JPH1125699A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JPH1125699A
JPH1125699A JP9176969A JP17696997A JPH1125699A JP H1125699 A JPH1125699 A JP H1125699A JP 9176969 A JP9176969 A JP 9176969A JP 17696997 A JP17696997 A JP 17696997A JP H1125699 A JPH1125699 A JP H1125699A
Authority
JP
Japan
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signal
test
memory device
semiconductor memory
activating
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP9176969A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tetsuichiro Ichiguchi
哲一郎 市口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH1125699A publication Critical patent/JPH1125699A/en
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  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor storage device which can monitor internal signals in the mold state. SOLUTION: A test signal generator circuit 40 generates test signals. In response to a test signal, a monitor circuit 20 realizes a condition in which a node N1 through which a sense amplifier activating signal So passes, a node N2 through which a column decoder activating signal CDE passes, or a node N3 through which the output control signal OEM passes is connected with the /WE pin. On the other hand, an output control circuit 55 receives the write enable signal /WE at the H level from a control circuit 30 at the time of the test mode of an internal signal monitor. By this, it is possible to monitor internal signals about the access path from the /WE pin.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置に
関し、特に、モールド状態で内部信号をモニタすること
ができる半導体記憶装置に関するものである。
The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device capable of monitoring internal signals in a molded state.

【0002】[0002]

【従来の技術】モールド状態にある半導体記憶装置の電
気特性を評価するテスト方法として、外部接続端子にお
ける電位変化のタイミングを測定する方法がある。
2. Description of the Related Art As a test method for evaluating electric characteristics of a semiconductor memory device in a molded state, there is a method of measuring a timing of a potential change at an external connection terminal.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たテスト方法では、測定するタイミングが限られている
という問題がある。
However, the above-described test method has a problem that the timing of measurement is limited.

【0004】このため、より詳細な評価を行なう必要が
ある場合は、モールド樹脂を開封してチップを露出さ
せ、プロービングによりチップ内部の内部信号をモニタ
する方法が取られる。
Therefore, when it is necessary to perform a more detailed evaluation, a method of opening the mold resin to expose the chip, and monitoring the internal signal inside the chip by probing is adopted.

【0005】ところが、モールド樹脂を開封して行なう
テスト方法は、電気的特性を評価するのに多大な時間を
要し、またモールド樹脂を開封することによりチップに
破損を招くという問題がある。また、アセンブリ後の量
産テスト中に、チップの内部信号をモニタすることがで
きない。
However, the test method in which the mold resin is unsealed takes a long time to evaluate the electrical characteristics, and the unsealing of the mold resin causes damage to the chip. In addition, during the mass production test after the assembly, the internal signal of the chip cannot be monitored.

【0006】そこで、本発明は、かかる問題を解決する
ためになされたものであり、その目的は、モールド状態
で、チップ内部の内部信号をモニタすることができる半
導体記憶装置を提供することにある。
Accordingly, the present invention has been made to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of monitoring an internal signal inside a chip in a molded state. .

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る半導体記
憶装置は、外部接続端子と、複数の行および複数の列方
向にマトリックス状に配列された複数のメモリセルを含
むメモリアレイと、メモリセルのデータを読出し、また
はメモリセルにデータを書込むための内部回路と、外部
から受ける複数の制御信号に従い、内部回路を活性化す
るための活性化信号を出力する活性化信号発生手段と、
テストモードにおいて、テスト信号を発生するテスト信
号発生手段と、テスト信号発生手段から出力されるテス
ト信号に応答して、活性化信号を外部接続端子からモニ
タするモニタ手段とを備える。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device comprising: an external connection terminal; a memory array including a plurality of memory cells arranged in a matrix in a plurality of rows and a plurality of columns; An internal circuit for reading data from a cell or writing data to a memory cell, and activation signal generating means for outputting an activation signal for activating the internal circuit according to a plurality of control signals received from outside;
In the test mode, there are provided test signal generating means for generating a test signal, and monitor means for monitoring an activation signal from an external connection terminal in response to the test signal output from the test signal generating means.

【0008】請求項2に係る半導体記憶装置は、請求項
1に係る半導体記憶装置であって、内部回路は、第1の
信号線を介して活性化信号発生手段から活性化信号を受
け、モニタ手段は、スイッチ手段と、スイッチ手段と外
部接続端子とを接続する第2の信号線と、第1の信号線
とスイッチ手段とを接続する第3の信号線とを含み、ス
イッチ手段は、テスト信号に応答して、第2の信号線と
第3の信号線とを接続状態にする。
A semiconductor memory device according to a second aspect is the semiconductor memory device according to the first aspect, wherein the internal circuit receives the activation signal from the activation signal generating means via the first signal line, and The means includes switch means, a second signal line connecting the switch means to the external connection terminal, and a third signal line connecting the first signal line and the switch means. In response to the signal, the second signal line and the third signal line are connected.

【0009】請求項3に係る半導体記憶装置は、請求項
2に係る半導体記憶装置であって、内部回路は、センス
アンプであり、活性化信号は、センスアンプを活性化す
るセンスアンプ活性化信号である。
A semiconductor memory device according to a third aspect is the semiconductor memory device according to the second aspect, wherein the internal circuit is a sense amplifier, and the activation signal is a sense amplifier activation signal for activating the sense amplifier. It is.

【0010】請求項4に係る半導体記憶装置は、請求項
2に係る半導体記憶装置であって、内部回路は、メモリ
アレイの列を選択するデコーダであり、活性化信号は、
デコーダを活性化するデコーダ活性化信号である。
A semiconductor memory device according to a fourth aspect is the semiconductor memory device according to the second aspect, wherein the internal circuit is a decoder for selecting a column of the memory array, and the activation signal is
A decoder activation signal for activating the decoder.

【0011】請求項5に係る半導体記憶装置は、請求項
2に係る半導体記憶装置であって、内部回路は、出力バ
ッファであり、活性化信号は、出力バッファを活性化す
る出力制御信号である。
A semiconductor memory device according to a fifth aspect is the semiconductor memory device according to the second aspect, wherein the internal circuit is an output buffer, and the activation signal is an output control signal for activating the output buffer. .

【0012】請求項6に係る半導体記憶装置は、請求項
2に係る半導体記憶装置であって、内部回路は、センス
アンプと、デコーダと、出力バッファとを含み、活性化
信号は、センスアンプを活性化するセンスアンプ活性化
信号と、デコーダを活性化するデコーダ活性化信号と、
出力バッファを活性化する出力制御信号とを含む。
A semiconductor memory device according to a sixth aspect is the semiconductor memory device according to the second aspect, wherein the internal circuit includes a sense amplifier, a decoder, and an output buffer, and the activation signal includes a sense amplifier. A sense amplifier activation signal for activating, a decoder activation signal for activating the decoder,
And an output control signal for activating the output buffer.

【0013】請求項7に係る半導体記憶装置は、請求項
2に係る半導体記憶装置であって、内部回路は、メモリ
セルのデータを読出すための内部回路であり、外部接続
端子は、/WEピンであり、モニタ手段はさらに、活性
化信号発生手段に対して、Hレベルのライトイネーブル
信号/WEを与える制御手段を備える。
A semiconductor memory device according to a seventh aspect is the semiconductor memory device according to the second aspect, wherein the internal circuit is an internal circuit for reading data from a memory cell, and the external connection terminal is / WE. The monitor means further includes control means for supplying an H level write enable signal / WE to the activation signal generating means.

