JPH11307305A - Resistance material and resistance paste and resistor using the resistance material and ceramic multilayer substrate - Google Patents
Resistance material and resistance paste and resistor using the resistance material and ceramic multilayer substrateInfo
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- JPH11307305A JPH11307305A JP11018154A JP1815499A JPH11307305A JP H11307305 A JPH11307305 A JP H11307305A JP 11018154 A JP11018154 A JP 11018154A JP 1815499 A JP1815499 A JP 1815499A JP H11307305 A JPH11307305 A JP H11307305A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、抵抗材料、これ
を用いた抵抗ペーストおよび抵抗体、ならびにセラミッ
ク多層基板に関するもので、特に、中性または還元性雰
囲気中で焼付けを行なうことが可能な抵抗ペースト、こ
の抵抗ペーストに有利に含有される抵抗材料、この抵抗
ペーストを用いて形成される抵抗体、およびこの抵抗体
を備えるセラミック多層基板に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resistive material, a resistive paste and a resistive element using the same, and a ceramic multilayer substrate, and more particularly to a resistive material capable of being baked in a neutral or reducing atmosphere. The present invention relates to a paste, a resistive material advantageously contained in the resistive paste, a resistor formed using the resistive paste, and a ceramic multilayer substrate including the resistor.
【0002】[0002]
【従来の技術】アルミナからなるセラミック基板には、
通常、種々の電子部品を搭載できるように、電極や抵抗
体などをもって構成される回路パターンが形成されてい
る。また、電極あるいは電極パターンを形成するため、
銀、銀−パラジウム合金などの貴金属ペーストをスクリ
ーン印刷し、空気中で焼き付けることが一般に行なわれ
ている。2. Description of the Related Art Alumina ceramic substrates include:
Usually, a circuit pattern including electrodes, resistors, and the like is formed so that various electronic components can be mounted. Also, to form an electrode or electrode pattern,
It is common practice to screen-print a noble metal paste such as silver or a silver-palladium alloy and bake it in air.
【0003】また、基板を積層化して導体を内部に立体
的に配置することにより高密度化を図り、それによっ
て、さらなる製品の小型化を図ろうとする検討もされて
いる。しかし、従来の一般的なアルミナ基板を用いて、
内層配線および積層化を行なおうとする場合には、アル
ミナの焼結温度が高いため、導体材料として、タングス
テン、モリブデンなどの高融点金属を用いなければなら
ないが、これらの金属の比抵抗が高いため、用途が制約
され、実用的でないという問題がある。Further, studies have been made to increase the density by stacking the substrates and arranging the conductors three-dimensionally inside, thereby further miniaturizing the product. However, using a conventional general alumina substrate,
When the inner wiring and lamination are to be performed, since the sintering temperature of alumina is high, a high melting point metal such as tungsten or molybdenum must be used as a conductor material, but the specific resistance of these metals is high. Therefore, there is a problem that the use is restricted and it is not practical.
【0004】そこで、このような問題を解決する目的
で、低温(1000℃以下)で焼結することが可能で、
銀、パラジウム、銅などの金属を内層材料として用いる
ことを可能とする低温焼結基板(たとえば、セラミック
とガラスとからなる複合基板など)が用いられるように
なってきている。Therefore, in order to solve such a problem, sintering can be performed at a low temperature (1000 ° C. or less).
Low-temperature sintering substrates (for example, a composite substrate made of ceramic and glass) that can use a metal such as silver, palladium, or copper as an inner layer material have been used.
【0005】このような低温焼結基板において用いる電
極材料としては、前述した貴金属ペーストが考えられ
る。しかしながら、貴金属ペーストは、高価であるばか
りでなく、インピーダンスが高く、エレクトロマイグレ
ーションを起こしやすいという欠点があるため、実用上
問題となっている。As the electrode material used in such a low-temperature sintering substrate, the above-mentioned noble metal paste is considered. However, the noble metal paste is not only expensive but also has a disadvantage that it has a high impedance and is liable to cause electromigration.
【0006】これに対して、インピーダンスが低く、エ
レクトロマイグレーションを起こさない銅などの卑金属
材料を含む卑金属ペーストを、焼結基板またはグリーン
シート上にスクリーン印刷し、これを中性または還元性
雰囲気中で焼成すれば、高品質の電極パターンを安価に
形成できることがわかっており、注目されている。On the other hand, a base metal paste having a low impedance and containing a base metal material such as copper which does not cause electromigration is screen-printed on a sintered substrate or a green sheet, and this is printed in a neutral or reducing atmosphere. It is known that high-quality electrode patterns can be formed at low cost by firing, and attention has been paid.
【0007】この場合、卑金属ペーストを焼き付けた後
の複数の卑金属電極間を連結するように基板上に設けら
れる抵抗体あるいは抵抗パターンを形成するための抵抗
ペーストは、導電材料としてRuO2 系材料を使用した
ものでは還元されてしまうため、使用できない。抵抗材
料としては、窒素などの中性または還元性雰囲気中で焼
き付けることができるものであることが望ましい。In this case, the resistor paste for forming a resistor or a resistor pattern provided on the substrate so as to connect the plurality of base metal electrodes after baking the base metal paste is made of a RuO 2 -based material as a conductive material. It cannot be used because it will be reduced if used. The resistance material is preferably a material that can be baked in a neutral or reducing atmosphere such as nitrogen.
【0008】そこで、上述のような中性または還元性雰
囲気中で焼付けを行なうことが可能な抵抗ペーストとし
て、特公昭55−30889号公報に記載されたLaB
6 系の導電材料を含有する抵抗ペースト、特開昭63−
224301号公報に記載されたNbB2 系の導電材料
を含有する抵抗ペースト、特開平2−249203号公
報に記載されたNbx La1-x B6-4x固溶体系の導電材
料を含有する抵抗ペーストなどが提案されている。Therefore, as a resistive paste which can be baked in a neutral or reducing atmosphere as described above, LaB described in Japanese Patent Publication No. 55-30889 is disclosed.
Resistance paste containing 6 series conductive material,
No. 224301, a resistive paste containing an NbB 2 -based conductive material, and a resistive paste described in JP-A-2-249203, containing a Nb x La 1-x B 6-4x conductive material of a solid solution type And so on.
【0009】特に、導電材料としてNbx La1-x B
6-4x系を含有する抵抗ペーストを用いて形成された抵抗
体は、LaB6 系などの導電材料を含有する抵抗ペース
トを用いて形成された抵抗体よりも、導電材料およびガ
ラスフリットの混合比率を変えることによって、良好な
再現性が得られる面積抵抗値の範囲が広いという利点を
有している。In particular, Nb x La 1 -x B is used as a conductive material.
