JPH11302038A - Heat ray reflective light-transmissible plate and heat ray reflective double layer light-transmissible plate using the same - Google Patents

Heat ray reflective light-transmissible plate and heat ray reflective double layer light-transmissible plate using the same

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JPH11302038A
JPH11302038A JP10124049A JP12404998A JPH11302038A JP H11302038 A JPH11302038 A JP H11302038A JP 10124049 A JP10124049 A JP 10124049A JP 12404998 A JP12404998 A JP 12404998A JP H11302038 A JPH11302038 A JP H11302038A
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JP
Japan
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film
heat ray
light
refractive index
ray reflective
Prior art date
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Application number
JP10124049A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koichiro Kiyohara
康一郎 清原
Masato Hyodo
正人 兵藤
Kiyotaka Ichiki
聖敬 市来
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Nippon Sheet Glass Co Ltd
Original Assignee
Nippon Sheet Glass Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress the adhesion of stains to a heat ray reflection film surface and to allow the easy dislodgment of the adhered stains by consisting at the film on the outermost layer of the heat ray reflection film formed by laminating plural films formed on a light-transmissible substrate of an amorphous film. SOLUTION: Heat ray reflection glass 20 is constituted by successively laminating an SnO2 film 23 which has a relatively high refractive index and is a columnar polycrystal and an SiO2 film 24 which has a relatively low refractive index and is amorphous on a transparent glass substrate 22 having a relatively low refractive index. The heat ray reflection film 21 is composed of the SnO2 film 23 and the SiO2 film 24. Since the SiO2 film 24 is amorphous, the film easily infiltrates the inside of the recessed parts existing in the outer surface 23a of the SnO2 film 23 and airtightly adheres to the outer surface 23a over the entire part thereof. In addition, the outer surface 24a of the SiO2 film 24 is relatively flat and has nearly the smooth ruggedness even if the minor ruggedness exists. The surface roughness having, for example, 200 nm is obtd.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、太陽光線のうちか
ら主として赤外線を効率良く反射することにより優れた
断熱性を有する建築物用、輸送機器用などの熱線反射性
透光板に関するものであり、また、このような熱線反射
性透光板を用いた熱線反射性複層透光板にも関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a heat-ray-reflecting light-transmitting plate for buildings and transportation equipment having excellent heat insulating properties by efficiently reflecting mainly infrared rays from sunlight. Also, the present invention relates to a heat-reflective multilayer translucent plate using such a heat-reflective translucent plate.

【0002】[0002]

【従来の技術】太陽光線のうちから主として赤外線を効
率良く反射することにより優れた断熱性を有する熱線反
射ガラスとして、従来から、例えば図6に示すものが知
られている。この図6に示す熱線反射ガラス10は、透
明ガラス基板12上に順に、第1の金属酸化物膜13、
SiO2 膜14および第2の金属酸化物膜15を積層し
たものである。そして、これら第1および第2の金属酸
化物膜13、15ならびにSiO2 膜14によって熱線
反射膜11が構成されている。なお、上記第1および第
2の金属酸化物膜13、15は、それぞれ、ITO、S
nO2 またはZnOのスパッタリング、スプレー、CV
Dまたは蒸着により形成される。
2. Description of the Related Art As a heat ray reflective glass having excellent heat insulating properties by efficiently reflecting infrared rays mainly from sunlight, for example, the one shown in FIG. 6 is conventionally known. The heat ray reflective glass 10 shown in FIG. 6 includes a first metal oxide film 13,
It is obtained by laminating an SiO 2 film 14 and a second metal oxide film 15. The first and second metal oxide films 13 and 15 and the SiO 2 film 14 constitute the heat ray reflective film 11. The first and second metal oxide films 13 and 15 are made of ITO and S, respectively.
Sputtering, spraying, CV of nO 2 or ZnO
D or formed by vapor deposition.

【0003】図6に示す熱線反射ガラス10において、
その膜厚が比較的大きい第2の金属酸化物膜15は、優
れた熱線反射機能を有するものであって、熱線反射膜本
体として機能するように構成されている。また、その膜
厚が比較的小さい第1の金属酸化物膜13は、太陽光線
のうちの第2の金属酸化物膜15によって反射される光
とはほぼ補色関係にある光を主として反射させる補色光
反射機能を有するものである。また、SiO2 膜14
は、第1および第2の金属酸化物膜13、15に較べて
屈折率が小さいものであって、これら第1および第2の
金属酸化物膜13、14との界面に所定の屈折率差を持
たせるためのものである。そして、太陽光線は、その高
屈折率側(すなわち、第1または第2の金属酸化物膜1
3または15側)から低屈折率側(すなわち、SiO2
膜14側)に向って上記界面を通過しようとする際に、
その波長に依存した反射を或る程度行う。
[0003] In the heat ray reflective glass 10 shown in FIG.
The second metal oxide film 15 having a relatively large film thickness has an excellent heat ray reflection function, and is configured to function as a heat ray reflection film main body. The first metal oxide film 13 having a relatively small film thickness is a complementary color that mainly reflects light that is substantially complementary to light reflected by the second metal oxide film 15 in sunlight. It has a light reflection function. The SiO 2 film 14
Has a smaller refractive index than the first and second metal oxide films 13 and 15, and has a predetermined refractive index difference at the interface with the first and second metal oxide films 13 and 14. It is to have. Then, the sunlight is irradiated on the high refractive index side (that is, the first or second metal oxide film 1).
3 or 15 side) to the lower refractive index side (ie, SiO 2
When trying to pass through the interface toward the film 14)
A certain degree of reflection depending on the wavelength is performed.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】このような図6に示す
熱線反射ガラス10においては、第1および第2の金属
酸化物膜13、15が柱状の多結晶であるので、その最
上層(すなわち、最外層)である第2の金属酸化物膜1
5の外側表面15aは、顕著な凹凸を有しかつ非常に硬
いので、やすりの表面のようになっている。このため
に、図5に示す熱線反射ガラス10の第2の金属酸化物
膜15の外側表面15aに異物が接触すると、この異物
が削られてこの削られた多数の細粉がこの外側表面15
aに存在する凹部内に埋没するので、これらの細粉が汚
れとなって上記外側表面15aに付着し、また、この汚
れは落ちにくいものであった。したがって、図6に示す
熱線反射ガラス10を建築物用(特に、住宅用)などの
熱線反射複層ガラスの構成部材として用いる場合には、
この複層ガラスを構成する2枚のガラスの間に形成され
る乾燥空気層にその熱線反射膜11が面するように、こ
の熱線反射膜11を複層ガラスの内部に配するようにし
ていた。よって、図6に示す熱線反射ガラス10をその
構成部材として用いて熱線反射複層ガラスを製造すると
きにこの熱線反射ガラス10の膜面(すなわち、熱線反
射膜11が形成されている側の面)を他方の面と区別し
得るように、熱線反射ガラス10の適当な箇所にシール
を貼って膜面がどちら側の面であるかを指示する必要が
あった。
In the heat ray reflective glass 10 shown in FIG. 6, since the first and second metal oxide films 13 and 15 are columnar polycrystals, the uppermost layer (that is, the uppermost layer) , The outermost layer) of the second metal oxide film 1
The outer surface 15a of 5 has remarkable irregularities and is very hard, so that it is like a file surface. Therefore, when foreign matter comes into contact with the outer surface 15a of the second metal oxide film 15 of the heat ray reflective glass 10 shown in FIG.
Since these particles are buried in the recesses existing in the area a, these fine powders become dirt and adhere to the outer surface 15a, and the dirt is difficult to remove. Therefore, when the heat ray reflective glass 10 shown in FIG. 6 is used as a component of a heat ray reflective double glass for buildings (particularly, for houses),
The heat ray reflective film 11 is arranged inside the multilayer glass such that the heat ray reflective film 11 faces a dry air layer formed between the two glasses constituting the multilayer glass. . Therefore, when manufacturing the heat ray reflective multilayer glass using the heat ray reflection glass 10 shown in FIG. 6 as a constituent member, the film surface of the heat ray reflection glass 10 (that is, the surface on which the heat ray reflection film 11 is formed). ), It was necessary to attach a seal to an appropriate portion of the heat ray reflective glass 10 so as to indicate on which side the film surface is.

【0005】また、所定の熱線反射性能を確保するため
には、熱線反射膜11を構成している第1および第2の
金属酸化物膜13、15ならびにSiO2 膜14が予め
決定された所定の膜厚をそれぞれ有している必要がある
ので、熱線反射ガラス10は、その色調が一義的に決ま
ってしまってこの色調を自由に変化させることができな
かった。
In order to ensure a predetermined heat ray reflection performance, the first and second metal oxide films 13 and 15 and the SiO 2 film 14 constituting the heat ray reflection film 11 are determined in advance. Therefore, the color tone of the heat ray reflective glass 10 cannot be freely changed because the color tone is uniquely determined.

【0006】本発明の1つの目的は、従来の熱線反射ガ
ラスとほぼ同様の熱線反射性能を有するにもかかわら
ず、熱線反射膜の表面に汚れが付着しにくく、また、汚
れが付着してもこの汚れを落としやすい熱線反射性透光
板を提供することである。
One object of the present invention is to prevent dirt from adhering to the surface of a heat ray reflective film even though it has substantially the same heat ray reflection performance as conventional heat ray reflective glass. An object of the present invention is to provide a heat-reflective light-transmitting plate that easily removes such dirt.

