature of the semiconductor laser at a constant temperature.

【0053】電流安定化回路26は、波長安定化制御回
路24からの制御信号に従い、半導体レーザ6の駆動電
流を安定化する。次に半導体レーザ6からのレーザ光を
受光し、ガス検知を行う受光測定系の構成を説明する。
The current stabilizing circuit 26 stabilizes the driving current of the semiconductor laser 6 in accordance with the control signal from the wavelength stabilizing control circuit 24. Next, the configuration of a light receiving measurement system that receives laser light from the semiconductor laser 6 and performs gas detection will be described.

【0054】図8は本実施形態のガス検知装置における
受光測定系の構成例を示す図である。この受光測定系
は、受光素子31aを備える受光器31と、ガス検知部
32とからなっている。
FIG. 8 is a diagram showing a configuration example of a light receiving measurement system in the gas detection device of the present embodiment. This light receiving measurement system includes a light receiver 31 having a light receiving element 31a and a gas detector 32.

【0055】受光器31は、その受光素子31aによ
り、被測定ガス30を通り抜けた半導体レーザモジュー
ル20からのレーザ光を受光し、電流に変換する。ガス
検知部32は、受光器31で得られた受光電流を電流電
圧変換器33にて電圧信号に変換し、さらにその変換結
果を用いて基本波信号検出器34,2倍波信号検出器3
5及び基本波2倍波割算部36により検知対象ガスの検
知を行い、最終的なガス検出信号を出力する。
The light receiver 31 receives the laser light from the semiconductor laser module 20 that has passed through the gas to be measured 30 by the light receiving element 31a, and converts the laser light into a current. The gas detector 32 converts the received light current obtained by the light receiver 31 into a voltage signal by the current / voltage converter 33, and further uses the conversion result to output a fundamental signal detector 34 and a second harmonic signal detector 3.
The detection target gas is detected by 5 and the fundamental wave second-wave division unit 36, and a final gas detection signal is output.

【0056】基本波信号検出器34は、変換された受光
電圧信号の基本波電圧を検出する。また2倍波信号検出
器35は、受光電圧信号の2倍波電圧を検出する。基本
波2倍波割算部36は、2倍波を基本波で割り算した信
号を測定対象ガス濃度の検出信号として出力する。な
お、このような信号操作(割り算)を行うのは、測定光
は被測定ガス30を通過による以外の理由によってもあ
る程度のレベル変動を生じるため、そのレベル変動を除
去して正確な濃度検出を行うためである。
The fundamental wave signal detector 34 detects the fundamental wave voltage of the converted light receiving voltage signal. The second harmonic signal detector 35 detects a second harmonic voltage of the received light voltage signal. The fundamental wave doubler divider 36 outputs a signal obtained by dividing the second harmonic by the fundamental wave as a detection signal of the concentration of the gas to be measured. It is to be noted that the signal operation (division) is performed because the measurement light has a certain level of fluctuation due to a reason other than the passage through the gas 30 to be measured. To do it.

【0057】次に、以上のように構成された本実施形態
におけるガス検知装置の動作について説明する。まず、
図1,図7において、半導体レーザ6から後方に出射し
たレーザ光は、集光レンズ8により集光され、検知対象
ガスが封入された参照ガスセル10に導かれ、受光器1
1で検出され基本波が生成される。電流電圧変換器21
により増幅された信号は基本波信号増幅器22で増幅さ
れ、信号微分検出器23によりレベル検出され、検知対
象ガスの吸収線波長からのずれ信号が生成される。
Next, the operation of the gas detection device according to the present embodiment configured as described above will be described. First,
1 and 7, a laser beam emitted backward from a semiconductor laser 6 is condensed by a condenser lens 8, guided to a reference gas cell 10 in which a gas to be detected is sealed, and
1 and a fundamental wave is generated. Current-voltage converter 21
Is amplified by the fundamental wave signal amplifier 22, the level is detected by the signal differentiation detector 23, and a deviation signal from the absorption line wavelength of the gas to be detected is generated.

【0058】この信号は波長安定化制御回路24にて半
導体レーザ温度に変換され、温度安定化PID回路25
に入力され、その温度安定化PID回路25のPID制
御により、上記ずれがなくなるようにペルチェ素子4
(4a,4b)の温度が調節される。なお、下段ペルチ
ェ素子4bにより半導体レーザ取付部分全体の温度安定
化が行われ、上段ペルチェ素子4aによりレーザ発振の
微調整が行われる。
This signal is converted into a semiconductor laser temperature by a wavelength stabilization control circuit 24, and a temperature stabilization PID circuit 25
The Peltier element 4 is controlled by the PID control of the temperature stabilizing PID circuit 25 so that the above-mentioned deviation is eliminated.
The temperature of (4a, 4b) is adjusted. The temperature of the entire semiconductor laser mounting portion is stabilized by the lower Peltier element 4b, and fine adjustment of laser oscillation is performed by the upper Peltier element 4a.