【0014】請求項8に係る半導体記憶装置は、請求項
1に係る半導体記憶装置であって、テスト信号発生手段
は、WCBRモードにおけるアドレスピンの入力に応答
してテスト信号を発生する。
According to an eighth aspect of the present invention, in the semiconductor memory device of the first aspect, the test signal generating means generates a test signal in response to an input of an address pin in the WCBR mode.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

[ 実施の形態1]本発明の実施の形態1は、半導体記憶
装置において、モールド状態でチップの内部信号をモニ
タすることを可能とするものである。
[Embodiment 1] Embodiment 1 of the present invention makes it possible to monitor internal signals of a chip in a molded state in a semiconductor memory device.

【0016】参考のため、従来の半導体記憶装置200
について簡単に説明する。図1は、従来の半導体記憶装
置200の基本構成を示すブロック図である。図1を参
照して、従来の半導体記憶装置200は、メモリアレイ
50、ロウデコーダ51、アドレスバッファ52、コラ
ムデコーダ54、およびセンスアンプ53を備える。
For reference, a conventional semiconductor memory device 200
Will be described briefly. FIG. 1 is a block diagram showing a basic configuration of a conventional semiconductor memory device 200. Referring to FIG. 1, a conventional semiconductor memory device 200 includes a memory array 50, a row decoder 51, an address buffer 52, a column decoder 54, and a sense amplifier 53.

【0017】メモリアレイ50は、複数の行方向および
複数の列方向にマトリックス状に配置された、図示しな
い複数のメモリセルを含む。行方向に並ぶ複数のメモリ
セルは、それぞれ対応するワード線に接続されている。
さらに、列方向に並ぶ複数のメモリセルは、それぞれ対
応するビット線に接続されている。
The memory array 50 includes a plurality of memory cells (not shown) arranged in a matrix in a plurality of rows and a plurality of columns. The plurality of memory cells arranged in the row direction are connected to corresponding word lines, respectively.
Further, the plurality of memory cells arranged in the column direction are connected to corresponding bit lines, respectively.

【0018】アドレスバッファ52は、アドレスピンA
0〜A7から入力される外部アドレス信号ADDに従
い、内部アドレス信号(より具体的には、内部ロウアド
レス信号RAi、内部コラムアドレス信号CAi)を出
力する。
The address buffer 52 includes an address pin A
In accordance with an external address signal ADD input from 0 to A7, an internal address signal (more specifically, an internal row address signal RAi and an internal column address signal CAi) is output.

【0019】ロウデコーダ51は、アドレスバッファ5
2から出力される内部ロウアドレス信号RAiを受け
て、1本のワード線を選択状態にする。
The row decoder 51 includes an address buffer 5
Receiving the internal row address signal RAi output from No. 2, one word line is selected.

【0020】コラムデコーダ54は、後述するクロック
ジェネレータ56から出力されるコラムデコーダ活性化
信号CDEに従い、アドレスバッファ52から出力され
る内部コラムアドレス信号CAiに基づき1本のビット
線を選択状態にする。
Column decoder 54 sets one bit line to a selected state based on an internal column address signal CAi output from address buffer 52 in accordance with a column decoder activation signal CDE output from clock generator 56 described later.

【0021】センスアンプ53は、同じくクロックジェ
ネレータ56から出力されるセンスアンプ活性化信号S
oに従い、選択されたメモリセルのデータを増幅して、
データ線DLINEに出力する。
The sense amplifier 53 has a sense amplifier activating signal S also output from the clock generator 56.
o, amplify the data of the selected memory cell,
Output to data line DLINE.

【0022】従来の半導体記憶装置200はさらに、出
力制御回路55、出力バッファ57、およびクロックジ
ェネレータ56を含む。
The conventional semiconductor memory device 200 further includes an output control circuit 55, an output buffer 57, and a clock generator 56.

【0023】出力制御回路55は、/WEピンと信号線
LINE4を介して接続される。出力制御回路55は、
/WEピンからHレベルのライトイネーブル信号/WE
を受けて、出力制御信号OEMを生成する。出力制御信
号OEMは、信号線LINE3を介して、出力バッファ
57に伝送される。
The output control circuit 55 is connected to the / WE pin via a signal line LINE4. The output control circuit 55
H level write enable signal / WE from / WE pin
In response, an output control signal OEM is generated. The output control signal OEM is transmitted to the output buffer 57 via the signal line LINE3.

【0024】出力バッファ57は、出力制御回路55か
ら受ける出力制御信号OEMに従い、データ線DLIN
Eを介して取得したデータを、データ入出力ピンDQに
伝送する。メモリアレイ50から読出されたデータは、
データ入出力ピンDQを介してチップ外部に出力され
る。
Output buffer 57 receives a data line DLIN in accordance with an output control signal OEM received from output control circuit 55.
The data obtained via E is transmitted to the data input / output pin DQ. Data read from the memory array 50 is
The data is output to the outside of the chip via the data input / output pin DQ.

【0025】クロックジェネレータ56は、/RASピ
ンからロウアドレスストローブ信号/RASを受け、さ
らに/CASピンからコラムアドレスストローブ信号/
CASを受けて、センスアンプ活性化信号So、コラム
デコーダ活性化信号CDEを含む各種活性化信号を生成
する。センスアンプ活性化信号Soは、信号線LINE
1を介して、センスアンプ53に伝送される。コラムデ
コーダ活性化信号CDEは、信号線LINE2を介して
コラムデコーダ54に伝送される。
Clock generator 56 receives a row address strobe signal / RAS from a / RAS pin, and further receives a column address strobe signal / RAS from a / CAS pin.
In response to CAS, various activation signals including a sense amplifier activation signal So and a column decoder activation signal CDE are generated. The sense amplifier activation signal So is connected to the signal line LINE.
1 is transmitted to the sense amplifier 53. Column decoder activation signal CDE is transmitted to column decoder 54 via signal line LINE2.

【0026】次に本発明の実施の形態1における半導体
記憶装置100について説明する。図2は、本発明の実
施の形態1における半導体記憶装置100の基本構成を
示すブロック図であり、図1に示す従来の半導体記憶装
置200と同じ構成要素には、同じ記号、符号を付し、
その説明を省略する。
Next, the semiconductor memory device 100 according to the first embodiment of the present invention will be described. FIG. 2 is a block diagram showing a basic configuration of the semiconductor memory device 100 according to the first embodiment of the present invention. The same components as those of the conventional semiconductor memory device 200 shown in FIG. ,
The description is omitted.

【0027】図2を参照して、本発明の実施の形態1に
おける半導体記憶装置100が、図1に示す従来の半導
体記憶装置200と相違する点は、内部信号をモニタす
るためのモニタ回路20を備える点、モニタ回路20を
制御するためのテスト信号発生回路40を備える点、お
よび出力制御回路55を制御する制御回路30を備える
点にある。
Referring to FIG. 2, semiconductor memory device 100 according to the first embodiment of the present invention is different from conventional semiconductor memory device 200 shown in FIG. 1 in that monitor circuit 20 for monitoring internal signals is provided. , A test signal generation circuit 40 for controlling the monitor circuit 20, and a control circuit 30 for controlling the output control circuit 55.

【0028】テスト信号発生回路40の構成および動作
について説明する。テスト信号発生回路40は、WCB
RモードにおけるアドレスピンA0〜A7からの入力に
基づき、テスト信号φ1、φ2、φ3を発生する。いず
れか1のテスト信号φ1、φ2、φ3がHレベルになる
と、後述するモニタ回路20により、内部信号のモニタ
が可能となる(以下、この状態を内部信号モニタテスト
モードと称す)。
The configuration and operation of test signal generation circuit 40 will be described. The test signal generation circuit 40
Test signals φ1, φ2, and φ3 are generated based on inputs from address pins A0 to A7 in the R mode. When any one of the test signals φ1, φ2, φ3 goes to the H level, an internal signal can be monitored by the monitor circuit 20 described later (this state is hereinafter referred to as an internal signal monitor test mode).

