JPH1131398A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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Publication number
JPH1131398A
JPH1131398A JP9182134A JP18213497A JPH1131398A JP H1131398 A JPH1131398 A JP H1131398A JP 9182134 A JP9182134 A JP 9182134A JP 18213497 A JP18213497 A JP 18213497A JP H1131398 A JPH1131398 A JP H1131398A
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JP
Japan
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circuit
word line
shift register
selection elements
conduction state
Prior art date
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Application number
JP9182134A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideo Chigasaki
英夫 千ヶ崎
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Hitachi Ltd
Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
Japan Display Inc
Original Assignee
Hitachi Device Engineering Co Ltd
Hitachi Ltd
Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH1131398A publication Critical patent/JPH1131398A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance the degree of freedom of a circuit design by serially transmitting state information of short circuits/open circuits of arbitrarily set conduction state selection elements to a circuit operation changing circuit part changing circuit operations on the basis of state information to enable formation areas of the conduction state selection elements and the circuit operation changing circuit part to be arranged at arbitrary positions being in the integrated circuit device by being separated. SOLUTION: A first shift register 41 stores state information of short circuits/ open circuits of the conduction state selection elements in flip-flops 41a-41n by cutting fuses 16a-16n constituting the conduction state selection elements with a laser device or the like corresponding to the address of a normal word line in which a bit failure is caused. In a reset, the register 41 serially transmits the state information of the conduction state selection elements to flip-flops 51a-51n of a relief word line address decoding circuit 50. Then, a decode address setting circuit 52 determines the address of a word line which is failed, based on the information.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路装
置に係わり、特に、半導体メモリの冗長救済回路に適用
して有効な技術に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device and, more particularly, to a technology effective when applied to a redundancy repair circuit of a semiconductor memory.

【0002】[0002]

【従来の技術】下記文献(イ)に記載されているよう
に、一般に、ダイナミック型ランダムアクセスメモリ
(DRAM;ynamic andom cces
emory)等の半導体メモリでは、ウエハ製造
時にメモリセルアレイ内で生じたビット線故障やワード
線故障、及びビット故障に対し、予め予備の冗長ビット
線や冗長ワード線を設けておき、故障部と置換すること
で製造歩留りの向上を図っている。
As described in BACKGROUND ART following literature (a), generally, a dynamic random access memory (DRAM; D ynamic R andom A cces
The s M emory) semiconductor memories such as a wafer manufacturing when the bit line failure and a word line failure occurs in the memory cell array, and for the bit failure, may be provided in advance spare redundant bit lines and redundant word lines, a failure portion To improve the production yield.

【0003】(イ)超LSIメモリ 伊藤清男著 培風
館 第2.8章 欠陥救済回路 P181〜P183 図9は、前記文献(イ)に記載されている、不活性パル
スによるデコーダ制御方式を用いた冗長救済回路を示す
回路図である。
(A) Super LSI memory Kiyoo Ito Baifukan Chapter 2.8 Defect relief circuits P181 to P183 FIG. 9 shows a decoder control method using an inactive pulse described in the above document (A). FIG. 3 is a circuit diagram illustrating a redundancy repair circuit.

【0004】図9を用いて、仮に正規メモリセルアレイ
5内のメモリセル10が故障しており、正規ワード線W
Laを冗長ワード線RWLaに置換し救済する場合の動
作を説明する。
Referring to FIG. 9, if a memory cell 10 in normal memory cell array 5 has failed and normal word line W
The operation in the case where La is replaced with a redundant word line RWLa to perform repair will be described.

【0005】冗長ワード線RWLaは冗長ワード線デコ
ーダ回路2で制御される。冗長ワード線デコーダ回路2
内には、デコードアドレスを自由に設定するためのフュ
ーズ16が備えられる。故障アドレスに応じてフューズ
16をレーザ装置等で切断することで、ビット故障をお
こしている正規ワード線WLaのアドレスと一致させ
る。また、故障している正規ワード線WLaが活性化さ
れないようにするために、正規ワード線デコーダ回路4
内には不活性化トランジスタ(n型MOSトランジス
タ)20が設けてある。
The redundant word line RWLa is controlled by a redundant word line decoder circuit 2. Redundant word line decoder circuit 2
A fuse 16 for setting a decode address freely is provided therein. The fuse 16 is cut by a laser device or the like in accordance with the failure address, so that the address matches the address of the normal word line WLa in which a bit failure has occurred. In order to prevent the failed normal word line WLa from being activated, the normal word line decoder circuit 4
A passivation transistor (n-type MOS transistor) 20 is provided therein.

【0006】図10は、図9に示す冗長救済回路におけ
る、冗長ワード線救済時のタイミングチャートを示す図
である。
FIG. 10 is a diagram showing a timing chart at the time of redundancy word line relief in the redundancy relief circuit shown in FIG.

【0007】なお、図10では、故障しているワード線
のアドレス信号がタイミング30で選択された場合を示
している。外部から入力されたアドレス信号は内部アド
レスバス1を経て冗長ワード線デコーダ回路2と正規ワ
ード線デコーダ回路4の両方のアドレス端子に入力され
る。
FIG. 10 shows a case where an address signal of a failed word line is selected at a timing 30. An address signal input from the outside is input to both address terminals of the redundant word line decoder circuit 2 and the normal word line decoder circuit 4 via the internal address bus 1.

【0008】冗長ワード線デコーダ回路2はフューズ1
6により正規ワード線WLaと同じアドレスが設定され
ており、冗長ワード線のデコーダ出力17はタイミング
32で端子RPに印加されるデコーダ駆動パルスにより
不活性化制御用トランジスタ(n型MOSトランジス
タ)11がオンし、不活性化信号ΦdaがHighレベ
ル(以下、単にHレベルと称する。)となる。従って、
正規ワード線のデコーダ出力23は、タイミング33で
不活性化トランジスタ20がオンしLowレベル(以
下、単にLレベルと称する。)となる。
The redundant word line decoder circuit 2 has a fuse 1
6, the same address as that of the normal word line WLa is set, and the decoder output 17 of the redundant word line is supplied to the inactivation control transistor (n-type MOS transistor) 11 by the decoder drive pulse applied to the terminal RP at the timing 32. And the inactivation signal Φda goes high (hereinafter simply referred to as H level). Therefore,
The decoder output 23 of the normal word line goes low at the timing 33 when the inactivation transistor 20 is turned on (hereinafter, simply referred to as L level).

【0009】正規、冗長用の両デコーダ出力が確定した
後、タイミング34で端子RXにワード線駆動パルスが
印加される。この結果、正規ワード線ドライバ(n型M
OSトランジスタ)19はオンせず、正規ワード線WL
aはタイミング35のようにLレベルのままとなる。一
方、冗長ワード線ドライバ(n型MOSトランジスタ)
18はオンし冗長ワード線RWLaはタイミング36の
ようにHレベルとなる。このようにして、正規ワード線
WLaが冗長ワード線RWLaに置換される。
After the outputs of both the normal and redundant decoders are determined, a word line drive pulse is applied to the terminal RX at a timing 34. As a result, the normal word line driver (n-type M
OS transistor) 19 is not turned on, and normal word line WL
“a” remains at the L level as at timing 35. On the other hand, a redundant word line driver (n-type MOS transistor)
18 turns on, and the redundant word line RWLa goes to the H level as at timing 36. Thus, the normal word line WLa is replaced with the redundant word line RWLa.

