JPH1129533A - ケージドヒドロキシフェニルプロピオン酸及びその誘導体 - Google Patents

ケージドヒドロキシフェニルプロピオン酸及びその誘導体

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JPH1129533A
JPH1129533A JP9185168A JP18516897A JPH1129533A JP H1129533 A JPH1129533 A JP H1129533A JP 9185168 A JP9185168 A JP 9185168A JP 18516897 A JP18516897 A JP 18516897A JP H1129533 A JPH1129533 A JP H1129533A
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JP
Japan
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acid
group
hppa
caged
dimethoxy
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JP9185168A
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English (en)
Inventor
Hirobumi Shiono
博文 塩野
Hitoshi Noda
均 能田
Chika Utsuyama
千佳 宇津山
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BUNSHI BIO PHOTONICS KENKYUSHO
Bunshi Biophotonics Kenkyusho KK
Original Assignee
BUNSHI BIO PHOTONICS KENKYUSHO
Bunshi Biophotonics Kenkyusho KK
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Publication date
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    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【解決手段】一般式1のケージドヒドロキシフェニルプ
ロピオン酸(HPPA)及びその誘導体。 (RはH、CHO又はOH、RはCHCH
H、CHCOH、CHCHNH、CH
CH(NH)COH、CHCHOH、CH
N(CH、CHCH、CHCHCH
OH、CH、OCH、CHOH、CH(OH)
COH、H又はCOHを表す。) 【効果】本ケージドHPPAはフェノール性水酸基を保
護され、通常のペルオキシダーゼ酵素反応条件下で極め
て安定であり、かつ光解離性のケージド化による保護基
であることから光照射により定量的にHPPAを溶液中
に遊離可能となり、ペルオキシダーゼ−過酸化水素アッ
セイ系に好ましく適用できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ケージドヒドロキ
シフェニルプロピオン酸及びその誘導体に関するもので
あって、より詳しくは、ヒドロキシフェニルプロピオン
酸(HPPA)及びその誘導体のヒドロキシ基を4、5
−ジメトキシ−2−ニトロベンジル基で保護したケージ
ド化合物に関する。
【0002】
【従来の技術】臨床検査においての免疫検査法や核酸プ
ローブ法による検査において、抗体や核酸プローブの標
識酵素として、また、酸化酵素利用の生体内物質の検出
用酵素としてペルオキシダーゼは広く使用される酵素と
して知られている。係るペルオキシダーゼを最も感度の
高い蛍光法で検出するための試薬として、ヒドロキシフ
ェニルプロピオン酸(HPPA)が使用されている。
【0003】しかし、HPPAは保存安定性、特に溶液
中での保存安定性が著しく悪いという問題点がある。H
PPAの係る保存安定性を改善するために、HPPAを
含む溶液中に種々の安定化剤を添加する方法(特開平8-
2108577)が知られているが十分ではない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは以上の問
題点を解決するために鋭意研究し、酸素等に高い反応性