【0007】また、本発明の別の目的は、従来の熱線反
射ガラスとほぼ同様の熱線反射性能を有するにもかかわ
らず、その製造時にその色調を比較的自由に調整するこ
とができる熱線反射性透光板を提供することである。
Another object of the present invention is to provide a heat-ray reflective glass which has a heat-ray reflective performance substantially similar to that of a conventional heat-ray reflective glass, but whose color tone can be adjusted relatively freely at the time of manufacture. It is to provide a light transmitting plate.

【0008】また、本発明のさらに別の目的は、この熱
線反射性透光板をその構成部材として用いて熱線反射性
複層透光板を製造する場合にこの熱線反射性透光板の膜
面を他方の面と予め区別しておく必要が特にない熱線反
射性透光板を提供することである。
[0008] Still another object of the present invention is to provide a heat-reflective multilayer translucent plate using the heat-reflective translucent plate as a constituent member thereof. It is an object of the present invention to provide a heat-reflective light-transmitting plate which does not particularly need to distinguish one surface from another surface in advance.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、透光性基板上
に、複数の膜を積層することにより構成された熱線反射
膜が形成され、この熱線反射膜のうちの最外層の膜がア
モルファス物質から構成されている熱線反射性透光板に
係るものである。
According to the present invention, a heat ray reflective film formed by laminating a plurality of films on a light-transmitting substrate is formed, and the outermost film among the heat ray reflective films is formed. The present invention relates to a heat-reflective translucent plate made of an amorphous substance.

【0010】上記透光性基板は、少なくとも可視光領域
で透明または半透明のガラス板もしくは少なくとも可視
光領域で透明または半透明の合成樹脂板であってよい。
そして、上記ガラス板の材料としては、フロートガラ
ス、ソーダライムガラス、ほう珪酸ガラス、結晶化ガラ
スなどを用いることができる。また、上記合成樹脂板の
材料としては、PET(ポリエチレンテレフタレー
ト)、PVB(ポリビニルブチラール)、EVA(エチ
ルビニルアセテート)、セルロース系樹脂などを用いる
ことができる。なお、上記透光基板の厚みは、一般的に
言えば、0.5〜10mmであってよく、1〜5mmで
あるのが好ましい。
[0010] The translucent substrate may be a transparent or translucent glass plate at least in a visible light region or a transparent or translucent synthetic resin plate at least in a visible light region.
As a material for the glass plate, float glass, soda lime glass, borosilicate glass, crystallized glass, or the like can be used. Further, as the material of the synthetic resin plate, PET (polyethylene terephthalate), PVB (polyvinyl butyral), EVA (ethyl vinyl acetate), a cellulose resin, or the like can be used. The thickness of the light-transmitting substrate may be generally 0.5 to 10 mm, and preferably 1 to 5 mm.

【0011】上記アモルファス物質は、酸化物であるの
が好ましく、そのうちでもSiO2などの酸化けい素、
Al2 3 などの酸化アルミニウムおよびSnSiOx
などのすず・けい素複合酸化物からなるグループから選
ばれた少なくとも一種であるのがさらに好ましく、その
うちでもSiO2 であるのが特に好ましい。
The above-mentioned amorphous substance is preferably an oxide, among which silicon oxide such as SiO 2 ,
Aluminum oxide such as Al 2 O 3 and SnSiOx
More preferably, it is at least one member selected from the group consisting of tin / silicon composite oxides, and among them, SiO 2 is particularly preferred.

【0012】上記最外層の膜のすぐ内側の膜は、上記最
外層の膜よりも屈折率が高い結晶性(特に、柱状多結
晶)の物質(特に、金属酸化物)から構成されているの
が好ましく、そのうちでもSnO2 などの酸化すず(ふ
っ素、塩素、アンチモンなどのドープ品も含む)、In
2 3 などの酸化インジウム、ITO(SnO2 含有の
In2 3 )、ZnOなどの酸化亜鉛(ふっ素、インジ
ウム、すず、アルミニウムなどのドープ品も含む)およ
びCd2 5 などの酸化カドミウムからなるグループか
ら選ばれた少なくとも一種から構成されているのがさら
に好ましく、そのうちでもSnO2 であるのが特に好ま
しい。
The film immediately inside the outermost layer is made of a crystalline (particularly columnar polycrystalline) substance (particularly a metal oxide) having a higher refractive index than the outermost layer. Of which, among them, tin oxide such as SnO 2 (including doped products such as fluorine, chlorine and antimony), In
Indium oxide including 2 O 3, ITO (SnO 2 containing an In 2 O 3), zinc oxide, such as ZnO (fluorine, indium, tin, including doped aluminum product) and from cadmium oxide, such as Cd 2 O 5 More preferably, it is composed of at least one selected from the group consisting of, and among them, SnO 2 is particularly preferred.

【0013】本発明の一つの観点によれば、透光性基板
上に、屈折率が比較的高い物質から構成され熱線反射膜
本体として機能する内側膜と、屈折率が比較的低いアモ
ルファス物質から構成された最外層の膜とが順次積層さ
れていてよい。また、本発明の別の観点によれば、透光
性基板上に、屈折率が比較的低い物質から構成された最
内層の膜と、屈折率が比較的高い物質から構成され熱線
反射膜本体として機能する中間膜と、屈折率が比較的低
いアモルファス物質から構成された最外層の膜とが順次
積層されていてよい。また、本発明のさらに別の観点に
よれば、透光性基板上に、屈折率が比較的高い物質から
構成された最内層の膜と、屈折率が比較的低い物質から
構成された第1の中間膜と、屈折率が比較的高い物質か
ら構成された第2の中間膜と、屈折率が比較的低いアモ
ルファス物質から構成された最外層の膜とが順次積層さ
れ、上記最内層の膜および上記第2の中間膜のうちの一
方が熱線反射膜本体として機能するように構成されてい
てよい。
According to one aspect of the present invention, an inner film composed of a material having a relatively high refractive index and functioning as a heat ray reflective film main body and an amorphous material having a relatively low refractive index are formed on a light-transmitting substrate. The configured outermost film may be sequentially laminated. According to another aspect of the present invention, a film of an innermost layer made of a material having a relatively low refractive index and a heat ray reflective film main body made of a material having a relatively high refractive index are formed on a light-transmitting substrate. And an outermost layer made of an amorphous substance having a relatively low refractive index may be sequentially laminated. According to still another aspect of the present invention, an innermost layer film made of a material having a relatively high refractive index and a first film made of a material having a relatively low refractive index are formed on a light-transmitting substrate. , A second intermediate film made of a material having a relatively high refractive index, and an outermost film made of an amorphous material having a relatively low refractive index are sequentially laminated, and the film of the innermost layer is formed. Further, one of the second intermediate films may be configured to function as a heat ray reflective film main body.

【0014】上記屈折率が比較的低い物質は、アモルフ
ァス物質(特に、酸化物)であるのが好ましく、そのう
ちでもSiO2 などの酸化けい素、Al2 3 などの酸
化アルミニウムおよびSnSiOxなどのすず・けい素
複合酸化物からなるグループから選ばれた少なくとも一
種であるのがさらに好ましく、そのうちでもSiO2
あるのが特に好ましい。また、上記屈折率が比較的高い
物質は、結晶性(特に、柱状多結晶)の物質(特に、金
属酸化物)から構成されているのが好ましく、そのうち
でもSnO2 などの酸化すず(ふっ素、塩素、アンチモ
ンなどのドープ品も含む)、In2 3 などの酸化イン
ジウム、ITO、ZnOなどの酸化亜鉛(ふっ素、イン
ジウム、すず、アルミニウムなどのドープ品も含む)お
よびCd2 5 などの酸化カドミウムからなるグループ
から選ばれた少なくとも一種であるのがさらに好まし
く、そのうちでもSnO2 であるのが特に好ましい。
The substance having a relatively low refractive index is preferably an amorphous substance (particularly, an oxide), among which silicon oxide such as SiO 2 , aluminum oxide such as Al 2 O 3 and tin such as SnSiOx. more preferably at least one kind of silicon selected from the group consisting of composite oxides, and particularly preferably from SiO 2 among them. The substance having a relatively high refractive index is preferably composed of a crystalline (particularly, columnar polycrystalline) substance (particularly, a metal oxide), and among them, tin oxide such as SnO 2 (fluorine, Doped products such as chlorine and antimony), indium oxide such as In 2 O 3 , zinc oxide such as ITO and ZnO (including doped products such as fluorine, indium, tin and aluminum) and oxidation such as Cd 2 O 5 More preferably, it is at least one selected from the group consisting of cadmium, and among them, SnO 2 is particularly preferable.