【0010】この結果、冗長救済用メモリセルアレイ3
内の正常なメモリセル10がデータ線9に接続される読
み出し書き込み回路6を介して操作できるようになる。
また、冗長救済を行わない場合には、冗長ワード線デコ
ーダ回路2から出力される不活性化信号ΦdaはLレベ
ルとなり、冗長ワード線ドライバ18はオンせず、正規
ワード線デコーダ回路4の動作は抑制されない。
As a result, the redundant relief memory cell array 3
Normal memory cells 10 can be operated via the read / write circuit 6 connected to the data line 9.
When the redundancy repair is not performed, the inactivation signal Φda output from the redundant word line decoder circuit 2 becomes L level, the redundant word line driver 18 is not turned on, and the operation of the normal word line decoder circuit 4 is not performed. Not suppressed.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図9に
示す冗長救済回路において、冗長ワード線デコーダ用の
フューズ16は冗長ワード線デコーダ回路2内に配置し
なければならないためにレイアウト上の制約となる。こ
れはフロアプランにおいて大きな制限となり、回路設計
の自由度が損なわれる。
However, in the redundancy relieving circuit shown in FIG. 9, the fuse 16 for the redundant word line decoder must be arranged in the redundant word line decoder circuit 2, which restricts the layout. . This is a great limitation in the floor plan and impairs the degree of freedom in circuit design.

【0012】仮にフューズ16のみを冗長ワード線デコ
ーダ回路2の外部に配置しようとする場合、デコードす
るアドレス信号の2倍の配線領域が必要となり、チップ
サイズが大きくなる。それにより、大きなメモリ容量
で、チップサイズを小型化できるという半導体メモリの
特徴が失われてしまい、望ましくない。
If only the fuse 16 is to be arranged outside the redundant word line decoder circuit 2, a wiring area twice as large as the address signal to be decoded is required, and the chip size becomes large. As a result, the feature of the semiconductor memory that the chip size can be reduced with a large memory capacity is lost, which is not desirable.

【0013】また、冗長ワード線デコーダ回路2は動作
スピードの制限等から正規ワード線デコーダ回路4に隣
接配置する必要がある。したがって、冗長ワード線デコ
ーダ回路2自体の配置上の自由度も少ない。
Further, the redundant word line decoder circuit 2 needs to be arranged adjacent to the normal word line decoder circuit 4 due to limitations on the operation speed and the like. Therefore, the degree of freedom in arrangement of the redundant word line decoder circuit 2 itself is small.

【0014】また、フューズ16は製造工程の中でレー
ザー装置による切断を行うために通常のトランジスタ領
域とは独立に配置する必要がある。このため通常のトラ
ンジスタ領域を制限し、結果的にチップサイズを増大さ
せる要因ともなりうる。
Further, the fuse 16 needs to be arranged independently of a normal transistor region in order to perform cutting by a laser device in a manufacturing process. For this reason, a normal transistor area is restricted, and as a result, it may be a factor to increase the chip size.

【0015】更に、チップ内にフューズ領域が離散して
いる場合、レーザー装置でのフューズ切断に要する時間
が増加し生産のスループットを低下させる要因ともなり
うる。
Further, when the fuse regions are discrete in the chip, the time required for fuse cutting by the laser device increases, which may cause a reduction in production throughput.

【0016】このように、素子自体の短絡あるいは開放
状態が任意に設定可能である複数の導通状態選択素子
(例えば、図9に示すフューズ16等)を有し、当該複
数の導通状態選択素子の短絡あるいは開放状態に基づい
て回路機能あるいは回路動作が変更される回路部を具備
する半導体集積回路装置においては、複数の導通状態選
択素子は、回路部内に配置しなければならないためにレ
イアウト上の制約となり、回路設計の自由度が損なわれ
る。
As described above, there are a plurality of conduction state selection elements (for example, the fuse 16 shown in FIG. 9) in which the short-circuit or open state of the element itself can be arbitrarily set. In a semiconductor integrated circuit device having a circuit part whose circuit function or circuit operation is changed based on a short circuit or an open state, a plurality of conduction state selection elements must be arranged in the circuit part, so that layout restrictions are imposed. And the degree of freedom in circuit design is impaired.

【0017】また、複数の導通状態選択素子は、例え
ば、製造工程の中でレーザー装置による切断を行うため
に通常のトランジスタ領域とは独立に配置する必要があ
る。このため通常のトランジスタ領域を制限し、結果的
に半導体集積回路装置(チップサイズ)を増大させる要
因ともなり、さらに、半導体集積回路装置内に複数の導
通状態選択素子の形成領域が離散している場合、複数の
導通状態選択素子の短絡あるいは開放に要する時間が増
加し生産性を低下させる要因となるという問題点があっ
た。
Further, the plurality of conduction state selecting elements need to be arranged independently of a normal transistor region, for example, in order to perform cutting by a laser device in a manufacturing process. For this reason, the normal transistor area is limited, which results in an increase in the size of the semiconductor integrated circuit device (chip size). Further, the formation regions of the plurality of conduction state selection elements are discrete in the semiconductor integrated circuit device. In this case, there is a problem that the time required for short-circuiting or opening of the plurality of conduction state selection elements increases, which causes a decrease in productivity.

【0018】本発明は、前記従来技術の問題点を解決す
るためになされたものであり、本発明の目的は、半導体
集積回路装置において、素子自体の短絡あるいは開放状
態が任意に設定可能である導通状態選択素子を、半導体
集積回路装置内の任意の位置に配置できるようにして、
回路設計の自由度を向上させることが可能となる技術を
提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, and an object of the present invention is to set a short circuit or open state of an element itself in a semiconductor integrated circuit device. The conduction state selection element can be arranged at any position in the semiconductor integrated circuit device,
It is an object of the present invention to provide a technique capable of improving the degree of freedom in circuit design.

【0019】本発明の他の目的は、半導体集積回路装置
において、素子自体の短絡あるいは開放状態が任意に設
定可能である導通状態選択素子を、半導体集積回路装置
内の特定の位置に集中的に配置できるようにして、生産
性を向上させることが可能となる技術を提供することに
ある。
Another object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device in which a conduction state selecting element whose element itself can be arbitrarily set to a short circuit or an open state is concentrated at a specific position in the semiconductor integrated circuit device. It is an object of the present invention to provide a technology that can improve the productivity by enabling the arrangement.

【0020】本発明の前記目的並びにその他の目的及び
新規な特徴は、本明細書の記載及び添付図面によって明
らかにする。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0021】[0021]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記の通りである。
SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, the outline of a representative one will be briefly described.
It is as follows.

【0022】素子自体の短絡あるいは開放状態が任意に
設定可能である導通状態選択素子を複数有し、当該複数
の導通状態選択素子の短絡あるいは開放状態に基づいて
回路機能あるいは回路動作が変更される回路部を具備す
る半導体集積回路装置において、前記複数の導通状態選
択素子の短絡あるいは開放状態を表す状態情報が、それ
ぞれ格納される複数のフリップフロップで構成される第
1のシフトレジスタ回路と、シリアル転送動作により、
前記第1のシフトレジスタ回路に格納された前記複数の
導通状態選択素子の状態情報が、それぞれ格納される複
数のフリップフロップで構成される第2のシフトレジス
タと、前記第2のシフトレジスタ回路に格納された前記
複数の導通状態選択素子の状態情報に基づき回路機能あ
るいは回路動作を変更する回路動作変更手段と、前記第
1のシフトレジスタ回路と第2のシフトレジスタ回路と
の間のシリアル転送動作を制御する制御手段とを備え、
前記複数の導通状態選択素子の形成領域と、前記複数の
導通状態選択素子以外の回路素子の形成領域とを分離す
ることを特徴とする。
A plurality of conduction state selection elements whose short-circuit or open state of the element itself can be set arbitrarily are provided, and a circuit function or circuit operation is changed based on the short-circuit state or the open state of the plurality of conduction state selection elements. In a semiconductor integrated circuit device having a circuit unit, a first shift register circuit including a plurality of flip-flops each storing state information indicating a short-circuit state or an open state of the plurality of conductive state selection elements; By the transfer operation,
The second shift register including a plurality of flip-flops each storing the state information of the plurality of conduction state selection elements stored in the first shift register circuit, and the second shift register circuit. Circuit operation changing means for changing a circuit function or a circuit operation based on the stored state information of the plurality of conduction state selection elements, and a serial transfer operation between the first shift register circuit and the second shift register circuit Control means for controlling the
A region where the plurality of conduction state selection elements are formed and a region where circuit elements other than the plurality of conduction state selection elements are formed are separated.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】以下、本発明を半導体メモリ(D
RAM)の冗長救済回路に適用した実施の形態を図面を
参照して詳細に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described with reference to a semiconductor memory (D).
An embodiment applied to a redundancy relief circuit (RAM) will be described in detail with reference to the drawings.

