JPH11264952A - Optical scanning device - Google Patents

Optical scanning device

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JPH11264952A
JPH11264952A JP10085006A JP8500698A JPH11264952A JP H11264952 A JPH11264952 A JP H11264952A JP 10085006 A JP10085006 A JP 10085006A JP 8500698 A JP8500698 A JP 8500698A JP H11264952 A JPH11264952 A JP H11264952A
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JP
Japan
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light beam
optical
scanning direction
facet
deflecting surface
Prior art date
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Pending
Application number
JP10085006A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshinori Ando
利典 安藤
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Publication of JPH11264952A publication Critical patent/JPH11264952A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an optical scanning device which forms a spot shape meeting print conditions on a scanned surface and also changes the spot shape even when the same optical deflector is used. SOLUTION: The optical scanning device which optically scans a surface 5 by guiding the luminous flux emitted by a light source means 1a to the optical deflector 3 after shaping it into nearly parallel luminous flux in horizontal scan section by a 1st optical system 1b and guiding the luminous flux reflected and deflected by the optical deflector 3 to the surface 5 by a 2nd optical system 4 is characterized by that the luminous flux width of the luminous flux generated by the 1st optical system 1b is set wider than the width of the deflection surface of the optical deflector 3 and the reflection factor of the deflecting surface of the optical deflector 3 is set uneven on the deflection surface.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は光走査装置に関し、
特に光源手段から光変調され射出した光束を回転多面鏡
より成る光偏向器で反射偏向させた後、fθ特性を有す
る走査光学手段を介して被走査面上を光走査して画像情
報を記録するようにした、例えば電子写真プロセスを有
するレーザービームプリンタやデジタル複写機等の装置
に好適な光走査装置に関するものである。
The present invention relates to an optical scanning device,
In particular, after the light beam modulated and emitted from the light source means is reflected and deflected by an optical deflector comprising a rotating polygon mirror, optical scanning is performed on the surface to be scanned through scanning optical means having fθ characteristics to record image information. The present invention relates to an optical scanning device suitable for an apparatus such as a laser beam printer or a digital copying machine having an electrophotographic process.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より光偏向器として回転多面鏡(以
下「ポリゴンミラー」とも称す。)を用いて、半導体レ
ーザー等の光源手段から光変調され射出した光束(光ビ
ーム)を反射偏向させ、感光性の記録媒体面上を光走査
して画像情報を記録する光走査装置が、例えばレーザー
ビームプリンタやデジタル複写機等のプリンター部に多
く利用されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a rotating polygon mirror (hereinafter also referred to as a "polygon mirror") has been used as an optical deflector to reflect and deflect a light beam (light beam) emitted from a light source means such as a semiconductor laser. 2. Description of the Related Art An optical scanning device that optically scans a photosensitive recording medium surface to record image information is widely used in a printer unit such as a laser beam printer or a digital copying machine.

【0003】このようにポリゴンミラーによって光束を
反射偏向させ被走査面(記録媒体面)上を光走査する場
合、大きく分けて以下に示す2つの走査方式に分類する
ことができる。
In the case where the light beam is reflected and deflected by the polygon mirror to optically scan the surface to be scanned (recording medium surface), it can be roughly classified into the following two scanning systems.

【0004】ポリゴンミラーの各偏向面(以下「ファ
セット」とも称す。)の副走査方向の幅よりも細い光束
を用いて走査を行う走査方式。
A scanning method in which scanning is performed using a light beam smaller than the width in the sub-scanning direction of each deflection surface (hereinafter also referred to as "facet") of a polygon mirror.

【0005】ファセットの主走査方向の幅よりも広い
光束をポリゴンミラーに入射させて走査を行う走査方
式。
A scanning method in which a light beam wider than the width of the facet in the main scanning direction is made incident on a polygon mirror to perform scanning.

【0006】の走査方式においてポリゴンミラーで反
射偏向される光束の径はポリゴンミラーに入射する光束
の径と略同一であり、またこの径は光源とポリゴンミラ
ーとの間に設けられた開口(アパーチャ)の形状で決定
される。
In the scanning method, the diameter of the light beam reflected and deflected by the polygon mirror is substantially the same as the diameter of the light beam incident on the polygon mirror, and this diameter is equal to the diameter of an aperture provided between the light source and the polygon mirror. ).

【0007】の走査方式においてポリゴンミラーで反
射偏向される光束の径はポリゴンミラーのファセットの
主走査方向の幅で制限され、また該ファセット外に照射
された光束はそのファセットの前後のファセットにより
走査とは無効な領域に反射偏向された後、遮光される。
In the scanning method, the diameter of the light beam reflected and deflected by the polygon mirror is limited by the width of the facet of the polygon mirror in the main scanning direction, and the light beam emitted outside the facet is scanned by facets before and after the facet. Is reflected and deflected to an invalid area, and then shielded from light.

【0008】図12は上記の走査方式においてポリゴ
ンミラーで反射偏向される光束の様子を示した説明図で
ある。
FIG. 12 is an explanatory diagram showing a state of a light beam reflected and deflected by a polygon mirror in the above-described scanning method.

【0009】同図において20は光源ユニット(不図
示)から後述するポリゴンミラー30に入射する入射光
束であり、wは該入射光束20の主走査方向の幅(径)
である。30はポリゴンミラーであり、正多角形の各辺
に当る部分が偏向面(鏡面)となっており、この偏向面
を上記の如くファセットと称す。31は現在、感光ドラ
ム(不図示)面上に光束を導くために使用中のファセッ
トであり、32はその前側、即ち既に走査を終えたファ
セットであり、33はその後ろ側、即ち次の走査を行う
ファセットである。21はファセット31によって反射
偏向された反射光束であり、ポリゴンミラー30が回転
中心Cの廻りを矢印R方向に回転することにより、矢印
S方向に偏向走査される。aは反射光束21の主走査方
向の幅(径)である。
In FIG. 1, reference numeral 20 denotes an incident light beam incident on a polygon mirror 30 to be described later from a light source unit (not shown), and w denotes the width (diameter) of the incident light beam 20 in the main scanning direction.
It is. Reference numeral 30 denotes a polygon mirror, and a portion corresponding to each side of the regular polygon is a deflection surface (mirror surface), and this deflection surface is referred to as a facet as described above. Reference numeral 31 denotes a facet currently being used to guide a light beam onto the surface of a photosensitive drum (not shown), reference numeral 32 denotes a front side thereof, that is, a facet which has already been scanned, and reference numeral 33 denotes a rear side thereof, that is, a next scanning facet. Facet. Reference numeral 21 denotes a reflected light beam reflected and deflected by the facet 31, and the polygon mirror 30 rotates in the direction of the arrow R around the rotation center C to be deflected and scanned in the direction of the arrow S. a is the width (diameter) of the reflected light beam 21 in the main scanning direction.