を示すHPPAのフェノール性水酸基を、適当な保護基
で保護することで、極めて化学的に安定なHPPAの誘
導体を得ることに成功し、本発明を完成するに至った。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明に係る、HPPA
及びその誘導体は、フェノール性水酸基を有することを
特徴とする化合物群であり、フェノール性水酸基の隣接
位置にさらにメトキシ基や水酸基を有する構造を有する
化合物群も含むものである。さらに、本発明に係る、H
PPA及びその誘導体は、前記水酸基に対しパラ位置の
種々のアルキル基等の置換基を有する構造を有するもの
である。
【0006】本発明に係るケージドヒドロキシフェニル
プロピオン酸及びその誘導体は、前記化合物群のフェノ
ール性水酸基を、4,5−ジメトキシ−2−ニトロベン
ジル基でエーテル結合により保護基化(以下ケージド化
という)により安定化させた構造を有するものである。
より詳しくは、本発明は、次式で表される構造を有する
ケージドヒドロキシフェニルプロピオン酸及びその誘導
体を提供するものである。
【0007】
【化1】
【0008】(ここで、R1は、H、CH3O、OHのい
ずれかを表し、R2はCH2CH2CO2H、CH2CO
2H、CH2CH2NH2、CH2CH(NH2)CO2H、
CH2CH2OH、CH2CH2N(CH32、CH2
3、CH2CH2CH2OH、CH3、OCH3、CH2
H、CH(OH)CO2H、H、CO2Hのいずれかを表
す。) さらに、本発明は、フェノール基が4、5−ジメトキシ
−2−ニトロベンジル基で保護された以下のヒドロキシ
フェニルプロピオン酸及びその誘導体を提供するもので
ある。
【0009】3ー(4ーヒドロキシフェニル)プロピオ
ン酸、p−ヒドロキシフェニル酢酸、ホモバニリン酸、
チラミン、チロシン、p−ヒドロキシフェニルエチルア
ルコール、ホルデニン、p−エチルフェニル、3−(p
−ヒドロキシフェニル)−1−プロパノール、p−クレ
ゾール、p−n−プロピルフェノール、ホモバニリルア
ルコール、3−メトキシチラミン、3−(3−メトキシ
−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸、2−メトキ
シ−4−メチルフェノール、p−ヒドロキシベンジルア
ルコール、バニリルアルコール、バニリル酢酸、2−メ
トキシフェノール、p−ヒドロキシ安息香酸、p−ヒド
ロキシ−3−メトキシ安息香酸、p−ヒドロキシマンデ
ル酸、3,4−ジヒドロマンデル酸、3−メトキシチロ
シン、p−アミドアセトフェノール、p−プロピオンア
ミドフェノール、p−ブチルアミドフェノール、p−ブ
チルアミドフェノール、p−バレロアミドフェノール、
4−アセトアミド−2−メチルフェノール、4−メトキ
シカルバミドフェノール、4−エトキシカルバミドフェ
ノール、3−(4−ヒドロキシフェニルカルバモイル)
プロピオン酸、4−(4−ヒドロキシフェニルカルバモ
イル)ブタン酸、5−(4−ヒドロキシフェニルカルバ
モイル)ペンタン酸、2−(カルボキシメトキシ)−
4’−ヒドロキシアセタニリド、4−(4−ヒドロキシ
フェニルカルバモイル)−3−メチルブタン酸。
【0010】以下本発明を実施の形態に即し詳細に説明
する。
【0011】
【発明の実施の形態】
(ヒドロキシフェニルプロピオン酸及びその誘導体)本
発明においてケージド化により安定化されるHPPA及
びその誘導体については特に制限はなく、フェノール性
水酸基を有している化合物であればよいが、本発明に係
るケージドヒドロキシフェニルプロピオン酸及びその誘
導体を、ペルオキシダーゼを蛍光法により検出するため
に使用する目的では、該酵素反応生成物が十分な蛍光を
有するものであることが必要であり、この観点からは、
以下の式で示される化合物が好ましい。
【0012】
【化1】
【0013】(ここで、R1は、H、CH3O、OHのい
ずれかを表し、R2はCH2CH2CO2H、CH2CO
2H、CH2CH2NH2、CH2CH(NH2)CO2H、
CH2CH2OH、CH2CH2N(CH32、CH2
3、CH2CH2CH2OH、CH3、OCH3、CH2
H、CH(OH)CO2H、H、CO2Hのいずれかを表
す。) 特に、該酵素反応生成物の蛍光強度が大きい観点から、
上記の化合物のうち、以下のHPPA及びその誘導体が
特に好ましい。
【0014】3ー(4ーヒドロキシフェニル)プロピオ
ン酸、p−ヒドロキシフェニル酢酸、ホモバニリン酸、