【0029】図3は、本発明の実施の形態1におけるテ
スト信号発生回路40の基本構成を示すブロック図であ
る。図3を参照して、テスト信号発生回路40は、WC
BRディテクタ41、ロウアドレスバッファ42、オー
バーボルテージディテクタ43、テストアドレスラッチ
44、ジェネレータ45およびインバータ回路46を含
む。
FIG. 3 is a block diagram showing a basic configuration of test signal generation circuit 40 according to the first embodiment of the present invention. Referring to FIG. 3, test signal generation circuit 40
It includes a BR detector 41, a row address buffer 42, an overvoltage detector 43, a test address latch 44, a generator 45, and an inverter circuit 46.

【0030】WCBRディテクタ41は、/RASピン
からロウアドレスストローブ信号/RASを、/CAS
ピンからコラムアドレスストローブ信号/CASを、そ
して/WEピンからライトイネーブル信号/WEを受け
て、WCBRモードを検出する。WCBRディテクタ4
1は、検出結果としてWCBR信号およびTE信号を生
成して出力する。
WCBR detector 41 outputs a row address strobe signal / RAS from a / RAS pin to a / CAS signal.
A WCBR mode is detected by receiving a column address strobe signal / CAS from a pin and a write enable signal / WE from a / WE pin. WCBR detector 4
1 generates and outputs a WCBR signal and a TE signal as detection results.

【0031】ここで、WCBRモードとは、ロウアドレ
スストローブ信号/RASがLレベルになる前に、コラ
ムアドレス信号/CASおよびライトイネーブル信号/
WEがLレベルになる状態をいう。
Here, the WCBR mode means that the column address signal / CAS and the write enable signal / RAS are output before the row address strobe signal / RAS goes low.
This refers to the state where WE is at the L level.

【0032】ロウアドレスバッファ42は、アドレスピ
ンA0〜A7から受ける外部アドレス信号ADDに従
い、内部ロウアドレス信号RAiを出力する。
Row address buffer 42 outputs an internal row address signal RAi according to an external address signal ADD received from address pins A0-A7.

【0033】オーバーボルテージディテクタ43は、ス
ペック外の高電圧レベル(通常の動作電圧よりも高いレ
ベル)の入力を受けるアドレスピンAj(ここでAjと
は、アドレスピンA0〜A7のいずれか1つに相当す
る)を検出する。アドレスピンAjの入力が高電圧であ
った場合、アドレスピンAjを示すOVAj信号を発生
する。
The over-voltage detector 43 receives an input of a high voltage level (a level higher than a normal operating voltage) outside the specification (where Aj is one of the address pins A0 to A7). Corresponding). When the input to the address pin Aj is at a high voltage, an OVAj signal indicating the address pin Aj is generated.

【0034】テストアドレスラッチ44は、ロウアドレ
スバッファ42から出力される内部ロウアドレス信号R
Ai、およびオーバーボルテージディテクタ43から出
力されるOVAj信号をラッチする。ラッチした内部ロ
ウアドレス信号RAiは、XAi信号として、後述する
ジェネレータ45に転送される。また、ラッチしたOV
Aj信号は、XOVAj信号としてジェネレータ45に
転送される。XAi信号およびXOVAj信号の転送の
タイミングは、WCBRディテクタ41から出力される
WCBR信号に従う。
The test address latch 44 receives the internal row address signal R output from the row address buffer 42.
Ai and the OVAj signal output from the overvoltage detector 43 are latched. The latched internal row address signal RAi is transferred to a generator 45 described later as an XAi signal. Also, the latched OV
The Aj signal is transferred to the generator 45 as an XOVAj signal. The transfer timing of the XAi signal and the XOVAj signal follows the WCBR signal output from the WCBR detector 41.

【0035】ジェネレータ45は、テストアドレスラッ
チ44から出力されるXAi信号およびXOVAj信号
に基づき、テスト信号φ1、φ2、φ3を生成する。テ
スト信号φ1、φ2、φ3の生成開始のタイミングは、
WCBRディテクタ41から出力されるTE信号に従
う。
Generator 45 generates test signals φ1, φ2, φ3 based on the XAi signal and XOVAj signal output from test address latch 44. The timing of starting generation of the test signals φ1, φ2, φ3 is
According to the TE signal output from the WCBR detector 41.

【0036】テスト信号φ1、φ2、φ3のいずれがH
レベルになるかは、内部ロウアドレス信号RAiと、高
電圧レベルの入力があったアドレスピンAjとの関係で
決定される。なお、テスト信号φ1、φ2、φ3は、い
ずれか1つがHレベルであれば、他は全てLレベルにな
る。
Any of test signals φ1, φ2, φ3 is H
The level is determined by the relationship between the internal row address signal RAi and the address pin Aj to which the high voltage level has been input. Note that if any one of the test signals φ1, φ2, and φ3 is at the H level, the others are at the L level.

【0037】インバータ回路46は、テスト信号φ1、
φ2、φ3を受け、これを反転して反転テスト信号/φ
1、/φ2、/φ3を生成する。
The inverter circuit 46 generates test signals φ1,
receives φ2 and φ3 and inverts them to generate an inverted test signal / φ
1, / φ2 and / φ3 are generated.

【0038】次に、テスト信号発生回路40の動作につ
いて説明する。図4は、本発明の実施の形態1における
テスト信号発生回路40の動作を説明するための各種信
号のタイミングチャートである。図3および図4を参照
して、時刻t1において、ロウアドレスバッファ42
が、内部ロウアドレス信号RAiを出力する。一方、オ
ーバーボルテージディテクタ43は、アドレスピンAj
からの入力がスペック外の高電圧レベルであることを検
出し、OVAj信号を出力する。
Next, the operation of test signal generation circuit 40 will be described. FIG. 4 is a timing chart of various signals for explaining the operation of test signal generation circuit 40 according to the first embodiment of the present invention. Referring to FIGS. 3 and 4, at time t1, row address buffer 42
Output the internal row address signal RAi. On the other hand, the overvoltage detector 43 is connected to the address pin Aj.
Is detected as a high voltage level out of the specification, and outputs an OVAj signal.

【0039】時刻t2において、コラムアドレスストロ
ーブ信号/CASおよびライトイネーブル信号/WE
が、Lレベルに立下がる。ロウアドレスストローブ信号
/RASはHレベルである。
At time t2, column address strobe signal / CAS and write enable signal / WE
Falls to the L level. Row address strobe signal / RAS is at H level.

【0040】時刻t3において、WCBRディテクタ4
1は、WCBRモードの開始タイミング(ロウアドレス
ストローブ信号/RASがLレベルになる前に、コラム
アドレス信号/CASおよびライトイネーブル信号/W
EがLレベルになる)を検出して、HレベルのWCBR
信号を発生する。
At time t3, the WCBR detector 4
1 indicates the start timing of the WCBR mode (before the row address strobe signal / RAS goes low, the column address signal / CAS and the write enable signal / W
E becomes L level), and WCBR of H level is detected.
Generate a signal.

【0041】時刻t4において、HレベルのWCBR信
号を受けたテストアドレスラッチ44は、XAi信号お
よびXOVAj信号を出力する。
At time t4, test address latch 44 receiving the WCBR signal at the H level outputs XAi signal and XOVAj signal.

【0042】時刻t5において、ロウアドレスストロー
ブ信号/RAS信号がLレベルに立下がり、さらに、時
刻t6には、コラムアドレスストローブ信号/CASお
よびライトイネーブル信号/WEがHレベルに立上が
る。
At time t5, row address strobe signal / RAS falls to L level, and at time t6, column address strobe signal / CAS and write enable signal / WE rise to H level.