【0010】同図より明らかなように反射光束21の径
aはファセットの幅によって制限されており、光源ユニ
ット(不図示)からの入射光束20の幅wにはよらな
い。
As is apparent from FIG. 1, the diameter a of the reflected light beam 21 is limited by the width of the facet, and does not depend on the width w of the light beam 20 incident from a light source unit (not shown).

【0011】ここでポリゴンミラー30で反射偏向され
た反射光束21の幅aを入射光束20の幅wと同じとし
た場合、前述の及びの走査方式では、の走査方式
の方が各ファセットの大きさを数分の1まで小さくで
き、この為同一径のポリゴンミラーにおいては多数のフ
ァセットを有することができる。即ち、このことはポリ
ゴンミラーの1回転における光走査の数を増加させるこ
とであり、高速な走査が要求される、例えば高速プリン
タや高走査線密度プリンタに、より適した走査方式であ
ると言える。
When the width a of the reflected light flux 21 reflected and deflected by the polygon mirror 30 is set to be the same as the width w of the incident light flux 20, the above-mentioned scanning methods have larger facets than the above-mentioned scanning methods. Therefore, the polygon mirror having the same diameter can have many facets. That is, this means increasing the number of optical scans in one rotation of the polygon mirror, and it can be said that this is a scanning method more suitable for, for example, a high-speed printer or a high-scanning line density printer that requires high-speed scanning. .

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】しかしながらの走査
方式においては光束の形状がポリゴンミラー30のファ
セットによって決定される為、自由度が少ないという問
題点がある。即ち、ポリゴンミラー30で反射偏向され
る反射光束の形状は常に該ポリゴンミラー30のファセ
ット幅で両側をシャープに切断された形になる為、この
結果、矩形に近いビーム断面となり、例えばこの光束を
感光ドラム面上に結像させた場合、サイドローブの肥大
が生じる、あるいはスポット形状(スポット径)をプリ
ンタの特性に応じて変化させることができないという問
題点がある。
However, in the scanning method, since the shape of the light beam is determined by the facet of the polygon mirror 30, there is a problem that the degree of freedom is small. That is, the shape of the reflected light beam reflected and deflected by the polygon mirror 30 is always a shape in which both sides are sharply cut by the facet width of the polygon mirror 30. As a result, a beam cross section close to a rectangle is obtained. When the image is formed on the surface of the photosensitive drum, there is a problem that the side lobe is enlarged or the spot shape (spot diameter) cannot be changed according to the characteristics of the printer.

【0013】本発明は第1の光学系によって形成される
光束の光束幅を主走査断面内において光偏向器の偏向面
の幅より広くなるように形成し、かつ該偏向面の反射率
を該偏向面内の主走査方向で異なる分布となるように設
定することにより、被走査面上で印字条件に適応したス
ポット形状(スポット径)を形成することができ、また
該偏向面の主走査方向の反射率を該偏向面内の副走査方
向で異なる分布とし、かつ該偏向面に対する光束の入射
位置と該偏向面の位置とを副走査方向に相対的に可変と
なるように構成することにより、同一の光偏向器を用い
てもスポット形状を変化させることができる光走査装置
の提供を目的とする。
According to the present invention, the light beam width of the light beam formed by the first optical system is formed so as to be wider than the width of the deflecting surface of the optical deflector in the main scanning section, and the reflectance of the deflecting surface is set to be larger. By setting different distributions in the main scanning direction in the deflecting surface, a spot shape (spot diameter) suitable for printing conditions can be formed on the surface to be scanned, and the main scanning direction of the deflecting surface can be adjusted. Are different distributions in the sub-scanning direction within the deflecting surface, and the position of the light beam incident on the deflecting surface and the position of the deflecting surface are relatively variable in the sub-scanning direction. It is another object of the present invention to provide an optical scanning device capable of changing a spot shape even when the same optical deflector is used.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明の光走査装置は、
(1) 光源手段から射出された光束を第1の光学系により
主走査断面内において略平行光束にして光偏向器に導光
し、該光偏向器で反射偏向された光束を第2の光学系に
より被走査面上に導光し、該被走査面上を光走査する光
走査装置において、該第1の光学系によって形成される
光束の光束幅は主走査断面内において、該光偏向器の偏
向面の幅より広くなるように形成され、該光偏向器の偏
向面の反射率は該偏向面内で不均一となるように設定さ
れていることを特徴としている。
An optical scanning device according to the present invention comprises:
(1) The light beam emitted from the light source means is converted into a substantially parallel light beam in the main scanning section by the first optical system and is guided to the optical deflector, and the light beam reflected and deflected by the optical deflector is transmitted to the second optical system. In an optical scanning device for guiding light onto a surface to be scanned by a system and optically scanning over the surface to be scanned, the light beam width of the light beam formed by the first optical system has a light beam width within the main scanning cross section. And the reflectance of the deflecting surface of the optical deflector is set to be non-uniform within the deflecting surface.

