JPH11281798A - Electron beam irradiator - Google Patents

Electron beam irradiator

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JPH11281798A
JPH11281798A JP10085786A JP8578698A JPH11281798A JP H11281798 A JPH11281798 A JP H11281798A JP 10085786 A JP10085786 A JP 10085786A JP 8578698 A JP8578698 A JP 8578698A JP H11281798 A JPH11281798 A JP H11281798A
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Japan
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electron beam
irradiation
irradiated
coil
sterilization
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Withdrawn
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JP10085786A
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Japanese (ja)
Inventor
Ikuo Wakamoto
郁夫 若元
Susumu Urano
晋 浦野
Toshiaki Katsura
敏明 桂
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electron beam irradiator that can evenly irradiate a target with an electron beam. SOLUTION: Near an irradiation target 2, a coil 212 is wound around a magnetic substance 211 and an electromagnetic device 21 formed by connecting a coil power source 213 to the coil 212 is placed to deflect the irradiating direction of an electron beam 4 to the target 2. Such a placement of the electromagnetic device 21 makes it possible to irradiate the target with the electron beam 4 evenly, so that effective sterilization and disinfection can be conducted.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、被照射物の滅菌や
殺菌処理に用いられる電子ビーム照射装置に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electron beam irradiation apparatus used for sterilizing or sterilizing an object to be irradiated.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、この種の電子ビーム照射装置とし
て、図8に示すように、移送装置1により所定位置に移
送される被照射物2に対し電子ビーム照射装置本体3を
配置し、この電子ビーム照射装置本体3より被照射物2
に電子ビーム4を照射することにより、被照射物2の素
性(組成、温度など)に応じて滅菌、殺菌、硬化などの
照射効果をもたらすようにしたものがある。
2. Description of the Related Art Conventionally, as an electron beam irradiation apparatus of this type, as shown in FIG. 8, an electron beam irradiation apparatus main body 3 is arranged on an object 2 to be transferred to a predetermined position by a transfer apparatus 1, and Irradiation object 2 from electron beam irradiation device body 3
Irradiation of an electron beam 4 to the irradiation target 2 produces an irradiation effect such as sterilization, sterilization, or curing depending on the identity (composition, temperature, etc.) of the irradiation target 2.

【0003】この場合、電子ビーム照射装置本体3は、
主に、真空排気装置5、この真空排気装置5により内部
が真空排気される真空容器6、熱電子を放出するカソー
ド7、電子ビーム4を引き出すためカソード7に対し相
対的に正の電位を印加するためのアノード8および電子
ビーム4を真空容器6中から大気部に取り出す際に電子
ビーム4を通過させる隔壁である取出窓9から構成して
いる。また、カソード7とアノード8の間には、カソー
ド電源10を接続し、カソード7と接地間にカソード7
側に負電位を印加する加速電源11を接続している。こ
の場合、カソード7は、碍子12により接地電位から電
気的に隔絶されており、アノード8は、真空容器6とと
もに、接地されている。
In this case, the electron beam irradiation device main body 3
Mainly, a vacuum exhaust device 5, a vacuum container 6 whose inside is evacuated by the vacuum exhaust device 5, a cathode 7 for emitting thermoelectrons, and a relatively positive potential applied to the cathode 7 to extract an electron beam 4 And an extraction window 9 which is a partition through which the electron beam 4 passes when the electron beam 4 is extracted from the vacuum vessel 6 to the atmosphere. A cathode power supply 10 is connected between the cathode 7 and the anode 8, and the cathode 7 is connected between the cathode 7 and the ground.
An acceleration power supply 11 for applying a negative potential is connected to the side. In this case, the cathode 7 is electrically isolated from the ground potential by the insulator 12, and the anode 8 is grounded together with the vacuum vessel 6.