【0059】上記信号のずれがなくなった場合は、半導
体レーザ6が参照ガスセル10内のガスに吸収される波
長に調整されている。そこでこのときには、波長安定化
制御回路24の制御により半導体レーザ6に対する電流
も安定化され、レーザ光の波長出力ともに安定化してガ
ス濃度が安定して測定できる状態となる。
When the above-mentioned signal shift is eliminated, the wavelength of the semiconductor laser 6 is adjusted to the wavelength absorbed by the gas in the reference gas cell 10. Therefore, at this time, the current to the semiconductor laser 6 is also stabilized by the control of the wavelength stabilization control circuit 24, and the wavelength output of the laser light is also stabilized, so that the gas concentration can be stably measured.

【0060】なお、このレーザ安定化の過程で集光レン
ズ7,8や保護ガラス9あるいは参照ガスセル10にて
レーザ光が反射され、半導体レーザ6に戻り光として入
射される。しかし、本実施形態の半導体レーザ6は図
5,図6に示すように、戻り光があっても多モード化す
ることなく、安定したレーザ発振が継続される。
During the laser stabilization process, the laser light is reflected by the condenser lenses 7, 8 and the protective glass 9 or the reference gas cell 10, and is incident on the semiconductor laser 6 as return light. However, as shown in FIGS. 5 and 6, the semiconductor laser 6 of the present embodiment does not become multimode even when there is return light, and stable laser oscillation is continued.

【0061】こうして、半導体レーザ前方より出射され
たレーザ光は被測定ガス30を通り図8の受光器31で
受光される。受光信号は電流電圧変換回路33で電圧信
号に変換され、基本波信号検出回路34にて受光電圧信
号の基本波レベルが検出される。一方、変換された電圧
信号からその2倍波レベルが検出される。
Thus, the laser light emitted from the front of the semiconductor laser passes through the gas to be measured 30 and is received by the light receiver 31 shown in FIG. The light receiving signal is converted into a voltage signal by the current / voltage converting circuit 33, and the fundamental wave level of the light receiving voltage signal is detected by the fundamental wave signal detecting circuit. On the other hand, the second harmonic level is detected from the converted voltage signal.

【0062】この2倍波波レベルが基本波2倍波割算器
36にて基本波レベルで割り算され、そのレベル変動が
除去されてガス濃度検出信号として出力される。上述し
たように、本発明の実施の形態に係るガス検知装置は、
半導体レーザのレーザ素子としてGC−DFB又はCC
−DFBレーザを用いるようにしたので、反射戻り光に
よる副モード抑圧比の低下を防止でき、多モード化する
ことを防止することができる。したがって、半導体レー
ザモジュールを反射による戻り光が生じ得る構成として
も高感度なガス検知を行うことができ、かつこの高感度
ガス検知を行うのに光通過部の斜め加工やアイソレータ
の設置が不要であり、低コストな装置とすることができ
る。
This second harmonic wave level is divided by the fundamental wave level divider 36 in the fundamental wave second harmonic wave divider 36, and the level fluctuation is removed and output as a gas concentration detection signal. As described above, the gas detection device according to the embodiment of the present invention includes:
GC-DFB or CC as laser element of semiconductor laser
-Since the DFB laser is used, it is possible to prevent a decrease in the submode suppression ratio due to the reflected return light, and to prevent a multimode operation. Therefore, highly sensitive gas detection can be performed even when the semiconductor laser module is configured to generate return light due to reflection, and oblique processing of the light passage portion and installation of an isolator are not required for performing the highly sensitive gas detection. Yes, it can be a low-cost device.

【0063】なお、本発明は、上記各実施の形態に限定
されるものでなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々に
変形することが可能である。例えば実施形態では、GC
−DFB又はCC−DFBレーザを用いた半導体レーザ
モジュールをガス検知装置に用いる場合で説明している
が、同様なレーザ光吸収を利用した装置には本発明を適
用することが可能である。例えば分光分析装置や赤外線
分析装置に適用することができる。また、光ファイバか
らのブリルアン散乱光を利用して温度を測定するファイ
バ温度センサやラマン散乱による応力センサ等にも本発
明を適用することができる。
The present invention is not limited to the above embodiments, but can be variously modified without departing from the gist thereof. For example, in the embodiment, GC
The case where a semiconductor laser module using a -DFB or CC-DFB laser is used for a gas detection device has been described, but the present invention can be applied to a device using similar laser light absorption. For example, it can be applied to a spectroscopic analyzer or an infrared analyzer. In addition, the present invention can be applied to a fiber temperature sensor that measures temperature using Brillouin scattered light from an optical fiber, a stress sensor using Raman scattering, and the like.