チラミン、チロシン、p−ヒドロキシフェニルエチルア
ルコール、ホルデニン、p−エチルフェノール、3−
(p−ヒドロキシフェニル)−1−プロパノール、p−
クレゾール、p−n−プロピルフェノール、ホモバニリ
ルアルコール、3−メトキシチラミン、3−(3−メト
キシ−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸、2−メ
トキシ−4−メチルフェノール、p−ヒドロキシベンジ
ルアルコール、バニリルアルコール、バニリル酢酸、2
−メトキシフェノール、p−ヒドロキシ安息香酸、p−
ヒドロキシ−3−メトキシ安息香酸、p−ヒドロキシマ
ンデル酸、3,4−ジヒドロマンデル酸、3−メトキシ
チロシン、p−アミドアセトフェノール、p−プロピオ
ンアミドフェノール、p−ブチルアミドフェノール、p
−ブチルアミドフェノール、p−バレロアミドフェノー
ル、4−アセトアミド−2−メチルフェノール、4−メ
トキシカルバミドフェノール、4−エトキシカルバミド
フェノール、3−(4−ヒドロキシフェニルカルバモイ
ル)プロピオン酸、4−(4−ヒドロキシフェニルカル
バモイル)ブタン酸、5−(4−ヒドロキシフェニルカ
ルバモイル)ペンタン酸、2−(カルボキシメトキシ)
4’−ヒドロキシアセタニリド、4−(4−ヒドロキシ
フェニルカルバモイル)−3−メチルブタン酸。
【0015】ここで、フェノール水酸基の隣接位置は、
H、OH又はメトキシ基であり、係る構造を有する化合
物は、ペルオキシダーゼ酵素反応生成物が十分な強度の
蛍光を発することが可能である。
【0016】さらに、前記フェノールの水酸基のパラ位
置の置換基は、ペルオキシダーゼの酵素反応に使用可能
な構造を有する必要から、例えばCH2CH2CO2H、
CH2CO2H、CH2CH2NH2、CH2CH(NH2
CO2H、CH2CH2OH、CH2CH2N(CH32
CH2CH3、CH2CH2CH2OH、CH3、OCH3
CH2OH、CH(OH)CO2H、H、CO2Hである
ことが好ましい。
【0017】(ケージド化反応)本発明に係るフェノー
ル性水酸基を、4,5−ジメトキシ−2−ニトロベンジ
ル基でエーテル結合を形成して保護基化する方法につい
ては特に制限はない。通常の化学反応によりフェノール
性水酸基のエーテル結合形成反応を使用可能である。具
体的には、次式で示すように一般的に適当な脱離基で置
換した4,5−ジメトキシ−2−ニトロベンジル体と、
HPPA及びその誘導体との弱塩基の存在下での反応に
より好ましく合成可能である。係る場合の脱離基として
は、ハロゲン(Cl、Br、I)、トシレート等が挙げ
られる。
【0018】
【化2】
【0019】上記エーテル結合形成反応に使用可能な反
応溶媒は、アセトン、アセトニトリル、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシドのような非プロトン性極
性溶媒が好ましく特にアセトンの使用が好ましい。ま
た、使用する塩基としては有機物塩基、無機塩基物のど
ちらでもよいが、無機塩基物の使用が好ましく具体的に
は炭酸カリウム等が挙げられる。反応温度及び、反応時
間についても特に制限はなく、反応をTLC、HPLC
等の方法でモニターし、原料としてのHPPAが消失し
た時点で反応の完結と判断可能である。反応溶液から、
反応溶媒を減圧で除いた後、再結晶、カラムクロマトグ
ラフ等の精製分離手段を用いて単離可能である。
【0020】さらに、前記フェノールの水酸基のパラ位
置の置換基により、上記のエーテル結合形成反応が阻害
され得るものとしては、カルボン酸、ヒドロキシ基、ア
ミノ基を有する誘導体であるが、係る場合には、適当な
保護基であらかじめ保護しておき、エーテル結合形成後
に該保護基を脱離することが可能である。具体的には、
カルボン酸の場合には、適当なアルコール等によるエス
テル結合により保護することが可能であり、ヒドロキシ
基の場合にはアシル基によるエステル基による保護が可
能であり、アミノ基の場合にはアシル基によるアミド基
による保護基化が可能となる。
【0021】(HPPA体の発生及びペルオキシダーゼ
−過酸化水素酵素反応の検出)本発明に係るケージドH
PPA及びその誘導体のフェノール性水酸基のエーテル
結合によるケージド化(保護基化)は、通常の化学反応
条件に対しては極めて安定である。具体的には、酸素、
過酸化水素等の酸化物との共存条件でも全く酸化されな
い。
