JPH11322757A - Novel cephem compound - Google Patents
Novel cephem compoundInfo
- Publication number
- JPH11322757A JPH11322757A JP11056632A JP5663299A JPH11322757A JP H11322757 A JPH11322757 A JP H11322757A JP 11056632 A JP11056632 A JP 11056632A JP 5663299 A JP5663299 A JP 5663299A JP H11322757 A JPH11322757 A JP H11322757A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- salt
- amino
- formula
- cephem
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、新規セフェム化合
物およびそれらの医薬として許容しうる塩に関するもの
である。より詳細には、本発明は、抗微生物活性を有す
る新規セフェム化合物およびそれらの医薬として許容し
うる塩、それらの製造法、それらを含有してなる医薬組
成物ならびにヒトおよび動物における感染症を予防およ
び/または治療する方法に関するものである。TECHNICAL FIELD The present invention relates to novel cephem compounds and pharmaceutically acceptable salts thereof. More specifically, the present invention relates to novel cephem compounds having antimicrobial activity and pharmaceutically acceptable salts thereof, methods for producing them, pharmaceutical compositions containing them, and preventing infectious diseases in humans and animals And / or methods of treating.
【0002】[0002]
【従来の技術】過去数十年に渡って多くの種類の抗生物
質が見いだされ、治療および予防を目的として医療の場
で用いられてきた。なかでも、セファロスポリン系抗生
物質の発展は目覚ましく、グラム陽性細菌およびグラム
陰性菌など広範囲の細菌に対し有効であることから、種
々の感染症の治療および予防に用いられている。しか
し、困ったことには、このような抗生物質の頻繁な使用
によって、抗生物質に耐性を獲得した細菌が出現するに
至り、そのような菌に感染した患者の治療が重要な課題
となっている。特に、メチシリン耐性黄色ぶどう球菌
(MRSA)の出現は深刻な問題を投げかけている。グ
ラム陽性およびグラム陰性の微生物を包含するきわめて
種々の病原微生物に対して高い抗微生物活性を有するセ
フェム化合物が、たとえばEP−A−306863にお
いて既知となっているが、それらはメチシリン耐性黄色
ぶどう球菌(MRSA)および緑膿菌に対する抗微生物
剤としてはいまだ不十分である。MRSA感染症は一般
的に難治性であり、有効な治療薬が無いこともあって、
MRSAに有効な抗生物質の登場が強く望まれている。
このような背景から、MRSAに有効な抗生物質の探索
が続けられ、例えば、特開平5−202065号公報及
び特開平10−45766号公報には、MRSAに有効
とするセファロスポリン系化合物が開示されているが、
未だ十分とは言えない。BACKGROUND OF THE INVENTION Over the past decades, many types of antibiotics have been discovered and used in medical settings for treatment and prevention. Above all, cephalosporin antibiotics have been remarkably developed and are effective against a wide range of bacteria such as gram-positive bacteria and gram-negative bacteria, and are therefore used for treatment and prevention of various infectious diseases. Unfortunately, however, the frequent use of such antibiotics has led to the emergence of bacteria that have acquired antibiotic resistance, making treating patients infected with such bacteria an important issue. I have. In particular, the emergence of methicillin-resistant Staphylococcus aureus (MRSA) poses a serious problem. Cephem compounds with high antimicrobial activity against a wide variety of pathogenic microorganisms, including Gram-positive and Gram-negative microorganisms, are known for example in EP-A-3066863, but they are methicillin-resistant Staphylococcus aureus ( (MRSA) and Pseudomonas aeruginosa are still inadequate as antimicrobial agents. MRSA infections are generally intractable and, due to lack of effective treatments,
The emergence of antibiotics effective for MRSA is strongly desired.
Against this background, the search for antibiotics effective for MRSA has been continued. For example, JP-A-5-202665 and JP-A-10-45766 disclose cephalosporin compounds effective for MRSA. Has been
Not enough yet.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】このような背景の下、
広範囲な細菌に対し強い抗菌力を有し、且つ、MRSA
に対しても強い抗菌力を持つセファロスポリン系化合物
の登場が望まれていた。Under such a background,
Strong antibacterial activity against a wide range of bacteria, and MRSA
Therefore, the appearance of a cephalosporin compound having a strong antibacterial activity has been desired.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため、鋭意研究を行った結果、下記の一般式
[I]で表わされる新規なセフェム化合物またはその塩
が、広範囲な抗菌スペクトルと強力な抗菌力を有し、特
にMRSAに対しても強い抗菌力を有していることを見
出し、本発明を完成した。即ち、本発明の一目的は、多
くの病原性微生物、とくにメチシリン耐性黄色ブドウ球
菌(MRSA)に対して高度に活性な該セフェム化合物
およびそれらの医薬として許容しうる塩を提供すること
である。本発明の他の目的は、該セフェム化合物および
それらの塩の製造法を提供することである。本発明の別
の一目的は、該セフェム化合物またはそれらの塩を活性
成分として含有する医薬組成物を提供することである。
本発明のさらに一つの目的は、感染したヒトまたは動物
に該セフェム化合物を投与することからなる、病原性微
生物によって惹起された感染症を予防および/または治
療する方法を提供することである。Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies in order to solve the above problems, and as a result, a novel cephem compound represented by the following general formula [I] or a salt thereof has been widely used. The present inventors have found that they have an antibacterial spectrum and a strong antibacterial activity, and particularly have a strong antibacterial activity against MRSA, and completed the present invention. That is, an object of the present invention is to provide the cephem compounds highly active against many pathogenic microorganisms, especially methicillin-resistant Staphylococcus aureus (MRSA), and pharmaceutically acceptable salts thereof. Another object of the present invention is to provide a method for producing the cephem compound and a salt thereof. Another object of the present invention is to provide a pharmaceutical composition containing the cephem compound or a salt thereof as an active ingredient.
It is a further object of the present invention to provide a method for preventing and / or treating an infectious disease caused by a pathogenic microorganism, comprising administering the cephem compound to an infected human or animal.
【0005】[0005]
【発明の実施の形態】本発明の目的とするセフェム化合
物は新規であり、つぎの一般式〔I〕によって表わすこ
とができる:DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The cephem compounds aimed at by the present invention are new and can be represented by the following general formula [I]:
【0006】[0006]
【化14】 Embedded image
【0007】式中、R1 はアミノまたは保護されたアミ
ノであり、R2 はハロゲンであり、R3 は水素またはヒ
ドロキシ保護基であり、R4 はカルボキシまたは保護さ
れたカルボキシであり、R5 はヒドロキシ;アミジノチ
オ;低級アルキルで置換されていてもよいカルバモイ
ル;または離脱基であり、nは1〜6の整数である。お
よび、それらの医薬として許容しうる塩である。本発明
の目的化合物〔I〕はつぎの諸プロセスによって製造で
きる。Wherein R 1 is amino or protected amino, R 2 is halogen, R 3 is hydrogen or hydroxy protecting group, R 4 is carboxy or protected carboxy, R 5 Is hydroxy; amidinothio; carbamoyl optionally substituted by lower alkyl; or a leaving group, and n is an integer of 1-6. And their pharmaceutically acceptable salts. The target compound [I] of the present invention can be produced by the following processes.
【0008】プロセス1 Process 1
【化15】 Embedded image
【0009】プロセス2 Process 2
【化16】 Embedded image
【0010】プロセス3 Process 3
【化17】 Embedded image
【0011】プロセス4 Process 4
【化18】 Embedded image
【0012】プロセス5 Process 5
【化19】 Embedded image
【0013】ここに、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 お
よびnは、各々上に定義した通りであり、R3 a はヒド
ロキシ保護基であり、R4 a は保護されたカルボキシで
あり、R5 a は離脱基であり、R5 b はアミジノチオであ
る。出発化合物〔II〕はつぎの各プロセスによって調
製できる。[0013] wherein, R 1, R 2, R 3, R 4, R 5 and n are as defined on each, R 3 a is a hydroxy protecting group, R 4 a is protected carboxy, R 5 a is a leaving group, R 5 b is amidinothio. Starting compound [II] can be prepared by the following processes.
【0014】プロセスA Process A
【化20】 Embedded image
【0015】プロセスB Process B
【化21】 Embedded image
【0016】ここに、R4 、R5 およびnは、各々上に
定義した通りであり、Xは酸残基であり、R7 はアミノ
または保護されたアミノであり、R7 a は保護されたア
ミノである。化合物(I)、(Ia)、(Ib)、(I
c)、(Id)、(Ie)、(If)、(Ig)および
(III)に関して、該化合物類がシン(Z)異性体、
アンチ(E)異性体およびそれらの混合物を包含するこ
とを了解されたい。たとえば、目的化合物(I)に関し
ては、シン(Z)異性体は、次式で表わされる部分構造
を有する一方の幾何異性体を意味する:[0016] Here, R 4, R 5 and n are as defined on each, X is acid residue, R 7 is amino or protected amino, R 7 a is protected Amino. Compounds (I), (Ia), (Ib), (I
For c), (Id), (Ie), (If), (Ig) and (III), the compounds are syn (Z) isomers,
It is to be understood that the anti (E) isomers and mixtures thereof are included. For example, with respect to the target compound (I), the syn (Z) isomer means one geometric isomer having a partial structure represented by the following formula:
【0017】[0017]
【化22】 (式中、R1 、R2 およびR3 は各々上に定義した通り
である)。アンチ(E)異性体は、次式で表わされる部
分構造を有する他方の幾何異性体を意味する:Embedded image Wherein R 1 , R 2 and R 3 are each as defined above. The anti (E) isomer means the other geometric isomer having a partial structure represented by the following formula:
【0018】[0018]
【化23】 (式中、R1 、R2 およびR3 は各々上に定義した通り
である)。かかる異性体およびそれらの混合物はすべて
この発明の範囲に包含されるものである。Embedded image Wherein R 1 , R 2 and R 3 are each as defined above. All such isomers and mixtures thereof are within the scope of this invention.
【0019】本発明明細書および特許請求の範囲におい
て、これらの幾何異性体およびそれらの混合物の部分構
造は、便宜上、つぎの式によって表わすこととする:In the present specification and claims, the partial structures of these geometric isomers and mixtures thereof are represented by the following formula for convenience:
【化24】 (式中、R1 、R2 およびR3 は各々上に定義した通り
である)。化合物(I)およびその他の化合物は、不斉
炭素原子(単数または複数)による1個以上の立体異性
体を包含しうるが、かかる異性体およびそれらの混合物
はすべてこの発明の範囲に包含されるものであることを
了解されたい。Embedded image Wherein R 1 , R 2 and R 3 are each as defined above. Compound (I) and other compounds may include one or more stereoisomers with asymmetric carbon atom (s), and all such isomers and mixtures thereof are included in the scope of the present invention. Please understand that it is.
【0020】本明細書の上記および以下の説明におい
て、本発明がその範囲内に包含する種々の定義の好適な
例、具体例を以下に詳細に説明する。「低級」なる語
は、とくに断らないかぎり、1〜6個の炭素原子を意味
するものとする。好適な「低級アルキル」は、メチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、t−ブチ
ル、ペンチル、ヘキシルなどの直鎖状または分枝鎖状の
ものを包含し、なかでもより好ましいのはC1〜C4ア
ルキルであり、とくに好ましいのはメチル、エチルまた
はプロピルである。In the above and following description of the present specification, preferred examples and specific examples of various definitions included in the scope of the present invention are described in detail below. The term "lower" shall mean from 1 to 6 carbon atoms unless otherwise specified. Preferred "lower alkyl" are methyl,
It includes linear or branched ones such as ethyl, propyl, isopropyl, butyl, t-butyl, pentyl, hexyl, etc., more preferably C1-C4 alkyl, particularly preferably methyl, Ethyl or propyl.
【0021】R2 に関しての「ハロゲン」なる語は、塩
素、臭素、弗素または沃素を意味する。好適な「保護さ
れたアミノ基」としては、下記定義の通りのアシル、適
当な置換基(単数または複数)を有していてもよい有機
シリル基(たとえばモノ−、ジ−またはトリ低級アルキ
ルシリルなど)、適当な置換基(単数または複数)を有
していてもよいアル低級アルキル(たとえばベンジル、
トリチル、p−ニトロベンジルなど)などの容易に除去
しうる慣用のアミノ保護基によって置換されたアミノ基
が挙げられる。The term "halogen" with respect to R 2 means chlorine, bromine, fluorine or iodine. Preferred "protected amino groups" include acyl as defined below, organic silyl groups optionally having suitable substituent (s) (eg mono-, di- or tri-lower alkylsilyl groups). Etc.), ar lower alkyl optionally having a suitable substituent (s) (eg, benzyl,
Amino groups substituted by conventional amino protecting groups that can be easily removed, such as trityl, p-nitrobenzyl and the like.
【0022】好適な「アシル」としては、カルバモイ
ル、脂肪族アシル基ならびに芳香族環または複素環を含
有するアシル基が挙げられる。脂肪族アシルとしては、
飽和または不飽和、非環式または環式のもの、たとえば
低級アルカノイル(たとえばホルミル、アセチル、プロ
ピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバ
レリル、オキサリル、スクシニル、ピバロイルなど);
低級アルコキシカルボニル(たとえばメトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソ
プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、第三級ブ
トキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシ
ルオキシカルボニルなど);低級アルカンスルホニル
(たとえばメシル、エタンスルホニル、プロパンスルホ
ニル、イソプロパンスルホニル、ブタンスルホニルな
ど)などが挙げられる。芳香族環または複素環を含有す
るアシル基としては、アレ−ンスルホニル(たとえばベ
ンゼンスルホニル、トシルなど);アロイル(たとえば
ベンゾイル、トルオイル、キシロイル、ナフトイル、フ
タロイル、インダンカルボニルなど);アル低級アルカ
ノイル(たとえばフェニルアセチル、フェニルプロピオ
ニルなど);アル低級アルコキシカルボニル(たとえば
ベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニ
ルなど)などが挙げられる。上述のアシル部分は、ハロ
ゲン(たとえば塩素、臭素、沃素または弗素)、上に定
義した通りの低級アルキルなどの適当な置換基(単数ま
たは複数)を有していてもよい。Suitable "acyl" includes carbamoyl, aliphatic acyl groups and acyl groups containing an aromatic or heterocyclic ring. As the aliphatic acyl,
Saturated or unsaturated, acyclic or cyclic, such as lower alkanoyl (eg, formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, isovaleryl, oxalyl, succinyl, pivaloyl, etc.);
Lower alkoxycarbonyl (eg, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, butoxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl, pentyloxycarbonyl, hexyloxycarbonyl, etc.); lower alkanesulfonyl (eg, mesyl, ethanesulfonyl, propanesulfonyl, Isopropanesulfonyl, butanesulfonyl, etc.). Examples of the acyl group containing an aromatic ring or a heterocyclic ring include arelsulfonyl (eg, benzenesulfonyl, tosyl, etc.); aroyl (eg, benzoyl, toluoyl, xyloyl, naphthoyl, phthaloyl, indanecarbonyl, etc.); Phenylacetyl, phenylpropionyl, etc.); al-lower alkoxycarbonyl (eg, benzyloxycarbonyl, phenethyloxycarbonyl, etc.) and the like. The above-mentioned acyl moieties may have a suitable substituent (s) such as halogen (eg, chlorine, bromine, iodine or fluorine), lower alkyl as defined above.