【0004】このように構成した電子ビーム照射装置
は、カソード7と接地間に電圧を印加することで、カソ
ード7とアノード8の間に電位の勾配を発生させる。こ
の状態で、カソード7は、カソード電源10の接続に伴
うジュール発熱により加熱され、この時の温度に応じた
量の熱電子が放出され、この熱電子がアノード8による
引き出しを受けた後、加速電源11による加速電位勾配
により加速を受けて電子ビーム4となる。そして、この
電子ビーム4は、大気−真空の差圧に耐え、しかも、真
空気密を保持できる薄膜の取出窓9を介して大気中に取
出され、移送装置1により移送されてくる被照射物2へ
照射されることになる。
[0004] The electron beam irradiation apparatus thus configured generates a potential gradient between the cathode 7 and the anode 8 by applying a voltage between the cathode 7 and the ground. In this state, the cathode 7 is heated by Joule heat generated by the connection of the cathode power supply 10, and the amount of thermoelectrons corresponding to the temperature at this time is emitted. The electron beam 4 is obtained by being accelerated by the acceleration potential gradient by the power supply 11. The electron beam 4 is taken out into the atmosphere through a thin film take-out window 9 capable of withstanding the pressure difference between the atmosphere and vacuum and maintaining the vacuum tightness, and the irradiated object 2 transferred by the transfer device 1. Will be irradiated.

【0005】なお、この場合の電子ビーム4のエネルギ
ーは、加速電源11による加速電圧により決定される
が、このエネルギーは、電子ビーム4の浸透深さ(電子
ビーム4の浸透力)に対応する。このため、被照射物2
に照射される電子ビーム4のエネルギーを十分に高くし
ておけば、被照射物2の形状に影響されることなく、一
様な照射が行うことができる。しかし、電子ビーム4の
エネルギーを高めると、電子ビーム4の照射に伴い発生
するX線の遮断対策費用が効果になるため、目的に応じ
て極力低いエネルギーの電子ビーム4を用いることが望
ましい。例えば、フイルムなどの表面部の滅菌、殺菌を
行う際には、大気中に電子ビーム4を不具合なく取出し
できる程度の低いエネルギー(通常300keV)で十
分である。
[0005] The energy of the electron beam 4 in this case is determined by the accelerating voltage of the accelerating power supply 11, and this energy corresponds to the penetration depth of the electron beam 4 (the penetration force of the electron beam 4). Therefore, the irradiation target 2
If the energy of the electron beam 4 applied to the object 2 is sufficiently high, uniform irradiation can be performed without being affected by the shape of the object 2 to be irradiated. However, if the energy of the electron beam 4 is increased, the cost for blocking X-rays generated by the irradiation of the electron beam 4 becomes effective. Therefore, it is desirable to use the electron beam 4 having the lowest possible energy according to the purpose. For example, when sterilizing or disinfecting a surface portion of a film or the like, an energy (normally 300 keV) that is low enough to extract the electron beam 4 into the atmosphere without any trouble is sufficient.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところが、被照射物2
として、例えば、図9(a)に示す飲食品容器キャップ
13のように有底筒状のキャップ本体131の開口部の
内側周面にねじ部132を構成する溝部133を形成し
た形状のものに対し、低いエネルギーの電子ビーム4を
照射して滅菌、殺菌を行うことを考えると、キャップ本
体131の開口部を通ってキャップ本体131内部のネ
ジ部132より底面側の側壁面134に直接照射される
電子ビーム4の量は少い。キャップ本体131の底面1
35からの反射により照射される電子ビームが加わって
も、側壁面134が受ける電子ビーム4の量は少なく、
キャップ本体131内部を一様に照射することはできな
い。つまり、同図(b)に示すように電子ビーム4によ
り直接照射されるキャップ本体131内部の底面Aおよ
び側壁面Cに対し、電子ビーム4の反射により間接的に
照射される側壁面Bの電子ビーム照射量は著しく少なく
なり、この側壁面Bでの滅菌、殺菌効果が激減し、さら
には、ねじ部132を構成する溝部133中に至っては
電子ビーム4を照射することができず、滅菌、殺菌が行
われないという問題があった。
However, the irradiation target 2
For example, as in a food and beverage container cap 13 shown in FIG. 9A, a shape in which a groove 133 forming the screw portion 132 is formed on the inner peripheral surface of the opening of the bottomed cylindrical cap body 131. On the other hand, when sterilization and sterilization are performed by irradiating the electron beam 4 with low energy, the side wall surface 134 on the bottom surface side is directly irradiated from the screw portion 132 inside the cap main body 131 through the opening of the cap main body 131. The amount of the electron beam 4 is small. Bottom 1 of cap body 131
Even when an electron beam irradiated by reflection from 35 is added, the amount of the electron beam 4 received by the side wall surface 134 is small,
The inside of the cap body 131 cannot be uniformly irradiated. That is, as shown in FIG. 2B, the bottom surface A and the side wall surface C of the inside of the cap body 131 directly irradiated by the electron beam 4 are irradiated with the electrons on the side wall surface B indirectly irradiated by the reflection of the electron beam 4. The irradiation amount of the beam is remarkably reduced, and the sterilization and sterilization effects on the side wall surface B are drastically reduced. Further, the electron beam 4 cannot be irradiated into the groove 133 constituting the screw portion 132. There was a problem that sterilization was not performed.

