JPH11262538A - 放射線配分演算方法、放射線配分計画装置および放射線治療装置 - Google Patents
放射線配分演算方法、放射線配分計画装置および放射線治療装置Info
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- JPH11262538A JPH11262538A JP6834298A JP6834298A JPH11262538A JP H11262538 A JPH11262538 A JP H11262538A JP 6834298 A JP6834298 A JP 6834298A JP 6834298 A JP6834298 A JP 6834298A JP H11262538 A JPH11262538 A JP H11262538A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 患部の形に合わせた治療を行う場合、患部の
形に合うようにレンジシフタの厚さ、多葉コリメータの
位置を試行錯誤で決める必要があり、時間がかかり問題
であった。 【解決手段】 患部４に設けられた複数の計算点におけ
る放射線の吸収係数を行列要素とした吸収係数マトリッ
クス、および各計算点における放射線の照射線量を行列
要素とした照射線量マトリックスを記憶する記憶手段１
１と、吸収係数マトリックスの逆行列に照射線量マトリ
ックスを乗じて、各方向ごとの照射線量の配分を求める
演算手段１２とを備える。
形に合うようにレンジシフタの厚さ、多葉コリメータの
位置を試行錯誤で決める必要があり、時間がかかり問題
であった。 【解決手段】 患部４に設けられた複数の計算点におけ
る放射線の吸収係数を行列要素とした吸収係数マトリッ
クス、および各計算点における放射線の照射線量を行列
要素とした照射線量マトリックスを記憶する記憶手段１
１と、吸収係数マトリックスの逆行列に照射線量マトリ
ックスを乗じて、各方向ごとの照射線量の配分を求める
演算手段１２とを備える。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、癌などの患部に対
して放射線治療を行う際の放射線量の配分を求める放射
線量配分演算方法、放射線量配分計画装置および放射線
量の配分に基づいて放射線治療を行う放射線治療装置に
関する。
して放射線治療を行う際の放射線量の配分を求める放射
線量配分演算方法、放射線量配分計画装置および放射線
量の配分に基づいて放射線治療を行う放射線治療装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、このような分野の技術としては、
特公平６−９６０４８号公報のものが知られている。こ
の公報に記載された従来の放射線治療装置の構成を図９
に示す。同図において、１０１は荷電粒子線、１０２は
荷電粒子線１０１の径を拡げるワブラー電磁石、１０３
は荷電粒子線１０１の通過を制限する多葉コリメータ、
１０４は患者１０５を固定する治療台、１０６は荷電粒
子線１０１を照射する深さを調整するレンジシフタ、１
０７はレンジシフタ１０６を通過した荷電粒子線１０１
の線量を測定する線量計である。
特公平６−９６０４８号公報のものが知られている。こ
の公報に記載された従来の放射線治療装置の構成を図９
に示す。同図において、１０１は荷電粒子線、１０２は
荷電粒子線１０１の径を拡げるワブラー電磁石、１０３
は荷電粒子線１０１の通過を制限する多葉コリメータ、
１０４は患者１０５を固定する治療台、１０６は荷電粒
子線１０１を照射する深さを調整するレンジシフタ、１
０７はレンジシフタ１０６を通過した荷電粒子線１０１
の線量を測定する線量計である。
【０００３】次に、動作について説明する。荷電粒子線
１０１は非常に細い線束であるため、このままでは治療
に使えない。そこで、２対のワブラー電磁石１０２に位
相の異なった高周波磁場を発生させることにより、治療
中心（以下、アイソセンタという）上で拡がったビーム
にすることができる。また、荷電粒子線１０１の吸収線
量は深さ方向に図１０に示すようなブラックピークを持
っており、荷電粒子線１０１のエネルギーが定まると、
このブラックピークの深さが確定し、特定の深さの癌細
胞に集中して治療することが可能である。
１０１は非常に細い線束であるため、このままでは治療
に使えない。そこで、２対のワブラー電磁石１０２に位
相の異なった高周波磁場を発生させることにより、治療
中心（以下、アイソセンタという）上で拡がったビーム
にすることができる。また、荷電粒子線１０１の吸収線
量は深さ方向に図１０に示すようなブラックピークを持
っており、荷電粒子線１０１のエネルギーが定まると、
このブラックピークの深さが確定し、特定の深さの癌細
胞に集中して治療することが可能である。
【０００４】さらに、荷電粒子線１０１のエネルギーが
一定の場合、レンジシフタ１０６を用いることによって
治療する深さを変えることができる。これは、荷電粒子
線１０１を通過させるレンジシフタ１０６の厚さを変え
ることによって、レンジシフタ１０６を通過する荷電粒
子線１０１のエネルギーを連続的に変化させることがで
きるからである。
一定の場合、レンジシフタ１０６を用いることによって
治療する深さを変えることができる。これは、荷電粒子
線１０１を通過させるレンジシフタ１０６の厚さを変え
ることによって、レンジシフタ１０６を通過する荷電粒
子線１０１のエネルギーを連続的に変化させることがで
きるからである。
【０００５】線量計１０７は、患者１０５に照射する荷
電粒子線１０１の線量を監視するために配置されてお
り、荷電粒子線１０１の線量が設定値になったら荷電粒
子線１０１を止めて照射を中止する。多葉コリメータ１
０３は、ワブラー電磁石１０２によって拡がったビーム
を患部の形に合わせて照射するために用いられる。患者
１０５の患部は深さ方向に形状が異なるので、図１１に
示すようにレンジシフタ１０６と多葉コリメータ１０３
を同期して動かすことによって、患部の形状に合わせた
立体的な照射野を形成することができる。
電粒子線１０１の線量を監視するために配置されてお
り、荷電粒子線１０１の線量が設定値になったら荷電粒
子線１０１を止めて照射を中止する。多葉コリメータ１
０３は、ワブラー電磁石１０２によって拡がったビーム
を患部の形に合わせて照射するために用いられる。患者
１０５の患部は深さ方向に形状が異なるので、図１１に
示すようにレンジシフタ１０６と多葉コリメータ１０３
を同期して動かすことによって、患部の形状に合わせた