【0023】好適な「保護されたカルボキシ」として
は、エステル化されたカルボキシなどが挙げられる。該
エステルの好適な例としては、低級アルキルエステル
(たとえばメチルエステル、エチルエステル、プロピル
エステル、イソプロピルエステル、ブチルエステル、イ
ソブチルエステル、t−ブチルエステル、ペンチルエス
テル、t−ペンチルエステル、ヘキシルエステルな
ど);低級アルケニルエステル(たとえばビニルエステ
ル、アリルエステルなど);低級アルキニルエステル
(たとえばエチニルエステル、プロピニルエステルな
ど);低級アルコキシアルキルエステル(たとえばメト
キシメチルエステル、エトキシメチルエステル、イソプ
ロポキシメチルエステル、1−メトキシエチルエステ
ル、1−エトキシエチルエステルなど);低級アルキル
チオアルキルエステル(たとえばメチルチオメチルエス
テル、エチルチオメチルエステル、エチルチオエチルエ
ステル、イソプロピルチオメチルエステルなど);モノ
(またはジまたはトリ)ハロ低級アルキルエステル(た
とえば2−ヨ−ドエチルエステル、2,2,2−トリク
ロロエチルエステルなど);低級アルカノイルオキシ低
級アルキルエステル(たとえばアセトキシメチルエステ
ル、プロピオニルオキシメチルエステル、ブチリルオキ
シメチルエステル、バレリルオキシメチルエステル、ピ
バロイルオキシメチルエステル、ヘキサノイルオキシメ
チルエステル、1−アセトキシエチルエステル、2−ア
セトキシエチルエステル、1−プロピオニルオキシエチ
ルエステルなど);シクロ低級アルキルカルボニルオキ
シ低級アルキルエステル(たとえば1−(シクロヘキシ
ルカルボニルオキシ)エチルエステルなど);低級アル
コキシカルボニルオキシ低級アルキルエステル(たとえ
ばメトキシカルボニルオキシメチルエステル、エトキシ
カルボニルオキシメチルエステル、プロポキシカルボニ
ルオキシメチルエステル、1−(または2−)〔メトキ
シカルボニルオキシ〕エチルエステル、1−(または2
−)〔エトキシカルボニルオキシ〕エチルエステル、1
−(または2−)〔プロポキシカルボニルオキシ〕エチ
ルエステル、1−(または2−)〔イソプロポキシカル
ボニルオキシ〕エチルエステルなど);シクロ低級アル
キルオキシカルボニルオキシ低級アルキルエステル(た
とえば1−(シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ)
エチルエステルなど);低級アルカンスルホニル低級ア
ルキルエステル(たとえばメシルメチルエステル、2−
メシルエチルエステルなど);アル低級アルキルエステ
ル、たとえば、1個以上の適当な置換基を有していても
よいフェニル低級アルキルエステル(たとえばベンジル
エステル、4−メトキシベンジルエステル、4−ニトロ
ベンジルエステル、フェネチルエステル、トリチルエス
テル、ベンズヒドリルエステル、ビス(メトキシフェニ
ル)メチルエステル、3,4−ジメトキシベンジルエス
テル、4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルベンジ
ルエステルなど);置換または無置換フェニルエステル
(たとえばフェニルエステル、トリルエステル、t−ブ
チルフェニルエステル、キシリルエステル、メシチルエ
ステル、クメニルエステル、4−クロロフェニルエステ
ル、4−メトキシフェニルエステルなど)などの、1個
以上の適当な置換基を有していてもよいアリ−ルエステ
ル;トリ低級アルキルシリルエステル;低級アルキルチ
オエステル(たとえばメチルチオエステル、エチルチオ
エステルなど)などのものが挙げられる。Suitable "protected carboxy" includes esterified carboxy and the like. Preferred examples of the ester include a lower alkyl ester (eg, methyl ester, ethyl ester, propyl ester, isopropyl ester, butyl ester, isobutyl ester, t-butyl ester, pentyl ester, t-pentyl ester, hexyl ester, etc.); Lower alkenyl esters (eg, vinyl esters, allyl esters, etc.); lower alkynyl esters (eg, ethynyl esters, propynyl esters, etc.); lower alkoxyalkyl esters (eg, methoxymethyl esters, ethoxymethyl esters, isopropoxymethyl esters, 1-methoxyethyl esters) , 1-ethoxyethyl ester, etc.); lower alkylthioalkyl esters (eg, methylthiomethyl ester, ethylthiomethyl ester) Mono (or di- or tri) halo lower alkyl esters (eg, 2-iodoethyl ester, 2,2,2-trichloroethyl ester, etc.); lower alkanoyloxy Lower alkyl esters (eg, acetoxymethyl ester, propionyloxymethyl ester, butyryloxymethyl ester, valeryloxymethyl ester, pivaloyloxymethyl ester, hexanoyloxymethyl ester, 1-acetoxyethyl ester, 2-acetoxyethyl ester , 1-propionyloxyethyl ester, etc.); cyclo-lower alkylcarbonyloxy lower alkyl esters (eg, 1- (cyclohexylcarbonyloxy) ethyl ester, etc.); Grade alkoxycarbonyloxy lower alkyl esters (e.g. methoxycarbonyloxymethyl ester, ethoxycarbonyloxymethyl ester, propoxycarbonyloxy methyl ester, 1- (or 2-) [methoxycarbonyloxy] ethyl ester, 1- (or 2
-) [Ethoxycarbonyloxy] ethyl ester, 1
-(Or 2-) [propoxycarbonyloxy] ethyl ester, 1- (or 2-) [isopropoxycarbonyloxy] ethyl ester, etc.); cyclo lower alkyloxycarbonyloxy lower alkyl ester (for example, 1- (cyclohexyloxycarbonyloxy) )
Lower alkanesulfonyl lower alkyl ester (for example, mesyl methyl ester, 2-
Mesylethyl esters, etc.); ar lower alkyl esters, for example, phenyl lower alkyl esters optionally having one or more suitable substituents (eg, benzyl ester, 4-methoxybenzyl ester, 4-nitrobenzyl ester, phenethyl) Esters, trityl esters, benzhydryl esters, bis (methoxyphenyl) methyl esters, 3,4-dimethoxybenzyl esters, 4-hydroxy-3,5-di-t-butylbenzyl esters and the like; substituted or unsubstituted phenyl esters ( One or more suitable substitutions such as, for example, phenyl ester, tolyl ester, t-butyl phenyl ester, xylyl ester, mesityl ester, cumenyl ester, 4-chlorophenyl ester, 4-methoxyphenyl ester, etc. May be a have ant - glycol ester; tri-lower alkyl silyl ester; lower alkyl thio ester (e.g. methylthio ester, such as ethyl thio ester) include the like.
【0024】好適な「ヒドロキシ保護基」としては、上
述のアシル、シクロ低級アルケニル(シクロ低級アルケ
ニルの好ましい例は、シクロペンテニル、シクロヘキセ
ニルなどのシクロ(C3〜C8)アルケニルである)、
1個以上の適当な置換基を有していてもよいフェニル低
級アルキル(たとえばベンジル、4−メトキシベンジ
ル、トリチルなど)、置換シリル(たとえばトリメチル
シリル、t−ブチルジメチルシリルなど)、テトラヒド
ロピラニルなどの、容易に除去しうる慣用のものが挙げ
られる。Suitable "hydroxy protecting groups" include the above-mentioned acyl, cyclo-lower alkenyl (preferable examples of cyclo-lower alkenyl are cyclo (C3-C8) alkenyl such as cyclopentenyl and cyclohexenyl),
Phenyl lower alkyl (eg, benzyl, 4-methoxybenzyl, trityl, etc.) optionally having one or more suitable substituents, substituted silyl (eg, trimethylsilyl, t-butyldimethylsilyl, etc.), tetrahydropyranyl, etc. And those that can be easily removed.
【0025】好適な「酸残基」としては、ハロゲン(た
とえば弗素、塩素、臭素、沃素など)、アシル部分とし
て上述のものを挙げることができるところのアシルオキ
シなどが挙げられる。より好ましいアシルオキシは、ス
ルホニルオキシ(たとえばメタンスルホニルオキシ、ト
リフルオロメタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニ
ルオキシ、トシルオキシなど)、低級アルカノイルオキ
シ(たとえばアセチルオキシ、プロピオニルオキシな
ど)などである。Suitable "acid residues" include halogen (eg, fluorine, chlorine, bromine, iodine, etc.), and acyloxy, such as those mentioned above as the acyl moiety. More preferred acyloxy include sulfonyloxy (eg, methanesulfonyloxy, trifluoromethanesulfonyloxy, benzenesulfonyloxy, tosyloxy, etc.), lower alkanoyloxy (eg, acetyloxy, propionyloxy, etc.).
【0026】好適な「離脱基」としては、ヒドロキシな
どから誘導された反応性の基が挙げられる。好適な「ヒ
ドロキシから誘導された反応性の基」としては、上述の
通りの酸残基などが挙げられる。Suitable "leaving groups" include reactive groups derived from hydroxy and the like. Suitable “reactive groups derived from hydroxy” include the acid residues described above.
【0027】目的化合物〔I〕の医薬として許容しうる
好適な塩は、慣用の無毒性の塩であって、それらとして
は、アルカリ金属塩(たとえばナトリウム塩、カリウム
塩など)、アルカリ土類金属塩(たとえばカルシウム
塩、マグネシウム塩など)などの金属塩、アンモニウム
塩、有機塩基塩(たとえばトリメチルアミン塩、トリエ
チルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキ
シルアミン塩、N,N’−ジベンジルエチレンジアミン
塩など)、有機酸塩(たとえば酢酸塩、マレイン酸塩、
酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸
塩、蟻酸塩、トルエンスルホン酸塩など)、無機酸塩
(たとえば塩酸塩、臭化水素酸塩、沃化水素酸塩、チオ
シアン酸塩、硫酸塩、燐酸塩など)またはアミノ酸(た
とえばアルギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸な
ど)との塩などが挙げられる。Suitable pharmaceutically acceptable salts of the target compound [I] are conventional non-toxic salts, such as alkali metal salts (eg, sodium salt, potassium salt, etc.) and alkaline earth metal salts. Metal salts such as salts (eg, calcium salts, magnesium salts, etc.), ammonium salts, organic base salts (eg, trimethylamine salts, triethylamine salts, pyridine salts, picoline salts, dicyclohexylamine salts, N, N′-dibenzylethylenediamine salts, etc.) , Organic acid salts (eg, acetate, maleate,
Tartrate, methanesulfonate, benzenesulfonate, formate, toluenesulfonate and the like; inorganic acid salts (for example, hydrochloride, hydrobromide, hydroiodide, thiocyanate, sulfate, And salts with amino acids (eg, arginine, aspartic acid, glutamic acid, etc.).
【0028】目的化合物〔I〕の好ましい具体化例はつ
ぎの通りである。 R1 がアミノまたは低級アルカノイ
ルアミノであり、 R2 がハロゲンであり、 R3 が水
素または低級アルカノイルであり、R4 がカルボキシま
たはエステル化されたカルボキシであり、R5 がヒドロ
キシ、アミジノチオ、カルバモイルまたはアシルオキシ
であり、nが1〜6の整数であるもの。目的化合物
〔I〕のより好ましい具体化例はつぎの通りである。R
1 がアミノであり、R2 がハロゲンであり、R3 が水素
であり、R4 がカルボキシであり、R5 がヒドロキシ、
アミジノチオ、カルバモイルまたはスルホニルオキシで
あり、nが整数1または2であるもの。Preferred specific examples of the target compound [I] are as follows. R 1 is amino or lower alkanoylamino; R 2 is halogen; R 3 is hydrogen or lower alkanoyl; R 4 is carboxy or esterified carboxy; R 5 is hydroxy, amidinothio, carbamoyl or Acyloxy wherein n is an integer of 1 to 6; More preferred embodiments of the target compound [I] are as follows. R
1 is amino, R 2 is halogen, R 3 is hydrogen, R 4 is carboxy, R 5 is hydroxy,
Amidinothio, carbamoyl or sulfonyloxy wherein n is an integer 1 or 2.
【0029】本発明の目的化合物および出発化合物の製
造プロセスを、以下、詳細に説明する。The process for producing the target compound and the starting compound of the present invention will be described in detail below.
