JPH11297089A - Semiconductor memory - Google Patents
Semiconductor memoryInfo
- Publication number
- JPH11297089A JPH11297089A JP9628898A JP9628898A JPH11297089A JP H11297089 A JPH11297089 A JP H11297089A JP 9628898 A JP9628898 A JP 9628898A JP 9628898 A JP9628898 A JP 9628898A JP H11297089 A JPH11297089 A JP H11297089A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- circuit
- voltage
- clock signal
- semiconductor memory
- power supply
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Read Only Memory (AREA)
- Dc-Dc Converters (AREA)
- Dram (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、電源電圧と異なる
電圧を発生する昇圧回路を内蔵し、当該昇圧回路により
供給された電圧でデータの書き込み、読み出しおよび消
去を行う半導体記憶装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device having a built-in booster circuit for generating a voltage different from a power supply voltage, and writing, reading and erasing data with the voltage supplied by the booster circuit. .
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体記憶装置、例えば、不揮発性メモ
リにより構成されたフラッシュメモリにおいて、書き込
み、読み出しおよび消去時にそれぞれ電源電圧と異なる
数種類の電圧を必要である。一般的に、半導体記憶装置
に昇圧回路を内蔵させ、当該昇圧回路により必要な電圧
を発生する方法が採用されている。2. Description of the Related Art In a semiconductor memory device, for example, a flash memory constituted by a nonvolatile memory, several kinds of voltages different from a power supply voltage are required at the time of writing, reading and erasing. In general, a method in which a booster circuit is incorporated in a semiconductor memory device and a required voltage is generated by the booster circuit has been adopted.
【0003】通常の昇圧回路は、所定の周波数を持つ発
振信号(クロック信号)を発生する発振回路が設けら
れ、当該発振回路により発生されたクロック信号に応じ
て所定の電圧を発生する。その一例として、リングオシ
レータを用いてクロック信号を生成し、チャージポンプ
を用いてリングオシレータで生成されたクロック信号に
応じて所定の電圧を発生する。An ordinary booster circuit is provided with an oscillation circuit for generating an oscillation signal (clock signal) having a predetermined frequency, and generates a predetermined voltage according to the clock signal generated by the oscillation circuit. As an example, a clock signal is generated using a ring oscillator, and a predetermined voltage is generated using a charge pump in accordance with the clock signal generated by the ring oscillator.
【0004】図5は、半導体記憶装置の一構成例を示し
ている。図示のように、本例の半導体記憶装置におい
て、高電圧発生回路100が設けられ、電源電圧VCCと
異なる複数の高電圧V1,V2,V3を発生し、それぞ
れローアドレスデコーダ80、メモリセルアレイ90お
よびセンスアンプ150に出力される。ローアドレスデ
コーダ80、メモリセルアレイ90およびセンスアンプ
150は、高電圧発生回路100により発生された電圧
V1,V2およびV3に応じて、メモリセルアレイ90
に対して、データの書き込み、読み出しおよび消去を行
う。FIG. 5 shows an example of the configuration of a semiconductor memory device. As shown in the figure, in the semiconductor memory device of the present example, a high voltage generating circuit 100 is provided to generate a plurality of high voltages V1, V2, and V3 different from the power supply voltage V CC, and a row address decoder 80 and a memory cell array 90 are respectively provided. And output to the sense amplifier 150. The row address decoder 80, the memory cell array 90 and the sense amplifier 150 control the memory cell array 90 according to the voltages V1, V2 and V3 generated by the high voltage generation circuit 100.
, Read, and erase data.
【0005】図6は、図5に示す高電圧発生回路100
の具体的な構成例を示している。図示のように、本例の
高電圧発生回路は100は、発振回路101,102、
チャージポンプ103,104および電圧変換回路10
5により構成されている。FIG. 6 shows a circuit diagram of the high voltage generation circuit 100 shown in FIG.
2 shows a specific configuration example. As shown in the figure, the high-voltage generation circuit 100 of this example includes oscillation circuits 101 and 102,
Charge pumps 103 and 104 and voltage conversion circuit 10
5.
【0006】発振回路101および102は、例えば、
リングオシレータにより構成されている。これらの発振
回路により、それぞれ所定の周波数を有するクロック信
号CK1,CK2が発生される。チャージポンプ103
は、発振回路101により生成されたクロック信号CK
1に応じて、所定の電圧VP1を発生し、チャージポン
プ104は、発振回路102により生成されたクロック
信号CK2に応じて、所定の電圧VP2を発生する。電
圧VP1,VP2は電圧変換回路105に入力される。The oscillation circuits 101 and 102 are, for example,
It is composed of a ring oscillator. By these oscillation circuits, clock signals CK1 and CK2 each having a predetermined frequency are generated. Charge pump 103
Is the clock signal CK generated by the oscillation circuit 101.
1, the charge pump 104 generates a predetermined voltage VP2 according to the clock signal CK2 generated by the oscillation circuit 102. Voltages VP1 and VP2 are input to voltage conversion circuit 105.
【0007】電圧変換回路105は、チャージポンプ1
03,104により供給された電圧VP1,VP2に応
じて、例えば、それぞれ異なるレベルを持つn個の電圧
V1〜Vnを生成し、それぞれ所定の機能回路に供給す
る。例えば、図5に示すように、電圧V1は、ローアド
レスデコーダ80に供給され、電圧V2は、メモリセル
アレイ90に供給され、電圧V3は、センスアンプ14
0に供給される。The voltage conversion circuit 105 includes the charge pump 1
For example, n voltages V1 to Vn having different levels are generated in accordance with the voltages VP1 and VP2 supplied by the transistors 03 and 104, respectively, and supplied to predetermined functional circuits. For example, as shown in FIG. 5, the voltage V1 is supplied to the row address decoder 80, the voltage V2 is supplied to the memory cell array 90, and the voltage V3 is supplied to the sense amplifier 14.
0 is supplied.