The resistor formed using the 6-4x- based resistor paste has a higher mixing ratio of the conductive material and the glass frit than the resistor formed using the resistor paste including the LaB 6- based conductive material. Has the advantage that the range of the sheet resistance value at which good reproducibility can be obtained is wide.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特にN
bx La1-x B6-4x系の導電材料を含有する抵抗ペース
トをもって形成された抵抗体では、その面積抵抗値が低
い領域(約10Ω/□〜100Ω/□)において抵抗温
度係数(以下、「TCR」と言う。)がプラス(+)方
向へシフトし、絶対値が0から離れていく傾向にある。
特開平7−192903号公報では、第1添加剤として
TiO2 、第2添加剤としてCo3 O4 、CoOおよび
Fe2 O3 を添加することで、アルミナ基板上でのTC
Rをマイナス方向にシフトさせられることが示されてい
るが、セラミックとガラスとの複合基板などの低温焼結
基板に抵抗体を形成した場合には、特に低抵抗領域での
TCR制御効果および再現性が十分ではなく、必要とさ
れるTCR特性が十分に得られないのが実状であった。However, in particular, N
In a resistor formed using a resistor paste containing a b x La 1-x B 6-4x- based conductive material, a resistance temperature coefficient (hereinafter, referred to as a resistance in a region where the area resistance is low (about 10Ω / □ to 100Ω / □)) , “TCR”) in the plus (+) direction, and the absolute value tends to move away from zero.
In JP-A 7-192903 discloses, TiO 2 as a first additive, addition of Co 3 O 4, CoO and Fe 2 O 3 as a second additive, TC on alumina substrate
Although it is shown that R can be shifted in the negative direction, when a resistor is formed on a low-temperature sintering substrate such as a composite substrate of ceramic and glass, the TCR control effect and reproduction especially in the low-resistance region are reproduced. In fact, the properties were not sufficient, and the required TCR characteristics could not be sufficiently obtained.
【0011】NbB2 などの導電材料を含有する抵抗ペ
ーストをもって形成される抵抗体においても同様であ
る。The same applies to a resistor formed using a resistor paste containing a conductive material such as NbB 2 .
【0012】そこで、この発明の目的は、Nbx La
1-x B6-4x系またはNbB2 などの導電材料を含有する
抵抗ペーストを低温焼結基板上で焼き付けても、それに
よって形成された抵抗体における面積抵抗値の低い領域
のTCRを、マイナス方向へシフトさせて0に近づける
ことを可能にして、上述したような問題を解決しようと
することである。Therefore, an object of the present invention is to provide Nb x La
Even if a resistor paste containing a conductive material such as 1-x B 6-4x or NbB 2 is baked on a low-temperature sintering substrate, the TCR of a region having a low sheet resistance in a resistor formed by the method is negative. The purpose of the present invention is to solve the above-mentioned problem by making it possible to shift in the direction to approach zero.
【0013】より特定的には、この発明の目的は、上述
のような問題の解決を図り得る、抵抗ペースト、この抵
抗ペーストに有利に含有される抵抗材料、この抵抗ペー
ストを用いて形成される抵抗体、およびこの抵抗体を備
えるセラミック多層基板を提供しようとすることであ
る。More specifically, an object of the present invention is to form a resistive paste, a resistive material advantageously contained in the resistive paste, and a resistive paste which can solve the above-mentioned problems. It is an object to provide a resistor and a ceramic multilayer substrate provided with the resistor.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】上述した技術的課題を解
決するため、この発明は、まず、抵抗ペーストに有利に
含有される抵抗材料に向けられる。SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above technical problems, the present invention is first directed to a resistance material which is advantageously contained in a resistance paste.
【0015】この発明に係る抵抗材料は、一般的には、
導電材料と添加剤とを含有し、導電材料として、一般
式:Nbx La1-x B6-4x(x=0.1〜0.9)で表
される導電材料、または100〜90 mol%のNbB2
および0〜10 mol%のLaB 6 からなる導電材料を含
有し、添加剤として、酸化チタン(TiO2 )、酸化コ
バルト(Co3 O4 およびCoOの少なくとも一方)、
および酸化亜鉛(ZnO)を含有することを特徴として
いる。[0015] The resistance material according to the present invention generally comprises
Contains conductive materials and additives
Formula: NbxLa1-xB6-4x(X = 0.1 to 0.9)
Conductive material or 100-90 mol% NbBTwo
And 0-10 mol% LaB 6Including conductive material consisting of
Titanium oxide (TiO 2)Two), Oxidized
Baltic (CoThreeOFourAnd at least one of CoO),
And zinc oxide (ZnO)
I have.
【0016】この発明に係る抵抗材料は、より特定的な
局面では、一般式:Nbx La1-xB6-4x(x=0.1
〜0.9)で表される導電材料と非還元性ガラスフリッ
トと添加剤とを含有し、添加剤として、導電材料および
非還元性ガラスフリットの合計量100重量部に対し
て、酸化チタン(TiO2 )が1〜10重量部、酸化コ
バルト(Co3 O4 およびCoOの少なくとも一方)が
1〜15重量部、および酸化亜鉛(ZnO)が1〜5重
量部、それぞれ、含有することを特徴としている。In a more specific aspect, the resistance material according to the present invention has a general formula: Nb x La 1-x B 6-4x (x = 0.1
~ 0.9), a non-reducing glass frit and an additive, and as an additive, titanium oxide (100 parts by weight in total of the conductive material and the non-reducing glass frit) TiO 2 ), 1 to 15 parts by weight of cobalt oxide (at least one of Co 3 O 4 and CoO), and 1 to 5 parts by weight of zinc oxide (ZnO). And
【0017】この発明に係る抵抗材料のより特定的な他
の局面では、100〜90 mol%のNbB2 および0〜
10 mol%のLaB6 からなる導電材料と非還元性ガラ
スフリットと添加剤とを含有し、添加剤として、導電材
料および非還元性ガラスフリットの合計量100重量部
に対して、酸化チタン(TiO2 )が1〜10重量部、
酸化コバルト(Co3 O4 およびCoOの少なくとも一
方)が1〜15重量部、および酸化亜鉛(ZnO)が1
〜5重量部、それぞれ、含有することを特徴としてい
る。In another more specific aspect of the resistive material according to the invention, 100 to 90 mol% of NbB 2 and 0 to 90 mol%
It contains a conductive material composed of 10 mol% LaB 6 , a non-reducing glass frit, and an additive. As an additive, titanium oxide (TiO 2) is used with respect to 100 parts by weight of the total of the conductive material and the non-reducing glass frit. 2 ) 1 to 10 parts by weight,
1 to 15 parts by weight of cobalt oxide (at least one of Co 3 O 4 and CoO) and 1 of zinc oxide (ZnO)
-5 parts by weight, respectively.
