JPH1125853A - Repairing method for silver electrode of plasma display panel - Google Patents

Repairing method for silver electrode of plasma display panel

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JPH1125853A
JPH1125853A JP18231697A JP18231697A JPH1125853A JP H1125853 A JPH1125853 A JP H1125853A JP 18231697 A JP18231697 A JP 18231697A JP 18231697 A JP18231697 A JP 18231697A JP H1125853 A JPH1125853 A JP H1125853A
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silver electrode
display panel
plasma display
spot
glass substrate
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誠嗣 田中
Koji Funemi
浩司 船見
Toshiharu Okada
俊治 岡田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the repairing method of a silver electrode of a plasma display panel capable of accommodating various sizes of short circuit defects and increasing the working state at a beam spot end part. SOLUTION: When a short circuit defect 2 of a silver electrode 1 formed on a glass substrate 9 of a plasma display panel is removed with laser beams, the laser beams are narrowed down in a fine spot 6, the fine spot 6 is scanned in two axial directions on the glass substrate 9 so as to remove the short circuit defect 2. The method is capable of accommodating various sizes of short circuit defects and improving the working state at a beam spot end part.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルのガラス基板上に形成された銀電極のショー
ト欠陥部をレーザ光により除去加工するプラズマディス
プレイパネルの銀電極リペア方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for repairing a silver electrode formed on a glass substrate of a plasma display panel by using a laser beam to remove a short defect portion of the silver electrode.

【0002】[0002]

【従来の技術】プラズマディスプレイパネル(以下、P
DPという。)とは、プラズマ放電の発光を利用したド
ットマトリックス方式のディスプレイパネルである。近
年、電子部品の高密度化、高精度化が進められるなか
で、高精度の修正技術が必要となってきており、特にこ
のPDPなどのように1つの欠陥も許されない分野にお
いては、レーザ光を利用したリペア方法は、ますますそ
の重要性がましてきている。 一方、レーザ光源自体に
ついても、効率よく、安定したレーザ光を供給できる発
信器を備えた小型で高性能なLD励起レーザが開発さ
れ、このLD励起レーザが装置の扱い易さから広く普及
しつつある。
2. Description of the Related Art Plasma display panels (hereinafter referred to as P
It is called DP. ) Is a dot matrix type display panel using light emission of plasma discharge. In recent years, high-density and high-precision electronic components have been required, and high-precision repair technology has become necessary. Particularly, in a field where one defect is not allowed, such as a PDP, a laser beam is used. The method of repair using is increasingly important. On the other hand, with respect to the laser light source itself, a small and high-performance LD pump laser having a transmitter capable of supplying a stable and efficient laser beam has been developed. is there.

【0003】一般に、リペア加工には、パルス幅が短
く、ピーク出力が高いレーザ光が使用される。これは、
レーザ照射部周辺への熱影響を殆どなくすためである。
ちなみに、PDPの銀電極の材料であって、リペア対象
となる銀は、その光吸収率は遠紫外光に対しては僅かに
大きくなるが、可視光、赤外光の領域では小さくなり、
しかも、その熱伝導率は高く、融点は他の金属に較べて
低めであるという物性を有しているため、特に熱影響を
受け易い。
Generally, a laser beam having a short pulse width and a high peak output is used for repair processing. this is,
This is for almost eliminating the thermal influence on the periphery of the laser irradiation part.
Incidentally, silver, which is the material of the silver electrode of the PDP and which is to be repaired, has a light absorption rate slightly larger for far ultraviolet light, but smaller in the visible light and infrared light regions,
In addition, it has high thermal conductivity and a physical property that its melting point is lower than that of other metals, so that it is particularly susceptible to heat.

【0004】また、PDPの銀電極の形成方法として
は、印刷工法などで銀のペースト状のものをガラス基板
状にパターン化し、その後、500℃で焼成する方法が
一般的である。この焼成時に、ペースト状の銀に含まれ
ていた溶剤はすべて蒸発する。
As a method of forming a silver electrode of a PDP, a method of patterning a silver paste into a glass substrate by a printing method or the like and then firing at 500 ° C. is common. During this firing, all the solvent contained in the silver in the form of paste evaporates.