【0022】一方、4、5ージメトキシ−2−ニトロベ
ンジルエーテル結合は、光照射により容易に光開裂し、
HPPAを遊離する。さらに、照射光のエネルギーに依
存して遊離されるHPPAの濃度が増加する。上記の光
開裂反応は、HPLCを用いることで容易にモニター可
能である。具体的には、以下のHPLC条件が好ましく
使用可能である。
【0023】 ================================== 試料溶液:ケージドHPPA、3.6mM/リン酸緩衝液(pH8.0) HPPA(和光純薬)、3.6mM/リン酸緩衝液(pH8.0) HPLC:カラム、ODSφ4.6mmx250mm (SHISEIDO CapcellPacC18) 移動相、アセトニトリル/0.05%トリフルオロ酢酸水溶液(20/80から 60/40に、0から20分) 照射条件:試験管に試料10μlいれ、上部から、360nm光を照射した後、HP LC移動相にて10倍希釈してHPLC分析。 保持時間:ケージドHPPA(254nm吸収検出)、21.6分 HPPA(励起285nm、305nm蛍光検出)、6.8分 ===================================
【0024】さらに、照射光の照射エネルギーを調節す
ることで、必要なHPPAの遊離濃度を制御することが
可能となる。具体的には、ケージドHPPAをペルオキ
シダーゼ-過酸化水素酵素反応の検出試薬として使用す
る場合は、被測定酵素反応溶液に、上記ケージドHPP
Aを添加し、その後、適当な波長の光で照射することに
よりその溶液中に直接HPPAを適当な濃度で発生させ
ることとなる。従って、HPPAが極めて純度の高い状
態で該酵素反応に使用されることにより、バックグラウ
ンドの低い蛍光検出が可能となるものである。図1に、
酵素反応溶液(ペルオキシダーゼ8μg/ml、過酸化水素
0.3g/l)中に、ケージドHPPAを0.36mM添加した溶液
を、360nmの波長の光照射した後の該溶液の相対蛍光強
度を示した。光照射しない条件では、明らかに酵素反応
は全く検出されないが、光照射により、その結果該酵素
反応が検出可能となり、HPPAが発生していることが
示された。
【0025】
【実施例】以下実施例に基づき本発明を具体的に説明す
るが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に
限定されるものではない。
【0026】(実施例1)4-(4,5-ジメトキシ-2-ニトロベンジルオキシ)-フェニル
プロピオン酸メチルエステル の合成 4,5-ジメトキシ-2-ニトロベンジルブロミド(アルドリ
ッチ社製)10.0gと、3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピ
オン酸メチルエステル(アルドリッチ社製)6.5gをアセ
トン100mlに溶解し、得られた溶液に炭酸カリウム7.6g
を加えて18時間環流した。不溶物を濾過した後、濾液か
ら反応溶媒を減圧で除き、得られた粗生成物に酢酸エチ
ル400mlを加えて溶解し、得られた溶液を水、飽和食塩
水で洗浄した。得られた溶液を硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を減圧で除いた。得られた褐色の粗生成物をエ
タノールから再結晶して、結晶として4-(4,5-ジメトキ
シ-2-ニトロベンジルオキシ)-フェニルプロピオン酸メ
チルエステルを得た(収率90%)。
【0027】赤外線吸収スペクトル(KBr):1735cm
-1(メチルエステル基)、1523,1513cm-1(ニトロ
基)、1220, 1070cm-1(メトキシ基)。
【0028】TOF−MS(島津製作所製、MALDI
IV):375(M/C)。
【0029】1H-NMR(重クロロホルム、δppm):7.77
(s,1H,ニトロベンジルの芳香族プロトン)、7.35(s,1H,
ニトロベンジルの芳香族プロトン)、6.93(d,2H,フェニ
ルプロピオン酸芳香族プロトン)、5.47(s,2H,ベンジル
プロトン)、3.96(s,3H,メトキシ)、3.95(s,3H,メトキ
シ)、3.67(s,3H,エステルメチル基)、2.91(t,2H,プロ
ピオン酸3位メチレン)、2.61(t,2H,プロピオン酸2位
メチレン)。
【0030】(実施例2)4-(4,5-ジメトキシ-2-ニトロベンジルオキシ)-フェニル
プロピオン酸 の合成 4-(4,5-ジメトキシ-2-ニトロベンジルオキシ)-フェニル