【0030】プロセス(1) 化合物(I)またはその塩は、化合物(II)またはそ
のアミノ基における反応性誘導体もしくはそれらの塩を
化合物(III)またはそのカルボキシ基における反応
性誘導体もしくはそれらの塩と反応させることにより製
造できる。化合物(II)のアミノ基における好適な反
応性誘導体としては、化合物(II)とアルデヒド、ケ
トンなどのカルボニル化合物との反応によって形成され
るシッフ塩基型イミノ化合物またはその互変異性体であ
るエナミン型異性体;化合物(II)とビス(トリメチ
ルシリル)アセトアミド、モノ(トリメチルシリル)ア
セトアミド〔たとえばN−(トリメチルシリル)アセト
アミド〕、ビス(トリメチルシリル)尿素などのシリル
化合物との反応によって形成されるシリル誘導体;化合
物(II)と三塩化燐またはホスゲンとの反応によって
形成される誘導体などが挙げられる。化合物(III)
のカルボキシ基における好適な反応性誘導体としては、
酸ハロゲン化物、酸無水物、活性アミド、活性エステル
などが挙げられる。それら反応性誘導体の好適な例は、
酸塩化物;酸アジド;置換燐酸〔たとえばジアルキル燐
酸、フェニル燐酸、ジフェニル燐酸、ジベンジル燐酸、
ハロゲン化燐酸など〕、ジアルキル亜燐酸、亜硫酸、チ
オ硫酸、硫酸、スルホン酸〔たとえばメタンスルホン酸
など〕、脂肪族カルボン酸〔たとえば酢酸、プロピオン
酸、酪酸、イソ酪酸、ピバル酸、ペンタン酸、イソペン
タン酸、トリクロロ酢酸など〕または芳香族カルボン酸
〔たとえば安息香酸など〕との混合酸無水物;対称酸無
水物;イミダゾ−ル、4−置換イミダゾ−ル、1−ヒド
ロキシ−1H−ベンゾトリアゾ−ル、ジメチルピラゾ−
ル、トリアゾ−ルまたはテトラゾ−ルとの活性アミド;
または活性エステル〔たとえばシアノメチルエステル、
メトキシメチルエステル、ジメチルイミノメチル〔(C
H3 )2 N+ =CH−〕エステル、ビニルエステル、プ
ロパルギルエステル、p−ニトロフェニルエステル、
2,4−ジニトロフェニルエステル、トリクロロフェニ
ルエステル、ペンタクロロフェニルエステル、メシルフ
ェニルエステル、フェニルアゾフェニルエステル、フェ
ニルチオエステル、p−ニトロフェニルチオエステル、
p−クレジルチオエステル、カルボキシメチルチオエス
テル、ピラニルエステル、ピリジルエステル、ピペリジ
ルエステル、8−キノリルチオエステルなど〕またはN
−ヒドロキシ化合物〔たとえばN,N−ジメチルヒドロ
キシルアミン、1−ヒドロキシ−2(1H)−ピリド
ン、N−ヒドロキシスクシンイミド、N−ヒドロキシフ
タルイミド、1−ヒドロキシ−1H−ベンゾトリアゾ−
ルなど〕とのエステルなどである。これらの反応性誘導
体は、使用する化合物(III)の種類に応じてそれら
のうちから任意に選ぶことができる。反応は、通常、
水、アルコ−ル〔たとえばメタノ−ル、エタノ−ルな
ど〕、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、クロロ
ホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒドロフ
ラン、酢酸メチル、N,N−ジメチルホルムアミド、ピ
リジンなどの慣用の溶媒または反応に悪影響を及ぼさな
いその他の任意の有機溶媒中で実施する。これらの慣用
の溶媒は水と混合して使用してもよい。この反応におい
て、化合物(III)を遊離酸の形またはその塩の形で
使用するときには、N,N’−ジシクロヘキシルカルボ
ジイミド;N−シクロヘキシル−N’−モルホリノエチ
ルカルボジイミド;N−シクロヘキシル−N’−(4−
ジエチルアミノシクロヘキシル)カルボジイミド;N,
N’−ジエチルカルボジイミド、N,N’−ジイソプロ
ピルカルボジイミド;N−エチル−N’−(3−ジメチ
ルアミノプロピル)カルボジイミド;N,N’−カルボ
ニルビス(2−メチルイミダゾ−ル);ペンタメチレン
ケテン−N−シクロヘキシルイミン、ジフェニルケテン
−N−シクロヘキシルイミン;エトキシアセチレン;1
−アルコキシ−1−クロロエチレン;亜燐酸トリアルキ
ル;ポリ燐酸エチル;ポリ燐酸イソプロピル;オキシ塩
化燐(塩化ホスホリル);三塩化燐;塩化チオニル;塩
化オキサリル;ハロ蟻酸低級アルキル〔たとえばクロロ
蟻酸エチル、クロロ蟻酸イソプロピルなど〕;トリフェ
ニルホスフィン;2−エチル−7−ヒドロキシベンヅイ
ソオキサゾリウム塩;水酸化2−エチル−5−(m−ス
ルホフェニル)イソオキサゾリウム分子内塩;1−(p
−クロロベンゼンスルホニルオキシ)−6−クロロ−1
H−ベンゾトリアゾ−ル;N,N−ジメチルホルムアミ
ドと塩化チオニル、ホスゲン、クロロ蟻酸トリクロロメ
チル、オキシ塩化燐などとの反応によって調製されるい
わゆるフィルスマイヤ−試薬などの慣用の縮合剤の存在
下で反応を実施することが好ましい。重炭酸アルカリ金
属、トリ低級アルキルアミン(たとえばトリエチルアミ
ン、ジイソプロピルエチルアミンなど)、ピリジン、N
−低級アルキルモルホリン、N,N−ジ低級アルキルベ
ンジルアミンなどの無機または有機塩基の存在下で反応
を実施することもできる。反応温度はとくに限定されな
いが、通常は、冷却下または加温下で反応を実施する。 Process (1) Compound (I) or a salt thereof is prepared by combining compound (II) or a reactive derivative at the amino group or a salt thereof with compound (III) or a reactive derivative at the carboxy group or a salt thereof. It can be produced by reacting. Suitable reactive derivatives at the amino group of compound (II) include Schiff base imino compounds formed by the reaction of compound (II) with carbonyl compounds such as aldehydes and ketones, or enamine-type tautomers thereof. Isomers; silyl derivatives formed by the reaction of compound (II) with silyl compounds such as bis (trimethylsilyl) acetamide, mono (trimethylsilyl) acetamide [eg N- (trimethylsilyl) acetamide], bis (trimethylsilyl) urea; Derivatives formed by the reaction of II) with phosphorus trichloride or phosgene, and the like. Compound (III)
Suitable reactive derivatives at the carboxy group of
Examples include acid halides, acid anhydrides, active amides, active esters, and the like. Preferred examples of those reactive derivatives are
Acid chlorides; acid azides; substituted phosphoric acids [eg dialkyl phosphoric acid, phenyl phosphoric acid, diphenyl phosphoric acid, dibenzyl phosphoric acid,
Halogenated phosphoric acid, etc.), dialkylphosphorous acid, sulfurous acid, thiosulfuric acid, sulfuric acid, sulfonic acid (eg, methanesulfonic acid), aliphatic carboxylic acid (eg, acetic acid, propionic acid, butyric acid, isobutyric acid, pivalic acid, pentanoic acid, isopentane) Acid, trichloroacetic acid or the like] or a mixed acid anhydride with an aromatic carboxylic acid (eg, benzoic acid or the like); symmetric acid anhydride; imidazole, 4-substituted imidazole, 1-hydroxy-1H-benzotriazole, Dimethylpyrazo-
Activated amides with triazole, triazole or tetrazole;
Or an active ester (eg, cyanomethyl ester,
Methoxymethyl ester, dimethyliminomethyl [(C
H 3) 2 N + = CH-] ester, vinyl ester, propargyl ester, p- nitrophenyl ester,
2,4-dinitrophenyl ester, trichlorophenyl ester, pentachlorophenyl ester, mesylphenyl ester, phenylazophenyl ester, phenylthioester, p-nitrophenylthioester,
p-cresyl thioester, carboxymethyl thioester, pyranyl ester, pyridyl ester, piperidyl ester, 8-quinolyl thioester, etc.) or N
-Hydroxy compounds [for example, N, N-dimethylhydroxylamine, 1-hydroxy-2 (1H) -pyridone, N-hydroxysuccinimide, N-hydroxyphthalimide, 1-hydroxy-1H-benzotriazo-
And the like). These reactive derivatives can be arbitrarily selected from them according to the type of compound (III) used. The reaction is usually
Conventional solvents such as water, alcohols (eg, methanol, ethanol, etc.), acetone, dioxane, acetonitrile, chloroform, methylene chloride, ethylene chloride, tetrahydrofuran, methyl acetate, N, N-dimethylformamide, pyridine and the like; The reaction is performed in any other organic solvent that does not adversely affect the reaction. These conventional solvents may be used by mixing with water. In this reaction, when compound (III) is used in the form of a free acid or a salt thereof, N, N′-dicyclohexylcarbodiimide; N-cyclohexyl-N′-morpholinoethylcarbodiimide; N-cyclohexyl-N ′-( 4-
Diethylaminocyclohexyl) carbodiimide;
N'-diethylcarbodiimide, N, N'-diisopropylcarbodiimide; N-ethyl-N '-(3-dimethylaminopropyl) carbodiimide; N, N'-carbonylbis (2-methylimidazole); pentamethyleneketene- N-cyclohexylimine, diphenylketene-N-cyclohexylimine; ethoxyacetylene; 1
-Alkoxy-1-chloroethylene; trialkyl phosphite; polyethyl phosphate; isopropyl polyphosphate; phosphorus oxychloride (phosphoryl chloride); phosphorus trichloride; thionyl chloride; oxalyl chloride; lower alkyl haloformate [eg, ethyl chloroformate, chloroform; Isopropyl formate and the like]; triphenylphosphine; 2-ethyl-7-hydroxybenzisoxazolium salt; 2-ethyl-5- (m-sulfophenyl) isoxazolium hydroxide inner salt; 1- (p
-Chlorobenzenesulfonyloxy) -6-chloro-1
H-benzotriazole; reaction in the presence of a conventional condensing agent such as the so-called Filsmeier reagent prepared by reacting N, N-dimethylformamide with thionyl chloride, phosgene, trichloromethyl chloroformate, phosphorus oxychloride and the like. Is preferably performed. Alkali metal bicarbonate, tri-lower alkylamine (eg, triethylamine, diisopropylethylamine, etc.), pyridine, N
The reaction can also be carried out in the presence of an inorganic or organic base such as lower alkylmorpholine, N, N-dilower alkylbenzylamine. The reaction temperature is not particularly limited, but the reaction is usually carried out under cooling or heating.
【0031】プロセス2 目的化合物〔Ib〕またはその塩は、化合物〔Ia〕ま
たはその塩のヒドロキシ保護基の脱離反応によって製造
できる。該脱離反応の好適な方法としては、加水分解、
還元などの慣用的方法が挙げられる。 (i)加水分解の場合:加水分解は、塩基もしくはルイ
ス酸を含めての酸の存在下で実施することが好ましい。
好適な塩基としては、金属水酸化物〔たとえば水酸化ナ
トリウム、水酸化マグネシウムなど〕、金属アルコキシ
ド〔たとえばナトリウムメトキシド、カリウムメトキシ
ドなど〕、金属炭酸塩または金属重炭酸塩、トリアルキ
ルアミン〔たとえばトリメチルアミン、トリエチルアミ
ンなど〕、ピコリン、1,5−ジアザビシクロ〔4.
3.0〕ノナ−5−エン、1,4−ジアザビシクロ
〔2.2.2〕オクタン、1,8−ジアザビシクロ
〔5.4.0〕ウンデカ−7−エンなどの無機塩基およ
び有機塩基が挙げられる。好適な酸としては、有機酸
〔たとえば蟻酸、酢酸、プロピオン酸、トリクロロ酢
酸、トリフルオロ酢酸など〕および無機酸〔たとえば塩
酸、臭化水素酸、硫酸、塩化水素、臭化水素、塩化アン
モニウムなど〕が挙げられる。トリハロ酢酸〔たとえば
トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸など〕などのルイス
酸を用いての脱離は、カチオン捕捉剤〔たとえばアニソ
−ル、フェノ−ルなど〕の存在下で実施することが好ま
しい。反応は、通常、水、アルコ−ル〔たとえばメタノ
−ル、エタノ−ルなど〕、塩化メチレン、テトラヒドロ
フラン、これらの混合物などの溶媒または反応に悪影響
を及ぼさないその他の任意の溶媒中で実施する。液体の
塩基または酸は溶媒としても使用できる。反応温度はと
くに限定されないが、通常は、冷却下ないし加温下で反
応を実施する。 (ii)還元の場合:還元は、化学還元および接触還元
を含む慣用的方法で実施する。化学還元に使用すべき好
適な還元剤は、金属(たとえば錫、亜鉛、鉄など)また
は金属化合物(たとえば塩化クロム、酢酸クロムなど)
と有機酸または無機酸(たとえば蟻酸、酢酸、プポピオ
ン酸、トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、塩
酸、臭化水素酸など)との組合せである。接触還元に使
用すべき好適な触媒は、白金触媒(たとえば白金板、海
綿状白金、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線な
ど)、パラジウム触媒(たとえば海綿状パラジウム、パ
ラジウム黒、酸化パラジウム、パラジウム炭、コロイド
パラジウム、パラジウム/硫酸バリウム、パラジウム/
炭酸バリウムなど)、ニッケル触媒(たとえば還元ニッ
ケル、酸化ニッケル、ラネ−ニッケルなど)、コバルト
触媒(たとえば還元コバルト、ラネ−コバルトなど)、
鉄触媒(たとえば還元鉄、ラネ−鉄など),銅触媒(た
とえば還元銅、ラネ−銅、ウルマン銅など)などの慣用
のものである。この還元は、通常、水、メタノ−ル、エ
タノ−ル、プロパノ−ル、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、N,N−ジメチルホルムアミドまたはこれらの混
合物などの、反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒中で
実施する。なお、化学還元に使用する上記の酸が液状で
ある場合には、それらを溶媒としても使用できる。この
還元の反応温度はとくに限定されないが、通常は、冷却
下ないし加温下で反応を実施する。本発明は、R1 にお
いて保護されたアミノ基および/またはR4 において保
護されたカルボキシ基がこの反応の間にそれぞれアミノ
基および/またはカルボキシ基に変換される場合をもそ
の範囲内に包含するものである。 Process 2 The target compound [Ib] or a salt thereof can be produced by an elimination reaction of the hydroxy protecting group of the compound [Ia] or a salt thereof. Suitable methods for the elimination reaction include hydrolysis,
Conventional methods such as reduction may be mentioned. (I) In the case of hydrolysis: The hydrolysis is preferably carried out in the presence of a base or an acid including a Lewis acid.
Suitable bases include metal hydroxides (eg, sodium hydroxide, magnesium hydroxide, etc.), metal alkoxides (eg, sodium methoxide, potassium methoxide, etc.), metal carbonates or bicarbonates, trialkylamines (eg, Trimethylamine, triethylamine, etc.], picoline, 1,5-diazabicyclo [4.
3.0] nona-5-ene, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene, and other inorganic and organic bases. Can be Suitable acids include organic acids (eg, formic acid, acetic acid, propionic acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, etc.) and inorganic acids (eg, hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, hydrogen chloride, hydrogen bromide, ammonium chloride, etc.) Is mentioned. The elimination using a Lewis acid such as trihaloacetic acid (eg, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, etc.) is preferably carried out in the presence of a cation scavenger (eg, anisole, phenol, etc.). The reaction is usually carried out in a solvent such as water, alcohol (eg, methanol, ethanol, etc.), methylene chloride, tetrahydrofuran, a mixture thereof or any other solvent which does not adversely influence the reaction. Liquid bases or acids can also be used as solvents. The reaction temperature is not particularly limited, but the reaction is usually carried out under cooling or heating. (Ii) In the case of reduction: The reduction is carried out in a conventional manner, including chemical reduction and catalytic reduction. Suitable reducing agents to be used for chemical reduction are metals (eg, tin, zinc, iron, etc.) or metal compounds (eg, chromium chloride, chromium acetate, etc.)
And an organic acid or an inorganic acid (for example, formic acid, acetic acid, popopionic acid, trifluoroacetic acid, p-toluenesulfonic acid, hydrochloric acid, hydrobromic acid, etc.). Suitable catalysts to be used for catalytic reduction include platinum catalysts (eg, platinum plate, spongy platinum, platinum black, colloidal platinum, platinum oxide, platinum wire, etc.), palladium catalysts (eg, spongy palladium, palladium black, palladium oxide, Palladium charcoal, colloidal palladium, palladium / barium sulfate, palladium /
A nickel catalyst (eg, reduced nickel, nickel oxide, Raney-nickel, etc.), a cobalt catalyst (eg, reduced cobalt, Raney-cobalt, etc.),
Conventional catalysts such as iron catalysts (eg, reduced iron, Raney-iron, etc.) and copper catalysts (eg, reduced copper, Raney-copper, Ullman copper, etc.). This reduction is usually carried out in a conventional solvent which does not adversely influence the reaction, such as water, methanol, ethanol, propanol, dioxane, tetrahydrofuran, N, N-dimethylformamide or a mixture thereof. . When the above-mentioned acids used for chemical reduction are liquid, they can be used as a solvent. The reaction temperature for this reduction is not particularly limited, but the reaction is usually carried out under cooling or heating. The invention also includes within the scope where the amino group protected at R 1 and / or the carboxy group protected at R 4 is converted to an amino group and / or a carboxy group respectively during this reaction. Things.
