JPH11281965A - Optical address device and liquid crystal display device - Google Patents

Optical address device and liquid crystal display device

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JPH11281965A
JPH11281965A JP8749398A JP8749398A JPH11281965A JP H11281965 A JPH11281965 A JP H11281965A JP 8749398 A JP8749398 A JP 8749398A JP 8749398 A JP8749398 A JP 8749398A JP H11281965 A JPH11281965 A JP H11281965A
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electrode
liquid crystal
plasma emission
display device
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政美 城戸
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device which has a low cost and a high yield to be suitable for the enlargement of the size and the improvement of definition. SOLUTION: This optical address device has plural plasma light emission channels, and a plasma light emission channel 21 has gas which can be ionized in the space surrounded with a first substrate 19, a second substrate 24, and a rib partition 20, and surfaces facing each other of first and second substrates 19 and 24 are provided with first and second electrodes 22 and 23. The first electrode 22 is a transparent electrode formed on all the surface of the plasma light emission channel 21, and light emitted from the plasma light emission channel 21 is transmitted through the first substrate 19 and the first electrode 22 and is emitted.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電気光学材料を用
いた表示装置に用いられる光アドレス装置およびそれを
用いた表示装置に関する。特に、液晶表示装置に好適に
用いられる光アドレス装置およびそれを用いた液晶表示
装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical address device used for a display device using an electro-optical material and a display device using the same. In particular, the present invention relates to an optical address device suitably used for a liquid crystal display device and a liquid crystal display device using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置は、その駆動方式によっ
て、電気アドレス方式、熱アドレス方式、および光アド
レス方式に分類される。これらのうち、直視型表示装置
として現在もっとも多く用いられているのは、電気アド
レス方式のパッシブマトリクス(PM)方式ならびにア
クティブマトリクス(AM)方式である。
2. Description of the Related Art Liquid crystal display devices are classified into an electric addressing method, a thermal addressing method, and an optical addressing method according to their driving methods. Among them, the passive matrix (PM) method and the active matrix (AM) method of the electric addressing method which are currently most frequently used as the direct-view display device are currently used.

【0003】近年、表示装置の大型化や高精細化に対す
るニーズが高まっている。しかしながら、従来の方式の
液晶表示装置では、これらのニーズに十分に対応できて
おらず、市販品で対角20インチ、試作段階でも対角3
0インチ程度が限界となっているのが現状である。とく
に、PM方式では、画素数の増加に伴い、クロストーク
のためにコントラストが低下するという問題がある。ま
た、AM方式では、スイッチング素子(特に薄膜トラン
ジスタ:TFT)を無欠陥で多数作り込むことが困難で
あるという問題がある。
In recent years, there has been an increasing need for larger and higher definition display devices. However, the liquid crystal display device of the conventional type cannot sufficiently meet these needs, and a commercially available product has a diagonal of 20 inches and a diagonal of 3 even in the prototype stage.
At present, about 0 inches is the limit. In particular, the PM method has a problem that the contrast is reduced due to crosstalk as the number of pixels increases. Further, the AM method has a problem that it is difficult to form a large number of switching elements (especially thin film transistors: TFTs) without defects.

【0004】これに対し、TFTのような半導体スイッ
チング素子を用いないAM方式液晶表示装置として、19
90年にアメリカのTektronix社のT.Buzakらによってプラ
ズマアドレス方式液晶表示装置(PALC)が開発され
た(例えば、特開平1-217396号公報)。PALCの断面
構造を模式的に図1に示す。
On the other hand, as an AM type liquid crystal display device which does not use a semiconductor switching element such as a TFT, a 19
In 1990, T. Buzak of Tektronix of the United States developed a plasma-addressed liquid crystal display device (PALC) (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-217396). FIG. 1 schematically shows a cross-sectional structure of PALC.

【0005】PALC100は、液晶セルとプラズマセ
ルとを積層した構成をしている。基板1と、誘電体セパ
レータ4との間に液晶層3が挟持されており、信号電極
(列電極)2と、誘電体セパレータ4との間の電位差に
よって、液晶層3が駆動される。プラズマセルは、基板
9と誘電体セパレータ4との間隙が複数のリブ隔壁6で
分割された複数のプラズマ放電チャネル5を有してい
る。プラズマ放電チャネル5には、イオン化可能なガス
が封入されており、カソード7とアノード8との間に放
電パルス電圧を印加することによって、プラズマが発生
する。複数のプラズマ放電チャネル5は、信号電極(列
電極)2と直交する方向に延びており、カソード7とア
ノード8とが走査電極(行電極)10として機能し、線
順次走査される。
[0005] The PALC 100 has a configuration in which a liquid crystal cell and a plasma cell are stacked. The liquid crystal layer 3 is sandwiched between the substrate 1 and the dielectric separator 4, and the liquid crystal layer 3 is driven by a potential difference between the signal electrode (column electrode) 2 and the dielectric separator 4. The plasma cell has a plurality of plasma discharge channels 5 in which a gap between a substrate 9 and a dielectric separator 4 is divided by a plurality of rib partition walls 6. An ionizable gas is sealed in the plasma discharge channel 5, and a plasma is generated by applying a discharge pulse voltage between the cathode 7 and the anode 8. The plurality of plasma discharge channels 5 extend in a direction orthogonal to the signal electrodes (column electrodes) 2, and the cathode 7 and the anode 8 function as scanning electrodes (row electrodes) 10, and are scanned line-sequentially.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上述したPALC方式
を用いた液晶表示装置は、TFTを用いた液晶表示装置
に比べ、比較的簡単に大型化を行うことが出来る。しか
しながら、PALCに用いられている誘電体セパレータ
4はガラスからなる薄板であり、これは高価である上に
表示装置が大きくなればなるほど取り扱いが難しく、表
示装置作製中に破損する確率が高くなる。
The liquid crystal display device using the above-described PALC system can be relatively easily enlarged in size as compared with a liquid crystal display device using a TFT. However, the dielectric separator 4 used for PALC is a thin plate made of glass, which is expensive and difficult to handle as the display device becomes larger, and the probability of breakage during the fabrication of the display device increases.

【0007】さらに、PALCの駆動時においてこの薄
板ガラスのプラズマ側表面は擬似的な電極として働く
が、そのガラスの厚さは約50〜100ミクロンであ
り、一般的なネマティック液晶層の厚さである3〜6ミ
クロンに比べて10倍以上の厚みを持っている。このた
めPALCを駆動する際には液晶層を有効に駆動する電
圧の10倍以上の電圧を印加する必要が有る。このこと
は駆動回路の負担を増やすと共に消費電力の増加、それ
に伴う発熱などの問題を引き起こす。
Further, when the PALC is driven, the plasma-side surface of the thin glass acts as a pseudo electrode. The thickness of the glass is about 50 to 100 μm, which is a thickness of a general nematic liquid crystal layer. It has a thickness of 10 times or more compared to a certain 3 to 6 microns. For this reason, when driving the PALC, it is necessary to apply a voltage ten times or more the voltage for effectively driving the liquid crystal layer. This causes problems such as an increase in the load on the drive circuit, an increase in power consumption, and accompanying heat generation.