立体的な照射野を形成することができる。
【０００６】また、図１２に示すリッジフィルタ１０８
をワブラー電磁石１０２と多葉コリメータ１０３との間
に配置することにより、図１３に示すように、荷電粒子
線１０１のピークの幅を拡げることができる。
をワブラー電磁石１０２と多葉コリメータ１０３との間
に配置することにより、図１３に示すように、荷電粒子
線１０１のピークの幅を拡げることができる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
放射線治療装置は、患部の形に合わせた治療を行う場
合、患部における深さ方向の照射量の配分を試行錯誤で
決める必要があり、時間がかかり問題であった。
放射線治療装置は、患部の形に合わせた治療を行う場
合、患部における深さ方向の照射量の配分を試行錯誤で
決める必要があり、時間がかかり問題であった。
【０００８】本発明は、このような問題を解決し、患部
における深さ方向の照射量の配分を短時間で形成するこ
とのできる放射線量配分演算方法、放射線量配分計画装
置および放射線治療装置を提供することを目的とする。
における深さ方向の照射量の配分を短時間で形成するこ
とのできる放射線量配分演算方法、放射線量配分計画装
置および放射線治療装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１の放射線配分演
算方法は、患部における複数のターゲット領域に対して
各々放射線を照射して放射線治療を行う際に、ターゲッ
ト領域ごとの照射線量の配分を求める方法であって、タ
ーゲット領域に設けられた複数の計算点における放射線
の（単位照射線量当りの）吸収係数を行列要素とした吸
収係数マトリックスの逆行列に、各計算点における放射
線の照射線量を行列要素とした照射線量マトリックスを
乗じて、ターゲット領域ごとの照射線量の配分を求める
ことを特徴とする。
算方法は、患部における複数のターゲット領域に対して
各々放射線を照射して放射線治療を行う際に、ターゲッ
ト領域ごとの照射線量の配分を求める方法であって、タ
ーゲット領域に設けられた複数の計算点における放射線
の（単位照射線量当りの）吸収係数を行列要素とした吸
収係数マトリックスの逆行列に、各計算点における放射
線の照射線量を行列要素とした照射線量マトリックスを
乗じて、ターゲット領域ごとの照射線量の配分を求める
ことを特徴とする。
【００１０】請求項２の放射線配分演算方法は、患部に
対して複数の方向から放射線を照射して放射線治療を行
う際に、各方向ごとの照射線量の配分を求める方法であ
って、患部に設けられた複数の計算点における放射線の
（単位照射線量当りの）吸収係数を行列要素とした吸収
係数マトリックスの逆行列に、各計算点における放射線
の照射線量を行列要素とした照射線量マトリックスを乗
じて、各方向ごとの照射線量の配分を求めることを特徴
とする。
対して複数の方向から放射線を照射して放射線治療を行
う際に、各方向ごとの照射線量の配分を求める方法であ
って、患部に設けられた複数の計算点における放射線の
（単位照射線量当りの）吸収係数を行列要素とした吸収
係数マトリックスの逆行列に、各計算点における放射線
の照射線量を行列要素とした照射線量マトリックスを乗
じて、各方向ごとの照射線量の配分を求めることを特徴
とする。
【００１１】請求項３において、照射線量マトリックス
は、各行列要素が１の単位マトリックスであることを特
徴とする。
は、各行列要素が１の単位マトリックスであることを特
徴とする。
【００１２】請求項４の放射線配分計画装置は、患部に
おける複数のターゲット領域に対して各々放射線を照射
して放射線治療を行う放射線治療装置に用いられ、ター
ゲット領域ごとの照射線量の配分を求める装置であっ
て、ターゲット領域に設けられた複数の計算点における
放射線の（単位照射線量当りの）吸収係数を行列要素と
した吸収係数マトリックス、および各計算点における放
射線の照射線量を行列要素とした照射線量マトリックス
を記憶する記憶手段と、吸収係数マトリックスの逆行列
に照射線量マトリックスを乗じて、ターゲット領域ごと
の照射線量の配分を求める演算手段とを備えることを特
徴とする。
おける複数のターゲット領域に対して各々放射線を照射
して放射線治療を行う放射線治療装置に用いられ、ター
ゲット領域ごとの照射線量の配分を求める装置であっ
て、ターゲット領域に設けられた複数の計算点における
放射線の（単位照射線量当りの）吸収係数を行列要素と
した吸収係数マトリックス、および各計算点における放
射線の照射線量を行列要素とした照射線量マトリックス
を記憶する記憶手段と、吸収係数マトリックスの逆行列
に照射線量マトリックスを乗じて、ターゲット領域ごと
の照射線量の配分を求める演算手段とを備えることを特
徴とする。
【００１３】請求項５において、各計算点は、ターゲッ
ト領域の周縁部の点またはターゲット領域の内部の点で
あることを特徴とする。
ト領域の周縁部の点またはターゲット領域の内部の点で
あることを特徴とする。
【００１４】請求項６の放射線配分計画装置は、患部に
対して複数の方向から放射線を照射して放射線治療を行
う放射線治療装置に用いられ、各方向ごとの照射線量の
配分を求める装置であって、患部に設けられた複数の計
算点における放射線の（単位照射線量当りの）吸収係数
を行列要素とした吸収係数マトリックス、および各計算
点における放射線の照射線量を行列要素とした照射線量
マトリックスを記憶する記憶手段と、吸収係数マトリッ
クスの逆行列に照射線量マトリックスを乗じて、各方向
ごとの照射線量の配分を求める演算手段とを備えること
を特徴とする。
対して複数の方向から放射線を照射して放射線治療を行
う放射線治療装置に用いられ、各方向ごとの照射線量の
配分を求める装置であって、患部に設けられた複数の計
算点における放射線の（単位照射線量当りの）吸収係数
を行列要素とした吸収係数マトリックス、および各計算
点における放射線の照射線量を行列要素とした照射線量
マトリックスを記憶する記憶手段と、吸収係数マトリッ
クスの逆行列に照射線量マトリックスを乗じて、各方向
ごとの照射線量の配分を求める演算手段とを備えること
を特徴とする。
【００１５】請求項７において、各計算点は、患部の周
縁部の点または患部の内部の点であることを特徴とす
る。
縁部の点または患部の内部の点であることを特徴とす
る。
【００１６】請求項８において、照射線量マトリックス
は、各要素が１の単位マトリックスであることを特徴と
する。