【0015】上記最外層の膜のすぐ内側の膜の外側表面
の表面粗さは、約10〜1,000nmであってよく、
約10〜500nmであるのがさらに好ましい。そし
て、この表面粗さに関する数値は、上記屈折率が比較的
高い物質から構成された他の膜についても該当する。ま
た、上記最外層の膜の表面粗さは、約10〜500nm
であるのが好ましく、約10〜100nmであるのがさ
らに好ましい。そして、この表面粗さに関する数値は、
上記屈折率が比較的低い物質から構成された他の膜につ
いても該当する。さらに、上記最外層の膜のすぐ内側の
膜(および/または上記屈折率が比較的高い物質から構
成された他の膜)の表面粗さと上記最外層の膜(および
/または上記屈折率が比較的低い物質から構成された他
の膜)との表面粗さの差は、5〜500nmであるのが
好ましく、5〜100nmであるのがさらに好ましい。
[0015] The surface roughness of the outer surface of the film immediately inside the outermost film may be about 10 to 1,000 nm,
More preferably, it is about 10 to 500 nm. The numerical value relating to the surface roughness also applies to other films made of the above-mentioned substance having a relatively high refractive index. The outermost layer has a surface roughness of about 10 to 500 nm.
And more preferably about 10 to 100 nm. And the numerical value related to this surface roughness is
This also applies to other films made of a material having a relatively low refractive index. Further, the surface roughness of the film immediately inside the outermost layer film (and / or the other film made of a material having a relatively high refractive index) is compared with the surface roughness of the outermost layer film (and / or the refractive index). The difference in surface roughness from another film composed of a very low substance is preferably from 5 to 500 nm, more preferably from 5 to 100 nm.

【0016】上記最外層の膜の膜厚は、5〜200nm
であるのが好ましく、10〜100nmであるのがさら
に好ましい。また、熱線反射膜本体として機能するよう
に構成された膜の膜厚は、200〜1,000nmであ
るのが好ましく、250〜600nmであるのがさらに
好ましい。
The thickness of the outermost layer is 5 to 200 nm.
Is preferably, and more preferably, 10 to 100 nm. The thickness of the film configured to function as the heat ray reflective film main body is preferably from 200 to 1,000 nm, and more preferably from 250 to 600 nm.

【0017】上記最外層の膜の波長550nmの光に対
する屈折率は、1.45〜1.8であるのが好ましい。
そして、この屈折率に関する数値は、上記屈折率が比較
的低い物質から構成された他の膜についても該当する。
また、上記最外層の膜のすぐ内側の膜の波長550nm
の光に対する屈折率は、1.8〜2.5であるのが好ま
しい。そして、この屈折率に関する数値は、上記屈折率
が比較的高い物質から構成された他の膜についても該当
する。さらに、上記最外層の膜のすぐ内側の膜(および
/または上記屈折率が比較的高い物質から構成された他
の膜)の波長550nmの光に対する屈折率と、上記最
外層の膜(および/または上記屈折率が比較的低い物質
から構成された他の膜)の波長550nmの光に対する
屈折率との差は、0.1〜0.8であるのが好ましい。
The refractive index of the film of the outermost layer with respect to light having a wavelength of 550 nm is preferably 1.45 to 1.8.
The numerical value related to the refractive index also applies to other films made of the substance having a relatively low refractive index.
In addition, the wavelength of the film just inside the outermost film is 550 nm.
Has a refractive index of preferably 1.8 to 2.5. The numerical value related to the refractive index also applies to other films composed of the above-mentioned substance having a relatively high refractive index. Further, the refractive index of the film immediately inside the film of the outermost layer (and / or the other film composed of a material having a relatively high refractive index) with respect to the light having a wavelength of 550 nm, and the film of the outermost layer (and / or Alternatively, the difference from the refractive index of the other film composed of a substance having a relatively low refractive index) with respect to light having a wavelength of 550 nm is preferably 0.1 to 0.8.

【0018】また、本発明は、上述のような熱線反射性
透光板と、この熱線反射性透光板に対向するように配さ
れた少なくとも1つの第2の透光板とからなり、上記熱
線反射性透光板に設けられた上記熱線反射膜がこの熱線
反射性透光板の両面のうちの上記少なくとも1つの第2
の透光板に面する側とは反対側の面に配されるように、
上記熱線反射性透光板と上記少なくとも1つの第2の透
光板とが互いに結合されている熱線反射性複層透光板に
も係るものである。なお、上記第2の透光板としては、
上記熱線反射性透光板において透光性基板として用いる
ことができる既述のような材料、厚みなどのものを同様
に用いることができる。また、この第2の透光板にも、
上記熱線反射性透光板の透光性基板の場合と同様の熱線
反射膜が形成されていてもよい。
Further, the present invention comprises a heat ray-reflecting light-transmitting plate as described above, and at least one second light-transmitting plate disposed so as to face the heat ray-reflecting light-transmitting plate. The heat ray reflective film provided on the heat ray reflective light transmissive plate is the at least one second surface of both surfaces of the heat ray reflective light transmissive plate.
So that it is arranged on the side opposite to the side facing the translucent plate of
The present invention also relates to a heat-reflective multilayer light-transmitting plate in which the heat-reflective light-transmitting plate and the at least one second light-transmitting plate are connected to each other. In addition, as said 2nd translucent plate,
The above-mentioned materials, thicknesses, and the like that can be used as the light-transmitting substrate in the heat-ray reflective light-transmitting plate can also be used. Also, this second light-transmitting plate
A heat ray reflective film similar to the light transmissive substrate of the heat ray reflective light transmissive plate may be formed.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】つぎに、本発明を熱線反射ガラス
に適用した第1、第2および第3の実施例と、本発明を
熱線反射複層ガラスに適用した一実施例とを図1〜図5
を参照してそぞれ説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows first, second and third embodiments in which the present invention is applied to a heat ray reflective glass, and one embodiment in which the present invention is applied to a heat ray reflective double glass. ~ FIG.
And will be described with reference to FIGS.

【0020】熱線反射ガラス まず、本発明を熱線反射ガラスに適用した第1、第2お
よび第3の実施例を図1〜図4を参照して順に説明す
る。
Heat Reflection Glass First, second, and third embodiments in which the present invention is applied to a heat reflection glass will be described in order with reference to FIGS.

【0021】第1の実施例 この第1の実施例における熱線反射ガラス20は、図1
に示す構造を有するように、つぎのようにして製造され
た。
[0021] The first embodiment heat reflecting glass 20 in the first embodiment, FIG. 1
Was manufactured as follows so as to have the structure shown in FIG.

【0022】まず、溶融窯で溶融させたソーダ石灰シリ
カガラスをすず槽に流し込むようにしたフロート法によ
って、厚さ2mmの板状ガラスを形成した。このすず槽
内の雰囲気は、98容量%の窒素と2容量%の水素とか
らなっていた。また、この雰囲気の圧力は、すず槽外の
圧力よりも若干高かった。なお、上記板状ガラスは、そ
の後に所定の寸法に切断されて透明ガラス基板22を構
成するものである。また、上記すず槽内には、そこにお
いてオンラインCDV法を実行できるように、原料ガス
を供給できる複数群のノズルが板状ガラスの流れ方向に
沿って設けられていた。
First, a plate glass having a thickness of 2 mm was formed by a float method in which soda-lime-silica glass melted in a melting furnace was poured into a tin tank. The atmosphere in the tin bath consisted of 98% by volume of nitrogen and 2% by volume of hydrogen. The pressure in this atmosphere was slightly higher than the pressure outside the tin tank. In addition, the above-mentioned plate glass is cut into a predetermined size to form the transparent glass substrate 22. Further, in the tin bath, a plurality of groups of nozzles capable of supplying a raw material gas are provided along the flow direction of the sheet glass so that the online CDV method can be performed there.

【0023】上述のようにしてすず槽内で形成された板
状ガラスが第1群のノズルの下方を通過する際に、ジメ
チルすずジクロライドの蒸気、酸素および窒素の混合ガ
ス(以下、「上記第1の混合ガス」という)がこの第1
群のノズルからこの板状ガラスに供給された。この結
果、この板状ガラス上に膜厚300nmのSnO2 膜2
3が形成された。
When the sheet glass formed in the tin tank as described above passes below the first group of nozzles, a mixed gas of dimethyltin dichloride vapor, oxygen and nitrogen (hereinafter, referred to as the above-mentioned "No. 1) is the first gas
The sheet glass was fed from a group of nozzles. As a result, a SnO 2 film 2 having a thickness of 300 nm was formed on the sheet glass.
3 was formed.

【0024】ついで、上記板状ガラスが第2群のノズル
の下方を通過する際に、モノシラン、エチレン、酸素お
よび窒素の混合ガス(以下、「上記第2の混合ガス」と
いう)がこの第2群のノズルからこの板状ガラスに供給
された。この結果、この板状ガラスのSnO2 膜23上
に膜厚20mmのSiO2 膜24が形成された。
Next, when the sheet glass passes below the nozzles of the second group, a mixed gas of monosilane, ethylene, oxygen and nitrogen (hereinafter referred to as the "second mixed gas") is applied to the second group of nozzles. The sheet glass was fed from a group of nozzles. As a result, an SiO 2 film 24 having a thickness of 20 mm was formed on the SnO 2 film 23 of the sheet glass.

【0025】この場合、板状ガラスが第1群および第2
群のノズルの下方を通過する時間はほぼ等しいので、S
nO2 膜23およびSiO2 膜24のそれぞれの膜厚
は、これら第1群および第2群のノズルから供給される
原料ガスの濃度を変えることにより、自由に制御するこ
とができる。
In this case, the sheet glass is composed of the first group and the second group.
Since the time to pass under the group of nozzles is approximately equal, S
The thickness of each of the nO 2 film 23 and the SiO 2 film 24 can be freely controlled by changing the concentrations of the source gases supplied from the nozzles of the first and second groups.