【0024】なお、発明の実施の形態を説明するための
全図において、同一機能を有するものは同一符号を付
け、その繰り返しの説明は省略する。
In all the drawings for describing the embodiments of the present invention, components having the same functions are denoted by the same reference numerals, and their repeated description will be omitted.

【0025】[実施の形態1]図1は、本発明の一実施
の形態である半導体メモリ(DRAM)の冗長救済回路
を示す回路図である。
[First Embodiment] FIG. 1 is a circuit diagram showing a redundancy repair circuit of a semiconductor memory (DRAM) according to an embodiment of the present invention.

【0026】なお、同図において、図9に示す冗長救済
回路と同じ部分については、図9と同一の符号を付し、
その部分の説明は省略する。
In the figure, the same parts as those of the redundancy repair circuit shown in FIG. 9 are denoted by the same reference numerals as in FIG.
The description of that part is omitted.

【0027】本実施の形態の冗長救済回路は、例えば、
故障しているワード線等の救済ワード線のアドレス情報
を表すフューズ情報(本発明の複数の導通状態選択素子
の短絡あるいは開放状態を表す情報)が格納される第1
のシフトレジスタ41と、この第1のシフトレジスタ4
1からのシリアル出力FDが入力される救済ワード線ア
ドレスデコード回路50と、シリアル転送制御用の停止
信号ST(以下、ST信号と称する。)とクロック信号
CLK(以下、CLK信号と称する。)とが入力される
NOR回路49から構成される。
The redundancy repair circuit of this embodiment is, for example,
Fuse information indicating address information of a repair word line such as a failed word line (information indicating a short or open state of a plurality of conductive state selection elements of the present invention) is stored.
And the first shift register 4
1, a relief word line address decode circuit 50 to which a serial output FD is input, a stop signal ST for serial transfer control (hereinafter referred to as ST signal), and a clock signal CLK (hereinafter referred to as CLK signal). Is input to a NOR circuit 49.

【0028】第1のシフトレジスタ41は、フリップフ
ロップ(FF1)(41a〜41n)と、フューズ(1
6a〜16n)、およびQ出力がHレベルに固定され、
シリアル転送完了時のHレベルのフラグ情報を出力する
転送先頭ビット用のフリップフロップ(FF1)44と
を備える。
The first shift register 41 includes a flip-flop (FF1) (41a to 41n) and a fuse (1
6a to 16n), and the Q output is fixed at the H level,
A flip-flop (FF1) 44 for the first bit of the transfer, which outputs H-level flag information when the serial transfer is completed.

【0029】救済ワード線アドレスデコード回路50
は、フリップフロップ(FF2)(51a〜51n,5
4)で構成されるシフトレジスタ51と、デコードアド
レス設定回路52とを備える。フリップフロップ(FF
2)54からは、ST信号が出力される。
Relief word line address decode circuit 50
Are flip-flops (FF2) (51a to 51n, 5
4) and a decode address setting circuit 52. Flip-flop (FF
2) The ST signal is output from 54.

【0030】なお、フューズ(16a〜16n)が、本
発明における、素子自体の短絡あるいは開放状態が任意
に設定可能な導通状態選択素子を構成する。
The fuses (16a to 16n) constitute a conduction state selecting element according to the present invention in which the short-circuit or open state of the element itself can be arbitrarily set.

【0031】図2は、図1に示すデコードアドレス設定
回路52の回路構成を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a circuit configuration of decode address setting circuit 52 shown in FIG.

【0032】同図に示すように、デコードアドレス設定
回路52は、アドレス信号(Ai,/Ai,Aj,/A
j;なお、/は反転信号を表す。)がゲート電極(以
下、単にゲートと称す。)に入力されるn型MOSトラ
ンジスタ(以下、NMOSと称す。)(54a〜54
n)と、フリップフロップ(FF2)(51a〜51
n)のQ出力がゲートに入力されるNMOS(53a〜
53n)とを備える。
As shown in FIG. 3, the decode address setting circuit 52 supplies address signals (Ai, / Ai, Aj, / A
j; / represents an inverted signal. ) Is input to a gate electrode (hereinafter, simply referred to as a gate) of an n-type MOS transistor (hereinafter, referred to as an NMOS) (54a to 54).
n) and flip-flops (FF2) (51a-51)
n) NMOSs (53a-53) whose Q output is input to the gate
53n).

【0033】図3は、本実施の形態の冗長救済回路のタ
イミングチャートを示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a timing chart of the redundancy repair circuit of the present embodiment.

【0034】以下、本実施の形態の冗長救済回路の動作
について説明する。
The operation of the redundancy repair circuit according to the present embodiment will be described below.

【0035】リセット信号RST(以下、RST信号と
称する。)は、パワーオン時に一定期間Hレベルとなる
信号である。CLK信号は、RST信号をトリガとして
クロック動作を開始する発振器からのクロック信号であ
り、例えば、セルフリフレッシュで用いるリングオシレ
ータからのクロック信号である。
A reset signal RST (hereinafter, referred to as an RST signal) is a signal which becomes H level for a certain period at power-on. The CLK signal is a clock signal from an oscillator that starts a clock operation using the RST signal as a trigger, for example, a clock signal from a ring oscillator used for self-refresh.

【0036】シリアル転送用クロック信号SCK(以
下、SCK信号と称する。)は、NOR回路49からの
出力信号であり、ST信号とCLK信号とのNOR論理
をとった信号である。
The serial transfer clock signal SCK (hereinafter, referred to as SCK signal) is an output signal from the NOR circuit 49, and is a signal obtained by taking NOR logic of the ST signal and the CLK signal.

【0037】パワーオン時にRST信号が出力される
と、救済ワード線アドレスデコード回路50内のフリッ
プフロップ(FF2)(51a〜51n,54)のQ出
力は全てLレベルにリセットされる。これと同時に、フ
ューズ情報を格納する第1のシフトレジスタ41内のフ
リップフロップ(FF1)(41a〜41n)には、そ
れぞれ接続されるフューズ(16a〜16n)のフュー
ズ情報(フューズ16の短絡あるいは開放状態を表す情
報)が一斉にラッチされる。
When the RST signal is output at power-on, the Q outputs of the flip-flops (FF2) (51a to 51n, 54) in the relief word line address decode circuit 50 are all reset to L level. At the same time, the flip-flops (FF1) (41a to 41n) in the first shift register 41 that store the fuse information have the fuse information (short or open of the fuse 16) of the connected fuse (16a to 16n). (Information indicating a state) are simultaneously latched.

【0038】これら全てのフリップフロップの論理が確
定した後、これまでHレベルに固定されていたCLK信
号がクロック動作を開始する。
After the logics of all the flip-flops are determined, the CLK signal which has been fixed at the H level starts the clock operation.

【0039】NOR回路49に入力されるST信号は、
転送先頭ビット用のフリップフロップ(FF1)44か
らのフラグ(Hレベル)情報がシフトレジスタ51の最
終段のフリップフロップ54に到達するまでLレベルに
維持されている。
The ST signal input to the NOR circuit 49 is
The flag (H level) information from the transfer head bit flip-flop (FF1) 44 is maintained at L level until it reaches the last flip-flop 54 of the shift register 51.