【0018】上述したより特定的な2つの局面におい
て、導電材料/非還元性ガラスフリットの配合割合が、
70〜10重量部/30〜90重量部の範囲にあること
が好ましい。In the two more specific aspects described above, the mixing ratio of the conductive material / non-reducing glass frit is
It is preferably in the range of 70 to 10 parts by weight / 30 to 90 parts by weight.
【0019】この発明は、また、上述した抵抗材料に有
機ビヒクルを添加し、混練して得られた、抵抗ペースト
にも向けられる。The present invention is also directed to a resistance paste obtained by adding an organic vehicle to the above-described resistance material and kneading the same.
【0020】この抵抗ペーストは、BaOが15〜75
重量%、SiO2 が25〜80重量%、Al2 O3 が3
0重量%以下、B2 O3 が1.5〜5重量%、CaOが
1.5〜5重量%、それぞれ、含有する組成を有する低
温焼結基板上に抵抗体を形成するために有利に用いられ
る。The resistance paste has a BaO content of 15-75.
Wt%, SiO 2 is 25 to 80 wt%, Al 2 O 3 is 3
0 wt% or less, B 2 O 3 is 1.5 to 5 wt%, CaO is 1.5 to 5 wt%, preferably for each, to form the resistor in the low-temperature sintering substrate having a composition containing Used.
【0021】この発明は、また、上述した抵抗ペースト
を塗布し、焼き付けることによって形成された、抵抗体
にも向けられる。The present invention is also directed to a resistor formed by applying and baking the above-mentioned resistor paste.
【0022】この発明は、さらに、上述した抵抗体を備
える、セラミック多層基板にも向けられる。The present invention is further directed to a ceramic multilayer substrate provided with the above-described resistor.
【0023】[0023]
【発明の実施の形態】この発明の好ましい実施形態によ
る抵抗ペーストでは、一般式:Nbx La1- x B
6-4x(x=0.1〜0.9)で表される導電材料と非還
元性ガラスフリットと添加剤とを含有し、添加剤とし
て、導電材料および非還元性ガラスフリットの合計量1
00重量部に対して、酸化チタン(TiO2 )が1〜1
0重量部、酸化コバルト(Co3 O4 およびCoOの少
なくとも一方)が1〜15重量部、および酸化亜鉛(Z
nO)が1〜5重量部、それぞれ、含有する、そのよう
な抵抗材料が添加される。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In a resistor paste according to a preferred embodiment of the present invention, the general formula: Nb x La 1 -xB
6-4x (x = 0.1 to 0.9), containing a conductive material, a non-reducing glass frit, and an additive, and as an additive, a total amount of the conductive material and the non-reducing glass frit 1
1 to 1 part by weight of titanium oxide (TiO 2 ) to 00 parts by weight
0 parts by weight, 1 to 15 parts by weight of cobalt oxide (at least one of Co 3 O 4 and CoO), and zinc oxide (Z
Such resistive materials, each containing 1 to 5 parts by weight of nO), are added.
【0024】また、この発明の他の好ましい実施形態に
よる抵抗ペーストでは、100〜90 mol%のNbB2
および0〜10 mol%のLaB6 からなる導電材料と非
還元性ガラスフリットと添加剤とを含有し、添加剤とし
て、導電材料および非還元性ガラスフリットの合計量1
00重量部に対して、酸化チタン(TiO2 )が1〜1
0重量部、酸化コバルト(Co3 O4 およびCoOの少
なくとも一方)が1〜15重量部、および酸化亜鉛(Z
nO)が1〜5重量部、それぞれ、含有する、そのよう
な抵抗材料が添加される。Further, in a resistor paste according to another preferred embodiment of the present invention, 100 to 90 mol% of NbB 2
And a conductive material composed of 0 to 10 mol% of LaB 6 , a non-reducing glass frit, and an additive, and the total amount of the conductive material and the non-reducing glass frit is 1 as an additive.
1 to 1 part by weight of titanium oxide (TiO 2 ) to 00 parts by weight
0 parts by weight, 1 to 15 parts by weight of cobalt oxide (at least one of Co 3 O 4 and CoO), and zinc oxide (Z
Such resistive materials, each containing 1 to 5 parts by weight of nO), are added.
【0025】上述した各抵抗材料は、これに有機ビヒク
ルを添加し、混練することによって、抵抗ペーストとさ
れる。この抵抗ペーストは、これを塗布し、焼き付ける
ことによって抵抗体を形成する。Each of the above-mentioned resistance materials is added with an organic vehicle and kneaded to form a resistance paste. The resistor paste is applied and baked to form a resistor.
【0026】上述の導電材料であるNbx La1-x B
6-4xまたはNbB2 などの粒子径は、0.1〜5μmの
範囲が好ましく、0.1〜3μmの範囲がより好まし
い。The above-mentioned conductive material, Nb x La 1 -x B
Particle size such as 6-4x or NbB 2 is preferably in the range of 0.1 to 5 [mu] m, the range of 0.1~3μm is more preferable.
【0027】非還元性ガラスフリットとしては、Ba、
Ca、もしくは他のアルカリ土類金属の硼珪酸ガラスま
たは硼アルミノ珪酸ガラスなどが選ばれる。また、非還
元性ガラスフリットの粒子径は、1〜10μmの範囲が
好ましく、1〜5μmの範囲がより好ましい。As the non-reducing glass frit, Ba,
Borosilicate glass or boroaluminosilicate glass of Ca or another alkaline earth metal is selected. The particle diameter of the non-reducing glass frit is preferably in the range of 1 to 10 μm, more preferably in the range of 1 to 5 μm.
【0028】上述した各抵抗材料において、導電材料お
よび非還元性ガラスフリットの合計量100重量部に対
して、添加剤としての酸化チタン(TiO2 )を1〜1
0重量部、酸化コバルト(Co3 O4 およびCoOの少
なくとも一方)を1〜15重量部、および酸化亜鉛(Z
nO)を1〜5重量部、それぞれ、添加するようにした
のは、いずれも、添加量の各範囲を下回ると、当該抵抗
材料を含む抵抗ペーストから得られた抵抗体の抵抗値お
よびTCRの制御効果が不十分になることがあり、ま
た、添加量の各範囲を上回ると、抵抗値が高くなること
があるばかりでなく、TCRが大きく0より外れたり、
再現性が悪くなったりすることがあるからである。In each of the above-described resistance materials, titanium oxide (TiO 2 ) as an additive is added in an amount of 1 to 1 with respect to 100 parts by weight of the total of the conductive material and the non-reducing glass frit.
