JPH11283857A - Manufacture of coil part - Google Patents

Manufacture of coil part

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JPH11283857A
JPH11283857A JP8178098A JP8178098A JPH11283857A JP H11283857 A JPH11283857 A JP H11283857A JP 8178098 A JP8178098 A JP 8178098A JP 8178098 A JP8178098 A JP 8178098A JP H11283857 A JPH11283857 A JP H11283857A
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一夫 笠原
Kouki Sasaki
孔輝 佐々木
Takayuki Hirotsuji
孝行 広辻
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  • Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain the manufacturing method of a coil part, by which defective soldering caused by the bonding part for an insulating covered conductor and an external connecting electrode can be prevented, the conductor is embedded in the connecting electrode and the connection to the outside can be stably and securely made. SOLUTION: This manufacturing method of a coil part comprises the processes. In the low-pressure compressing process, an insulating covered conductor 3 is compressed with respect to an electrode 4 at the temperature higher than the melting temperature of in insulating film 3b of the insulating covered conductor 3 with the relatively low pressure, when the insulating covered conductor is connected to the electrode of a coil part. In the high-pressure compressing part, a compression with relatively high pressure is performed for the insulating covered conductor 3, so that a conductor 3a is flattened for the electrode 4 and the conductor 3a is embedded in the electrode 4 following the low-pressure compressing process.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばインダクタ
ンス成分を構成するのに用いられるコイル部品の製造方
法に関し、より詳細には、絶縁被覆導線より構成されて
いる巻線をコアに形成されている電極に接合する方法が
改良されたコイル部品の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a coil component used for forming, for example, an inductance component, and more particularly, to a method in which a winding composed of an insulated conductor is formed on a core. The present invention relates to a method for manufacturing a coil component having an improved method of joining to an electrode.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、様々なインダクタンス成分を
発生させるために、様々な電子回路においてコイル部品
が用いられている。この種のコイル部品として、磁性や
絶縁性セラミックスあるいはプラスチックよりなるコア
の周囲に絶縁被覆導線を巻回して巻線部を構成したもの
が知られている。ここでは、巻線部の両側においてコア
の外表面に電極が形成されており、絶縁被覆導線の両端
が、それぞれ、これらの電極に接続されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, coil components have been used in various electronic circuits to generate various inductance components. As this type of coil component, there is known a coil component in which an insulated conductor is wound around a core made of magnetic or insulating ceramics or plastic to form a winding portion. Here, electrodes are formed on the outer surface of the core on both sides of the winding portion, and both ends of the insulated conductor are connected to these electrodes, respectively.

【0003】ところで、上記絶縁被覆導線は、通常、C
uなどの金属からなる導線の外表面に、ポリエステルイ
ミドなどからなる絶縁被覆を形成した構造を有する。ま
た、上記絶縁被覆導線の上記電極への接合は、従来、パ
ルスヒート方式により行われることがあった。これを、
図6を参照して説明する。
[0003] By the way, the above-mentioned insulated wire is usually C
It has a structure in which an insulating coating made of polyesterimide or the like is formed on the outer surface of a conductive wire made of a metal such as u. Also, the bonding of the insulating-coated conductor to the electrode has conventionally been performed by a pulse heating method. this,
This will be described with reference to FIG.

【0004】図6においては、コイル部品のコア51の
上面に電極52が形成されている部分が断面図で示され
ている。まず、電極52上に絶縁被覆導線53の端部を
載置する。なお、絶縁被覆導線53では、導線53aの
周囲に、絶縁被覆53bが形成されている。
[0006] FIG. 6 is a sectional view showing a portion where an electrode 52 is formed on the upper surface of a core 51 of a coil component. First, the end of the insulated conductor 53 is placed on the electrode 52. Note that, in the insulation-coated conductor 53, an insulation coating 53b is formed around the conductor 53a.

【0005】次に、約500℃に加熱された加圧チップ
56を降下し、絶縁被覆導線53を電極52に対して圧
接する。この加圧により、導線53aを扁平化し、導線
53aと電極52とを熱圧接し、接合を完了する。
Next, the pressure tip 56 heated to about 500 ° C. is lowered, and the insulation-coated lead wire 53 is pressed against the electrode 52. By this pressurization, the conducting wire 53a is flattened, and the conducting wire 53a and the electrode 52 are thermally pressed to complete the joining.

【0006】上記接合方法では、電極52が、Ag、C
uあるいはNiなどの高融点金属からなる場合には、こ
れらの電極材料の融点以下の温度で絶縁被覆53bが溶
融するため、導線53aと電極52とが直接接合され
る。また、導線53aが加圧により扁平化される。
In the above joining method, the electrode 52 is made of Ag, C
When made of a high melting point metal such as u or Ni, the insulating coating 53b is melted at a temperature equal to or lower than the melting point of these electrode materials, so that the conducting wire 53a and the electrode 52 are directly joined. In addition, the conducting wire 53a is flattened by pressurization.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、電極5
2上で導線53aが扁平化したとしても、導線53aと
電極52の表面との間に段差が生じる。従って、電極5
2の表面側を、例えばプリント回路基板にコイル部品を
実装する際の実装面とした場合、コイル部品の実装に際
しての安定性が損なわれたり、半田による接合の信頼性
が低いことがあった。
However, the electrode 5
Even if the conducting wire 53a is flattened on the surface 2, a step occurs between the conducting wire 53a and the surface of the electrode 52. Therefore, the electrode 5
For example, when the surface side of No. 2 is a mounting surface for mounting a coil component on a printed circuit board, stability in mounting the coil component may be impaired, or the reliability of bonding by soldering may be low.