【0008】このように、半導体記憶装置に高電圧発生
回路を内蔵することにより、電源電圧と異なるレベルを
有する複数の電圧をチップ内に生成することができ、外
部により複数の電源電圧を供給することなく必要な動作
電圧を獲得でき、回路構成の簡単化、装置の低コスト化
が図れる。As described above, by incorporating a high voltage generating circuit in a semiconductor memory device, a plurality of voltages having a level different from the power supply voltage can be generated in a chip, and a plurality of power supply voltages are externally supplied. The required operating voltage can be obtained without the need for a simple circuit configuration, and the cost of the device can be reduced.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した従
来の半導体記憶装置において、高電圧発生回路にある発
振回路は電源電圧VCCで動作するので、発生されたクロ
ック信号の電源電圧依存性が大きい。さらに、チャージ
ポンプなどで構成された昇圧回路により出力される電流
能力はクロック信号の周波数に依存する。この結果、チ
ャージポンプの出力電圧及び電流が電源電圧VCCに依存
する。近年、半導体記憶装置を含む半導体装置の低電圧
化、低消費電力化が進み、チップに供給される電源電圧
が低下し、さらに動作状況などに応じて、異なる電源電
圧が供給されることもある。このため、半導体記憶装置
の内蔵型高電圧発生回路により発生された電圧が大きく
変化し、半導体記憶装置のパフォーマンスが著しく低下
するおそれがある。[SUMMARY OF THE INVENTION Incidentally, in the conventional semiconductor memory device described above, the oscillation circuit in the high voltage generating circuit is operated with a supply voltage V CC, a large power supply voltage dependency of the generated clock signal . Further, the current capability output by the booster circuit constituted by a charge pump or the like depends on the frequency of the clock signal. As a result, the output voltage and current of the charge pump depend on the power supply voltage V CC . 2. Description of the Related Art In recent years, the voltage and power consumption of semiconductor devices including a semiconductor memory device have been reduced, the power supply voltage supplied to a chip has been reduced, and a different power supply voltage may be supplied depending on an operation state and the like. . For this reason, the voltage generated by the built-in high-voltage generation circuit of the semiconductor memory device greatly changes, and the performance of the semiconductor memory device may be significantly reduced.
【0010】また、リングオシレータなどにより構成さ
れた発振回路により生成されたクロック信号の周波数
は、プロセスに依存する性質がある。例えば、プロセス
のバラツキによって生成されたクロック信号の周波数が
大きく変化することがある。このため、プロセスのバラ
ツキにより影響を低減させるため、抵抗素子、容量素子
などで調節用回路を設ける手法があるが、回路のレイア
ウト面積の増加を招き、さらに、調節用回路を必要とす
る場合に、組み立て時のスループットが低下し、コスト
の増加を招くという不利益がある。Further, the frequency of the clock signal generated by the oscillation circuit constituted by a ring oscillator or the like has a property depending on the process. For example, the frequency of a clock signal generated by a process variation may change significantly. For this reason, there is a method of providing an adjustment circuit with a resistance element, a capacitance element, and the like in order to reduce the influence due to process variation.However, this increases the layout area of the circuit, and further requires an adjustment circuit. However, there is a disadvantage that the throughput at the time of assembling is reduced and the cost is increased.
【0011】本発明は、かかる事情に鑑みてなされたも
のであり、その目的は、内部生成高電圧の電源電圧の依
存性およびプロセス依存性を低減でき、高電圧発生回路
の動作を制御しやすく、コストダウンを実現できる半導
体記憶装置を提供することにある。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to reduce the dependency of internally generated high voltage on the power supply voltage and the process, and to easily control the operation of the high voltage generating circuit. Another object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that can realize cost reduction.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の半導体記憶装置は、電源電圧と異なる電圧
を発生し、発生された電圧で書き込み、読み出しおよび
消去を行う半導体記憶装置であって、外部入力端子より
入力されたクロック信号に応じて昇圧動作を行い、電源
電圧と異なる昇圧電圧を発生する昇圧回路を有する。In order to achieve the above object, a semiconductor memory device according to the present invention generates a voltage different from a power supply voltage, and performs writing, reading and erasing with the generated voltage. A boosting circuit that performs a boosting operation in response to a clock signal input from an external input terminal and generates a boosted voltage different from a power supply voltage.
【0013】また、本発明の半導体記憶装置において
は、所定の周波数を有する発振信号を発生する発振回路
と、外部入力端子より入力されたクロック信号と上記発
振回路により発生された発振信号の何れかを選択する選
択回路と、上記選択回路により選択された信号に応じて
昇圧動作を行い、電源電圧と異なる昇圧電圧を発生する
昇圧回路とを有する。Further, in the semiconductor memory device according to the present invention, an oscillating circuit for generating an oscillating signal having a predetermined frequency, a clock signal input from an external input terminal, or an oscillating signal generated by the oscillating circuit may be used. And a boosting circuit that performs a boosting operation in accordance with the signal selected by the selecting circuit and generates a boosted voltage different from the power supply voltage.
【0014】また、本発明では、好適には、上記昇圧回
路は、例えば、チャージポンプにより構成され、上記選
択回路を制御する制御回路は、電源電圧の変化に応じて
上記発振回路からの発振信号または外部入力端子により
入力された上記クロックの何れかを選択させる。例え
ば、制御回路は上記電源電圧が所定のレベル以下になっ
たとき、選択回路に外部入力端子により入力された上記
クロック信号を選択させる。In the present invention, preferably, the booster circuit is constituted by, for example, a charge pump, and a control circuit for controlling the selection circuit includes an oscillation signal from the oscillation circuit in accordance with a change in power supply voltage. Alternatively, any one of the clocks input from the external input terminal is selected. For example, when the power supply voltage falls below a predetermined level, the control circuit causes the selection circuit to select the clock signal input from an external input terminal.
【0015】さらに、本発明では、好適には、上記選択
回路により選択されたクロック信号を分周し、分周した
信号を上記昇圧回路に供給する分周回路を有する。Further, the present invention preferably has a frequency dividing circuit for dividing the frequency of the clock signal selected by the selecting circuit and supplying the frequency-divided signal to the boosting circuit.