【0007】そこで、このような不都合を解消するた
め、 (1)溝部133を貫通するほどの高いエネルギーの電
子ビームを照射することが考えられるが、このようにす
ると、コスト、設置面積(一般には、高エネルギー化を
図るほど、占有面積が大きくなる。)などの点で問題が
ある。
Therefore, in order to solve such inconveniences, it is conceivable to (1) irradiate an electron beam with a high energy enough to penetrate the groove 133, but in this case, the cost and the installation area (generally, However, the higher the energy is, the larger the occupied area is.)

【0008】(2)溝部133中への電子ビームの照射
に、キャップ本体131内部で反射される電子ビーム4
を利用して対応することも考えられるが、反射により得
られる電子ビーム照射量は著しく少ないことから、十分
な滅菌、殺菌効果が得られず、このため、有意の照射効
果を得るには、処理時間がかかり処理コストが多大のも
のになってしまい、さらに、長時間に渡る電子ビームの
照射に伴う材料特性の劣化など、他の部位での照射損傷
を招くという問題がある。本発明は、上記事情に鑑みて
なされたもので、被照射物に対し一様に電子ビームを照
射することができる電子ビーム照射装置を提供すること
を目的とする。
(2) When the electron beam is irradiated into the groove 133, the electron beam 4 reflected inside the cap body 131
However, since the amount of electron beam irradiation obtained by reflection is remarkably small, sufficient sterilization and sterilization effects cannot be obtained. There is a problem that it takes time, the processing cost becomes enormous, and furthermore, irradiation damage to other parts is caused, such as deterioration of material properties due to irradiation of the electron beam for a long time. The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide an electron beam irradiation apparatus that can uniformly irradiate an irradiation target with an electron beam.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
被照射物に電子ビームを照射して滅菌、殺菌を行う電子
ビーム照射装置において、前記被照射物の近傍に前記電
子ビームの照射方向を偏向させる磁石装置を配置してい
る。
According to the first aspect of the present invention,
In an electron beam irradiation apparatus that sterilizes and sterilizes an object by irradiating the object with an electron beam, a magnet device that deflects the irradiation direction of the electron beam is arranged near the object to be irradiated.

【0010】請求項2記載の発明は、請求項1記載の発
明において、磁石装置は、電磁石からなっている。請求
項3記載の発明は、請求項1記載の発明において、磁石
装置は、永久磁石からなっている。請求項4記載の発明
は、請求項2または3記載の発明において、磁石装置
は、複数個の電磁石または永久磁石の磁束発生方向を異
らして配置している。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the invention, the magnet device comprises an electromagnet. According to a third aspect of the present invention, in the first aspect, the magnet device includes a permanent magnet. According to a fourth aspect of the present invention, in the second or third aspect, the magnet device is arranged such that a plurality of electromagnets or permanent magnets have different magnetic flux generation directions.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に従い説明する。 (第1の実施の形態)図1は、本発明が適用される電子
ビーム照射装置の概略構成を示すもので、図8と同一部
分には、同符号を付している。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. (First Embodiment) FIG. 1 shows a schematic configuration of an electron beam irradiation apparatus to which the present invention is applied, and the same parts as those in FIG. 8 are denoted by the same reference numerals.