0 parts by weight, 1 to 15 parts by weight of cobalt oxide (at least one of Co 3 O 4 and CoO), and zinc oxide (Z
The reason why nO) was added in an amount of 1 to 5 parts by weight, respectively, was that when the amount was less than each range, the resistance value of the resistor and the TCR of the resistor obtained from the resistor paste containing the resistor material were reduced. If the control effect is insufficient, and if the addition amount exceeds each range, not only the resistance value may increase, but also the TCR may greatly deviate from 0,
This is because reproducibility may deteriorate.
【0029】また、上述した抵抗材料に係る各実施形態
において、好ましくは、導電材料/非還元性ガラスフリ
ットの配合割合が、70〜10重量部/30〜90重量
部の範囲にあるように選ばれる。これによって、基板へ
の密着性を優れたものとし、かつ、ガラス成分の流れ出
しのない抵抗ペーストを得ることができるようになる。
より詳細には、非還元性ガラスフリットの割合が上記範
囲を下回ると、当該抵抗材料を含む抵抗ペーストを基板
に塗布し、焼き付けることによって得られた抵抗体の基
板への密着性が低下することがあり、他方、上記範囲を
上回ると、焼付け工程において、抵抗ペースト中のガラ
ス成分が流れ出すことがあり、これによって、隣接して
配置される電極の半田付け性を劣化させ、また、抵抗値
が急変したり、再現性に乏しかったりして、実用に適さ
ないことがある。In each of the above embodiments relating to the resistance material, preferably, the mixing ratio of the conductive material / non-reducing glass frit is selected so as to be in the range of 70 to 10 parts by weight / 30 to 90 parts by weight. It is. As a result, it becomes possible to obtain a resistive paste with excellent adhesion to the substrate and without flowing out of the glass component.
More specifically, when the ratio of the non-reducing glass frit falls below the above range, the resistance paste obtained by applying the resistive paste containing the resistive material to the substrate and baking the resistive paste decreases. On the other hand, if it exceeds the above range, in the baking process, the glass component in the resistance paste may flow out, thereby deteriorating the solderability of the electrodes arranged adjacently and the resistance value It may change suddenly or have poor reproducibility, making it unsuitable for practical use.
【0030】また、この発明に係る抵抗ペーストにおい
ては、前述したように、導電材料と非還元性ガラスフリ
ットとの混合物(固形成分)に有機ビヒクルを添加し
て、混練することにより、必要な印刷特性が付与されて
いるが、この有機ビヒクルとしては、たとえば、厚膜材
料ペーストにおいて使用されているエチルセルロース系
樹脂やアクリル系樹脂などをα−テレピネオールのよう
なテルペン系やケロシン、ブチルカルビトール、カルビ
トールアセテートなどの高沸点溶剤に溶解させたものな
ど、種々のものを用いることが可能であり、また、必要
であれば、チキソ性を付与するための添加剤を添加する
ことも可能である。In the resistance paste according to the present invention, as described above, an organic vehicle is added to a mixture (solid component) of a conductive material and a non-reducing glass frit, and the mixture is kneaded to obtain a necessary printing. Although properties are imparted, examples of the organic vehicle include terpene such as α-terpineol, kerosene, butyl carbitol, carbitol, and ethyl cellulose resin or acrylic resin used in a thick film material paste. Various substances such as those dissolved in a high boiling point solvent such as tall acetate can be used, and if necessary, an additive for imparting thixotropy can be added.
【0031】以上のようにして、導電材料70〜10重
量部と非還元性ガラスフリット30〜90重量部との合
計量100重量部に対して、酸化チタン(TiO2 )を
1〜10重量部、酸化コバルト(Co3 O4 およびCo
Oの少なくとも一方)を1〜15重量部、および酸化亜
鉛(ZnO)を1〜5重量部、それぞれ、含有する抵抗
材料に、有機ビヒクルを添加し、混練することにより得
られた抵抗ペーストを用いることにより、低温焼結基板
上に塗布、焼付けした場合にも、TCRが0により近い
抵抗体を確実に形成することが可能になる。As described above, 1 to 10 parts by weight of titanium oxide (TiO 2 ) is added to 100 parts by weight of the total of 70 to 10 parts by weight of the conductive material and 30 to 90 parts by weight of the non-reducing glass frit. , Cobalt oxide (Co 3 O 4 and Co
1 to 15 parts by weight of zinc oxide (ZnO) and 1 to 5 parts by weight of zinc oxide (ZnO), respectively, and a resistance paste obtained by adding and kneading an organic vehicle to a resistance material is used. This makes it possible to reliably form a resistor having a TCR closer to 0 even when applied and baked on a low-temperature sintered substrate.
【0032】また、この発明に係る抵抗ペーストによれ
ば、アルミナ基板上でのTCRのみならず、従来、制御
効果の十分でなかった、たとえば、BaOが15〜75
重量%、SiO2 が25〜80重量%、Al2 O3 が3
0重量%以下、B2 O3 が1.5〜5重量%、CaOが
1.5〜5重量%、それぞれ、含有する組成を有する低
温焼結基板上に塗布、焼付けした場合にも、TCRが0
に近い抵抗体を形成することができる。Further, according to the resistance paste according to the present invention, not only the TCR on the alumina substrate but also the conventional control effect was insufficient, for example, when the BaO was 15 to 75%.
Wt%, SiO 2 is 25 to 80 wt%, Al 2 O 3 is 3
0 wt% or less, B 2 O 3 is 1.5 to 5 wt%, CaO is 1.5 to 5 wt%, respectively, applied to the low-temperature sintering substrate having a composition containing, even when baked, TCR Is 0
Can be formed.
【0033】また、この発明に係る抵抗ペーストを塗
布、焼付けすることにより形成された抵抗体は、基板と
の密着性が良好で、かつ、低温焼結基板上に形成された
場合にも、実用可能な面積抵抗値が広く、しかも、TC
Rが良好であるという特徴を有している。The resistor formed by applying and baking the resistor paste according to the present invention has good adhesion to the substrate and is practically usable even when formed on a low-temperature sintered substrate. Possible area resistance value is wide and TC
It has the characteristic that R is good.
【0034】図1は、この発明の一実施形態によるセラ
ミック多層基板1を図解的に示す断面図である。FIG. 1 is a sectional view schematically showing a ceramic multilayer substrate 1 according to an embodiment of the present invention.