【0015】特に(1-1) 前記偏向面の主走査方向の反射
率は、中心部より周辺部で低下するように設定されてい
ることや、(1-2) 前記偏向面の主走査方向の周辺部の反
射率は、中心部の反射率に対し60%以下となるように
設定されていることや、(1-3) 前記偏向面の主走査方向
の反射率は、該偏向面で反射偏向される光束の略中心に
強度極小値を持つように設定されていることや、(1-4)
前記偏向面の主走査方向の反射率を該偏向面内の副走査
方向で異なる分布となるように設定し、かつ該偏向面に
対する光束の入射位置と該偏向面の位置とが副走査方向
に相対的に可変となるように構成していることや、(1-
5) 前記偏向面の周辺部では反射部の領域が副走査方向
に変化していることや、(1-6) 前記偏向面の周辺部には
光吸収部が設けられており、該光吸収部の領域が副走査
方向に変化していることや、(1-7) 前記偏向面の陵部が
副走査方向に斜めに面取りされていること、等を特徴と
している。
In particular, (1-1) the reflectivity of the deflecting surface in the main scanning direction is set so as to be lower at the peripheral portion than at the central portion. Is set to be 60% or less of the reflectance of the central portion, and (1-3) the reflectance of the deflecting surface in the main scanning direction is That the intensity is set to have a local minimum at approximately the center of the reflected and deflected light beam, (1-4)
The reflectivity of the deflecting surface in the main scanning direction is set to have a different distribution in the sub-scanning direction in the deflecting surface, and the position of the light beam incident on the deflecting surface and the position of the deflecting surface are in the sub-scanning direction. It is configured to be relatively variable, (1-
5) In the peripheral portion of the deflecting surface, the region of the reflecting portion is changed in the sub-scanning direction, or (1-6) a light absorbing portion is provided in the peripheral portion of the deflecting surface, (1-7) The ridge of the deflecting surface is chamfered obliquely in the sub-scanning direction.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】(実施形態1)図1は本発明の実
施形態1の光学系の要部概略図、図2は図1に示した光
偏向器の複数の偏向面のうちの1つの偏向面の外観図で
ある。
(Embodiment 1) FIG. 1 is a schematic view of a main part of an optical system according to Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 2 is one of a plurality of deflecting surfaces of the optical deflector shown in FIG. It is an external view of one deflection | deviation surface.

【0017】同図において1aは光源手段であり、例え
ば半導体レーザーより成っている。1bは正の屈折力を
有する第1の光学系としてのコリメーターレンズであ
り、例えば光源手段1aから射出された光束(光ビー
ム)を略平行光束にしている。1cはアパーチャー(絞
り)であり、光束の外径を制限している。尚、半導体レ
ーザー1a、コリメーターレンズ1b、そしてアパーチ
ャ1cの等の各要素は光源ユニット1の一要素を構成し
ている。本実施形態ではこの光源ユニット1を射出した
光束の光束幅を主走査断面内において後述する光偏向器
3の偏向面3aの幅より広くなるように形成しており、
これにより回転のために光偏向器3の偏向面3aが所定
量移動しても、該偏向面3aが光束から外れないように
設定している。
In FIG. 1, reference numeral 1a denotes light source means, which is made of, for example, a semiconductor laser. Reference numeral 1b denotes a collimator lens as a first optical system having a positive refractive power, for example, converting a light beam (light beam) emitted from the light source 1a into a substantially parallel light beam. An aperture (aperture) 1c limits the outer diameter of the light beam. Each element such as the semiconductor laser 1a, the collimator lens 1b, and the aperture 1c constitutes one element of the light source unit 1. In the present embodiment, the light beam width of the light beam emitted from the light source unit 1 is formed to be wider than the width of a deflecting surface 3a of an optical deflector 3 described later in the main scanning section.
Thus, even if the deflecting surface 3a of the optical deflector 3 moves by a predetermined amount due to rotation, the deflecting surface 3a is set so as not to deviate from the light beam.

【0018】2はシリンドリカルレンズ(シリンダレン
ズ)であり、副走査断面内に所定の屈折力を有してお
り、アパーチャー1cを通過した光束を副走査断面内で
光偏向器3の偏向面3aにほぼ線像(主走査方向に長手
の線像)として結像させている。
Reference numeral 2 denotes a cylindrical lens (cylinder lens) which has a predetermined refracting power in the sub-scanning section, and applies a light beam passing through the aperture 1c to the deflection surface 3a of the optical deflector 3 in the sub-scanning section. The image is formed substantially as a line image (line image elongated in the main scanning direction).

【0019】3は光偏向器であり、多角柱の壁面が偏向
面(鏡面)より成る、例えばポリゴンミラー(回転多面
鏡)より成っており、ポリゴンモータ等の駆動手段(不
図示)により図中矢印A方向に一定速度で回転してい
る。本実施形態ではポリゴンミラー3のファセット(偏
向面)3aの反射率を該ファセット3a内で不均一とな
るように設定している。即ちファセット3aの主走査方
向の光源波長に対する反射率を中心部3a1より周辺部
3a2で低下するように設定しており、かつ該ファセッ
ト3aの主走査方向の周辺部3a2の反射率を中心部3
a1の反射率に対し60%以下となるように設定してい
る。
Reference numeral 3 denotes an optical deflector. The polygonal prism has a wall surface formed of a deflecting surface (mirror surface), for example, a polygon mirror (rotating polygon mirror), and is driven by driving means (not shown) such as a polygon motor in the figure. It is rotating at a constant speed in the direction of arrow A. In the present embodiment, the reflectance of the facet (deflecting surface) 3a of the polygon mirror 3 is set so as to be non-uniform within the facet 3a. That is, the reflectance of the facet 3a with respect to the light source wavelength in the main scanning direction is set to be lower at the peripheral portion 3a2 than at the central portion 3a1, and the reflectance of the peripheral portion 3a2 in the main scanning direction of the facet 3a is set at the central portion 3.
The reflectance is set to be 60% or less with respect to the reflectance of a1.