【0005】このようにして形成された銀電極の厚み
は、約6μmもあり、レーザ光によるリペア加工は一般
に難しい。
The silver electrode thus formed has a thickness of about 6 μm, and it is generally difficult to perform repair processing using laser light.

【0006】以下、図7および図8を参照して、従来の
加工方法について説明する。図7(A)には従来のレー
ザ加工エリアの平面図を示しており、図7(B)にはそ
の加工断面図を示している。図7(A)において、レー
ザ光は、斜線部分で示したようなスポットエリア60を
有しており、2つの銀電極61間のショート欠陥部62
に対して、1ショットで除去加工を行う。このショート
欠陥部62がスポットエリア60よりも大きい場合は、
スポットエリア60をずらしてショットを重ねることに
よりショート欠陥部62の除去加工を行う。また、銀ペ
ーストが厚くて、1ショットで除去できない場合は、再
度同じところをレーザ照射し、除去加工を繰り返し行
う。
Hereinafter, a conventional processing method will be described with reference to FIGS. 7 and 8. FIG. 7A shows a plan view of a conventional laser processing area, and FIG. 7B shows a processing sectional view thereof. In FIG. 7A, the laser beam has a spot area 60 as indicated by a hatched portion, and a short defect portion 62 between two silver electrodes 61.
For one shot, removal processing is performed. When the short defect portion 62 is larger than the spot area 60,
By removing the short area 62 by shifting the spot area 60 and overlapping shots. If the silver paste is too thick to be removed in one shot, the same portion is again irradiated with a laser and the removal process is repeated.

【0007】図7(B)において、符号63はガラス基
板、65はレーザ光を示している。
[0007] In FIG. 7B, reference numeral 63 denotes a glass substrate, and 65 denotes a laser beam.

【0008】図7(A)のショート欠陥部62は、この
レーザ光65があたることにより、除去加工周辺部64
で銀が盛り上がり、また、縁にダレが生じる。
[0008] The short defect portion 62 shown in FIG.
Silver swells, and the edge is dripped.

【0009】図8は、従来のPDPの銀電極リペア方法
(以下、従来方法という。)に用いられる加工光学系を
示す。図8に示すように、従来方法では、YAGなどの
短パルスレーザ光源66を使用し、結像光学系67を介
して、スリットマスク68を透過させたレーザ光65を
レンズ69でガラス基板63上のショート欠陥部62に
結像させることにより、このショート欠陥部62の除去
加工を行っている。オペレータは、レーザ観察光学系7
0により、この除去加工部を観察することができる。
FIG. 8 shows a processing optical system used in a conventional PDP silver electrode repair method (hereinafter referred to as a conventional method). As shown in FIG. 8, in the conventional method, a short pulse laser light source 66 such as YAG is used, and a laser beam 65 transmitted through a slit mask 68 via an imaging optical system 67 is applied to a glass substrate 63 by a lens 69. By forming an image on the short defect portion 62, the short defect portion 62 is removed. The operator operates the laser observation optical system 7.
With 0, the removed portion can be observed.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】上記従来の構成では、
ショート欠陥部62の大きさに対して、スリットマスク
68のスリット幅を変えることにより、レーザ光65の
スポットエリア60の大きさを変えることができるが、
大きい欠陥、あるいはその逆に、小さい欠陥に対しては
完全には対応できない。
In the above-mentioned conventional configuration,
By changing the slit width of the slit mask 68 with respect to the size of the short defect portion 62, the size of the spot area 60 of the laser beam 65 can be changed.
Large defects, or vice versa, cannot be completely addressed.

【0011】また、レーザ光65のスポットエリア60
が大きいので、その端部と中央部とではエネルギ密度が
異なる。このため1ショットでレーザ加工した場合、ス
ポットエリア60の端部ではエネルギ密度が低くなり、
銀電極の溶融状態を形成し易い。したがって、この場合
には、欠陥修正部のまわりに銀の盛り上がりなどが見ら
れ、製品完成後に絶縁不良になるおそれがある。
The spot area 60 of the laser beam 65
Is large, the energy density is different between the end and the center. Therefore, when laser processing is performed in one shot, the energy density is low at the end of the spot area 60,
It is easy to form a molten state of the silver electrode. Therefore, in this case, swelling of silver or the like is observed around the defect correction portion, and there is a possibility that insulation failure may occur after the product is completed.