【0040】したがって、SCK信号はCLK信号の反
転信号となり、このSCK信号は各シフトレジスタに入
力される。各シフトレジスタはSCK信号の立ち上がり
エッジに同期してラッチデータのシフト動作を継続す
る。このシフト動作は、フリップフロップ(FF1)4
4からのフラグ(Hレベル)情報が、救済ワード線アド
レスデコード回路50内のシフトレジスタ51を全て通
過し、最終段のフリップフロップ54にラッチされるま
で繰り返される。
Therefore, the SCK signal becomes an inverted signal of the CLK signal, and this SCK signal is input to each shift register. Each shift register continues the operation of shifting the latch data in synchronization with the rising edge of the SCK signal. This shift operation is performed by flip-flop (FF1) 4
The flag (H level) information from No. 4 passes through all the shift registers 51 in the relief word line address decode circuit 50, and is repeated until it is latched by the flip-flop 54 at the last stage.

【0041】この結果、フリップフロップ(41a〜4
1n)にラッチされたフューズ情報は、フリップフロッ
プ(51a〜51n)に全て取り込まれる。このフュー
ズ情報により、デコードアドレス設定回路52内の所定
のNMOS(53a〜53n)がオンとなり、デコード
アドレス設定回路52に故障しているワード線のアドレ
スが確定される。
As a result, the flip-flops (41a to 41a-4)
The fuse information latched in 1n) is entirely taken into the flip-flops (51a to 51n). Based on the fuse information, predetermined NMOSs (53a to 53n) in the decode address setting circuit 52 are turned on, and the address of the word line in which the decode address setting circuit 52 has a failure is determined.

【0042】冗長ワード線のデコーダ出力17の確定以
降の動作は、図9と同じであるためここでの詳細説明は
省略する。これにより、正規ワード線WLaと冗長ワー
ド線RWLaが置換され正常なメモリ動作ができるよう
になる。
The operation after the determination of the decoder output 17 of the redundant word line is the same as that of FIG. 9, so that the detailed description is omitted here. As a result, the normal word line WLa and the redundant word line RWLa are replaced, and a normal memory operation can be performed.

【0043】図4は、図1に示すフリップフロップ(F
F1)の回路構成を示す回路図とその真理値表を示す図
である。
FIG. 4 shows the flip-flop (F) shown in FIG.
FIG. 2 is a circuit diagram illustrating a circuit configuration of F1) and a diagram illustrating a truth table thereof.

【0044】同図において、PM1〜PM4はPMO
S、NM1〜NM5はNMOS、INV1〜INV6は
インバータ、TG1,TG2はトランスファゲート、N
AND1はNAND回路、NOR1はNOR回路であ
る。また、CはSCK信号が入力されるクロック端子、
RはRST信号が入力されるリセット端子、Dはラッチ
データ(シリアル出力FD)が入力されるラッチデータ
入力端子、Qはラッチデータ(シリアル出力FD)が出
力されるラッチデータ出力端子、Fはフューズ16が接
続されるイニシャルデータ端子である。
In the figure, PM1 to PM4 are PMO
S, NM1 to NM5 are NMOS, INV1 to INV6 are inverters, TG1 and TG2 are transfer gates, N
AND1 is a NAND circuit, and NOR1 is a NOR circuit. C is a clock terminal to which the SCK signal is input,
R is a reset terminal to which an RST signal is input, D is a latch data input terminal to which latch data (serial output FD) is input, Q is a latch data output terminal to which latch data (serial output FD) is output, and F is a fuse. An initial data terminal 16 is connected.

【0045】次に、図4に示すフリップフロップ(FF
1)の動作を簡単に説明する。
Next, the flip-flop (FF) shown in FIG.
The operation of 1) will be briefly described.

【0046】始めに、リセット端子RにHレベルのRS
T信号が入力されると、NMOS(NM5)がオンとな
り、インバータ(INV4)とインバータ(INV5)
とで構成されるラッチ回路に、イニシャルデータ端子F
に接続されるフューズ情報がラッチされる。
First, an H-level RS is applied to the reset terminal R.
When the T signal is input, the NMOS (NM5) turns on, and the inverter (INV4) and the inverter (INV5)
And the initial data terminal F
Is latched.

【0047】例えば、イニシャルデータ端子Fにフュー
ズ16が接続されていない場合には、インバータ(IN
V4)の出力がLレベル、インバータ(INV6)の出
力がHレベルとなり、トランスファゲート(TG1)が
オンとなる。ここで、NAND回路(NAND1)に
は、インバータ(INV2)で反転されたLレベルのR
ST信号が入力されるので、NAND回路(NAND
1)の出力はHレベルとなる。
For example, when the fuse 16 is not connected to the initial data terminal F, the inverter (IN
The output of V4) goes low, the output of the inverter (INV6) goes high, and the transfer gate (TG1) turns on. Here, the NAND circuit (NAND1) has the L-level R inverted by the inverter (INV2).
Since the ST signal is input, the NAND circuit (NAND)
The output of 1) becomes H level.

【0048】これにより、NMOS(NM3)がオンと
なり、また、クロック端子Cに入力されるSCK信号は
Lレベルであるので、PMOS(PM4)とNMOS
(NM4)とがオンとなり、インバータ(INV3)の
入力端子が接続されるノードはLレベルとなり、インバ
ータ(INV3)からHレベルが出力される。
As a result, the NMOS (NM3) is turned on, and the SCK signal input to the clock terminal C is at the L level.
(NM4) is turned on, the node to which the input terminal of the inverter (INV3) is connected becomes L level, and the inverter (INV3) outputs H level.

【0049】一方、イニシャルデータ端子Fにフューズ
16が接続されている場合には、インバータ(INV
4)の出力がHレベル、インバータ(INV6)の出力
がLレベルとなり、トランスファゲート(TG2)がオ
ンとなる。ここで、NOR回路(NOR1)には、Hレ
ベルのRST信号が入力されるので、NOR回路(NO
R1)の出力はLレベルとなる。
On the other hand, when the fuse 16 is connected to the initial data terminal F, the inverter (INV
The output of 4) becomes H level, the output of the inverter (INV6) becomes L level, and the transfer gate (TG2) is turned on. Here, since the RST signal at the H level is input to the NOR circuit (NOR1), the NOR circuit (NO
The output of R1) becomes L level.

【0050】これにより、PMOS(PM3)がオンと
なり、また、クロック端子Cに入力されるSCK信号は
Lレベルであるので、PMOS(PM4)とNMOS
(NM4)とがオンとなり、インバータ(INV3)の
入力端子が接続されるノードはHレベルとなり、インバ
ータ(INV3)からLレベルが出力される。
As a result, the PMOS (PM3) is turned on, and the SCK signal input to the clock terminal C is at L level.
(NM4) is turned on, the node to which the input terminal of the inverter (INV3) is connected becomes H level, and the inverter (INV3) outputs L level.

【0051】RST信号がLレベルに立ち下がっても、
インバータ(INV4)とインバータ(INV5)とで
構成されるラッチ回路により、前記した状態は維持され
る。
Even if the RST signal falls to the L level,
The above state is maintained by the latch circuit composed of the inverter (INV4) and the inverter (INV5).