【0016】本発明によれば、書き込み、読み出しおよ
び消去動作時に電源電圧と異なる電圧が必要な半導体記
憶装置、例えば、不揮発性メモリセルで構成されている
フラッシュメモリにおいて、昇圧回路などの電圧供給回
路を設けて、所定のレベルを有する高電圧または負の電
圧を発生させる。電圧供給回路は、例えば、クロック信
号に応じて所定のレベルを有する電圧を発生するチャー
ジポンプ回路を有し、半導体記憶装置の動作環境、外部
から供給された電源電圧などの条件に応じて、外部クロ
ックまたはチップ内蔵の発振回路により発生された内部
クロックの何れかを選択して、チャージポンプなどに供
給する。これによって、電圧供給回路により生成された
電圧の電源電圧依存性およびプロセス依存性を低減で
き、高電圧発生回路の動作を制御しやすく、コストダウ
ンを実現できる。According to the present invention, a voltage supply circuit such as a booster circuit in a semiconductor memory device requiring a voltage different from a power supply voltage at the time of writing, reading and erasing operations, for example, a flash memory composed of nonvolatile memory cells To generate a high voltage or a negative voltage having a predetermined level. The voltage supply circuit includes, for example, a charge pump circuit that generates a voltage having a predetermined level in response to a clock signal, and operates in accordance with conditions such as the operating environment of the semiconductor memory device and a power supply voltage supplied from the outside. Either a clock or an internal clock generated by an oscillation circuit built in the chip is selected and supplied to a charge pump or the like. Thereby, the power supply voltage dependency and the process dependency of the voltage generated by the voltage supply circuit can be reduced, the operation of the high voltage generation circuit can be easily controlled, and the cost can be reduced.
【0017】[0017]
【発明の実施の形態】図1は本発明に係る高電圧発生回
路内蔵型の半導体記憶装置の一実施形態を示す回路図で
ある。本実施形態の半導体記憶装置は、入出力コントロ
ール回路10、動作ロジックコントロール回路20a、
ステータスレジスタ30、アドレスレジスタ40、コマ
ンドレジスタ50、制御回路60a、ローアドレスバッ
ファ70、ローアドレスデコーダ80、メモリセルアレ
イ90、高電圧発生回路100a、R/B(Ready
/Busy)回路110、カラムバッファ120、カラ
ムデコーダ130、カラムレジスタ140およびセンス
アンプ150により構成されている。FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of a semiconductor memory device with a built-in high voltage generating circuit according to the present invention. The semiconductor memory device of the present embodiment includes an input / output control circuit 10, an operation logic control circuit 20a,
Status register 30, address register 40, command register 50, control circuit 60a, row address buffer 70, row address decoder 80, memory cell array 90, high voltage generation circuit 100a, R / B (Ready
/ Busy) circuit 110, a column buffer 120, a column decoder 130, a column register 140, and a sense amplifier 150.
【0018】入出力コントロール回路10は、アドレ
ス、データ、コマンドおよびメモリの状態を示すステー
タス信号の入力および出力動作を制御する。例えば、入
出力コントロール回路10の制御に基づき、アドレス入
力端子を介してローアドレスおよびカラムアドレスが入
力され、アドレスレジスタ40を介してそれぞれローア
ドレスバッファ70およびカラムバッファ120に入力
される。また、書き込みのときデータ入出力端子を介し
て書き込みデータが入力され、データレジスタ140に
格納され、読み出しのときセンスアンプ150により読
み出されたデータがデータレジスタ140に保持されて
いるので、入出力コントロール回路10の制御に基づ
き、データレジスタ140のデータがデータ入出力端子
に出力される。The input / output control circuit 10 controls input and output operations of addresses, data, commands and status signals indicating the states of the memory. For example, based on the control of the input / output control circuit 10, a row address and a column address are input via an address input terminal, and input to the row address buffer 70 and the column buffer 120 via the address register 40, respectively. Further, at the time of writing, write data is input via the data input / output terminal and stored in the data register 140, and at the time of reading, the data read by the sense amplifier 150 is held in the data register 140. Under the control of the control circuit 10, the data of the data register 140 is output to the data input / output terminal.
【0019】動作ロジックコントロール回路20aは、
外部からの動作制御信号に応じて、入出力コントロール
回路10を制御する。外部からの動作制御信号として、
チップイネーブル信号/CE、コマンドラッチイネーブ
ル信号CLE、アドレスラッチイネーブル信号ALE、
書き込みイネーブル信号/WE、読み出しイネーブル信
号/REおよび書き込み禁止信号/WPがある。さら
に、図1に示すように、動作ロジックコントロール回路
20aは、外部から入力されたクロック信号CLKを受
けて、当該クロック信号CLKを高電圧発生回路100
aに入力する。The operation logic control circuit 20a includes:
The input / output control circuit 10 is controlled according to an external operation control signal. As an external operation control signal,
A chip enable signal / CE, a command latch enable signal CLE, an address latch enable signal ALE,
There are a write enable signal / WE, a read enable signal / RE, and a write inhibit signal / WP. Further, as shown in FIG. 1, the operation logic control circuit 20a receives the clock signal CLK input from the outside, and outputs the clock signal CLK to the high-voltage generation circuit 100.
Input to a.
【0020】ステータスレジスタ30は、制御回路60
により出力された動作状態を示すステータス信号を保持
して、当該ステータス信号を入出力コントロール回路1
0を介して、外部に出力する。アドレスレジスタ40
は、入出力コントロール回路10を介して入力されたロ
ーアドレスおよびカラムアドレスを保持し、保持された
ローアドレスをローアドレスバッファ70に出力し、カ
ラムアドレスをカラムバッファ120に出力する。The status register 30 includes a control circuit 60
Holds the status signal indicating the operation state output by the input / output control circuit 1
0 to output to the outside. Address register 40
Holds the row address and the column address input via the input / output control circuit 10, outputs the held row address to the row address buffer 70, and outputs the column address to the column buffer 120.
【0021】コマンドレジスタ50は、入出力コントロ
ール回路10を介して入力されたコマンドを保持し、保
持されたコマンドを制御回路60aに出力する。制御回
路60aは、コマンドレジスタ50から入力されたコマ
ンドに応じて、ステータスレジスタ30、カラムデコー
ダ130、データレジスタ140およびセンスアンプ1
50の動作を制御する制御信号を出力する。さらに、制
御回路60aは、R/B回路110および高電圧発生回
路100aにそれぞれ制御信号を出力する。The command register 50 holds a command input via the input / output control circuit 10, and outputs the held command to the control circuit 60a. The control circuit 60a receives the status register 30, the column decoder 130, the data register 140, and the sense amplifier 1 according to the command input from the command register 50.