【0064】[0064]

【発明の効果】以上詳記したように本発明によれば、光
源用レーザ素子としてGC−DFB又はCC−DFBレ
ーザを用いるようにしたので、半導体レーザを光源とし
かつ反射による戻り光が生じ得る場合であっても、副モ
ード抑圧比の低下が少なく高精度かつ低コストなガス検
知を可能とするガス検知装置を提供することができる。
As described above in detail, according to the present invention, since the GC-DFB or CC-DFB laser is used as the laser element for the light source, the semiconductor laser is used as the light source and return light due to reflection may occur. Even in such a case, it is possible to provide a gas detection device that can perform high-accuracy and low-cost gas detection with a small decrease in the submode suppression ratio.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態に係るガス検知装置
における半導体レーザモジュールの構成例を示す図。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration example of a semiconductor laser module in a gas detection device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】実験対象となった各種類のDFBレーザの主要
部構成を示す図。
FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a main part of each type of DFB laser as an experiment target.

【図3】1次及び2次グレーティングにおける電流ブロ
ック層通過後の電流広がりの様子を示す図。
FIG. 3 is a diagram showing a state of current spreading after passing through a current blocking layer in the primary and secondary gratings.

【図4】DFBレーザの耐戻り光特性を評価する実験装
置の構成を示す図。
FIG. 4 is a diagram showing the configuration of an experimental apparatus for evaluating the return light resistance characteristics of a DFB laser.

【図5】副モード抑圧比の戻り光量依存性を示す図。FIG. 5 is a graph showing the dependence of the sub-mode suppression ratio on the amount of return light.

【図6】戻り光が10%存在する場合の各DFBレーザ
の光スペクトラムを示す図。
FIG. 6 is a diagram showing an optical spectrum of each DFB laser when 10% of return light exists.

【図7】同実施形態のガス検知装置における半導体レー
ザ発振部の構成例を示す図。
FIG. 7 is a diagram showing a configuration example of a semiconductor laser oscillation unit in the gas detection device of the embodiment.

【図8】同実施形態のガス検知装置における受光測定系
の構成例を示す図。
FIG. 8 is a diagram showing a configuration example of a light receiving measurement system in the gas detection device of the embodiment.

【図9】従来のガス検知装置における半導体レーザモジ
ュールの構成例を示す図。
FIG. 9 is a diagram showing a configuration example of a semiconductor laser module in a conventional gas detection device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…円筒型ケース 2…基板 3…基台 4…ペルチェ素子 4a…上段ペルチェ素子 4b…下段ペルチェ素子 5…取付台 6…半導体レーザ 7,8…集光レンズ 9…保護ガラス 10…参照ガスセル 11…受光器 20…半導体レーザモジュール 21…電流電圧変換器 22…基本波信号増幅器 23…信号微分検出器 24…波長安定化制御回路 25…温度安定化PID回路 26…電流安定化回路 30…被測定ガス 31…受光器 31a…受光素子 32…ガス検知部 33…電流電圧変換器 34…基本波信号検出器 35…2倍波信号検出器 36…基本波2倍波割算部 51…n−In Pクラッド層 52…n−In Ga As P SCH層 53…活性層 54…p−In Ga As P SCH層 55…p−In Pクラッド層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Cylindrical case 2 ... Substrate 3 ... Base 4 ... Peltier element 4a ... Upper Peltier element 4b ... Lower Peltier element 5 ... Mounting base 6 ... Semiconductor laser 7, 8 ... Condensing lens 9 ... Protective glass 10 ... Reference gas cell 11 ... Receiver 20 ... Semiconductor laser module 21 ... Current-voltage converter 22 ... Basic wave signal amplifier 23 ... Signal differential detector 24 ... Wavelength stabilization control circuit 25 ... Temperature stabilization PID circuit 26 ... Current stabilization circuit 30 ... Measurement Gas 31 photodetector 31a photodetector 32 gas detector 33 current-voltage converter 34 fundamental signal detector 35 second harmonic signal detector 36 fundamental second harmonic divider 51 n-In P cladding layer 52 n-In GaAs P SCH layer 53 active layer 54 p-In GaAs P SCH layer 55 p-In P cladding layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 菊川 知之 東京都港区南麻布五丁目10番27号 アンリ ツ株式会社内 (72)発明者 塚本 威 東京都港区南麻布五丁目10番27号 アンリ ツ株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Tomoyuki Kikukawa 5-107 Minami-Azabu, Minato-ku, Tokyo Anritsu Corporation (72) Inventor Takeshi Takemoto 5-10-27 Minami-Azabu, Minato-ku, Tokyo Anritsu Inside the corporation

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 所定波長のレーザ光を被測定ガス(3
0)に入射すると、そのレーザ光が前記被測定ガスに含
まれる検知対象ガスによって減衰することを利用してガ
ス検知を行うガス検知装置において、 前記レーザ光の光源(6)として利得結合分布帰還型レ
ーザを用いることを特徴とするガス検知装置。
A laser beam having a predetermined wavelength is applied to a gas to be measured (3).
0), the laser light is attenuated by the gas to be detected contained in the gas to be measured, thereby performing gas detection. Gas detection device characterized by using a type laser.
【請求項2】 前記光源として前記利得結合分布帰還型
レーザに代えて、複合結合分布帰還型レーザを用いるこ
とを特徴とする請求項1記載のガス検知装置。
2. The gas detector according to claim 1, wherein a complex-coupled distributed feedback laser is used as the light source instead of the gain-coupled distributed feedback laser.
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