プロピオン酸メチルエステル3.7gをメタノール180mlに
溶解し、1規定水酸化ナトリウム水溶液64mlを加えて、4
0℃にて撹拌して一夜反応させた。反応溶媒を50ml程度
になるまで減圧で除き、得られた溶液に1規定塩酸を添
加し、溶液のpHを2に調整した。さらに、酢酸エチル100
mlを加えて抽出し、得られた酢酸エチル層を水、飽和食
塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、
酢酸エチルを減圧で除き、粗生成物を得た。得られた粗
生成物を酢酸エチルから再結晶することにより4-(4,5-
ジメトキシ-2-ニトロベンジルオキシ)-フェニルプロピ
オン酸を3.6g(定量的)得た。
【0031】赤外線吸収スペクトル(KBr):1709cm
-1(カルボン酸)、1515cm-1(ニトロ基)、1218,1070c
m-1(メトキシ基)。
【0032】TOF−MS(島津製作所製、MALDI
IV):361(M/C)。
【0033】1H-NMR(重DMSO、δppm):12.07(bs,1H,
カルボン酸OH)、7.71(s,1H,ニトロベンジルの芳香族
プロトン)、7.32(s,1H,ニトロベンジルの芳香族プロト
ン)、7.15(d,2H,フェニルプロピオン酸芳香族プロト
ン)、6.93(d,2H,フェニルプロピオン酸芳香族プロト
ン)、5.37(s,2H,ベンジルプロトン)、3.88(s,3H,メト
キシ)、3.87(s,3H,メトキシ)、2.77(t,2H,プロピオン
酸3位メチレン)、2.49(t,2H,プロピオン酸2位メチレ
ン)。
【0034】紫外線吸収(リン酸緩衝液(pH8.0))
中):λmax346nm(ε6.04x104)。
【0035】(実施例3)本発明に係るケージドHPP
Aと、ペルオキシダーゼ−過酸化水素酵素反応 実験試薬の調整: (1) 0.36mM ケージドHPPA/100mMリン酸緩衝液
(DMSO2%含有)は、0.0021gケージドHPPAを0.33ml
に溶解し、100mMリン酸緩衝液(pH8.0)にて16.5mlにし
た。
【0036】(2) 0.36mM HPPA/100mMリン酸緩衝
液は、0.0060gHPPA(同仁化学研究所社製)を溶解
して100mlにした。
【0037】(3) 8μg/mlペルオキシダーゼ希釈液(和
光純薬社製)は、西洋ワサビ由来ペルオキシダーゼを10
mMリン酸緩衝液(NaCl138mM、KCl2.7mM、BSA1%w/v、pH
7.4)で希釈した。
【0038】(4) 0.3g/l過酸化水素水 実験条件: (A) ケージドHPPA/リン酸緩衝液1000μlを10mmx1
0mmの蛍光測定用セルに入れ、このセルを360nm紫外線20
0mJ/cm2で照射した。
【0039】上記照射したケージドHPPA/リン酸緩
衝液100μlと酵素希釈液10μlを混合し、30℃にて5分間
インキュベートした。さらに、過酸化水素水50μlを添
加し、30℃で30分間反応させた。得られた溶液に100mM
グリシン−水酸化ナトリウム緩衝液pH9.2を2.5ml加え、
励起光320nmにて蛍光スペクトルを測定した。
【0040】(B)ケージドHPPA/リン酸緩衝液1000μ
lを10mmx10mmの蛍光測定用セルに入れ、このセルを360
nm紫外線400mJ/cm2で照射した。
【0041】上記照射したケージドHPPA/リン酸緩
衝液100μlと酵素希釈液10μlを混合し、30℃にて5分間
インキュベートした。さらに、過酸化水素水50μlを添
加し、30℃で30分間反応させた。得られた溶液に100mM
グリシン−水酸化ナトリウム緩衝液pH9.2を2.5ml加え、
励起光320nmにて蛍光スペクトルを測定した。
【0042】(C) ケージドHPPA/リン酸緩衝液100
μlと酵素希釈液10μlを混合し、30℃にて5分間インキ
ュベートし、360nm紫外線200mJ/cm2で照射した。さら
に、過酸化水素水50μlを添加し、30℃で30分間反応さ
せた。得られた溶液に100mMグリシン−水酸化ナトリウ
ム緩衝液pH9.2を2.5ml加え、励起光320nmにて蛍光スペ
クトルを測定した。
【0043】(D) ケージドHPPA/リン酸緩衝液100
μlと酵素希釈液10μlを混合し、30℃にて5分間インキ
ュベートし、360nm紫外線400mJ/cm2で照射した。さら
に、過酸化水素水50μlを添加し、30℃で30分間反応さ