A control signal for controlling the operation of F.50 is output. Further, control circuit 60a outputs a control signal to R / B circuit 110 and high voltage generation circuit 100a, respectively.
【0022】ローアドレスバッファ70は、アドレスレ
ジスタ40からのローアドレスを保持し、ローアドレス
デコーダ80に出力する。ローアドレスデコーダ80
は、入力されたローアドレスに応じて、メモリセルアレ
イ90の複数のワード線のうち指定されたワード線を選
択し、それに活性化電圧を印加する。なお、選択ワード
線に印加される活性化電圧は、例えば、高電圧発生回路
100aにより発生された電圧である。The row address buffer 70 holds the row address from the address register 40 and outputs the row address to the row address decoder 80. Row address decoder 80
Selects a specified word line among a plurality of word lines of the memory cell array 90 in accordance with an input row address, and applies an activation voltage to the selected word line. The activation voltage applied to the selected word line is, for example, a voltage generated by the high voltage generation circuit 100a.
【0023】メモリセルアレイ90は、行列状に配置さ
れている複数のメモリセルにより構成され、各行のメモ
リセルが同じワード線に接続され、各列のメモリセルが
同じビット線に接続されいる。さらに、ワード線は、ロ
ーアドレスデコーダ80に接続され、ビット線はセンス
アンプ150に接続されている。The memory cell array 90 is composed of a plurality of memory cells arranged in a matrix. The memory cells in each row are connected to the same word line, and the memory cells in each column are connected to the same bit line. Further, the word lines are connected to the row address decoder 80, and the bit lines are connected to the sense amplifier 150.
【0024】カラムバッファ120は、アドレスレジス
タ40からのカラムアドレスを保持し、カラムデコーダ
130に出力する。カラムデコーダ130は、入力され
たカラムアドレスに応じて、複数のビット線から指定さ
れたビット線を選択する。The column buffer 120 holds the column address from the address register 40 and outputs it to the column decoder 130. The column decoder 130 selects a designated bit line from a plurality of bit lines according to the input column address.
【0025】データレジスタ140は、書き込みのとき
入出力コントロール回路10を介して入力された書き込
みデータを保持し、センスアンプ150に入力する。読
み出しのときセンスアンプ150により読み出されたデ
ータを保持し、入出力コントロール回路10を介して外
部に出力する。The data register 140 holds the write data input via the input / output control circuit 10 at the time of writing, and inputs the write data to the sense amplifier 150. At the time of reading, the data read by the sense amplifier 150 is held and output to the outside via the input / output control circuit 10.
【0026】センスアンプ150は、読み出しのとき選
択されたビット線の電位に応じて、選択メモリセルの記
憶データを読み出し、データレジスタ140に出力し、
書き込みのときデータレジスタ140に保持されている
書き込みデータに応じて選択されたビット線の電位を設
定し、選択メモリセルに書き込みデータを格納する。The sense amplifier 150 reads data stored in the selected memory cell according to the potential of the bit line selected at the time of reading, and outputs the data to the data register 140.
At the time of writing, the potential of the selected bit line is set in accordance with the write data held in the data register 140, and the write data is stored in the selected memory cell.
【0027】このように構成されている半導体記憶装置
において、入出力コントロール回路10を介して入力さ
れたコマンドが一旦コマンドレジスタ50に保持された
あと、制御回路60aに送られる。制御回路60aで
は、コマンドにより指示された動作を制御するための制
御信号が生成され、それぞれ所定の部分回路に出力され
る。例えば、高電圧発生回路100aに対して制御信号
SCが出力される。高電圧発生回路100aは、制御信
号SCに応じて、電源電圧VCCと異なるレベルを持つ電
圧V1,V2,V3を生成し、それぞれローアドレスデ
コーダ80、メモリセルアレイ90およびセンスアンプ
150に供給される。In the semiconductor memory device configured as described above, a command input via the input / output control circuit 10 is temporarily stored in the command register 50 and then sent to the control circuit 60a. The control circuit 60a generates a control signal for controlling the operation specified by the command, and outputs the generated control signal to a predetermined partial circuit. For example, the control signal SC is output to the high voltage generation circuit 100a. The high voltage generating circuit 100a generates voltages V1, V2, and V3 having different levels from the power supply voltage V CC in accordance with the control signal SC, and supplies the generated voltages V1, V2, and V3 to the row address decoder 80, the memory cell array 90, and the sense amplifier 150, respectively. .
【0028】図2は、高電圧発生回路100aの具体的
な構成を示す回路図である。以下、図2を参照しつつ、
本実施形態における高電圧発生回路100aの動作につ
いて説明する。図示のように、高電圧発生回路100a
は、昇圧制御回路106,107、チャージポンプ10
3,104および電圧変換回路105により構成されて
いる。FIG. 2 is a circuit diagram showing a specific configuration of high voltage generating circuit 100a. Hereinafter, with reference to FIG.
The operation of the high voltage generation circuit 100a according to the present embodiment will be described. As shown, the high voltage generation circuit 100a
Are the boost control circuits 106 and 107, the charge pump 10
3 and 104 and a voltage conversion circuit 105.
【0029】昇圧制御回路106は、制御信号SC1、
クロック信号CLKおよびチャージポンプ103からフ
ィードバックされた電圧VP1を受けて、チャージポン
プ103にクロック信号CK1を出力する。チャージポ
ンプ103は、昇圧制御回路106からのクロック信号
CK1を受けて、これに応じて昇圧動作を行い、電源電
圧VCCと異なる電圧VP1を出力する。The boost control circuit 106 controls the control signals SC1,
In response to the clock signal CLK and the voltage VP1 fed back from the charge pump 103, the clock signal CK1 is output to the charge pump 103. Charge pump 103 receives clock signal CK1 from boost control circuit 106, performs a boost operation in response thereto, and outputs voltage VP1 different from power supply voltage V CC .