【0032】プロセス3 化合物〔Id〕またはその塩は、化合物〔Ic〕または
その塩をカルボキシ保護基の脱離反応に付すことによっ
て製造できる。この反応は、上記プロセス2におけるヒ
ドロキシ保護基の脱離反応と同様にして実施でき、した
がって、使用すべき試薬および反応条件(たとえば溶
媒、反応温度など)については、プロセス2のそれらを
参照すればよい。本発明は、R1 において保護されたア
ミノ基および/またはR3 において保護されたヒドロキ
シ基がこの反応の間にアミノ基および/またはヒドロキ
シ基に変換される場合をもその範囲内に包含するもので
ある。 Process 3 The compound [Id] or a salt thereof can be produced by subjecting the compound [Ic] or a salt thereof to an elimination reaction of a carboxy protecting group. This reaction can be carried out in the same manner as the elimination reaction of the hydroxy protective group in the process 2, therefore, reagents and reaction conditions (e.g. solvent, reaction temperature, etc.) to be used for, referring to those processes 2 Good. The present invention includes within its scope the case where the amino group protected at R 1 and / or the hydroxy group protected at R 3 is converted to an amino group and / or a hydroxy group during this reaction. It is.
【0033】プロセス4 化合物〔If〕またはその塩は、化合物〔Ie〕を、−
(CH2 )n −に結合しているヒドロキシ基の離脱基へ
の交換反応に付すことによって製造できる。この反応
は、通常、水、アセトン、クロロホルム、ニトロベンゼ
ン、塩化メチレン、塩化エチレン、アセトニトリル、
N,N−ジメチルホルムアミド、メタノ−ル、エタノ−
ル、エ−テル、テトラヒドロフランまたは反応に悪影響
を及ぼさない任意の他の慣用の溶媒中で実施する。反応
温度はとくに限定されず、通常、冷却下ないし加熱下で
反応を実施する。R1 においてアミノを、OR3 におい
てヒドロキシを、および/またはR4 においてカルボキ
シを有する化合物〔If〕を本反応に用いるときには、
該化合物〔If〕のアミノ、OR3 におけるヒドロキシ
および/またはカルボキシ基を前もって保護しておくこ
とが好ましい。 Process 4 Compound [If] or a salt thereof is obtained by converting compound [Ie] to-
It can be produced by subjecting a hydroxy group bonded to (CH 2 ) n- to an exchange reaction with a leaving group. This reaction usually involves water, acetone, chloroform, nitrobenzene, methylene chloride, ethylene chloride, acetonitrile,
N, N-dimethylformamide, methanol, ethanol
The reaction is carried out in toluene, ether, tetrahydrofuran or any other conventional solvent which does not adversely influence the reaction. The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually carried out under cooling or heating. When a compound [If] having an amino at R 1 , a hydroxy at OR 3 , and / or a carboxy at R 4 is used in this reaction,
It is preferable that the amino and the hydroxy and / or carboxy group in OR 3 of the compound [If] be protected in advance.
【0034】プロセス5 化合物〔Ig〕またはその塩は、化合物〔If〕または
その塩をチオ尿素〔VI〕と反応させることによって製
造できる。この反応は、通常、水、アセトン、クロロホ
ルム、ニトロベンゼン、塩化メチレン、塩化エチレン、
アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、メタ
ノ−ル、エタノ−ル、エ−テル、テトラヒドロフランな
どの溶媒または反応に悪影響を及ぼさない他の任意の溶
媒中で実施する。反応温度はとくに限定されず、通常、
冷却下ないし加熱下で反応を実施する。R1 においてア
ミノを、OR3 においてヒドロキシを、および/または
R4 においてカルボキシを有する化合物〔If〕を本反
応に用いるときには、該化合物〔If〕のアミノ、OR
3 におけるヒドロキシおよび/またはカルボキシ基を前
もって保護しておくことが好ましい。 Process 5 Compound [Ig] or a salt thereof can be produced by reacting compound [If] or a salt thereof with thiourea [VI]. This reaction usually involves water, acetone, chloroform, nitrobenzene, methylene chloride, ethylene chloride,
The reaction is carried out in a solvent such as acetonitrile, N, N-dimethylformamide, methanol, ethanol, ether, tetrahydrofuran or any other solvent which does not adversely influence the reaction. The reaction temperature is not particularly limited.
The reaction is carried out under cooling or heating. When a compound [If] having an amino for R 1 , a hydroxy for OR 3 , and / or a carboxy for R 4 is used in this reaction, the amino, OR,
It is preferred that the hydroxy and / or carboxy groups in 3 be protected in advance.
【0035】プロセスA 化合物〔IIa〕は、化合物〔III〕またはその塩を
化合物〔IV〕またはそのメルカプト基における反応性
誘導体もしくはそれらの塩と反応させることによって調
製できる。化合物〔IV〕のメルカプト基における好適
な反応性誘導体としては、アルカリ金属塩(たとえばナ
トリウム塩、カリウム塩など)、アルカリ土類金属塩
(たとえばカルシウム塩、マグネシウム塩など)などの
金属塩が挙げられる。この反応は、通常、水、アセト
ン、クロロホルム、ニトロベンゼン、塩化メチレン、塩
化エチレン、ジメチルホルムアミド、メタノ−ル、エタ
ノ−ル、エ−テル、テトラヒドロフランなどの溶媒また
は反応に悪影響を及ぼさないその他の任意の慣用溶媒、
好ましくは強い極性を有するものの中で実施し、それら
は水と混合して使用することもできる。化合物〔II
I〕および/または化合物〔IV〕を遊離の形で反応に
用いるときには、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属
炭酸塩、アルカリ金属重炭酸塩、トリアルキルアミン、
ピリジンなどの塩基または三弗化硼素などのルイス酸の
存在下に、中性付近の条件下で反応を実施することが好
ましい。反応温度はとくに限定されないが、通常は、外
界温度または加温下で反応を実施する。 Process A The compound [IIa] can be prepared by reacting the compound [III] or a salt thereof with the compound [IV] or a reactive derivative at the mercapto group or a salt thereof. Suitable reactive derivatives in the mercapto group of compound [IV] include metal salts such as alkali metal salts (eg, sodium salt, potassium salt, etc.) and alkaline earth metal salts (eg, calcium salt, magnesium salt, etc.). . This reaction is usually carried out in a solvent such as water, acetone, chloroform, nitrobenzene, methylene chloride, ethylene chloride, dimethylformamide, methanol, ethanol, ether, tetrahydrofuran or any other which does not adversely affect the reaction. Conventional solvents,
It is preferably carried out in a substance having a strong polarity, and they can also be used as a mixture with water. Compound [II
When the compound [I] and / or the compound [IV] are used in a free form in the reaction, an alkali metal hydroxide, an alkali metal carbonate, an alkali metal bicarbonate, a trialkylamine,
The reaction is preferably carried out in the presence of a base such as pyridine or a Lewis acid such as boron trifluoride under near neutral conditions. The reaction temperature is not particularly limited, but usually the reaction is carried out at ambient temperature or under heating.
【0036】プロセスB 化合物〔II〕またはその塩は、化合物〔V〕またはそ
の塩をアミノ保護基脱離反応に付すことによって調製で
きる。この反応は上述のプロセス2のそれと同様にして
実施でき、したがって、使用すべき試薬および反応条件
(たとえば溶媒、反応温度など)についてはプロセス2
のそれらを挙げることができる。プロセス1〜5,Aお
よびBにおける目的化合物および出発化合物ならびにそ
れらの反応性誘導体の好適な塩としては、化合物〔I〕
について例示したものを挙げることができる。本発明の
目的化合物〔I〕またはその塩は高い抗微生物活性を示
し、病原性のグラム陽性およびグラム陰性細菌を含む多
くの微生物の生育を阻害する。本発明の目的化合物
〔I〕またはその塩は、とくにメチシリン抵抗性細菌ま
たは他の抗生物質抵抗性細菌、たとえばバンコマイシン
抵抗性またはアンピシリン抵抗性細菌に対して、強い抗
微生物活性を有する。 Process B Compound [II] or a salt thereof can be prepared by subjecting compound [V] or a salt thereof to an amino-protecting group elimination reaction. This reaction can be carried out in similar to that of the aforementioned Process 2, and therefore, the reagents and reaction conditions to be used (e.g. solvent, reaction temperature, etc.) of Process 2
Of them. Suitable salts of the target compounds and the starting compounds and the reactive derivatives thereof in Processes 1 to 5, A and B include compounds [I]
Can be mentioned. The object compound [I] of the present invention or a salt thereof exhibits high antimicrobial activity and inhibits the growth of many microorganisms including pathogenic Gram-positive and Gram-negative bacteria. The target compound [I] of the present invention or a salt thereof has a strong antimicrobial activity particularly against methicillin-resistant bacteria or other antibiotic-resistant bacteria such as vancomycin-resistant or ampicillin-resistant bacteria.
【0037】目的化合物(I)の有用性を示すために、
この発明の代表的化合物のMIC(最小発育阻止濃度)
に関する試験デ−タを以下に示す。In order to show the usefulness of the target compound (I),
MIC (minimum inhibitory concentration) of representative compounds of this invention
The test data for the following are shown below.
【0038】(A)最小発育阻止濃度 試験方法 :下記の2倍希釈寒天平板法によって、ガラス
器内抗菌活性を測定した。各試験菌株のトリプチケ−ス
−ソイブロス中の一夜培養(生菌数108 /ml)の1
白金耳を、代表的試験化合物を段階濃度で含有する熱時
注入寒天(HI寒天)上に画線し、37℃で20時間の
インキュベ−ションののち、最小発育阻止濃度(MI
C)をμg/mlで表わした。試験化合物 :(1)7β−〔2−{(Z)−ヒドロキシ
イミノ}−2−(2−アミノ−5−クロロチアゾ−ル−
4−イル)アセトアミド〕−3−〔4−カルバモイルメ
チルチアゾ−ル−2−イルチオ〕−3−セフェム−4−
カルボン酸 (2)7β−〔2−{(Z)−ヒドロキシイミノ}−2
−(2−アミノ−5−クロロチアゾ−ル−4−イル)ア
セトアミド〕−3−〔4−(2−カルバモイルエチル)
チアゾ−ル−2−イルチオ〕−3−セフェム−4−カル
ボン酸(A) Minimum growth inhibitory concentration test method : A glass was obtained by the following two-fold dilution agar plate method.
The antibacterial activity in the vessel was measured. One of the overnight cultures of viable cells (10 8 / ml) in Trypticase soy broth of each test strain
Platinum loops were streaked on hot injection agar (HI agar) containing graded concentrations of representative test compounds, incubated at 37 ° C. for 20 hours, and then subjected to a minimum inhibitory concentration (MI).
C) was expressed in μg / ml. Test compound : (1) 7β- [2-{(Z) -hydroxyimino} -2- (2-amino-5-chlorothiazol-)
4-yl) acetamido] -3- [4-carbamoylmethylthiazol-2-ylthio] -3-cephem-4-
Carboxylic acid (2) 7β- [2-{(Z) -hydroxyimino} -2
-(2-Amino-5-chlorothiazol-4-yl) acetamido] -3- [4- (2-carbamoylethyl)
Thiazol-2-ylthio] -3-cephem-4-carboxylic acid
【0039】試験結果: Test results :
【表1】 [Table 1]
【0040】治療目的での投与には、本発明の目的化合
物〔I〕およびその医薬として許容しうる塩を、経口、
非経口投与または外用に適した固体または液体の有機ま
たは無機賦形剤などの製薬上許容しうる担体との混合物
の形で該化合物を活性成分として含有する慣用の医薬製
剤の形で使用する。該医薬製剤は、錠剤、顆粒剤、散
剤、カプセル剤などの固体形態または液剤、懸濁剤、シ
ロップ剤、乳剤、リモナ−デ剤などの液体形態であって
よい。上記製剤には、必要により、補助物質(佐剤)、
安定剤、湿潤剤、その他の常用添加物、たとえばラクト
−ス、クエン酸、酒石酸、ステアリン酸、ステアリン酸
マグネシウム、白土、スクロ−ス、コ−ンスタ−チ、タ
ルク、ゼラチン、寒天、ペクチン、落花生油、オリ−ブ
油、カカオ脂、エチレングリコ−ルなどを含有させるこ
ともできる。化合物〔I〕の用量は、患者の年齢、状
態、疾患の種類、適用すべき化合物〔I〕の種類などに
より変化し、それらに依存もするが、一般には、1日当
たり1mgないし約4000mgの間またはより多量を
各患者に投与できる。本発明の目的化合物約50mg、
100mg、250mg、500mg、1000mg、
2000mgの平均1回量を、病原性微生物による感染
症の治療に使用することができる。For the purpose of therapeutic administration, the desired compound [I] of the present invention and a pharmaceutically acceptable salt thereof are orally or percutaneously administered.
It is used in the form of conventional pharmaceutical preparations containing the compound as active ingredient in a mixture with a pharmaceutically acceptable carrier, such as a solid or liquid organic or inorganic excipient suitable for parenteral administration or external use. The pharmaceutical preparation may be in solid form such as tablets, granules, powders and capsules or in liquid form such as solutions, suspensions, syrups, emulsions and limonade. In the above preparations, if necessary, auxiliary substances (adjuvants),
Stabilizers, humectants and other common additives such as lactose, citric acid, tartaric acid, stearic acid, magnesium stearate, clay, sucrose, corn starch, talc, gelatin, agar, pectin, peanut Oil, olive oil, cocoa butter, ethylene glycol and the like can also be contained. The dose of compound [I] varies depending on the age and condition of the patient, the type of disease, the type of compound [I] to be applied, and the like, and depends on them, but is generally 1 mg to about 4000 mg per day. Or higher doses can be administered to each patient. About 50 mg of the target compound of the present invention,
100mg, 250mg, 500mg, 1000mg,
An average dose of 2000 mg can be used for the treatment of infections by pathogenic microorganisms.
【0041】以下の製造例および実施例は、本発明をよ
り詳細に説明するために示すものである。The following production examples and examples are provided to explain the present invention in more detail.
【0042】製造例1 7β−ホルムアミド−3−メタンスルホニルオキシ−3
−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチル(5.0
g)のテトラヒドロフラン25mlおよびジメトキシエ
タン25ml中の溶液に、0℃で、4−カルバモイルメ
チル−2−メルカプトチアゾ−ル(1.78g)および
カリウム第三級ブトキシド(1.15g)を加えた。一
夜攪拌後、反応混合物を水で希釈して反応を停止させ、
酢酸エチルおよびテトラヒドロフランで抽出し、食塩水
で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を
除去し、残留物を少量の酢酸エチルで洗って、7β−ホ
ルムアミド−3−〔4−カルバモイルメチルチアゾ−ル
−2−イルチオ〕−3−セフェム−4−カルボン酸ジフ
ェニルメチル3.12gを得た。 IR(KBr):3296,1776,1666cm-1 NMR(DMSO−d6 ,δ):3.54,3.78
(2H,ABq,J=17.6Hz),3.56(2
H,s),5.29(1H,d,J=5.0Hz),
5.91(1H,dd,J=5.0Hz,8.9H
z),6.96(1H,s),7.00(1H,b
s),7.27−7.41(11H,m),7.56
(1H,s),8.15(1H,s),9.20(1
H,d,J=8.9Hz) MAS(APCI)m/z:567(M+ ) Production Example 1 7β-Formamido-3-methanesulfonyloxy-3
-Cephem-4-diphenylmethyl carboxylate (5.0
To a solution of g) in 25 ml of tetrahydrofuran and 25 ml of dimethoxyethane at 0 ° C. was added 4-carbamoylmethyl-2-mercaptothiazole (1.78 g) and potassium tert-butoxide (1.15 g). After stirring overnight, the reaction mixture was diluted with water to stop the reaction,
Extracted with ethyl acetate and tetrahydrofuran, washed with brine and dried over magnesium sulfate. The solvent was removed under reduced pressure and the residue was washed with a small amount of ethyl acetate to give 7β-formamido-3- [4-carbamoylmethylthiazol-2-ylthio] -3-cephem-4-carboxylate diphenylmethyl. 3.12 g were obtained. IR (KBr): 3296, 1776, 1666 cm -1 NMR (DMSO-d 6 , δ): 3.54, 3.78
(2H, ABq, J = 17.6 Hz), 3.56 (2
H, s), 5.29 (1H, d, J = 5.0 Hz),
5.91 (1H, dd, J = 5.0 Hz, 8.9H
z), 6.96 (1H, s), 7.00 (1H, b
s), 7.27-7.41 (11H, m), 7.56.