【0012】この場合、被照射物2として、図2で述べ
たと同様な飲食品容器のキャップ13の例を示してい
る。そして、このような飲食品容器キャップ13を搬送
する非磁性体の移送装置1の電子ビーム照射装置本体3
に対応する位置に電子ビーム軌道偏向用の電磁石装置2
1を設けている。
In this case, an example of a cap 13 of a food and drink container similar to that described with reference to FIG. Then, the electron beam irradiation device main body 3 of the non-magnetic material transfer device 1 for transporting such a food and beverage container cap 13
Electromagnetic device 2 for electron beam orbit deflection at a position corresponding to
1 is provided.

【0013】この電磁石装置21は、U字状の磁性体2
11にコイル212を巻装し、このコイル212にコイ
ル電源213を接続したもので、コイル電源213によ
りコイル212を通電することにより、U字状の磁性体
211より外部磁束22を発生し、この外部磁束22を
移送装置1上の飲食品容器キャップ13に透過させるよ
うにしている。
The electromagnet device 21 has a U-shaped magnetic body 2.
11, a coil power supply 213 is connected to the coil 212. When the coil 212 is energized by the coil power supply 213, an external magnetic flux 22 is generated from the U-shaped magnetic body 211. The external magnetic flux 22 is transmitted through the food and beverage container cap 13 on the transfer device 1.

【0014】次に、このように構成した実施の形態の動
作を説明する。まず、飲食品容器キャップ13を移送装
置1上に載置し、所定方向に移送する。そして、この移
送によりキャップ13が電子ビーム照射装置本体3に対
応する所定位置に達すると、電子ビーム照射装置本体3
よりキャップ13に向けて電子ビーム4を照射する。
Next, the operation of the embodiment configured as described above will be described. First, the food and beverage container cap 13 is placed on the transfer device 1 and transferred in a predetermined direction. When the cap 13 reaches a predetermined position corresponding to the electron beam irradiation device main body 3 by this transfer, the electron beam irradiation device main body 3
The electron beam 4 is irradiated toward the cap 13.

【0015】この場合、最初、コイル電源213による
コイル212の通電を行わず、磁性体211より外部磁
束22を発生させない状態で、キャップ13に電子ビー
ム4を照射する。すると、電子ビーム4は、キャップ本
体131の開口部を通ってキャップ本体131内の側壁
面や底面に直接照射されるとともに、底面で一部反射し
て側壁面に間接的に照射され、キャップ本体131内部
の滅菌、殺菌を行う。
In this case, the cap 13 is irradiated with the electron beam 4 in a state where the coil 212 is not energized by the coil power supply 213 and the magnetic material 211 does not generate the external magnetic flux 22. Then, the electron beam 4 passes through the opening of the cap body 131 and is directly applied to the side wall surface and the bottom surface in the cap body 131, and is partially reflected on the bottom surface and indirectly applied to the side wall surface. Sterilization and sterilization of 131 are performed.

【0016】次に、コイル電源213によりコイル21
2を通電し、磁性体211より外部磁束22を発生し
て、キャップ13に透過させる。すると、電子ビーム照
射装置本体3より発生される電子ビーム4は、外部磁束
22による磁界内で電子線の運動量(エネルギーに依
存)に比例し、且つ磁界強度に反比例して定まる曲率半
径(ラーモア半径)によりその軌道に偏向を生じる。
Next, the coil 21 is controlled by the coil power supply 213.
2, an external magnetic flux 22 is generated from the magnetic body 211 and transmitted through the cap 13. Then, the electron beam 4 generated by the electron beam irradiation device main body 3 has a radius of curvature (Larmor radius) determined in proportion to the momentum (depending on energy) of the electron beam in the magnetic field generated by the external magnetic flux 22 and inversely proportional to the magnetic field strength. ) Causes a deflection in its trajectory.