【0030】上記とほぼ同様に、昇圧制御回路107
は、制御信号SC2、クロック信号CLKおよびチャー
ジポンプ104からフィードバックされた電圧VP2を
受けて、チャージポンプ104にクロック信号CK2を
出力する。チャージポンプ104は、昇圧制御回路10
7からのクロック信号CK2を受けて、これに応じて昇
圧動作を行い、電源電圧VCCと異なる電圧VP2を出力
する。In substantially the same manner as described above, the boost control circuit 107
Receives the control signal SC2, the clock signal CLK, and the voltage VP2 fed back from the charge pump 104, and outputs a clock signal CK2 to the charge pump 104. The charge pump 104 includes the boost control circuit 10
7 receives the clock signal CK2, performs a boosting operation in response thereto, and outputs a voltage VP2 different from the power supply voltage V CC .
【0031】電圧変換回路105は、チャージポンプ1
03および104からの電圧VP1,VP2を受けて、
複数の異なる電圧V1〜Vnを生成して外部に供給す
る。The voltage conversion circuit 105 includes the charge pump 1
Receiving the voltages VP1 and VP2 from the circuits 03 and 104,
A plurality of different voltages V1 to Vn are generated and supplied to the outside.
【0032】なお、高電圧発生回路100aは図2に示
す構成に限定されることなく、例えば、複数の昇圧制御
回路とチャージポンプからなる回路セットを設けて、2
以上の電圧を発生し、電圧変換回路105に供給するこ
とも可能である。The high voltage generating circuit 100a is not limited to the configuration shown in FIG. 2, but may be provided with a circuit set including a plurality of boost control circuits and a charge pump.
The above voltage can be generated and supplied to the voltage conversion circuit 105.
【0033】図3は、昇圧制御回路の一構成例を示して
いる。図2に示す昇圧制御回路106および107は、
例えば、この昇圧制御回路例に示す構成を有する。図示
のように、昇圧制御回路は、ANDゲートAND1、コ
ンパレータCMP1、基準電圧源および分圧用抵抗素子
R1,R2により構成されている。FIG. 3 shows an example of the configuration of the boosting control circuit. The boost control circuits 106 and 107 shown in FIG.
For example, it has the configuration shown in this booster control circuit example. As shown, the boost control circuit includes an AND gate AND1, a comparator CMP1, a reference voltage source, and voltage dividing resistance elements R1 and R2.
【0034】チャージポンプからフィードバックされた
電圧VP1は、抵抗素子R1とR2により分圧され、分
圧電圧VrがコンパレータCMP1の反転入力端子
“−”に入力される。コンパレータCMP1の非反転入
力端子“+”には、基準電圧源により発生された基準電
圧Vref が入力される。コンパレータCMP1により出
力された信号SE は、ANDゲートAND1に入力され
る。ANDゲートAND1は、三つの入力端子があり、
そのうち二つの入力端子には制御信号SC1と外部から
入力されたクロック信号CLKがそれぞれ入力される。The voltage VP1 fed back from the charge pump is divided by the resistance elements R1 and R2, and the divided voltage Vr is input to the inverting input terminal "-" of the comparator CMP1. The reference voltage Vref generated by the reference voltage source is input to the non-inverting input terminal “+” of the comparator CMP1. The signal S E output from the comparator CMP1 is input to the AND gate AND1. The AND gate AND1 has three input terminals,
The control signal SC1 and the clock signal CLK input from the outside are input to two input terminals among them.
【0035】このように構成された昇圧制御回路におい
て、制御信号SC1およびコンパレータCMP1からの
信号SE に応じて出力クロック信号CK1が制御され
る。制御信号SC1がローレベルのとき、ANDゲート
AND1の出力端子がローレベルに保持されるので、ク
ロック信号CK1の出力がなく、チャージポンプが動作
しない。即ち、この状態において、電圧VP1が出力さ
れない。[0035] In thus constituted boost control circuit, the output clock signal CK1 is controlled in response to the signal S E from the control signals SC1 and the comparator CMP1. When the control signal SC1 is at the low level, the output terminal of the AND gate AND1 is held at the low level, so that there is no output of the clock signal CK1 and the charge pump does not operate. That is, in this state, the voltage VP1 is not output.
【0036】一方、制御信号SC1がハイレベルのと
き、コンパレータCMP1からの信号SE に応じて、出
力クロック信号CK1が制御される。例えば、チャージ
ポンプの出力電圧VP1の分圧電圧Vrが基準電圧V
ref より高い場合に、コンパレータCMP1の出力信号
SE はローレベルに保持される。このとき、ANDゲー
トAND1の出力端子はローレベルに保持され、クロッ
ク信号CK1が出力されない。逆に、チャージポンプの
出力電圧VP1の分圧電圧Vrが基準電圧Vref より低
い場合に、コンパレータCMP1の出力信号SE はハイ
レベルに保持される。このとき、ANDゲートAND1
に入力されたクロック信号CLKがその出力端子に出力
される。即ち、外部から入力されたクロック信号CLK
がCK1として、チャージポンプに供給される。これに
応じてチャージポンプが動作し、電圧VP1が出力され
る。On the other hand, when the control signal SC1 is at high level, in response to the signal S E from the comparator CMP1, the output clock signal CK1 is controlled. For example, the divided voltage Vr of the output voltage VP1 of the charge pump is equal to the reference voltage Vr.
is higher than the ref, the output signal S E of the comparator CMP1 is held at the low level. At this time, the output terminal of the AND gate AND1 is kept at the low level, and the clock signal CK1 is not output. Conversely, the divided voltage Vr in the output voltage VP1 of the charge pump is lower than the reference voltage V ref, the output signal S E of the comparator CMP1 is held at the high level. At this time, the AND gate AND1
Is output to its output terminal. That is, the clock signal CLK input from the outside
Is supplied to the charge pump as CK1. In response, the charge pump operates, and voltage VP1 is output.