(1H, s), 8.15 (1H, s), 9.20 (1
H, d, J = 8.9 Hz) MAS (APCI) m / z: 567 (M + )
【0043】製造例2 7β−ホルムアミド−3−〔4−カルバモイルメチルチ
アゾ−ル−2−イルチオ〕−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ジフェニルメチル(3.12g)のメタノ−ル32
ml溶液に、室温で、濃塩酸3.2mlを滴下した。
4.5時間後、反応混合物を水で希釈し、pHを炭酸水
素ナトリウム水溶液で5.8に調整して、7β−アミノ
−3−〔4−カルバモイルメチルチアゾ−ル−2−イル
チオ〕−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチ
ル(2.66g)を沈澱物として得た。 IR(KBr):3412,1776,1678cm-1 NMR(DMSO−d6 ,δ):3.48,3.77
(2H,ABq,J=17.8Hz),3.56(2
H,s),4.93(1H,d,J=5.2Hz),
5.15(1H,d,J=5.2Hz),6.94(1
H,s),7.00(1H,bs),7.26−7.4
3(13H,m),7.53(1H,s) MAS(APCI)m/z:539(M+ ) Production Example 2 Methanol 32 of 7β-formamido-3- [4-carbamoylmethylthiazol-2-ylthio] -3-cephem-4-carboxylate (3.12 g)
At room temperature, 3.2 ml of concentrated hydrochloric acid was added dropwise to the ml solution.
After 4.5 hours, the reaction mixture was diluted with water and the pH was adjusted to 5.8 with aqueous sodium bicarbonate to give 7β-amino-3- [4-carbamoylmethylthiazol-2-ylthio]-. Diphenylmethyl 3-cephem-4-carboxylate (2.66 g) was obtained as a precipitate. IR (KBr): 3412, 1776, 1678 cm -1 NMR (DMSO-d 6 , δ): 3.48, 3.77
(2H, ABq, J = 17.8 Hz), 3.56 (2
H, s), 4.93 (1H, d, J = 5.2 Hz),
5.15 (1H, d, J = 5.2 Hz), 6.94 (1
H, s), 7.00 (1H, bs), 7.26-7.4.
3 (13H, m), 7.53 (1H, s) MAS (APCI) m / z: 539 (M + )
【0044】製造例3 7β−ホルムアミド−3−メタンスルホニルオキシ−3
−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチル(5.0
g)および4−(2−カルバモイル)エチル−2−メル
カプトチアゾ−ル(1.93g)から製造例1と同様に
して、7β−ホルムアミド−3−〔4−(2−カルバモ
イルエチル)チアゾ−ル−2−イルチオ〕−3−セフェ
ム−4−カルボン酸ジフェニルメチル(2.2g、37
%)を得た。 IR(KBr):1780,1662cm-1 NMR(DMSO−d6 ,δ):2.43(2H,
m),2.91(2H,m),3.52,3.77(2
H,ABq,J=17.7Hz),5.30(1H,
d,J=5.0Hz),5.92(1H,dd,J=
5.0Hz,8.9Hz),6.81(2H,bs),
6.96(1H,s),7.28−7.44(10H,
m),8.15(1H,s),9.21(1H,d,J
=8.9Hz) MAS(APCI)m/z:578.94(M+ −
2),580.94(M+) Production Example 3 7β-Formamido-3-methanesulfonyloxy-3
-Cephem-4-diphenylmethyl carboxylate (5.0
g) and 4- (2-carbamoyl) ethyl-2-mercaptothiazole (1.93 g) in the same manner as in Production Example 1 to give 7β-formamido-3- [4- (2-carbamoylethyl) thiazo- Ru-2-ylthio] -3-cephem-4-carboxylate (2.2 g, 37
%). IR (KBr): 1780, 1662 cm -1 NMR (DMSO-d 6 , δ): 2.43 (2H,
m), 2.91 (2H, m), 3.52, 3.77 (2
H, ABq, J = 17.7 Hz), 5.30 (1H,
d, J = 5.0 Hz), 5.92 (1H, dd, J =
5.0 Hz, 8.9 Hz), 6.81 (2H, bs),
6.96 (1H, s), 7.28-7.44 (10H,
m), 8.15 (1H, s), 9.21 (1H, d, J
= 8.9 Hz) MAS (APCI) m / z: 578.94 (M + −
2), 580.94 (M + )
【0045】製造例4 7β−ホルムアミド−3−〔4−(2−カルバモイルエ
チル)チアゾ−ル−2−イルチオ〕−3−セフェム−4
−カルボン酸ジフェニルメチル(2.2g)から製造例
2と同様にして、7β−アミノ−3−〔4−(2−カル
バモイルエチル)チアゾ−ル−2−イルチオ〕−3−セ
フェム−4−カルボン酸ジフェニルメチル(1.81
g、86%)を得た。 IR(KBr):3415,1
780,1666cm-1 NMR(DMSO−d6 ,
δ):2.43(2H,m),2.89(2H,m),
3.54,3.76(2H,ABq,J=15.5H
z),4.91(1H,d,J=5.2Hz),5.1
4(1H,d,J=5.2Hz),6.80(2H,b
s),6.93(1H,s),7.27−7.42(1
3H,m) MAS(APCI)m/z:553(M+ ) Production Example 4 7β-Formamido-3- [4- (2-carbamoylethyl) thiazol-2-ylthio] -3-cephem-4
7β-amino-3- [4- (2-carbamoylethyl) thiazol-2-ylthio] -3-cephem-4-carboxylic acid from diphenylmethylcarboxylate (2.2 g) in the same manner as in Production Example 2. Diphenylmethyl acid (1.81
g, 86%). IR (KBr): 3415, 1
780, 1666 cm -1 NMR (DMSO-d 6 ,
δ): 2.43 (2H, m), 2.89 (2H, m),
3.54, 3.76 (2H, ABq, J = 15.5H
z), 4.91 (1H, d, J = 5.2 Hz), 5.1
4 (1H, d, J = 5.2 Hz), 6.80 (2H, b
s), 6.93 (1H, s), 7.27-7.42 (1
3H, m) MAS (APCI) m / z: 553 (M + )
【0046】製造例5 テトラヒドロフラン100ml中の水素化アルミニウム
リチウム(2.0g)の懸濁液に、0℃で、4−メトキ
シカルボニルメチル−2−メルカプトチアゾ−ルを加え
た。20分後、硫酸ナトリウム水溶液および水で希釈し
て反応を停止させ、生じた沈澱を濾過により除去した。
濾液のpHを3に調整し、酢酸エチルおよびテトラヒド
ロフランで抽出した。有機相を食塩水で洗い、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を除去し、残留物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィ−により精製して、
4−(2−ヒドロキシエチル)−2−メルカプトチアゾ
−ル(1.28g)を得た。 IR(KBr):3219,1603,1477cm-1 NMR(DMSO−d6 ,δ):2.59(2H,t,
J=6.4Hz),3.61(2H,dt,J=6.4
Hz,5.3Hz),4.77(1H,t,J=5.3
Hz),6.59(1H,s),13.08(1H,b
s) MAS(APCI)m/z:162(M+ +1) Production Example 5 To a suspension of lithium aluminum hydride (2.0 g) in 100 ml of tetrahydrofuran was added 4-methoxycarbonylmethyl-2-mercaptothiazole at 0 ° C. After 20 minutes, the reaction was quenched by dilution with aqueous sodium sulfate and water, and the resulting precipitate was removed by filtration.
The pH of the filtrate was adjusted to 3, and extracted with ethyl acetate and tetrahydrofuran. The organic phase was washed with brine and dried over magnesium sulfate. The solvent was removed under reduced pressure and the residue was purified by silica gel column chromatography,
4- (2-Hydroxyethyl) -2-mercaptothiazole (1.28 g) was obtained. IR (KBr): 3219, 1603, 1477 cm -1 NMR (DMSO-d 6 , δ): 2.59 (2H, t,
J = 6.4 Hz), 3.61 (2H, dt, J = 6.4)
Hz, 5.3 Hz), 4.77 (1H, t, J = 5.3)
Hz), 6.59 (1H, s), 13.08 (1H, b
s) MAS (APCI) m / z: 162 (M ++ 1)
【0047】製造例6 7β−ホルムアミド−3−メタンスルホニルオキシ−3
−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチル(3.8
8g)のテトラヒドロフラン19mlおよびジメトキシ
エタン19ml中溶液に、0℃で、4−(2−ヒドロキ
シエチル)−2−メルカプトチアゾ−ル(1.28g)
およびカリウム第三級ブトキシド(0.89g)を加え
た。一夜攪拌後、反応混合物を水で希釈して反応を停止
させ、酢酸エチルおよびテトラヒドロフランで抽出し、
食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で
溶媒を除去し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィ−により精製して、7β−ホルムアミド−3−〔4
−(2−ヒドロキシエチル)チアゾ−ル−2−イルチ
オ〕−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチル
(2.23g)を得た。 IR(KBr):3429,1784,1686cm-1 NMR(DMSO−d6 ,δ):2.86(2H,t,
J=6.7Hz),3.53,3.78(2H,AB
q,J=17.5Hz),3.69(2H,td,J=
6.7Hz,5.4Hz),4.67(1H,t,J=
5.4Hz),5.30(1H,d,J=5.0H
z),5.91(1H,dd,J=5.0Hz,8.8
Hz),6.96(1H,s),7.27−7.46
(10H,m),7.49(1H,s),8.15(1
H,s),9.20(1H,d,J=8.8Hz) MAS(APCI)m/z:554(M+ ) Production Example 6 7β-Formamido-3-methanesulfonyloxy-3
-Cephem-4-carboxylate diphenylmethyl (3.8
8 g) in a solution of 19 ml of tetrahydrofuran and 19 ml of dimethoxyethane at 0 ° C. with 4- (2-hydroxyethyl) -2-mercaptothiazole (1.28 g).
And potassium tert-butoxide (0.89 g) was added. After stirring overnight, the reaction mixture was quenched by diluting with water, extracting with ethyl acetate and tetrahydrofuran,
Washed with brine and dried over magnesium sulfate. The solvent was removed under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography to give 7β-formamide-3- [4
Diphenylmethyl- (2-hydroxyethyl) thiazol-2-ylthio] -3-cephem-4-carboxylate (2.23 g) was obtained. IR (KBr): 3429, 1784, 1686 cm -1 NMR (DMSO-d 6 , δ): 2.86 (2H, t,
J = 6.7 Hz), 3.53, 3.78 (2H, AB
q, J = 17.5 Hz), 3.69 (2H, td, J =
6.7 Hz, 5.4 Hz), 4.67 (1 H, t, J =
5.4 Hz), 5.30 (1H, d, J = 5.0H)
z), 5.91 (1H, dd, J = 5.0 Hz, 8.8)
Hz), 6.96 (1H, s), 7.27-7.46
(10H, m), 7.49 (1H, s), 8.15 (1
H, s), 9.20 (1H, d, J = 8.8 Hz) MAS (APCI) m / z: 554 (M + )
【0048】製造例7 7β−ホルムアミド−3−〔4−(2−ヒドロキシエチ
ル)チアゾ−ル−2−イルチオ〕−3−セフェム−4−
カルボン酸ジフェニルメチル(2.23g)のメタノ−
ル22ml溶液に、室温で、濃塩酸2.3mlを滴下し
た。2時間後、反応混合物を水で希釈し、pHを炭酸水
素ナトリウム水溶液で6.5に調整し、酢酸エチルおよ
びテトラヒドロフランで抽出した。有機相を食塩水で洗
い、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を除去
して、7β−アミノ−3−〔4−(2−ヒドロキシエチ
ル)チアゾ−ル−2−イルチオ〕−3−セフェム−4−
カルボン酸ジフェニルメチル(2.01g)を得た。 IR(KBr):3342,1778,1739cm-1 NMR(DMSO−d6 ,δ):2.85(2H,t,
J=6.8Hz),3.46,3.77(2H,AB
q,J=17.7Hz),3.69(2H,m),4.
67(1H,m),4.91(1H,bd,J=5.2
Hz),5.14(1H,d,J=5.2Hz),6.
93(1H,s),7.27−7.39(12H,
m),7.44(1H,s) MAS(APCI)m/z:526.13(M+ +
1),548.13(Na塩) Production Example 7 7β-formamido-3- [4- (2-hydroxyethyl) thiazol-2-ylthio] -3-cephem-4-
Methanol of diphenylmethyl carboxylate (2.23 g)
2.3 ml of concentrated hydrochloric acid was added dropwise to the 22 ml solution at room temperature. After 2 hours, the reaction mixture was diluted with water, the pH was adjusted to 6.5 with aqueous sodium hydrogen carbonate and extracted with ethyl acetate and tetrahydrofuran. The organic phase was washed with brine and dried over magnesium sulfate. The solvent was removed under reduced pressure to give 7β-amino-3- [4- (2-hydroxyethyl) thiazol-2-ylthio] -3-cephem-4-.
Diphenylmethyl carboxylate (2.01 g) was obtained. IR (KBr): 3342, 1778, 1739 cm -1 NMR (DMSO-d 6 , δ): 2.85 (2H, t,
J = 6.8 Hz), 3.46, 3.77 (2H, AB
q, J = 17.7 Hz), 3.69 (2H, m), 4.
67 (1H, m), 4.91 (1H, bd, J = 5.2)
Hz), 5.14 (1H, d, J = 5.2 Hz), 6.
93 (1H, s), 7.27-7.39 (12H,
m), 7.44 (1H, s ) MAS (APCI) m / z: 526.13 (M + +
1), 548.13 (Na salt)
【0049】実施例1 7β−アミノ−3−〔4−カルバモイルメチルチアゾ−
ル−2−イルチオ〕−3−セフェム−4−カルボン酸ジ
フェニルメチル(2.0g)とN−(トリメチルシリ
ル)アセトアミド(2.92g)とのテトラヒドロフラ
ン54ml溶液中に、塩化2−〔(Z)−アセトキシイ
ミノ〕−2−(2−ホルミルアミノ−5−クロロチアゾ
−ル−4−イル)アセチル(1.50g)を少量ずつに
分割して加えた。2時間後、反応混合物を水および酢酸
エチルで希釈して反応を停止させ、pHを6に調整し
た。有機相を食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し
た。減圧下で溶媒を除去して、7β−〔2−{(Z)−
アセトキシイミノ}−2−(5−クロロ−2−ホルミル
アミノチアゾ−ル−4−イル)アセトアミド〕−3−
〔4−カルバモイルメチルチアゾ−ル−2−イルチオ〕
−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチル3.