【0020】4は第2の光学系であり、プラスチック非
球面を用いたアナモフィックな単一のレンズ(走査レン
ズ)より成り、ポリゴンミラー3のファセット3aによ
って反射偏向された画像情報に基づく光束を被走査面と
しての感光ドラム面5上に結像させている。この走査レ
ンズ4は主走査面内において等角速度で偏向して入射す
る光束を感光ドラム面5上に等速で移動するスポットに
結像する、所謂fθ特性を有しており、副走査面内にお
いてはシリンドリカルレンズ2によって、この面内に集
光した光束、あるいはこの光束で照明される偏向面3a
と感光ドラム面5とを結像関係にする、所謂倒れ補正機
能を有している。
Reference numeral 4 denotes a second optical system, which comprises a single anamorphic lens (scanning lens) using a plastic aspheric surface and receives a light beam based on image information reflected and deflected by the facet 3a of the polygon mirror 3. An image is formed on the photosensitive drum surface 5 as a scanning surface. The scanning lens 4 has a so-called fθ characteristic in which a light beam deflected at a constant angular velocity in the main scanning plane and incident thereon is focused on a spot moving on the photosensitive drum surface 5 at a constant velocity. In the above, the light beam condensed in this plane by the cylindrical lens 2 or the deflection surface 3a illuminated by this light beam
A so-called tilt correction function that brings the image forming relationship between the image forming apparatus and the photosensitive drum surface 5.

【0021】本実施形態において半導体レーザー1aよ
り射出した光束はコリメーターレンズ1bにより略平行
光束とされ、アパーチャー1cによって光束の外径が制
限され、シリンドリカルレンズ2に入射する。シリンド
リカルレンズ2に入射した略平行光束のうち主走査断面
内においてはそのまま光の状態で射出する。また副走査
断面内においては収束してポリゴンミラー3のファセッ
ト3aにほぼ線像(主走査方向に長手の線像)として結
像している。そしてポリゴンミラー3のファセット3a
で反射偏向された光束は走査レンズ(fθレンズ)4を
介して感光ドラム面5上にスポット状に結像され、該ポ
リゴンミラー3を矢印A方向に回転させることによっ
て、該感光ドラム面5上を矢印B方向(主走査方向)に
光走査している。これにより記録媒体としての感光ドラ
ム面5上に画像記録を行なっている。
In the present embodiment, the light beam emitted from the semiconductor laser 1a is converted into a substantially parallel light beam by the collimator lens 1b, the outer diameter of the light beam is restricted by the aperture 1c, and the light beam enters the cylindrical lens 2. Of the substantially parallel light beam incident on the cylindrical lens 2, the light beam is emitted as it is in the main scanning section. Further, in the sub-scan section, the light converges and forms an almost linear image (a linear image elongated in the main scanning direction) on the facet 3a of the polygon mirror 3. And facet 3a of polygon mirror 3
The light beam reflected and deflected by the light beam is focused on the photosensitive drum surface 5 via a scanning lens (fθ lens) 4 to form a spot image. By rotating the polygon mirror 3 in the direction of arrow A, the light beam is reflected on the photosensitive drum surface 5. Is optically scanned in the direction of arrow B (main scanning direction). Thus, an image is recorded on the photosensitive drum surface 5 as a recording medium.

【0022】本実施形態においては図2に示すようにポ
リゴンミラー3のファセット3aの主走査方向の光源波
長に対する反射率を中心部(明部)3a1より周辺部
(暗部)3a2で低下するように設定している。即ち、
本実施形態ではポリゴンミラー3のファセット3aの反
射率が全面において一定ではなく、該ファセット3aの
主走査方向の中央部3a1で反射率が高く、周辺部3a
2で徐々に低くなるように設定している。この反射率の
変化は異なる物質の蒸着、膜厚の制御、遮光塗料の塗布
等で実現することができる。
In this embodiment, as shown in FIG. 2, the reflectivity of the facet 3a of the polygon mirror 3 with respect to the light source wavelength in the main scanning direction is reduced from the central portion (bright portion) 3a1 to the peripheral portion (dark portion) 3a2. You have set. That is,
In the present embodiment, the reflectance of the facet 3a of the polygon mirror 3 is not constant over the entire surface, and the reflectance is high at the central portion 3a1 in the main scanning direction of the facet 3a, and the peripheral portion 3a
2 is set so as to gradually decrease. This change in reflectance can be realized by depositing different substances, controlling the film thickness, applying a light-shielding paint, or the like.

【0023】図3はポリゴンミラー3のファセット3a
で反射偏向された反射光束の強度分布を示した説明図で
あり、縦軸は反射率、横軸は光束内部の主走査方向の位
置を示している。
FIG. 3 shows a facet 3a of the polygon mirror 3.
FIG. 4 is an explanatory diagram showing the intensity distribution of the reflected light beam reflected and deflected by, where the vertical axis represents the reflectance, and the horizontal axis represents the position in the main scanning direction inside the light beam.

【0024】同図において点線Aはファセット内で反射
率が一定な従来のポリゴンミラーを用いた場合の反射光
束の強度分布であり、実線B,Cが本実施形態を適用し
た場合の反射光束の強度分布である。
In FIG. 3, a dotted line A represents the intensity distribution of the reflected light beam when a conventional polygon mirror having a constant reflectance in the facet is used, and solid lines B and C represent the reflected light beam intensity when the present embodiment is applied. It is an intensity distribution.

【0025】図4(A),(B),(C)は各々図3で
示した強度分布を有する反射光束を同一の走査レンズに
より感光ドラム面上に各々結像させた場合の主走査方向
のスポット強度分布の断面を示した説明図である。
FIGS. 4A, 4B and 4C show the main scanning direction when the reflected light flux having the intensity distribution shown in FIG. 3 is formed on the photosensitive drum surface by the same scanning lens. FIG. 4 is an explanatory diagram showing a cross section of the spot intensity distribution of FIG.

【0026】同図(A)は図3における点線Aで示した
強度分布を有する反射光束によって形成されるスポット
を示しており、この場合、中央の極大、所謂メインロー
ブの両側に各々別の極値、所謂サイドローブが出現して
いる。このサイドローブの高さは光束内の主走査方向の
強度分布がほぼ一定の場合、スポットの最大強度に対し
約5%に達し、光走査系の適用対象によっては印字部に
隣接した非印字部、あるいは近接した印字ドットの中間
部で十分に露光が下がらずに、コントラストが低下し、
その結果、画質を著しく低下させることとなる。
FIG. 3A shows a spot formed by a reflected light beam having an intensity distribution indicated by a dotted line A in FIG. 3, and in this case, a central maximum, that is, another pole is provided on both sides of a so-called main lobe. The value, the so-called side lobe, has appeared. The height of this side lobe reaches about 5% of the maximum intensity of the spot when the intensity distribution in the light beam in the main scanning direction is almost constant. Depending on the application of the optical scanning system, the height of the side lobe is the non-printing portion adjacent to the printing portion. , Or in the middle part of the adjacent print dots, exposure does not fall sufficiently, the contrast decreases,
As a result, the image quality is significantly reduced.