【0026】ついで、板状ガラスを冷却させてから所定
の寸法に切断することにより、図1に示す熱線反射ガラ
ス20を得ることができた。
Then, the sheet glass was cooled and then cut into a predetermined size, whereby the heat ray reflective glass 20 shown in FIG. 1 was obtained.

【0027】図1に示す熱線反射ガラス20は、屈折率
が比較的低い透明ガラス基板22上に順に、屈折率が比
較的高くかつ柱状の多結晶であるSnO2 膜(すなわ
ち、金属酸化物膜)23および屈折率が比較的低くかつ
アモルファスであるSiO2 膜24が積層されたもので
ある。そして、SnO2 膜23およびSiO2 膜24に
よって熱線反射膜21が構成されている。また、SnO
2 膜23は柱状の多結晶であるから、このSnO2 膜2
3の外側表面23aは顕著な凹凸を有していてその表面
粗さは例えば350nmである。しかし、SiO2 膜2
4は、アモルファスであるから、上記SnO2 膜23の
外側表面23aに存在する凹部内に容易に侵入して、こ
の外側表面23aの全体にわたって気密に密着するとと
もに、このSiO2 膜24の外側表面24aは、比較的
平坦で多少凹凸が存在していてもほぼ滑らかな凹凸であ
って、その表面粗さは例えば200nmである。
The heat ray reflective glass 20 shown in FIG. 1 is formed on a transparent glass substrate 22 having a relatively low refractive index by sequentially forming a columnar polycrystalline SnO 2 film (ie, a metal oxide film) having a relatively high refractive index. ) 23 and an SiO 2 film 24 having a relatively low refractive index and being amorphous. The heat ray reflection film 21 is constituted by the SnO 2 film 23 and the SiO 2 film 24. In addition, SnO
Since the second film 23 is a columnar polycrystal, the SnO 2 film 2
The third outer surface 23a has remarkable unevenness, and its surface roughness is, for example, 350 nm. However, the SiO 2 film 2
4, because it is amorphous, and readily penetrate into the recesses present on the outer surface 23a of the SnO 2 film 23, together with close contact in an airtight throughout the outer surface 23a, an outer surface of the SiO 2 film 24 Reference numeral 24a denotes a relatively flat and substantially smooth unevenness even if some unevenness is present, and its surface roughness is, for example, 200 nm.

【0028】図1に示す熱線反射ガラス20において、
SnO2 膜23は、図6に示す従来の熱線反射ガラス1
0における第2の金属酸化物膜15と同様に、優れた熱
線反射機能を有するものであって、熱線反射膜本体とし
て機能するように構成されている。また、SiO2 膜2
4は、図6に示す従来の熱線反射ガラス10におけるS
iO2 膜14と同様に、SnO2 膜23との界面に所定
の屈折率差を持たせるとともに、上述のように熱線反射
膜21の外側表面をほぼ滑らかにするためのものであ
る。
In the heat ray reflective glass 20 shown in FIG.
The SnO 2 film 23 is made of the conventional heat reflective glass 1 shown in FIG.
As in the case of the second metal oxide film 15 at 0, it has an excellent heat ray reflection function and is configured to function as a heat ray reflection film main body. Also, the SiO 2 film 2
4 is S in the conventional heat ray reflective glass 10 shown in FIG.
Like the iO 2 film 14, the interface between the SnO 2 film 23 and the SnO 2 film 23 has a predetermined refractive index difference, and the outer surface of the heat ray reflective film 21 is made substantially smooth as described above.

【0029】第2の実施例 この第2の実施例における熱線反射ガラス30は、図2
に示すように、屈折率が比較的低い透明ガラス基板32
上に順に、屈折率が比較的低くかつアモルファスである
SiO2 膜34、屈折率が比較的高くかつ柱状の多結晶
であるSnO2 膜35および屈折率が比較的低くかつア
モルファスであるSiO2 膜36が積層されたものであ
る。そして、SiO2 膜34、36およびSnO2 膜3
5によって熱線反射膜31が形成されている。また、S
nO2 膜35は柱状の多結晶であるから、このSnO2
膜35の外側表面35aは顕著な凹凸を有していてその
表面粗さは例えば350nmであるが、第1の実施例の
場合と実質的に同一の理由により、SiO2 膜36の外
側表面36aはほぼ滑らかになっていて、その表面粗さ
は例えば200nmである。
The heat reflecting glass 30 in the second embodiment the second embodiment, FIG. 2
As shown in the figure, the transparent glass substrate 32 having a relatively low refractive index
An SiO 2 film 34 having a relatively low refractive index and being amorphous, a SnO 2 film 35 having a relatively high refractive index and being a columnar polycrystal, and an SiO 2 film having a relatively low refractive index and being amorphous Reference numeral 36 denotes a stack. Then, the SiO 2 films 34 and 36 and the SnO 2 film 3
5, the heat ray reflection film 31 is formed. Also, S
Since the nO 2 film 35 is a columnar polycrystal, the SnO 2
The outer surface 35a of the film 35 has remarkable unevenness and has a surface roughness of, for example, 350 nm. However, the outer surface 36a of the SiO 2 film 36 is substantially the same as that in the first embodiment. Is almost smooth, and its surface roughness is, for example, 200 nm.

【0030】図2に示す熱線反射ガラス30は、つぎに
述べる点を除いて、第1の実施例による熱線反射ガラス
20と同様にして製造することができた。
The heat ray reflective glass 30 shown in FIG. 2 was manufactured in the same manner as the heat ray reflective glass 20 according to the first embodiment, except for the following points.

【0031】すなわち、この第2の実施例においては、
すず槽内に第1群、第2群および第3群のノズルを板状
ガラスの流れ方向に沿って設けた。そして、第1群およ
び第3群のノズルには、原料ガラスとして上記第2の混
合ガスをそれぞれ供給した。また、第2群のノズルに
は、原料ガスとして上記第1の混合ガスを供給した。こ
の場合、SiO2 膜34、SnO2 膜35およびSiO
2 膜36の膜厚は、それぞれ、30nm、350nmお
よび50nmであった。
That is, in the second embodiment,
A first group, a second group, and a third group of nozzles were provided in the tin tank along the flow direction of the sheet glass. The second mixed gas was supplied to the nozzles of the first and third groups as raw glass. Further, the first mixed gas was supplied as a source gas to the nozzles of the second group. In this case, the SiO 2 film 34, SnO 2 film 35 and SiO 2
The thicknesses of the two films 36 were 30 nm, 350 nm, and 50 nm, respectively.

【0032】図2に示す熱線反射ガラス30において、
SnO2 膜35は、図6に示す従来の熱線反射ガラス1
0における第2の金属酸化物膜15と同様に、優れた熱
線反射機能を有するものであって、熱線反射膜本体とし
て機能するように構成されている。また、SiO2 膜3
4は、図6に示す従来の熱線反射ガラス10におけるS
iO2 膜14と同様に、SnO2 膜35との界面に所定
の屈折率差を持たせるためのものである。さらに、Si
2 膜36は、図6に示す従来の熱線反射ガラス10に
おけるSiO2 膜14と同様に、SnO2 膜35との界
面に所定の屈折率差を持たせるとともに、上述のように
熱線反射膜31の表面をほぼ滑らかにするためのもので
ある。
In the heat ray reflective glass 30 shown in FIG.
The SnO 2 film 35 is formed of the conventional heat ray reflective glass 1 shown in FIG.
As in the case of the second metal oxide film 15 at 0, it has an excellent heat ray reflection function and is configured to function as a heat ray reflection film main body. In addition, the SiO 2 film 3
4 is S in the conventional heat ray reflective glass 10 shown in FIG.
Like the iO 2 film 14, this is for giving a predetermined refractive index difference to the interface with the SnO 2 film 35. Furthermore, Si
The O 2 film 36 has a predetermined refractive index difference at the interface with the SnO 2 film 35 as in the SiO 2 film 14 of the conventional heat ray reflective glass 10 shown in FIG. This is for making the surface of S.31 substantially smooth.

【0033】第3の実施例 この第3の実施例における熱線反射ガラス40は、図3
に示すように、屈折率が比較的低い透明ガラス基板42
上に順に、屈折率が比較的高くかつ柱状の多結晶である
SnO2 膜43、屈折率が比較的低くかつアモルファス
であるSiO2 膜44、屈折率が比較的高くかつ柱状の
多結晶であるSnO2 膜45および屈折率が比較的低く
かつアモルファスであるSiO2 膜46が積層されたも
のである。そして、SiO2 膜43、45およびSnO
2 膜44、46によって熱線反射膜41が形成されてい
る。また、SnO2 膜43、45は柱状の多結晶である
から、このSnO2 膜43、45の外側表面43a、4
5aは顕著な凹凸を有していて、それらの表面粗さはそ
れぞれ例えば350nmであるが、第1の実施例の場合
と実質的に同一の理由により、SiO2 膜44、46の
外側表面44a、46aはほぼ滑らかになっていて、そ
れらの表面粗さはそれぞれ例えば100nmである。
The third embodiment heat reflecting glass 40 in the third embodiment, FIG. 3
As shown in the figure, a transparent glass substrate 42 having a relatively low refractive index
In the upper order, the SnO 2 film 43 having a relatively high refractive index and columnar polycrystal, the SiO 2 film 44 having a relatively low refractive index and amorphous, and the columnar polycrystal having a relatively high refractive index and columnar. It is formed by stacking a SnO 2 film 45 and an amorphous SiO 2 film 46 having a relatively low refractive index. Then, the SiO 2 films 43 and 45 and SnO
The heat ray reflection film 41 is formed by the two films 44 and 46. Further, SnO 2 films 43, 45 because columnar polycrystalline, outer surface 43a, 4 of the SnO 2 film 43 and 45
5a has remarkable irregularities, and their surface roughness is, for example, 350 nm, respectively. However, for substantially the same reason as in the first embodiment, the outer surfaces 44a of the SiO 2 films 44, 46 are formed. , 46a are substantially smooth, and their surface roughness is, for example, 100 nm, respectively.