【0008】さらに、上記コイル部品の電極52におい
ては、実装に際しての半田付け性を高めるために、表面
に、Snや半田などの低融点金属をメッキしてなる電極
層を形成することが多い。例えば、図7に示すように、
電極52として、コア51の表面にAgペーストを塗布
し、焼き付けることにより形成されたベース層52aを
形成し、その外表面に、半田食われを防止するためのN
iメッキ層52bを形成し、さらに最外側表面に半田付
け性を高めるための低融点金属からなる電極層52cを
形成した構造が従来より知られている。
Further, in the electrode 52 of the coil component, an electrode layer formed by plating a low melting point metal such as Sn or solder is often formed on the surface in order to enhance solderability at the time of mounting. For example, as shown in FIG.
As the electrode 52, a base layer 52a formed by applying and baking an Ag paste on the surface of the core 51 is formed, and an N surface for preventing solder erosion is formed on the outer surface thereof.
A structure in which an i-plated layer 52b is formed and an electrode layer 52c made of a low melting point metal for improving solderability on the outermost surface is conventionally known.

【0009】この場合、加圧チップ54が約500℃に
加熱されているので、加圧チップ54により上記低融点
金属の融点以上の温度に該電極層52cが加熱されるこ
とになる。しかも、接合に際しては、導線53aの圧延
に十分に圧力が加えられている。従って、絶縁被覆53
b及び表面に設けられている低融点金属よりなる電極層
52cの双方が溶融し、液状化した状態で、導線53a
が圧延されて扁平化することになる。
In this case, since the pressure tip 54 is heated to about 500 ° C., the pressure tip 54 heats the electrode layer 52c to a temperature equal to or higher than the melting point of the low melting point metal. In addition, during joining, a sufficient pressure is applied to the rolling of the conductive wire 53a. Therefore, the insulating coating 53
b and the electrode layer 52c made of a low melting point metal provided on the surface are melted and liquefied, and the conductive wire 53a
Is rolled and flattened.

【0010】その結果、加圧チップ54による加圧時
に、液状化した絶縁被覆53bにより液状化した低融点
金属が導線53aの側方に押される。従って、溶融した
絶縁被覆53bが低融点金属材料を押し退けた後に加圧
チップ54に付着され、加圧チップ54と共に除去され
た場合に、導線53aの側方にNiメッキ層52bが露
出された部分Aが生じることがあった。Niメッキ層5
2bが露出すると、このコイル部品をプリント回路基板
上に半田付けにより実装する場合、Niメッキ層52b
の半田濡れ性が低いため、実装不良を引き起こすという
問題があった。
As a result, at the time of pressurization by the pressurizing tip 54, the liquefied low-melting metal is pushed to the side of the conductive wire 53a by the liquefied insulating coating 53b. Accordingly, when the melted insulating coating 53b is attached to the pressing tip 54 after displacing the low melting point metal material and is removed together with the pressing tip 54, the portion where the Ni plating layer 52b is exposed on the side of the conductive wire 53a. A sometimes occurred. Ni plating layer 5
When the coil component is mounted on the printed circuit board by soldering when the 2b is exposed, the Ni plating layer 52b
Has low solder wettability, which causes a mounting defect.

【0011】あるいは、矢印Aで示されている部分にお
いて、Niメッキ層52bが露出されるに至らない場合
であっても、溶融した絶縁被覆53bが低融点金属材料
を押し退けた後に加圧チップ54に付着され、加圧チッ
プ54と共に除去された場合に、電極52の表面におい
て導線53aの周囲に絶縁被覆53bが存在していた部
分にクレーター状の窪み52dが残り、それによって半
田付け性が低下することもあった。
Alternatively, even when the Ni plating layer 52b is not exposed at the portion indicated by the arrow A, the molten insulating coating 53b pushes out the low-melting metal material and then presses the pressing tip 54b. And when removed together with the pressure tip 54, a crater-like depression 52d remains in the surface of the electrode 52 where the insulating coating 53b was present around the conducting wire 53a, thereby deteriorating the solderability. Sometimes I did.

【0012】本発明の目的は、上述した従来技術の欠点
を解消し、絶縁被覆導線と外部接続用の電極との接合部
分に起因する半田付け不良を防止することができ、かつ
導線が接続用の電極に埋設され、外部との接続を安定に
かつ確実に行い得るコイル部品の製造方法を提供するこ
とにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned disadvantages of the prior art, to prevent poor soldering due to a joint between an insulated conductor and an electrode for external connection, and to prevent the conductor from being used for connection. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a coil component which is embedded in the electrode and can stably and reliably connect to the outside.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、絶縁性材料よりなるコアと、コアの周囲に巻回され
ている絶縁被覆導線と、コアの外表面に形成された電極
とを備え、前記絶縁被覆導線の端部が前記電極に接合さ
れているコイル部品の製造方法であって、前記電極に絶
縁被覆導線を接合するにあたり、絶縁被覆導線の絶縁被
覆を溶融させる温度以上で、かつ相対的に低い圧力で絶
縁被覆導線を電極に対して加圧する低圧加圧工程と、前
記低圧加圧工程に続いて、導線を扁平化するように、か
つ電極に対して導線が埋設されるように、相対的に高い
圧力で導線を前記電極に対して加圧する高圧加圧工程と
を備えることを特徴とする。
According to the first aspect of the present invention, there is provided a core made of an insulating material, an insulated wire wound around the core, and an electrode formed on an outer surface of the core. A method for manufacturing a coil component in which an end of the insulated conductor is joined to the electrode, wherein the joining of the insulated conductor to the electrode is performed at a temperature not lower than a temperature at which the insulating coating of the insulated conductor is melted. And a low-pressure pressurizing step of pressing the insulating coated conductive wire against the electrode at a relatively low pressure, and, following the low-pressure pressing step, the conductive wire is buried so as to flatten the conductive wire, and the electrode. And a high-pressure pressurizing step of pressing the conductive wire against the electrode at a relatively high pressure.