【0027】これに対し本実施形態、例えば図3におけ
る実線Bにおいてはファセットの主走査方向の反射率を
中心部に対し周辺部で低下させ、かつ反射光束の主走査
方向の周辺強度を中央強度に対し約60%程度に落と
し、又、図3における実線Cの如く周辺強度をほぼ0と
するように構成しているため、スポットの強度分布はそ
れぞれ同図(B),(C)に示す如くになる。このとき
のサイドローブの高さは最大強度に対し3%以下とな
り、実用上サイドローブの影響はなくなる。
On the other hand, in the present embodiment, for example, in the solid line B in FIG. 3, the reflectivity of the facet in the main scanning direction is reduced at the peripheral portion with respect to the central portion, and the peripheral intensity of the reflected light beam in the main scanning direction is reduced at the central intensity. The intensity distribution of the spots is shown in FIGS. 3B and 3C, respectively, since the peripheral intensity is reduced to about 0 as shown by the solid line C in FIG. It looks like this. At this time, the height of the side lobe is 3% or less of the maximum intensity, and the effect of the side lobe is practically eliminated.

【0028】即ち、ファセットで反射偏向される反射光
束は主走査方向において周辺部がなだらかに減少する、
いわばガウス分布に近づく為、この反射光束が結像した
場合に生じるサイドローブを抑制することができる。
That is, the reflected light flux reflected and deflected by the facet gradually decreases in the peripheral portion in the main scanning direction.
Since it approaches a Gaussian distribution, it can suppress side lobes that occur when the reflected light flux forms an image.

【0029】このように本実施形態においては上述の如
くポリゴンミラー3のファセット3aの反射率を全面に
おいて一定ではなく、該ファセット3aの主走査方向の
中央部3a1で反射率が高く、周辺部3a2で徐々に低
くなるように設定することにより、実用上、サイドロー
ブの影響をなくすことができ、これにより被走査面上で
良好なるスポット形状を形成することができる。
As described above, in the present embodiment, the reflectance of the facet 3a of the polygon mirror 3 is not constant over the entire surface as described above, and the reflectance is high at the central portion 3a1 in the main scanning direction of the facet 3a, and the peripheral portion 3a2 , The influence of side lobes can be practically eliminated, and a good spot shape can be formed on the surface to be scanned.

【0030】(実施形態2)図5は本発明の実施形態2
におけるポリゴンミラーのファセットを示す説明図であ
る。
(Embodiment 2) FIG. 5 shows Embodiment 2 of the present invention.
FIG. 4 is an explanatory diagram showing facets of a polygon mirror in FIG.

【0031】本実施形態において前述の実施形態1と異
なる点はポリゴンミラーのファセットの主走査方向の光
源波長に対する反射率を、該ファセットで反射偏向され
る光束の略中心に強度極小値を持つように設定したこと
である。その他の構成及び光学的作用は実施形態1と略
同様であり、これにより同様な効果を得ている。
The present embodiment is different from the first embodiment in that the reflectivity of the facet of the polygon mirror with respect to the light source wavelength in the main scanning direction has a minimum intensity at the approximate center of the light beam reflected and deflected by the facet. It is set to. Other configurations and optical functions are substantially the same as those of the first embodiment, and thus, similar effects are obtained.

【0032】即ち、本実施形態ではポリゴンミラーのフ
ァセット53aの反射率が全面において一定ではなく、
該ファセット53aの主走査方向の光源波長に対する反
射率を周辺部(明部)53a2より中央部(暗部)53
a1で低くなるように設定している。
That is, in this embodiment, the reflectivity of the facet 53a of the polygon mirror is not constant over the entire surface.
The reflectance of the facet 53a with respect to the light source wavelength in the main scanning direction is changed from the peripheral portion (bright portion) 53a2 to the central portion (dark portion) 53a.
It is set to be lower at a1.

【0033】図6はこのファセットで反射偏向された反
射光束の強度分布を示した説明図であり、縦軸は反射
率、横軸は光束内部の主走査方向の位置を示している。
FIG. 6 is an explanatory diagram showing the intensity distribution of the reflected light beam reflected and deflected by the facet. The vertical axis shows the reflectance, and the horizontal axis shows the position inside the light beam in the main scanning direction.

【0034】図7は図6で示した強度分布を有する反射
光束を走査レンズにより感光ドラム面上に結像させた場
合の主走査方向のスポット強度分布の断面を示した説明
図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram showing a cross section of the spot intensity distribution in the main scanning direction when the reflected light having the intensity distribution shown in FIG. 6 is imaged on the photosensitive drum surface by the scanning lens.

【0035】本実施形態によればスポットのサイドロー
ブの高さは図7に示すように従来例(図4(A))に対
し増大するが、メインローブの直径は小さくなる。この
ようなスポット(超解像スポット)は、例えば一定量以
上の露光が生じた場合のみに印字が行われるような画像
形成法では解像力の向上に効果を生むことができる。
According to the present embodiment, as shown in FIG. 7, the height of the side lobe of the spot is larger than that of the conventional example (FIG. 4A), but the diameter of the main lobe is smaller. Such spots (super-resolution spots) can produce an effect in improving the resolving power in an image forming method in which printing is performed only when, for example, a predetermined amount or more of exposure has occurred.

【0036】(実施形態3)図8は本発明の実施形態3
におけるポリゴンミラーのファセットを示す説明図であ
る。
(Embodiment 3) FIG. 8 shows Embodiment 3 of the present invention.
FIG. 4 is an explanatory diagram showing facets of a polygon mirror in FIG.