は、各要素が１の単位マトリックスであることを特徴と
する。
【００１７】請求項９の放射線治療装置は、患部におけ
る複数のターゲット領域に対して各々放射線を照射して
放射線治療を行う装置であって、放射線を出射させる線
源と、ターゲット領域に設けられた複数の計算点におけ
る放射線の（単位照射線量当りの）吸収係数を行列要素
とした吸収係数マトリックス、および各計算点における
放射線の照射線量を行列要素とした照射線量マトリック
スを記憶する記憶手段と、吸収係数マトリックスの逆行
列に照射線量マトリックスを乗じて、ターゲット領域ご
との照射線量の配分を求める演算手段と、演算手段で得
られた配分値に基づいて患部に照射される照射線量を制
御する線量制御手段とを備えることを特徴とする。
る複数のターゲット領域に対して各々放射線を照射して
放射線治療を行う装置であって、放射線を出射させる線
源と、ターゲット領域に設けられた複数の計算点におけ
る放射線の（単位照射線量当りの）吸収係数を行列要素
とした吸収係数マトリックス、および各計算点における
放射線の照射線量を行列要素とした照射線量マトリック
スを記憶する記憶手段と、吸収係数マトリックスの逆行
列に照射線量マトリックスを乗じて、ターゲット領域ご
との照射線量の配分を求める演算手段と、演算手段で得
られた配分値に基づいて患部に照射される照射線量を制
御する線量制御手段とを備えることを特徴とする。
【００１８】請求項１０において、線源を出射した放射
線を異なる方向から患部に照射させる照射方向変更手段
を更に備えることを特徴とする。
線を異なる方向から患部に照射させる照射方向変更手段
を更に備えることを特徴とする。
【００１９】請求項１１において、各計算点は、ターゲ
ット領域の周縁部の点またはターゲット領域の内部の点
であることを特徴とする。
ット領域の周縁部の点またはターゲット領域の内部の点
であることを特徴とする。
【００２０】請求項１２の放射線治療装置は、患部に対
して複数の方向から放射線を照射して放射線治療を行う
放射線治療装置であって、放射線を出射させる線源と、
線源を出射した放射線を異なる方向から前記患部に照射
させる照射方向変更手段と、患部に設けられた複数の計
算点における放射線の（単位照射線量当りの）吸収係数
を行列要素とした吸収係数マトリックス、および各計算
点における放射線の照射線量を行列要素とした照射線量
マトリックスを記憶する記憶手段と、吸収係数マトリッ
クスの逆行列に照射線量マトリックスを乗じて、各方向
ごとの照射線量の配分を求める演算手段と、演算手段で
得られた配分値に基づいて患部に照射される照射線量を
制御する線量制御手段とを備えることを特徴とする。
して複数の方向から放射線を照射して放射線治療を行う
放射線治療装置であって、放射線を出射させる線源と、
線源を出射した放射線を異なる方向から前記患部に照射
させる照射方向変更手段と、患部に設けられた複数の計
算点における放射線の（単位照射線量当りの）吸収係数
を行列要素とした吸収係数マトリックス、および各計算
点における放射線の照射線量を行列要素とした照射線量
マトリックスを記憶する記憶手段と、吸収係数マトリッ
クスの逆行列に照射線量マトリックスを乗じて、各方向
ごとの照射線量の配分を求める演算手段と、演算手段で
得られた配分値に基づいて患部に照射される照射線量を
制御する線量制御手段とを備えることを特徴とする。
【００２１】請求項１３において、各計算点は、患部の
周縁部の点または患部の内部の点であることを特徴とす
る。
周縁部の点または患部の内部の点であることを特徴とす
る。
【００２２】請求項１４において、照射線量マトリック
スは、各要素が１の単位マトリックスであることを特徴
とする。
スは、各要素が１の単位マトリックスであることを特徴
とする。
【００２３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
について添付図面を参照して説明する。 実施の形態１．図１は、実施の形態１に係る放射線治療
装置１を示す図である。図１において、２は荷電粒子線
（放射線）３を出射させる粒子線出射器（線源）、４は
患部の一例としての癌患部、５は粒子線出射器２を出射
した荷電粒子線３の径を拡げるワブラー電磁石、６は荷
電粒子線３の通過を制限する多葉コリメータ、７は患者
８を固定する治療台、９は荷電粒子線３を癌患部４に照
射する深さを調整するレンジシフタである。
について添付図面を参照して説明する。 実施の形態１．図１は、実施の形態１に係る放射線治療
装置１を示す図である。図１において、２は荷電粒子線
（放射線）３を出射させる粒子線出射器（線源）、４は
患部の一例としての癌患部、５は粒子線出射器２を出射
した荷電粒子線３の径を拡げるワブラー電磁石、６は荷
電粒子線３の通過を制限する多葉コリメータ、７は患者
８を固定する治療台、９は荷電粒子線３を癌患部４に照
射する深さを調整するレンジシフタである。
【００２４】また、１０は荷電粒子線３の（単位照射線
量当りの）吸収係数ｄij（ｉ＝１〜Ｎ，ｊ＝１〜Ｍ：
Ｍ，Ｎは自然数）を行列要素としたＭ行Ｎ列の吸収係数
マトリックスＡ、および荷電粒子線３の照射線量Ｒjを
行列要素とした１行Ｍ列の照射線量マトリックスＢを入
力させる入力手段、１１は吸収係数マトリックスＡおよ
び照射線量マトリックスＢを記憶する記憶手段、１２は
荷電粒子線３の線量配分Ｄiを行列要素とした１行Ｎ列
の線量配分マトリックスＣを求める演算手段、１３は演
算手段１２で求めた線量配分マトリックスＣに基づいて
癌患部４に照射される照射線量を制御する線源制御手段
である。なお、記憶手段１１と演算手段１２とで、照射
線量の配分を求める放射線配分計画装置１４が構成され
る。
量当りの）吸収係数ｄij（ｉ＝１〜Ｎ，ｊ＝１〜Ｍ：
Ｍ，Ｎは自然数）を行列要素としたＭ行Ｎ列の吸収係数
マトリックスＡ、および荷電粒子線３の照射線量Ｒjを
行列要素とした１行Ｍ列の照射線量マトリックスＢを入
力させる入力手段、１１は吸収係数マトリックスＡおよ
び照射線量マトリックスＢを記憶する記憶手段、１２は
荷電粒子線３の線量配分Ｄiを行列要素とした１行Ｎ列
の線量配分マトリックスＣを求める演算手段、１３は演
算手段１２で求めた線量配分マトリックスＣに基づいて
癌患部４に照射される照射線量を制御する線源制御手段
である。なお、記憶手段１１と演算手段１２とで、照射
線量の配分を求める放射線配分計画装置１４が構成され
る。
【００２５】図２に示すように、放射線治療装置１は、
荷電粒子線３の照射方向と垂直にスライスされた癌患部