【0034】図3に示す熱線反射ガラス40は、つぎに
述べる点を除いて、第1の実施例による熱線反射ガラス
20と同様にして製造することができた。
The heat ray reflective glass 40 shown in FIG. 3 was manufactured in the same manner as the heat ray reflective glass 20 according to the first embodiment, except for the following points.

【0035】すなわち、この第3の実施例においては、
0槽内に第1群、第2群、第3群および第4群のノズル
を板状ガラスの流れ方向に沿って設けた。そして、第1
群および第3群のノズルには、原料ガスとして上記第1
の混合ガスをそれぞれ供給した。また、第2群および第
4群のノズルには、原料ガスとして上記第2の混合ガス
をそれぞれ供給した。この場合、SnO2 膜43、Si
2 膜44、SnO2膜45およびSiO2 膜46の膜
厚は、それぞれ、50nm、15nm、400nmおよ
び35nmであった。
That is, in the third embodiment,
The first group, the second group, the third group, and the fourth group of nozzles were provided in the zero tank along the flow direction of the sheet glass. And the first
The first and second nozzles are used as source gases in the first and third groups.
Were supplied respectively. The second mixed gas was supplied to the nozzles of the second and fourth groups as the source gas. In this case, the SnO 2 film 43, Si
The thicknesses of the O 2 film 44, SnO 2 film 45 and SiO 2 film 46 were 50 nm, 15 nm, 400 nm and 35 nm, respectively.

【0036】図3に示す熱線反射ガラス40において、
SnO2 膜45は、図6に示す従来の熱線反射ガラスに
おける第2の金属酸化物膜15と同様に、優れた熱線反
射機能を有するものであって、熱線反射膜本体として機
能するように構成されている。また、SnO2 膜43
は、図6に示す従来の熱線反射ガラス10における第1
の金属酸化物膜15と同様に、補色光反射機能を有する
ものである。また、SiO2 膜44は、図6に示す従来
の熱線反射ガラス10におけるSiO2 膜14と同様
に、SnO2 膜43、45との界面に所定の屈折率差を
持たせるためのものである。さらに、SiO2 膜46
は、図6に示す従来の熱線反射ガラス10におけるSi
2 膜14と同様に、SnO2 膜45との界面に所定の
屈折率差を持たせるとともに、上述のように熱線反射膜
41の表面をほぼ滑らかにするためのものである。
In the heat ray reflective glass 40 shown in FIG.
The SnO 2 film 45 has an excellent heat ray reflection function similarly to the second metal oxide film 15 in the conventional heat ray reflection glass shown in FIG. 6, and is configured to function as a heat ray reflection film main body. Have been. The SnO 2 film 43
Is the first in the conventional heat ray reflective glass 10 shown in FIG.
Like the metal oxide film 15 described above, it has a complementary color light reflection function. The SiO 2 film 44 is for providing a predetermined refractive index difference at the interface with the SnO 2 films 43 and 45, similarly to the SiO 2 film 14 in the conventional heat ray reflective glass 10 shown in FIG. . Further, the SiO 2 film 46
Represents Si in the conventional heat ray reflective glass 10 shown in FIG.
Like the O 2 film 14, the interface between the SnO 2 film 45 and the SnO 2 film 45 has a predetermined refractive index difference, and the surface of the heat ray reflective film 41 is made almost smooth as described above.

【0037】第3の実施例による熱線反射ガラス40に
おいて、SnO2 膜45は、所定の熱線反射性能を確保
するためにその膜厚を変えることができないので、他の
膜43、44、46の膜厚を変えてその色調を変化させ
る実験を行った。この実験において、SnO2 膜45に
は、熱線反射性能を向上させるためにドーピング剤とし
てフッ素を多少含有させた。したがって、この場合、上
述の製造工程において、第3群のノズルに供給する原料
ガスにフッ素を多少混合させた。
In the heat ray reflective glass 40 according to the third embodiment, the SnO 2 film 45 cannot be changed in thickness in order to secure a predetermined heat ray reflection performance. An experiment was conducted in which the color tone was changed by changing the film thickness. In this experiment, the SnO 2 film 45 contained some fluorine as a dopant in order to improve the heat ray reflection performance. Therefore, in this case, in the above-described manufacturing process, the raw material gas supplied to the third group of nozzles was slightly mixed with fluorine.

【0038】上述の試験の結果、a* およびb* が、 −15<a* <15─────(1) −7<b* <8───────(2) の範囲内で種々に変化する熱線反射ガラス40が得られ
た。したがって、熱線反射ガラス40として、緑系のも
の、青系のものなどの各種の色調を有するものを製造し
得ることが判明した。なお、本文におけるa* およびb
* は、日本工業規格 Z 8729(L* * * 表色
系およびL* * * 表色系による物体色の表示方法)
において、クロマティクネス指数a* およびb* として
規定されているもの意味している。
As a result of the above test, a * and b * are in the range of −15 <a * <15───── (1) −7 <b * <8─────── (2) The heat ray reflective glass 40 varying variously in the above was obtained. Therefore, it has been found that the heat ray reflective glass 40 can be manufactured having various color tones such as green and blue. A * and b in the text
* Is the Japanese Industrial Standard Z 8729 (the method of displaying object colors using the L * a * b * color system and the L * u * v * color system)
In the above, chromaticness indices a * and b * are defined.

【0039】つぎの表1は、このような各種の色調を有
する熱線反射ガラス40の具体例1〜4を示している。
Table 1 below shows specific examples 1 to 4 of the heat ray reflective glass 40 having such various color tones.

【0040】[0040]

【表1】 [Table 1]

【0041】この表1に示されている具体例1〜4にお
いて、SnO2 膜45にはフッ素が多少含まれている。
また、具体例1の各膜43〜46の膜厚は、第3の実施
例による熱線反射ガラス40のそれぞれ膜の膜厚として
すでに述べたものと同一である。
In Examples 1 to 4 shown in Table 1, the SnO 2 film 45 contains some fluorine.
The thicknesses of the films 43 to 46 of the first embodiment are the same as those already described as the respective film thicknesses of the heat ray reflective glass 40 according to the third embodiment.

【0042】この表1から明らかなように、所定の熱線
反射性能を確保するために所定の膜厚が必要であるSn
2 膜45(外側中間層)の膜厚を変えないで、SiO
2 膜46(最外層)、SiO2 膜44(内側中間層)お
よびSnO2 膜43(最内層)の膜厚を変えることによ
って、熱線反射ガラス40の色調は明らかに変化する。
As is clear from Table 1, Sn having a predetermined thickness is required to secure a predetermined heat ray reflection performance.
Without changing the thickness of the O 2 film 45 (outer intermediate layer),
2 film 46 (outermost layer), by changing the film thickness of the SiO 2 film 44 (inner intermediate layer) and SnO 2 film 43 (the innermost layer), the color tone of the heat ray reflecting glass 40 is obviously varied.

【0043】図4には、上述の実験の別の結果が示され
ている。
FIG. 4 shows another result of the above experiment.

【0044】すなわち、この図4においては、第3の実
施例による熱線反射ガラス40において、フッ素が多少
含まれているSnO2 膜45の膜厚を変えないで他の膜
43、44、46の膜厚を種々に変えてa* およびb*
を測定した本実施例の場合が○印で示され、また、この
本実施例の場合においてSiO2 膜46(最外層)が設
けられていない比較例の場合が□印(ただし、黒べた塗
り)で示されている。
That is, in FIG. 4, in the heat ray reflective glass 40 according to the third embodiment, the thickness of the SnO 2 film 45 containing a small amount of fluorine is kept unchanged without changing the thickness of the other films 43, 44, 46. A * and b * by changing the film thickness variously
Is measured in this example, and the case of the comparative example in which the SiO 2 film 46 (outermost layer) is not provided is indicated by □ (however, black solid coating). ).

【0045】この図4から明らかなように、上記比較例
(□印)の場合には、a* がごく狭い範囲でしか変化し
ないのに対し、本実施例の場合には、前記不等式(1) お
よび不等式(2) にも示したように、a* およびb* の両
方が比較的広い範囲にわたって種々に変化している。
As apparent from FIG. 4, in the case of the comparative example (marked with □), a * changes only in a very narrow range, whereas in the case of the present embodiment, the inequality (1) ) And inequality (2), both a * and b * vary over a relatively wide range.

【0046】したがって、上記比較例の場合には、つぎ
の表2に示すように、赤紫系、ニュートラル系および緑
系のものしか得られない。
Therefore, in the case of the above comparative example, as shown in Table 2 below, only those of magenta, neutral and green can be obtained.