【0037】本実施形態において前述の実施形態1と異
なる点はポリゴンミラーのファセットの主走査方向の光
源波長に対する反射率(反射率分布)を、該ファセット
内の副走査方向で異なる分布となるように設定し、かつ
該ファセットに対する光束の入射位置と該ファセット
(ポリゴンミラー)の位置とが副走査方向に相対的に可
変となるように構成したことである。その他の構成及び
光学的作用は実施形態1と略同様であり、これにより同
様な効果を得ている。
The present embodiment differs from the first embodiment in that the reflectance (reflectance distribution) of the facets of the polygon mirror with respect to the light source wavelength in the main scanning direction is different in the sub-scanning direction within the facets. And the incident position of the light beam with respect to the facet and the position of the facet (polygon mirror) are relatively variable in the sub-scanning direction. Other configurations and optical functions are substantially the same as those of the first embodiment, and thus, similar effects are obtained.

【0038】即ち、本実施形態では同図で示すようにポ
リゴンミラーのファセット83aの反射率が全面におい
て一定ではなく、該ファセット83aの主走査方向の光
源波長に対する反射率を周辺部(暗部)83a2より中
央部(明部)83a1で高くなるように設定し、かつ該
ファセット83aの上部から下部に向かって(副走査方
向に)周辺部83a2での反射部(低減部)83bの領
域が小さくなるように形成し、逆に下部から上部に向か
って周辺部83a2での反射部83bの領域が大きくな
るように形成し、かつ該ファセット83aに対する光束
の入射位置と該ファセット83aの位置とが副走査方向
に相対的に可変となるように構成している。
That is, in the present embodiment, as shown in the figure, the reflectance of the facet 83a of the polygon mirror is not constant over the entire surface, and the reflectance of the facet 83a with respect to the light source wavelength in the main scanning direction is changed to the peripheral portion (dark portion) 83a2. The central portion (bright portion) 83a1 is set to be higher, and the area of the reflective portion (reduced portion) 83b in the peripheral portion 83a2 is reduced from the upper portion to the lower portion (in the sub-scanning direction) of the facet 83a. On the contrary, the area of the reflection portion 83b in the peripheral portion 83a2 is increased from the lower portion to the upper portion, and the incident position of the light beam on the facet 83a and the position of the facet 83a are sub-scanned. It is configured to be relatively variable in the direction.

【0039】同図においてA、Bは各々このファセット
83aに入射する光束である。光束Aは同図に示すよう
にファセット83aの上部に入射し反射偏向されるた
め、反射光束の強度分布は端部での光量低下が光束Bに
比して大きくなる。光束Bはファセット83aの下部に
入射し反射偏向されるため、反射光束の強度分布は端部
での光量低下が光束Aに比して少ない。例えばこれら光
束A,Bが同一の走査レンズを介して感光ドラム面上に
結像した場合、図9に示す如く光束Aによるスポット径
は光束Bによるスポット径に対し肥大する。
In the figure, A and B are light beams incident on the facet 83a. Since the light beam A is incident on the upper part of the facet 83a and is reflected and deflected as shown in the figure, the intensity distribution of the reflected light beam has a greater decrease in the amount of light at the end compared to the light beam B. Since the light beam B is incident on the lower portion of the facet 83a and is reflected and deflected, the intensity distribution of the reflected light beam has a smaller decrease in the amount of light at the end compared to the light beam A. For example, when the light beams A and B form an image on the photosensitive drum surface via the same scanning lens, the spot diameter of the light beam A becomes larger than the spot diameter of the light beam B as shown in FIG.

【0040】従来の全面に一様な反射率を持ったファセ
ット、あるいは前述の実施形態1,2のようにスポット
径の大きさがファセットによってほぼ決定されるような
場合は、該スポット径の大きさを変化させることができ
ないが、本実施形態によるポリゴンミラーを用いて、該
ポリゴンミラーのファセット83aに対する光束の入射
位置と該ファセット83aの位置とが副走査方向に相対
的に可変となるように構成すれば、スポット径(スポッ
ト形状)の変更を行うことができる。
In the conventional facet having a uniform reflectance over the entire surface, or in the case where the size of the spot diameter is almost determined by the facet as in the first and second embodiments, the size of the spot diameter is large. However, the incident position of the light beam on the facet 83a of the polygon mirror and the position of the facet 83a are relatively variable in the sub-scanning direction using the polygon mirror according to the present embodiment. With this configuration, the spot diameter (spot shape) can be changed.

【0041】例えば解像度の切替え可能な印字装置に本
実施形態によるポリゴンミラーを適用する場合には、上
述の如くポリゴンミラーのファセット83aに対する光
束の入射位置と該ファセット83aの位置とを副走査方
向に相対的に可変となるように構成することにより、例
えば解像度が高い印字を得る場合には光束をファセッッ
ト83aの下部に入射させ、逆に解像度が低い印字を得
る場合には光束をファセットの上部に入射させるように
すれば、解像度に応じてスポット径の変更を実現するこ
とができる。
For example, when the polygon mirror according to the present embodiment is applied to a printer capable of switching the resolution, as described above, the incident position of the light beam on the facet 83a of the polygon mirror and the position of the facet 83a are set in the sub-scanning direction. By making it relatively variable, for example, when obtaining a high-resolution print, the light beam is made to enter the lower part of the facet 83a, and conversely, when obtaining a low-resolution print, the light beam is applied to the upper part of the facet. If the light is incident, the spot diameter can be changed according to the resolution.

【0042】(実施形態4)図10は本発明の実施形態
4におけるポリゴンミラーのファセットを示す説明図で
ある。
(Embodiment 4) FIG. 10 is an explanatory view showing facets of a polygon mirror according to Embodiment 4 of the present invention.

【0043】本実施形態において前述の実施形態3と異
なる点は前述の実施形態3では同一のポリゴンミラーを
用いたスポット形状(スポット径)の変更を、連続的に
変化する反射率分布を主走査方向及び副走査方向に設け
ることによって行なったが、本実施形態では不連続に変
化する反射率分布を用いている。その他の構成及び光学
的作用は実施形態3と略同様であり、これにより同様な
効果を得ている。
The difference between the third embodiment and the third embodiment is that in the third embodiment, the spot shape (spot diameter) using the same polygon mirror is changed, and the continuously changing reflectance distribution is scanned in the main scanning direction. In this embodiment, a reflectance distribution that changes discontinuously is used. Other configurations and optical functions are substantially the same as those of the third embodiment, and thus, similar effects are obtained.