【0008】さらに、上記の薄板ガラスは強度的に脆弱
であるので、薄板ガラス上に電極を形成することは非常
に困難である。従って、プラズマ放電用の電極は、図1
に示したように、基板平面に対して平行に形成される。
これは、表示装置の開口率を低下させる原因であり、表
示品位を低下させるので好ましくない。
Furthermore, since the above-mentioned thin glass is weak in strength, it is very difficult to form an electrode on the thin glass. Therefore, the electrode for plasma discharge is shown in FIG.
Is formed parallel to the plane of the substrate.
This is a cause of lowering the aperture ratio of the display device and is not preferable because it lowers display quality.

【0009】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたものであり、大型化や高精細化に適した低コスト、
高歩留まりな光アドレス装置およびそれを用いた液晶表
示装置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and has a low cost suitable for enlargement and high definition.
It is an object of the present invention to provide a high-yield optical address device and a liquid crystal display device using the same.

【0010】[0010]

【課題を解決する為の手段】本発明の光アドレス装置
は、複数のプラズマ発光チャネルを有し、該プラズマ発
光チャネルは、第1基板と、該第1基板に対向する第2
基板と、該第1基板と第2基板との間に形成されたリブ
隔壁と、該第1基板と、該第2基板と、該リブ隔壁によ
って包囲された空間にイオン化可能なガスを有し、該第
1基板および該第2基板のそれぞれ対向する面は、第1
電極および第2電極を有し、該第1電極はプラズマ発光
チャネルの全面に形成された透明電極であって、該プラ
ズマ発光チャネルから発生した光は、該第1基板および
該第1電極を透過して出射され、そのことによって上記
目的が達成される。
An optical addressing device according to the present invention has a plurality of plasma emission channels, wherein the plasma emission channels include a first substrate and a second substrate facing the first substrate.
A substrate, a rib partition formed between the first substrate and the second substrate, an ionizable gas in a space surrounded by the first substrate, the second substrate, and the rib partition; The opposing surfaces of the first substrate and the second substrate are
An electrode and a second electrode, wherein the first electrode is a transparent electrode formed on the entire surface of the plasma emission channel, and light generated from the plasma emission channel transmits through the first substrate and the first electrode. Then, the above-mentioned object is achieved.

【0011】前記第1電極は、前記複数のプラズマ発光
チャネルに共通の単一の電極であってもよい。
[0011] The first electrode may be a single electrode common to the plurality of plasma emission channels.

【0012】前記第1電極は、前記複数のプラズマ発光
チャネルごとに形成されたストライプ状の電極であって
もよい。
[0012] The first electrode may be a striped electrode formed for each of the plurality of plasma emission channels.

【0013】前記第1電極に接続された金属電極を更に
有してもよい。
[0013] The semiconductor device may further include a metal electrode connected to the first electrode.

【0014】前記金属電極の少なくとも一部は、前記第
1基板に垂直な方向から見たときに前記リブ隔壁と重な
る位置に形成されていることが好ましい。
It is preferable that at least a part of the metal electrode is formed at a position overlapping the rib partition when viewed from a direction perpendicular to the first substrate.

【0015】本発明の光アドレス装置は、複数のプラズ
マ発光チャネルを有し、該プラズマ発光チャネルは、第
1基板と、該第1基板に対向する第2基板と、該第1基
板と第2基板との間に形成されたリブ隔壁と、該第1基
板と、該第2基板と、該リブ隔壁によって包囲された空
間にイオン化可能なガスを有し、該第1基板および該第
2基板のそれぞれ対向する面は、第1電極および第2電
極を有し、該第1電極および該第2電極は互いに平行な
ストライプ状の電極であって、該第1電極の少なくとも
一部は、該第1基板に垂直な方向から見たときに該リブ
隔壁と重なる位置に形成されており、そのことによって
上記目的が達成される。
An optical addressing device according to the present invention has a plurality of plasma emission channels, the plasma emission channels comprising a first substrate, a second substrate facing the first substrate, and a first substrate and a second substrate. A rib partition formed between the first and second substrates, the first substrate, the second substrate, and a space surrounded by the rib partition having an ionizable gas in the first substrate and the second substrate; Each has a first electrode and a second electrode, wherein the first electrode and the second electrode are stripe-shaped electrodes parallel to each other, and at least a part of the first electrode is The rib is formed at a position overlapping with the rib partition wall when viewed from a direction perpendicular to the first substrate, thereby achieving the above object.

【0016】本発明の液晶表示装置は、第3基板と、第
4基板と、該第3基板と該第4基板との間に挟持された
液晶層と、該第3基板の該液晶層側に設けられた電極層
と、該第4基板の該液晶層側に設けられたマトリクス状
に配置された複数の画素電極と、該複数の画素電極と光
導電層を介して電気的に接続された互いに平行なストラ
イプ状の複数の信号電極と、該第4基板の外側に設けら
れ、該光導電層の少なくとも一部に光を照射する上記の
光アドレス装置とを有し、該光アドレス装置からの光を
スイッチングすることによって該光導電層の電気伝導度
を変化させ、該画素電極と該信号電極との電気的接続を
スイッチングし、そのことによって、該液晶層を光アド
レスするので、上記目的が達成される。
The liquid crystal display device according to the present invention comprises a third substrate, a fourth substrate, a liquid crystal layer sandwiched between the third substrate and the fourth substrate, and a liquid crystal layer side of the third substrate. And a plurality of pixel electrodes arranged in a matrix provided on the liquid crystal layer side of the fourth substrate, and electrically connected to the plurality of pixel electrodes via a photoconductive layer. A plurality of stripe-shaped signal electrodes parallel to each other, and the above-mentioned optical address device provided outside the fourth substrate and irradiating at least a part of the photoconductive layer with light. Changing the electrical conductivity of the photoconductive layer by switching light from the substrate and switching the electrical connection between the pixel electrode and the signal electrode, thereby optically addressing the liquid crystal layer. Objective is achieved.

【0017】前記光アドレス装置は、前記第1電極に接
続された金属電極を更に有し、前記第3基板または前記
第4基板は、ブラックマトリクスをさらに有し、該金属
電極の少なくとも一部は、前記第1基板に垂直な方向か
ら見たときに、該ブラックマトリクスと重なる位置およ
び/または表示領域外に形成する構成としてもよい。
The optical address device further has a metal electrode connected to the first electrode, and the third substrate or the fourth substrate further has a black matrix, and at least a part of the metal electrode is When viewed from a direction perpendicular to the first substrate, the first substrate may be formed at a position overlapping with the black matrix and / or outside a display area.

【0018】以下、作用について説明する。The operation will be described below.

【0019】本発明による光アドレス装置のプラズマ発
光チャネルの放電用電極の一方は、透明電極からなり、
プラズマ発光チャネルの全面に形成されている。従っ
て、放電用電極による開口率の低下が抑制される。ま
た、本発明の他の光アドレス装置は、ストライプ状の一
対の放電用電極を用いるが、ストライプ状電極の少なく
とも一部がリブ隔壁やブラックマスクと重なる位置また
は表示領域外に形成されるので、放電電極による開口率
の低下が少ない。
One of the discharge electrodes of the plasma emission channel of the optical addressing device according to the present invention comprises a transparent electrode,
It is formed on the entire surface of the plasma emission channel. Therefore, a decrease in the aperture ratio due to the discharge electrode is suppressed. In addition, another optical addressing device of the present invention uses a pair of stripe-shaped discharge electrodes, but at least a part of the stripe-shaped electrodes is formed at a position overlapping the rib partition or the black mask or outside the display region. A decrease in the aperture ratio due to the discharge electrode is small.