４の各断面をターゲット領域４ａとして、これらのター
ゲット領域４ａの各々に対して荷電粒子線３を照射する
装置である。そして、荷電粒子線３を照射するエネルギ
ーを段階的に変えることによって、深さの異なる各ター
ゲット領域４ａに荷電粒子線３を集中させることができ
る。
荷電粒子線３の照射方向と垂直にスライスされた癌患部
４の各断面をターゲット領域４ａとして、これらのター
ゲット領域４ａの各々に対して荷電粒子線３を照射する
装置である。そして、荷電粒子線３を照射するエネルギ
ーを段階的に変えることによって、深さの異なる各ター
ゲット領域４ａに荷電粒子線３を集中させることができ
る。
【００２６】放射線治療装置１は、操作者によって入力
手段１０に入力された吸収係数マトリックスＡおよび照
射線量マトリックスＢに基づいて、各ターゲット領域４
ａに照射する荷電粒子線３の照射線量を調整する。ここ
で、吸収係数マトリックスＡは、操作者によって事前に
測定又は計算されたデータに基づいて作成される。ま
た、照射線量マトリックスＢは、各行列要素が１の単位
マトリックスが用いられる。なお、照射線量マトリック
スＢは、各行列要素が１の単位マトリックスに限定され
ることなく、例えば、両端の行列要素を０．９に中央の
行列要素を１．１にするなど、癌患部４の中心部と周縁
部とで行列要素の比重を変えてもよい。
手段１０に入力された吸収係数マトリックスＡおよび照
射線量マトリックスＢに基づいて、各ターゲット領域４
ａに照射する荷電粒子線３の照射線量を調整する。ここ
で、吸収係数マトリックスＡは、操作者によって事前に
測定又は計算されたデータに基づいて作成される。ま
た、照射線量マトリックスＢは、各行列要素が１の単位
マトリックスが用いられる。なお、照射線量マトリック
スＢは、各行列要素が１の単位マトリックスに限定され
ることなく、例えば、両端の行列要素を０．９に中央の
行列要素を１．１にするなど、癌患部４の中心部と周縁
部とで行列要素の比重を変えてもよい。
【００２７】次に、吸収係数マトリックスＡの作成方法
について説明する。まず、癌患部４の形状を治療計画時
にＣＴ装置で特定する。そして、特定された癌患部４の
形状に基づいて、Ｍヶ所のターゲット領域４ａを決め
る。さらに、ターゲット領域４ａの間隔に応じて、荷電
粒子線３のエネルギーやリッジフィルタ（図示せず）の
厚さなどを決める。
について説明する。まず、癌患部４の形状を治療計画時
にＣＴ装置で特定する。そして、特定された癌患部４の
形状に基づいて、Ｍヶ所のターゲット領域４ａを決め
る。さらに、ターゲット領域４ａの間隔に応じて、荷電
粒子線３のエネルギーやリッジフィルタ（図示せず）の
厚さなどを決める。
【００２８】各ターゲット領域４ａの形状に合わせた荷
電粒子線３の照射野は、多葉コリメータ９によって形成
される。そして、ターゲット領域４ａごとに異なる照射
野の荷電粒子線３を癌患部４に照射させれば、癌患部４
の形状に合わせた立体的な照射野を形成することができ
る。次に、各ターゲット領域４ａに対してＮ個の計算点
Ｔiを定めて、これらの計算点における荷電粒子線３の
吸収係数ｄijを各々求める。吸収係数ｄijは、各ポート
から単位線量の荷電粒子線３が照射されるとしたときの
各計算点での吸収係数をいい、水ファントムなどで測定
して求めてもよく、また計算によって求めてもよい。な
お、計算によって吸収係数ｄijを求める方法は、「放射
線基礎医学III Ｐ４６〜 尾内能夫著 日本出版サー
ビス」に詳細に説明されている。
電粒子線３の照射野は、多葉コリメータ９によって形成
される。そして、ターゲット領域４ａごとに異なる照射
野の荷電粒子線３を癌患部４に照射させれば、癌患部４
の形状に合わせた立体的な照射野を形成することができ
る。次に、各ターゲット領域４ａに対してＮ個の計算点
Ｔiを定めて、これらの計算点における荷電粒子線３の
吸収係数ｄijを各々求める。吸収係数ｄijは、各ポート
から単位線量の荷電粒子線３が照射されるとしたときの
各計算点での吸収係数をいい、水ファントムなどで測定
して求めてもよく、また計算によって求めてもよい。な
お、計算によって吸収係数ｄijを求める方法は、「放射
線基礎医学III Ｐ４６〜 尾内能夫著 日本出版サー
ビス」に詳細に説明されている。
【００２９】以上のようにして求めた吸収係数ｄijを行
列要素として吸収係数マトリックスＡが作成される。こ
こで、吸収係数マトリックスＡの行方向には各ターゲッ
ト領域４ａが割り当てられ、吸収係数マトリックスＡの
列方向には各計算点が割り当てられている。
列要素として吸収係数マトリックスＡが作成される。こ
こで、吸収係数マトリックスＡの行方向には各ターゲッ
ト領域４ａが割り当てられ、吸収係数マトリックスＡの
列方向には各計算点が割り当てられている。
【００３０】次に、放射線治療装置１の動作について説
明する。まず、操作者によって吸収係数マトリックスＡ
および照射線量マトリックスＢが入力手段１０に入力さ
れると、これらのマトリックスＡ，Ｂが記憶手段１１に
記憶される。そして、記憶手段１１に記憶された吸収係
数マトリックスＡおよび照射線量マトリックスＢは演算
手段１２に与えられる。
明する。まず、操作者によって吸収係数マトリックスＡ
および照射線量マトリックスＢが入力手段１０に入力さ
れると、これらのマトリックスＡ，Ｂが記憶手段１１に
記憶される。そして、記憶手段１１に記憶された吸収係
数マトリックスＡおよび照射線量マトリックスＢは演算
手段１２に与えられる。
【００３１】ここで、計算点Ｔ1に照射される荷電粒子
線３の照射線量Ｒ1は、 Ｒ1＝ｄ11Ｄ1＋ｄ21Ｄ2＋…＋ｄk1Ｄk＋…＋ｄN1ＤN で与えられる（ｋは、１＜ｋ＜Ｎを満たす自然数）。同
様にして、計算点Ｔhに照射される荷電粒子線３の照射
線量Ｒhは、 Ｒh＝ｄ1hＤ1＋ｄ2hＤ2＋…＋ｄkhＤk＋…＋ｄNhＤN で与えられる（ｌは、１＜ｌ＜Ｎを満たす自然数）。
線３の照射線量Ｒ1は、 Ｒ1＝ｄ11Ｄ1＋ｄ21Ｄ2＋…＋ｄk1Ｄk＋…＋ｄN1ＤN で与えられる（ｋは、１＜ｋ＜Ｎを満たす自然数）。同
様にして、計算点Ｔhに照射される荷電粒子線３の照射
線量Ｒhは、 Ｒh＝ｄ1hＤ1＋ｄ2hＤ2＋…＋ｄkhＤk＋…＋ｄNhＤN で与えられる（ｌは、１＜ｌ＜Ｎを満たす自然数）。
【００３２】従って、全計算点Ｔ1〜ＴNに照射される荷
電粒子線３の照射線量Ｒ1〜ＲNは、
電粒子線３の照射線量Ｒ1〜ＲNは、
【数１】 となる。この式において、左辺は照射線量マトリックス
Ｂ、右辺は吸収係数マトリックスＡおよび線量配分マト
リックスＣである。これらのマトリックスを以下に示