【0043】時刻t7において、ロウアドレスストロー
ブ信号/RASがHレベルに立上がると、WCBR信号
はLレベルに立下がる。これに基づき、TE信号がHレ
ベルに立上がる。
At time t7, when row address strobe signal / RAS rises to H level, WCBR signal falls to L level. Based on this, the TE signal rises to the H level.

【0044】時刻t8において、HレベルのTE信号を
受けたジェネレータ45は、XAi信号およびOVAj
信号に基づき、テスト信号φ1、φ2、φ3を生成して
出力する。この場合、例えば図4に示すように、テスト
信号φ1がHレベル、テスト信号φ2、φ3がLレベル
になる。
At time t8, generator 45 receiving the H-level TE signal outputs XAi signal and OVAj.
Based on the signals, test signals φ1, φ2, and φ3 are generated and output. In this case, for example, as shown in FIG. 4, the test signal φ1 goes high and the test signals φ2 and φ3 go low.

【0045】さらに、時刻t9には、インバータ回路4
6により、反転テスト信号/φ1、/φ2、/φ3が出
力される。この場合、反転テスト信号/φ1はLレベ
ル、反転テスト信号/φ2、/φ3はHレベルになる。
Further, at time t9, the inverter circuit 4
6, the inverted test signals / φ1, / φ2, / φ3 are output. In this case, the inverted test signal / φ1 goes low, and the inverted test signals / φ2 and / φ3 go high.

【0046】続いて、図2に示す本発明の実施の形態1
におけるモニタ回路20について説明する。モニタ回路
20は、テスト信号φ1、φ2、φ3、および反転テス
ト信号/φ1、/φ2、/φ3に従い、アクセスパスに
関わるセンスアンプ活性化信号So、コラムデコーダ活
性化信号CDE、および出力制御信号OEMを/WEピ
ンからモニタすることを可能とする。
Subsequently, the first embodiment of the present invention shown in FIG.
Will be described. In accordance with test signals φ1, φ2, φ3 and inverted test signals / φ1, / φ2, / φ3, monitor circuit 20 sense amplifier activation signal So related to the access path, column decoder activation signal CDE, and output control signal OEM. Can be monitored from the / WE pin.

【0047】図5は、本発明の実施の形態1におけるモ
ニタ回路20の基本構成の一例を示す回路図である。図
5を参照して、モニタ回路20は、スイッチ1、スイッ
チ2、およびスイッチ3を含む。スイッチ1は、センス
アンプ活性化信号Soをモニタするための回路である。
スイッチ2は、コラムデコーダ活性化信号CDEをモニ
タするための回路である。スイッチ3は、出力制御信号
OEMをモニタするための回路である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing an example of a basic configuration of monitor circuit 20 according to the first embodiment of the present invention. Referring to FIG. 5, monitor circuit 20 includes switch 1, switch 2, and switch 3. The switch 1 is a circuit for monitoring the sense amplifier activation signal So.
Switch 2 is a circuit for monitoring column decoder activation signal CDE. The switch 3 is a circuit for monitoring the output control signal OEM.

【0048】スイッチ1について説明する。スイッチ1
は、PMOSトランジスタPT1およびNMOSトラン
ジスタNT1を含む。それぞれの一方の導通端子は、信
号線LINE11と接続され、他方の導通端子は、信号
線LINE12と接続される。PMOSトランジスタP
T1のゲート電極は、反転テスト信号/φ1を受け、N
MOSトランジスタNT1のゲート電極は、テスト信号
φ1を受ける。
The switch 1 will be described. Switch 1
Includes a PMOS transistor PT1 and an NMOS transistor NT1. One of the conductive terminals is connected to the signal line LINE11, and the other conductive terminal is connected to the signal line LINE12. PMOS transistor P
The gate electrode of T1 receives the inverted test signal / φ1,
The gate electrode of MOS transistor NT1 receives test signal φ1.

【0049】信号線LINE11は、ノードN1と接続
され、信号線LINE12は、/WEピンと接続され
る。なお、図2に示すように信号線LINE11は、ノ
ードN1で信号線LINE1と接続される。
Signal line LINE11 is connected to node N1, and signal line LINE12 is connected to the / WE pin. Note that, as shown in FIG. 2, the signal line LINE11 is connected to the signal line LINE1 at the node N1.

【0050】図5を参照して、スイッチ2について説明
する。スイッチ2は、PMOSトランジスタPT2およ
びNMOSトランジスタNT2を含む。PMOSトラン
ジスタPT2およびNMOSトランジスタNT2のそれ
ぞれの一方の導通端子は、信号線LINE21と接続さ
れ、それぞれの他方の導通端子は、信号線LINE22
と接続される。PMOSトランジスタPT2のゲート電
極は、反転テスト信号/φ2を受け、NMOSトランジ
スタNT2のゲート電極は、テスト信号φ2を受ける。
The switch 2 will be described with reference to FIG. Switch 2 includes a PMOS transistor PT2 and an NMOS transistor NT2. One conduction terminal of each of the PMOS transistor PT2 and the NMOS transistor NT2 is connected to the signal line LINE21, and the other conduction terminal of each of the PMOS transistor PT2 and the NMOS transistor NT2 is connected to the signal line LINE22.
Connected to The gate electrode of PMOS transistor PT2 receives inverted test signal / φ2, and the gate electrode of NMOS transistor NT2 receives test signal φ2.

【0051】信号線LINE21は、ノードN2と接続
され、信号線LINE22は、/WEピンと接続され
る。なお、図2に示すように信号線LINE21は、ノ
ードN2で信号線LINE2と接続される。
Signal line LINE21 is connected to node N2, and signal line LINE22 is connected to the / WE pin. Note that, as shown in FIG. 2, the signal line LINE21 is connected to the signal line LINE2 at the node N2.

【0052】図5を参照して、スイッチ3について説明
する。スイッチ3は、PMOSトランジスタPT3と、
NMOSトランジスタNT3を含む。PMOSトランジ
スタPT3およびNMOSトランジスタNT3のそれぞ
れの一方の導通端子は、信号線LINE31と接続さ
れ、それぞれの他方の導通端子は、信号線LINE32
と接続される。PMOSトランジスタPT3のゲート電
極は、反転テスト信号/φ3を受け、NMOSトランジ
スタNT3のゲート電極は、テスト信号φ3を受ける。
The switch 3 will be described with reference to FIG. The switch 3 includes a PMOS transistor PT3,
Includes NMOS transistor NT3. One conductive terminal of each of the PMOS transistor PT3 and the NMOS transistor NT3 is connected to the signal line LINE31, and the other conductive terminal is connected to the signal line LINE32.
Connected to The gate electrode of PMOS transistor PT3 receives inverted test signal / φ3, and the gate electrode of NMOS transistor NT3 receives test signal φ3.

【0053】信号線LINE31は、ノードN3と接続
され、信号線LINE32は、/WEピンと接続され
る。なお、図2に示すように信号線LINE31は、ノ
ードN3で信号線LINE3と接続される。
Signal line LINE31 is connected to node N3, and signal line LINE32 is connected to the / WE pin. Note that, as shown in FIG. 2, the signal line LINE31 is connected to the signal line LINE3 at the node N3.