【0052】次に、CLK信号がクロック動作を開始す
ると、SCK信号もクロック動作を開始する。クロック
端子Cに入力されるSCK信号がHレベルとなると、P
MOS(PM2)とNMOS(NM2)とがオンとな
り、ラッチデータ入力端子Dに入力されるラッチデータ
のHレベル、あるいはLレベルに応じて、インバータ
(INV3)の入力端子が接続されるノードはLレベ
ル、あるいはHレベルとなり、インバータ(INV3)
からラッチデータ入力端子Dに入力されるラッチデータ
のHレベル、あるいはLレベルが出力される。即ち、ラ
ッチデータが、SCK信号に同期してシフトレジスタ4
1内を転送される。
Next, when the CLK signal starts the clock operation, the SCK signal also starts the clock operation. When the SCK signal input to the clock terminal C goes high,
The MOS (PM2) and the NMOS (NM2) are turned on, and the node to which the input terminal of the inverter (INV3) is connected to the L level according to the H level or the L level of the latch data input to the latch data input terminal D. Level or H level, and the inverter (INV3)
Outputs the H level or the L level of the latch data input to the latch data input terminal D. That is, the latch data is synchronized with the SCK signal and the shift register 4
1 is transferred.

【0053】この転送動作の期間内に、SCK信号がL
レベルの場合、NAND回路(NAND1)およびトラ
ンスファゲート(TG1)(あるいはNOR回路(NO
R1)およびトランスファゲート(TG2))により、
PMOS(PM3)あるいはNMOS(NM3)がオン
となり、インバータ(INV3)の入力端子が接続され
るノードの電圧レベルは、HレベルあるいはLレベルに
保持される。
During the period of this transfer operation, the SCK signal becomes L
Level, the NAND circuit (NAND1) and the transfer gate (TG1) (or the NOR circuit (NO
R1) and the transfer gate (TG2))
The PMOS (PM3) or NMOS (NM3) is turned on, and the voltage level of the node to which the input terminal of the inverter (INV3) is connected is maintained at H level or L level.

【0054】図5は、図1に示すフリップフロップ(F
F2)の回路構成を示す回路図とその真理値表を示す図
である。
FIG. 5 shows the flip-flop (F) shown in FIG.
FIG. 2 is a circuit diagram illustrating a circuit configuration of F2) and a diagram illustrating a truth table thereof.

【0055】同図において、PM11〜PM14はPM
OS、NM11〜NM14はNMOS、INV11〜I
NV12はインバータ、NOR11はNOR回路であ
る。
In the figure, PM11 to PM14 are PM
OS, NM11 to NM14 are NMOS, INV11 to I
NV12 is an inverter, and NOR11 is a NOR circuit.

【0056】次に、図5に示すフリップフロップ(FF
2)の動作を簡単に説明する。
Next, the flip-flop (FF) shown in FIG.
The operation 2) will be briefly described.

【0057】始めに、リセット端子RにHレベルのRS
T信号が入力されると、NOR回路(NOR11)の出
力はLレベルとなり、PMOS(PM13)がオンとな
る。また、クロック端子Cに入力されるSCK信号はL
レベルであり、PMOS(PM14)とNMOS(NM
14)とがオンとなるので、インバータ(INV12)
の入力端子が接続されるノードはHレベルとなり、イン
バータ(INV12)からLレベルが出力される。
First, an H level RS is applied to the reset terminal R.
When the T signal is input, the output of the NOR circuit (NOR11) becomes L level, and the PMOS (PM13) turns on. The SCK signal input to the clock terminal C is L
Level, and the PMOS (PM14) and NMOS (NM
14) is turned on, the inverter (INV12)
Is connected to the H level, and the inverter (INV12) outputs the L level.

【0058】RST信号がLレベルに立ち下がっても、
NOR回路(NOR11)の一方の端子には、Hレベル
が入力されるので、NOR回路(NOR11)からはL
レベルが出力される。
Even if the RST signal falls to the L level,
Since the H level is input to one terminal of the NOR circuit (NOR11), the L level is output from the NOR circuit (NOR11).
The level is output.

【0059】次に、CLK信号がクロック動作を開始す
ると、SCK信号もクロック動作を開始する。クロック
端子Cに入力されるSCK信号がHレベルとなると、P
MOS(PM12)とNMOS(NM12)とがオンと
なり、ラッチデータ入力端子Dに入力されるラッチデー
タのHレベル、あるいはLレベルに応じて、インバータ
(INV12)の入力端子が接続されるノードはLレベ
ル、あるいはHレベルとなり、インバータ(INV1
2)からラッチデータ入力端子Dに入力されるラッチデ
ータのHレベル、あるいはLレベルが出力される。即
ち、ラッチデータが、SCK信号に同期してシフトレジ
スタ51内を転送される。
Next, when the CLK signal starts the clock operation, the SCK signal also starts the clock operation. When the SCK signal input to the clock terminal C goes high,
The MOS (PM12) and the NMOS (NM12) are turned on, and the node to which the input terminal of the inverter (INV12) is connected to the L level according to the H level or the L level of the latch data input to the latch data input terminal D. Level or H level, and the inverter (INV1
The H level or the L level of the latch data input to the latch data input terminal D from 2) is output. That is, the latch data is transferred in the shift register 51 in synchronization with the SCK signal.

【0060】この転送動作の期間内に、SCK信号がL
レベルの場合、NOR回路(NOR11)により、PM
OS(PM13)あるいはNMOS(NM13)がオン
となり、インバータ(INV13)の入力端子が接続さ
れるノードの電圧レベルは、HレベルあるいはLレベル
に保持される。
During the period of this transfer operation, the SCK signal becomes L
Level, the NOR circuit (NOR11) sets the PM
The OS (PM13) or the NMOS (NM13) is turned on, and the voltage level of the node to which the input terminal of the inverter (INV13) is connected is maintained at the H level or the L level.

【0061】図6は、従来の半導体メモリ(DRAM)
のチップレイアウトの一例を示す図である。
FIG. 6 shows a conventional semiconductor memory (DRAM).
FIG. 3 is a diagram showing an example of a chip layout.

【0062】同図において、101Aないし101Dは
メモリセルアレイであり、各メモリセルアレイ(101
A〜101D)には、正規メモリセルアレイ5と冗長救
済用メモリセルアレイ3が設けられる。
In the figure, reference numerals 101A to 101D denote memory cell arrays, and each memory cell array (101
A-101D) are provided with a normal memory cell array 5 and a redundant relief memory cell array 3.

【0063】また、102Aないし102Dは、データ
線デコード回路(図示せず)が設けられる領域であり、
103Aないし103Dは、正規ワード線デコード回路
4、および冗長ワード線デコード回路2が設けられる領
域である。
Reference numerals 102A to 102D denote regions where data line decoding circuits (not shown) are provided.
103A to 103D are areas where the normal word line decode circuit 4 and the redundant word line decode circuit 2 are provided.

【0064】さらに、104は周辺回路および外部端子
(ボンディングパッド)105が設けられる領域であ
り、この領域104に設けられる周辺回路としては、読
み出し/書込み回路6、メインアンプ回路、入力/出力
バッファ回路、電源回路、アドレスバッファ回路、リン
グオシレータ等のクロック生成回路等が設けられる。
(なお、メインアンプ回路、入力/出力バッファ回路、
電源回路、アドレスバッファ回路、リングオシレータ等
のクロック生成回路は、いずれも図示していない)ま
た、領域104において、各周辺回路は、外部端子10
5が設けられる領域以外の領域に設けられる。したがっ
て、従来の半導体メモリにおいては、外部端子105付
近の領域は、無効な領域であった。
Reference numeral 104 denotes a region where peripheral circuits and external terminals (bonding pads) 105 are provided. The peripheral circuits provided in this region 104 include a read / write circuit 6, a main amplifier circuit, and an input / output buffer circuit. And a clock generation circuit such as a power supply circuit, an address buffer circuit, and a ring oscillator.
(Note that the main amplifier circuit, input / output buffer circuit,
Clock generator circuits such as a power supply circuit, an address buffer circuit, and a ring oscillator are not shown.) In the region 104, each peripheral circuit is connected to an external terminal 10
5 is provided in an area other than the area in which 5 is provided. Therefore, in the conventional semiconductor memory, the area near the external terminal 105 is an invalid area.