せた。得られた溶液に100mMグリシン−水酸化ナトリウ
ム緩衝液pH9.2を2.5ml加え、励起光320nmにて蛍光スペ
クトルを測定した。
【0044】(E) ケージドHPPA/リン酸緩衝液100
μlと酵素希釈液10μlを混合し、30℃にて5分間インキ
ュベートした。光照射することなくさらに、過酸化水素
水50μlを添加し、30℃で30分間反応させた。得られた
溶液に100mMグリシン−水酸化ナトリウム緩衝液pH9.2を
2.5ml加え、励起光320nmにて蛍光スペクトルを測定し
た。
【0045】上記条件(A)〜(E)までの結果を図2にまと
めて示した。
【0046】(F) HPPA/リン酸緩衝液100μlと酵素
希釈液10μlを混合し、30℃にて5分間インキュベートし
た。さらに、過酸化水素水50μlを添加し、30℃で30分
間反応させた。得られた溶液に100mMグリシン−水酸化
ナトリウム緩衝液pH9.2を2.5ml加え、励起光320nmにて
蛍光スペクトルを測定した。結果を図3に示した。
【0047】
【発明の効果】以上、本発明に係るケージドHPPA
は、フェノール製水酸基を保護基で保護され、通常のペ
ルオキシダーゼ酵素反応条件下で極めて安定であり、か
つ光解離性のケージド化による保護基であることから、
光照射により定量的にHPPAを溶液中に遊離すること
が可能となり、ペルオキシダーゼ−過酸化水素アッセイ
系に好ましく適用可能であることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るケージドHPPAが、光照射によ
り、ペルオキシダーゼ−過酸化水素酵素反応の検出に使
用可能であることを示す図である。
【図2】本発明に係るケージドHPPAによるペルオキ
シダーゼ−過酸化水素酵素反応の検出結果を示す図であ
る。
【図3】HPPAによるペルオキシダーゼ−過酸化水素
酵素反応の検出結果を示す図である。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 次式で表される構造を有するケージドヒ
    ドロキシフェニルプロピオン酸及びその誘導体。 【化1】 (ここで、R1は、H、CH3O、OHのいずれかを表
    し、R2はCH2CH2CO2H、CH2CO2H、CH2
    2NH2、CH2CH(NH2)CO2H、CH2CH2
    H、CH2CH2N(CH32、CH2CH3、CH2CH2
    CH2OH、CH3、OCH3、CH2OH、CH(OH)
    CO2H、H、CO2Hのいずれかを表す。)
  2. 【請求項2】 フェノール基が4、5−ジメトキシ−2
    −ニトロベンジル基で保護された以下のヒドロキシフェ
    ニルプロピオン酸及びその誘導体。3ー(4ーヒドロキ
    シフェニル)プロピオン酸、p−ヒドロキシフェニル酢
    酸、ホモバニリン酸、チラミン、チロシン、p−ヒドロ
    キシフェニルエチルアルコール、ホルデニン、p−エチ
    ルフェノール、3−(p−ヒドロキシフェニル)−1−
    プロパノール、p−クレゾール、p−n−プロピルフェ
    ノール、ホモバニリルアルコール、3−メトキシチラミ
    ン、3−(3−メトキシ−4−ヒドロキシフェニル)プ
    ロピオン酸、2−メトキシ−4−メチルフェノール、p
    −ヒドロキシベンジルアルコール、バニリルアルコー
    ル、バニリル酢酸、2−メトキシフェノール、p−ヒド
    ロキシ安息香酸、p−ヒドロキシ−3−メトキシ安息香
    酸、p−ヒドロキシマンデル酸、3,4−ジヒドロマン
    デル酸、3−メトキシチロシン、p−アミドアセトフェ
    ノール、p−プロピオンアミドフェノール、p−ブチル
    アミドフェノール、p−ブチルアミドフェノール、p−
    バレロアミドフェノール、4−アセトアミド−2−メチ
    ルフェノール、4−メトキシカルバミドフェノール、4
    −エトキシカルバミドフェノール、3−(4−ヒドロキ
    シフェニルカルバモイル)プロピオン酸、4−(4−ヒ
    ドロキシフェニルカルバモイル)ブタン酸、5−(4−
    ヒドロキシフェニルカルバモイル)ペンタン酸、2−
    (カルボキシメトキシ)−4’−ヒドロキシアセタニリ
    ド、4−(4−ヒドロキシフェニルカルバモイル)−3
    −メチルブタン酸。
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