【0020】本発明の液晶表示装置のは、光導電層を介
して画素電極(またはストライプ状電極)に電気的に接
続された信号電極と、光導電層に光照射する複数の光源
とを有している。光導電層に選択的に光照射することに
よって、信号電極に接続される画素電極(例えば、行を
線順次的に)を選択することができる。従って、対向電
極(例えば、列電極)と画素電極との間に印加された電
圧を、光源のスイッチングによって線順次走査すること
ができる。即ち、液晶層を光アドレスすることができ
る。液晶層に電圧を印加するための電極、光導電層およ
び光源の配置は種々に選択することができる。
The liquid crystal display of the present invention has a signal electrode electrically connected to a pixel electrode (or a striped electrode) via a photoconductive layer, and a plurality of light sources for irradiating the photoconductive layer with light. doing. By selectively irradiating the photoconductive layer with light, it is possible to select a pixel electrode (for example, a line is line-sequentially) connected to the signal electrode. Therefore, the voltage applied between the counter electrode (for example, the column electrode) and the pixel electrode can be line-sequentially scanned by switching the light source. That is, the liquid crystal layer can be optically addressed. The arrangement of the electrodes for applying a voltage to the liquid crystal layer, the photoconductive layer, and the light source can be variously selected.

【0021】本発明による液晶表示装置は、従来のPA
LCのプラズマセルと類似した構成の光アドレス装置を
用いるが、光を用いてアドレスするので、PALCのよ
うに非常に薄いガラスシートを用いる必要がない。即
ち、光の強度と光導電層の感度とが十分であれば、プラ
ズマ発光部と光導電層との間に設けられる基板の厚さに
制限はなく、製造工程でのハンドリング等を考慮して適
宜設計することができる。
The liquid crystal display device according to the present invention uses a conventional PA
An optical addressing device having a configuration similar to that of an LC plasma cell is used. However, since addressing is performed using light, there is no need to use a very thin glass sheet unlike PALC. That is, as long as the light intensity and the sensitivity of the photoconductive layer are sufficient, there is no limitation on the thickness of the substrate provided between the plasma light emitting portion and the photoconductive layer, and the handling in the manufacturing process is taken into consideration. It can be designed appropriately.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
説明する。
Embodiments of the present invention will be described below.

【0023】(実施形態1)本実施形態による液晶表示
装置200を模式的に図2に示す。液晶表示装置200
は、光アドレス装置200aと、対向電極12を有する
基板11と、これらの間に挟持された液晶層13とを有
している。対向電極12は、ITO(インジウム錫酸化
物)などの透明導電材料を用いて、表示領域のほぼ全面
に形成されている。必要に応じて、カラーフィルタを形
成してもよい。
(Embodiment 1) The liquid crystal display device 200 according to the present embodiment is schematically shown in FIG. Liquid crystal display device 200
Has an optical addressing device 200a, a substrate 11 having a counter electrode 12, and a liquid crystal layer 13 sandwiched therebetween. The counter electrode 12 is formed over substantially the entire display region using a transparent conductive material such as ITO (indium tin oxide). If necessary, color filters may be formed.

【0024】光アドレス装置200aは、基板19と基
板24との間隙が複数のリブ隔壁20で分割された複数
のストライプ状のプラズマ発光チャネル21を有してい
る。プラズマ発光チャネル21には、イオン化可能なガ
スが封入されており、第1電極22と第2電極23との
間に交流電圧を印加することによって、プラズマが発生
する。第1電極22は、複数のプラズマ発光チャネル2
1に共通の単一の電極として形成しても良いし、各プラ
ズマ発光チャネル21毎に、ストライプ状の電極として
形成してもよい。開口率を高めるために、第1電極22
は、少なくともプラズマ発光チャネル21の全面に形成
することが好ましい。
The optical addressing device 200a has a plurality of striped plasma emission channels 21 in which a gap between the substrate 19 and the substrate 24 is divided by a plurality of rib partitions 20. An ionizable gas is sealed in the plasma emission channel 21, and a plasma is generated by applying an AC voltage between the first electrode 22 and the second electrode 23. The first electrode 22 includes a plurality of plasma emission channels 2.
It may be formed as a single electrode common to one or a striped electrode for each plasma emission channel 21. To increase the aperture ratio, the first electrode 22
Is preferably formed at least on the entire surface of the plasma emission channel 21.

【0025】基板19の液晶層13側の面(プラズマ発
光チャネル21とは反対側)の表面には、液晶層13側
から、信号電極14、光導電層15、画素電極16が形
成されている。画素電極16は、マトリクス状に配置さ
れた複数のドット状の電極である。信号電極14は、互
いに平行な複数のストライプ状の電極であり、プラズマ
発光チャネル21の延びる方向と直交する方向に延びて
いる。信号電極14と画素電極16とは、光導電層15
を介して接続されている。光導電層15は、複数の信号
電極14と複数の画素電極16に対して共通の単一の光
導電膜として形成しても良いし、それぞれの信号電極1
4毎に、ストライプ状の光導電膜を形成しても良い。勿
論、画素電極16毎に、ドット状の光導電膜を形成する
こともできる。
A signal electrode 14, a photoconductive layer 15, and a pixel electrode 16 are formed on the surface of the substrate 19 on the liquid crystal layer 13 side (the side opposite to the plasma emission channel 21) from the liquid crystal layer 13 side. . The pixel electrodes 16 are a plurality of dot-shaped electrodes arranged in a matrix. The signal electrode 14 is a plurality of striped electrodes parallel to each other, and extends in a direction orthogonal to the direction in which the plasma emission channel 21 extends. The signal electrode 14 and the pixel electrode 16 are
Connected through. The photoconductive layer 15 may be formed as a single single photoconductive film common to the plurality of signal electrodes 14 and the plurality of pixel electrodes 16,
For every four, a stripe-shaped photoconductive film may be formed. Of course, a dot-shaped photoconductive film can be formed for each pixel electrode 16.

【0026】また、画素電極16の端部(リブ隔壁20
に対応する位置)の下には、絶縁層17で覆われた金属
配線18が形成されている。金属配線18/絶縁層17
/画素電極16は蓄積容量(補助容量)として機能す
る。この例では、金属配線18を信号電極14と直交す
る方向(プラズマ発光チャネル21と平行な方向)に延
びるストライプ状の電極として形成したが、これに限ら
れない。
The edge of the pixel electrode 16 (the rib partition 20)
Is formed under the insulating layer 17. Metal wiring 18 / insulating layer 17
The / pixel electrode 16 functions as a storage capacitor (auxiliary capacitor). In this example, the metal wiring 18 is formed as a stripe-shaped electrode extending in a direction orthogonal to the signal electrode 14 (a direction parallel to the plasma emission channel 21), but is not limited thereto.