【0035】セラミック多層基板1は、複数のセラミッ
ク層2を備える。セラミック多層基板1を製造するにあ
たり、所定のセラミック組成物を含む複数のグリーンシ
ートを積層して得られたセラミック積層体を焼成するこ
とが行なわれるが、複数のセラミック層2は、これら複
数のグリーンシートの焼成の結果としてもたらされたも
のである。The ceramic multilayer substrate 1 has a plurality of ceramic layers 2. In manufacturing the ceramic multilayer substrate 1, a ceramic laminate obtained by laminating a plurality of green sheets containing a predetermined ceramic composition is fired. Resulted from firing the sheet.
【0036】セラミック多層基板1の外表面上には、表
面導体3、4、5および6が形成され、かつ、同じく内
部には、特定のセラミック層2間の界面に沿って内部導
体7、8、9、10および11が形成されるともに、特
定のセラミック層2を貫通するようにバイアホール導体
12、13、14、15および16が形成されている。
また、セラミック多層基板1の外表面上であって、表面
導体3および4間を接続するように、抵抗体17が形成
されている。Surface conductors 3, 4, 5 and 6 are formed on the outer surface of the multilayer ceramic substrate 1, and internal conductors 7 and 8 are also formed inside the ceramic multilayer substrate 1 along interfaces between specific ceramic layers 2. , 9, 10 and 11 are formed, and via-hole conductors 12, 13, 14, 15 and 16 are formed so as to penetrate the specific ceramic layer 2.
A resistor 17 is formed on the outer surface of the ceramic multilayer substrate 1 so as to connect between the surface conductors 3 and 4.
【0037】上述の表面導体3〜6、内部導体7〜11
ならびにビアホール導体12〜16は、これらを形成す
るための金属ペーストを前述のセラミック積層体に予め
付与しておき、このセラミック積層体と同時焼成するこ
とによって形成されたものである。この場合、好ましく
は、金属ペーストとしては、卑金属ペーストが用いら
れ、焼成において、中性または還元性雰囲気が適用され
る。The above-mentioned surface conductors 3 to 6 and internal conductors 7 to 11
In addition, the via-hole conductors 12 to 16 are formed by previously applying a metal paste for forming these to the above-described ceramic laminate and firing the same simultaneously with the ceramic laminate. In this case, preferably, a base metal paste is used as the metal paste, and a neutral or reducing atmosphere is applied during firing.
【0038】また、抵抗体17は、前述したようなこの
発明に係る抵抗ペーストを、焼成後の表面導体3および
4間を接続するように付与し、中性または還元性雰囲気
中で焼き付けることによって形成される。The resistor 17 is formed by applying the above-described resistor paste according to the present invention so as to connect the surface conductors 3 and 4 after firing, and baking in a neutral or reducing atmosphere. It is formed.
【0039】なお、図1に示したセラミック多層基板1
の構造、より特定的には、電気的要素および電気的接続
態様等は、この発明が適用され得るセラミック多層基板
の一例にすぎないことを指摘しておく。The ceramic multilayer substrate 1 shown in FIG.
It should be pointed out that the structure of the present invention, more specifically, the electrical element and the electrical connection mode, etc. are merely examples of the ceramic multilayer substrate to which the present invention can be applied.
【0040】[0040]
【実施例】まず、以下の要領により、電極を形成した基
板を作製した。EXAMPLE First, a substrate on which electrodes were formed was manufactured in the following manner.
【0041】BaO、SiO2 、Al2 O3 、CaO、
およびB2 O3 をそれぞれ用意し、これらを、重量比で
30:60:5:2:3の割合で配合し、これを粉砕混
合した後、850〜950℃の温度で仮焼し、さらに粉
砕した。そして、得られた粉体に有機バインダを加え
て、ドクターブレード法により、厚さ128μmのシー
トを成形した。次いで、所定の大きさに切断したこのシ
ートに銅ペーストをスクリーン印刷し、乾燥した後、圧
着成形し、基材を得た。次に、この基材を、窒素をキャ
リアガスとし、酸素および水素を微量含有させた窒素−
水蒸気雰囲気(N 2 が99.7〜99.8%)中、85
0〜1000℃の条件で、電気炉により、仮焼および本
焼を行ない、銅電極を形成した基板を得た。BaO, SiOTwo, AlTwoOThree, CaO,
And BTwoOThreeAre prepared, and these are
Mix at a ratio of 30: 60: 5: 2: 3, pulverize and mix.
After combining, calcined at a temperature of 850 to 950 ° C,
Crushed. Then add an organic binder to the obtained powder
And a 128 μm-thick sheet
Molded. Next, the sheet cut into a predetermined size is
Print the copper paste on the sheet, dry it,
The base material was obtained by molding. Next, the substrate is charged with nitrogen.
Nitrogen containing a small amount of oxygen and hydrogen as the rear gas
Steam atmosphere (N TwoIs 99.7 to 99.8%), 85
Under the condition of 0 to 1000 ° C, calcining and book
Baking was performed to obtain a substrate on which a copper electrode was formed.
【0042】他方、以下のような手順で、Nbx La
1-x B6-4x(x=0.1〜0.9)の組成を有する導電
材料と非還元性ガラスフリットとを作製した後、所要の
添加剤および有機ビヒクルを加えて、抵抗ペーストを作
製した。On the other hand, Nb x La
After preparing a conductive material having a composition of 1-x B 6-4x (x = 0.1 to 0.9) and a non-reducing glass frit, a required additive and an organic vehicle are added thereto to form a resistance paste. Produced.
【0043】まず、導電材料の出発原料である粉末状の
NbB2 とLaB6 とを用意し、これらをNbx La
1-x B6-4x(x=0.1〜0.9)の組成となるように
秤量して混合した後、るつぼに入れ、ピーク温度が10
00℃に設定された窒素(N2)雰囲気中で2時間以上
焼成することにより、NbB2 にLaB6 を固溶させた
状態の合成物を作製した。なお、このときの昇温速度
は、1分間当たり3℃となるように設定した。そして、
得られた合成物を、振動ミルを用いて、平均粒径が0.
5μmとなるまで粉砕した上で乾燥させることにより、
Nbx La1-x B6- 4x(x=0.1〜0.9)の組成を
有する導電材料を得た。First, powdered NbB 2 and LaB 6 , which are starting materials of the conductive material, were prepared, and these were Nb x La.
After weighing and mixing so as to have a composition of 1-x B 6-4x (x = 0.1 to 0.9), the mixture was placed in a crucible and the peak temperature was 10
By firing in a nitrogen (N 2 ) atmosphere set at 00 ° C. for 2 hours or more, a composite in which LaB 6 was dissolved in NbB 2 in solid solution was produced. The heating rate at this time was set to 3 ° C. per minute. And
Using a vibration mill, the obtained synthesized product was found to have an average particle size of 0.1.