【0037】上述したように、制御信号SC1は、昇圧
動作を制御するイネーブル信号の働きをし、制御信号S
C1のレベルに応じて、昇圧動作がオン/オフし、電圧
の供給を制御する。昇圧動作中に、コンパレータCMP
1により出力された信号SEにより、昇圧動作が調整さ
れる。この結果、チャージポンプにより、安定したレベ
ルを有する昇圧電圧VP1が出力される。なお、電圧V
P1の電圧値は、基準電圧Vref および分圧用抵抗素子
R1,R2の抵抗値により設定される。As described above, the control signal SC1 functions as an enable signal for controlling the boosting operation, and the control signal SC1
The boosting operation is turned on / off according to the level of C1, and controls the supply of voltage. During the boost operation, the comparator CMP
The outputted signal S E by 1, the step-up operation is adjusted. As a result, a boosted voltage VP1 having a stable level is output by the charge pump. Note that the voltage V
The voltage value of P1 is set by the reference voltage Vref and the resistance values of the voltage dividing resistance elements R1 and R2.
【0038】図4は、昇圧制御回路の他の構成例を示し
ている。図示のように、本例の昇圧制御回路は、AND
ゲートAND2、選択回路SEL1、発振回路OSC
1、コンパレータCMP1、基準電圧源および分圧用抵
抗素子R1,R2により構成されている。FIG. 4 shows another example of the configuration of the boosting control circuit. As shown in the figure, the boosting control circuit of the present example has an AND
Gate AND2, selection circuit SEL1, oscillation circuit OSC
1, a comparator CMP1, a reference voltage source, and voltage dividing resistance elements R1 and R2.
【0039】本例の昇圧制御回路は、図3に示す昇圧制
御回路に較べて、発振回路OSC1および選択回路SE
L1が追加された。発振回路OSC1により、クロック
信号CLK0が発生され、選択回路SEL1により、外
部から入力されたクロック信号CLKまたは発振回路O
SC1により生成されたクロック信号CLK0の何れか
が選択され、選択したクロック信号がクロックCK1と
してチャージポンプに供給される。なお、コンパレータ
CMP1、基準電圧源および分圧用抵抗素子R1,R2
からなる部分回路は、図3に示す昇圧制御回路の同部分
とほぼ同じ構成を有する。The boosting control circuit of this embodiment is different from the boosting control circuit shown in FIG.
L1 has been added. The clock signal CLK0 is generated by the oscillation circuit OSC1, and the clock signal CLK or the oscillation circuit O input from the outside is selected by the selection circuit SEL1.
One of the clock signals CLK0 generated by SC1 is selected, and the selected clock signal is supplied to the charge pump as a clock CK1. Note that the comparator CMP1, the reference voltage source and the voltage dividing resistance elements R1 and R2
Has substantially the same configuration as that of the booster control circuit shown in FIG.
【0040】発振回路OSC1は、コンパレータCMP
1からの信号SE に応じて、所定の周波数を有するクロ
ック信号CLK0を出力する。外部から入力されたクロ
ック信号CLKは、ANDゲートAND2の一方の入力
端子に入力され、ANDゲートAND2の他方の入力端
子にコンパレータCMP1からの信号SE が入力され
る。このため、信号SE により制御されたクロック信号
CLKがANDゲートAND2により選択回路SEL1
に入力される。The oscillation circuit OSC1 includes a comparator CMP
A clock signal CLK0 having a predetermined frequency is output in response to the signal S E from S1. The clock signal CLK inputted from the outside is input to one input terminal of the AND gate AND2, the other input terminal of the AND gate AND2 is signal S E from the comparator CMP1 is inputted. Therefore, the selection signal S controlled clock signal CLK by E is the AND gate AND2 circuit SEL1
Is input to
【0041】選択回路SEL1は、制御信号SC1に応
じて、外部からのクロック信号CLK(ANDゲートA
ND2の出力信号)または発振回路OSC1により発生
されたクロック信号CLK0の何れかを選択してチャー
ジポンプに供給する。The selection circuit SEL1 receives an external clock signal CLK (AND gate A) according to the control signal SC1.
ND2) or the clock signal CLK0 generated by the oscillation circuit OSC1 is selected and supplied to the charge pump.
【0042】上述したように、本例の昇圧制御回路で
は、制御信号SC1は、外部クロック信号CLKまたは
内部クロック信号CLK0を選択するための選択信号と
して機能する。即ち、制御信号SC1のレベルに応じ
て、外部から入力されたクロック信号CLKまたはチッ
プに内蔵されている発振回路OSC1により発生された
クロック信号CLK0の何れかが選択され、チャージポ
ンプに供給される。何れのクロック信号が選択された場
合においても、コンパレータCMP1により出力された
信号SE により、昇圧動作が調整される。この結果、チ
ャージポンプにより、安定したレベルを有する昇圧電圧
VP1が出力される。As described above, in the boosting control circuit of this embodiment, the control signal SC1 functions as a selection signal for selecting the external clock signal CLK or the internal clock signal CLK0. That is, according to the level of the control signal SC1, either the clock signal CLK input from the outside or the clock signal CLK0 generated by the oscillation circuit OSC1 built in the chip is selected and supplied to the charge pump. Even when any of the clock signal is selected by the signal output S E by the comparator CMP1, the step-up operation is adjusted. As a result, a boosted voltage VP1 having a stable level is output by the charge pump.
【0043】なお、図4に示す昇圧制御回路例におい
て、昇圧動作を制御するイネーブル信号として別の制御
信号を取り込み、当該制御信号に応じて、例えば、選択
回路の出力をオン/オフさせることにより、チャージポ
ンプを動作または停止状態に設定できることはいうまで
もない。In the example of the boosting control circuit shown in FIG. 4, another control signal is taken in as an enable signal for controlling the boosting operation, and the output of the selection circuit is turned on / off in response to the control signal. Needless to say, the charge pump can be set to the operating or stopped state.