す。
Ｂ、右辺は吸収係数マトリックスＡおよび線量配分マト
リックスＣである。これらのマトリックスを以下に示
す。
【数２】
【００３３】さらに、上式の両辺に吸収係数マトリック
スＡの逆行列を掛けることによって、線量配分マトリッ
クスＣを求める次式が得られる。
スＡの逆行列を掛けることによって、線量配分マトリッ
クスＣを求める次式が得られる。
【数３】
【００３４】演算手段１２では、この式に基づいて線量
配分マトリックスＣを求めている。そして、演算手段１
２で求めた線量配分マトリックスＣは線源制御手段１３
に与えられ、癌患部４に照射される荷電粒子線３の照射
線量を制御する。その結果、癌患部４の各部位に対して
均一な荷電粒子線３の照射を行うことができる。
配分マトリックスＣを求めている。そして、演算手段１
２で求めた線量配分マトリックスＣは線源制御手段１３
に与えられ、癌患部４に照射される荷電粒子線３の照射
線量を制御する。その結果、癌患部４の各部位に対して
均一な荷電粒子線３の照射を行うことができる。
【００３５】このように極めて簡単に、ターゲット領域
４ａごとの照射線量の配分が求められるので、治療計画
から放射線治療までの処理を効率良くスムーズに行うこ
とができる。また、演算手段１２で求められた配分に従
って、各ターゲット領域４ａに照射する荷電粒子線３を
調整することにより、無駄な荷電粒子線３の照射が抑制
され、患者８の被爆量を必要最小限に抑えることができ
る。
４ａごとの照射線量の配分が求められるので、治療計画
から放射線治療までの処理を効率良くスムーズに行うこ
とができる。また、演算手段１２で求められた配分に従
って、各ターゲット領域４ａに照射する荷電粒子線３を
調整することにより、無駄な荷電粒子線３の照射が抑制
され、患者８の被爆量を必要最小限に抑えることができ
る。
【００３６】実施の形態２．次に、実施の形態２に係る
放射線治療装置について説明する。図３は、実施の形態
２に係る放射線治療装置２０を示す図である。この実施
の形態２が図１に示す実施の形態１と異なるのは、粒子
線出射器２の代わりにＸ線（放射線）２１を出射させる
電子線加速器（線源）２２を備えている点と、電子線加
速器２２を出射したＸ線２１を異なる方向から癌患部４
に照射させる照射方向変更部（照射方向変更手段）２３
を備えている点と、ワブラー電磁石５の代わりにＸ線平
坦化装置５ａを備えている点とである。その他の構成に
ついては実施の形態１と同一又は同等である。従って、
実施の形態１と同一又は同等な構成部分については同一
符号を付し、その説明は省略する。なお、電子線加速器
２２は、電子線を照射することも可能である。
放射線治療装置について説明する。図３は、実施の形態
２に係る放射線治療装置２０を示す図である。この実施
の形態２が図１に示す実施の形態１と異なるのは、粒子
線出射器２の代わりにＸ線（放射線）２１を出射させる
電子線加速器（線源）２２を備えている点と、電子線加
速器２２を出射したＸ線２１を異なる方向から癌患部４
に照射させる照射方向変更部（照射方向変更手段）２３
を備えている点と、ワブラー電磁石５の代わりにＸ線平
坦化装置５ａを備えている点とである。その他の構成に
ついては実施の形態１と同一又は同等である。従って、
実施の形態１と同一又は同等な構成部分については同一
符号を付し、その説明は省略する。なお、電子線加速器
２２は、電子線を照射することも可能である。
【００３７】図４（ａ）（ｂ）に示すように、Ｘ線２１
および電子線の線量分布は、荷電粒子線に比べて（図１
０参照）ピークの幅が広い。このため、患者８の癌患部
４以外の部位に照射されるＸ線２１或いは電子線（以
下、電子線についての説明は省略する）の線量が多くな
り、癌細胞以外の正常な細胞にもダメージを与えること
になる。
および電子線の線量分布は、荷電粒子線に比べて（図１
０参照）ピークの幅が広い。このため、患者８の癌患部
４以外の部位に照射されるＸ線２１或いは電子線（以
下、電子線についての説明は省略する）の線量が多くな
り、癌細胞以外の正常な細胞にもダメージを与えること
になる。
【００３８】そこで、図５に示すように、電子線加速器
２２を癌患部４の周りを周回させて、Ｘ線２１の照射位
置を変えている。その結果、癌患部４にのみＸ線２１を
集中させることができ、癌細胞以外の正常な細胞へのダ
メージを最小限に抑えることができる。なお、このよう
な放射線治療では、電子線加速器２２の回転角度、多葉
コリメータ９の２次元照射野、照射線量、照射回数、照
射時間がパラメータとなり、癌患部４の形と一致するよ
うにＸ線２１が照射される。
２２を癌患部４の周りを周回させて、Ｘ線２１の照射位
置を変えている。その結果、癌患部４にのみＸ線２１を
集中させることができ、癌細胞以外の正常な細胞へのダ
メージを最小限に抑えることができる。なお、このよう
な放射線治療では、電子線加速器２２の回転角度、多葉
コリメータ９の２次元照射野、照射線量、照射回数、照
射時間がパラメータとなり、癌患部４の形と一致するよ
うにＸ線２１が照射される。
【００３９】図６は、放射線治療装置２０の外観を示す
図である。電子線加速器２２は、ガントリー２４に組み
込まれており、固定台７の上部に位置するアイソセンタ
２５を中心にガントリー２４が回転する。この回転によ
って、電子線加速器２２はアイソセンタ２５の周りを周
回し、電子線加速器２２を出射したＸ線２１を、複数の
方向から癌患部４に照射させることができる。なお、ガ
ントリー２４を回転させて複数の方向からＸ線２１を照
射させることを多門照射という。
図である。電子線加速器２２は、ガントリー２４に組み
込まれており、固定台７の上部に位置するアイソセンタ
２５を中心にガントリー２４が回転する。この回転によ
って、電子線加速器２２はアイソセンタ２５の周りを周
回し、電子線加速器２２を出射したＸ線２１を、複数の
方向から癌患部４に照射させることができる。なお、ガ
ントリー２４を回転させて複数の方向からＸ線２１を照
射させることを多門照射という。
【００４０】次に、放射線治療装置２０の動作について
説明する。まず、操作者によって吸収係数マトリックス
Ａおよび照射線量マトリックスＢが入力手段１０に入力
されると、これらのマトリックスＡ，Ｂが記憶手段１１
に記憶される。そして、記憶手段１１に記憶された吸収
係数マトリックスＡおよび照射線量マトリックスＢが演
算手段１２に与えられる。
説明する。まず、操作者によって吸収係数マトリックス
Ａおよび照射線量マトリックスＢが入力手段１０に入力
されると、これらのマトリックスＡ，Ｂが記憶手段１１
