JPH11311633A - Semiconductor accelerometer - Google Patents

Semiconductor accelerometer

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Publication number
JPH11311633A
JPH11311633A JP10117701A JP11770198A JPH11311633A JP H11311633 A JPH11311633 A JP H11311633A JP 10117701 A JP10117701 A JP 10117701A JP 11770198 A JP11770198 A JP 11770198A JP H11311633 A JPH11311633 A JP H11311633A
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JP
Japan
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acceleration sensor
semiconductor acceleration
stopper
semiconductor
sensor chip
Prior art date
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Pending
Application number
JP10117701A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigeaki Tomonari
恵昭 友成
Takuro Nakamura
卓郎 中邑
Hisakazu Miyajima
久和 宮島
Takuo Ishida
拓郎 石田
Hitoshi Yoshida
仁 吉田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
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Publication of JPH11311633A publication Critical patent/JPH11311633A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor accelerometer, in which the deviation between a semiconductor accelerometer chip and a stopper is reduced and whose temperature characteristic is good. SOLUTION: In a semiconductor accelerometer constituted of a flexure part 1 which is composed of the central part 1a and a beam part 1b which is formed to extend in all the directions from the outer peripheral edge of the central part 1a, a plumb hob part 2b which is suspended from, and supported by, the central part 1a via a neck part 2a, a frame 2 in which the beam part 1b is connected to the inner peripheral side face, and a support member 5 which supports the rear surface of the frame 3 and which surrounds the outer peripheral edge of the plumb hob part 2b via a cut-out part 4 are provided. In addition, a piezoresistance 6 is formed at a prescribed place on the beam part 1b, and an interconnection 11 is formed so as to be connected electrically to the piezoresistance 6. In addition, a cut-out groove 7, which extens to the neck part 2a from the outer peripheral edge of the plumb hob part 2b, is formed between the beam part 1b and the plumb hob part 2b. Thereby, a semiconductor accelerometer chip is constituted. Then, a lopwer-part stopper 8 in which a recessed part 8a is formed in a place corresponding to the plumb hob part 2b and which is composed of a silicon substrate is bonded to the rear surface of the semiconductor accelerometer chip, i.e., the support member 5.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、自動車,航空機又
は家電製品等に用いられる両持ち梁構造の半導体加速度
センサに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor acceleration sensor having a double-supported beam structure used for automobiles, aircrafts, home electric appliances and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に加速度センサとしては、片持ち梁
方式と両持ち梁方式とが提案されている。検出方法とし
ては、機械的な歪みを電気抵抗の変化として検出する方
法と、静電容量の変化による検出方法とがある。例え
ば、特開平6-109755号公報には機械的な歪みを電気抵抗
の変化として検出する両持ち梁方式の加速度センサが開
示されている。
2. Description of the Related Art In general, a cantilever type and a doubly supported type have been proposed as acceleration sensors. As a detection method, there are a method of detecting mechanical strain as a change in electric resistance and a method of detecting a change in capacitance. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-109755 discloses a double-supported beam acceleration sensor that detects mechanical strain as a change in electric resistance.

【0003】図3は、従来例に係る半導体加速度センサ
を示す概略斜視図である。この半導体加速度センサは、
中央部1aと中央部1aの外周縁から四方に延在して成
る梁部1bとから成る撓み部1と、中央部1aにネック
部2aを介して懸架支持される重り部2bと、内周側面
に梁部1bが連結されて成る枠状のフレーム3と、フレ
ーム3の下面を支持し、重り部2bの外周縁を切り込み
部4を介して包囲する支持部材5とを有して構成されて
いる。
FIG. 3 is a schematic perspective view showing a conventional semiconductor acceleration sensor. This semiconductor acceleration sensor
A bending portion 1 comprising a central portion 1a and a beam portion 1b extending in all directions from the outer peripheral edge of the central portion 1a; a weight portion 2b suspended and supported by the central portion 1a via a neck portion 2a; A frame-shaped frame 3 having a beam portion 1b connected to a side surface, and a support member 5 that supports the lower surface of the frame 3 and surrounds the outer peripheral edge of the weight portion 2b via a cutout 4 is provided. ing.