【0027】光アドレス装置200aの発光効率を高め
るために、プラズマ発光チャネル21に封入するガスの
種類やガス圧およびプラズマ発光チャネルの構造(空間
の大きさ)等を最適化すればよい。例えば、紫外線を発
光させる場合には、例えば、ヘリウム、キセノンやこれ
らの混合ガスを用いることができる。さらに、これらの
混合ガスに水銀を混合することによって近紫外線を発光
させることができる。また、可視光を発光させる場合に
は、ネオンとキセノンの混合ガスなどを用いるか、また
は、プラズマ発光チャネル21の内壁に適切な蛍光体を
塗布し、紫外線を可視光に変換する構成としてもよい。
アドレス用の光として紫外線を用いると透過型液晶表示
装置を形成することができるという利点がある。
In order to enhance the luminous efficiency of the optical addressing device 200a, the type and gas pressure of the gas sealed in the plasma light-emitting channel 21 and the structure (size of space) of the plasma light-emitting channel may be optimized. For example, when emitting ultraviolet light, for example, helium, xenon, or a mixed gas thereof can be used. Furthermore, near-ultraviolet light can be emitted by mixing mercury with these mixed gases. When emitting visible light, a mixed gas of neon and xenon may be used, or an appropriate phosphor may be applied to the inner wall of the plasma emission channel 21 to convert ultraviolet light into visible light. .
The use of ultraviolet light as addressing light has the advantage that a transmission type liquid crystal display device can be formed.

【0028】本発明による液晶表示装置においては、光
アドレス用の光源からの光の強度と光導電層の感度とが
十分であれば、液晶セルと光アドレス装置200aとの
間に設けられる基板19の材料や厚さに制限はなく、製
造工程の歩留まりを考慮して適宜設定することができ
る。紫外線を用いる場合には、例えば、石英基板や溶融
シリカ基板などを用いることができる。また、大画面の
表示装置を構成する場合には、基板19を複数の基板で
構成してもよい。
In the liquid crystal display device according to the present invention, if the intensity of light from the light source for optical addressing and the sensitivity of the photoconductive layer are sufficient, the substrate 19 provided between the liquid crystal cell and the optical addressing device 200a is provided. There is no limitation on the material and thickness of the material, and it can be appropriately set in consideration of the yield of the manufacturing process. When ultraviolet rays are used, for example, a quartz substrate or a fused silica substrate can be used. When a large-screen display device is configured, the substrate 19 may be configured by a plurality of substrates.

【0029】光導電層15の材料は、アドレス用の光に
対して電気伝導度が十分に変化する材料を、アドレス用
の光の波長や強度および装置の構成を考慮して、公知の
材料から選択すればよい。紫外線に対しては、例えば、
酸化チタンを用いることができる。また、可視光に対し
ては、アモルファスシリコンを用いることができる。
The material of the photoconductive layer 15 may be a material whose electric conductivity is sufficiently changed with respect to the addressing light, from a known material in consideration of the wavelength and intensity of the addressing light and the configuration of the device. Just choose. For ultraviolet light, for example,
Titanium oxide can be used. For visible light, amorphous silicon can be used.

【0030】プラズマ発光を用いた表示装置として、い
わゆるプラズマ表示装置(PDP)が知られている。P
DPは、プラズマ発光された紫外線を蛍光体で可視光に
変換し、その可視光を表示に用いる、自発光型の表示装
置である。それに対し、本発明による液晶表示装置にお
いては、プラズマ発光によって得られた光を、画素をア
ドレスするために用いる。表示に用いる光は、従来の液
晶表示装置と同様に、透過型の場合にはバックライトか
らの光であり、反射型の場合には周囲光である。従っ
て、プラズマ発光の強度は光導電層の電気伝導度を十分
に変化させることが可能であればよく、比較的弱い光を
用いることができる。例えば、プラズマ発光による紫外
線を用いる場合においては、その輝線を用いる必要がな
く、光導電層の感度や基板の透過率特性を考慮して、最
適化すればよい。
A so-called plasma display device (PDP) is known as a display device using plasma emission. P
DP is a self-luminous display device that converts ultraviolet light emitted by plasma into visible light with a phosphor and uses the visible light for display. In contrast, in the liquid crystal display device according to the present invention, light obtained by plasma emission is used for addressing pixels. Light used for display is light from a backlight in the case of a transmissive type, and is ambient light in the case of a reflective type, as in a conventional liquid crystal display device. Therefore, the intensity of plasma emission only needs to be able to sufficiently change the electrical conductivity of the photoconductive layer, and relatively weak light can be used. For example, in the case of using ultraviolet light by plasma emission, it is not necessary to use the bright line, and optimization may be performed in consideration of the sensitivity of the photoconductive layer and the transmittance characteristics of the substrate.

【0031】本実施例による光アドレス装置200aお
よび液晶表示装置200の動作原理を図3を参照しなが
ら説明する。なお、蓄積容量は簡単のために省略する。
The principle of operation of the optical address device 200a and the liquid crystal display device 200 according to this embodiment will be described with reference to FIG. The storage capacity is omitted for simplicity.

【0032】選択されたプラズマ発光チャネル21内の
電極22および電極23との間に交流電圧を印加するこ
とによって、プラズマ発光チャネル21内のガスがイオ
ン化され、プラズマが発生する。プラズマはそのガスの
種類やガス圧によって種々の波長の光を発生する(図3
(a))。
By applying an AC voltage between the electrode 22 and the electrode 23 in the selected plasma emission channel 21, the gas in the plasma emission channel 21 is ionized and plasma is generated. Plasma generates light of various wavelengths depending on the type and pressure of the gas (FIG. 3).
(A)).

【0033】この光は基板19および画素電極16を通
過し、光導電層15に照射される。光照射された光導電
層15は、その電気伝導度が増加し、導電体となり、画
素電極16と信号電極14とが電気的に接続される。光
導電層15が導電状態の時に、対向電極12と信号電極
14との間に駆動電圧を印加すると、画素電極16と対
向電極12との間の液晶層13に電圧が印加され、画素
に対応する領域の液晶層13aが駆動される(図3
(b))。
This light passes through the substrate 19 and the pixel electrode 16 and irradiates the photoconductive layer 15. The photoconductive layer 15 irradiated with light increases its electrical conductivity and becomes a conductor, so that the pixel electrode 16 and the signal electrode 14 are electrically connected. When a driving voltage is applied between the counter electrode 12 and the signal electrode 14 when the photoconductive layer 15 is in a conductive state, a voltage is applied to the liquid crystal layer 13 between the pixel electrode 16 and the counter electrode 12, and a voltage corresponding to the pixel is applied. The liquid crystal layer 13a in the region to be driven is driven (see FIG. 3).
(B)).

【0034】次に、電極22と23との間の電圧を切
り、プラズマ発光を停止すると、光導電層15の電気伝
導度は低下し絶縁体となり、画素電極16と信号電極1
4とは電気的に絶縁される。画素電極16、光導電層1
5と対向電極12とこれらの間の液晶層13はキャパシ
タとして機能するので、先に印加された駆動電圧に対応
する電荷が画素電極16上に保持され、液晶層13aの
駆動状態は保持される(いわゆるサンプルホールドであ
る)(図3(c))。蓄積容量を形成することによっ
て、さらに、電荷保持特性を改善することができる。
Next, when the voltage between the electrodes 22 and 23 is turned off and the plasma emission is stopped, the electric conductivity of the photoconductive layer 15 decreases and the photoconductive layer 15 becomes an insulator, and the pixel electrode 16 and the signal electrode 1
4 is electrically insulated. Pixel electrode 16, photoconductive layer 1
5, the counter electrode 12, and the liquid crystal layer 13 between them function as a capacitor, so that a charge corresponding to the previously applied driving voltage is held on the pixel electrode 16, and the driving state of the liquid crystal layer 13a is held. (This is a so-called sample hold) (FIG. 3C). By forming the storage capacitor, the charge retention characteristics can be further improved.