【0012】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
であり、その主たる目的とするところは、様々な大きさ
のショート欠陥部に対応でき、また、スポットエリア端
部での加工状態を改善することのできるプラズマディス
プレイパネルの銀電極リペア方法を提供することであ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and its main purpose is to be able to cope with short defects of various sizes and to improve the processing condition at the end of the spot area. And a method for repairing a silver electrode of a plasma display panel.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本願発明は、プラズマディスプレイパネルのガラス
基板上に形成された銀電極のショート欠陥部をレーザ光
により除去加工するプラズマディスプレイパネルの銀電
極リペア方法において、前記レーザ光を絞り込んでスポ
ットビームとなし、このスポットビームを前記ガラス基
板上で2軸方向に走査することにより前記ショート欠陥
部の除去加工を行うことを特徴とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above object, the present invention relates to a plasma display panel having a silver electrode formed on a glass substrate of a plasma display panel. In the electrode repair method, the laser beam is narrowed to form a spot beam, and the spot beam is biaxially scanned on the glass substrate to remove the short defect portion. .

【0014】このような方法では、レーザ光が絞り込ま
れてスポットビームにされ、このスポットビームがガラ
ス基板上で2軸方向に走査されることによりショート欠
陥部の除去加工が行われるため、小さい領域から大きな
領域まで緻密な領域で除去加工することができる。ま
た、ビームスポットを小さくしているため、スポット内
のエネルギ密度が低い部分は殆どない。したがって、銀
は溶融することなく蒸発して除去され、しかも、この除
去領域の境に銀のダレを生じることなく加工することが
できる。
In such a method, the laser beam is narrowed down to a spot beam, and the spot beam is scanned in a biaxial direction on the glass substrate to remove the short-circuit defect. The removal processing can be performed in a dense area from a large area to a large area. Further, since the beam spot is made small, there is almost no portion in the spot where the energy density is low. Therefore, silver is evaporated and removed without melting, and processing can be performed without causing silver dripping at the boundary of the removed region.

【0015】具体的には、前記ショート欠陥部を矩形形
状に近似認識し、この認識された矩形形状を前記スポッ
トビームの走査領域としたり、前記ガラス基板または/
およびスポットビーム自体を移動させることにより、前
記スポットビームのガラス基板上での2軸方向の走査を
行うこととすればよい。
More specifically, the short defect portion is approximately recognized as a rectangular shape, and the recognized rectangular shape is used as the spot beam scanning area, or the glass substrate and / or the glass substrate.
By moving the spot beam itself, scanning of the spot beam on the glass substrate in the biaxial directions may be performed.

【0016】さらに、前記ショート欠陥部の除去加工の
後に、この除去加工領域に、エネルギ密度を低くしたレ
ーザ光を照射することによりクリーニング加工すれば、
上記ショート欠陥部の除去加工により発生した微小な飛
散物を選択的に除去することができるため、加工状態を
一層改善できる。
Further, after the removal processing of the short defect portion, the removal processing area is cleaned by irradiating a laser beam having a reduced energy density to the cleaning processing area.
Since fine scattered matter generated by the processing for removing the short defect portion can be selectively removed, the processing state can be further improved.

【0017】その結果、様々な大きさのショート欠陥部
に対応でき、また、ビームスポット端部での加工状態を
改善することのできるプラズマディスプレイパネルの銀
電極リペア方法を得ることができる。
As a result, it is possible to obtain a silver electrode repair method for a plasma display panel capable of coping with short defects having various sizes and improving a processing state at an end of a beam spot.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、添付の図を参照して本発明
の実施の形態について説明し、本発明の理解に供する。
なお、以下の実施の形態は、本発明を具現化した例であ
って、本発明の技術的範囲を限定する性格のものではな
い。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings to provide an understanding of the present invention.
The following embodiments are examples in which the present invention is embodied, and do not limit the technical scope of the present invention.