【0044】図4の昇圧制御回路において、制御信号に
応じて外部クロック信号または内蔵した発振回路で発生
した内部クロック信号を選択してチャージポンプに供給
することができる。このため、例えば、半導体記憶装置
の動作条件に応じて適切のクロック信号を選択すること
によって、安定した高電圧を供給することができる。そ
の一例として、例えば、内蔵型の発振回路が電源電圧V
CCに応じて動作状態が変化するいわゆる電源電圧依存性
を解消する対策として、供給された電源電圧が一定レベ
ル以上にあるとき、内部クロック信号を選択し、高電圧
を発生させる。逆に、電源電圧が低下し、一定レベル以
下になったとき、チップに内蔵されている発振回路の発
振周波数が不安定となるので、外部クロック信号を選択
することにより、低電源電圧動作時でも安定した高電圧
を供給することができる。In the boosting control circuit of FIG. 4, an external clock signal or an internal clock signal generated by a built-in oscillation circuit can be selected and supplied to a charge pump in accordance with a control signal. Therefore, for example, a stable high voltage can be supplied by selecting an appropriate clock signal according to the operating conditions of the semiconductor memory device. As an example, for example, a built-in oscillation circuit is connected to a power supply voltage V
As a countermeasure to eliminate the so-called power supply voltage dependency in which the operation state changes according to the CC , when the supplied power supply voltage is above a certain level, an internal clock signal is selected and a high voltage is generated. Conversely, when the power supply voltage drops and falls below a certain level, the oscillation frequency of the oscillation circuit built into the chip becomes unstable. A stable high voltage can be supplied.
【0045】以上説明したように、本実施形態によれ
ば、昇圧制御回路により外部からのクロック信号または
内蔵型の発振回路により発生された内部クロック信号の
何れかを選択してチャージポンプに供給する。チャージ
ポンプは、供給されたクロック信号に応じて昇圧動作
し、電源電圧と異なる高電圧を発生する。これにより動
作条件に応じて何れかのクロック信号を選択し、それに
応じて高電圧を発生するするができるので、電源電圧依
存性を低減でき、常に安定した高電圧を供給可能であ
る。As described above, according to the present embodiment, the boosting control circuit selects either the external clock signal or the internal clock signal generated by the built-in oscillation circuit and supplies it to the charge pump. . The charge pump performs a boosting operation in accordance with the supplied clock signal, and generates a high voltage different from the power supply voltage. As a result, any one of the clock signals can be selected according to the operating conditions and a high voltage can be generated in accordance with the selected clock signal. Therefore, the power supply voltage dependency can be reduced, and a stable high voltage can always be supplied.
【0046】[0046]
【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体記
憶装置によれば、動作条件などに応じて外部クロック信
号またはチップ内蔵型の発生回路で生成した内部クロッ
ク信号の何れかを選択して、それに応じて高電圧を発生
することにより、電源電圧またはプロセスの依存性が低
減され、安定した高電圧を供給することができる。ま
た、外部クロック信号を用いて高電圧を発生する場合に
高電圧発生回路の動作を制御しやすく、さらに、プロセ
ス依存性を対処するための調整用回路が不要となり、回
路のコストダウンを実現できる利点がある。As described above, according to the semiconductor memory device of the present invention, either the external clock signal or the internal clock signal generated by the built-in chip type generating circuit is selected according to the operating conditions. By generating a high voltage accordingly, the dependency on the power supply voltage or the process is reduced, and a stable high voltage can be supplied. In addition, when a high voltage is generated using an external clock signal, the operation of the high voltage generation circuit can be easily controlled, and further, an adjustment circuit for dealing with process dependency is not required, and the cost of the circuit can be reduced. There are advantages.
【図1】本発明に係る半導体記憶装置の一実施形態を示
す回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram showing one embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention.
【図2】図1に示す半導体記憶装置の高電圧発生回路の
構成を示す回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of a high voltage generation circuit of the semiconductor memory device shown in FIG.
【図3】昇圧制御回路の一例を示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram illustrating an example of a boost control circuit.
【図4】昇圧制御回路の他の例を示す回路図である。FIG. 4 is a circuit diagram showing another example of the boost control circuit.
【図5】従来の高電圧発生回路内蔵型半導体記憶装置の
構成を示す回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram showing a configuration of a conventional semiconductor memory device with a built-in high voltage generation circuit.
【図6】従来の内蔵型高電圧発生回路の構成を示す回路
図である。FIG. 6 is a circuit diagram showing a configuration of a conventional built-in high voltage generation circuit.
10…入出力コントロール回路、20,20a…動作ロ
ジックコントロール回路、30…ステータスレジスタ、
40…アドレスレジスタ、50…コマンドレジスタ、6
0,60a…制御回路、70…ローアドレスバッファ、
80…ローアドレスデコーダ、90…メモリセルアレ
イ、100,100a…高電圧発生回路、101,10
2…発振回路、103,104…チャージポンプ、10
5…電圧変換回路、106,107…昇圧制御回路、1
10…R/B回路、120…カラムバッファ、130…
カラムデコーダ、140…カラムレジスタ、150…セ
ンスアンプ150、CMP1…コンパレータ、AND
1,AND2…ANDゲート、R1,R2…抵抗素子、
Vref …基準電圧。10: input / output control circuit, 20, 20a: operation logic control circuit, 30: status register,
40 ... address register, 50 ... command register, 6
0, 60a: control circuit, 70: row address buffer,
80: row address decoder, 90: memory cell array, 100, 100a: high voltage generation circuit, 101, 10
2: Oscillation circuit, 103, 104: Charge pump, 10
5: voltage conversion circuit, 106, 107: boost control circuit, 1
10 R / B circuit, 120 column buffer, 130
Column decoder, 140 column register, 150 sense amplifier 150, CMP1 comparator, AND
1, AND2 ... AND gate, R1, R2 ... resistance element,
V ref ... Reference voltage.
Claims (5)
た電圧に応じて書き込み、読み出しおよび消去を行う半
導体記憶装置であって、 外部入力端子より入力されたクロック信号に応じて昇圧
動作を行い、電源電圧と異なる昇圧電圧を発生する昇圧
回路を有する半導体記憶装置。1. A semiconductor memory device that generates a voltage different from a power supply voltage and performs writing, reading, and erasing according to the generated voltage, and performs a boosting operation according to a clock signal input from an external input terminal. And a booster circuit for generating a boosted voltage different from a power supply voltage.