【0004】また、梁部1bの所定の箇所にはピエゾ抵
抗6が形成され、ピエゾ抵抗6と電気的に接続されるよ
うに配線11が形成されている。また、梁部1bと重り
部2bとの間には、重り部2bの外周縁からネック部2
aまで延在する切り込み溝7が形成されて半導体加速度
センサチップを構成している。
A piezoresistor 6 is formed at a predetermined position of the beam portion 1b, and a wiring 11 is formed so as to be electrically connected to the piezoresistor 6. In addition, between the beam portion 1b and the weight portion 2b, the neck portion 2 extends from the outer peripheral edge of the weight portion 2b.
A notch 7 extending to a is formed to constitute a semiconductor acceleration sensor chip.

【0005】そして、重り部2bに対応する箇所に凹部
10aが形成されたガラスストッパである下部ストッパ
10が、半導体加速度センサチップの下面、即ち、支持
部材5に接合されている。この下部ストッパ10によ
り、必要以上に大きな加速度が重り部2bに印加された
場合(下方向)に重り部2bの変位を制限することによ
りセンサチップの破壊を防ぐことができる。また、重り
部2bと下部ストッパ10との間に凹部10aによる隙
間を設けることにより、この部分にある空気のダンピン
グ効果を利用して良好な周波数特性を実現することがで
きる。
A lower stopper 10, which is a glass stopper having a recess 10a formed at a position corresponding to the weight 2b, is joined to the lower surface of the semiconductor acceleration sensor chip, that is, to the support member 5. The lower stopper 10 can prevent the sensor chip from being broken by limiting the displacement of the weight 2b when an unnecessarily large acceleration is applied to the weight 2b (downward). Further, by providing a gap between the weight portion 2b and the lower stopper 10 by the concave portion 10a, good frequency characteristics can be realized by utilizing the damping effect of air in this portion.

【0006】なお、一般に半導体チップはシリコン、下
部ストッパ10はガラスで構成され、シリコンとガラス
は約400℃に加熱され、陽極接合により接合される。
Generally, the semiconductor chip is made of silicon, and the lower stopper 10 is made of glass. The silicon and the glass are heated to about 400 ° C. and joined by anodic bonding.

【0007】この半導体加速度センサでは、重り部2b
に加速度が加わると、重り部2bと連動する撓み部1が
撓み、この撓みによりピエゾ抵抗6の抵抗値が変化し、
この抵抗値の変化を電気信号に変換することにより加速
度を検出する。
In this semiconductor acceleration sensor, the weight 2b
When the acceleration is applied, the bending portion 1 interlocked with the weight portion 2b bends, and the bending changes the resistance value of the piezoresistor 6,
The acceleration is detected by converting the change in the resistance value into an electric signal.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】このような構造をもつ
半導体加速度センサは、一定の半導体チップ体積内で重
り部2bの体積を最大限に確保することができ、かつ、
梁部1bの有効長さを長くとることができるため、小型
で高感度な半導体加速度センサを実現することができ
る。
The semiconductor acceleration sensor having such a structure can ensure the maximum volume of the weight portion 2b within a fixed semiconductor chip volume, and
Since the effective length of the beam portion 1b can be increased, a small and highly sensitive semiconductor acceleration sensor can be realized.

【0009】しかし、その反面、梁部1bの有効長さが
長いため、周囲温度の変化に非常に敏感となる。
However, on the other hand, since the effective length of the beam portion 1b is long, the beam portion 1b is very sensitive to a change in ambient temperature.

【0010】ここで、図4はシリコンとパイレックスガ
ラス(アメリカ・コーニング社の商標)の熱膨張率を示
したものであり、400℃を基準としている。図4よりわ
かるように、シリコンとパイレックスガラスの熱膨張率
は異なり、シリコンの方がよく縮む。
FIG. 4 shows the coefficient of thermal expansion of silicon and Pyrex glass (trademark of Corning Incorporated, USA) based on 400 ° C. As can be seen from FIG. 4, the thermal expansion coefficients of silicon and Pyrex glass are different, and silicon shrinks better.

【0011】また、図5は、シリコンとパイレックスガ
ラスの膨張率の差を各温度にプロットしたものである。
ここで、チップの一辺を5mmとした場合には、50℃で約
0.5μmのズレ、0℃で約0.375μmのズレ、-40℃で約0.25
μmのズレが発生する。
FIG. 5 is a graph in which the difference between the expansion coefficients of silicon and Pyrex glass is plotted at each temperature.
Here, when one side of the chip is 5 mm, at 50 ° C.
0.5μm deviation, 0 ° C about 0.375μm deviation, -40 ° C about 0.25
μm displacement occurs.