【0019】図1は、本実施の形態にかかるプラズマデ
ィスプレイパネルの銀電極リペア方法の概略手順を示す
フロー図である。図1において、本実施の形態にかかる
プラズマディスプレイパネルの銀電極リペア方法(以
下、本方法という。)では、まず、レーザ光を絞り込ん
でスポットビームとする(ステップS1)。ついで、リ
ペア対象となるプラズマディスプレイパネル(以下、P
DPという。)の銀電極のショート欠陥部をオペレータ
が認識する(ステップS2)。そして、この認識結果に
基づいてオペレータはスポットビームの走査領域を設定
する(ステップS3)。具体的には、図2(A)に示す
ように、銀電極1から延びたショート欠陥2をオペレー
タが認識し、このショート欠陥2をカバーするように走
査領域設定用のポイント3、ポイント4の2点を指定
し、この2点を対角とする斜線部分で示すような矩形形
状に走査領域5を設定する。
FIG. 1 is a flowchart showing a schematic procedure of a silver electrode repair method for a plasma display panel according to the present embodiment. In FIG. 1, in the silver electrode repairing method for a plasma display panel according to the present embodiment (hereinafter, referred to as the present method), first, a laser beam is narrowed down to a spot beam (step S1). Next, the plasma display panel to be repaired (hereinafter referred to as P
It is called DP. The operator recognizes the short-circuit defect of the silver electrode in step (2) (step S2). Then, based on the recognition result, the operator sets a spot beam scanning area (step S3). More specifically, as shown in FIG. 2A, an operator recognizes a short defect 2 extending from the silver electrode 1, and scans the points 3 and 4 for setting the scanning area so as to cover the short defect 2. Two points are designated, and the scanning area 5 is set in a rectangular shape as indicated by a hatched portion having the two points as diagonals.

【0020】ついで、この走査領域5内でスポットビー
ムを2軸方向に走査してショート欠陥部2を除去加工す
る(ステップS4)。図3(A)は、このスポットビー
ムのスポットエリアである一点の微小スポット6により
ショート欠陥2を除去するための走査手順の一例を示し
ている。同図においては、微小スポット6は、銀電極1
の長手方向(図中の矢印方向)に往復運動を繰り返しな
がら長手方向と直角方向に所定ピッチづつずらしてい
き、微小スポット7、微小スポット8へというように微
小スポット6を順次移動させる。図3(B)は、ショー
ト欠陥部2を微小スポット6で走査した後の状態を示し
ている。同図においては、除去領域は、微小スポット6
の加工軌跡ですべて埋め尽くされている。図3(C)
は、微小スポットが走査した後のガラス基板9の断面を
示している。ここで、図3(A)における、銀電極1か
ら隣の電極に延びているショート欠陥部2は、微小スポ
ット6の走査後、図3(C)の中央部に見られる、ショ
ート欠陥部のレーザリペア跡10は、ガラス基板9が僅
かながら掘られている。このレーザリペア跡10は、従
来例に比べて、銀電極1のエッジ部分11のダレが少な
い。しかし、レーザによりショート欠陥部を除去後、こ
の除去領域およびそのまわりには、微細な飛散物12が
散乱していることがある。
Next, the spot beam is scanned in the two axial directions in the scanning region 5 to remove the short defect portion 2 (step S4). FIG. 3A shows an example of a scanning procedure for removing the short defect 2 by using one minute spot 6 which is a spot area of the spot beam. In the figure, the minute spot 6 is the silver electrode 1
While moving back and forth in the longitudinal direction (the direction of the arrow in the figure), the micro spots 6 are sequentially moved to the micro spot 7 and the micro spot 8 sequentially by a predetermined pitch in the direction perpendicular to the longitudinal direction. FIG. 3B shows a state after the short defect portion 2 has been scanned by the minute spot 6. In the figure, the removal area is a minute spot 6
Are all filled with the machining trajectory. FIG. 3 (C)
Shows a cross section of the glass substrate 9 after scanning of the minute spot. Here, the short defect portion 2 extending from the silver electrode 1 to the adjacent electrode in FIG. 3A is the short defect portion seen in the center of FIG. The laser repair mark 10 is formed by digging the glass substrate 9 slightly. The laser repair mark 10 has less sag at the edge portion 11 of the silver electrode 1 as compared with the conventional example. However, after the short defect is removed by the laser, fine scattered matter 12 may be scattered in and around the removed area.