【0035】プラズマ発光が停止した状態(消光状態)
では、対向電極12と信号電極14との間に駆動電圧を
印加しても、画素電極16と信号電極14とは、電気的
に切り離されているので、画素電極16上の液晶層13
は駆動されない。次のフレーム(またはフィールド)
で、プラズマ発光チャネル25aが選択される期間(プ
ラズマ発光する期間)に、画素電極16に新たな駆動電
圧が印加される。消光状態において、対向電極12と信
号電極14との間に電圧を印加した場合に駆動される液
晶層は、信号電極14上の液晶層に限られるので、この
部分をブラックマトリクス等で覆っておけば表示品質の
低下の問題はない。
A state in which plasma emission is stopped (extinction state)
In this case, even if a driving voltage is applied between the counter electrode 12 and the signal electrode 14, the pixel electrode 16 and the signal electrode 14 are electrically separated from each other.
Is not driven. Next frame (or field)
Then, a new driving voltage is applied to the pixel electrode 16 during a period in which the plasma emission channel 25a is selected (period of plasma emission). In the extinction state, the liquid crystal layer driven when a voltage is applied between the counter electrode 12 and the signal electrode 14 is limited to the liquid crystal layer on the signal electrode 14. Therefore, this portion is covered with a black matrix or the like. There is no problem of display quality degradation.

【0036】本実施例による光アドレス装置200aお
よび液晶表示装置200は、例えば、以下の方法で形成
することができる。図4A〜4Cを参照しながらその製
造方法を説明する。
The optical address device 200a and the liquid crystal display device 200 according to this embodiment can be formed, for example, by the following method. The manufacturing method will be described with reference to FIGS.

【0037】図4A(a)および(b)に示すように、
約1.1mm厚のガラス基板11上に厚さ約50nmの
ITO(対向電極)をスパッタ法により形成し、対向電
極12を形成する。必要に応じて、配向膜やカラーフィ
ルタを形成してもよい。
As shown in FIGS. 4A (a) and (b),
An ITO (opposite electrode) having a thickness of about 50 nm is formed on a glass substrate 11 having a thickness of about 1.1 mm by a sputtering method, and an opposing electrode 12 is formed. If necessary, an alignment film and a color filter may be formed.

【0038】図4B(a)〜(d)に示すように、例え
ば、約1.1mm厚のガラス基板24に対し、例えば、
ニッケルを約1μm厚にスパッタ法で堆積し、エッチン
グによりストライプ状の電極23を形成する(図4B
(a)および(b))。この上に、ガラスペーストを厚
み約20μmになるように塗布・焼成し、絶縁層26を
形成し、絶縁層26の上に、約200nmの酸化マグネ
シウム層27を形成する(図4B(c))。得られた基
板の表面に、スクリーン印刷法により約300μmのリ
ブ隔壁20を、例えばガラスペーストを用いて形成する
(図4B(d))。
As shown in FIGS. 4A to 4D, for example, for a glass substrate 24 having a thickness of about 1.1 mm, for example,
Nickel is deposited to a thickness of about 1 μm by a sputtering method, and a striped electrode 23 is formed by etching.
(A) and (b)). On this, a glass paste is applied and fired so as to have a thickness of about 20 μm to form an insulating layer 26, and a magnesium oxide layer 27 of about 200 nm is formed on the insulating layer 26 (FIG. 4B (c)). . On the surface of the obtained substrate, a rib partition 20 of about 300 μm is formed by screen printing using, for example, a glass paste (FIG. 4B (d)).

【0039】図4C(a)〜(f)に示すように、ま
ず、約0.7mm厚の基板19上に、約15nm厚の透
明導電膜22をスパッタ法により全面に形成する。次
に、ガラスペーストを厚み20μmになるように塗布・
焼成し、絶縁層28を形成し、その後、約200nm厚
の酸化マグネシウム層29を形成する(図4C
(a))。紫外線をアドレス光として用いる場合には、
基板19の材料として、紫外線を透過する材料(例え
ば、石英や溶融シリカ)を用いることが好ましく、加え
て、信号電極14部分(以下に述べる)に対応した位置
に、透明電極22/絶縁層28/酸化マグネシウム29
を形成しない領域を設けることが好ましい(図4D)。
As shown in FIGS. 4A to 4F, first, a transparent conductive film 22 having a thickness of about 15 nm is formed on the entire surface of a substrate 19 having a thickness of about 0.7 mm by sputtering. Next, apply a glass paste to a thickness of 20 μm.
After baking, an insulating layer 28 is formed, and then a magnesium oxide layer 29 having a thickness of about 200 nm is formed.
(A)). When using ultraviolet light as address light,
It is preferable to use a material that transmits ultraviolet light (for example, quartz or fused silica) as the material of the substrate 19. In addition, the transparent electrode 22 / the insulating layer 28 are provided at positions corresponding to the signal electrode 14 portion (described below). / Magnesium oxide 29
Is preferably provided (FIG. 4D).

【0040】さらに、基板19の反対側の面に約0.1
μm厚のアルミを蒸着し、ストライプ状にエッチング
し、アルミ配線18を形成する(図4C(b))。得ら
れたアルミ配線18を陽極酸化することにより、その表
面に酸化膜17を形成する(図4C(c))。その上
に、約15nm厚の透明導電膜をスパッタ法により形成
し、ドット状にエッチングして画素電極16を形成する
(図4C(d))。ここで、このアルミ配線18/酸化
膜17/画素電極16の構造が蓄積容量として働く。
Further, about 0.1
Aluminum having a thickness of μm is vapor-deposited and etched in a stripe shape to form aluminum wiring 18 (FIG. 4C (b)). By anodic oxidation of the obtained aluminum wiring 18, an oxide film 17 is formed on the surface thereof (FIG. 4C (c)). A transparent conductive film having a thickness of about 15 nm is formed thereon by sputtering, and is etched in a dot shape to form the pixel electrode 16 (FIG. 4D). Here, the structure of the aluminum wiring 18 / oxide film 17 / pixel electrode 16 functions as a storage capacitor.

【0041】さらに、この上にスパッタ法により約0.
1μmの酸化チタン膜を光導電層15として形成する
(図4C(e))。この上に、例えば、アルミを用い
て、ストライプ状の信号電極14を形成する。信号電極
14とアルミ配線18とのストライプ方向は互いに直交
している。必要に応じて、配向膜を形成してもよい。
Further, about 0.
A 1 μm titanium oxide film is formed as the photoconductive layer 15 (FIG. 4C (e)). The stripe-shaped signal electrode 14 is formed thereon using, for example, aluminum. The stripe directions of the signal electrode 14 and the aluminum wiring 18 are orthogonal to each other. If necessary, an alignment film may be formed.