【0047】[0047]

【表2】 [Table 2]

【0048】これに対し、本実施例の場合には、つぎの
表3に示すように、赤紫系、ニュートラル系および緑系
のものだけでなく、青系、青緑系、黄緑系および黄系の
ものも得ることができる。
On the other hand, in the case of this embodiment, as shown in Table 3 below, not only those of magenta, neutral and green, but also those of blue, blue-green, yellow-green and A yellow type can also be obtained.

【0049】[0049]

【表3】 [Table 3]

【0050】なお、第1および第2の実施例における図
1および図2に示す熱線反射ガラス20、30の場合に
も、本実施例の場合と同様に、SiO2 膜24、34、
36の膜厚を種々に変えることによって、その色調を比
較的自由に変えることができる。
In the case of the heat ray reflective glasses 20, 30 shown in FIGS. 1 and 2 in the first and second embodiments, similarly to the case of this embodiment, the SiO 2 films 24, 34,
The color tone can be changed relatively freely by changing the thickness of the film 36 variously.

【0051】上述のとおりであるから、第1、第2およ
び第3の実施例における図1、図2および図3に示す熱
線反射ガラス20、30、40は、熱線反射膜本体とし
て機能するSnO2 膜23、35、45を備えているか
ら、図6に示す従来の熱線反射ガラス10とほぼ同様の
熱線反射性能を有するにもかかわらず、熱線反射膜2
1、31、41の外側表面(すなわち、SiO2 膜2
4、36、46の外側表面)に汚れが付着しにくく、ま
た、汚れが付着しても洗剤を用いて磨くことなどにより
この汚れを落とし易い。さらに、熱線反射膜21、3
1、41のうちの最外層の膜であるSnO2 膜24、3
6、46、その他の膜34、43、44などの膜厚をそ
の製造時に調整することにより、その色調を比較的自由
に調整することができる。
As described above, the heat ray reflective glasses 20, 30, and 40 shown in FIGS. 1, 2 and 3 in the first, second and third embodiments have the SnO functioning as a heat ray reflective film main body. Since the two films 23, 35, and 45 are provided, the heat ray reflective film 2 has substantially the same heat ray reflection performance as the conventional heat ray reflective glass 10 shown in FIG.
1, 31, 41 (that is, the SiO 2 film 2
4, 36, and 46), and even if they do, they can be easily removed by polishing with a detergent. Further, the heat ray reflective films 21 and 3
SnO 2 films 24 and 3 which are the outermost films of 1 and 41
By adjusting the film thicknesses of the films 6, 46 and the other films 34, 43, 44 at the time of manufacturing, the color tone can be relatively freely adjusted.

【0052】熱線反射複層ガラス つぎに、本発明を熱線反射複層ガラスに適用した一実施
例を図5を参照して説明する。
[0052] heat-reflecting double glazing Next, an embodiment of the present invention is applied to a thermally reflective double glazing with reference to FIG.

【0053】この一実施例における熱線反射複層ガラス
50は、図5に示すように、図1、図2および図3に示
す熱線反射ガラス20、30、40のうちのいずれか1
つであってよい熱線反射ガラス51と、図1、図2およ
び図3に示す透明ガラス基板22、32、42と実質的
に同一の構成であってよい第2の透明ガラス52と、ほ
ぼコ字状の断面を有する合成樹脂製、金属製、ゴム製な
どのグレージングチャンネル53と、ブロック状の断面
を有するアルミ製などのスペーサ54とからなってい
る。そして、この断面ほぼコ字状のグレージングチャン
ネル53の取付け溝55には、熱線反射ガラス51、ス
ペーサ54および第2の透明ガラス52が互いに積層さ
れた状態で嵌合されて固定されている。このために、第
2の透明ガラス52は、熱線反射ガラス51に対し適当
な間隔(例えば、6mm)でもって対向するようにほぼ
平行に配されている。したがって、熱線反射ガラス51
と第2の透明ガラス52との間には、乾燥空気層56が
形成されている。
As shown in FIG. 5, the heat ray-reflective multilayer glass 50 in this embodiment is one of the heat ray reflection glasses 20, 30, and 40 shown in FIG. 1, FIG. 2 and FIG.
And a second transparent glass 52 which may have substantially the same configuration as the transparent glass substrates 22, 32, 42 shown in FIGS. 1, 2 and 3. It comprises a glazing channel 53 made of synthetic resin, metal, rubber or the like having a character-shaped cross section, and a spacer 54 made of aluminum or the like having a block-shaped cross section. The heat ray reflective glass 51, the spacer 54, and the second transparent glass 52 are fitted and fixed in the mounting groove 55 of the glazing channel 53 having a substantially U-shaped cross section while being laminated on each other. For this purpose, the second transparent glass 52 is disposed substantially in parallel with the heat ray reflective glass 51 so as to face the heat ray reflective glass 51 at an appropriate interval (for example, 6 mm). Therefore, the heat ray reflection glass 51
A dry air layer 56 is formed between and the second transparent glass 52.

【0054】この乾燥空気層56は、真空層に代えても
よく、また、透明樹脂膜に代えてもよい。そして、後者
の場合には、この透明樹脂膜により熱線反射ガラス51
と第2の透明ガラス52とが張り合わされるので、この
熱線反射複層ガラス50は合せガラスとなり、このため
に、グレージングチャンネル53およびスペーサ54を
省略することができる。また、このような透明樹脂膜
は、ポリビニルブチラールのようなポリビニルアルコー
ル樹脂、エチレンビニルアセテートのような酢酸ビニル
樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂およびポリ塩化ビニル
樹脂からなるグループから選ばれた少なくとも一種から
構成することができる。
The dry air layer 56 may be replaced with a vacuum layer or a transparent resin film. In the latter case, the heat ray reflective glass 51 is formed by the transparent resin film.
And the second transparent glass 52 are adhered to each other, so that the heat ray reflective multilayer glass 50 becomes a laminated glass, and thus the glazing channel 53 and the spacer 54 can be omitted. Further, such a transparent resin film is composed of at least one selected from the group consisting of a polyvinyl alcohol resin such as polyvinyl butyral, a vinyl acetate resin such as ethylene vinyl acetate, a thermoplastic polyurethane resin and a polyvinyl chloride resin. be able to.

【0055】図5に示す熱線反射複層ガラス50におい
ては、熱線反射ガラス51の熱線反射膜57は熱線反射
ガラス51の透明ガラス基板58のうちの乾燥空気層5
6とは反対側の面(すなわち、外側面)に面している。
しかし、熱線反射膜57の最外層には、図1、図2およ
び図3に示す場合と同様に、SiO2 膜24、36また
は46が形成されている。したがって、熱線反射膜57
の外側面(すなわち、SiO2 膜24、36または46
の外側表面)に汚れが付着しにくく、また、仮に汚れが
付着してもこの汚れは洗剤を用いて磨くことなどにより
比較的落ち易い。また、熱線反射ガラス51の乾燥空気
層56側の面(すなわち、内側面)は、透明ガラス基板
58の裏面であってきわめて平坦であるから、汚れが非
常に付着しにくくて汚れにより汚染されることはほとん
どない。さらに、図5に示す熱線反射複層ガラス50
は、第2の透明ガラス52、乾燥空気層56および透明
ガラス基板58を備えているために本質的に断熱効果が
高く、さらに、熱線反射膜57を備えているためにいっ
そう高い断熱効果を有している。
In the heat ray reflective multilayer glass 50 shown in FIG. 5, the heat ray reflection film 57 of the heat ray reflection glass 51 is formed on the dry air layer 5 of the transparent glass substrate 58 of the heat ray reflection glass 51.
6 faces the opposite side (that is, the outer side).
However, the SiO 2 film 24, 36, or 46 is formed on the outermost layer of the heat ray reflective film 57, as in the cases shown in FIGS. Therefore, the heat ray reflective film 57
(Ie, the SiO 2 film 24, 36 or 46)
Dirt hardly adheres to the outer surface of the surface, and even if the dirt adheres, the dirt is relatively easily removed by polishing with a detergent or the like. Further, the surface of the heat ray reflective glass 51 on the side of the dry air layer 56 (that is, the inner side surface) is the rear surface of the transparent glass substrate 58 and is extremely flat. Few things. Further, the heat ray reflective double glass 50 shown in FIG.
Has a substantially high heat insulating effect because of the provision of the second transparent glass 52, the dry air layer 56, and the transparent glass substrate 58, and has a higher heat insulating effect because of the provision of the heat ray reflective film 57. doing.