【0021】そのような場合には、引き続いて、前記微
細な飛散物を除去するためのクリーニング加工を行う
(ステップS5、S6)。図2(B)は、ショート欠陥
を微小スポットで走査して除去した後の状態であり、図
中に示すように、飛散物12が全般に広まっている。こ
の飛散物12を除去するために、前記走査領域5よりも
広い領域を、走査領域設定用のポイント13、ポイント
14の2点を対角とする矩形形状に近似した走査領域1
5を設定する。図2(C)は、欠陥除去(走査領域
5)、レーザクリーニング(走査領域15)をそれぞれ
行った跡を示しており、飛散物がない状態である。
In such a case, a cleaning process for removing the fine flying substances is performed subsequently (steps S5 and S6). FIG. 2B shows a state after the short defect has been removed by scanning with a minute spot. As shown in the figure, the scattered matter 12 is generally spread. In order to remove the flying objects 12, the scanning area 1 which has a larger area than the scanning area 5 is approximated to a scanning area 1 having a rectangular shape having two points 13 and 14 for setting the scanning area.
Set 5. FIG. 2C shows traces of defect removal (scanning region 5) and laser cleaning (scanning region 15), respectively, in a state where there is no scattered matter.

【0022】図4は、レーザクリーニングについての説
明図である。このうち、図4(A)は、ショート欠陥部
2を微小スポットで走査して除去した後の断面図を示し
ている。同図においては、微小スポットの走査による除
去で微細な飛散物12が銀電極1やガラス基板9の上に
も見られる。
FIG. 4 is an explanatory diagram of laser cleaning. 4A shows a cross-sectional view after the short defect portion 2 is removed by scanning with a minute spot. In the figure, fine scattered matter 12 is also seen on the silver electrode 1 and the glass substrate 9 by removing the minute spot by scanning.

【0023】図4(B)は、レーザ光16が、クリーニ
ング走査している状態を示している。同図において、レ
ーザ光16を往復走査移動させ、レーザ光16aの状態
に進むと、ショート欠陥除去跡17や、銀電極1の上の
微細な飛散物は除去される。
FIG. 4B shows a state where the laser beam 16 is performing a cleaning scan. In the figure, when the laser beam 16 is reciprocally scanned and moved to the state of the laser beam 16a, the trace 17 for removing the short defect and the fine scattered matter on the silver electrode 1 are removed.

【0024】このとき、図示しないレーザ光源の出力を
弱めることにより、単位面積当たりのエネルギ密度を低
くして走査加工する(図1、ステップS5)。また、図
示しない集光レンズのデフォーカス量を大きくとって広
い面積を照射することにより、単位面積当たりのエネル
ギ密度は低くして走査加工することができる。このと
き、レーザの加工点でのエネルギ密度は、下に置かれた
構造物に対してダメージを与えないような量としてい
る。
At this time, the scanning process is performed with the energy density per unit area lowered by weakening the output of a laser light source (not shown) (FIG. 1, step S5). In addition, by irradiating a wide area with a large defocus amount of a not-shown condenser lens, the energy density per unit area can be reduced and scanning can be performed. At this time, the energy density at the processing point of the laser is set so as not to damage the underlying structure.

【0025】図5は、本方法に適用可能な装置のレーザ
光学系を示す。図5において、符号18はYAGなどの
短パルスレーザ光源、19は観察光源、20は観察光源
用ファイバ、21および22はダイクロイックミラー、
23は観察光学系用のCCDカメラ、24は対物レン
ズ、25はレボルバ、26は集光するレーザビームを示
している。なお、上記と同様、符号1は銀電極、9はガ
ラス基板、2はショート欠陥部を示している。
FIG. 5 shows a laser optical system of an apparatus applicable to the present method. In FIG. 5, reference numeral 18 denotes a short pulse laser light source such as YAG, 19 denotes an observation light source, 20 denotes an observation light source fiber, 21 and 22 denote dichroic mirrors,
23, a CCD camera for an observation optical system; 24, an objective lens; 25, a revolver; 26, a laser beam to be condensed; As in the above, reference numeral 1 denotes a silver electrode, 9 denotes a glass substrate, and 2 denotes a short defect portion.