By crushing and drying to 5 μm,
To obtain a conductive material having a composition of Nb x La 1-x B 6- 4x (x = 0.1~0.9).
【0044】また、NbB2 が100〜90 mol%およ
びLaB6 が0〜10 mol%の組成となるように秤量し
て混合した後、振動ミルを用いて、平均粒径が0.5μ
mとなるまで粉砕した上で乾燥させることにより、混合
系の導電材料を得た。After weighing and mixing so that NbB 2 has a composition of 100 to 90 mol% and LaB 6 has a composition of 0 to 10 mol%, the average particle diameter is 0.5 μm using a vibration mill.
Then, the mixture was crushed and dried to obtain a mixed conductive material.
【0045】また、導電材料とは別に、非還元性ガラス
フリットの出発原料であるB2 O3、SiO2 、Ba
O、CaO、Nb2 O5 、およびK2 Oをそれぞれ用意
し、これら各々を35.56:31.24:17.7
8:10.04:2.41:2.97のモル比で混合し
た後、得られた混合物を1300℃ないし1400℃の
温度下で溶融することによって溶融ガラスを作製した。
さらに、この溶融ガラスを純水中で急冷した後、振動ミ
ルを用いて、平均粒径が2μmとなるまで粉砕すること
により、非還元性ガラスフリットを得た。Further, apart from the conductive material, B 2 O 3 , SiO 2 , Ba, which are starting materials of the non-reducing glass frit,
O, CaO, Nb 2 O 5 , and K 2 O were prepared, respectively, and each of them was 35.56: 31.24: 17.7.
After mixing at a molar ratio of 8: 10.04: 2.41: 2.97, the resulting mixture was melted at a temperature of 1300 ° C. to 1400 ° C. to produce a molten glass.
Further, the molten glass was quenched in pure water, and then ground using a vibration mill until the average particle diameter became 2 μm, thereby obtaining a non-reducing glass frit.
【0046】さらに、TiO2 を第1添加剤、Co3 O
4 およびCoOの少なくとも一方を第2添加剤、ZnO
を第3添加剤として用意し、これらを、振動ミルを用い
て、平均粒径が2μmになるまで粉砕した後、表1に示
すように、Nbx La1-x B 6-4x系などの導電材料と非
還元性ガラスフリットとの混合物に対して、それぞれ添
加することによって、混合物を得た。なお、表1中のパ
ラメータであるxは、Nbx La1-x B6-4x系の導電材
料における組成割合、混合系では、NbB2 +LaB6
=x+(1−x)の組成割合を示している。Further, TiOTwoWith the first additive, CoThreeO
FourAnd CoO as a second additive, ZnO
Are prepared as a third additive, and these are added using a vibration mill.
And pulverized to an average particle size of 2 μm.
As you can see, NbxLa1-xB 6-4xSystem and other conductive materials
Add to the mixture with the reducing glass frit
Upon addition, a mixture was obtained. Note that the parameters in Table 1
The parameter x is NbxLa1-xB6-4xSystem conductive material
Composition ratio in the mixture, NbBTwo+ LaB6
= X + (1-x).
【0047】[0047]
【表1】 [Table 1]
【0048】以上のようにして得られた混合物に対し、
アクリル樹脂をα−テルピネオールに溶解した有機ビヒ
クルを加えた後、混練することによって、抵抗ペースト
を得た。With respect to the mixture obtained as described above,
After adding an organic vehicle in which an acrylic resin was dissolved in α-terpineol, kneading was performed to obtain a resistance paste.
【0049】得られた各抵抗ペーストを、先に、銅電極
を形成した低温焼結基板上の電極間に、長さ1.0mm、
幅1.0mm、乾燥膜厚20μmをもって、スクリーン印
刷した後、150℃の温度で10分間にわたって乾燥さ
せた。その後、N2 雰囲気としたトンネル炉にて、ピー
ク温度900℃で10分間保持して焼付けを行ない、そ
れによって抵抗体を形成した試料を得た。Each of the obtained resistive pastes was placed between electrodes on a low-temperature sintered substrate on which copper electrodes had been previously formed, with a length of 1.0 mm,
After screen printing with a width of 1.0 mm and a dry film thickness of 20 μm, it was dried at a temperature of 150 ° C. for 10 minutes. Thereafter, in a tunnel furnace in an N 2 atmosphere, baking was performed at a peak temperature of 900 ° C. for 10 minutes, thereby obtaining a sample in which a resistor was formed.
【0050】次に、得られた各試料について、面積抵抗
値(1.0×1.0mm□)およびTCR(Cold/T
CR:25〜−55℃間、Hot/TCR:25〜15
0℃間)を測定した。その結果を表2に示す。Next, for each of the obtained samples, the sheet resistance (1.0 × 1.0 mm □) and TCR (Cold / T
CR: 25 to -55 ° C, Hot / TCR: 25 to 15
(Between 0 ° C.). Table 2 shows the results.
【0051】[0051]
【表2】 [Table 2]
【0052】なお、表2および前掲の表1において、*
を付した試料は、この発明における好ましい範囲外の比
較例であり、それ以外は、すべて、この発明における好
ましい範囲内の実施例である。また、試料1〜22は、
Nbx La1-x B6-4x固溶体系の導電材料の場合、試料
23〜32は、NbB2 +LaB6 混合系の場合の各試
料である。In Table 2 and Table 1 above, *
The samples marked with are comparative examples outside the preferred range of the present invention, and all other examples are examples within the preferred range of the present invention. Samples 1 to 22 are:
In the case of the conductive material of the Nb x La 1-x B 6-4x solid solution system, the samples 23 to 32 are each samples in the case of the NbB 2 + LaB 6 mixed system.
【0053】図2は、表2に示した各試料の面積抵抗値
とTCRとの関係を示したものである。TCRは、Co
ld/Hotいずれか絶対値の大きい方の値をプロット
している。図2において、○は、固溶体系または混合系
で添加剤を添加していない試料に相当し、△は、その他
のこの発明における好ましい範囲外の試料に相当し、●
は、この発明における好ましい範囲内の試料に相当して
いる。FIG. 2 shows the relationship between the sheet resistance and the TCR of each sample shown in Table 2. TCR is Co
The larger of the absolute values of ld / Hot is plotted. In FIG. 2, .largecircle. Corresponds to a sample in which no additive is added in a solid solution system or a mixed system, and .DELTA. Corresponds to other samples outside the preferred range in the present invention.