【0012】図6は、シリコンとパイレックスガラスと
のズレが半導体加速度センサに与える影響について示す
概略模式図である。図6より、パイレックスガラスとシ
リコンとが接合されている部分(下部ストッパ10と支
持部材5とが接合されている部分)は、400℃(陽極接
合される温度)においては同じ長さであるが、温度が下
がるに従い、パイレックスガラスとシリコンとの間で上
記のズレが発生する。
FIG. 6 is a schematic diagram showing the effect of a shift between silicon and Pyrex glass on a semiconductor acceleration sensor. From FIG. 6, the portion where Pyrex glass and silicon are bonded (the portion where the lower stopper 10 and the support member 5 are bonded) has the same length at 400 ° C. (temperature at which anodic bonding is performed). As the temperature lowers, the above-described shift occurs between Pyrex glass and silicon.

【0013】ところが、パイレックスガラスとシリコン
とは陽極接合により強固に接合されているため、応力は
構造的に柔軟性のある撓み部1に集中することになり、
撓み部1は図6に示すような引っ張り応力を受ける。
However, since Pyrex glass and silicon are firmly bonded by anodic bonding, stress concentrates on the flexural portion 1 which is structurally flexible.
The bending portion 1 receives a tensile stress as shown in FIG.

【0014】また、撓み部1にはピエゾ抵抗6が形成さ
れており、この応力変化を感度として検出してしまい、
この応力(ズレ)は温度により変化するため、温度の温
度特性に大きく影響するという問題があった。
Further, a piezoresistor 6 is formed in the bending portion 1, and this change in stress is detected as sensitivity.
Since this stress (deviation) changes depending on the temperature, there is a problem that the temperature characteristic is greatly affected.

【0015】本発明は、上記の点に鑑みて成されたもの
であり、その目的とするところは、半導体加速度センサ
チップとストッパとのズレを軽減し、温度特性の良い半
導体加速度センサを提供することにある。
The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a semiconductor acceleration sensor having good temperature characteristics by reducing a deviation between a semiconductor acceleration sensor chip and a stopper. It is in.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
重り部と該重り部を懸架支持する撓み部と該撓み部を支
持する支持部と前記撓み部に形成された撓みによる抵抗
変化を電気信号に変換するピエゾ抵抗と前記重り部と前
記撓み部との間に形成された切り込み溝とを有して成る
半導体加速度センサチップと、該半導体加速度センサチ
ップに接合されたストッパとを有して成る半導体加速度
センサにおいて、前記ストッパとしてシリコン基板を用
いたことを特徴とするものである。
According to the first aspect of the present invention,
A weight, a flexure for suspending and supporting the weight, a support for supporting the flexure, a piezoresistor for converting a resistance change due to flexure formed in the flexure into an electrical signal, the weight, and the flexure; In a semiconductor acceleration sensor having a semiconductor acceleration sensor chip having a notch groove formed between the semiconductor acceleration sensor chip and a stopper joined to the semiconductor acceleration sensor chip, a silicon substrate is used as the stopper. It is characterized by the following.

【0017】請求項2記載の発明は、請求項1記載の半
導体加速度センサにおいて、前記半導体加速度センサチ
ップと前記シリコン基板とを薄膜接合層を介して接合し
たことを特徴とするものである。
According to a second aspect of the present invention, in the semiconductor acceleration sensor according to the first aspect, the semiconductor acceleration sensor chip and the silicon substrate are joined via a thin film joining layer.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面に基づき説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0019】=実施の形態1= 図1は、本発明の一実施の形態に係る半導体加速度セン
サを示す概略断面図である。本実施の形態に係る半導体
加速度センサは、従来例として図3,図6に示す半導体
加速度センサにおいて、ガラスストッパである下部スト
ッパ10の代わりに、重り部2bに対応する箇所に凹部
8aが形成された、シリコン基板から成る下部ストッパ
8を用いた構成である。ここで、支持部材5と下部スト
ッパ8とはシリコン−シリコン接合技術により接合され
る。
Embodiment 1 FIG. 1 is a schematic sectional view showing a semiconductor acceleration sensor according to an embodiment of the present invention. The semiconductor acceleration sensor according to the present embodiment is different from the semiconductor acceleration sensor shown in FIGS. 3 and 6 as a conventional example in that a concave portion 8a is formed at a position corresponding to the weight 2b instead of the lower stopper 10 which is a glass stopper. In addition, the configuration uses a lower stopper 8 made of a silicon substrate. Here, the support member 5 and the lower stopper 8 are joined by a silicon-silicon joining technique.