【0017】これにより、例えば、図2に示すように紙
面に直交する方向の外部磁束22により、電子ビーム4
は、左方向に偏向され、キャップ本体131内の側壁面
を直接照射できるようになる。この場合、図3に示すよ
うに、キャップ本体131側壁面を直接照射する電子ビ
ーム4は、外部磁束22が存在しない場合は、ビーム照
射が難しかったねじ部132を構成する溝部133中へ
も直接照射できるようになるので、従来、処理の死角と
なっていた部分でも効果的な滅菌、殺菌を行うことがで
きる。また、コイル電源213によるコイル212の通
電方向の反転により外部磁束22による電子ビーム4の
偏向方向を、図3に示すように実線方向と破線方向に交
互に切り換えることができるので、キャップ本体131
内の側壁面に対し広い範囲で電子ビーム4を直接照射す
ることができる。また、電磁石装置21を用いることに
より、コイル電源213よりコイル212への供給電流
を制御することで、電子ビーム4の偏向の大きさを任意
に得られるので、キャップ本体131内の側壁面の状態
に応じて電子ビーム4の照射角度を最適なものに設定で
きる。
As a result, for example, as shown in FIG. 2, the electron beam 4 is
Is deflected to the left so that the side wall surface in the cap body 131 can be directly irradiated. In this case, as shown in FIG. 3, the electron beam 4 directly irradiating the side wall surface of the cap body 131 also directly enters the groove 133 constituting the screw portion 132 where beam irradiation was difficult in the absence of the external magnetic flux 22. Since irradiation can be performed, effective sterilization and sterilization can be performed even in a portion which has been hitherto a blind spot in processing. Further, the direction in which the electron beam 4 is deflected by the external magnetic flux 22 can be alternately switched between the solid line direction and the broken line direction as shown in FIG.
The electron beam 4 can be directly applied to the inner side wall surface in a wide range. Further, by using the electromagnet device 21, by controlling the current supplied from the coil power supply 213 to the coil 212, the magnitude of the deflection of the electron beam 4 can be arbitrarily obtained. The irradiation angle of the electron beam 4 can be set to an optimum value according to the conditions.

【0018】なお、キャップ本体131内部において、
さらに広範囲にわたって電子ビーム4を直接照射するに
は、図4に示すように、複数個の電磁石装置21を用意
し、これら電磁石装置21の外部磁束22の発生方向を
一部または全部異らして配置するようにすれば、これら
電磁石装置21より発生される外部磁束22による電子
ビーム4の偏向方向を多方向に設定できるので、キャッ
プ本体131内部全体に多方向から電子ビーム4を照射
することができるようになり、さらに効果的な滅菌、殺
菌を行うことができる。
Incidentally, inside the cap body 131,
In order to directly irradiate the electron beam 4 over a wider range, as shown in FIG. 4, a plurality of electromagnet devices 21 are prepared, and the generation directions of the external magnetic flux 22 of these electromagnet devices 21 are partially or entirely different. By doing so, the deflection direction of the electron beam 4 by the external magnetic flux 22 generated by the electromagnet device 21 can be set in multiple directions, so that the entire inside of the cap body 131 can be irradiated with the electron beam 4 from multiple directions. As a result, more effective sterilization and sterilization can be performed.

【0019】また、コイル電源213によるコイル21
2の通電を、キャップ13を搬送する際の搬送速度など
を考慮した周波数および波形を持つ交流電源とすること
により、交番磁界を発生させることで、電子ビーム4の
照射を低いエネルギーにより対応することもできる。 (第2の実施の形態)図5は、本発明の第2の実施の形
態の概略構成を示すもので、図1と同一部分には、同符
号を付している。
Further, the coil 21 by the coil power supply 213
(2) The alternating current power supply having a frequency and a waveform in consideration of the transport speed when transporting the cap 13 is used to generate an alternating magnetic field, so that the irradiation of the electron beam 4 can be performed with lower energy. Can also. (Second Embodiment) FIG. 5 shows a schematic configuration of a second embodiment of the present invention, and the same parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals.