Corresponds to a sample within a preferred range in the present invention.
【0054】表1、表2および図2に示すように、酸化
チタン(TiO2 )、酸化コバルト(Co3 O4 および
CoOの少なくとも一方)、および酸化亜鉛(ZnO)
を、それぞれ、この発明における好ましい範囲内で添加
した実施例に係る試料では、比較例である、いずれの添
加剤も添加していない試料に比べて、TCRが下方へシ
フトしており、同レベルの抵抗値で比較しても、そのT
CRは、±0ppm/℃に近づいている。As shown in Tables 1 and 2, and FIG. 2, titanium oxide (TiO 2 ), cobalt oxide (at least one of Co 3 O 4 and CoO), and zinc oxide (ZnO)
Respectively, in the sample according to the example in which the additive was added within a preferable range in the present invention, the TCR was shifted downward compared to the sample in which no additive was added as a comparative example, and the same level was obtained. Even when compared with the resistance value of
CR is approaching ± 0 ppm / ° C.
【0055】このように、この発明における好ましい範
囲内にある試料では、±150ppm/℃以内に入り、
添加量の変更により、TCRの調整が可能である。他
方、この発明における好ましい範囲を外れている試料で
は、TCRの劣化、および抵抗値の増大が認められると
ともに、これに加えて、抵抗値あるいはTCRの再現性
およびばらつきの劣化も認められる。As described above, the samples within the preferred range of the present invention fall within ± 150 ppm / ° C.
The TCR can be adjusted by changing the amount of addition. On the other hand, in a sample outside the preferred range in the present invention, deterioration of the TCR and an increase in the resistance value are observed, and in addition, deterioration of the reproducibility and the variation of the resistance value or the TCR is also observed.
【0056】この結果から、添加剤の添加量に関して、
導電材料と非還元性ガラスフリットとの合計量100重
量部に対して、酸化チタン(TiO2 )が1〜10重量
部、酸化コバルト(Co3 O4 およびCoOの少なくと
も一方)が1〜15重量部、および酸化亜鉛(ZnO)
が1〜5重量部であるものが、特に好ましいことがわか
る。From these results, regarding the amount of additive,
1 to 10 parts by weight of titanium oxide (TiO 2 ) and 1 to 15 parts by weight of cobalt oxide (at least one of Co 3 O 4 and CoO) based on 100 parts by weight of the total amount of the conductive material and the non-reducing glass frit Part, and zinc oxide (ZnO)
Is particularly preferably 1 to 5 parts by weight.
【0057】なお、この実施例では、導電材料の組成比
に関して、固溶体系については、x=0.5、0.2
5、0.75、ならびに混合系については、x=0.9
5であったが、組成比はこれらに限定されるものではな
く、また、特許請求の範囲に規定された組成を単独で、
あるいは組み合わせて、使用することができる。In this embodiment, regarding the composition ratio of the conductive material, x = 0.5, 0.2
5, 0.75, and for mixed systems, x = 0.9
5, but the composition ratio is not limited to these, and the composition defined in the claims alone may be used,
Alternatively, they can be used in combination.
【0058】また、非還元性ガラスフリットの成分およ
び組成比についても、実施例で用いられたものに限定さ
れるものではなく、他の種々の材料または組成比を備え
る非還元性ガラスフリットを用いることもできる。The components and composition ratios of the non-reducing glass frit are not limited to those used in the examples, and non-reducing glass frit having various other materials or composition ratios is used. You can also.
【0059】また、抵抗体を形成する対象である基板
は、実施例に示した低温焼結基板に限定されるものでは
なく、他の種々の材料からなる基板に抵抗体を形成する
場合にも、この発明を適用することができる。The substrate on which the resistor is formed is not limited to the low-temperature sintering substrate shown in the embodiment, but may be formed when the resistor is formed on a substrate made of other various materials. The present invention can be applied.
【0060】この発明は、さらに、その他の点において
も、実施例に限定されるものではなく、材料、組成、焼
付け条件、雰囲気条件などに関し、この発明の趣旨を逸
脱しない範囲で、種々の応用、変形を加えることが可能
である。The present invention is not limited to the embodiments in other respects as well, and can be applied to various materials, compositions, baking conditions, atmosphere conditions, etc. without departing from the spirit of the present invention. , Can be modified.
【0061】[0061]
【発明の効果】以上のように、この発明に係る抵抗材
料、これを用いた抵抗ペーストおよび抵抗体、ならびに
この抵抗体を備えるセラミック多層基板によれば、抵抗
材料が、導電材料と添加剤とを含有し、導電材料とし
て、一般式:Nbx La1-x B6-4x(x=0.1〜0.
9)で表される導電材料、または100〜90 mol%の
NbB2 および0〜10 mol%のLaB6 からなる導電
材料を含有し、添加剤として、酸化チタン(Ti
O2 )、酸化コバルト(Co3 O4 およびCoOの少な
くとも一方)、および酸化亜鉛(ZnO)を含有してい
るので、この抵抗材料を含む抵抗ペーストを焼き付けて
形成した抵抗体において、その面積抵抗値が低い領域
(10Ω/□〜100Ω/□付近)におけるTCRをプ
ラスからマイナス方向へシフトさせ、TCRの絶対値を
0に近づけることが可能となり、中性または還元性雰囲
気中で焼き付けられる抵抗ペーストに実用上必要とされ
るTCRを十分満たすような調整が可能となる。As described above, according to the resistive material according to the present invention, the resistive paste and the resistive element using the resistive material, and the ceramic multilayer substrate provided with the resistive substance, the resistive material comprises the conductive material and the additive. And a general formula: Nb x La 1-x B 6-4x (x = 0.1-0.
Containing a conductive material made of a conductive material or 100 to 90 mol% of NbB 2 and 0 mol% of LaB 6, represented by 9), as additives, titanium oxide (Ti
O 2 ), cobalt oxide (at least one of Co 3 O 4 and CoO), and zinc oxide (ZnO). A resistance paste which can be shifted in a positive direction to a negative direction in a low value region (around 10Ω / □ to 100Ω / □) to make the absolute value of TCR close to 0, and which is baked in a neutral or reducing atmosphere This makes it possible to make an adjustment that sufficiently satisfies the TCR required for practical use.