【0026】このレーザ光学系では、図5に示すよう
に、オペレータはCCDカメラ23によりショート欠陥
部2を観察するが、ここではレーザ光軸と観察光学系の
軸が合っているため、CCDカメラ23を見ながら各走
査領域を決定することができる。各走査領域について
は、前記図2(A)および(B)に示した方法によりそ
れぞれ設定できる。
In this laser optical system, as shown in FIG. 5, the operator observes the short defect portion 2 with the CCD camera 23. Here, since the laser optical axis and the axis of the observation optical system are aligned, the CCD camera Each scanning area can be determined while looking at 23. Each scanning area can be set by the method shown in FIGS. 2A and 2B, respectively.

【0027】また、レボルバ25の回転により、対物レ
ンズ24の倍率を変えることができる。これにより、リ
ペア時には、アップフォーカスで加工すれば、ガラス基
板9に与えるダメージを少なくして加工することができ
る。
Further, by rotating the revolver 25, the magnification of the objective lens 24 can be changed. Thus, at the time of repair, if the processing is performed with the up focus, the processing can be performed with less damage to the glass substrate 9.

【0028】図6は、装置の外観を示す。同図に示すよ
うに、加工ヘッド27は、上記図5に示した短パルスを
発生するレーザ光源とレーザ光学系と観察光学系を組み
合わせた構成となっている。具体的には、基板設定部2
8と、加工ヘッド27と、この加工ヘッド27をX,
Y,Z軸方向に移動する機構とからなっている。同図に
おいて、加工ヘッド27をZ軸移動機構29により移動
させ、リペア時のフォーカスを調整することができる。
加工ヘッド27の観察光学系により、基板設定部28に
設定されたガラス基板の銀電極のショート欠陥部を読み
取り、そのガラス基板をX軸移動機構30およびY軸移
動機構31によりそれぞれ粗動で加工位置まで持ってき
て、その後、X軸移動機構30およびY軸移動機構31
により微細往復運動させてリペア加工を行う。
FIG. 6 shows the appearance of the apparatus. As shown in the figure, the processing head 27 has a configuration in which the laser light source that generates the short pulse shown in FIG. 5 is combined with a laser optical system and an observation optical system. Specifically, the board setting unit 2
8, a processing head 27, and this processing head 27
It has a mechanism for moving in the Y and Z axis directions. In the drawing, the processing head 27 can be moved by the Z-axis moving mechanism 29 to adjust the focus at the time of repair.
The short-circuit defect of the silver electrode of the glass substrate set in the substrate setting unit 28 is read by the observation optical system of the processing head 27, and the glass substrate is coarsely processed by the X-axis moving mechanism 30 and the Y-axis moving mechanism 31, respectively. Position, and then the X-axis moving mechanism 30 and the Y-axis moving mechanism 31
To perform a reciprocating motion.

【0029】なお、上記実施の形態(方法)では、レー
ザを絞り込んでスポットビームとした(図1のステップ
S1)後、微小スポットの走査領域を設定した(図1の
ステップS2およびS3)が、この逆の手順としてもよ
い。また、これらのステップS2およびS3において
は、オペレータがショート欠陥部を認識し、認識結果に
基づいて微小スポットの走査領域を設定するものとした
が、これらの一連の操作のうちの一部または全部を自動
化してもよい。
In the above-described embodiment (method), the laser beam is narrowed down to form a spot beam (step S1 in FIG. 1), and then the scanning area of the minute spot is set (steps S2 and S3 in FIG. 1). The reverse procedure may be adopted. In steps S2 and S3, the operator recognizes the short defect and sets the scanning area of the minute spot based on the recognition result. However, a part or all of these series of operations is performed. May be automated.