25gを得た。 IR(KBr):3197,1786,1670cm-1 NMR(DMSO−d6 ,δ):2.21(3H,
s),3.53,3.82(2H,ABq,J=16.
0Hz),3.58(2H,s),5.38(1H,
d,J=5.0Hz),6.02(1H,dd,J=
5.0Hz,8.6Hz),6.97(1H,s),
7.0 (1H,bs),7.28−7.41(11
H,m),7.56(1H,s),8.56(1H,
s),10.11(1H,d,J=8.6Hz),1
2.99(1H,s) MAS(MALD−TOF)m/z:833.708
(Na塩) Example 1 7β-amino-3- [4-carbamoylmethylthiazo-
2-[(Z) -chloride was added to a solution of diphenylmethyl di-2-methylthio-2--3-thiophene-4-carboxylate (2.0 g) and N- (trimethylsilyl) acetamide (2.92 g) in 54 ml of tetrahydrofuran. [Acetoxyimino] -2- (2-formylamino-5-chlorothiazol-4-yl) acetyl (1.50 g) was added in small portions. After 2 hours, the reaction was quenched by diluting the reaction mixture with water and ethyl acetate and adjusting the pH to 6. The organic phase was washed with brine and dried over magnesium sulfate. The solvent was removed under reduced pressure to obtain 7β- [2-{(Z)-
Acetoxyimino {-2- (5-chloro-2-formylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3-
[4-carbamoylmethylthiazol-2-ylthio]
2. diphenylmethyl-3-cephem-4-carboxylate
25 g were obtained. IR (KBr): 3197, 1786, 1670 cm -1 NMR (DMSO-d 6 , δ): 2.21 (3H,
s), 3.53, 3.82 (2H, ABq, J = 16.
0 Hz), 3.58 (2H, s), 5.38 (1H,
d, J = 5.0 Hz), 6.02 (1H, dd, J =
5.0Hz, 8.6Hz), 6.97 (1H, s),
7.0 (1H, bs), 7.28-7.41 (11
H, m), 7.56 (1H, s), 8.56 (1H,
s), 10.11 (1H, d, J = 8.6 Hz), 1
2.99 (1H, s) MAS (MALD-TOF) m / z: 833.708
(Na salt)
【0050】実施例2 7β−〔2−{(Z)−アセトキシイミノ}−2−(5
−クロロ−2−ホルミルアミノチアゾ−ル−4−イル)
アセトアミド〕−3−〔4−カルバモイルメチルチアゾ
−ル−2−イルチオ〕−3−セフェム−4−カルボン酸
ジフェニルメチル(3.25g)のメタノ−ル33ml
溶液に、室温で、濃塩酸2.3mlを滴下した。2.5
時間後、反応混合物を水で希釈し、pHを炭酸水素ナト
リウム水溶液で6に調整して、7β−〔2−{(Z)−
ヒドロキシイミノ}−2−(2−アミノ−5−クロロチ
アゾ−ル−4−イル)アセトアミド〕−3−〔4−カル
バモイルメチルチアゾ−ル−2−イルチオ〕−3−セフ
ェム−4−カルボン酸ジフェニルメチル(2.37g)
を沈澱物として得た。 IR(KBr):3315,1780,1676cm-1 NMR(DMSO−d6 ,δ):3.56(2H,
s),3.4−3.7(2H,m),5.29(1H,
d,J=5.0Hz),5.94(1H,dd,J=
5.0Hz,8.6Hz),6.96(1H,s),
7.0(1H,bs),7.28−7.40(13H,
m),7.55(1H,s),9.55(1H,d,J
=8.6Hz),11.79(1H,s) MAS(MALD−TOF)m/z:763.82(N
a塩),779.781(K塩) Example 2 7β- [2-{(Z) -acetoxyimino} -2- (5
-Chloro-2-formylaminothiazol-4-yl)
33 ml of methanol of diphenylmethyl acetamido] -3- [4-carbamoylmethylthiazol-2-ylthio] -3-cephem-4-carboxylate (3.25 g)
2.3 ml of concentrated hydrochloric acid was added dropwise to the solution at room temperature. 2.5
After time, the reaction mixture was diluted with water and the pH was adjusted to 6 with aqueous sodium bicarbonate solution to give 7β- [2-{(Z)-
Hydroxyimino {-2- (2-amino-5-chlorothiazol-4-yl) acetamido] -3- [4-carbamoylmethylthiazol-2-ylthio] -3-cephem-4-carboxylate diphenyl Methyl (2.37 g)
Was obtained as a precipitate. IR (KBr): 3315, 1780, 1676 cm -1 NMR (DMSO-d 6 , δ): 3.56 (2H,
s), 3.4-3.7 (2H, m), 5.29 (1H,
d, J = 5.0 Hz), 5.94 (1H, dd, J =
5.0Hz, 8.6Hz), 6.96 (1H, s),
7.0 (1H, bs), 7.28-7.40 (13H,
m), 7.55 (1H, s), 9.55 (1H, d, J
= 8.6 Hz), 11.79 (1H, s) MAS (MALD-TOF) m / z: 763.82 (N
a salt), 779.781 (K salt)
【0051】実施例3 7β−〔2−{(Z)−ヒドロキシイミノ}−2−(2
−アミノ−5−クロロチアゾ−ル−4−イル)アセトア
ミド〕−3−〔4−カルバモイルメチルチアゾ−ル−2
−イルチオ〕−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニ
ルメチル(2.37g)のジクロロメタン12ml溶液
に、0℃で、アニソ−ル(2.4ml)およびトリクロ
ロ酢酸(4.8ml)を段階的に加えた。2時間後、反
応混合物をイソプロピルエ−テル中に滴下して、沈澱物
を生じさせ、これをODS樹脂を用いての分取液体クロ
マトグラフィ−により精製し、HP−20樹脂を用いて
のカラムクロマトグラフィ−により脱塩して、7β−
〔2−{(Z)−ヒドロキシイミノ}−2−(2−アミ
ノ−5−クロロチアゾ−ル−4−イル)アセトアミド〕
−3−〔4−カルバモイルメチルチアゾ−ル−2−イル
チオ〕−3−セフェム−4−カルボン酸を沈澱物として
得た。 IR(KBr):3257,1772,1672,16
53cm-1 NMR(DMSO−d6 ,δ):3.45,3.73
(2H,ABq,J=17.6Hz),3.55(2
H,s),5.23(1H,d,J=5.0Hz),
5.85(1H,dd,J=5.0Hz,8.5H
z),6.98(1H,s),7.28(2H,b
s),7.44(1H,bs),7.51(1H,
s),9.50(1H,d,J=8.5Hz),11.
70(1H,s) MAS(MALD−TOF)m/z:575.825
(M+ ),577.804(M+ +2) 元素分析 C17H14ClN7 O6 S4 ・2.5H2 Oと
しての 計算値:C 32.88;H 3.08;N 15.7
9 実測値:C 32.87;H 3.05;N 15.6
9 Example 3 7β- [2-{(Z) -hydroxyimino} -2- (2
-Amino-5-chlorothiazol-4-yl) acetamido] -3- [4-carbamoylmethylthiazol-2
To a solution of diphenylmethyl-3-ylthio] -3-cephem-4-carboxylate (2.37 g) in 12 ml of dichloromethane at 0 ° C. was added stepwise anisole (2.4 ml) and trichloroacetic acid (4.8 ml). Was. After 2 hours, the reaction mixture was added dropwise to isopropyl ether to form a precipitate, which was purified by preparative liquid chromatography using ODS resin and column chromatography using HP-20 resin. And desalted by 7β-
[2-{(Z) -hydroxyimino} -2- (2-amino-5-chlorothiazol-4-yl) acetamide]
3- [4-Carbamoylmethylthiazol-2-ylthio] -3-cephem-4-carboxylic acid was obtained as a precipitate. IR (KBr): 3257, 1772, 1672, 16
53 cm -1 NMR (DMSO-d 6 , δ): 3.45, 3.73
(2H, ABq, J = 17.6 Hz), 3.55 (2
H, s), 5.23 (1H, d, J = 5.0 Hz),
5.85 (1H, dd, J = 5.0 Hz, 8.5H
z), 6.98 (1H, s), 7.28 (2H, b
s), 7.44 (1H, bs), 7.51 (1H,
s), 9.50 (1H, d, J = 8.5 Hz), 11.
70 (1H, s) MAS (MALD-TOF) m / z: 575.8825
(M + ), 577.804 (M + +2) Elemental analysis Calculated for C 17 H 14 ClN 7 O 6 S 4 .2.5H 2 O: C 32.88; H 3.08; N 15.7
9 found: C 32.87; H 3.05; N 15.6.
9
【0052】実施例4 7β−アミノ−3−〔4−(2−カルバモイルエチル)
チアゾ−ル−2−イルチオ〕−3−セフェム−4−カル
ボン酸ジフェニルメチル(1.81g)から、実施例1
と同様にして、7β−〔2−{(Z)−アセトキシイミ
ノ}−2−(5−クロロ−2−ホルミルアミノチアゾ−
ル−4−イル)アセトアミド〕−3−〔4−(2−カル
バモイルエチル)チアゾ−ル−2−イルチオ〕−3−セ
フェム−4−カルボン酸ジフェニルメチル(1.52
g,56.2%)を得た。 IR(KBr):3462,1782,1664cm-1 NMR(DMSO−d6 ,δ):2.21(3H,
s),2.43(2H,m),2.91(2H,m),
3.60(2H,m),5.38(1H,d,J=5.
0Hz),6.03(1H,dd,J=5.0Hz,
8.7Hz),6.81(2H,bs),6.97(1
H,s),7.27−7.49(10H,s),8.5
6(1H,s),10.11(1H,d,J=8.7H
z),13.00(1H,bs) MAS(MALD−TOF)m/z:847.78(N
a塩) Example 4 7β-amino-3- [4- (2-carbamoylethyl)
Example 1 was prepared from diphenylmethyl thiazol-2-ylthio] -3-cephem-4-carboxylate (1.81 g).
7- [2-{(Z) -acetoxyimino} -2- (5-chloro-2-formylaminothiazo-
4- (4-yl) acetamido] -3- [4- (2-carbamoylethyl) thiazol-2-ylthio] -3-cephem-4-carboxylate diphenylmethyl (1.52
g, 56.2%). IR (KBr): 3462, 1782, 1664 cm -1 NMR (DMSO-d 6 , δ): 2.21 (3H,
s), 2.43 (2H, m), 2.91 (2H, m),
3.60 (2H, m), 5.38 (1H, d, J = 5.
0 Hz), 6.03 (1H, dd, J = 5.0 Hz,
8.7 Hz), 6.81 (2H, bs), 6.97 (1
H, s), 7.27-7.49 (10H, s), 8.5.
6 (1H, s), 10.11 (1H, d, J = 8.7H)
z), 13.00 (1H, bs) MAS (MALD-TOF) m / z: 847.78 (N
a salt)
【0053】実施例5 7β−〔2−{(Z)−アセトキシイミノ}−2−(5
−クロロ−2−ホルミルアミノチアゾ−ル−4−イル)
アセトアミド〕−3−〔4−(2−カルバモイルエチ
ル)チアゾ−ル−2−イルチオ〕−3−セフェム−4−
カルボン酸ジフェニルメチル(1.52g)のメタノ−
ル15ml溶液に、濃塩酸1.07mlを滴下した。2
時間後、反応混合物を水および酢酸エチルで希釈して反
応を止め、pHを5.5に調整した。有機相を食塩水で
洗い、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を除
去して、7β−〔2−{(Z)−ヒドロキシイミノ}−
2−(2−アミノ−5−クロロチアゾ−ル−4−イル)
アセトアミド〕−3−〔4−(2−カルバモイルエチ
ル)チアゾ−ル−2−イルチオ〕−3−セフェム−4−
カルボン酸ジフェニルメチル(1.25g,89.9
%)を得た。 IR(KBr):3346,1782,1664cm-1 NMR(DMSO−d6 ,δ):2.43(2H,
m),2.90(2H,m),3.60(2H,m),
5.30(1H,d,J=5.1Hz),5.9−6.
0(1H,m),6.81(2H,bs),6.96
(1H,s),7.28−7.43(11H,m),
9.56(1H,d,J=8.7Hz),11.72
(1H,s) MAS(MALD−TOF)m/z:777.83(N
a塩) Example 5 7β- [2-{(Z) -acetoxyimino} -2- (5
-Chloro-2-formylaminothiazol-4-yl)
Acetamide] -3- [4- (2-carbamoylethyl) thiazol-2-ylthio] -3-cephem-4-
Methanol of diphenylmethyl carboxylate (1.52 g)
1.07 ml of concentrated hydrochloric acid was added dropwise to the 15 ml solution. 2
After time, the reaction mixture was diluted with water and ethyl acetate to quench the reaction and the pH was adjusted to 5.5. The organic phase was washed with brine and dried over magnesium sulfate. The solvent was removed under reduced pressure to give 7β- [2-{(Z) -hydroxyimino}-
2- (2-amino-5-chlorothiazol-4-yl)
Acetamide] -3- [4- (2-carbamoylethyl) thiazol-2-ylthio] -3-cephem-4-
Diphenylmethyl carboxylate (1.25 g, 89.9)
%). IR (KBr): 3346, 1782, 1664 cm -1 NMR (DMSO-d 6 , δ): 2.43 (2H,
m), 2.90 (2H, m), 3.60 (2H, m),
5.30 (1H, d, J = 5.1 Hz), 5.9-6.
0 (1H, m), 6.81 (2H, bs), 6.96
(1H, s), 7.28-7.43 (11H, m),
9.56 (1H, d, J = 8.7 Hz), 11.72
(1H, s) MAS (MALD-TOF) m / z: 777.83 (N
a salt)
【0054】実施例6 7β−〔2−{(Z)−ヒドロキシイミノ}−2−(2
−アミノ−5−クロロチアゾ−ル−4−イル)アセトア
ミド〕−3−〔4−(2−カルバモイルエチル)チアゾ
−ル−2−イルチオ〕−3−セフェム−4−カルボン酸
ジフェニルメチル(1.25g)から、実施例3と同様
にして、7β−〔2−{(Z)−ヒドロキシイミノ}−
2−(2−アミノ−5−クロロチアゾ−ル−4−イル)
アセトアミド〕−3−〔4−(2−カルバモイルエチ
ル)チアゾ−ル−2−イルチオ〕−3−セフェム−4−
カルボン酸(0.22g,22.6%)を得た。 IR(KBr):3406,1778,1672cm-1 NMR(DMSO−d6 ,δ):2.43(2H,t,
J=8.0Hz),2.90(2H,t,J=8.0H
z),3.43,3.72(2H,ABq,J=17.
6Hz),5.24(1H,d,J=5.0Hz),
5.85(1H,dd,J=5.0Hz,8.6H
z),6.80(1H,bs),7.34(2H,b
s),7.40(1H,s),9.51(1H,d,J
=8.6Hz),11.71(1H,s) MAS(MALD−TOF)m/z:589.77(M
+ ) 元素分析 C18H16ClN7 O6 S4 ・3H2 Oとして
の 計算値:C 33.57;H 3.44;N 15.2
2 実測値:C 33.46;H 3.30;N 14.9
2 Example 6 7β- [2-{(Z) -hydroxyimino} -2- (2
-Amino-5-chlorothiazol-4-yl) acetamido] -3- [4- (2-carbamoylethyl) thiazol-2-ylthio] -3-cephem-4-carboxylate diphenylmethyl (1.25 g) ) To 7β- [2-{(Z) -hydroxyimino}-
2- (2-amino-5-chlorothiazol-4-yl)
Acetamide] -3- [4- (2-carbamoylethyl) thiazol-2-ylthio] -3-cephem-4-
The carboxylic acid (0.22 g, 22.6%) was obtained. IR (KBr): 3406, 1778, 1672 cm -1 NMR (DMSO-d 6 , δ): 2.43 (2H, t,
J = 8.0 Hz), 2.90 (2H, t, J = 8.0H)
z), 3.43, 3.72 (2H, ABq, J = 17.