【0056】なお、本実施例に用いられる熱線反射ガラ
ス20、30、40の熱線反射膜21、31、41は、
その最外層の膜がSiO2 膜24、36、46であるか
ら、その外側表面がほぼ滑らかになっていて汚れが付着
しにくく、また、付着してもこの汚れを落とし易い。し
たがって、このような熱線反射ガラス20、30、40
をその構成部材として用いて熱線反射複層ガラス50を
製造したときに、この熱線反射ガラス20、30、40
の熱線反射膜21、31、41がこの複層ガラス50の
内部に配されても外側面に配されても、熱線反射複層ガ
ラス50の機能にそれほどの差異は生じない。したがっ
て、熱線反射ガラス20、30、40をその構成部材と
して用いて熱線反射複層ガラス50を製造する場合で
も、一般的には、この熱線反射ガラス20、30、40
の膜面を予め他方の面と区別しておく必要が特にない。
The heat reflection films 21, 31, 41 of the heat reflection glass 20, 30, 40 used in the present embodiment are:
Since the outermost film is the SiO 2 film 24, 36, 46, the outer surface is almost smooth and dirt is hardly adhered, and even if it is adhered, the dirt is easily removed. Therefore, such heat ray reflective glasses 20, 30, 40
When the heat ray reflective double glazing 50 is manufactured by using as a constituent member thereof, the heat ray reflection glass 20, 30, 40
Even if the heat ray reflective films 21, 31, 41 are disposed inside or outside the double-glazed glass 50, the function of the heat-ray reflective double glass 50 does not significantly differ. Therefore, even when the heat ray reflective multilayer glass 50 is manufactured using the heat ray reflection glasses 20, 30, and 40 as its constituent members, generally, the heat ray reflection glass 20, 30, 40 is used.
It is not particularly necessary to previously distinguish the film surface from the other surface.

【0057】また、図5において、熱線反射ガラス51
側を室外側に向けてこの熱線反射ガラス51側から熱線
反射複層ガラス50に太陽光線が入射するようにして
も、第2の透明ガラス52側を室外側に向けてこの第2
の透明ガラス52側から熱線反射複層ガラス50に太陽
光線が入射するようにしても、熱線反射複層ガラス50
の機能にそれほどの差異は生じない。したがって、熱線
反射複層ガラス50を住宅の窓枠に取り付ける場合で
も、一般的には、この熱線反射複層ガラス50の熱線反
射ガラス51側の面を予め他方の面と区別しておく必要
が特にない。
In FIG. 5, the heat ray reflecting glass 51
Even when the sunlight is incident on the heat ray reflective double glass 50 from the heat ray reflective glass 51 side with the side facing the outdoor side, the second transparent glass 52 side is oriented toward the outdoor side and the second
Even when sunlight is incident on the heat ray reflective double glass 50 from the side of the transparent glass 52, the heat ray reflective double glass 50
Does not make much difference in the function of. Therefore, even when the heat ray reflective multilayer glass 50 is mounted on a window frame of a house, it is generally necessary to distinguish the surface of the heat ray reflective multilayer glass 50 on the heat ray reflective glass 51 side from the other surface in advance. Absent.

【0058】[0058]

【発明の効果】本発明による熱線反射性透光板によれ
ば、複数の膜を積層することにより構成された熱線反射
膜のうちの最外層の膜がアモルファス物質から構成され
ているから、この最外層の膜のすぐ内側の膜の外側表面
が顕著な凹凸を有していても、熱線反射膜の外側表面を
ほぼ滑らかにすることができる。したがって、従来の熱
線反射ガラスとほぼ同様の熱線反射性能を有するにもか
かわらず、熱線反射膜の外側表面に汚れが付着しにく
く、また、汚れが付着しても洗剤を用いて磨くことなど
によりこの汚れを落とし易い。このために、この熱線反
射性透光板をその構成材料として用いて熱線反射性複層
透光板を製造したときに、この熱線反射性透光板の熱線
反射膜がこの複層透光板の内部に配されても外側面に配
されても、この複層透光板の機能にそれほどの差異は生
じないから、この熱線反射性透光板をその構成材料とし
て用いて熱線反射性複層透光板を製造する場合でも、一
般的には、この熱線反射性透光板の膜面を予め他方の面
と区別しておく必要が特にない。
According to the heat ray reflective translucent plate of the present invention, the outermost layer of the heat ray reflection film formed by laminating a plurality of films is made of an amorphous material. Even if the outer surface of the film immediately inside the outermost layer has a significant unevenness, the outer surface of the heat ray reflective film can be made substantially smooth. Therefore, despite having almost the same heat ray reflection performance as conventional heat ray reflection glass, dirt does not easily adhere to the outer surface of the heat ray reflection film, and even if dirt adheres, it is polished with a detergent and the like. This dirt is easy to remove. For this reason, when a heat ray reflective multilayer translucent plate is manufactured by using the heat ray reflective translucent plate as a constituent material, the heat ray reflective film of the heat ray reflective translucent plate becomes the multilayer light transmissive plate. Since the function of the multi-layer light-transmitting plate is not so different whether it is disposed inside or outside the heat-reflective light-transmitting plate, the heat-ray reflective light-transmitting plate is used as its constituent material. Even in the case of manufacturing a layered light-transmitting plate, generally, it is not particularly necessary to previously distinguish the film surface of the heat ray reflective light-transmitting plate from the other surface.

【0059】また、本発明による熱線反射性透光板によ
れば、複数の膜を積層することにより構成された熱線反
射膜のうちの最外層の膜がアモルファス物質から構成さ
れているから、この最外層の膜および必要に応じてその
他の膜の膜厚を製造時などに調整することにより、この
熱線反射性透光板の色調を比較的自由に調整することが
でき、このために、その用途や好みに応じた所望の色調
を有する熱線反射性透光板を比較的簡単な工程により製
造することができる。
Further, according to the heat ray reflective translucent plate of the present invention, the outermost layer of the heat ray reflective films formed by laminating a plurality of films is made of an amorphous material. By adjusting the film thickness of the outermost layer and other films as necessary at the time of manufacturing, etc., the color tone of this heat ray reflective light-transmitting plate can be relatively freely adjusted. A heat ray reflective light-transmitting plate having a desired color tone according to use or taste can be manufactured by a relatively simple process.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明を熱線反射ガラスに適用した第1の実施
例における熱線反射ガラスの一部分の縦断面図である。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a part of a heat ray reflective glass according to a first embodiment in which the present invention is applied to a heat ray reflective glass.

【図2】本発明を熱線反射ガラスに適用した第2の実施
例における熱線反射ガラスの一部分の縦断面図である。
FIG. 2 is a longitudinal sectional view of a part of a heat ray reflective glass in a second embodiment in which the present invention is applied to a heat ray reflective glass.

【図3】本発明を熱線反射ガラスに適用した第3の実施
例における熱線反射ガラスの一部分の縦断面図である。
FIG. 3 is a longitudinal sectional view of a part of a heat ray reflective glass according to a third embodiment in which the present invention is applied to a heat ray reflective glass.

【図4】図3に示す熱線反射ガラスの光学特性をその比
較例の光学特性とともに示すグラフである。
FIG. 4 is a graph showing the optical characteristics of the heat ray reflective glass shown in FIG. 3 together with the optical characteristics of a comparative example.

【図5】本発明を熱線反射複層ガラスに適用した一実施
例における熱線反射複層ガラスの中間部分を省略した縦
断面図である。
FIG. 5 is a vertical cross-sectional view of an embodiment in which the present invention is applied to a heat ray-reflective multilayer glass, in which an intermediate portion of the heat ray-reflective multilayer glass is omitted.

【図6】従来の熱線反射ガラスの一部分の縦断面図であ
る。
FIG. 6 is a longitudinal sectional view of a part of a conventional heat ray reflective glass.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20 熱線反射ガラス 21 熱線反射膜 22 透明ガラス基板 23 SnO2 膜 24 SiO2 膜 30 熱線反射ガラス 31 熱線反射膜 32 透明ガラス基板 34 SiO2 膜 35 SnO2 膜 36 SiO2 膜 40 熱線反射ガラス 41 熱線反射膜 42 透明ガラス基板 43 SnO2 膜 44 SiO2 膜 45 SnO2 膜 46 SiO2 膜 50 熱線反射複層ガラス 51 熱線反射ガラス 52 第2の透明ガラス 57 熱線反射膜 58 透明ガラス基板Reference Signs List 20 heat ray reflection glass 21 heat ray reflection film 22 transparent glass substrate 23 SnO 2 film 24 SiO 2 film 30 heat ray reflection glass 31 heat ray reflection film 32 transparent glass substrate 34 SiO 2 film 35 SnO 2 film 36 SiO 2 film 40 heat ray reflection glass 41 heat ray Reflection film 42 Transparent glass substrate 43 SnO 2 film 44 SiO 2 film 45 SnO 2 film 46 SiO 2 film 50 Heat ray reflection double glass 51 Heat ray reflection glass 52 Second transparent glass 57 Heat ray reflection film 58 Transparent glass substrate