【0042】次に、信号電極14と電極23のストライ
プ方向が互いに直交し、電極22と電極23が対向する
ように、基板19と基板24とを貼りあわせ、リブ隔壁
20で形成される溝の内部を減圧した後に、例えば、ヘ
リウムとキセノンの混合ガスを封入し、プラズマ発光チ
ャネル21を形成する。
Next, the substrates 19 and 24 are bonded together so that the stripe directions of the signal electrodes 14 and the electrodes 23 are orthogonal to each other, and the electrodes 22 and 23 are opposed to each other. After the inside is depressurized, for example, a mixed gas of helium and xenon is sealed to form the plasma emission channel 21.

【0043】最後に、対向電極12と信号電極14とが
対向するように、基板11と基板19とを、例えば5μ
mのスペーサーを介して貼りあわせ、この空隙にネマテ
ィック液晶材料を注入し、液晶層13を形成し、液晶表
示装置200が得られる。液晶層13は、従来のアクテ
ィブマトリクス型液晶表示装置に用いられている液晶材
料を用いて形成することができる。例えば、ネマティッ
ク液晶、コレステリック液晶などの液晶材料を用いるこ
とができる。
Finally, the substrate 11 and the substrate 19 are, for example, 5 μm so that the opposing electrode 12 and the signal electrode 14 face each other.
The liquid crystal display device 200 is obtained by laminating via a m-spacer and injecting a nematic liquid crystal material into the space to form a liquid crystal layer 13. The liquid crystal layer 13 can be formed using a liquid crystal material used in a conventional active matrix type liquid crystal display device. For example, a liquid crystal material such as a nematic liquid crystal or a cholesteric liquid crystal can be used.

【0044】液晶表示装置200の電極22と電極23
との間に、約150Vの交流電圧を印加することによ
り、ヘリウムとキセノンの混合ガスをプラズマ化し、紫
外光を発生させることができる。紫外線を発光した状態
で、対向電極12と信号電極14との間に、駆動電圧を
印加することにより、画素電極16上の液晶層13を駆
動することができる。
The electrodes 22 and 23 of the liquid crystal display device 200
By applying an AC voltage of about 150 V during the period, a mixed gas of helium and xenon is turned into plasma, and ultraviolet light can be generated. The liquid crystal layer 13 on the pixel electrode 16 can be driven by applying a drive voltage between the counter electrode 12 and the signal electrode 14 in a state where the ultraviolet light is emitted.

【0045】なお、電荷保持時間は、画素電極16の下
のアルミ配線18の幅や酸化膜17の厚み、種類(酸化
膜17上にさらに窒化シリコンをスパッタする等)など
を変えることにより、変更が可能なことは言うまでもな
い。
The charge retention time can be changed by changing the width of the aluminum wiring 18 under the pixel electrode 16, the thickness of the oxide film 17, the type (sputtering silicon nitride on the oxide film 17, etc.), and the like. Needless to say, this is possible.

【0046】プラズマ発光チャネルの構造および材料は
上記の例に限られず、発光波長に応じて、ガス種、ガス
圧、放電電圧(直流または交流や電圧値)を考慮して適
宜設定すればよい。絶縁層や酸化マグネシウム層を省略
することもできる。
The structure and material of the plasma emission channel are not limited to the above examples, and may be appropriately set in consideration of the gas type, gas pressure, and discharge voltage (DC or AC or voltage value) according to the emission wavelength. The insulating layer and the magnesium oxide layer can be omitted.

【0047】(実施形態2)実施形態1の光アドレス装
置および液晶表示装置を大型化すると、ITOなどの透
明導電材料は電気伝導率が比較的低いので、電極22を
ITOで形成すると、信号電圧の遅延、電圧波形の歪や
振幅の低下等の問題を生じる場合がある。本実施形態で
は、上記の問題を回避するために、透明電極に電気的に
接続された金属電極を形成する。
(Embodiment 2) When the size of the optical addressing device and the liquid crystal display device of Embodiment 1 is increased, a transparent conductive material such as ITO has a relatively low electric conductivity. In some cases, such as delay of the data, distortion of the voltage waveform, and decrease in amplitude. In this embodiment, a metal electrode electrically connected to the transparent electrode is formed in order to avoid the above problem.

【0048】本実施形態の装置においては、実施形態1
の液晶表示装置200の基板19と電極22との間に、
例えば、アルミを用いて金属電極を形成する。用いられ
る金属材料は、アルミに限られずITOよりも電気抵抗
の低い材料であればよい。
In the apparatus of the present embodiment, the first embodiment
Between the substrate 19 and the electrode 22 of the liquid crystal display device 200 of
For example, a metal electrode is formed using aluminum. The metal material used is not limited to aluminum and may be any material having a lower electrical resistance than ITO.

【0049】金属電極の好ましい配置を図5を参照しな
がら説明する。液晶表示装置200の表示領域を図5
(a)の参照符号50で表される領域であるとする。基
板19に透明電極22を形成する前、または後に、図5
(b)に示す金属電極51および金属電極52を形成す
る。金属電極51は表示領域50外に形成され、金属電
極52は表示領域50内のリブ隔壁20(図2参照)に
対応する位置に形成されることが好ましい。また、対向
基板(図2の基板11)にブラックマトリクスを形成す
る場合には、基板面から見て、金属電極52がブラック
マトリクスと重なるように形成することが好ましい。
A preferred arrangement of the metal electrodes will be described with reference to FIG. FIG. 5 shows the display area of the liquid crystal display device 200.
It is assumed that this is an area represented by reference numeral 50 in FIG. Before or after forming the transparent electrode 22 on the substrate 19, FIG.
A metal electrode 51 and a metal electrode 52 shown in FIG. The metal electrode 51 is preferably formed outside the display area 50, and the metal electrode 52 is preferably formed at a position in the display area 50 corresponding to the rib partition 20 (see FIG. 2). When a black matrix is formed on the opposite substrate (the substrate 11 in FIG. 2), it is preferable that the metal electrode 52 be formed so as to overlap the black matrix when viewed from the substrate surface.

【0050】(実施形態3)本実施形態では、放電用電
極として、金属材料からなるストライプ状の電極を形成
する。その他の構成は、実施形態1と同様なので、詳細
な説明は省略する。
Embodiment 3 In this embodiment, a striped electrode made of a metal material is formed as a discharge electrode. Other configurations are the same as those of the first embodiment, and thus detailed description is omitted.