【0054】次にスイッチ1、2、3の動作について説
明する。上述したように、内部信号モニタテストモード
においては、テスト信号φ1、φ2、φ3のいずれか1
つがHレベルに立上がる。これにより、スイッチ1、
2、3のいずれかがon状態(導通状態)になる。例え
ば、スイッチ1がon状態になれば、/WEピンとノー
ドN1とが電気的に接続状態になる。この結果、/WE
ピンからノードN1上の信号をモニタすることが可能と
なる。
Next, the operation of the switches 1, 2, and 3 will be described. As described above, in the internal signal monitor test mode, any one of the test signals φ1, φ2, φ3
One rises to the H level. Thereby, the switch 1,
One of 2 and 3 is turned on (conductive state). For example, when the switch 1 is turned on, the / WE pin and the node N1 are electrically connected. As a result, / WE
The signal on the node N1 can be monitored from the pin.

【0055】これにより、テスト信号φ1をHレベルと
し、かつ読出動作モードに設定すると、ノードN1(す
なわち、LINE1)上に現われるセンスアンプ活性化
信号Soの遷移を、/WEピンからモニタすることが可
能となる。
Thus, when test signal φ1 is set to the H level and set to the read operation mode, the transition of sense amplifier activation signal So appearing on node N1 (ie, LINE1) can be monitored from / WE pin. It becomes possible.

【0056】同様に、テスト信号φ2をHレベルとし、
かつ読出動作モードに設定すると、ノードN2(すなわ
ち、LINE2)上に現われるコラムデコーダ活性化信
号CDEの遷移を、/WEピンからモニタすることが可
能となる。さらに、テスト信号φ3をHレベルとし、か
つ読出動作モードに設定すると、ノードN3(すなわ
ち、LINE3)上に現われる出力制御信号OEMの遷
移を、/WEピンからモニタすることが可能となる。
Similarly, the test signal φ2 is set to the H level,
In addition, when the read operation mode is set, the transition of the column decoder activation signal CDE appearing on the node N2 (that is, LINE2) can be monitored from the / WE pin. Further, when the test signal φ3 is set to the H level and the read operation mode is set, the transition of the output control signal OEM appearing on the node N3 (that is, LINE3) can be monitored from the / WE pin.

【0057】次に、図2に示す本発明の実施の形態1に
おける制御回路30について説明する。制御回路30
は、内部信号モニタテストモードにおいて、出力制御回
路55に対してHレベルのライトイネーブル信号/WE
を伝送する。
Next, the control circuit 30 according to the first embodiment of the present invention shown in FIG. 2 will be described. Control circuit 30
Is a high level write enable signal / WE to the output control circuit 55 in the internal signal monitor test mode.
Is transmitted.

【0058】図6は、本発明の実施の形態1における制
御回路30の基本構成の一例を示す回路図であり、併せ
て、出力制御回路55との接続関係を示している。図6
を参照して、制御回路30は、AND回路5、インバー
タ回路6、PMOSトランジスタPT4、PT5および
NMOSトランジスタNT4を含む。
FIG. 6 is a circuit diagram showing an example of the basic configuration of control circuit 30 according to the first embodiment of the present invention, and also shows the connection relationship with output control circuit 55. FIG.
Referring to, control circuit 30 includes an AND circuit 5, an inverter circuit 6, PMOS transistors PT4 and PT5, and an NMOS transistor NT4.

【0059】AND回路5は、入力に反転テスト信号/
φ1、/φ2、/φ3を受ける。インバータ回路6は、
AND回路5の出力を入力に受ける。PMOSトランジ
スタPT4およびNMOSトランジスタNT4のそれぞ
れの一方の導通端子は、信号線LINE41と接続され
る。さらに、それぞれの他方の導通端子は、信号線LI
NE42と接続される。PMOSトランジスタPT4の
ゲート電極は、AND回路5の出力を受ける。NMOS
トランジスタNT4のゲート電極は、インバータ回路6
の出力を受ける。PMOSトランジスタPT5は、内部
電源電圧VCCと信号線LINE41との間に接続さ
れ、そのゲート電極は、インバータ回路6の出力を受け
る。
The AND circuit 5 has an inversion test signal /
Receive φ1, / φ2, / φ3. The inverter circuit 6
The output of the AND circuit 5 is received at the input. One conduction terminal of each of the PMOS transistor PT4 and the NMOS transistor NT4 is connected to the signal line LINE41. Further, each other conductive terminal is connected to a signal line LI.
Connected to NE42. The gate electrode of PMOS transistor PT4 receives the output of AND circuit 5. NMOS
The gate electrode of the transistor NT4 is connected to the inverter circuit 6
Receive the output of PMOS transistor PT5 is connected between internal power supply voltage VCC and signal line LINE41, and has a gate electrode receiving the output of inverter circuit 6.

【0060】信号線LINE41は、ノードN4と接続
され、信号線LINE42は、/WEピンと接続され
る。ここでノードN4とは、出力制御回路55の入力ノ
ードにあたり、出力制御回路55は、ノードN4からラ
イトイネーブル信号/WEを受ける。
Signal line LINE41 is connected to node N4, and signal line LINE42 is connected to the / WE pin. Here, the node N4 corresponds to an input node of the output control circuit 55, and the output control circuit 55 receives the write enable signal / WE from the node N4.

【0061】次に、制御回路30の動作について簡単に
説明する。図7は、本発明の実施の形態1における制御
回路30の動作を説明するための各種信号のタイミング
チャートである。
Next, the operation of the control circuit 30 will be briefly described. FIG. 7 is a timing chart of various signals for describing the operation of control circuit 30 in the first embodiment of the present invention.

【0062】まず、内部信号モニタテストモードにおけ
る制御回路30の動作を説明する。簡単のため、テスト
信号φ1をHレベルとする。
First, the operation of the control circuit 30 in the internal signal monitor test mode will be described. For simplicity, test signal φ1 is set at H level.

【0063】図6および図7を参照して、時刻t1にお
いて、反転テスト信号/φ1がLレベル(反転テスト信
号/φ2、/φ3がHレベル)になる。この場合、前述
したように、/WEピンは、ノードN1と接続状態にあ
る。
Referring to FIGS. 6 and 7, at time t1, inverted test signal / φ1 attains L level (inverted test signals / φ2 and / φ3 are at H level). In this case, as described above, the / WE pin is connected to node N1.

【0064】時刻t2において、AND回路5は、Lレ
ベルの反転テスト信号/φ1を受けて、Hレベルの信号
を出力する。さらに、時刻t3においては、インバータ
回路6は、AND回路5からHレベルの信号を受けて、
Lレベルの信号を出力する。
At time t2, AND circuit 5 receives L-level inverted test signal / φ1 and outputs an H-level signal. Further, at time t3, inverter circuit 6 receives an H level signal from AND circuit 5,
An L level signal is output.

【0065】これにより、PMOSトランジスタPT4
およびNMOSトランジスタNT4は、非導通状態とな
る。この結果、信号線LINE41と信号線LINE4
2とが非接続状態になる。
As a result, the PMOS transistor PT4
And the NMOS transistor NT4 is turned off. As a result, the signal lines LINE41 and LINE4
2 is disconnected.

【0066】時刻t4において、PMOSトランジスタ
PT5は、インバータ回路6からLレベルの信号を受け
て導通状態になる。この結果、内部電源電圧VCCに基
づき、ノードN4がHレベルにまで充電される。
At time t4, PMOS transistor PT5 is turned on upon receiving the L-level signal from inverter circuit 6. As a result, the node N4 is charged to the H level based on the internal power supply voltage VCC.

【0067】すなわち、半導体記憶装置100の出力制
御回路55は、内部信号モニタテストモードにおいて
は、/WEピンの電位に関わらずHレベルのライトイネ
ーブル信号/WEを受けることになる。この結果、出力
制御回路55は、出力制御信号OEMを生成して出力す
ることができる。
That is, in the internal signal monitor test mode, output control circuit 55 of semiconductor memory device 100 receives H level write enable signal / WE regardless of the potential of / WE pin. As a result, the output control circuit 55 can generate and output the output control signal OEM.