に記憶される。そして、記憶手段１１に記憶された吸収
係数マトリックスＡおよび照射線量マトリックスＢが演
算手段１２に与えられる。
【００４１】演算手段１２では、電子線加速器２２から
照射されるＸ線２１の各方向ごとの照射線量の配分を、
以下のようにして求める。まず、電子線加速器２２が癌
患部４の周りを一回転する間にＸ線２１を照射する回数
をＭ回とし、癌患部４における計算点の数をＮ個とす
る。
照射されるＸ線２１の各方向ごとの照射線量の配分を、
以下のようにして求める。まず、電子線加速器２２が癌
患部４の周りを一回転する間にＸ線２１を照射する回数
をＭ回とし、癌患部４における計算点の数をＮ個とす
る。
【００４２】ここで、電子線加速器２２からｉ番目にＸ
線２１が照射された場合の、計算点Ｔjにおける吸収線
量をｄijとする。また、このときの電子線加速器２２か
ら放射される線量をＤiとする。さらに、計算点Ｔ1に照
射されるＸ線２１の照射線量Ｒ1は、 Ｒ1＝ｄ11Ｄ1＋ｄ21Ｄ2＋…＋ｄk1Ｄk＋…＋ｄN1ＤN で与えられる（ｋは、１＜ｋ＜Ｎを満たす自然数）。同
様にして、計算点Ｔhに照射されるＸ線２１の照射線量
Ｒhは、 Ｒh＝ｄ1hＤ1＋ｄ2hＤ2＋…＋ｄkhＤk＋…＋ｄNhＤN で与えられる。
線２１が照射された場合の、計算点Ｔjにおける吸収線
量をｄijとする。また、このときの電子線加速器２２か
ら放射される線量をＤiとする。さらに、計算点Ｔ1に照
射されるＸ線２１の照射線量Ｒ1は、 Ｒ1＝ｄ11Ｄ1＋ｄ21Ｄ2＋…＋ｄk1Ｄk＋…＋ｄN1ＤN で与えられる（ｋは、１＜ｋ＜Ｎを満たす自然数）。同
様にして、計算点Ｔhに照射されるＸ線２１の照射線量
Ｒhは、 Ｒh＝ｄ1hＤ1＋ｄ2hＤ2＋…＋ｄkhＤk＋…＋ｄNhＤN で与えられる。
【００４３】従って、全計算点Ｔ1〜ＴNに照射されるＸ
線２１の照射線量Ｒ1〜ＲNは、
線２１の照射線量Ｒ1〜ＲNは、
【数４】 となる。この式において、左辺は照射線量マトリックス
Ｂ、右辺は吸収係数マトリックスＡおよび線量配分マト
リックスＣである。これらのマトリックスを以下に示
す。
Ｂ、右辺は吸収係数マトリックスＡおよび線量配分マト
リックスＣである。これらのマトリックスを以下に示
す。
【数５】
【００４４】さらに、上式の両辺に吸収係数マトリック
スＡの逆行列を掛けることによって、線量配分マトリッ
クスＣを求める次式が得られる。
スＡの逆行列を掛けることによって、線量配分マトリッ
クスＣを求める次式が得られる。
【数６】
【００４５】演算手段１２では、この式に基づいて線量
配分マトリックスＣを求めている。そして、演算手段１
２で求めた線量配分マトリックスＣは線源制御手段１３
に与えられ、癌患部４に照射されるＸ線２１の照射線量
を制御する。その結果、癌患部４の各部位に対して均一
なＸ線２１の照射を行うことができる。
配分マトリックスＣを求めている。そして、演算手段１
２で求めた線量配分マトリックスＣは線源制御手段１３
に与えられ、癌患部４に照射されるＸ線２１の照射線量
を制御する。その結果、癌患部４の各部位に対して均一
なＸ線２１の照射を行うことができる。
【００４６】このように極めて簡単に、電子線加速器２
２から複数回照射されるＸ線２１の各回ごとの照射線量
の配分が求められるので、治療計画から放射線治療まで
の処理を効率良くスムーズに行うことができる。また、
演算手段１２で求められた配分に従って、癌患部４に照
射するＸ線２１の照射線量を調整することにより、無駄
なＸ線２１の照射が抑制され、患者８の被爆量を必要最
小限に抑えることができる。
２から複数回照射されるＸ線２１の各回ごとの照射線量
の配分が求められるので、治療計画から放射線治療まで
の処理を効率良くスムーズに行うことができる。また、
演算手段１２で求められた配分に従って、癌患部４に照
射するＸ線２１の照射線量を調整することにより、無駄
なＸ線２１の照射が抑制され、患者８の被爆量を必要最
小限に抑えることができる。
【００４７】上述したように、Ｘ線および電子線はいず
れもピークの幅が広いので、癌患部４周辺の正常細胞に
対して所定の照射線量以上にならないように、注意が必
要である。そこで、癌患部４周辺の正常細胞への影響を
どの程度考慮するかによって、各計算点の配置が異なっ
てくる。例えば、癌患部４周辺の正常細胞への影響を重
視する場合には、図７（ａ）に示すように、各計算点を
癌患部４の周縁部に設けて、癌患部４周辺の照射線量を
調整するのが好ましい。
れもピークの幅が広いので、癌患部４周辺の正常細胞に
対して所定の照射線量以上にならないように、注意が必
要である。そこで、癌患部４周辺の正常細胞への影響を
どの程度考慮するかによって、各計算点の配置が異なっ
てくる。例えば、癌患部４周辺の正常細胞への影響を重
視する場合には、図７（ａ）に示すように、各計算点を
癌患部４の周縁部に設けて、癌患部４周辺の照射線量を
調整するのが好ましい。
【００４８】また、癌患部４周辺の正常細胞への影響を
あまり重視せずに、癌患部４内部への十分な照射量を重
視する場合には、図７（ｂ）に示すように、各計算点を
癌患部４の内部に設けて、癌患部４の内部の照射線量を
調整するのが好ましい。さらに、癌患部４周辺の正常細
胞への影響と、癌患部４内部への十分な照射量とを共に
重視する場合には、図７（ｃ）に示すように、各計算点
を癌患部４の周縁部と内部とに設けて、癌患部４の周縁
部及び内部の照射線量を調整するのが好ましい。
あまり重視せずに、癌患部４内部への十分な照射量を重
視する場合には、図７（ｂ）に示すように、各計算点を
癌患部４の内部に設けて、癌患部４の内部の照射線量を
調整するのが好ましい。さらに、癌患部４周辺の正常細
胞への影響と、癌患部４内部への十分な照射量とを共に
重視する場合には、図７（ｃ）に示すように、各計算点
を癌患部４の周縁部と内部とに設けて、癌患部４の周縁
部及び内部の照射線量を調整するのが好ましい。
【００４９】図８は、図１に示した放射線治療装置１に
対して照射方向変更部（照射方向変更手段）２３を追加
した例を示す外観図である。照射方向変更部２３は、ガ
ントリー２４を回転させて、荷電粒子出射器２を出射し
た荷電粒子線３の照射方向を、患者８を中心に３６０度
変更させる機器である。この照射方向変更部２３の駆動
によって、患者８の癌患部４には複数の方向からの荷電
粒子線３が照射される。この際、癌患部４の中心部に荷
電粒子線３が集中するように、荷電粒子線３の照射エネ
ルギーが調整される。
対して照射方向変更部（照射方向変更手段）２３を追加