【0044】即ち、同図において10bは周辺部(黒
部)10a2に設けた光吸収部であり、該ファセット1
0aの上部から下部に向かって(副走査方向に)領域1
0a2が小さくなるように形成している。この光吸収部
10bはファセット10a上に遮光塗料などで形成され
ている。A,Bは各々このファセット10aに入射する
光束である。光束Aは同図に示すようにファセット10
aの上部に入射し反射偏向されるため、その反射光束の
幅はWaとなり、光束Bはファセット10aの下部に入
射し反射偏向されるため、反射光束の幅はWbとなる。
That is, in the figure, reference numeral 10b denotes a light absorbing portion provided in the peripheral portion (black portion) 10a2,
0a from the upper part to the lower part (in the sub-scanning direction)
0a2 is formed to be small. The light absorbing portion 10b is formed on the facet 10a with a light-shielding paint or the like. A and B are light beams incident on the facet 10a. Light flux A is facet 10 as shown in FIG.
The light beam B enters the upper part of the facet 10a and is reflected and deflected, so that the width of the reflected light beam becomes Wa. The light beam B enters the lower part of the facet 10a and is reflected and deflected, and the width of the reflected light beam becomes Wb.

【0045】このファセット10aで反射偏向された反
射光束を同一の走査レンズを用いて感光ドラム面上に結
像させた場合、結像スポット(スポット径)の大きさは
反射光束の幅に反比例するため、光束Aによるスポット
径は光束Bによるスポット径に対して肥大する。ゆえに
本実施形態によるポリゴンミラーを例えば解像度の切り
替え可能な印字装置に適用するときには、ポリゴンミラ
ーのファセット10aに対する光束の入射位置と該ファ
セット10aの位置とを副走査方向に相対的に可変とな
るように構成することにより、前述の実施形態3と同様
にスポット径の変更を容易に行うことができる。
When the reflected light flux reflected and deflected by the facet 10a is imaged on the photosensitive drum surface using the same scanning lens, the size of the image spot (spot diameter) is inversely proportional to the width of the reflected light flux. Therefore, the spot diameter due to the light beam A becomes larger than the spot diameter due to the light beam B. Therefore, when the polygon mirror according to the present embodiment is applied to, for example, a printer capable of switching the resolution, the incident position of the light beam on the facet 10a of the polygon mirror and the position of the facet 10a are relatively variable in the sub-scanning direction. With this configuration, the spot diameter can be easily changed as in the third embodiment.

【0046】図11は本発明の実施形態5におけるポリ
ゴンミラーの要部概略図である。
FIG. 11 is a schematic view of a main part of a polygon mirror according to a fifth embodiment of the present invention.

【0047】本実施形態において前述の実施形態4と異
なる点は前述の実施形態4では反射光束の幅の変更をフ
ァセット上に形成した光吸収部で行ったが、本実施形態
ではこの部分を機械的に削除し、ここでの反射光束が走
査レンズに入射しないように構成したことである。その
他の構成及び光学的作用は実施形態4と略同様であり、
これにより同様な効果を得ている。
In this embodiment, the difference from the above-described fourth embodiment is that, in the above-described fourth embodiment, the width of the reflected light beam is changed by the light absorbing portion formed on the facet. The configuration is such that the reflected light beam does not enter the scanning lens. Other configurations and optical functions are substantially the same as those of the fourth embodiment.
Thereby, a similar effect is obtained.

【0048】即ち、本実施形態では同図に示すようにポ
リゴンミラー113の各ファセット113aの陵部11
3bを副走査方向に斜めに面取りして、該ファセット1
13aの形状を台形にすることにより、前述の実施形態
4と同様な効果を得ている。
That is, in the present embodiment, as shown in FIG.
3b is chamfered obliquely in the sub-scanning direction.
By making the shape of 13a a trapezoid, an effect similar to that of the fourth embodiment is obtained.

【0049】[0049]

【発明の効果】本発明によれば前述の如く第1の光学系
によって形成される光束の光束幅を主走査断面内におい
て光偏向器の偏向面の幅より広くなるように形成し、か
つ該偏向面の反射率を該偏向面内の主走査方向で異なる
分布となるように設定することにより、被走査面上で印
字条件に適応したスポット形状(スポット径)を形成す
ることができ、また該偏向面の主走査方向の反射率を該
偏向面内の副走査方向で異なる分布とし、かつ該偏向面
に対する光束の入射位置と該偏向面の位置とを副走査方
向に相対的に可変となるように構成することにより、同
一の光偏向器を用いてもスポット形状を変化させること
ができる光走査装置を達成することができる。
According to the present invention, as described above, the light beam width of the light beam formed by the first optical system is formed to be wider than the width of the deflecting surface of the optical deflector in the main scanning section. By setting the reflectivity of the deflecting surface so as to have a different distribution in the main scanning direction in the deflecting surface, a spot shape (spot diameter) suitable for printing conditions can be formed on the surface to be scanned. The reflectivity of the deflecting surface in the main scanning direction is differently distributed in the sub-scanning direction within the deflecting surface, and the position of the light beam incident on the deflecting surface and the position of the deflecting surface are relatively variable in the sub-scanning direction. With such a configuration, it is possible to achieve an optical scanning device that can change the spot shape even when the same optical deflector is used.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の実施形態1の要部概略図FIG. 1 is a schematic view of a main part of a first embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の実施形態1におけるポリゴンミラー
のファセットの外観図
FIG. 2 is an external view of a facet of a polygon mirror according to the first embodiment of the present invention.

【図3】 本発明の実施形態1に係る反射光束の強度分
布を示した分布図
FIG. 3 is a distribution diagram illustrating an intensity distribution of a reflected light beam according to the first embodiment of the present invention.

【図4】 本発明の実施形態1に係るスポットの形状を
示した説明図
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a spot shape according to the first embodiment of the present invention.