【0020】この場合、被照射物2として、開口部31
1が狭まった瓶のような容器31の例を示している。そ
して、このような容器31を搬送する移送装置(図示せ
ず)の電子ビーム照射装置本体3に対応する位置に電子
ビーム軌道偏向用の電磁石装置32を設けている。
In this case, the object 31 to be irradiated 2
1 shows an example of a container 31 such as a bottle with a narrowed one. An electromagnet device 32 for deflecting the electron beam orbit is provided at a position corresponding to the electron beam irradiation device main body 3 of a transfer device (not shown) for transporting such a container 31.

【0021】この電磁石装置32は、容器31の開口部
311を除く周囲を囲むように設けた磁性体321、こ
の磁性体321に巻装されたコイル322およびコイル
電源323からなるもので、コイル電源323によりコ
イル322を通電することにより、磁性体321より外
部磁束324を発生し、この外部磁束33を容器31に
透過させるようにしている。
The electromagnet device 32 comprises a magnetic body 321 provided to surround the container 31 except for the opening 311, a coil 322 wound around the magnetic body 321, and a coil power supply 323. When the coil 322 is energized by 323, an external magnetic flux 324 is generated from the magnetic body 321, and the external magnetic flux 33 is transmitted through the container 31.

【0022】次に、このように構成した実施の形態の動
作を説明する。まず、容器31を移送装置上に載置し、
所定方向に移送する。そして、この移送により容器31
が電子ビーム照射装置本体3に対応する所定位置に達す
ると、電子ビーム照射装置本体3より容器31に向けて
電子ビーム4を照射する。
Next, the operation of the embodiment configured as described above will be described. First, the container 31 is placed on the transfer device,
Transfer in a predetermined direction. And, by this transfer, the container 31
Reaches a predetermined position corresponding to the electron beam irradiation device main body 3, the electron beam 4 is irradiated from the electron beam irradiation device main body 3 toward the container 31.

【0023】この場合、最初、コイル電源323による
コイル322の通電を行わず、磁性体321より外部磁
束33を発生させない状態で、容器31に電子ビーム4
を照射する。すると、電子ビーム4は、容器31の開口
部311を通って容器31内の底面に直接照射されると
ともに、底面で一部反射して側壁面に間接的に照射さ
れ、容器31内部の滅菌、殺菌を行う。
In this case, first, the coil 322 is not energized by the coil power supply 323, and the electron beam 4 is applied to the container 31 in a state where the external magnetic flux 33 is not generated from the magnetic body 321.
Is irradiated. Then, the electron beam 4 is directly irradiated to the bottom surface in the container 31 through the opening 311 of the container 31, and is partially reflected on the bottom surface and indirectly irradiated to the side wall surface, thereby sterilizing the inside of the container 31. Perform sterilization.

【0024】次に、コイル電源323によりコイル32
2を通電し、磁性体321より外部磁束33を発生し
て、容器31に透過させる。これにより、図6に示すよ
うに紙面に直交する方向の外部磁束33により電子ビー
ム4は偏向され、容器31内の側壁面を直接照射できる
ようになる。この場合、外部磁束324により偏向され
る電子ビーム4は、外部磁束33が存在しない場合は、
ビーム照射が難しかった開口部311側壁面や開口部3
11のくびれ部311aなどにも直接照射できるように
なるので、従来、処理の死角となっていた部分でも効果
的な滅菌、殺菌を行うことができる。
Next, the coil 32 is supplied by the coil power supply 323.
2, an external magnetic flux 33 is generated from the magnetic body 321 and is transmitted through the container 31. As a result, as shown in FIG. 6, the electron beam 4 is deflected by the external magnetic flux 33 in a direction perpendicular to the plane of the paper, so that the side wall surface in the container 31 can be directly irradiated. In this case, the electron beam 4 deflected by the external magnetic flux 324, when no external magnetic flux 33 exists,
Opening 311 side wall surface and opening 3 where beam irradiation was difficult
Since it is also possible to directly irradiate the constricted portion 311a of the eleventh part, effective sterilization and sterilization can be performed even in a part which has hitherto been a blind spot of processing.