【0014】請求項2に記載の発明では、上記高圧加圧
工程における温度が、電極表面部分の融点以下であり、
かつ凝固点以上の温度とされている。また、本発明にお
いては、高圧加圧工程は、低圧加圧工程よりも低い温度
で行われてもよく、あるいは高い温度で行われてもよ
い。
According to the second aspect of the present invention, the temperature in the high-pressure pressing step is equal to or lower than the melting point of the electrode surface.
The temperature is higher than the freezing point. In the present invention, the high-pressure pressing step may be performed at a lower temperature than the low-pressure pressing step, or may be performed at a higher temperature.

【0015】また、好ましくは、本発明においては、上
記コイル部品の電極は、Agなどの導電ペーストの塗布
・焼き付けにより形成されたベース層と、ベース層の表
面に形成されており、耐半田食われ性に優れた金属材
料、例えばNiからなる半田食われ防止層と、半田食わ
れ防止層の外表面に形成されており、かつ半田付け性に
優れた金属材料、例えばSnや半田よりなる易半田付け
層とを備える。
Preferably, in the present invention, the electrodes of the coil component are formed on a base layer formed by applying and baking a conductive paste such as Ag, and on the surface of the base layer. A metal material having excellent solderability, for example, a solder erosion prevention layer made of Ni, and a metal material formed on the outer surface of the solder erosion prevention layer and having excellent solderability, such as Sn or solder. A soldering layer.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
非限定的な実施例を説明することにより本発明を明らか
にする。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be clarified by describing non-limiting embodiments of the present invention with reference to the drawings.

【0017】図1(a)〜(d)は、本発明の一実施例
に係るコイル部品の製造方法を説明するための各断面図
であり、図2は、本発明の一実施例により得られるコイ
ル部品を説明するための斜視図である。
FIGS. 1A to 1D are cross-sectional views for explaining a method of manufacturing a coil component according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view obtained by the embodiment of the present invention. FIG. 5 is a perspective view for explaining a coil component to be used.

【0018】まず、図2に示すチップ型コイル部品の構
造を説明する。チップ型コイル部品1は、誘電体、磁性
体、絶縁体セラミックスやプラスチックスなどの絶縁性
材料よりなるコア2を有する。コア2は、絶縁被覆導線
3が巻回されている巻線部2aと、巻線部2aの両側に
おいて、巻線部2aよりも厚みが厚くされている電極形
成部2b,2cとを有する。巻線部2aにおいては、絶
縁被覆導線3が巻回されている。また、電極形成部2
b,2cの上面には、使用に際して外部と接続するため
に、第1,第2の電極4,5が形成されている。
First, the structure of the chip coil component shown in FIG. 2 will be described. The chip-type coil component 1 has a core 2 made of an insulating material such as a dielectric material, a magnetic material, an insulating ceramic or plastics. The core 2 has a winding part 2a around which the insulated conductor 3 is wound, and electrode forming parts 2b and 2c thicker than the winding part 2a on both sides of the winding part 2a. In the winding part 2a, the insulated conductor 3 is wound. Also, the electrode forming part 2
On the upper surfaces of b and 2c, first and second electrodes 4 and 5 are formed for connection to the outside when used.

【0019】本実施例のコイル部品の製造方法では、上
記チップ型コイル部品1が製造されるが、絶縁被覆導線
3を、第1,第2の電極4,5に接合する工程に特徴を
有するものであり、その他の工程については、従来より
公知のコイル部品の製造方法に従って行い得る。すなわ
ち、コア2の外表面に絶縁被覆導線3を巻回して巻線部
を構成する工程、並びにコア2の電極形成部2b,2c
の上面に電極4,5を形成する工程については、従来よ
り公知の方法に従って行い得る。
In the method of manufacturing a coil component according to the present embodiment, the above-described chip type coil component 1 is manufactured. The method is characterized by a step of joining the insulated conductor 3 to the first and second electrodes 4 and 5. The other steps can be performed according to a conventionally known method for manufacturing a coil component. That is, a step of winding the insulating coated conductor wire 3 around the outer surface of the core 2 to form a winding portion, and the electrode forming portions 2b and 2c of the core 2
The step of forming the electrodes 4 and 5 on the upper surface of the substrate can be performed according to a conventionally known method.

【0020】本実施例のチップ型コイル部品の製造方法
の特徴は、絶縁被覆導線3の端部を第1,第2の電極
4,5に接合する工程にあり、これを、第1の電極4上
に絶縁被覆導線3の端部を接合する場合を例にとり説明
する。
The feature of the method of manufacturing the chip-type coil component of this embodiment resides in the step of joining the end portions of the insulated wire 3 to the first and second electrodes 4 and 5, which is called the first electrode. An example in which the end of the insulated conductor 3 is joined to the upper surface 4 will be described.

【0021】まず、図1(a)に示すように、第1の電
極4上に、絶縁被覆導線3を配置する。第1の電極4
は、コイル部品のコア2の電極形成部2bの上面に形成
されている。また、第1の電極4は、ベース層4a、N
iメッキ層4b及びSnメッキ層4cを積層した構造を
有する。ベース層4aは、例えばAg含有導電ペースト
を塗布し、焼き付けることにより形成されている。もっ
とも、ベース層4aは、蒸着、メッキ、スパッタリング
等の他の方法により形成されていてもよい。
First, as shown in FIG. 1 (a), an insulating-coated conductor 3 is arranged on a first electrode 4. First electrode 4
Are formed on the upper surface of the electrode forming portion 2b of the core 2 of the coil component. Further, the first electrode 4 includes a base layer 4a, N
It has a structure in which an i-plated layer 4b and a Sn-plated layer 4c are stacked. The base layer 4a is formed, for example, by applying and baking an Ag-containing conductive paste. However, the base layer 4a may be formed by other methods such as vapor deposition, plating, and sputtering.