した例を示す外観図である。照射方向変更部２３は、ガ
ントリー２４を回転させて、荷電粒子出射器２を出射し
た荷電粒子線３の照射方向を、患者８を中心に３６０度
変更させる機器である。この照射方向変更部２３の駆動
によって、患者８の癌患部４には複数の方向からの荷電
粒子線３が照射される。この際、癌患部４の中心部に荷
電粒子線３が集中するように、荷電粒子線３の照射エネ
ルギーが調整される。
【００５０】また、演算手段１２で求められた配分に従
って、癌患部４に照射されるＸ線２１の照射線量が調整
されるので、無駄なＸ線２１の照射が抑制され、患者８
の被爆量を必要最小限に抑えることができる。なお、本
発明は上記実施の形態に限定されることなく、本発明の
趣旨から逸脱しない範囲内において各種の変更が可能で
ある。
って、癌患部４に照射されるＸ線２１の照射線量が調整
されるので、無駄なＸ線２１の照射が抑制され、患者８
の被爆量を必要最小限に抑えることができる。なお、本
発明は上記実施の形態に限定されることなく、本発明の
趣旨から逸脱しない範囲内において各種の変更が可能で
ある。
【００５１】また、本実施の形態では、Ｘ線又は電子線
について回転による多門照射の例を述べたが、図８のよ
うに荷電粒子線を回転させる場合でも同様の効果が得ら
れる。
について回転による多門照射の例を述べたが、図８のよ
うに荷電粒子線を回転させる場合でも同様の効果が得ら
れる。
【００５２】
【発明の効果】以上、詳細に説明したとおり、本発明の
放射線配分演算方法、放射線配分計画装置および放射線
治療装置によれば、患部に複数回放射線を照射する際の
各回ごとの照射線量の配分を、行列の演算に基づいて極
めて簡単に求めることができ、治療計画から放射線治療
までの処理を効率良くスムーズに行うことができる。ま
た、この照射線量の配分に従って患部に照射する放射線
量を調整することにより、無駄な放射線の照射が抑制さ
れ、患者の被爆量を必要最小限に抑えることができる。
その結果、放射線治療計画の精度が大幅に向上する。
放射線配分演算方法、放射線配分計画装置および放射線
治療装置によれば、患部に複数回放射線を照射する際の
各回ごとの照射線量の配分を、行列の演算に基づいて極
めて簡単に求めることができ、治療計画から放射線治療
までの処理を効率良くスムーズに行うことができる。ま
た、この照射線量の配分に従って患部に照射する放射線
量を調整することにより、無駄な放射線の照射が抑制さ
れ、患者の被爆量を必要最小限に抑えることができる。
その結果、放射線治療計画の精度が大幅に向上する。
【図１】実施の形態１に係る放射線治療装置の構成を示
す概略図である。
す概略図である。
【図２】癌患部におけるターゲット領域を示す図であ
る。
る。
【図３】実施の形態２に係る放射線治療装置の構成を示
す概略図である。
す概略図である。
【図４】（ａ）は、Ｘ線の吸収線量と吸収深さとの関係
を示す図である。（ｂ）は、電子線の吸収線量と吸収深
さとの関係を示す図である。
を示す図である。（ｂ）は、電子線の吸収線量と吸収深
さとの関係を示す図である。
【図５】癌患部に対する多方向からのＸ線の照射を示す
図である。
図である。
【図６】実施の形態２に係る放射線治療装置の外観を示
す図である。
す図である。
【図７】（ａ）は、癌患部の周縁部に計算点を配置した
例を示す図である。（ｂ）は、癌患部の内部に計算点を
配置した例を示す図である。（ｃ）は、癌患部の周縁部
および内部に計算点を配置した例を示す図である。
例を示す図である。（ｂ）は、癌患部の内部に計算点を
配置した例を示す図である。（ｃ）は、癌患部の周縁部
および内部に計算点を配置した例を示す図である。
【図８】実施の形態１に係る放射線治療装置の変形例の
外観を示す図である。
外観を示す図である。
【図９】従来の放射線治療装置の構成を示す図である。
【図１０】荷電粒子線の吸収線量と吸収深さとの関係を
示す図である。
示す図である。
【図１１】レンジシフタおよび多葉コリメータの働きを
示す図である。
示す図である。
【図１２】リッジフィルタの形状を示す側面図である。
【図１３】リッジフィルタを通過した荷電粒子線の吸収
線量と吸収深さとの関係を示す図である。
線量と吸収深さとの関係を示す図である。
１，２０…放射線治療装置、２…粒子線出射器（線
源）、３…荷電粒子線（放射線）、４…癌患部（患
部）、４ａ…ターゲット領域、１１…記憶手段、１２…
演算手段、１３…線量制御手段、１４…放射線配分計画
装置、２１…Ｘ線（放射線）、２２…電子線加速器（線
源）、２３…照射方向変更部（照射方向変更手段）。
源）、３…荷電粒子線（放射線）、４…癌患部（患
部）、４ａ…ターゲット領域、１１…記憶手段、１２…
演算手段、１３…線量制御手段、１４…放射線配分計画
装置、２１…Ｘ線（放射線）、２２…電子線加速器（線
源）、２３…照射方向変更部（照射方向変更手段）。
Claims (14)
- 【請求項１】 患部における複数のターゲット領域に対
して各々放射線を照射して放射線治療を行う際に、前記
ターゲット領域ごとの照射線量の配分を求める放射線配
分演算方法であって、 前記ターゲット領域に設けられた複数の計算点における
前記放射線の吸収係数を行列要素とした吸収係数マトリ
ックスの逆行列に、前記各計算点における前記放射線の
照射線量を行列要素とした照射線量マトリックスを乗じ
て、前記ターゲット領域ごとの照射線量の配分を求める
ことを特徴とする放射線配分演算方法。 - 【請求項２】 患部に対して複数の方向から放射線を照
射して放射線治療を行う際に、各方向ごとの照射線量の
配分を求める放射線配分演算方法であって、 前記患部に設けられた複数の計算点における前記放射線
の吸収係数を行列要素とした吸収係数マトリックスの逆
行列に、前記各計算点における前記放射線の照射線量を
行列要素とした照射線量マトリックスを乗じて、各方向
ごとの照射線量の配分を求めることを特徴とする放射線
配分演算方法。 - 【請求項３】 前記照射線量マトリックスは、各行列要
素が１の単位マトリックスであることを特徴とする請求
項１又は請求項２に記載の放射線配分演算方法。 - 【請求項４】 患部における複数のターゲット領域に対
して各々放射線を照射して放射線治療を行う放射線治療
装置に用いられ、前記ターゲット領域ごとの照射線量の
配分を求める放射線配分計画装置であって、 前記ターゲット領域に設けられた複数の計算点における
前記放射線の吸収係数を行列要素とした吸収係数マトリ
ックス、および前記各計算点における前記放射線の照射
線量を行列要素とした照射線量マトリックスを記憶する