【0025】なお、この場合も、コイル電源323によ
るコイル322の通電を、容器31を搬送する際の搬送
速度などを考慮した周波数および波形を持つ交流電源と
することにより、交番磁界を発生させることで、電子ビ
ーム4の照射を低いエネルギーにより対応することがで
きる。 (第3の実施の形態)図7は、本発明の第3の実施の形
態の概略構成を示すものである。
Also in this case, an alternating magnetic field can be generated by energizing the coil 322 by the coil power supply 323 by using an AC power supply having a frequency and a waveform in consideration of the transfer speed when the container 31 is transferred. Thus, the irradiation of the electron beam 4 can be handled with low energy. (Third Embodiment) FIG. 7 shows a schematic configuration of a third embodiment of the present invention.

【0026】この場合、電子ビーム軌道偏向用の磁石装
置として、複数個の永久磁石41を用意し、これら永久
磁石41の外部磁束42の発生方向を一部または全部異
らして配置するようしている。
In this case, a plurality of permanent magnets 41 are prepared as a magnet device for deflecting the electron beam orbit, and the generation directions of the external magnetic flux 42 of these permanent magnets 41 are partially or entirely changed. I have.

【0027】このようにしても、これら永久磁石41よ
り発生される外部磁束42による電子ビーム4の偏向方
向を多方向に設定できるので、被照射物43の内部全体
に一様に電子ビーム4を照射することができるようにな
り、効果的な滅菌、殺菌を期待することができる。ま
た、永久磁石41を用いることにより、低コストにて装
置構成を得られる。
Also in this case, since the deflection direction of the electron beam 4 by the external magnetic flux 42 generated by the permanent magnet 41 can be set in multiple directions, the electron beam 4 is uniformly applied to the entire inside of the irradiation target 43. Irradiation can be performed, and effective sterilization and sterilization can be expected. Further, by using the permanent magnet 41, the device configuration can be obtained at low cost.

【0028】[0028]

【発明の効果】請求項1記載の発明によれば、被照射物
の近傍に電子ビームの照射方向を偏向させる磁石装置を
配置することにより、被照射物に対し一様に電子ビーム
を照射することができ、効果的な滅菌、殺菌を行うこと
ができる。
According to the first aspect of the present invention, by arranging the magnet device for deflecting the irradiation direction of the electron beam near the object to be irradiated, the object to be irradiated is uniformly irradiated with the electron beam. And effective sterilization and sterilization can be performed.

【0029】請求項2記載の発明によれば、磁石装置と
して電磁石を用いることにより、電子ビームの偏向の大
きさを任意に得られるので、ビーム照射面の状態に応じ
て電子ビームの照射角度を最適なものに設定できる。
According to the second aspect of the present invention, the magnitude of the deflection of the electron beam can be arbitrarily obtained by using an electromagnet as the magnet device, so that the irradiation angle of the electron beam can be adjusted according to the state of the beam irradiation surface. Can be set to the optimal one.

【0030】請求項3記載の発明によれば、磁石装置と
して永久磁石を用いることにより、電子ビームの偏向の
大きさを安定して得られる。請求項4記載の発明によれ
ば、複数個の電磁石または永久磁石の磁束発生方向を異
らして配置することにより、電子ビームの偏向方向を多
方向に設定できるので、被照射物に対し多方面から電子
ビームを照射することができ、効果的な滅菌、殺菌を行
うことができる。
According to the third aspect of the present invention, by using a permanent magnet as the magnet device, the magnitude of deflection of the electron beam can be stably obtained. According to the fourth aspect of the present invention, by arranging a plurality of electromagnets or permanent magnets with different directions of magnetic flux generation, the deflection direction of the electron beam can be set in multiple directions. Irradiates an electron beam, and effective sterilization and sterilization can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態の概略構成を示す
図。
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a first embodiment of the present invention.