6 Hz), 5.24 (1H, d, J = 5.0 Hz),
5.85 (1H, dd, J = 5.0 Hz, 8.6H
z), 6.80 (1H, bs), 7.34 (2H, b
s), 7.40 (1H, s), 9.51 (1H, d, J
= 8.6 Hz), 11.71 (1H, s) MAS (MALD-TOF) m / z: 589.77 (M
+) Elemental analysis C 18 H 16 ClN 7 O 6 S 4 · 3H 2 calculated for O: C 33.57; H 3.44; N 15.2
2 Found: C 33.46; H 3.30; N 14.9.
2
【0055】実施例7 7β−アミノ−3−〔4−(2−ヒドロキシエチル)チ
アゾ−ル−2−イルチオ〕−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ジフェニルメチル(2.01g)から、実施例1と
同様にして、7β−〔2−{(Z)−アセトキシイミ
ノ}−2−(5−クロロ−2−ホルミルアミノチアゾ−
ル−4−イル)アセトアミド〕−3−〔4−(2−ヒド
ロキシエチル)チアゾ−ル−2−イルチオ〕−3−セフ
ェム−4−カルボン酸ジフェニルメチル(3.0g,9
8%)を得た。 IR(KBr):3392,1782,1686,15
49cm-1 NMR(DMSO−d6 ,δ):2.21(3H,
s),2.85(2H,m),3.55,3.83(2
H,ABq,J=17.7Hz),3.69(2H,
m),4.67(1H,m),5.39(1H,d,J
=5.0Hz),6.02(1H,dd,J=5.0H
z,8.4Hz),6.97(1H,s),7.28−
7.41(10H,m),7.48(1H,s),8.
56(1H,s),10.10(1H,d,J=8.4
Hz) MAS(MALD−TOF)m/z:798.848
(M+ ),820.823(Na塩) Example 7 Example 1 was prepared from diphenylmethyl 7β-amino-3- [4- (2-hydroxyethyl) thiazol-2-ylthio] -3-cephem-4-carboxylate (2.01 g). 7- [2-{(Z) -acetoxyimino} -2- (5-chloro-2-formylaminothiazo-
4- (4-yl) acetamido] -3- [4- (2-hydroxyethyl) thiazol-2-ylthio] -3-cephem-4-carboxylic acid diphenylmethyl (3.0 g, 9
8%). IR (KBr): 3392,1782,1686,15
49 cm -1 NMR (DMSO-d 6 , δ): 2.21 (3H,
s), 2.85 (2H, m), 3.55, 3.83 (2
H, ABq, J = 17.7 Hz), 3.69 (2H,
m), 4.67 (1H, m), 5.39 (1H, d, J
= 5.0 Hz), 6.02 (1H, dd, J = 5.0H)
z, 8.4 Hz), 6.97 (1H, s), 7.28-
7.41 (10H, m), 7.48 (1H, s), 8.
56 (1H, s), 10.10 (1H, d, J = 8.4)
Hz) MAS (MALD-TOF) m / z: 798.848
(M + ), 82.823 (Na salt)
【0056】実施例8 7β−〔2−{(Z)−アセトキシイミノ}−2−(5
−クロロ−2−ホルミルアミノチアゾ−ル−4−イル)
アセトアミド〕−3−〔4−(2−ヒドロキシエチル)
チアゾ−ル−2−イルチオ〕−3−セフェム−4−カル
ボン酸ジフェニルメチル(1.0g)から、実施例5と
同様にして、7β−〔2−{(Z)−ヒドロキシイミ
ノ}−2−(2−アミノ−5−クロロチアゾ−ル−4−
イル)アセトアミド〕−3−〔4−(2−ヒドロキシエ
チル)チアゾ−ル−2−イルチオ〕−3−セフェム−4
−カルボン酸ジフェニルメチル(0.85g,93%)
を得た。 IR(KBr):3373,1782,1664cm-1 NMR(DMSO−d6 ,δ):2.80−2.88
(2H,m),3.53−3.70(4H,m),4.
64−4.69(1H,m),5.30(1H,d,J
=5.3Hz),5.94(1H,dd,J=5.3H
z,8.6Hz),6.95(1H,s),7.28−
7.47(13H,m),9.54(1H,d,J=
8.6Hz) MAS(MALD−TOF)m/z:728.94(M
+ ),750.90(Na塩) Example 8 7β- [2-{(Z) -acetoxyimino} -2- (5
-Chloro-2-formylaminothiazol-4-yl)
Acetamide] -3- [4- (2-hydroxyethyl)
Starting from diphenylmethyl thiazol-2-ylthio] -3-cephem-4-carboxylate (1.0 g), 7β- [2-{(Z) -hydroxyimino} -2- (2-amino-5-chlorothiazol-4-
Yl) acetamido] -3- [4- (2-hydroxyethyl) thiazol-2-ylthio] -3-cephem-4
-Diphenylmethyl carboxylate (0.85 g, 93%)
I got IR (KBr): 3373, 1782, 1664 cm -1 NMR (DMSO-d 6 , δ): 2.80-2.88
(2H, m), 3.53-3.70 (4H, m), 4.
64-4.69 (1H, m), 5.30 (1H, d, J
= 5.3 Hz), 5.94 (1H, dd, J = 5.3H)
z, 8.6 Hz), 6.95 (1H, s), 7.28-
7.47 (13H, m), 9.54 (1H, d, J =
8.6 Hz) MAS (MALD-TOF) m / z: 728.94 (M
+ ), 750.90 (Na salt)
【0057】実施例9 7β−〔2−{(Z)−ヒドロキシイミノ}−2−(2
−アミノ−5−クロロチアゾ−ル−4−イル)アセトア
ミド〕−3−〔4−(2−ヒドロキシエチル)チアゾ−
ル−2−イルチオ〕−3−セフェム−4−カルボン酸ジ
フェニルメチル(0.85g)から、実施例3と同様に
して、7β−〔2−{(Z)−ヒドロキシイミノ}−2
−(2−アミノ−5−クロロチアゾ−ル−4−イル)ア
セトアミド〕−3−〔4−(2−ヒドロキシエチル)チ
アゾ−ル−2−イルチオ〕−3−セフェム−4−カルボ
ン酸(245mg,37%)を得た。 IR(KBr):3294,1770,1653cm-1 NMR(DMSO−d6 ,δ):2.84(2H,t,
J=6.7Hz),3.48−3.76(4H,m),
4.66(1H,m),5.24(1H,d,J=4.
9Hz),5.84(1H,dd,J=4.9Hz,
8.6Hz),7.30(2H,bs),7.43(1
H,s),9.49(1H,d,J=8.6Hz),1
1.69(1H,s) MAS(MALD−TOF)m/z:562.83(M
+ ) 元素分析 C17H15ClN6 O6 S4 ・1.5H2 Oと
しての 計算値:C 34.60;H 3.07;N 14.2
4 実測値:C 34.46;H 3.07;N 13.9
4 Example 9 7β- [2-{(Z) -hydroxyimino} -2- (2
-Amino-5-chlorothiazol-4-yl) acetamido] -3- [4- (2-hydroxyethyl) thiazo-
From β-yl-2-ylthio] -3-cephem-4-carboxylate (0.85 g), 7β- [2-{(Z) -hydroxyimino} -2 was obtained in the same manner as in Example 3.
-(2-Amino-5-chlorothiazol-4-yl) acetamido] -3- [4- (2-hydroxyethyl) thiazol-2-ylthio] -3-cephem-4-carboxylic acid (245 mg, 37%). IR (KBr): 3294, 1770, 1653 cm -1 NMR (DMSO-d 6 , δ): 2.84 (2H, t,
J = 6.7 Hz), 3.48-3.76 (4H, m),
4.66 (1H, m), 5.24 (1H, d, J = 4.
9 Hz), 5.84 (1H, dd, J = 4.9 Hz,
8.6 Hz), 7.30 (2H, bs), 7.43 (1
H, s), 9.49 (1H, d, J = 8.6 Hz), 1
1.69 (1H, s) MAS (MALD-TOF) m / z: 562.83 (M
+) Elemental analysis C 17 H 15 ClN 6 O 6 S 4 · 1.5H calculated for 2 O: C 34.60; H 3.07 ; N 14.2
4 Observed: C 34.46; H 3.07; N 13.9.
4
【0058】実施例10 7β−〔2−{(Z)−アセトキシイミノ}−2−(5
−クロロ−2−ホルミルアミノチアゾ−ル−4−イル)
アセトアミド〕−3−〔4−(2−ヒドロキシエチル)
チアゾ−ル−2−イルチオ〕−3−セフェム−4−カル
ボン酸ジフェニルメチル(1.0g)のジクロロメタン
15ml溶液に、−50℃で、無水トリフルオロメタン
スルホン酸(0.24ml)およびジイソプロピルエチ
ルアミン(0.25ml)を加えた。2時間後、反応混
合物を水で希釈して反応を止め、pHを6に調整した。
混合物を酢酸エチルおよびテトラヒドロフランで抽出
し、有機相を食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し
た。減圧下で溶媒を除去して、7β−〔2−{(Z)−
アセトキシイミノ}−2−(5−クロロ−2−ホルミル
アミノチアゾ−ル−4−イル)アセトアミド〕−3−
〔4−(2−トリフルオロメタンスルホニルオキシエチ
ル)チアゾ−ル−2−イルチオ〕−3−セフェム−4−
カルボン酸ジフェニルメチル(1.06g)を得た。 NMR(DMSO−d6 ,δ):2.21(3H,
s),2.85(2H,m),3.69(4H,m),
5.39(1H,d,J=5.0Hz),6.02(1
H,dd,J=5.0Hz,8.4Hz),6.96
(1H,s),7.28−7.48(11H,m),
8.56(1H,s),10.10(1H,d,J=
8.4Hz),12.99(1H,s) Example 10 7β- [2-{(Z) -acetoxyimino} -2- (5
-Chloro-2-formylaminothiazol-4-yl)
Acetamide] -3- [4- (2-hydroxyethyl)
To a solution of diphenylmethyl thiazol-2-ylthio] -3-cephem-4-carboxylate (1.0 g) in 15 ml of dichloromethane at -50 ° C was added trifluoromethanesulfonic anhydride (0.24 ml) and diisopropylethylamine (0. .25 ml) was added. After 2 hours, the reaction was stopped by diluting the reaction mixture with water and adjusting the pH to 6.
The mixture was extracted with ethyl acetate and tetrahydrofuran, the organic phase was washed with brine and dried over magnesium sulfate. The solvent was removed under reduced pressure to obtain 7β- [2-{(Z)-
Acetoxyimino {-2- (5-chloro-2-formylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3-
[4- (2-trifluoromethanesulfonyloxyethyl) thiazol-2-ylthio] -3-cephem-4-
Diphenylmethyl carboxylate (1.06 g) was obtained. NMR (DMSO-d 6 , δ): 2.21 (3H,
s), 2.85 (2H, m), 3.69 (4H, m),
5.39 (1H, d, J = 5.0 Hz), 6.02 (1
H, dd, J = 5.0 Hz, 8.4 Hz), 6.96
(1H, s), 7.28-7.48 (11H, m),
8.56 (1H, s), 10.10 (1H, d, J =
8.4 Hz), 12.99 (1 H, s)
【0059】実施例11 7β−〔2−{(Z)−アセトキシイミノ}−2−(5
−クロロ−2−ホルミルアミノチアゾ−ル−4−イル)
アセトアミド〕−3−〔4−(2−トリフルオロメタン
スルホニルオキシエチル)チアゾ−ル−2−イルチオ〕
−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチル
(1.06g)のアセトニトリル10ml溶液に、チオ
尿素(87mg)を加えた。3時間後、減圧下で反応混
合物の溶媒を蒸発させて、7β−〔2−{(Z)−アセ
トキシイミノ}−2−(5−クロロ−2−ホルミルアミ
ノチアゾ−ル−4−イル)アセトアミド〕−3−〔4−
(2−イソチオウレイドエチル)チアゾ−ル−2−イル
チオ〕−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチ
ル(1.06g)を得た。NMR(DMSO−d6 ,
δ):2.21(3H,s),2.85(2H,m),
3.66(4H,m),5.39(1H,d,J=5.
0Hz),6.02(1H,dd,J=5.0Hz,
8.5Hz),6.96(1H,s),7.0(3H,
br),7.28−7.48(11H,m),8.56
(1H,s),10.10(1H,d,J=8.5H
z),12.98(1H,s) MAS(MALD−TOF)m/z:856.81(M
+ ),858.81(M+ +2) Example 11 7β- [2-{(Z) -acetoxyimino} -2- (5
-Chloro-2-formylaminothiazol-4-yl)
Acetamide] -3- [4- (2-trifluoromethanesulfonyloxyethyl) thiazol-2-ylthio]
Thiourea (87 mg) was added to a solution of diphenylmethyl-3-cephem-4-carboxylate (1.06 g) in 10 ml of acetonitrile. After 3 hours, the solvent of the reaction mixture is evaporated under reduced pressure to give 7β- [2-{(Z) -acetoxyimino} -2- (5-chloro-2-formylaminothiazol-4-yl). Acetamide] -3- [4-
Diphenylmethyl (2-isothioureidoethyl) thiazol-2-ylthio] -3-cephem-4-carboxylate (1.06 g) was obtained. NMR (DMSO-d 6,
δ): 2.21 (3H, s), 2.85 (2H, m),
3.66 (4H, m), 5.39 (1H, d, J = 5.
0 Hz), 6.02 (1H, dd, J = 5.0 Hz,
8.5 Hz), 6.96 (1H, s), 7.0 (3H,
br), 7.28-7.48 (11H, m), 8.56.
(1H, s), 10.10 (1H, d, J = 8.5H
z), 12.98 (1H, s) MAS (MALD-TOF) m / z: 856.81 (M
+ ), 858.81 (M ++ 2)
【0060】実施例12 7β−〔2−{(Z)−アセトキシイミノ}−2−(5
−クロロ−2−ホルミルアミノチアゾ−ル−4−イル)
アセトアミド〕−3−〔4−(2−イソチオウレイドエ
チル)チアゾ−ル−2−イルチオ〕−3−セフェム−4
−カルボン酸ジフェニルメチル(1.06g)のジクロ
ロメタン5.3ml溶液に、0℃で、アニソ−ル(1.