記憶手段と、 前記吸収係数マトリックスの逆行列に前記照射線量マト
リックスを乗じて、前記ターゲット領域ごとの照射線量
の配分を求める演算手段とを備えることを特徴とする放
射線配分計画装置。 - 【請求項５】 前記各計算点は、前記ターゲット領域の
周縁部の点または前記ターゲット領域の内部の点である
ことを特徴とする請求項４に記載の放射線配分計画装
置。 - 【請求項６】 患部に対して複数の方向から放射線を照
射して放射線治療を行う放射線治療装置に用いられ、各
方向ごとの照射線量の配分を求める放射線配分計画装置
であって、 前記患部に設けられた複数の計算点における前記放射線
の吸収係数を行列要素とした吸収係数マトリックス、お
よび前記各計算点における前記放射線の照射線量を行列
要素とした照射線量マトリックスを記憶する記憶手段
と、 前記吸収係数マトリックスの逆行列に前記照射線量マト
リックスを乗じて、各方向ごとの照射線量の配分を求め
る演算手段とを備えることを特徴とする放射線配分計画
装置。 - 【請求項７】 前記各計算点は、前記患部の周縁部の点
または前記患部の内部の点であることを特徴とする請求
項６に記載の放射線配分計画装置。 - 【請求項８】 前記照射線量マトリックスは、各要素が
１の単位マトリックスであることを特徴とする請求項４
から請求項７のいずれか一項に記載の放射線配分計画装
置。 - 【請求項９】 患部における複数のターゲット領域に対
して各々放射線を照射して放射線治療を行う放射線治療
装置であって、 前記放射線を出射させる線源と、 前記ターゲット領域に設けられた複数の計算点における
前記放射線の吸収係数を行列要素とした吸収係数マトリ
ックス、および前記各計算点における前記放射線の照射
線量を行列要素とした照射線量マトリックスを記憶する
記憶手段と、 前記吸収係数マトリックスの逆行列に前記照射線量マト
リックスを乗じて、前記ターゲット領域ごとの照射線量
の配分を求める演算手段と、 前記演算手段で得られた配分値に基づいて前記患部に照
射される照射線量を制御する線量制御手段とを備えるこ
とを特徴とする放射線治療装置。 - 【請求項１０】 前記線源を出射した放射線を異なる方
向から前記患部に照射させる照射方向変更手段を更に備
えることを特徴とする請求項９記載の放射線治療装置。 - 【請求項１１】 前記各計算点は、前記ターゲット領域
の周縁部の点または前記ターゲット領域の内部の点であ
ることを特徴とする請求項９または請求項１０に記載の
放射線配分計画装置。 - 【請求項１２】 患部に対して複数の方向から放射線を
照射して放射線治療を行う放射線治療装置であって、 前記放射線を出射させる線源と、 前記線源を出射した放射線を異なる方向から前記患部に
照射させる照射方向変更手段と、 前記患部に設けられた複数の計算点における前記放射線
の吸収係数を行列要素とした吸収係数マトリックス、お
よび前記各計算点における前記放射線の照射線量を行列
要素とした照射線量マトリックスを記憶する記憶手段
と、 前記吸収係数マトリックスの逆行列に前記照射線量マト
リックスを乗じて、各方向ごとの照射線量の配分を求め
る演算手段と、 前記演算手段で得られた配分値に基づいて前記患部に照
射される照射線量を制御する線量制御手段とを備えるこ
とを特徴とする放射線治療装置。 - 【請求項１３】 前記各計算点は、前記患部の周縁部の
点または前記患部の内部の点であることを特徴とする請
求項１２に記載の放射線配分計画装置。 - 【請求項１４】 前記照射線量マトリックスは、各要素
が１の単位マトリックスであることを特徴とする請求項
９から請求項１３のいずれか一項に記載の放射線治療装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6834298A JPH11262538A (ja) | 1998-03-18 | 1998-03-18 | 放射線配分演算方法、放射線配分計画装置および放射線治療装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6834298A JPH11262538A (ja) | 1998-03-18 | 1998-03-18 | 放射線配分演算方法、放射線配分計画装置および放射線治療装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11262538A true JPH11262538A (ja) | 1999-09-28 |
Family
ID=13371079
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6834298A Withdrawn JPH11262538A (ja) | 1998-03-18 | 1998-03-18 | 放射線配分演算方法、放射線配分計画装置および放射線治療装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11262538A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006280457A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Hitachi Ltd | 荷電粒子ビーム出射装置及び荷電粒子ビーム出射方法 |
| US9180313B2 (en) | 2012-02-22 | 2015-11-10 | Mitsubishi Electric Corporation | Range shifter and particle radiotherapy device |
-
1998
- 1998-03-18 JP JP6834298A patent/JPH11262538A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006280457A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Hitachi Ltd | 荷電粒子ビーム出射装置及び荷電粒子ビーム出射方法 |
| US9180313B2 (en) | 2012-02-22 | 2015-11-10 | Mitsubishi Electric Corporation | Range shifter and particle radiotherapy device |
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