【0022】ベース層4a上には、半田食われを防止す
るために、Niメッキ層4bが半田食われ防止層として
形成されている。なお、Niに代えて、CuやFeなど
を用いてもよい。
On the base layer 4a, a Ni plating layer 4b is formed as a solder erosion preventing layer in order to prevent solder erosion. Note that Cu or Fe may be used instead of Ni.

【0023】Niメッキ層4bの外表面には、実装時の
半田付け性を高めるために、易半田付け層としてSnメ
ッキ層4cが形成されている。なお、Snに代えて、半
田などの半田付け性に優れた他の材料によりメッキ層を
形成し、易半田付け層を構成してもよい。
On the outer surface of the Ni plating layer 4b, an Sn plating layer 4c is formed as an easily solderable layer in order to enhance solderability at the time of mounting. Instead of Sn, a plating layer may be formed of another material having excellent solderability, such as solder, to form a solderable layer.

【0024】本実施例では、絶縁被覆導線3は、Cuよ
りなる導線3aと、導線3aの外周面を被覆するように
形成された絶縁被覆3bとを有する。絶縁被覆3bは、
ポリエステルイミド等により構成されている。なお、ポ
リエステルイミドからなる絶縁被覆3bを溶融させる温
度は330℃以上である。
In this embodiment, the insulated conductor 3 has a conductor 3a made of Cu and an insulation cover 3b formed to cover the outer peripheral surface of the conductor 3a. The insulating coating 3b is
It is composed of polyesterimide or the like. The temperature at which the insulating coating 3b made of polyesterimide is melted is 330 ° C. or higher.

【0025】絶縁被覆導線3を第1の電極4に接合する
に際しては、まず、絶縁被覆導線3を、第1の電極4上
に載置し、加圧チップ6を降下させる。加圧チップ6
は、絶縁被覆導線の絶縁被覆3bを溶融させる温度以
上、本実施例では500℃以上の温度に加熱されてい
る。また、加圧チップ6は、相対的に低い圧力で絶縁被
覆導線3を第1の電極4に対して加圧するように降下さ
れる。この加圧に際しての圧力の値については、絶縁被
覆導線3の径や材質によっても異なるため、一義的には
定め得ないが、例えば、Cuよりなり、線径40μmの
場合には、約30〜50gF程度の圧力で行われる。こ
のようにして、本発明における低圧加圧工程が実施され
る。
When joining the insulated conductor 3 to the first electrode 4, the insulated conductor 3 is first placed on the first electrode 4 and the pressure tip 6 is lowered. Pressure tip 6
Is heated to a temperature equal to or higher than the temperature at which the insulating coating 3b of the insulating coating conductor is melted, and in this embodiment, equal to or higher than 500 ° C. Further, the pressure tip 6 is lowered so as to press the insulated wire 3 against the first electrode 4 at a relatively low pressure. The value of the pressure at the time of pressurization cannot be uniquely determined because it differs depending on the diameter and material of the insulated wire 3. For example, when the wire is made of Cu and has a wire diameter of 40 μm, about 30 to 30 μm is required. This is performed at a pressure of about 50 gF. Thus, the low-pressure pressurizing step of the present invention is performed.

【0026】上記低圧加圧工程では、絶縁被覆を溶融さ
せる温度以上に加圧チップ6が加熱されているので、絶
縁被覆3bが溶融する。従って、図1(b)に示されて
いるように、溶融した絶縁被覆3bが第1の電極4上に
おいて、導線3aの両側に移動し、導線3aの下面が第
1の電極4の最外側層のSnメッキ層4cに直接接触さ
れる。
In the low-pressure pressing step, since the pressing tip 6 is heated to a temperature higher than the temperature at which the insulating coating is melted, the insulating coating 3b is melted. Accordingly, as shown in FIG. 1B, the melted insulating coating 3b moves to both sides of the conducting wire 3a on the first electrode 4, and the lower surface of the conducting wire 3a is moved to the outermost side of the first electrode 4. It is in direct contact with the Sn plating layer 4c.

【0027】なお、図1(b)に示されているように、
上記低圧加圧工程においては、加圧チップ6により加え
られる圧力が低いため、導線3aはほとんど変形されて
いない。すなわち、導線3aの扁平化がほとんど生じな
いような圧力で、上記低圧加圧工程が行われる。
As shown in FIG. 1B,
In the low-pressure pressing step, since the pressure applied by the pressing tip 6 is low, the conductive wire 3a is hardly deformed. That is, the low-pressure pressurizing step is performed at such a pressure that the flattening of the conductive wire 3a hardly occurs.

【0028】また、低圧加圧工程では、Snメッキ層4
cは加圧チップ6に直接接触されておらず、加えられる
圧力が小さいため、並びに図3から明らかなように、比
較的短時間で行われるので、絶縁被覆3bは溶融する
が、Snメッキ層4cはほとんど溶融しない。言い換え
れば、絶縁被覆3bは溶融するが、Snメッキ層4cは
溶融しないように、上記圧力及び加圧時間が選ばれる。
In the low-pressure pressing step, the Sn plating layer 4
3C is not directly in contact with the pressure tip 6 and is applied in a relatively short time as shown in FIG. 3 because the applied pressure is small, so that the insulating coating 3b melts, but the Sn plating layer 4c hardly melts. In other words, the above pressure and pressurizing time are selected so that the insulating coating 3b is melted but the Sn plating layer 4c is not melted.