【0020】従って、本実施の形態においては、下部ス
トッパとしてシリコン基板を用いたので、半導体加速度
センサチップと下部ストッパとの間でズレが発生せず、
温度特性を良くすることができる。
Therefore, in the present embodiment, since the silicon substrate is used as the lower stopper, no displacement occurs between the semiconductor acceleration sensor chip and the lower stopper.
Temperature characteristics can be improved.

【0021】=実施の形態2= 図2は、本発明の他の実施の形態に係る半導体加速度セ
ンサを示す概略断面図である。本実施の形態に係る半導
体加速度センサは、実施の形態1として図1に示す半導
体加速度センサにおいて、支持部材5と下部ストッパ8
とを薄膜接合層9を介して接合した構成である。
Embodiment 2 FIG. 2 is a schematic sectional view showing a semiconductor acceleration sensor according to another embodiment of the present invention. The semiconductor acceleration sensor according to the present embodiment is the same as the semiconductor acceleration sensor shown in FIG.
Are bonded via a thin film bonding layer 9.

【0022】この薄膜接合層9としては、スパッタリン
グにより形成されたガラス薄膜,金薄膜,水ガラス薄膜等
がある。ここで、ガラス薄膜を用いた場合には、半導体
加速度センサチップと下部ストッパ8とは陽極接合によ
り接合され、金薄膜を用いた場合には、半導体加速度セ
ンサチップと下部ストッパ8とは金共晶接合により接合
され、水ガラス薄膜を用いた場合には、半導体加速度セ
ンサチップと下部ストッパ8とは加熱により水ガラス薄
膜を固化させて接合される。
The thin film bonding layer 9 includes a glass thin film, a gold thin film, and a water glass thin film formed by sputtering. Here, when a glass thin film is used, the semiconductor acceleration sensor chip and the lower stopper 8 are joined by anodic bonding, and when a gold thin film is used, the semiconductor acceleration sensor chip and the lower stopper 8 are gold eutectic. When a water glass thin film is used, the semiconductor acceleration sensor chip and the lower stopper 8 are joined by solidifying the water glass thin film by heating.

【0023】従って、本実施の形態においては、薄膜接
合層9を半導体加速度センサチップと下部ストッパ8と
の間に介在させたので、陽極接合等により容易に接合す
ることができ、また、薄膜接合層9が薄く形成されてい
るので、半導体加速度センサチップと下部ストッパ8と
のズレを従来例に比べて軽減することができ、温度特性
を良くすることができる。
Therefore, in this embodiment, since the thin film bonding layer 9 is interposed between the semiconductor acceleration sensor chip and the lower stopper 8, the thin film bonding layer 9 can be easily bonded by anodic bonding or the like. Since the layer 9 is formed thin, the deviation between the semiconductor acceleration sensor chip and the lower stopper 8 can be reduced as compared with the conventional example, and the temperature characteristics can be improved.

【0024】[0024]

【発明の効果】請求項1記載の発明は、重り部と該重り
部を懸架支持する撓み部と該撓み部を支持する支持部と
前記撓み部に形成された撓みによる抵抗変化を電気信号
に変換するピエゾ抵抗と前記重り部と前記撓み部との間
に形成された切り込み溝とを有して成る半導体加速度セ
ンサチップと、該半導体加速度センサチップに接合され
たストッパとを有して成る半導体加速度センサにおい
て、前記ストッパとしてシリコン基板を用いたので、半
導体加速度センサチップとストッパとの間でズレが発生
せず、温度特性を良くすることができ、半導体加速度セ
ンサチップとストッパとのズレを軽減し、温度特性の良
い半導体加速度センサを提供することができた。
According to the first aspect of the present invention, a change in resistance due to a weight, a flexure for suspending and supporting the weight, a support for supporting the flexure, and a flexure formed in the flexure is converted into an electric signal. A semiconductor comprising: a semiconductor acceleration sensor chip having a piezoresistor to be converted; a notch formed between the weight portion and the bending portion; and a stopper joined to the semiconductor acceleration sensor chip. In the acceleration sensor, since the silicon substrate is used as the stopper, no deviation occurs between the semiconductor acceleration sensor chip and the stopper, the temperature characteristics can be improved, and the deviation between the semiconductor acceleration sensor chip and the stopper is reduced. Thus, a semiconductor acceleration sensor having good temperature characteristics can be provided.