【図2】第1の実施の形態を説明するための図。FIG. 2 is a diagram for explaining the first embodiment.

【図3】第1の実施の形態を説明するための図。FIG. 3 is a diagram for explaining the first embodiment.

【図4】第1の実施の形態に用いられる電磁石装置の一
例の概略構成を示す図。
FIG. 4 is a diagram showing a schematic configuration of an example of an electromagnet device used in the first embodiment.

【図5】本発明の第2の実施の形態の概略構成を示す
図。
FIG. 5 is a diagram showing a schematic configuration of a second embodiment of the present invention.

【図6】第2の実施の形態の動作を説明するための図。FIG. 6 is a diagram for explaining the operation of the second embodiment.

【図7】本発明の第3の実施の形態に用いられる磁石装
置の概略構成を示す図。
FIG. 7 is a diagram showing a schematic configuration of a magnet device used in a third embodiment of the present invention.

【図8】従来の電子ビーム照射装置の一例の概略構成を
示す図。
FIG. 8 is a diagram showing a schematic configuration of an example of a conventional electron beam irradiation apparatus.

【図9】従来の電子ビーム照射装置を説明するための
図。
FIG. 9 is a view for explaining a conventional electron beam irradiation apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…移送装置、 2…被照射物、 3…電子ビーム照射装置本体、 4…電子ビーム、 5…真空排気装置、 6…真空容器、 7…カソード、 8…アノード、 9…取出窓、 10…カソード電源、 11…加速電源、 12…碍子、 13…飲食品容器キャップ、 131…キャップ本体、 132…ねじ部、 133…溝部、 21…電磁石装置、 211…磁性体、 212…コイル、 213…コイル電源、 22…外部磁束、 31…容器、 311…開口部、 311a…くびれ部、 32…電磁石装置、 321…磁性体、 322…コイル、 323…コイル電源、 41…永久磁石、 42…外部磁束。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Transfer device, 2 ... Irradiation object, 3 ... Electron beam irradiation device main body, 4 ... Electron beam, 5 ... Vacuum exhaust device, 6 ... Vacuum container, 7 ... Cathode, 8 ... Anode, 9 ... Extraction window, 10 ... Cathode power supply 11 Acceleration power supply 12 Insulator 13 Food and beverage container cap 131 Food cap body 132 Screw part 133 Electromagnetic device 21 Electromagnet device 211 Magnetic material 212 Coil 213 Coil Power supply, 22: external magnetic flux, 31: container, 311: opening, 311a: constricted part, 32: electromagnet device, 321: magnetic material, 322: coil, 323: coil power supply, 41: permanent magnet, 42: external magnetic flux.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被照射物に電子ビームを照射して滅菌、
殺菌を行う電子ビーム照射装置において、 前記被照射物の近傍に前記電子ビームの照射方向を偏向
させる磁石装置を配置したことを特徴とする電子ビーム
照射装置。
An object to be irradiated is irradiated with an electron beam and sterilized.
An electron beam irradiation apparatus for sterilizing, wherein a magnet device for deflecting the irradiation direction of the electron beam is disposed near the object to be irradiated.
【請求項2】 磁石装置は、電磁石であることを特徴と
する請求項1記載の電子ビーム照射装置。
2. The electron beam irradiation apparatus according to claim 1, wherein the magnet device is an electromagnet.
【請求項3】 磁石装置は、永久磁石であることを特徴
とする請求項1記載の電子ビーム照射装置。
3. The electron beam irradiation device according to claim 1, wherein the magnet device is a permanent magnet.
【請求項4】 磁石装置は、複数個の電磁石または永久
磁石の磁束発生方向を異らして配置したことを特徴とす
る請求項2または3記載の電子ビーム照射装置。
4. The electron beam irradiation apparatus according to claim 2, wherein the magnet device is arranged such that a plurality of electromagnets or permanent magnets generate magnetic fluxes in different directions.
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