【0051】図6を参照しながら、本実施形態を説明す
る。基板61(実施形態1の基板11に対応)にカラー
フィルタ層63(例えば、R:63a、G:63bを含
む)とブラックマトリクス64とが形成されている。基
板69(実施形態1の基板19に対応)には、例えば、
ニッケル配線からなる電極72(実施形態1の電極22
に対応)が形成されている。この電極72は、平行部7
2aと凸部72bを有し、平行部72aはリブ隔壁80
と、凸部72bはブラックマトリクス64と、基板61
に垂直な方向から見たときにそれぞれ重なる位置に形成
されている。また、基板74(実施形態1の基板24に
対応)上には、例えば、ニッケル配線からなる電極73
(実施形態1の電極23に対応)が形成されている。こ
の電極73は、平行部73aと凸部73bを有し、平行
部73aはリブ隔壁80と、凸部73bはブラックマト
リクス64と、基板61に垂直な方向から見たときにそ
れぞれ重なる位置に形成されている。本実施形態では、
ガラスペーストと酸化マグネシウム層を省いてある。こ
のように、プラズマ放電用の電極72および電極73を
ブラックマトリクス64やリブ隔壁80と少なくとも一
部を重ねることによって、プラズマ放電用の電極による
開口率の低下を抑制することができる。なお、これらの
電極の凸部をすべてのブラックマトリクス下に配置する
必要はなく、装置の構成に応じて改変してもよい。例え
ば、赤、緑、青の3原色のカラーフィルタをワンセット
として、その両側にのみ配置してもよい。本実施形態の
光アドレス装置は、電極72と電極73との間に、例え
ば、200Vの直流(パルス)電圧を印加することによ
って、プラズマ発光を起こすことができる。
This embodiment will be described with reference to FIG. A color filter layer 63 (for example, including R: 63a and G: 63b) and a black matrix 64 are formed on a substrate 61 (corresponding to the substrate 11 of the first embodiment). The substrate 69 (corresponding to the substrate 19 of the first embodiment) includes, for example,
The electrode 72 made of nickel wiring (the electrode 22 of the first embodiment)
) Is formed. This electrode 72 is connected to the parallel portion 7
2a and a convex portion 72b, and the parallel portion 72a is a rib partition wall 80.
And the convex portion 72b is formed by the black matrix 64 and the substrate 61.
Are formed at positions overlapping with each other when viewed from a direction perpendicular to. On the substrate 74 (corresponding to the substrate 24 of the first embodiment), for example, an electrode 73 made of nickel wiring is provided.
(Corresponding to the electrode 23 of the first embodiment). The electrode 73 has a parallel portion 73a and a convex portion 73b. The parallel portion 73a is formed at a position overlapping with the rib partition wall 80, and the convex portion 73b is formed at a position overlapping with the black matrix 64 when viewed from a direction perpendicular to the substrate 61. Have been. In this embodiment,
Glass paste and magnesium oxide layer are omitted. In this manner, by at least partially overlapping the plasma discharge electrode 72 and the electrode 73 with the black matrix 64 and the rib partition wall 80, it is possible to suppress a decrease in aperture ratio due to the plasma discharge electrode. In addition, it is not necessary to arrange the projections of these electrodes under all the black matrices, and they may be modified according to the configuration of the device. For example, three primary color filters of red, green, and blue may be set as one set and arranged only on both sides thereof. The optical addressing device of the present embodiment can generate plasma emission by applying, for example, a DC (pulse) voltage of 200 V between the electrode 72 and the electrode 73.

【0052】[0052]

【発明の効果】上述したように、本発明によれば、新し
い光アドレス装置およびそれを用いた新しい方式の液晶
表示装置が提供される。本発明による液晶表示装置は、
TFTなどのアクティブ素子を必要としないので、高い
歩留まりで比較的安価に製造できる。さらに、光によっ
てアドレスするので、従来のPALCで必要とされるき
わめて薄い(約50μm程度)誘電体セパレータを必要
とせず、従来のPALCよりも比較的安価に高歩留まり
で作製できる上に、従来のPALCに比べて低電圧で駆
動できる液晶表示装置を提供することができる。
As described above, according to the present invention, a new optical address device and a new liquid crystal display device using the same are provided. The liquid crystal display device according to the present invention is
Since an active element such as a TFT is not required, it can be manufactured at a high yield at a relatively low cost. Furthermore, since addressing is carried out by light, the extremely thin (about 50 μm) dielectric separator required in the conventional PALC is not required, and it can be manufactured relatively inexpensively at a higher yield than the conventional PALC. A liquid crystal display device that can be driven at a lower voltage than PALC can be provided.

【0053】本発明による光アドレス装置のプラズマ発
光チャネルの放電用電極の一方は、透明電極からなり、
プラズマ発光チャネルの全面に形成されている。従っ
て、放電用電極による開口率の低下が抑制される。ま
た、本発明の他の光アドレス装置は、ストライプ状の一
対の放電用電極を用いるが、ストライプ状電極の少なく
とも一部がリブ隔壁やブラックマトリクスと重なる位置
または表示領域外に形成されるので、放電電極による開
口率の低下が少ない。
One of the discharge electrodes of the plasma emission channel of the optical addressing device according to the present invention comprises a transparent electrode,
It is formed on the entire surface of the plasma emission channel. Therefore, a decrease in the aperture ratio due to the discharge electrode is suppressed. Further, another optical addressing device of the present invention uses a pair of stripe-shaped discharge electrodes, but at least a part of the stripe-shaped electrodes is formed at a position overlapping with the rib partition or the black matrix or outside the display region. A decrease in the aperture ratio due to the discharge electrode is small.

【0054】本発明における透過型の表示装置において
バックライトを置く場合に、バックライトと表示装置と
の間に紫外線吸収層(例えば高分子からなるフィルムな
ど)を適時追加しても構わない。また、本発明による液
晶表示装置では、液晶層の構造には制限がなく(例えば
ホスト−ゲスト型液晶、コレステリック液晶、高分子分
散型液晶など)公知の液晶層を広く利用することができ
る。
When a backlight is provided in the transmissive display device of the present invention, an ultraviolet absorbing layer (for example, a film made of a polymer) may be added as needed between the backlight and the display device. Further, in the liquid crystal display device according to the present invention, the structure of the liquid crystal layer is not limited (for example, a host-guest type liquid crystal, a cholesteric liquid crystal, a polymer dispersed type liquid crystal, etc.), and widely known liquid crystal layers can be used.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来のPALCの断面構造を模式的に示す図で
ある。
FIG. 1 is a diagram schematically showing a cross-sectional structure of a conventional PALC.

【図2】本発明による液晶表示装置の一例を示す模式的
な断面図である。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing an example of a liquid crystal display device according to the present invention.

【図3】本発明における液晶表示装置の動作原理を示す
模式的な断面図である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view illustrating the operation principle of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図4A】本発明による液晶表示装置の製造方法の例を
示す概略図である。
FIG. 4A is a schematic view illustrating an example of a method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention.

【図4B】本発明による液晶表示装置の製造方法の例を
示す概略図である。
FIG. 4B is a schematic view illustrating an example of a method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention.

【図4C】本発明による液晶表示装置の製造方法の例を
示す概略図である。
FIG. 4C is a schematic view showing an example of a method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention.

【図4D】本発明による液晶表示装置に用いられる中間
の基板の構成例を模式的に示す断面図である。
FIG. 4D is a cross-sectional view schematically showing a configuration example of an intermediate substrate used in the liquid crystal display device according to the present invention.

【図5】本発明による光アドレス装置の金属配線の配置
例を示す模式図である。
FIG. 5 is a schematic diagram showing an example of an arrangement of metal wirings of the optical address device according to the present invention.

【図6】本発明による液晶表示装置の金属配線の配置例
を示す模式図である。
FIG. 6 is a schematic diagram showing an example of arrangement of metal wirings of the liquid crystal display device according to the present invention.