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】透光性基板上に、複数の膜を積層すること
により構成された熱線反射膜が形成され、 この熱線反射膜のうちの最外層の膜がアモルファス物質
から構成されていることを特徴とする熱線反射性透光
板。
1. A heat ray reflective film formed by laminating a plurality of films on a light transmitting substrate, wherein the outermost film of the heat ray reflective film is made of an amorphous material. A heat ray reflective translucent plate characterized by the following.
【請求項2】上記熱線反射膜のうちの上記最外層の膜の
すぐ内側の膜が上記最外層の膜よりも屈折率が高い結晶
性の物質から構成されていることを特徴とする請求項1
に記載の熱線反射性透光板。
2. The heat ray reflective film, wherein a film immediately inside the outermost layer film is made of a crystalline material having a higher refractive index than the outermost layer film. 1
4. The heat-reflective translucent plate according to item 1.
【請求項3】透光性基板上に、屈折率が比較的高い物質
から構成され熱線反射膜本体として機能する内側膜と、
屈折率が比較的低いアモルファス物質から構成された最
外層の膜とが順次積層されていることを特徴とする請求
項1または2に記載の熱線反射性透光板。
3. An inner film made of a material having a relatively high refractive index and functioning as a heat ray reflective film main body on a light transmitting substrate;
3. The heat-reflective light-transmitting plate according to claim 1, wherein an outermost layer made of an amorphous material having a relatively low refractive index is sequentially laminated.
【請求項4】透光性基板上に、屈折率が比較的低い物質
から構成された最内層の膜と、屈折率が比較的高い物質
から構成され熱線反射膜本体として機能する中間膜と、
屈折率が比較的低いアモルファス物質から構成された最
外層の膜とが順次積層されていることを特徴とする請求
項1または2に記載の熱線反射性透光板。
4. An innermost film made of a material having a relatively low refractive index, an intermediate film made of a material having a relatively high refractive index, and functioning as a heat ray reflective film main body, on a light transmitting substrate.
3. The heat-reflective light-transmitting plate according to claim 1, wherein an outermost layer made of an amorphous material having a relatively low refractive index is sequentially laminated.
【請求項5】透光性基板上に、屈折率が比較的高い物質
から構成された最内層の膜と、屈折率が比較的低い物質
から構成された第1の中間膜と、屈折率が比較的高い物
質から構成された第2の中間膜と、屈折率が比較的低い
アモルファス物質から構成された最外層の膜とが順次積
層され、 上記最内層の膜および上記第2の中間膜のうちの一方が
熱線反射膜本体として機能するように構成されているこ
とを特徴とする請求項1または2に記載の熱線反射性透
光板。
5. An innermost layer made of a material having a relatively high refractive index, a first intermediate film made of a material having a relatively low refractive index, and a first intermediate film made of a material having a relatively low refractive index. A second intermediate film made of a relatively high material and an outermost film made of an amorphous material having a relatively low refractive index are sequentially laminated, and the innermost film and the second intermediate film are stacked. 3. The heat-reflective light-transmitting plate according to claim 1, wherein one of the light-reflective films is configured to function as a heat-ray reflective film main body.
【請求項6】上記アモルファス物質が酸化けい素、酸化
アルミニウムおよびすず・けい素複合酸化物からなるグ
ループから選ばれた少なくとも一種であることを特徴と
する請求項1〜5のうちのいずれか1つに記載の熱線反
射性透光板。
6. The semiconductor device according to claim 1, wherein said amorphous material is at least one selected from the group consisting of silicon oxide, aluminum oxide, and tin / silicon composite oxide. 4. The heat-reflective light-transmitting plate described in any one of the above.
【請求項7】上記屈折率が比較的低い物質が酸化けい
素、酸化アルミニウムおよびすず・けい素複合酸化物か
らなるグループから選ばれた少なくとも一種であること
を特徴とする請求項1〜6のうちのいずれか1つに記載
の熱線反射性透光板。
7. A method according to claim 1, wherein said substance having a relatively low refractive index is at least one selected from the group consisting of silicon oxide, aluminum oxide and tin / silicon composite oxide. The heat-reflective light-transmitting plate according to any one of the above.
【請求項8】上記屈折率が比較的高い物質が酸化すず、
酸化インジウム、酸化亜鉛および酸化カドミウムからな
るグループから選ばれた少なくとも一種の金属酸化物で
あることを特徴とする請求項1〜7のうちのいずれか1
つに記載の熱線反射性透光板。
8. The substance having a relatively high refractive index is tin oxide,
The metal oxide according to claim 1, wherein the metal oxide is at least one metal oxide selected from the group consisting of indium oxide, zinc oxide, and cadmium oxide.
4. The heat-reflective light-transmitting plate described in any one of the above.
【請求項9】上記透光性基板が少なくとも可視光領域で
実質的に透明なガラス板であることを特徴とする請求項
1〜8のうちのいずれか1つに記載の熱線反射性透光
板。
9. The heat ray-reflective translucent light according to claim 1, wherein the translucent substrate is a glass plate that is substantially transparent at least in a visible light region. Board.
【請求項10】請求項1〜9のうちのいずれか1つに記
載の熱線反射性透光板と、 上記熱線反射性透光板に対向するように配された少なく
とも1つの第2の透光板とからなり、 上記熱線反射性透光板に設けられた上記熱線反射膜がこ
の熱線反射性透光板の両面のうちの上記少なくとも1つ
の第2の透光板に面する側とは反対側の面に配されるよ
うに、上記熱線反射性透光板と上記少なくとも1つの第
2の透光板とが互いに結合されていることを特徴とする
熱線反射性複層透光板。
10. A heat-reflective light-transmitting plate according to any one of claims 1 to 9, and at least one second light-transmitting plate arranged to face the heat-ray reflective light-transmitting plate. The heat ray reflective film provided on the heat ray reflective translucent plate is a side facing the at least one second light transmissive plate of both surfaces of the heat ray reflective translucent plate. The heat ray reflective multilayer light transmissive plate, wherein the heat ray reflective light transmissive plate and the at least one second light transmissive plate are coupled to each other so as to be disposed on opposite surfaces.
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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1036774A1 (en) * 1999-03-09 2000-09-20 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Glass substrate having transparent conductive film
WO2002026488A1 (en) * 2000-09-29 2002-04-04 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Transparent laminate having low emissivity
JP2003522088A (en) * 1999-03-18 2003-07-22 ピーピージー・インダストリーズ・オハイオ・インコーポレイテッド Process for producing low haze coatings and coatings and coated articles produced thereby
US7309527B2 (en) 2001-09-11 2007-12-18 Cardinal Cg Company Hydrophilic surfaces carrying temporary protective covers
JPWO2006103739A1 (en) * 2005-03-28 2008-09-04 サーモス株式会社 Insulated container
JP2010280556A (en) * 2009-03-31 2010-12-16 Schott Ag Glass pane or glass-ceramic pane reflecting infrared ray
USRE43817E1 (en) 2004-07-12 2012-11-20 Cardinal Cg Company Low-maintenance coatings
WO2012161293A1 (en) * 2011-05-26 2012-11-29 Sharp Kabushiki Kaisha Core-shell nanoparticle, film, glazing unit, double glazing unit and method of making a glazing unit
US9738967B2 (en) 2006-07-12 2017-08-22 Cardinal Cg Company Sputtering apparatus including target mounting and control
JP2018522798A (en) * 2015-05-15 2018-08-16 サン−ゴバン グラス フランスSaint−Gobain Glass France Glass plate having a heat radiation reflective coating and a fixing or sealing element mounted thereon
US10273573B2 (en) 2015-12-11 2019-04-30 Cardinal Cg Company Method of coating both sides of a substrate using a sacrificial coating
US10604442B2 (en) 2016-11-17 2020-03-31 Cardinal Cg Company Static-dissipative coating technology
WO2022114038A1 (en) * 2020-11-27 2022-06-02 Agc株式会社 Heat insulation glass

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6355353B1 (en) 1999-03-09 2002-03-12 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Glass substrate having transparent conductive film
EP1036774A1 (en) * 1999-03-09 2000-09-20 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Glass substrate having transparent conductive film
JP2010260050A (en) * 1999-03-18 2010-11-18 Ppg Industries Ohio Inc Method of producing coating with low haze, and coating and coated article produced thereby
JP2003522088A (en) * 1999-03-18 2003-07-22 ピーピージー・インダストリーズ・オハイオ・インコーポレイテッド Process for producing low haze coatings and coatings and coated articles produced thereby
WO2002026488A1 (en) * 2000-09-29 2002-04-04 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Transparent laminate having low emissivity
US7309527B2 (en) 2001-09-11 2007-12-18 Cardinal Cg Company Hydrophilic surfaces carrying temporary protective covers
USRE43817E1 (en) 2004-07-12 2012-11-20 Cardinal Cg Company Low-maintenance coatings
USRE44155E1 (en) 2004-07-12 2013-04-16 Cardinal Cg Company Low-maintenance coatings
JPWO2006103739A1 (en) * 2005-03-28 2008-09-04 サーモス株式会社 Insulated container
US9738967B2 (en) 2006-07-12 2017-08-22 Cardinal Cg Company Sputtering apparatus including target mounting and control
JP2010280556A (en) * 2009-03-31 2010-12-16 Schott Ag Glass pane or glass-ceramic pane reflecting infrared ray
WO2012161293A1 (en) * 2011-05-26 2012-11-29 Sharp Kabushiki Kaisha Core-shell nanoparticle, film, glazing unit, double glazing unit and method of making a glazing unit
JP2018522798A (en) * 2015-05-15 2018-08-16 サン−ゴバン グラス フランスSaint−Gobain Glass France Glass plate having a heat radiation reflective coating and a fixing or sealing element mounted thereon
US10273573B2 (en) 2015-12-11 2019-04-30 Cardinal Cg Company Method of coating both sides of a substrate using a sacrificial coating
US10604442B2 (en) 2016-11-17 2020-03-31 Cardinal Cg Company Static-dissipative coating technology
US11325859B2 (en) 2016-11-17 2022-05-10 Cardinal Cg Company Static-dissipative coating technology
WO2022114038A1 (en) * 2020-11-27 2022-06-02 Agc株式会社 Heat insulation glass

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