【0029】次に、低圧加圧工程に続いて、相対的に高
い圧力で加圧する高圧加圧工程を実施する。すなわち、
導線3aを第1の電極4に対して、該導線3aを扁平化
するように、かつ第1の電極4に対して導線3aが埋設
されるように高圧加圧工程が実施される。これを、図1
(c)及び(d)を参照して説明する。
Next, following the low pressure pressurizing step, a high pressure pressurizing step of pressurizing at a relatively high pressure is performed. That is,
A high-pressure pressing step is performed so that the conductive wire 3a is flattened with respect to the first electrode 4 so that the conductive wire 3a is flattened and the conductive wire 3a is buried with respect to the first electrode 4. This is shown in FIG.
This will be described with reference to (c) and (d).

【0030】図1(c)に示すように、高圧加圧工程で
は、加圧チップ6にさらに下向きの荷重を加え、導線3
aを扁平化する。すなわち、この高圧加圧工程において
加圧チップ6により加えられる圧力は、導線3aが扁平
化するように、かつ導線3aが第1の電極4に埋設され
るように設定されている。従って、上記高圧加圧工程に
より、導線3aは扁平化し、図1(d)に示すように、
第1の電極4内に埋設される。
As shown in FIG. 1C, in the high-pressure pressing step, a further downward load is applied to the pressing tip 6 to
a is flattened. That is, the pressure applied by the pressure tip 6 in the high-pressure pressing step is set so that the conductive wire 3a is flattened and the conductive wire 3a is embedded in the first electrode 4. Therefore, the conducting wire 3a is flattened by the high-pressure pressing step, and as shown in FIG.
It is embedded in the first electrode 4.

【0031】上記高圧加圧工程における温度について
は、好ましくは、第1,第2の電極表面部分の融点以
下、すなわちSnメッキ層4cの融点以下であり、かつ
凝固点以上の温度とされ、本実施例では、230℃とさ
れている。高圧加圧工程における温度をこのように設定
することにより、第1の電極4のSnメッキ層4cを軟
化させることができ、それによって導線3aを確実に第
1の電極4内に埋設させることができる。
The temperature in the high-pressure pressing step is preferably lower than the melting point of the first and second electrode surface portions, that is, lower than the melting point of the Sn plating layer 4c and higher than the freezing point. In the example, the temperature is 230 ° C. By setting the temperature in the high-pressure pressing step in this manner, the Sn plating layer 4c of the first electrode 4 can be softened, whereby the conductive wire 3a can be reliably embedded in the first electrode 4. it can.

【0032】なお、高圧加圧工程における温度を、Sn
メッキ層4cの融点を超える温度とした場合には、高圧
加圧工程においてSnメッキ層4cが溶融し、絶縁被覆
3bにより、溶融したSnが押し退けられ、Niメッキ
層4bが最終的に露出したり、絶縁被覆3bが除去され
た後に窪みが発生したりすることがある。
It should be noted that the temperature in the high-pressure pressing step was changed to Sn
When the temperature is higher than the melting point of the plating layer 4c, the Sn plating layer 4c is melted in the high-pressure pressing step, the molten Sn is pushed away by the insulating coating 3b, and the Ni plating layer 4b is finally exposed. In some cases, a dent may occur after the insulating coating 3b is removed.

【0033】この高圧加圧工程に加えられる圧力の大き
さについても、導線3aの材質や線径によっても異なる
ため、一義的には定め得ないが、Cuよりなる導線3a
が用いられており、線径が40μmの場合、約300g
F程度とすればよい。
The magnitude of the pressure applied in the high-pressure pressurizing step also differs depending on the material and wire diameter of the conductive wire 3a, and therefore cannot be uniquely determined.
Is used, and when the wire diameter is 40 μm, about 300 g
It may be about F.

【0034】次に、上記加圧チップ6を引き上げること
により、絶縁被覆3bは、加圧チップ6の底面6aに付
着したまま除去される。図1(d)から明らかなよう
に、絶縁被覆3bが除去された後、第1の電極4の表面
には窪みは残らず、電極4の表面は平坦化されている。
Next, by pulling up the pressure tip 6, the insulating coating 3b is removed while adhering to the bottom surface 6a of the pressure tip 6. As is clear from FIG. 1D, after the insulating coating 3b is removed, no depression remains on the surface of the first electrode 4, and the surface of the electrode 4 is flattened.

【0035】上記低圧加圧工程及び高圧加圧工程におけ
る温度及び圧力のプロファイルを図3に示す。すなわ
ち、図3からも明らかなように、上記低圧加圧工程に連
続して、高圧加圧工程を実施することが必要であり、そ
れによって、上記のように、絶縁被覆導線3の端部を接
合したとしても、電極4の表面が平坦化される。
FIG. 3 shows temperature and pressure profiles in the low-pressure pressing step and the high-pressure pressing step. That is, as is clear from FIG. 3, it is necessary to carry out the high-pressure pressing step subsequent to the low-pressure pressing step. Even if they are joined, the surface of the electrode 4 is flattened.

【0036】従って、本実施例の製造方法によれば、絶
縁被覆導線3の導線3aが扁平化されて、第1の電極4
内に埋設されており、第1の電極4の表面が平坦化され
ることになるため、例えばプリント回路基板にコイル部
分を実装した際の半田等による接合の信頼性を高めるこ
とができる。加えて、導線3aの周囲においては、確実
にSnメッキ層4cが露出されているので、半田付け性
においても優れている。
Therefore, according to the manufacturing method of the present embodiment, the conductor 3a of the insulated conductor 3 is flattened and the first electrode 4
Since the surface of the first electrode 4 is buried in the inside, the surface of the first electrode 4 is flattened, so that the reliability of bonding by solder or the like when the coil portion is mounted on the printed circuit board can be improved. In addition, since the Sn plating layer 4c is reliably exposed around the conductor 3a, the solderability is excellent.