1ml)およびトリフルオロ酢酸(2.1ml)を段階
的に加えた。2.5時間後、反応混合物をイソプロピル
エ−テル中に滴下して、7β−〔2−{(Z)−アセト
キシイミノ}−2−(5−クロロ−2−ホルミルアミノ
チアゾ−ル−4−イル)アセトアミド〕−3−〔4−
(2−イソチオウレイドエチル)チアゾ−ル−2−イル
チオ〕−3−セフェム−4−カルボン酸(0.77g)
を沈澱物として得た。 IR(KBr):3315,1774,1674cm-1 MAS(MALD−TOF)m/z:690.60(M
+ ),692.63(M+ +2) Example 12 7β- [2-{(Z) -acetoxyimino} -2- (5
-Chloro-2-formylaminothiazol-4-yl)
Acetamide] -3- [4- (2-isothioureidoethyl) thiazol-2-ylthio] -3-cephem-4
-A solution of diphenylmethyl carboxylate (1.06 g) in 5.3 ml of dichloromethane at 0 ° C. was added to anisole (1.
1 ml) and trifluoroacetic acid (2.1 ml) were added stepwise. After 2.5 hours, the reaction mixture was added dropwise to isopropyl ether to give 7β- [2-{(Z) -acetoxyimino} -2- (5-chloro-2-formylaminothiazole-4). -Yl) acetamide] -3- [4-
(2-Isothioureidoethyl) thiazol-2-ylthio] -3-cephem-4-carboxylic acid (0.77 g)
Was obtained as a precipitate. IR (KBr): 3315, 1774, 1674 cm-1 MAS (MALD-TOF) m / z: 690.60 (M
+ ), 692.63 (M ++ 2)
【0061】実施例13 7β−〔2−{(Z)−アセトキシイミノ}−2−(5
−クロロ−2−ホルミルアミノチアゾ−ル−4−イル)
アセトアミド〕−3−〔4−(2−イソチオウレイドエ
チル)チアゾ−ル−2−イルチオ〕−3−セフェム−4
−カルボン酸(0.77g)のメタノ−ル8ml溶液
に、室温で、濃塩酸0.65mlを滴下した。2時間
後、反応混合物を酢酸エチル中に滴下して、沈澱物を得
て、これをODS樹脂を用いての分取液体クロマトグラ
フィ−により精製し、HP−20樹脂を用いてのカラム
クロマトグラフィ−により脱塩して、7β−〔2−
{(Z)−ヒドロキシイミノ}−2−(2−アミノ−5
−クロロチアゾ−ル−4−イル)アセトアミド〕−3−
〔4−(2−イソチオウレイドエチル)チアゾ−ル−2
−イルチオ〕−3−セフェム−4−カルボン酸0.11
gを沈澱物として得た。 IR(KBr):3392,1770,1651cm-1 NMR(DMSO−d6 ,δ):2.79(2H,t,
J=6.6Hz),3.23,3.68(2H,AB
q,J=17.1Hz),3.70(2H,t,J=
6.6Hz),5.09(1H,d,J=5.0H
z),5.66(1H,dd,J=5.0Hz,8.5
Hz),7.23(1H,s),7.30(2H,b
s),9.42(1H,d,J=8.5Hz) MAS(MALD−TOF)m/z:620.83(M
+ ),622.80(M+ +2) Example 13 7β- [2-{(Z) -acetoxyimino} -2- (5
-Chloro-2-formylaminothiazol-4-yl)
Acetamide] -3- [4- (2-isothioureidoethyl) thiazol-2-ylthio] -3-cephem-4
To a solution of carboxylic acid (0.77 g) in 8 ml of methanol was added dropwise 0.65 ml of concentrated hydrochloric acid at room temperature. After 2 hours, the reaction mixture was added dropwise into ethyl acetate to give a precipitate, which was purified by preparative liquid chromatography using ODS resin and column chromatography using HP-20 resin. After desalting, 7β- [2-
{(Z) -hydroxyimino} -2- (2-amino-5
-Chlorothiazol-4-yl) acetamido] -3-
[4- (2-isothioureidoethyl) thiazol-2
-Ylthio] -3-cephem-4-carboxylic acid 0.11
g was obtained as a precipitate. IR (KBr): 3392, 1770, 1651 cm -1 NMR (DMSO-d 6 , δ): 2.79 (2H, t,
J = 6.6 Hz), 3.23, 3.68 (2H, AB
q, J = 17.1 Hz), 3.70 (2H, t, J =
6.6 Hz), 5.09 (1H, d, J = 5.0H)
z), 5.66 (1H, dd, J = 5.0 Hz, 8.5)
Hz), 7.23 (1H, s), 7.30 (2H, b
s), 9.42 (1H, d, J = 8.5 Hz) MAS (MALD-TOF) m / z: 620.83 (M
+ ), 622.80 (M ++ 2)
Claims (8)
されていてもよいカルバモイル;または離脱基であり、 nは1〜6の整数である〕の新規セフェム化合物および
それらの医薬として許容しうる塩。1. The formula: embedded image Wherein R 1 is amino or protected amino, R 2 is halogen, R 3 is hydrogen or a hydroxy protecting group, R 4 is carboxy or protected carboxy, R 5 is hydroxy Amidinothio; carbamoyl optionally substituted with lower alkyl; or a leaving group, n is an integer of 1 to 6], and pharmaceutically acceptable salts thereof.
ミノであり、 R3 が水素または低級アルカノイルであり、 R4 がカルボキシまたはエステル化されたカルボキシで
あり、 R5 がヒドロキシ、アミジノチオ、カルバモイルまたは
アシルオキシである請求項1の化合物。2. R 1 is amino or lower alkanoylamino; R 3 is hydrogen or lower alkanoyl; R 4 is carboxy or esterified carboxy; R 5 is hydroxy, amidinothio, carbamoyl or acyloxy. A compound of claim 1.
あり、 nが整数1または2である請求項2の化合物。3. R 1 is amino, R 2 is halogen, R 3 is hydrogen, R 4 is carboxy, R 5 is hydroxy, amidinothio or carbamoyl, and n is an integer 1 or 2. 3. The compound of claim 2, which is
ノ}−2−(2−アミノ−5−クロロチアゾ−ル−4−
イル)アセトアミド〕−3−〔4−カルバモイルメチル
チアゾ−ル−2−イルチオ〕−3−セフェム−4−カル
ボン酸、7β−〔2−{(Z)−ヒドロキシイミノ}−
2−(2−アミノ−5−クロロチアゾ−ル−4−イル)
アセトアミド〕−3−〔4−(2−カルバモイルエチ
ル)チアゾ−ル−2−イルチオ〕−3−セフェム−4−
カルボン酸、7β−〔2−{(Z)−ヒドロキシイミ
ノ}−2−(2−アミノ−5−クロロチアゾ−ル−4−
イル)アセトアミド〕−3−〔4−(2−ヒドロキシエ
チル)チアゾ−ル−2−イルチオ〕−3−セフェム−4
−カルボン酸および7β−〔2−{(Z)−ヒドロキシ
イミノ}−2−(2−アミノ−5−クロロチアゾ−ル−
4−イル)アセトアミド〕−3−〔4−(2−イソチオ
ウレイドエチル)チアゾ−ル−2−イルチオ〕−3−セ
フェム−4−カルボン酸からなる群から選ばれた請求項
3の化合物。4. 7β- [2-{(Z) -hydroxyimino} -2- (2-amino-5-chlorothiazol-4-)
Yl) acetamido] -3- [4-carbamoylmethylthiazol-2-ylthio] -3-cephem-4-carboxylic acid, 7β- [2-{(Z) -hydroxyimino}-
2- (2-amino-5-chlorothiazol-4-yl)
Acetamide] -3- [4- (2-carbamoylethyl) thiazol-2-ylthio] -3-cephem-4-
Carboxylic acid, 7β- [2-{(Z) -hydroxyimino} -2- (2-amino-5-chlorothiazol-4-
Yl) acetamido] -3- [4- (2-hydroxyethyl) thiazol-2-ylthio] -3-cephem-4
-Carboxylic acid and 7β- [2-{(Z) -hydroxyimino} -2- (2-amino-5-chlorothiazol-
4. The compound of claim 3 selected from the group consisting of 4-yl) acetamido] -3- [4- (2-isothioureidoethyl) thiazol-2-ylthio] -3-cephem-4-carboxylic acid.
されていてもよいカルバモイル;または離脱基であり、 nは1〜6の整数である〕の化合物およびその医薬とし
て許容しうる塩を製造する方法であって、(1)式: 【化3】 〔式中、R4 、R5 およびnは各々上に定義した通りで
ある〕の化合物またはそのアミノ基における反応性誘導
体もしくはそれらの塩を式: 【化4】 〔式中、R1 、R2 およびR3 は各々上に定義した通り
である〕の化合物またはそのカルボキシ基における反応
性誘導体もしくはそれらの塩と反応させて、式: 【化5】 〔式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 およびnは各々
上に定義した通りである〕の化合物またはその塩を生成
させるか、(2)式: 【化6】 〔式中、R1 、R2 、R4 、R5 およびnは各々上に定
義した通りであり、 R3 aはヒドロキシ保護基である〕の化合物またはその塩
をヒドロキシ保護基脱離反応に付して、式: 【化7】 〔式中、R1 、R2 、R4 、R5 およびnは各々上に定
義した通りである〕の化合物またはその塩を生成させる
か、(3)式: 【化8】 〔式中、R1 、R2 、R3 、R5 およびnは各々上に定
義した通りであり、 R4 a は保護されたカルボキシである〕の化合物または
その塩をカルボキシ保護基脱離反応に付して、式: 【化9】 〔式中、R1 、R2 、R3 、R5 およびnは各々上に定
義した通りである〕の化合物またはその塩を生成させる
か、(4)式: 【化10】 〔式中、R1 、R2 、R3 、R4 およびnは各々上に定
義した通りである〕の化合物またはその塩をヒドロキシ
の離脱基への交換反応に付して、式: 【化11】 〔式中、R1 、R2 、R3 、R4 およびnは各々上に定
義した通りであり、 R5 a は離脱基である〕の化合物またはその塩を生成さ
せるか、(5)式: 【化12】 〔式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 aおよびnは各々
上に定義した通りである〕の化合物またはその塩をチオ
尿素と反応させて、式: 【化13】 〔式中、R1 、R2 、R3 、R4 およびnは各々上に定
義した通りであり、 R5 b はアミジノチオである〕の化合物またはその塩を
生成させることを特徴とする前記方法。5. The formula: embedded image Wherein R 1 is amino or protected amino, R 2 is halogen, R 3 is hydrogen or a hydroxy protecting group, R 4 is carboxy or protected carboxy, R 5 is hydroxy Amidinothio; carbamoyl optionally substituted by lower alkyl; or a leaving group, n is an integer of 1 to 6] and a pharmaceutically acceptable salt thereof, ) Formula: embedded image Wherein R 4 , R 5 and n are each as defined above, or a reactive derivative at the amino group thereof, or a salt thereof, having the formula: Wherein R 1 , R 2 and R 3 are each as defined above, or a reactive derivative at the carboxy group or a salt thereof to form a compound of the formula: Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and n are each as defined above, or a salt thereof, or (2) a compound of the formula: Wherein, R 1, R 2, R 4, R 5 and n are as defined on each, R 3 a is a is hydroxy protecting group to the compound or a hydroxy protecting group elimination reaction of a salt thereof With the formula: Wherein R 1 , R 2 , R 4 , R 5 and n are each as defined above, or a salt thereof, or (3) a compound of the formula: Wherein, R 1, R 2, R 3, R 5 and n are as defined on each, R 4 a is a is protected carboxy The compound or a carboxy protecting group elimination reaction of a salt thereof And the formula: Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 5 and n are each as defined above, or a salt thereof, or (4) a compound of the formula: Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and n are each as defined above, or a salt thereof, is subjected to an exchange reaction of the hydroxy with a leaving group to give a compound of the formula: 11] Wherein, R 1, R 2, R 3, R 4 and n are as defined on each, R 5 a is a leaving group] or to produce a compound or a salt thereof, (5) : Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 a and n are each as defined above, or a salt thereof, with thiourea to form a compound of the formula: Wherein, R 1, R 2, R 3, R 4 and n are as defined on each, R 5 b is amidinothio] further characterized in that to produce a compound or a salt thereof .
許容しうる塩を活性成分とし、これを製薬上許容しうる
担体との混合物として含有してなる医薬組成物。6. A pharmaceutical composition comprising the compound of claim 1 or a pharmaceutically acceptable salt thereof as an active ingredient and a mixture thereof with a pharmaceutically acceptable carrier.
許容しうる塩をヒトまたは動物に投与することを特徴と
する感染症の治療方法。7. A method for treating an infectious disease, comprising administering the compound of claim 1 or a pharmaceutically acceptable salt thereof to a human or animal.
1の化合物またはその医薬として許容しうる塩。8. The compound of claim 1 or a pharmaceutically acceptable salt thereof for use as an antimicrobial agent.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
AU2579 | 1987-06-18 | ||
AUPP2579A AUPP257998A0 (en) | 1998-03-25 | 1998-03-25 | New cephem compounds |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11322757A true JPH11322757A (en) | 1999-11-24 |
Family
ID=3806840
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11056632A Pending JPH11322757A (en) | 1998-03-25 | 1999-03-04 | Novel cephem compound |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11322757A (en) |
AU (1) | AUPP257998A0 (en) |
-
1998
- 1998-03-25 AU AUPP2579A patent/AUPP257998A0/en not_active Abandoned
-
1999
- 1999-03-04 JP JP11056632A patent/JPH11322757A/en active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AUPP257998A0 (en) | 1998-04-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4927818A (en) | Cephem compounds and processes for preparation thereof | |
US4952578A (en) | Cephem compound and a process for preparation thereof | |
PT1556389E (en) | Cephem compounds | |
JP4643577B2 (en) | Cephem compound | |
JP2009530228A (en) | Use as cephem compounds and antibacterial agents | |
US7179801B2 (en) | Cephem compounds | |
JP2817203B2 (en) | Novel cephem compound and method for producing the same | |
JPH09110877A (en) | Cephem compound, its production and antibacterial agent containing the compound | |
JP2503476B2 (en) | 3,7-Disubstituted-3-cephem compounds | |
WO1992021683A1 (en) | New cephem compounds | |
US20050004094A1 (en) | Cephem compounds | |
WO1997041128A1 (en) | 3-pyrazoliomethylcephem compounds as antimicrobial agents | |
DE69430618T2 (en) | cephem | |
FI74971C (en) | FOERFARANDE FOER FRAMSTAELLNING AV EN TERAPEUTISKT AKTIV SYN-ISOMER AV EN 7- (2-AMINOTIAZOLYL-2-HYDROXY-IMINOACETAMIDO) -3-VINYL-3-CEFEMFOERENING. | |
HU211940A9 (en) | Water-soluble antibiotic composition and water-soluble salts of cephem compounds | |
US6159961A (en) | Cephem compounds | |
EP0630899A1 (en) | Cephem compound, process for producing the same, and medicine containing the same | |
JPH11322757A (en) | Novel cephem compound | |
EP0349340A2 (en) | Novel cephem compound, method for producing the same and anti-bacterial agent | |
JPH04288086A (en) | New cephem compound | |
JPH0733777A (en) | New cephem compound | |
US6468995B1 (en) | Cephem compounds | |
JP3243545B2 (en) | Cephem compound, method for producing the same, and medicament containing the compound | |
WO1996037499A1 (en) | Novel cephem derivatives | |
NO862910L (en) | PROCEDURE FOR THE PREPARATION OF 3,7-DISUBSTITUTED-3-CEFEM COMPOUNDS. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20050520 |