た電圧に応じて書き込み、読み出しおよび消去を行う半
導体記憶装置であって、 所定の周波数を有する発振信号を発生する発振回路と、 外部入力端子より入力されたクロック信号と上記発振回
路により発生された発振信号の何れかを選択する選択回
路と、 上記選択回路により選択された信号に応じて昇圧動作を
行い、電源電圧と異なる昇圧電圧を発生する昇圧回路と
を有する半導体記憶装置。2. A semiconductor memory device that generates a voltage different from a power supply voltage and performs writing, reading and erasing according to the generated voltage, comprising: an oscillation circuit that generates an oscillation signal having a predetermined frequency; A selection circuit for selecting one of a clock signal input from an input terminal and an oscillation signal generated by the oscillation circuit; a boosting operation performed in accordance with the signal selected by the selection circuit; Semiconductor memory device having a booster circuit for generating a voltage.
の発振信号または外部入力端子により入力された上記ク
ロック信号の何れかを上記選択回路に選択させる制御回
路を有する請求項2記載の半導体記憶装置。3. A semiconductor device according to claim 2, further comprising a control circuit for causing said selection circuit to select either an oscillation signal from said oscillation circuit or said clock signal input from an external input terminal in response to a change in power supply voltage. Storage device.
ベル以下になったとき、上記選択回路に外部入力端子に
より入力された上記クロック信号を選択させる請求項3
記載の半導体記憶装置。4. The control circuit causes the selection circuit to select the clock signal input from an external input terminal when the power supply voltage falls below a predetermined level.
The semiconductor memory device according to claim 1.
し、分周した信号を上記昇圧回路に供給する分周回路を
さらに有する請求項2記載の半導体記憶装置。5. The semiconductor memory device according to claim 2, further comprising a frequency dividing circuit for dividing a signal selected by said selecting circuit and supplying the divided signal to said boosting circuit.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9628898A JPH11297089A (en) | 1998-04-08 | 1998-04-08 | Semiconductor memory |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9628898A JPH11297089A (en) | 1998-04-08 | 1998-04-08 | Semiconductor memory |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11297089A true JPH11297089A (en) | 1999-10-29 |
Family
ID=14160907
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9628898A Pending JPH11297089A (en) | 1998-04-08 | 1998-04-08 | Semiconductor memory |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11297089A (en) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100347140B1 (en) * | 1999-12-31 | 2002-08-03 | 주식회사 하이닉스반도체 | Voltage conversion circuit |
US6751743B1 (en) * | 2000-12-22 | 2004-06-15 | Cisco Technology, Inc. | Method and apparatus for selecting a first clock and second clock for first and second devices respectively from an up-converted clock and an aligned clock for synchronization |
KR100670682B1 (en) | 2005-02-04 | 2007-01-17 | 주식회사 하이닉스반도체 | Data output circuit in semiconductor memory device and its method |
US7463476B2 (en) | 2005-03-31 | 2008-12-09 | Hynix Semiconductor Inc. | Capacitor with nanotubes and method for fabricating the same |
JP2009278737A (en) * | 2008-05-13 | 2009-11-26 | Renesas Technology Corp | Charge pump |
-
1998
- 1998-04-08 JP JP9628898A patent/JPH11297089A/en active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100347140B1 (en) * | 1999-12-31 | 2002-08-03 | 주식회사 하이닉스반도체 | Voltage conversion circuit |
US6751743B1 (en) * | 2000-12-22 | 2004-06-15 | Cisco Technology, Inc. | Method and apparatus for selecting a first clock and second clock for first and second devices respectively from an up-converted clock and an aligned clock for synchronization |
KR100670682B1 (en) | 2005-02-04 | 2007-01-17 | 주식회사 하이닉스반도체 | Data output circuit in semiconductor memory device and its method |
US7366050B2 (en) | 2005-02-04 | 2008-04-29 | Hynix Semiconductor, Inc. | Apparatus and method for data outputting |
US7554877B2 (en) | 2005-02-04 | 2009-06-30 | Hynix Semiconductor, Inc. | Apparatus and method for data outputting |
US7463476B2 (en) | 2005-03-31 | 2008-12-09 | Hynix Semiconductor Inc. | Capacitor with nanotubes and method for fabricating the same |
US7688570B2 (en) | 2005-03-31 | 2010-03-30 | Hynix Semiconductor Inc. | Capacitor with nanotubes and method for fabricating the same |
JP2009278737A (en) * | 2008-05-13 | 2009-11-26 | Renesas Technology Corp | Charge pump |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6549474B2 (en) | Method and circuit for regulating the output voltage from a charge pump circuit, and memory device using same | |
US6304469B1 (en) | Charge pump circuit including level shifters for threshold voltage cancellation and clock signal boosting, and memory device using same | |
US11742033B2 (en) | Voltage generation circuit which is capable of executing high-speed boost operation | |
JP4094104B2 (en) | Semiconductor integrated circuit device and memory device | |
US7663960B2 (en) | Voltage supply circuit and semiconductor memory | |
US5959854A (en) | Voltage step-up circuit and method for controlling the same | |
JP3726753B2 (en) | Boost circuit for nonvolatile semiconductor memory device | |
US7684246B2 (en) | Flash memory device having pump with multiple output voltages | |
US7439794B2 (en) | Power source circuit | |
US20080031078A1 (en) | High voltage generator and related flash memory device | |
KR20070028974A (en) | Flash memory device and voltage generating circuit for the same | |
US7149132B2 (en) | Biasing circuit for use in a non-volatile memory device | |
JPH10243637A (en) | Power circuit and nonvolatile semiconductor storage device | |
JP2006286048A (en) | Semiconductor memory device | |
US5347488A (en) | Semiconductor memory device for generating a controlling signal to select a word line | |
JP6886545B1 (en) | Power-down detection circuit and semiconductor storage device | |
JPH11297089A (en) | Semiconductor memory | |
US6781439B2 (en) | Memory device pump circuit with two booster circuits | |
JPH01149297A (en) | Semiconductor memory | |
US5353249A (en) | Non-volatile semiconductor memory device | |
JP4475762B2 (en) | Single power supply voltage non-volatile memory device with hierarchical column decoder | |
US7450460B2 (en) | Voltage control circuit and semiconductor device | |
US6759896B2 (en) | Semiconductor integrated circuit and semiconductor memory having a voltage step-down circuit stepping external power supply voltage down to internal power supply voltage | |
JP2008103033A (en) | Semiconductor memory device and power supply method in the same | |
JPH11120782A (en) | Semiconductor integrated circuit device |