【0037】なお、高圧加圧工程については、上述した
実施例のように低圧加圧工程よりも低い温度で行っても
よいが、逆に、低圧加圧工程よりも高い温度で行っても
よい。例えば、絶縁被覆3bがウレタン系樹脂により構
成されている場合、ウレタン系樹脂の溶融温度は、28
0℃程度であり、ウレタン系樹脂は速やかに溶解する
が、短時間の加熱であるため、Snメッキ層は軟化しな
い。従って、低圧加圧工程において、ウレタン系樹脂よ
りなる絶縁被覆を溶融させ、高圧加圧工程において、よ
り高い温度でSnメッキ層を軟化させることにより、上
記実施例と同様に、導線を第1の電極のSnメッキ層内
に確実に埋設させることができる。
The high-pressure pressing step may be performed at a lower temperature than the low-pressure pressing step as in the above-described embodiment, but may be performed at a higher temperature than the low-pressure pressing step. . For example, when the insulating coating 3b is made of a urethane resin, the melting temperature of the urethane resin is 28
The temperature is about 0 ° C., and the urethane-based resin dissolves quickly, but since the heating is performed for a short time, the Sn plating layer does not soften. Therefore, in the low-pressure pressing step, by melting the insulating coating made of the urethane-based resin and in the high-pressure pressing step, the Sn plating layer is softened at a higher temperature, so that the conductive wire is formed in the same manner as in the above embodiment. It can be reliably embedded in the Sn plating layer of the electrode.

【0038】なお、上記実施例では、第1,第2の電極
は、Ag導電ペーストよりなるベース層4a上に、Ni
メッキ層4b及びSnメッキ層4cを積層した構造を有
していたが、本発明においては、第1,第2の電極は単
一の層で構成されていてもよい。
In the above embodiment, the first and second electrodes are formed on the base layer 4a made of the Ag conductive paste by Ni plating.
Although it has a structure in which the plating layer 4b and the Sn plating layer 4c are stacked, in the present invention, the first and second electrodes may be constituted by a single layer.

【0039】すなわち、単一の金属材料により第1,第
2の電極を形成し、上記低圧加圧工程及び高圧加圧工程
を実施して、絶縁被覆導線を第1,第2の電極に接合し
てもよい。この場合、最初に行われる低圧加圧工程にお
いては、上記実施例の場合と同様に、導線がさほど扁平
化せず、絶縁被覆が溶融され、導線の側方に押しやられ
る。そして、図5に示すように、高圧加圧工程において
は、導線3aが第1の電極24に埋設されるように、加
圧チップ6により相対的に高い圧力が加えられる。導線
3aが埋設されるように、高圧加圧工程における温度
は、単一材料からなる第1の電極24が軟化する温度、
すなわち凝固点以上であって、融点以下の温度とされ
る。
That is, the first and second electrodes are formed from a single metal material, and the above-described low-pressure pressing step and high-pressure pressing step are performed to join the insulated conductor to the first and second electrodes. May be. In this case, in the first low-pressure pressing step, as in the case of the above embodiment, the conductor is not so flattened, the insulating coating is melted and pushed to the side of the conductor. Then, as shown in FIG. 5, in the high-pressure pressing step, a relatively high pressure is applied by the pressing tip 6 so that the conductive wire 3a is embedded in the first electrode 24. The temperature in the high-pressure pressing step is such that the first electrode 24 made of a single material is softened so that the conductive wire 3a is embedded.
That is, the temperature is higher than the freezing point and lower than the melting point.

【0040】この場合においても、絶縁被覆3bは、最
初の低圧加圧工程において溶融され、導線3aの側方に
移動され、次に行われる高圧加圧工程後に、加圧チップ
6の底面6aに付着し、除去される。従って、図5にお
いて右側に示すように、高圧加圧工程後には、第1の電
極4に導線3aが接合され、かつこの接合部分の表面が
平坦化される。
Also in this case, the insulating coating 3b is melted in the first low-pressure pressing step, moved to the side of the conductive wire 3a, and is placed on the bottom surface 6a of the pressing tip 6 after the next high-pressure pressing step. Attached and removed. Therefore, as shown on the right side in FIG. 5, after the high-pressure application step, the conducting wire 3a is joined to the first electrode 4, and the surface of this joint is flattened.

【0041】また、上記実施例では、コイル部品とし
て、絶縁被覆導線3が巻回されるコアの両端に絶縁被覆
導線3の端部が接合される一対の電極を形成した構造の
ものについて説明したが、本発明により製造されるコイ
ル部品においては、絶縁被覆導線が接合される電極は、
コア2の一端側にのみ形成されていてもよく、かつ絶縁
被覆導線の端部が接合される電極の数についても、特に
限定されない。
In the above-described embodiment, the coil component has a structure in which a pair of electrodes are formed at both ends of the core around which the insulated wire 3 is wound, to which the ends of the insulated wire 3 are joined. However, in the coil component manufactured according to the present invention, the electrode to which the insulated wire is joined is
The number of electrodes that may be formed only on one end side of the core 2 and to which the end of the insulated conductor is joined is not particularly limited.