【0065】しかしながら、本実施の形態の冗長救済回
路によれば、フューズ(16a〜16n)は、半導体チ
ップ内で自由に配置することができるので、通常のトラ
ンジスタ領域とは全く独立に、例えば、フューズ(16
a〜16n)を、外部端子(図6に示す105)付近
の、従来は無効領域であった部分へ配置することでチッ
プサイズを低減することが可能となる。
However, according to the redundancy repair circuit of the present embodiment, the fuses (16a to 16n) can be freely arranged in the semiconductor chip. Fuse (16
a to 16n) can be reduced in the vicinity of the external terminal (105 shown in FIG. 6) in a portion which was conventionally an invalid area, thereby reducing the chip size.

【0066】このフューズ(16a〜16n)情報は、
シリアル転送方式により冗長ワード線デコード回路50
に転送されるので、フューズ(16a〜16n)情報を
伝送する信号線は1本でよく、フューズ(16a〜16
n)を冗長ワード線デコード回路50から分離したこと
に伴う信号配線領域の増加を最小限に留めることが可能
となる。
The fuse (16a to 16n) information is
Redundant word line decoding circuit 50 by serial transfer method
, The signal line for transmitting the fuse (16a to 16n) information may be one, and the fuse (16a to 16n)
It is possible to minimize the increase in the signal wiring area due to the separation of n) from the redundant word line decoding circuit 50.

【0067】これにより、本実施の形態によれば、冗長
救済用のフューズ(16a〜16n)のフロアプランで
の制限を回避することができ、回路設計の自由度を向上
させることが可能となる。さらに、フューズ(16a〜
16n)を特定領域、例えば、外部端子(図6に示す1
05)付近に集中的に配置することで生産性を向上させ
ることが可能となる。
As a result, according to the present embodiment, it is possible to avoid the restriction in the floor plan of the fuses (16a to 16n) for redundancy relief, and it is possible to improve the degree of freedom in circuit design. . Furthermore, fuses (16a-
16n) to a specific region, for example, an external terminal (1 shown in FIG. 6)
05) By arranging them intensively in the vicinity, it is possible to improve the productivity.

【0068】[実施の形態2]図7は、本発明の他の実
施の形態における半導体メモリ(DRAM)の冗長救済
回路を示す回路図である。
[Second Embodiment] FIG. 7 is a circuit diagram showing a redundancy repair circuit of a semiconductor memory (DRAM) according to another embodiment of the present invention.

【0069】なお、同図において、図1に示す前記実施
の形態の冗長救済回路と同じ部分については、その部分
の説明は省略する。
In the figure, the description of the same parts as those of the redundancy repair circuit of the embodiment shown in FIG. 1 will be omitted.

【0070】本実施の形態の冗長救済回路は、前記文献
(イ)に記載されているフューズ付きライン予備デコー
ダ方式の冗長救済回路において、フューズ部をフリップ
フロップに置換しシフトレジスタによるフューズ情報の
シリアル転送を適用した実施の形態である。
The redundancy repair circuit of this embodiment is the same as the redundancy repair circuit of the line spare decoder system with fuse described in the above document (a), except that the fuse section is replaced with a flip-flop, and the fuse information is serialized by a shift register. This is an embodiment to which transfer is applied.

【0071】本実施の形態の冗長救済回路は、ワード線
の救済アドレス情報以外に、ワード線の接続又は切り離
しを制御するためのフューズ情報が格納されるシフトレ
ジスタ70と、シフトレジスタ70からのシリアル出力
FDが入力され、冗長ワード線RWLaの接続又は切り
離しを制御するフリップフロップ(FF3)55を備え
た冗長ワード線デコード回路73と、フリップフロップ
(FF3)55からの出力が入力され、正規ワード線W
Laの接続又は切り離しを制御するフリップフロップ
(FF3)56を備えた正規ワード線デコーダ回路76
と、フリップフロップ(FF3)56からの出力が入力
されるフリップフロップ(FF2)54と、フリップフ
ロップ(FF2)54からの出力(ST信号)と、CL
K信号とが入力されるNOR回路49から構成される。
The redundancy rescue circuit of this embodiment includes a shift register 70 storing fuse information for controlling connection or disconnection of a word line, in addition to the rescue address information of a word line, and a serial register from the shift register 70. An output FD is input, a redundant word line decoding circuit 73 including a flip-flop (FF3) 55 for controlling connection or disconnection of the redundant word line RWLa, and an output from the flip-flop (FF3) 55 is input, and a normal word line is input. W
Normal word line decoder circuit 76 including flip-flop (FF3) 56 for controlling connection / disconnection of La
, A flip-flop (FF2) 54 to which an output from the flip-flop (FF3) 56 is input, an output (ST signal) from the flip-flop (FF2) 54, and CL
It comprises a NOR circuit 49 to which the K signal is input.

【0072】本実施の形態の冗長救済回路の基本的な動
作は、前記実施の形態と同じであるが、本実施の形態の
冗長救済回路では、ワード線の救済アドレス情報以外
に、冗長ワード線RWLaおよび正規ワード線WLaの
接続又は切り離しを制御するためのフューズ(16o,
16p)のフューズ情報がシリアル転送によって、フリ
ップフロップ(FF3)(55,56)に取り込まれ
る。
The basic operation of the redundancy repair circuit of the present embodiment is the same as that of the above-described embodiment. However, in the redundancy repair circuit of the present embodiment, in addition to the redundancy address information of the word line, the redundancy word line Fuse (16o, 16o, 16) for controlling connection or disconnection of RWLa and normal word line WLa.
The 16p) fuse information is taken into the flip-flops (FF3) (55, 56) by serial transfer.

【0073】本実施の形態において、冗長救済の場合、
フューズ情報のシリアル転送完了時点で、冗長ワード線
デコード回路73内のフリップフロップ(FF3)55
はHレベルとなり冗長ワード線RWLaは選択状態とな
る。一方、正規ワード線デコーダ回路76内のフリップ
フロップ(FF3)56はLレベルとなり正規ワード線
WLaは非選択状態となる。したがって、前記実施の形
態同様に正常なメモリ動作が出来るようになる。
In this embodiment, in the case of the redundancy repair,
When the serial transfer of the fuse information is completed, the flip-flop (FF3) 55 in the redundant word line decode circuit 73
Is at H level and the redundant word line RWLa is in a selected state. On the other hand, the flip-flop (FF3) 56 in the normal word line decoder circuit 76 becomes L level, and the normal word line WLa is in a non-selected state. Therefore, a normal memory operation can be performed as in the above-described embodiment.

【0074】図8は、図7に示すフリップフロップ(F
F3)の回路構成を示す回路図とその真理値表である。
FIG. 8 shows the flip-flop (F) shown in FIG.
3 is a circuit diagram showing a circuit configuration of F3) and a truth table thereof.

【0075】同図において、PM21〜PM24はPM
OS、NM21〜NM24はNMOS、INV21〜I
NV22はインバータ、NOR21はNOR回路、AN
D21はAND回路である。また、Iはワード線駆動用
パルスが入力されるデータ端子Iと、Oはワード線駆動
用パルスが出力されるデータ出力端子である。
In the figure, PM21 to PM24 are PM
OS, NM21 to NM24 are NMOS, INV21 to INV21
NV22 is an inverter, NOR21 is a NOR circuit, AN
D21 is an AND circuit. I is a data terminal I to which a word line driving pulse is input, and O is a data output terminal to which a word line driving pulse is output.

【0076】次に、図8に示すフリップフロップ(FF
3)について簡単に説明する。
Next, the flip-flop (FF) shown in FIG.
3) will be briefly described.