【0068】一方、内部信号モニタテストモード以外の
場合は、反転テスト信号/φ1、/φ2、/φ3は全て
Hレベルであり、AND回路5の出力がLレベル、イン
バータ回路6の出力がHレベルとなる。これにより、P
MOSトランジスタPT4およびNMOSトランジスタ
NT4は導通状態になる。さらに、PMOSトランジス
タPT5は、非導通状態になる。この結果、半導体記憶
装置100の出力制御回路55は、図1に示す従来の半
導体記憶装置200の場合と同様に、/WEピンから信
号を受取ることになる。
On the other hand, in modes other than the internal signal monitor test mode, the inverted test signals / φ1, / φ2, / φ3 are all at H level, the output of the AND circuit 5 is at L level, and the output of the inverter circuit 6 is at H level. Becomes This allows P
MOS transistor PT4 and NMOS transistor NT4 are turned on. Further, the PMOS transistor PT5 is turned off. As a result, the output control circuit 55 of the semiconductor memory device 100 receives a signal from the / WE pin as in the case of the conventional semiconductor memory device 200 shown in FIG.

【0069】以上のように、半導体記憶装置100は、
モールド状態で、/WEピンからアクセスパスに関わる
活性化信号をモニタすることが可能となる。
As described above, the semiconductor memory device 100
In the molded state, it becomes possible to monitor the activation signal related to the access path from the / WE pin.

【0070】次に、本発明の実施の形態1の半導体記憶
装置100における電気特性評価テストについて説明す
る。
Next, an electric characteristic evaluation test in semiconductor memory device 100 according to the first embodiment of the present invention will be described.

【0071】参考のため、モールド状態にある従来の半
導体記憶装置200に対する電気特性評価テストについ
て説明する。
For reference, an electrical characteristic evaluation test on a conventional semiconductor memory device 200 in a molded state will be described.

【0072】前述したように、モニタ回路20を備えて
いない従来の半導体記憶装置200に対しては、外部接
続端子の電位変化を測定することにより電気特性の評価
を行なう。より具体的には、データ入出力ピンDQから
のデータ出力タイミングを基準として、tRAC 期間、t
CAA 期間、さらにtCAC 期間等を測定する。
As described above, the electrical characteristics of the conventional semiconductor memory device 200 without the monitor circuit 20 are evaluated by measuring the potential change of the external connection terminal. More specifically, based on the data output timing from the data input / output pin DQ, the t RAC period, t
The CAA period and the t CAC period are measured.

【0073】簡単に、測定対象の一部であるtRAC
間、tCAA 期間、およびtCAC 期間について説明する。
[0073] easy, t RAC period, which is part of the measurement object, t CAA period, and for t CAC period is described.

【0074】図8は、読出動作モードにおける各種信号
の遷移と、測定対象とされるtRAC期間、tCAA 期間、
CAC 期間を示すタイミングチャートである。
FIG. 8 shows transitions of various signals in the read operation mode, and t RAC period, t CAA period,
6 is a timing chart showing a t CAC period.

【0075】図8を参照して、時刻t1において、アド
レスピンA0〜A7から受ける外部アドレス信号ADD
に従い、内部ロウアドレス信号RAiが出力される。
Referring to FIG. 8, at time t1, an external address signal ADD received from address pins A0 to A7 is provided.
, An internal row address signal RAi is output.

【0076】時刻t2において、/RASピンから受け
るロウアドレスストローブ信号/RASがLレベルに立
下がる。
At time t2, row address strobe signal / RAS received from / RAS pin falls to L level.

【0077】時刻t3において、アドレスピンA0〜A
7から受ける外部アドレス信号ADDに基づき、内部コ
ラムアドレス信号CAiが生成される。
At time t3, address pins A0-A
7, an internal column address signal CAi is generated based on the external address signal ADD.

【0078】時刻t4においては、/CASピンから受
けるコラムアドレスストローブ信号/CASがLレベル
に立下がるなお、/WEピンから受けるライトイネーブ
ル信号/WEは、Hレベルを保持した状態である。
At time t4, column address strobe signal / CAS received from / CAS pin falls to L level, and write enable signal / WE received from / WE pin is at the H level.

【0079】これを受けて、時刻t5には、データ入出
力ピンDQからデータDOUTが出力される。
In response, at time t5, data DOUT is output from data input / output pin DQ.

【0080】ここで、時刻t2から時刻t5の期間をt
RAC 期間と称し、時刻t3から時刻t5の期間をtCAA
期間と称し、さらに、時刻t4から時刻t5の期間をt
CACと称す。
Here, the period from time t2 to time t5 is defined as t
The period from time t3 to time t5 is referred to as RAC period, and t CAA
A period from time t4 to time t5 is referred to as a period.
Called CAC .

【0081】次に参考のため従来の半導体記憶装置20
0対する電気特性評価テストの手順について説明する。
Next, the conventional semiconductor memory device 20 will be described for reference.
The procedure of the electrical characteristic evaluation test for 0 will be described.

【0082】図9は、従来の半導体記憶装置200に対
する電気特性評価テストの手順を示すフローチャートで
ある。図9を参照して、ステップs1では、tRAC 期間
を測定するtRAC テストを実施する。ステップs2で
は、ステップs1の測定結果と規格時間とを比較し、測
定結果を満たさないチップを選別する。
FIG. 9 is a flowchart showing a procedure of an electrical characteristic evaluation test on a conventional semiconductor memory device 200. Referring to FIG. 9, in step s1, implementing t RAC test to measure the t RAC period. In step s2, the measurement result of step s1 is compared with the specified time, and chips that do not satisfy the measurement result are selected.

【0083】ステップs3では、ステップs2で規格を
満たした(PASS)チップに対して、tCAC 期間を測
定するtCAC テストを実施する。ステップs4では、ス
テップs3の測定結果と規格時間とを比較し、規格を満
たさないチップを選別する。
[0083] In step s3, met the standard in step s2 relative (PASS) chip, to implement t CAC test to measure the t CAC period. In step s4, the measurement result in step s3 is compared with the standard time, and chips that do not satisfy the standard are selected.

【0084】ステップs5では、ステップs4で規格を
満たしたチップに対して、tCAA 期間を測定するtCAA
テストを実施する。ステップs6では、ステップs5の
測定結果と規格時間とを比較し、規格を満たさないチッ
プを選別する。
In step s5, t CAA for measuring the t CAA period for the chip satisfying the standard in step s4
Conduct a test. In step s6, the measurement result of step s5 is compared with the standard time, and chips that do not satisfy the standard are selected.

【0085】以下、同様の手順で各種タイミングのテス
ト(例えばtCEA テスト等)を行なう。
Hereinafter, tests at various timings (for example, a t CEA test, etc.) are performed in the same procedure.

【0086】以上のように、従来の半導体記憶装置20
0に対しては、データ入出力ピンDQにおけるデータ出
力タイミングを基準として、チップの動作を制御するピ
ン(/RASピン、/CASピン、アドレスピンA0〜
A7)の電位変化のタイミングを測定することによって
電気特性を評価する。
As described above, the conventional semiconductor memory device 20
For 0, pins (/ RAS pin, / CAS pin, address pins A0 to A0) that control the operation of the chip with reference to the data output timing at the data input / output pin DQ.
The electrical characteristics are evaluated by measuring the timing of the potential change in A7).

【0087】次に、本発明の実施の形態1の半導体記憶
装置100に対する電気特性評価テストの手順について
説明する。
Next, the procedure of an electrical characteristic evaluation test on semiconductor memory device 100 according to the first embodiment of the present invention will be described.