【0042】さらに、上述した実施例では、低圧加圧工
程における温度を、絶縁被覆3bは溶融するが、Snメ
ッキ層4c、すなわち低融点金属層をほとんど溶融させ
ないように選択したが、低圧加圧工程における温度につ
いては、低融点金属層が溶融する温度で行われてもよ
い。すなわち、低圧加圧工程において低融点金属層が一
旦溶融したとしても、以後の工程において低融点金属層
をその凝固点以上の軟化状態となるように冷却すればよ
く、それによって高圧加圧工程において導線3aを上記
実施例と同様にして電極に埋設させることができる。な
お、この冷却については、高圧加圧工程において行って
もよく、あるいは高圧加圧工程に先立ち、上記のように
冷却操作を行ってもよい。
Further, in the above-described embodiment, the temperature in the low pressure pressing step was selected so that the insulating coating 3b was melted but the Sn plating layer 4c, ie, the low melting point metal layer was hardly melted. The temperature in the step may be set at a temperature at which the low melting point metal layer is melted. That is, even if the low-melting metal layer is once melted in the low-pressure pressing step, the low-melting metal layer may be cooled so as to be in a softened state at or above its freezing point in the subsequent steps. 3a can be embedded in the electrode in the same manner as in the above embodiment. This cooling may be performed in the high-pressure pressurizing step, or may be performed as described above prior to the high-pressure pressurizing step.

【0043】なお、上記絶縁被覆導線3の導線3aは、
Cu以外の適宜の金属材料、例えばAg、Niなどを用
いて構成することができる。また、絶縁被覆3bを構成
する絶縁性材料についても、ポリエステルイミドやウレ
タン系樹脂に限定されず、他の適宜の合成樹脂を用いて
構成することができる。
The conductor 3a of the insulation-coated conductor 3 is
It can be configured using an appropriate metal material other than Cu, for example, Ag, Ni, or the like. Also, the insulating material constituting the insulating coating 3b is not limited to polyesterimide or urethane-based resin, but may be constituted by using another appropriate synthetic resin.

【0044】[0044]

【発明の効果】請求項1に記載の発明に係るコイル部品
の製造方法では、低圧加圧工程において、絶縁被覆導線
が電極に対して、絶縁被覆を溶融させる温度以上でかつ
相対的に低い圧力で加圧され、それによって絶縁被覆が
溶融され、導線の側方に移動される。次に、高圧加圧工
程において、さらに導線に大きな圧力が加えられ、導線
が扁平化すると共に、電極に埋設される。従って、電極
に絶縁被覆導線が接合された部分の表面が平坦化し、か
つ絶縁被覆導線の導線が電極に確実に接触される。よっ
て、電気的接続の信頼性を高め得ると共に、プリント回
路基板などに実装するに際しての半田付けによる接合の
信頼性をも高めることが可能となる。
According to the method for manufacturing a coil component according to the first aspect of the present invention, in the low-pressure pressurizing step, the pressure of the insulating-coated conductive wire with respect to the electrode is higher than the temperature at which the insulating coating is melted and relatively low. , Whereby the insulating coating is melted and moved to the side of the conductor. Next, in the high-pressure pressurizing step, a larger pressure is further applied to the conductor, and the conductor is flattened and embedded in the electrode. Therefore, the surface of the portion where the insulated conductor is joined to the electrode is flattened, and the insulated conductor is securely contacted with the electrode. Therefore, the reliability of the electrical connection can be improved, and the reliability of the joint by soldering when mounting on a printed circuit board or the like can be improved.

【0045】請求項2に記載の発明では、高圧加圧工程
における温度が、電極表面部分の融点以下であり、かつ
凝固点以上の温度とされるので、高圧加圧工程におい
て、電極表面部分が軟化し、絶縁被覆導線の導線が確実
に電極に埋設される。
According to the second aspect of the present invention, the temperature in the high-pressure pressing step is lower than the melting point of the electrode surface portion and higher than the freezing point. Then, the conductive wire of the insulating coated conductive wire is securely embedded in the electrode.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(a)〜(d)は、本発明の一実施例において
絶縁被覆導線を第1の電極に接合する工程を説明するた
めの各断面図。
FIGS. 1A to 1D are cross-sectional views illustrating a step of joining an insulating-coated conductor to a first electrode in one embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例で得られるコイル部品を示す
斜視図。
FIG. 2 is a perspective view showing a coil component obtained in one embodiment of the present invention.

【図3】図1に示した実施例における圧力及び温度プロ
ファイルを示す図。
FIG. 3 is a view showing a pressure and temperature profile in the embodiment shown in FIG. 1;

【図4】図1に示した実施例で用いられる接合装置を説
明するための概略斜視図。
FIG. 4 is a schematic perspective view for explaining a joining device used in the embodiment shown in FIG. 1;

【図5】本発明の他の実施例における高圧加圧工程を説
明するための断面図。
FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining a high-pressure application step in another embodiment of the present invention.

【図6】従来のコイル部品の製造方法において絶縁被覆
導線を電極に接合する工程を説明するための断面図。
FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining a step of joining an insulated conductor to an electrode in a conventional method of manufacturing a coil component.

【図7】従来のコイル部品の製造方法において、低融点
金属からなる電極層を有する電極に絶縁被覆導線を接合
した場合の問題点を説明するための断面図。
FIG. 7 is a cross-sectional view for explaining a problem in a case where an insulated conductor is joined to an electrode having an electrode layer made of a low melting point metal in a conventional method for manufacturing a coil component.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…コイル部品 2…コア 3…絶縁被覆導線 3a…導線 3b…絶縁被覆 4…第1の電極 4a…ベース層 4b…Niメッキ層 4c…Snメッキ層 5…第2の電極 6…加圧チップ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Coil component 2 ... Core 3 ... Insulated covering wire 3a ... Conducting wire 3b ... Insulating coating 4 ... First electrode 4a ... Base layer 4b ... Ni plating layer 4c ... Sn plating layer 5 ... Second electrode 6 ... Pressure chip

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成11年4月2日[Submission date] April 2, 1999

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】特許請求の範囲[Correction target item name] Claims

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【特許請求の範囲】[Claims]

【請求項】 前記高圧加圧工程を、前記低圧加圧工程
よりも低い温度で行う、請求項1に記載のコイル部品の
製造方法。
2. The method for manufacturing a coil component according to claim 1, wherein the high-pressure pressing step is performed at a lower temperature than the low-pressure pressing step.