【0025】請求項2記載の発明は、請求項1記載の半
導体加速度センサにおいて、前記半導体加速度センサチ
ップと前記シリコン基板とを薄膜接合層を介して接合し
たので、請求項1記載の発明の効果に加えて、陽極接合
等により容易に半導体加速度センサチップとストッパと
を接合することができる。
According to a second aspect of the present invention, in the semiconductor acceleration sensor according to the first aspect, the semiconductor acceleration sensor chip and the silicon substrate are joined via a thin film joining layer. In addition, the semiconductor acceleration sensor chip and the stopper can be easily bonded by anodic bonding or the like.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態に係る半導体加速度セン
サを示す概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing a semiconductor acceleration sensor according to one embodiment of the present invention.

【図2】本発明の他の実施の形態に係る半導体加速度セ
ンサを示す概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing a semiconductor acceleration sensor according to another embodiment of the present invention.

【図3】従来例に係る半導体加速度センサを示す概略斜
視図である。
FIG. 3 is a schematic perspective view showing a semiconductor acceleration sensor according to a conventional example.

【図4】シリコンとパイレックスガラスの温度に対する
熱膨張率を示す特性図である。
FIG. 4 is a characteristic diagram showing a coefficient of thermal expansion of silicon and Pyrex glass with respect to temperature.

【図5】シリコンとパイレックスガラスの温度に対する
熱収縮差を示す特性図である。
FIG. 5 is a characteristic diagram showing a difference in heat shrinkage with respect to the temperature of silicon and Pyrex glass.

【図6】シリコンとパイレックスガラスとのズレが半導
体加速度センサに与える影響について示す概略模式図で
ある。
FIG. 6 is a schematic diagram showing the effect of a shift between silicon and Pyrex glass on a semiconductor acceleration sensor.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 撓み部 1a 中央部 1b 梁部 2a ネック部 2b 重り部 3 フレーム 4 切り込み部 5 支持部材 6 ピエゾ抵抗 7 切り込み溝 8 下部ストッパ 8a 凹部 9 薄膜接合層 10 下部ストッパ 10a 凹部 11 配線 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Deflection part 1a Central part 1b Beam part 2a Neck part 2b Weight part 3 Frame 4 Cut part 5 Support member 6 Piezoresistor 7 Cut groove 8 Lower stopper 8a Depression 9 Thin film bonding layer 10 Lower stopper 10a Depression 11 Wiring

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石田 拓郎 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内 (72)発明者 吉田 仁 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (72) Inventor Takuro Ishida 1048 Kadoma Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Works Co., Ltd.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 重り部と該重り部を懸架支持する撓み部
と該撓み部を支持する支持部と前記撓み部に形成された
撓みによる抵抗変化を電気信号に変換するピエゾ抵抗と
前記重り部と前記撓み部との間に形成された切り込み溝
とを有して成る半導体加速度センサチップと、該半導体
加速度センサチップに接合されたストッパとを有して成
る半導体加速度センサにおいて、前記ストッパとしてシ
リコン基板を用いたことを特徴とする半導体加速度セン
サ。
1. A weight, a flexure for suspending and supporting the weight, a support for supporting the flexure, a piezoresistor for converting a resistance change caused by flexure formed in the flexure into an electric signal, and the weight. A semiconductor acceleration sensor chip having a notch groove formed between the semiconductor acceleration sensor chip and the bending portion; and a stopper joined to the semiconductor acceleration sensor chip. A semiconductor acceleration sensor using a substrate.
【請求項2】 前記半導体加速度センサチップと前記シ
リコン基板とを薄膜接合層を介して接合したことを特徴
とする請求項1記載の半導体加速度センサ。
2. The semiconductor acceleration sensor according to claim 1, wherein said semiconductor acceleration sensor chip and said silicon substrate are bonded via a thin film bonding layer.
JP10117701A 1998-04-28 1998-04-28 Semiconductor accelerometer Pending JPH11311633A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008197113A (en) * 2008-03-13 2008-08-28 Matsushita Electric Works Ltd Semiconductor acceleration sensor

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008197113A (en) * 2008-03-13 2008-08-28 Matsushita Electric Works Ltd Semiconductor acceleration sensor

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