【0088】図10〜図11は、本発明の実施の形態1
における半導体記憶装置100に対する電気的評価テス
トの手順を示すフローチャートである。図10〜図11
を参照して、ステップs10では、テスト信号φ1をH
レベルに立上げる。
FIGS. 10 to 11 show Embodiment 1 of the present invention.
5 is a flowchart showing a procedure of an electrical evaluation test for the semiconductor memory device 100 in FIG. 10 to 11
In step s10, the test signal φ1 is set to H level.
Get up to level.

【0089】ステップs11では、tRAC タイミング時
のセンスアンプ活性化信号Soの活性開始時間を測定す
る。ステップs12では、ステップs11の測定結果と
規格時間を比較し、規格を満たさないチップを選別す
る。
In step s11, the activation start time of the sense amplifier activation signal So at the time of t RAC is measured. In step s12, the measurement result of step s11 is compared with the standard time, and chips that do not satisfy the standard are selected.

【0090】ステップs13では、テスト信号φ2をH
レベルに立上げる。ステップs14では、ステップs1
2で規格を満たした(PASS)チップに対して、t
RAC タイミング時のコラムデコーダ活性化信号CDEの
活性開始時間を測定する。ステップS15では、ステッ
プs14の測定結果と規格時間を比較し、規格を満たさ
ないチップを選別する。
At step s13, the test signal φ2 is set to H level.
Get up to level. In step s14, step s1
For a chip that satisfies the standard at 2 (PASS), t
The activation start time of the column decoder activation signal CDE at the RAC timing is measured. In step S15, the measurement result of step s14 is compared with the standard time, and chips that do not satisfy the standard are selected.

【0091】ステップs16において、テスト信号φ3
をHレベルに立上げる。ステップs17では、ステップ
s15で規格を満たしたチップに対して、tRA C タイミ
ング時の出力制御信号OEMの活性開始時間を測定す
る。ステップs18では、ステップs17の測定結果と
規格時間とを比較し、規格を満たさないチップを選別す
る。
At step s16, test signal φ3
To the H level. In step s17, the chip satisfying the standards in step s15, measuring the output control signal OEM activity start time of the time t RA C timing. In step s18, the measurement result of step s17 is compared with the standard time, and chips that do not satisfy the standard are selected.

【0092】続いて、ステップs19では、ステップs
18で規格を満たしたチップに対して、tRAC 期間を測
定するtRAC テストを実施する。ステップs20では、
ステップs19の測定結果と規格時間とを比較し、規格
を満たさないチップを選別する。
Subsequently, in step s19, step s
The chip that meet standards 18, to implement the t RAC test to measure the t RAC period. In step s20,
The measurement result of step s19 is compared with the standard time, and chips that do not satisfy the standard are selected.

【0093】その他、tCAA テスト、tCAC テスト、t
CEA テスト等も同様の手順で行なう。
Others, t CAA test, t CAC test, t CAA test
The CEA test and the like are performed in the same procedure.

【0094】このように、本発明の実施の形態1におけ
る半導体記憶装置100は、モールド状態で内部信号を
モニタすることができるので、より詳細に電気特性を評
価することが可能となる。
As described above, the semiconductor memory device 100 according to the first embodiment of the present invention can monitor internal signals in a molded state, so that it is possible to evaluate electrical characteristics in more detail.

【0095】なお、モニタする出力ピンは、/WEピン
に限らず、ノーコネクションピンもしくはデータ入出力
ピンであってもよい。また、内部信号は、センスアンプ
活性化信号So、コラムデコーダ活性化信号CDE、お
よび出力制御信号OEMに限らない。
The output pin to be monitored is not limited to the / WE pin, but may be a no connection pin or a data input / output pin. The internal signals are not limited to the sense amplifier activating signal So, the column decoder activating signal CDE, and the output control signal OEM.

【0096】[0096]

【発明の効果】以上のように請求項1〜2に係る半導体
記憶装置によれば、テスト信号に応じて、活性化信号を
外部接続端子からモニタすることができるので、モール
ド状態で内部信号を外部からモニタすることが可能とな
り、より詳細な電気特性の評価を行なうことができる。
As described above, according to the semiconductor memory device according to the first and second aspects, the activation signal can be monitored from the external connection terminal in response to the test signal. Monitoring can be performed from the outside, and more detailed evaluation of electrical characteristics can be performed.

【0097】さらに、請求項3に係る半導体記憶装置に
よれば、アクセスパスにかかる特に主要な信号であるセ
ンスアンプ活性化信号Soを外部からモニタすることが
できる。
Further, according to the semiconductor memory device of the third aspect, it is possible to externally monitor the sense amplifier activating signal So, which is a main signal related to the access path, from the outside.

【0098】さらに、請求項4に係る半導体記憶装置に
よれば、アクセスパスにかかる特に主要な信号であるコ
ラムデコーダ活性化信号CDEを外部からモニタするこ
とができる。
Further, according to the semiconductor memory device of the fourth aspect, the column decoder activation signal CDE, which is a particularly main signal on the access path, can be monitored from the outside.

【0099】さらに、請求項5に係る半導体記憶装置に
よれば、アクセスパスにかかる特に主要な信号である出
力制御信号OEMを外部からモニタすることができる。
Further, according to the semiconductor memory device of the fifth aspect, it is possible to externally monitor the output control signal OEM which is a particularly main signal concerning the access path.

【0100】さらに、請求項6に係る半導体記憶装置に
よれば、テスト信号に応じて、アクセスパスにかかる特
に主要な信号であるセンスアンプ活性化信号So、コラ
ムデコーダ活性化信号CDE、出力制御信号OEMを外
部からモニタすることができる。
Further, according to the semiconductor memory device of the sixth aspect, the sense amplifier activating signal So, the column decoder activating signal CDE, and the output control signal, which are the main signals related to the access path, are provided in response to the test signal. The OEM can be monitored externally.

【0101】さらに、請求項7に係る半導体記憶装置に
よれば、読出動作において主要な内部信号を/WEピン
からモニタすることができる。
Further, according to the semiconductor memory device of the seventh aspect, it is possible to monitor main internal signals from the / WE pin in the read operation.

【0102】さらに、請求項8に係る半導体記憶装置に
よれば、WCBRモードを利用して、内部信号をモニタ
するためのテストモードに設定することができる。
Further, according to the semiconductor memory device of the eighth aspect, the test mode for monitoring the internal signal can be set using the WCBR mode.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 従来の半導体記憶装置200の基本構成を示
すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a basic configuration of a conventional semiconductor memory device 200.

【図2】 本発明の実施の形態1における半導体記憶装
置100の基本構成を示すブロック図である。
FIG. 2 is a block diagram showing a basic configuration of the semiconductor memory device 100 according to the first embodiment of the present invention.

【図3】 本発明の実施の形態1におけるテスト信号発
生回路40の基本構成を示すブロック図である。
FIG. 3 is a block diagram illustrating a basic configuration of a test signal generation circuit 40 according to the first embodiment of the present invention.

【図4】 本発明の実施の形態1におけるテスト信号発
生回路40の動作を説明するための各種信号のタイミン
グチャートである。
FIG. 4 is a timing chart of various signals for describing an operation of the test signal generation circuit 40 according to the first embodiment of the present invention.

【図5】 本発明の実施の形態1におけるモニタ回路2
0の基本構成の一例を示す回路図である。
FIG. 5 is a monitor circuit 2 according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a circuit diagram illustrating an example of a basic configuration of a zero.

【図6】 本発明の実施の形態1における制御回路30
の基本構成の一例を示す回路図である。
FIG. 6 shows a control circuit 30 according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of the basic configuration of FIG.