【符号の説明】 1 ガラス基板 2 信号(列)電極 3 液晶層 4 誘電セパレータ 5 プラズマ放電部 6 リブ隔壁 7 カソード 8 アノード 9 ガラス基板 10 走査(行)電極 11 第1基板 12 対向電極 13 液晶層 14 信号電極(列電極) 15 光導電層 16 画素電極(ドット状) 17 絶縁層 18 金属配線 19 基板 20 リブ隔壁 21 プラズマ発光チャネル 22 第1電極(放電用電極) 23 第2電極(放電用電極) 24 基板DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass substrate 2 Signal (column) electrode 3 Liquid crystal layer 4 Dielectric separator 5 Plasma discharge part 6 Rib partition 7 Cathode 8 Anode 9 Glass substrate 10 Scanning (row) electrode 11 First substrate 12 Counter electrode 13 Liquid crystal layer Reference Signs List 14 signal electrode (column electrode) 15 photoconductive layer 16 pixel electrode (dot-like) 17 insulating layer 18 metal wiring 19 substrate 20 rib partition 21 plasma emission channel 22 first electrode (discharge electrode) 23 second electrode (discharge electrode) ) 24 substrates

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のプラズマ発光チャネルを有し、 該プラズマ発光チャネルは、第1基板と、該第1基板に
対向する第2基板と、該第1基板と第2基板との間に形
成されたリブ隔壁と、該第1基板と、該第2基板と、該
リブ隔壁によって包囲された空間にイオン化可能なガス
を有し、 該第1基板および該第2基板のそれぞれ対向する面は、
第1電極および第2電極を有し、 該第1電極はプラズマ発光チャネルの全面に形成された
透明電極であって、該プラズマ発光チャネルから発生し
た光は、該第1基板および該第1電極を透過して出射さ
れる、光アドレス装置。
1. A plasma emission channel having a plurality of plasma emission channels, wherein the plasma emission channel is formed between a first substrate, a second substrate facing the first substrate, and the first substrate and the second substrate. And a space surrounded by the rib partition, the first substrate, the second substrate, and the rib partition having an ionizable gas, and the opposing surfaces of the first substrate and the second substrate are respectively ,
A first electrode and a second electrode, wherein the first electrode is a transparent electrode formed on the entire surface of the plasma emission channel, and the light generated from the plasma emission channel emits light from the first substrate and the first electrode. An optical addressing device that is transmitted through and emitted.
【請求項2】 前記第1電極は、前記複数のプラズマ発
光チャネルに共通の単一の電極である請求項1に記載の
光アドレス装置。
2. The optical addressing device according to claim 1, wherein the first electrode is a single electrode common to the plurality of plasma emission channels.
【請求項3】 前記第1電極は、前記複数のプラズマ発
光チャネルごとに形成されたストライプ状の電極である
請求項1に記載の光アドレス装置。
3. The optical addressing device according to claim 1, wherein the first electrode is a stripe-shaped electrode formed for each of the plurality of plasma emission channels.
【請求項4】 前記第1電極に接続された金属電極を更
に有する請求項1から3のいずれかに記載の光アドレス
装置。
4. The optical addressing device according to claim 1, further comprising a metal electrode connected to said first electrode.
【請求項5】 前記金属電極の少なくとも一部は、前記
第1基板に垂直な方向から見たときに前記リブ隔壁と重
なる位置に形成されている請求項4に記載の光アドレス
装置。
5. The optical addressing device according to claim 4, wherein at least a part of the metal electrode is formed at a position overlapping the rib partition when viewed from a direction perpendicular to the first substrate.
【請求項6】 複数のプラズマ発光チャネルを有し、 該プラズマ発光チャネルは、第1基板と、該第1基板に
対向する第2基板と、該第1基板と第2基板との間に形
成されたリブ隔壁と、該第1基板と、該第2基板と、該
リブ隔壁によって包囲された空間にイオン化可能なガス
を有し、 該第1基板および該第2基板のそれぞれ対向する面は、
第1電極および第2電極を有し、 該第1電極および該第2電極は互いに平行なストライプ
状の電極であって、該第1電極の少なくとも一部は、該
第1基板に垂直な方向から見たときに該リブ隔壁と重な
る位置に形成されている、光アドレス装置。
6. A plasma emission channel having a plurality of plasma emission channels, wherein the plasma emission channel is formed between a first substrate, a second substrate facing the first substrate, and the first substrate and the second substrate. And a space surrounded by the rib partition, the first substrate, the second substrate, and the rib partition having an ionizable gas, and the opposing surfaces of the first substrate and the second substrate are respectively ,
A first electrode and a second electrode, wherein the first electrode and the second electrode are stripe-shaped electrodes parallel to each other, and at least a part of the first electrode is in a direction perpendicular to the first substrate. An optical addressing device formed at a position overlapping the rib partition wall when viewed from above.
【請求項7】 第3基板と、第4基板と、該第3基板と
該第4基板との間に挟持された液晶層と、 該第3基板の該液晶層側に設けられた電極層と、 該第4基板の該液晶層側に設けられたマトリクス状に配
置された複数の画素電極と、 該複数の画素電極と光導電層を介して電気的に接続され
た互いに平行なストライプ状の複数の信号電極と、 該第4基板の外側に設けられ、該光導電層の少なくとも
一部に光を照射する、請求項1から6のいずれかに記載
の光アドレス装置と、を有し、 該光アドレス装置からの光をスイッチングすることによ
って該光導電層の電気伝導度を変化させ、該画素電極と
該信号電極との電気的接続をスイッチングし、そのこと
によって、該液晶層を光アドレスする液晶表示装置。
7. A third substrate, a fourth substrate, a liquid crystal layer sandwiched between the third substrate and the fourth substrate, and an electrode layer provided on the liquid crystal layer side of the third substrate. A plurality of pixel electrodes arranged in a matrix provided on the liquid crystal layer side of the fourth substrate; and a plurality of parallel stripes electrically connected to the plurality of pixel electrodes via a photoconductive layer. A plurality of signal electrodes, and the light addressing device according to any one of claims 1 to 6, which is provided outside the fourth substrate and irradiates at least a part of the photoconductive layer with light. Changing the electrical conductivity of the photoconductive layer by switching light from the photo-addressing device, and switching the electrical connection between the pixel electrode and the signal electrode, thereby causing the liquid crystal layer to emit light. Liquid crystal display device to address.
【請求項8】 前記光アドレス装置は、前記第1電極に
接続された金属電極を更に有し、 前記第3基板または前記第4基板は、ブラックマトリク
スをさらに有し、 該金属電極の少なくとも一部は、前記第1基板に垂直な
方向から見たときに、該ブラックマトリクスと重なる位
置および/または表示領域外に形成されている、請求項
7に記載の液晶表示装置。
8. The optical address device further includes a metal electrode connected to the first electrode, the third substrate or the fourth substrate further includes a black matrix, and at least one of the metal electrodes The liquid crystal display device according to claim 7, wherein the portion is formed at a position overlapping with the black matrix and / or outside a display area when viewed from a direction perpendicular to the first substrate.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020085238A (en) * 2001-05-07 2002-11-16 주식회사 현대 디스플레이 테크놀로지 Back light unit for liquid crystal display device

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