【0030】また、上記実施の形態(方法)では、ショ
ート欠陥部の除去加工(図1のステップS1〜3)後、
クリーニング加工している(ステップS5およびS6)
が、たとえば、ショート欠陥部の除去加工後に飛散物が
ほとんどない場合など、条件によっては、クリーニング
加工を省略してもよい。
In the above embodiment (method), after the removal processing of the short defect portion (steps S1 to S3 in FIG. 1),
Cleaning process is performed (steps S5 and S6)
However, the cleaning process may be omitted depending on conditions, for example, when there is almost no flying matter after the process of removing the short defect portion.

【0031】また、上記実施の形態(方法)では、各走
査領域を矩形形状に設定し、対角のポイントを指示して
いるが、これ以外の形状、たとえば、円形状に設定し、
中心と半径を指示してもよい。また、これとはまったく
別の設定方法、たとえば、図示しない制御部に座標入力
する方法としてもよい。
In the above-described embodiment (method), each scanning area is set to a rectangular shape and a diagonal point is designated. However, the scanning area is set to a shape other than this, for example, a circular shape.
The center and radius may be indicated. Further, a completely different setting method, for example, a method of inputting coordinates to a control unit (not shown) may be used.

【0032】また、上記実施の形態(装置)では、ショ
ート欠陥部を2軸方向に微小スポットで走査するため
に、X軸移動機構およびY軸移動機構の動作によりガラ
ス基板側を移動させたが、この代わりに、光学系の動作
により微小スポット自体を移動させてもよい。あるい
は、ガラス基板側と微小スポット自体をそれぞれ1軸方
向に移動させて両者の組み合わせにより2軸方向の移動
をするようにしてもよいのはもちろんである。
Further, in the above embodiment (apparatus), the glass substrate side is moved by the operation of the X-axis moving mechanism and the Y-axis moving mechanism in order to scan the short defect portion with a minute spot in two axial directions. Alternatively, the minute spot itself may be moved by the operation of the optical system. Alternatively, of course, the glass substrate side and the minute spot itself may be moved in the one axis direction, and the two may be moved in the two axis direction by a combination of the two.

【0033】さらに、上記実施の形態(装置)では、レ
ーザ光源の出力を変えて、エネルギ密度の高いスポット
ビームとエネルギ密度の低いレーザ光を出射している
が、出力の異なる別個のレーザ光源を備えてもよい。そ
の場合は、スポットビームの走査によるショート欠陥部
の除去加工と、エネルギ密度の低いレーザ光の走査によ
るクリーニング加工を、両者間のタイミングを若干ずら
して並行処理することができるため、全体の加工時間の
短縮化を図ることができる。
Further, in the above embodiment (apparatus), the output of the laser light source is changed to emit a spot beam having a high energy density and a laser beam having a low energy density, but separate laser light sources having different outputs are used. May be provided. In this case, the processing for removing the short defect by scanning with the spot beam and the cleaning processing for scanning with the laser beam having a low energy density can be performed in parallel with a slight shift in the timing between the two. Can be shortened.

【0034】[0034]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、小さい領域から大きな領域まで緻密な領域で
除去加工することができる。また、ビームスポットを小
さくしているため、スポット内のエネルギ密度が低い部
分は殆どない。したがって、銀は溶融することなく蒸発
して除去され、しかも、この除去領域の境に銀のダレを
生じることなく加工することができる。
As is apparent from the above description, according to the present invention, it is possible to perform removal processing in a dense area from a small area to a large area. Further, since the beam spot is made small, there is almost no portion in the spot where the energy density is low. Therefore, silver is evaporated and removed without melting, and processing can be performed without causing silver dripping at the boundary of the removed region.

【0035】さらに、ショート欠陥部の除去加工により
発生した微小な飛散物を選択的に除去することができる
ため、加工状態を一層改善できる。
Further, since fine scattered matter generated by the processing of removing the short defect portion can be selectively removed, the processing state can be further improved.

【0036】その結果、様々な大きさのショート欠陥部
に対応でき、また、ビームスポット端部での加工状態を
改善することのできるプラズマディスプレイパネルの銀
電極リペア方法を得ることができる。
As a result, it is possible to obtain a silver electrode repair method for a plasma display panel capable of coping with short defects having various sizes and improving a processing state at an end of a beam spot.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態にかかるプラズマディスプ
レイパネルの銀電極リペア方法の概略手順を示すフロー
図である。
FIG. 1 is a flowchart showing a schematic procedure of a silver electrode repair method for a plasma display panel according to an embodiment of the present invention.