【図7】 本発明の実施の形態1における制御回路30
の動作を説明するための各種信号のタイミングチャート
である。
FIG. 7 is a control circuit 30 according to the first embodiment of the present invention.
3 is a timing chart of various signals for explaining the operation of FIG.

【図8】 読出動作モードにおける各種信号の遷移と、
測定対象とされるt RAC 期間、tCAA 期間、tCAC 期間
を示すタイミングチャートである。
FIG. 8 shows transition of various signals in a read operation mode;
T to be measured RACPeriod, tCAAPeriod, tCACperiod
FIG.

【図9】 従来の半導体記憶装置200に対する電気特
性評価テストの手順を示すフローチャートである。
FIG. 9 is a flowchart showing a procedure of an electrical characteristic evaluation test for a conventional semiconductor memory device 200.

【図10】 本発明の実施の形態1に対する半導体記憶
装置100の電気特性評価テストの手順を示すフローチ
ャートである。
FIG. 10 is a flowchart showing a procedure of an electrical characteristic evaluation test of the semiconductor memory device 100 according to the first embodiment of the present invention.

【図11】 本発明の実施の形態1に対する半導体記憶
装置100の電気特性評価テストの手順を示すフローチ
ャートである。
FIG. 11 is a flowchart showing a procedure of an electrical characteristic evaluation test of the semiconductor memory device 100 according to the first embodiment of the present invention.

【符号の説明】 1,2,3 スイッチ、30 制御回路、5 AND回
路、6, 46 インバータ回路、20 モニタ回路、4
0 テスト信号発生回路、41 WCBRディテクタ、
42 ロウアドレスバッファ、43 オーバーボルテー
ジディテクタ、44 テストアドレスラッチ、45 ジ
ェネレータ、50 メモリアレイ、51ロウデコーダ、
52 アドレスバッファ、53 センスアンプ、54
コラムデコーダ、55 出力制御回路、56 クロック
ジェネレータ、57 出力バッファ、PT1〜PT5
PMOSトランジスタ、NT1〜NT4 NMOSトラ
ンジスタ、、LINE1〜3, LINE11, LINE
12, LINE21, LINE22, LINE31, L
INE32, LINE41, LINE42 信号線、1
00 半導体記憶装置。
[Description of Signs] 1, 2, 3 switch, 30 control circuit, 5 AND circuit, 6, 46 inverter circuit, 20 monitor circuit, 4
0 test signal generation circuit, 41 WCBR detector,
42 row address buffer, 43 over voltage detector, 44 test address latch, 45 generator, 50 memory array, 51 row decoder,
52 address buffer, 53 sense amplifier, 54
Column decoder, 55 output control circuit, 56 clock generator, 57 output buffer, PT1 to PT5
PMOS transistor, NT1 to NT4 NMOS transistor, LINE1 to 3, LINE11, LINE
12, LINE21, LINE22, LINE31, L
INE32, LINE41, LINE42 signal line, 1
00 Semiconductor storage device.

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G11C 11/34 371K Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI G11C 11/34 371K

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 外部接続端子と、 複数の行および複数の列方向にマトリックス状に配列さ
れた複数のメモリセルを含むメモリアレイと、 前記メモリセルのデータを読出し、または前記メモリセ
ルにデータを書込むための内部回路と、 外部から受ける複数の制御信号に従い、前記内部回路を
活性化するための活性化信号を出力する活性化信号発生
手段と、 テストモードにおいて、テスト信号を発生するテスト信
号発生手段と、 前記テスト信号発生手段から出力される前記テスト信号
に応答して、前記活性化信号を前記外部接続端子からモ
ニタするモニタ手段とを備える、半導体記憶装置。
An external connection terminal; a memory array including a plurality of memory cells arranged in a matrix in a plurality of rows and a plurality of columns; reading data from the memory cells, or storing data in the memory cells; An internal circuit for writing, activation signal generating means for outputting an activation signal for activating the internal circuit in accordance with a plurality of control signals received from outside, and a test signal for generating a test signal in a test mode A semiconductor memory device comprising: a generation unit; and a monitoring unit that monitors the activation signal from the external connection terminal in response to the test signal output from the test signal generation unit.
【請求項2】 前記内部回路は、第1の信号線を介して
前記活性化信号発生手段から前記活性化信号を受け、 前記モニタ手段は、 スイッチ手段と、 前記スイッチ手段と前記外部接続端子とを接続する第2
の信号線と、 前記第1の信号線と前記スイッチ手段とを接続する第3
の信号線とを含み、 前記スイッチ手段は、前記テスト信号に応答して、前記
第2の信号線と前記第3の信号線とを接続状態にする、
請求項1記載の半導体記憶装置。
2. The internal circuit receives the activating signal from the activating signal generating means via a first signal line, and the monitoring means comprises: a switching means; a switching means; and the external connection terminal. Connect the second
A third signal line connecting the first signal line and the switch means.
Wherein the switch means connects the second signal line and the third signal line in response to the test signal,
The semiconductor memory device according to claim 1.
【請求項3】 前記内部回路は、センスアンプであり、 前記活性化信号は、前記センスアンプを活性化するセン
スアンプ活性化信号である、請求項2記載の半導体記憶
装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein said internal circuit is a sense amplifier, and said activation signal is a sense amplifier activation signal for activating said sense amplifier.
【請求項4】 前記内部回路は、前記メモリアレイの列
を選択するデコーダであり、 前記活性化信号は、前記デコーダを活性化するデコーダ
活性化信号である、請求項2記載の半導体記憶装置。
4. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein said internal circuit is a decoder for selecting a column of said memory array, and said activation signal is a decoder activation signal for activating said decoder.
【請求項5】 前記内部回路は、出力バッファであり、 前記活性化信号は、前記出力バッファを活性化する出力
制御信号である、請求項2記載の半導体記憶装置。
5. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein said internal circuit is an output buffer, and said activation signal is an output control signal for activating said output buffer.
【請求項6】 前記内部回路は、 センスアンプと、 デコーダと、 出力バッファとを含み、 前記活性化信号は、 前記センスアンプを活性化するセンスアンプ活性化信号
と、 前記デコーダを活性化するデコーダ活性化信号と、 前記出力バッファを活性化する出力制御信号とを含む、
請求項2記載の半導体記憶装置。
6. The internal circuit includes a sense amplifier, a decoder, and an output buffer, wherein the activating signal is: a sense amplifier activating signal for activating the sense amplifier; and a decoder for activating the decoder. An activation signal; and an output control signal for activating the output buffer.
The semiconductor memory device according to claim 2.
【請求項7】 前記内部回路は、前記メモリセルのデー
タを読出すための内部回路であり、 前記外部接続端子は、/WEピンであり、 前記モニタ手段はさらに、 前記活性化信号発生手段に対して、Hレベルのライトイ
ネーブル信号/WEを与える制御手段を備える、請求項
2記載の半導体記憶装置。
7. The internal circuit is an internal circuit for reading data from the memory cell, the external connection terminal is a / WE pin, and the monitor means further includes an activation signal generation means. 3. The semiconductor memory device according to claim 2, further comprising control means for applying an H level write enable signal / WE.
【請求項8】 前記テスト信号発生手段は、 WCBRモードにおけるアドレスピンの入力に応答して
前記テスト信号を発生する、請求項1記載の半導体記憶
装置。
8. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said test signal generation means generates said test signal in response to an input of an address pin in a WCBR mode.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7688651B2 (en) 2006-06-01 2010-03-30 Samsung Electronics Co., Ltd. Methods and devices for regulating the timing of control signals in integrated circuit memory devices

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