【0077】図8に示すフリップフロップ(FF3)に
おいて、ラッチデータの転送動作は、図5に示すフリッ
プフロップ(FF2)と同じである。
The operation of transferring the latch data in the flip-flop (FF3) shown in FIG. 8 is the same as that of the flip-flop (FF2) shown in FIG.

【0078】しかしながら、フューズ情報のシリアル転
送完了時点で、冗長ワード線デコード回路73内のフリ
ップフロップ(FF3)55がHレベルとなると、端子
RXに印加されるワード線駆動パルスはAND回路(A
ND21)を経て冗長ワード線RWLaに出力される。
また、フューズ情報のシリアル転送完了時点で、正規ワ
ード線デコーダ回路76内のフリップフロップ(FF
3)56がLレベルとなると、AND回路(AND2
1)の出力はLレベルとなり、端子RXに印加されるワ
ード線駆動パルスは正規ワード線WLaに出力されな
い。
However, when the flip-flop (FF3) 55 in the redundant word line decoding circuit 73 becomes H level at the time of completion of the serial transfer of the fuse information, the word line driving pulse applied to the terminal RX becomes the AND circuit (A
ND21) to the redundant word line RWLa.
When the serial transfer of the fuse information is completed, the flip-flop (FF) in the normal word line decoder circuit 76 is set.
3) When 56 becomes L level, the AND circuit (AND2
The output of 1) becomes L level, and the word line drive pulse applied to the terminal RX is not output to the normal word line WLa.

【0079】なお、前記各実施の形態では、フューズ1
6を使用した場合について説明したが、これに限定され
るものではなく、ダイオード等の半導体素子を使用する
ことも可能である。
In each of the above embodiments, the fuse 1
Although the case of using No. 6 has been described, the present invention is not limited to this, and a semiconductor element such as a diode can be used.

【0080】また、前記各実施の形態では、本発明をワ
ード線デコーダ回路に適用した場合について説明した
が、本発明はこれに限定されるものではなく、ビット線
デコーダ回路にも適用可能である。
In each of the above embodiments, the case where the present invention is applied to a word line decoder circuit has been described. However, the present invention is not limited to this, and can be applied to a bit line decoder circuit. .

【0081】また、前記各実施の形態では、本発明をD
RAMに適用した場合について説明したが、本発明はこ
れに限定されるものではなく、本発明は、SRAM等の
冗長救済回路を具備する全ての半導体メモリに適用可能
であることは言うまでもない。
In each of the above-described embodiments, the present invention
Although the case where the present invention is applied to a RAM has been described, the present invention is not limited to this, and it goes without saying that the present invention is applicable to all semiconductor memories including a redundancy repair circuit such as an SRAM.

【0082】さらに、本発明は、フューズをレーザ装置
等で切断して、タイミングを調整する回路(例えば、遅
延回路の動作タイミングマージンの調整等)、あるい
は、しきい値電圧を調整する回路等に対しても適用可能
である。
Further, the present invention provides a circuit for adjusting the timing by cutting the fuse with a laser device or the like (for example, adjusting the operation timing margin of a delay circuit), or a circuit for adjusting the threshold voltage. It is also applicable.

【0083】以上、本発明を発明の実施の形態に基づき
具体的に説明したが、本発明は、前記発明の実施の形態
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更し得ることは言うまでもない。
Although the present invention has been specifically described based on the embodiments of the present invention, the present invention is not limited to the embodiments of the present invention, and various modifications may be made without departing from the gist of the present invention. It goes without saying that you get it.

【0084】[0084]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。
The effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0085】(1)本発明によれば、素子自体の短絡あ
るいは開放状態が任意に設定可能である導通状態選択素
子を複数有し、当該複数の導通状態選択素子の短絡ある
いは開放状態に基づいて回路機能あるいは回路動作が変
更される回路部を具備する半導体集積回路装置におい
て、複数の導通状態選択素子を半導体集積回路装置内の
任意の位置に自由に配置することが可能となる。
(1) According to the present invention, there are provided a plurality of conductive state selecting elements whose short-circuit or open state of the element itself can be arbitrarily set, and based on the short-circuited or open state of the plurality of conductive state selecting elements. In a semiconductor integrated circuit device provided with a circuit part whose circuit function or circuit operation is changed, it is possible to freely arrange a plurality of conduction state selecting elements at arbitrary positions in the semiconductor integrated circuit device.

【0086】(2)本発明によれば、複数の導通状態選
択素子を、通常のトランジスタ領域とは全く独立に、例
えば、ボンディングパッド付近等の従来は無効領域であ
った部分へ配置することができるので、半導体集積回路
装置のチップサイズを低減することが可能となる。
(2) According to the present invention, it is possible to arrange a plurality of conduction state selecting elements completely independently of a normal transistor area, for example, in a portion such as the vicinity of a bonding pad, which was a conventionally invalid area. Therefore, the chip size of the semiconductor integrated circuit device can be reduced.

【0087】(3)本発明によれば、複数の導通状態選
択素子を特定領域に集中的に配置することで生産性を向
上させることが可能となる。
(3) According to the present invention, productivity can be improved by arranging a plurality of conduction state selecting elements intensively in a specific region.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態である半導体メモリ(D
RAM)の冗長救済回路を示す回路図である。
FIG. 1 shows a semiconductor memory (D) according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a circuit diagram illustrating a redundancy relief circuit of a (RAM).

【図2】図1に示すデコードアドレス設定回路の回路構
成を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a circuit configuration of a decode address setting circuit shown in FIG. 1;

【図3】本実施の形態1の冗長救済回路のタイミングチ
ャートを示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a timing chart of the redundancy repair circuit according to the first embodiment;

【図4】図1に示すフリップフロップ(FF1)の回路
構成を示す回路図とその真理値表を示す図である。
4 is a circuit diagram illustrating a circuit configuration of a flip-flop (FF1) illustrated in FIG. 1 and a diagram illustrating a truth table thereof.

【図5】図1に示すフリップフロップ(FF2)の回路
構成を示す回路図とその真理値表を示す図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a circuit configuration of a flip-flop (FF2) shown in FIG. 1 and a diagram showing a truth table thereof.

【図6】従来の半導体メモリ(DRAM)のチップレイ
アウトの一例を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing an example of a chip layout of a conventional semiconductor memory (DRAM).

【図7】本発明の他の実施の形態における半導体メモリ
(DRAM)の冗長救済回路を示す回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a redundancy repair circuit of a semiconductor memory (DRAM) according to another embodiment of the present invention.

【図8】図7に示すフリップフロップ(FF3)の回路
構成を示す回路図とその真理値表である。
8 is a circuit diagram showing a circuit configuration of a flip-flop (FF3) shown in FIG. 7 and a truth table thereof.

【図9】従来の、不活性パルスによるデコーダ制御方式
を用いた冗長救済回路を示す回路図である。
FIG. 9 is a circuit diagram showing a conventional redundancy repair circuit using a decoder control method using an inactive pulse.