【0062】この発明において、導電材料および非還元
性ガラスフリットの合計量100重量部に対する、上述
した添加剤の添加量が、酸化チタン(TiO2 )が1〜
10重量部、酸化コバルト(Co3 O4 およびCoOの
少なくとも一方)が1〜15重量部、および酸化亜鉛
(ZnO)が1〜5重量部とそれぞれなるように選ばれ
ると、上述した効果がより確実に達成される。In the present invention, the additive amount of the above-mentioned additive with respect to 100 parts by weight of the total amount of the conductive material and the non-reducing glass frit is such that titanium oxide (TiO 2 ) is 1 to
When 10 parts by weight, cobalt oxide (at least one of Co 3 O 4 and CoO) is selected to be 1 to 15 parts by weight, and zinc oxide (ZnO) is 1 to 5 parts by weight, the above-mentioned effects are more improved. Achieved reliably.
【0063】また、この発明において、導電材料/非還
元性ガラスフリットの配合割合が、70〜10重量部/
30〜90重量部の範囲にあるように選ばれると、基板
への密着性を優れたものとし、かつ、ガラス成分の流れ
出しのない抵抗ペーストを得ることができるようにな
る。In the present invention, the mixing ratio of the conductive material / non-reducing glass frit is 70 to 10 parts by weight /
When it is selected so as to be in the range of 30 to 90 parts by weight, it becomes possible to obtain a resistance paste having excellent adhesion to the substrate and free of the outflow of glass components.
【図1】この発明の一実施形態によるセラミック多層基
板1を図解的に示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a ceramic multilayer substrate 1 according to an embodiment of the present invention.
【図2】この発明に係る実施例および比較例の面積抵抗
値とTCRとの関係を示す図である。FIG. 2 is a diagram illustrating a relationship between a sheet resistance value and a TCR in Examples and Comparative Examples according to the present invention.
1 セラミック多層基板 17 抵抗体 1 ceramic multilayer substrate 17 resistor
Claims (8)
材料として、一般式:Nbx La1-x B6-4x(x=0.
1〜0.9)で表される導電材料、または100〜90
mol%のNbB2 および0〜10 mol%のLaB6 から
なる導電材料を含有し、前記添加剤として、酸化チタン
(TiO2 )、酸化コバルト(Co3O4 およびCoO
の少なくとも一方)、および酸化亜鉛(ZnO)を含有
することを特徴とする、抵抗材料。A conductive material and an additive, wherein the conductive material has a general formula: Nb x La 1-x B 6-4x (x = 0.
1 to 0.9), or 100 to 90
containing mol% of NbB 2 and 0 mol% of the conductive material consisting of LaB 6, as the additive, titanium oxide (TiO 2), cobalt oxide (Co 3 O 4 and CoO
), And zinc oxide (ZnO).
0.1〜0.9)で表される導電材料と非還元性ガラス
フリットと添加剤とを含有し、前記添加剤として、前記
導電材料および前記非還元性ガラスフリットの合計量1
00重量部に対して、酸化チタン(TiO2 )が1〜1
0重量部、酸化コバルト(Co3 O4 およびCoOの少
なくとも一方)が1〜15重量部、および酸化亜鉛(Z
nO)が1〜5重量部、それぞれ、含有することを特徴
とする、抵抗材料。2. A general formula: Nb x La 1-x B 6-4x (x =
0.1 to 0.9), a non-reducing glass frit, and an additive, wherein the additive has a total amount of 1 of the conductive material and the non-reducing glass frit.
1 to 1 part by weight of titanium oxide (TiO 2 ) to 00 parts by weight
0 parts by weight, 1 to 15 parts by weight of cobalt oxide (at least one of Co 3 O 4 and CoO), and zinc oxide (Z
nO) in an amount of 1 to 5 parts by weight, respectively.
〜10 mol%のLaB6 からなる導電材料と非還元性ガ
ラスフリットと添加剤とを含有し、前記添加剤として、
前記導電材料および前記非還元性ガラスフリットの合計
量100重量部に対して、酸化チタン(TiO2 )が1
〜10重量部、酸化コバルト(Co3O4 およびCoO
の少なくとも一方)が1〜15重量部、および酸化亜鉛
(ZnO)が1〜5重量部、それぞれ、含有することを
特徴とする、抵抗材料。3. 100 to 90 mol% of NbB 2 and 0
Containing a to 10 mol% conductive material consisting of LaB 6 of the non-reducing glass frit and the additive, as the additive,
1 part by weight of titanium oxide (TiO 2 ) based on 100 parts by weight of the total amount of the conductive material and the non-reducing glass frit.
To 10 parts by weight of cobalt oxide (Co 3 O 4 and CoO
(1) to 15 parts by weight of zinc oxide (ZnO) and 1 to 5 parts by weight of zinc oxide (ZnO).
ットの配合割合が、70〜10重量部/30〜90重量
部の範囲にあることを特徴とする、請求項2または3に
記載の抵抗材料。4. The resistor according to claim 2, wherein a mixing ratio of the conductive material / the non-reducing glass frit is in a range of 70 to 10 parts by weight / 30 to 90 parts by weight. material.
抗材料に有機ビヒクルを添加し、混練して得られたこと
を特徴とする、抵抗ペースト。5. A resistive paste obtained by adding an organic vehicle to the resistive material according to claim 2 and kneading the mixture.
25〜80重量%、Al2 O3 が30重量%以下、B2
O3 が1.5〜5重量%、CaOが1.5〜5重量%、
それぞれ、含有する組成を有する低温焼結基板上に抵抗
体を形成するために用いられることを特徴とする、請求
項5に記載の抵抗ペースト。6. BaO is 15 to 75 wt%, SiO 2 is 25 to 80 wt%, Al 2 O 3 is 30 wt% or less, B 2
O 3 1.5 to 5% by weight, CaO 1.5 to 5% by weight,
The resistive paste according to claim 5, wherein each of the resistive pastes is used to form a resistor on a low-temperature sintered substrate having a contained composition.
を塗布し、焼き付けることによって形成された、抵抗
体。7. A resistor formed by applying and baking the resistor paste according to claim 5 or 6.
ミック多層基板。8. A ceramic multilayer substrate comprising the resistor according to claim 7.
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JP4021098 | 1998-02-23 | ||
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---|---|
JPH11307305A true JPH11307305A (en) | 1999-11-05 |
JP3538699B2 JP3538699B2 (en) | 2004-06-14 |
Family
ID=26354796
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP01815499A Expired - Fee Related JP3538699B2 (en) | 1998-02-23 | 1999-01-27 | Resistance material, resistance paste and resistor using the same, and ceramic multilayer substrate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3538699B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006093569A (en) * | 2004-09-27 | 2006-04-06 | Kyocera Corp | Glass ceramic wiring board |
-
1999
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006093569A (en) * | 2004-09-27 | 2006-04-06 | Kyocera Corp | Glass ceramic wiring board |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3538699B2 (en) | 2004-06-14 |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040129 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090402 Year of fee payment: 5 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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