【図2】ショート欠陥部の除去加工領域とレーザクリー
ニング領域を示す説明図である。
FIG. 2 is an explanatory view showing a processing area for removing a short defect portion and a laser cleaning area.

【図3】本方法によるリペア時のレーザ照射部と加工結
果を示す説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing a laser irradiation part and a processing result at the time of repair by the present method.

【図4】レーザクリーニング方法を示す説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram showing a laser cleaning method.

【図5】本方法に適用可能な装置の光学系の概略構成を
示す模式図である。
FIG. 5 is a schematic diagram showing a schematic configuration of an optical system of an apparatus applicable to the present method.

【図6】本方法に適用可能な装置の全体構成を示す模式
図である。
FIG. 6 is a schematic diagram showing an overall configuration of an apparatus applicable to the present method.

【図7】従来の一例におけるプラズマディスプレイパネ
ルの銀電極リペア方法によるリペア時のレーザ照射部と
加工結果を示す説明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram showing a laser irradiation part and a processing result at the time of repair by a silver electrode repair method of a plasma display panel according to a conventional example.

【図8】従来方法に適用可能な装置の光学系の概略構成
を示す模式図である。
FIG. 8 is a schematic diagram showing a schematic configuration of an optical system of an apparatus applicable to a conventional method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 銀電極 2 ショート欠陥部 3、4 走査領域設定用ポイント 5 微小スポットの走査領域 6〜8 スポットビームによる微小スポット 9 ガラス基板 10 レーザリペア跡 11 エッジ部分 12 飛散物 13、14 走査領域設定用ポイント 15 レーザの走査領域 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Silver electrode 2 Short defect part 3, 4 Scan area setting point 5 Micro spot scanning area 6-8 Micro spot by spot beam 9 Glass substrate 10 Laser repair mark 11 Edge part 12 Scattered object 13, 14 Scan area setting point 15 Laser scanning area

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 プラズマディスプレイパネルのガラス基
板上に形成された銀電極のショート欠陥部をレーザ光に
より除去加工するプラズマディスプレイパネルの銀電極
リペア方法において、 前記レーザ光を絞り込んでスポットビームとなし、この
スポットビームを前記ガラス基板上で2軸方向に走査す
ることにより前記ショート欠陥部の除去加工を行うこと
を特徴とするプラズマディスプレイパネルの銀電極リペ
ア方法。
1. A silver electrode repair method for a plasma display panel, wherein a short defect portion of a silver electrode formed on a glass substrate of the plasma display panel is removed and processed by a laser beam. A method of repairing a silver electrode of a plasma display panel, wherein the short beam is removed by scanning the spot beam on the glass substrate in two axial directions.
【請求項2】 前記ショート欠陥部を矩形形状に近似認
識し、この認識された矩形形状を前記スポットビームの
走査領域とする請求項1記載のプラズマディスプレイパ
ネルの銀電極リペア方法。
2. The silver electrode repair method for a plasma display panel according to claim 1, wherein the short defect portion is approximately recognized as a rectangular shape, and the recognized rectangular shape is used as the spot beam scanning area.
【請求項3】 前記ガラス基板または/およびスポット
ビーム自体を移動させることにより、前記スポットビー
ムのガラス基板上での2軸方向の走査を行う請求項1ま
たは2記載のプラズマディスプレイパネルの銀電極リペ
ア方法。
3. The silver electrode repair of a plasma display panel according to claim 1, wherein scanning of the spot beam on the glass substrate in two axial directions is performed by moving the glass substrate and / or the spot beam itself. Method.
【請求項4】 前記ショート欠陥部の除去加工の後に、
この除去加工領域を、パワー密度を低くしたレーザ光を
照射することによりクリーニング加工する請求項1〜3
のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイパネルの
銀電極リペア方法。
4. After the removal processing of the short defect portion,
The cleaning process is performed by irradiating the removal processing region with a laser beam having a reduced power density.
The method for repairing a silver electrode of a plasma display panel according to any one of the above items.
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