【請求項】 前記高圧加圧工程を、前記低圧加圧工程
よりも高い温度で行う、請求項2に記載のコイル部品の
製造方法。
3. The method for manufacturing a coil component according to claim 2 , wherein the high-pressure pressing step is performed at a higher temperature than the low-pressure pressing step.

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0013[Correction target item name] 0013

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、絶縁性材料よりなるコアと、コアの周囲に巻回され
ている絶縁被覆導線と、コアの外表面に形成された電極
とを備え、前記絶縁被覆導線の端部が前記電極に接合さ
れているコイル部品の製造方法であって、前記電極に絶
縁被覆導線を接合するにあたり、絶縁被覆導線の絶縁被
覆を溶融させる温度以上で、かつ相対的に低い圧力で絶
縁被覆導線を電極に対して加圧する低圧加圧工程と、前
記低圧加圧工程に続いて、導線を扁平化するように、か
つ電極に対して導線が埋設されるように、電極表面部分
の融点以下であり、かつ凝固点以上の温度で相対的に高
い圧力で導線を前記電極に対して加圧する高圧加圧工程
とを備えることを特徴とする。
According to the first aspect of the present invention, there is provided a core made of an insulating material, an insulated wire wound around the core, and an electrode formed on an outer surface of the core. A method for manufacturing a coil component in which an end of the insulated conductor is joined to the electrode, wherein the joining of the insulated conductor to the electrode is performed at a temperature not lower than a temperature at which the insulating coating of the insulated conductor is melted. And a low-pressure pressurizing step of pressing the insulating coated conductive wire against the electrode at a relatively low pressure, and, following the low-pressure pressing step, the conductive wire is buried so as to flatten the conductive wire, and the electrode. Like the electrode surface
And a high-pressure pressurizing step of pressing the conductor against the electrode at a relatively high pressure at a temperature equal to or lower than the melting point and equal to or higher than the freezing point .

【手続補正3】[Procedure amendment 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0014[Correction target item name] 0014

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0014】た、本発明においては、高圧加圧工程
は、低圧加圧工程よりも低い温度で行われてもよく、あ
るいは高い温度で行われてもよい。
[0014] Also, in the present invention, a high pressure pressing step may be performed in may be performed at a temperature lower than the low pressure process, or a high temperature.

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0045[Correction target item name] 0045

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0045】また、本発明では、高圧加圧工程における
温度が、電極表面部分の融点以下であり、かつ凝固点以
上の温度とされるので、高圧加圧工程において、電極表
面部分が軟化し、絶縁被覆導線の導線が確実に電極に埋
設される。
Further , in the present invention, the temperature in the high-pressure pressing step is lower than the melting point of the electrode surface portion and higher than the freezing point. The conductor of the covered conductor is securely embedded in the electrode.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁性材料よりなるコアと、コアの周囲
に巻回されている絶縁被覆導線と、コアの外表面に形成
された電極とを備え、前記絶縁被覆導線の端部が電極に
接合されているコイル部品の製造方法であって、 前記電極に絶縁被覆導線を接合するにあたり、 絶縁被覆導線の被覆を溶融させる温度以上で、かつ相対
的に低い圧力で絶縁被覆導線を電極に対して加圧する低
圧加圧工程と、 前記低圧加圧工程に続いて、導線を扁平化するように、
かつ電極に対して埋設されるように、相対的に高い圧力
で導線を電極に対して加圧する高圧加圧工程とを備える
ことを特徴とする、コイル部品の製造方法。
1. A core comprising an insulating material, an insulated conductor wound around the core, and an electrode formed on an outer surface of the core, wherein an end of the insulated conductor is connected to the electrode. A method for manufacturing a joined coil component, comprising: joining an insulated conductor to the electrode at a temperature equal to or higher than a temperature at which the coating of the insulated conductor is melted, and applying a relatively low pressure to the electrode. A low-pressure pressing step of pressurizing and, following the low-pressure pressing step, so as to flatten the conductive wire,
And a high-pressure pressurizing step of pressing the conductive wire against the electrode at a relatively high pressure so as to be embedded in the electrode.
【請求項2】 前記高圧加圧工程における温度を電極表
面部分の融点以下であり、かつ凝固点以上の温度とす
る、請求項1に記載のコイル部品の製造方法。
2. The method for manufacturing a coil component according to claim 1, wherein the temperature in the high-pressure pressurizing step is lower than the melting point of the electrode surface portion and higher than the freezing point.
【請求項3】 前記高圧加圧工程を、前記低圧加圧工程
よりも低い温度で行う、請求項1または2に記載のコイ
ル部品の製造方法。
3. The method for manufacturing a coil component according to claim 1, wherein the high-pressure pressing step is performed at a lower temperature than the low-pressure pressing step.
【請求項4】 前記高圧加圧工程を、前記低圧加圧工程
よりも高い温度で行う、請求項1または2に記載のコイ
ル部品の製造方法。
4. The method for manufacturing a coil component according to claim 1, wherein the high-pressure pressing step is performed at a higher temperature than the low-pressure pressing step.
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