【図10】図9に示す冗長救済回路における、冗長ワー
ド線救済時のタイミングチャートを示す図である。
10 is a diagram showing a timing chart at the time of redundancy word line relief in the redundancy relief circuit shown in FIG. 9;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…内部アドレスバス、2,50,73…冗長ワード線
デコード回路、3…冗長救済用メモリセルアレイ、4,
76…正規ワード線デコード回路、5…正規メモリセル
アレイ、6…読み出し書き込み回路、9…データ線、1
0…メモリセル、11…不活性化制御用トランジスタ、
16,16a〜16p…フューズ、18…冗長ワード線
ドライバ、19…正規ワード線ドライバ、20…不活性
化トランジスタ、41,51,70…シフトレジスタ、
41a〜41n,44,51a〜51n,55,56…
フリップフロップ、49,NOR1,NOR11…NO
R回路、52…デコードアドレス設定回路、53a〜5
3n,54a〜54n,NM1〜NM5,NM11〜N
M14,NM21〜NM24…n型MOSトランジス
タ、PM1〜PM4,PM11〜PM14,PM21〜
PM24…p型MOSトランジスタ、INV1〜INV
6,INV11〜INV12,INV21〜INV22
…インバータ、TG1,TG2…トランスファゲート、
NAND1…NAND回路、AND21…AND回路、
RX…ワード線駆動用パルス印加端子、RP…ワード線
デコード用パルス印加端子、Vdd…電源電圧端子、R
WLa…冗長ワード線、WLa…正規ワード線、C…ク
ロック端子、R…リセット端子、D…ラッチデータ入力
端子、Q…ラッチデータ出力端子、F…イニシャルデー
タ端子、I…データ入力端子、O…データ出力端子。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Internal address bus, 2, 50, 73 ... Redundant word line decode circuit, 3 ... Redundant relief memory cell array, 4,
76: normal word line decode circuit, 5: normal memory cell array, 6: read / write circuit, 9: data line, 1
0: memory cell, 11: inactivation control transistor,
16, 16a to 16p: fuse, 18: redundant word line driver, 19: normal word line driver, 20: inactivating transistor, 41, 51, 70: shift register,
41a-41n, 44, 51a-51n, 55, 56 ...
Flip-flop, 49, NOR1, NOR11... NO
R circuit, 52... Decode address setting circuit, 53a-5
3n, 54a to 54n, NM1 to NM5, NM11 to N
M14, NM21 to NM24... N-type MOS transistors, PM1 to PM4, PM11 to PM14, PM21 to
PM24: p-type MOS transistor, INV1 to INV
6, INV11 to INV12, INV21 to INV22
... Inverter, TG1, TG2 ... Transfer gate,
NAND1 ... NAND circuit, AND21 ... AND circuit,
RX: word line drive pulse application terminal, RP: word line decode pulse application terminal, Vdd: power supply voltage terminal, R
WLa: redundant word line, WLa: normal word line, C: clock terminal, R: reset terminal, D: latch data input terminal, Q: latch data output terminal, F: initial data terminal, I: data input terminal, O: Data output terminal.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 素子自体の短絡あるいは開放状態が任意
に設定可能である導通状態選択素子を複数有し、当該複
数の導通状態選択素子の短絡あるいは開放状態に基づい
て回路機能あるいは回路動作が変更される回路部を具備
する半導体集積回路装置において、 前記複数の導通状態選択素子の短絡あるいは開放状態を
表す状態情報が、それぞれ格納される複数のフリップフ
ロップで構成される第1のシフトレジスタ回路と、 シリアル転送動作により、前記第1のシフトレジスタ回
路に格納された前記複数の導通状態選択素子の状態情報
が、それぞれ格納される複数のフリップフロップで構成
される第2のシフトレジスタと、 前記第2のシフトレジスタ回路に格納された前記複数の
導通状態選択素子の状態情報に基づき回路機能あるいは
回路動作を変更する回路動作変更手段と、 前記第1のシフトレジスタ回路と第2のシフトレジスタ
回路との間のシリアル転送動作を制御する制御手段とを
備え、 前記複数の導通状態選択素子の形成領域と、前記複数の
導通状態選択素子以外の回路素子の形成領域とを分離す
ることを特徴とする半導体集積回路装置。
1. A semiconductor device comprising: a plurality of conduction state selection elements in which a short circuit or an open state of an element itself can be arbitrarily set; and a circuit function or a circuit operation is changed based on a short circuit or an open state of the plurality of conduction state selection elements. A semiconductor integrated circuit device comprising: a first shift register circuit including a plurality of flip-flops, each of which stores state information indicating a short circuit or an open state of the plurality of conduction state selection elements; A second shift register configured by a plurality of flip-flops, each of which stores state information of the plurality of conduction state selection elements stored in the first shift register circuit by a serial transfer operation; Circuit function or circuit operation based on the state information of the plurality of conduction state selection elements stored in the second shift register circuit. Circuit operation changing means for changing the operation state; and control means for controlling a serial transfer operation between the first shift register circuit and the second shift register circuit. A semiconductor integrated circuit device, wherein a region where circuit elements other than the plurality of conduction state selection elements are formed is separated.
【請求項2】 前記第2のシフトレジスタはリセット動
作により所定の論理にリセットされ、前記第1のシフト
レジスタはシリアル転送の先頭ビットを示す前記第2の
シフトレジスタのリセット論理とは逆論理のフラグ情報
を格納し、前記制御手段は、前記フラグ情報が、前記第
2のシフトレジスタ内を全て移動した時点でシリアル転
送動作を停止することを特徴とする請求項1に記載され
た半導体集積回路装置。
2. The second shift register is reset to a predetermined logic by a reset operation, and the first shift register has a logic opposite to a reset logic of the second shift register indicating a first bit of serial transfer. 2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein flag information is stored, and said control means stops the serial transfer operation when said flag information has completely moved in said second shift register. apparatus.
【請求項3】 前記複数の導通状態選択素子は、半導体
集積回路装置内の特定領域に集中的に配置されることを
特徴とする請求項1または請求項2に記載された半導体
集積回路装置。
3. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the plurality of conduction state selecting elements are intensively arranged in a specific region in the semiconductor integrated circuit device.
【請求項4】 前記回路部は半導体メモリであり、前記
複数の導通状態選択素子の状態情報は冗長救済用のアド
レス情報であり、また、前記回路動作変更手段は冗長救
済用のアドレスデコーダのデコードアドレス設定手段で
あることを特徴とする請求項1ないし請求項3に記載さ
れた半導体集積回路装置。
4. The circuit section is a semiconductor memory, the state information of the plurality of conduction state selection elements is address information for redundancy repair, and the circuit operation changing means is a decoder for decoding a redundancy address decoder. 4. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the device is an address setting unit.
【請求項5】 前記複数の導通状態選択素子の状態情報
は、動作タイミングマージンの調整情報、あるいは、し
きい値調整情報であることを特徴とする請求項1ないし
請求項3に記載された半導体集積回路装置。
5. The semiconductor according to claim 1, wherein the state information of the plurality of conduction state selection elements is operation timing margin adjustment information or threshold adjustment information. Integrated circuit device.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6473352B2 (en) 2000-11-07 2002-10-29 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor integrated circuit device having efficiently arranged link program circuitry
US6865705B2 (en) * 2002-02-12 2005-03-08 Hitachi, Ltd. Semiconductor integrated circuit device capable of switching mode for trimming internal circuitry through JTAG boundary scan method
JP2007109359A (en) * 2005-09-13 2007-04-26 Toshiba Corp Semiconductor integrated circuit device
JP2008084453A (en) * 2006-09-28 2008-04-10 Sanyo Electric Co Ltd Fuse readout circuit
JP2009500780A (en) * 2005-06-29 2009-01-08 マイクロン テクノロジー, インク. Repair device and repair method for semiconductor memory

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6473352B2 (en) 2000-11-07 2002-10-29 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor integrated circuit device having efficiently arranged link program circuitry
US6865705B2 (en) * 2002-02-12 2005-03-08 Hitachi, Ltd. Semiconductor integrated circuit device capable of switching mode for trimming internal circuitry through JTAG boundary scan method
JP2009500780A (en) * 2005-06-29 2009-01-08 マイクロン テクノロジー, インク. Repair device and repair method for semiconductor memory
KR101317034B1 (en) * 2005-06-29 2013-10-11 마이크론 테크놀로지, 인크. Apparatus and method for repairing a semiconductor memory
JP2007109359A (en) * 2005-09-13 2007-04-26 Toshiba Corp Semiconductor integrated circuit device
JP2008084453A (en) * 2006-09-28 2008-04-10 Sanyo Electric Co Ltd Fuse readout circuit

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