【図5】 本発明の実施形態2におけるポリゴンミラー
のファセットの外観図
FIG. 5 is an external view of a facet of a polygon mirror according to a second embodiment of the present invention.

【図6】 本発明の実施形態2に係る反射光束の強度分
布を示した分布図
FIG. 6 is a distribution diagram illustrating an intensity distribution of a reflected light beam according to the second embodiment of the present invention.

【図7】 本発明の実施形態2に係るスポットの形状を
示した説明図
FIG. 7 is an explanatory diagram showing a spot shape according to a second embodiment of the present invention.

【図8】 本発明の実施形態3におけるポリゴンミラー
のファセットの外観図
FIG. 8 is an external view of a facet of a polygon mirror according to a third embodiment of the present invention.

【図9】 本発明の実施形態3に係る反射光束の強度分
布を示した分布図
FIG. 9 is a distribution diagram showing an intensity distribution of a reflected light beam according to the third embodiment of the present invention.

【図10】 本発明の実施形態4におけるポリゴンミラ
ーのファセットの外観図
FIG. 10 is an external view of a facet of a polygon mirror according to a fourth embodiment of the present invention.

【図11】 本発明の実施形態5におけるポリゴンミラ
ーの外観図
FIG. 11 is an external view of a polygon mirror according to a fifth embodiment of the present invention.

【図12】 従来の光走査装置においてポリゴンミラー
で反射偏向される光束の様子を示した説明図
FIG. 12 is an explanatory diagram showing a state of a light beam reflected and deflected by a polygon mirror in a conventional optical scanning device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光源ユニット 1a 光源手段(半導体レーザ) 1b 第1の光学系(コリメーターレンズ) 1c アパーチャ 2 シリンドリカルレンズ 3 光偏向器(ポリゴンミラー) 3a 偏向面(ファセット) 4 第2の光学系(走査レンズ) 5 被走査面(感光ドラム面) 53a,83a,10a,113a 偏向面(ファセッ
ト) 113 光偏向器(ポリゴンミラー)
Reference Signs List 1 light source unit 1a light source means (semiconductor laser) 1b first optical system (collimator lens) 1c aperture 2 cylindrical lens 3 optical deflector (polygon mirror) 3a deflection surface (facet) 4 second optical system (scanning lens) 5 Scanned surface (photosensitive drum surface) 53a, 83a, 10a, 113a Deflection surface (facet) 113 Optical deflector (polygon mirror)

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光源手段から射出された光束を第1の光
学系により主走査断面内において略平行光束にして光偏
向器に導光し、該光偏向器で反射偏向された光束を第2
の光学系により被走査面上に導光し、該被走査面上を光
走査する光走査装置において、 該第1の光学系によって形成される光束の光束幅は主走
査断面内において、該光偏向器の偏向面の幅より広くな
るように形成され、 該光偏向器の偏向面の反射率は該偏向面内で不均一とな
るように設定されていることを特徴とする光走査装置。
1. A light beam emitted from a light source means is converted into a substantially parallel light beam in a main scanning section by a first optical system and guided to an optical deflector, and the light beam reflected and deflected by the light deflector is converted to a second light beam.
In the optical scanning device for guiding light onto the surface to be scanned by the optical system and optically scanning the surface to be scanned, the light beam width of the light beam formed by the first optical system has the light beam width within the main scanning cross section. An optical scanning device formed so as to be wider than a width of a deflecting surface of a deflector, wherein a reflectance of the deflecting surface of the optical deflector is set to be non-uniform in the deflecting surface.
【請求項2】 前記偏向面の主走査方向の反射率は、中
心部より周辺部で低下するように設定されていることを
特徴とする請求項1記載の光走査装置。
2. The optical scanning device according to claim 1, wherein the reflectance of the deflecting surface in the main scanning direction is set to be lower at a peripheral portion than at a central portion.
【請求項3】 前記偏向面の主走査方向の周辺部の反射
率は、中心部の反射率に対し60%以下となるように設
定されていることを特徴とする請求項2記載の光走査装
置。
3. The optical scanning device according to claim 2, wherein the reflectance of the peripheral portion of the deflection surface in the main scanning direction is set to be 60% or less of the reflectance of the central portion. apparatus.
【請求項4】 前記偏向面の主走査方向の反射率は、該
偏向面で反射偏向される光束の略中心に強度極小値を持
つように設定されていることを特徴とする請求項1記載
の光走査装置。
4. The reflectance of the deflecting surface in the main scanning direction is set so as to have a minimum intensity at substantially the center of a light beam reflected and deflected by the deflecting surface. Optical scanning device.
【請求項5】 前記偏向面の主走査方向の反射率を該偏
向面内の副走査方向で異なる分布となるように設定し、
かつ該偏向面に対する光束の入射位置と該偏向面の位置
とが副走査方向に相対的に可変となるように構成してい
ることを特徴とする請求項2又は3記載の光走査装置。
5. The reflectance of the deflecting surface in the main scanning direction is set to have a different distribution in the sub-scanning direction in the deflecting surface.
4. The optical scanning device according to claim 2, wherein an incident position of the light beam on the deflecting surface and a position of the deflecting surface are relatively variable in the sub-scanning direction.
【請求項6】 前記偏向面の周辺部では反射部の領域が
副走査方向に変化していることを特徴とする請求項5記
載の光走査装置。
6. The optical scanning device according to claim 5, wherein the area of the reflection portion changes in the sub-scanning direction at the periphery of the deflection surface.
【請求項7】 前記偏向面の周辺部には光吸収部が設け
られており、該光吸収部の領域が副走査方向に変化して
いることを特徴とする請求項5記載の光走査装置。
7. The optical scanning device according to claim 5, wherein a light absorbing portion is provided at a peripheral portion of the deflecting surface, and a region of the light absorbing portion changes in the sub-scanning direction. .
【請求項8】 前記偏向面の陵部が副走査方向に斜めに
面取りされていることを特徴とする請求項5記載の光走
査装置。
8. The optical scanning device according to claim 5, wherein a ridge of the deflection surface is chamfered obliquely in a sub-scanning direction.
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