JPH11249747A - Method and device for controlling temperature - Google Patents

Method and device for controlling temperature

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JPH11249747A
JPH11249747A JP4728098A JP4728098A JPH11249747A JP H11249747 A JPH11249747 A JP H11249747A JP 4728098 A JP4728098 A JP 4728098A JP 4728098 A JP4728098 A JP 4728098A JP H11249747 A JPH11249747 A JP H11249747A
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JP
Japan
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fluid
temperature
tank
temperature control
cooling
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Application number
JP4728098A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tadayuki Hanamoto
忠幸 花本
Toshio Yoshimitsu
利男 吉光
Hironaga Akiba
浩永 秋葉
Kenji Okamura
健治 岡村
Takayoshi Endo
貴義 遠藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Komatsu Ltd
Original Assignee
Komatsu Ltd
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Publication date
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  • Control Of Temperature (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To efficiently cook an object to be cooled when cooling the object to be cooled by circulating and supplying a fluid through the fluid passage of a hot plate for placing the object to be cooled. SOLUTION: After the return fluid from a cooling chamber 7 is cooled at a certain level by a heat exchanger 8, this return fluid is supplied to a cooling layer 4b of a fluid tank 4, cooled and heated by a heating layer 4c and the low temperature fluid at the target temperature is supplied to the cooling chamber 7 again. In this case, two routes of a cooling route 10 and a non-cooling route 11 are provided as the route for returning the return fluid from the cooling chamber 7 into the fluid tank 4 and based on a temperature T4 or the like of the cooling layer 4b of the fluid tank 4, the opening/closing of valves A and B respectively provided on the respective routes is controlled.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、所定の温度に調整
された流体を温度制御室に循環させ、該温度制御室との
熱伝導によって半導体ウエハ等の被温度制御対象物を冷
却する温度制御方法及び装置に関し、特に、効率良く被
温度制御対象物を温度制御する温度制御方法及び装置に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a temperature control system for circulating a fluid adjusted to a predetermined temperature through a temperature control chamber and cooling an object to be temperature controlled such as a semiconductor wafer by heat conduction with the temperature control chamber. More particularly, the present invention relates to a temperature control method and apparatus for efficiently controlling the temperature of an object to be controlled.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体ウエハの製造に際し、半導
体ウエハを載置する熱板に流体通路を設け、この流体通
路に対して冷温流体を循環供給する冷却系を介して加熱
した半導体ウエハを冷却する技術が知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in manufacturing a semiconductor wafer, a fluid passage is provided in a hot plate on which the semiconductor wafer is mounted, and the heated semiconductor wafer is cooled through a cooling system which circulates a cool / hot fluid to the fluid passage. Techniques for doing so are known.

【0003】具体的には、この冷却系の一部をなすタン
クに滞留する冷温流体を熱交換器に循環させるととも
に、該熱交換器に対してチラーユニット等の冷却器が冷
却水を供給することによって、タンク内の冷温流体を所
望の温度に冷却する。
[0003] More specifically, a cold fluid staying in a tank forming a part of the cooling system is circulated through a heat exchanger, and a cooler such as a chiller unit supplies cooling water to the heat exchanger. This cools the cold fluid in the tank to a desired temperature.

【0004】このため、かかる従来技術を用いると、冷
却器が熱交換器に対して供給する冷却水の圧力を制御す
ることにより、タンク内の冷温流体の温度を制御するこ
とができる。
[0004] Therefore, by using such a conventional technique, the temperature of the cold fluid in the tank can be controlled by controlling the pressure of the cooling water supplied from the cooler to the heat exchanger.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、かかる
従来技術を用いたとしても、タンク内の温度を目標温度
に維持することは難しく、例えば半導体ウエハを載置す
る熱板の流体通路から流出する冷温流体の温度がかなり
高い場合には、該流体通路に供給する冷温流体を十分に
冷却することができない。
However, even if such a conventional technique is used, it is difficult to maintain the temperature in the tank at a target temperature. For example, a cold temperature flowing out of a fluid passage of a hot plate on which a semiconductor wafer is placed is placed. If the temperature of the fluid is too high, the cold fluid supplied to the fluid passage cannot be cooled sufficiently.

【0006】このため、タンク内を第1の層及び第2の
層からなり2層に分け、第1の層を過冷却に維持して流
体通路からの戻り流体を十分に冷却するとともに、該第
1の層で冷却しすぎた冷温流体を第2の層で所望の温度
まで暖めることにより、目標温度の冷温流体を流体通路
に供給する技術が知られている。
For this reason, the inside of the tank is divided into two layers, a first layer and a second layer. The first layer is maintained in a supercooled state, and the return fluid from the fluid passage is sufficiently cooled. 2. Description of the Related Art There is known a technique of supplying a cold fluid at a target temperature to a fluid passage by heating a cold fluid that is excessively cooled in a first layer to a desired temperature in a second layer.

【0007】しかし、この従来技術を用いた場合には、
戻り流体を過冷却にするためのエネルギーと、目標温度
以下に冷却した冷温流体を目標温度まで暖めるエネルギ
ーが必要なため、エネルギー消費が大きくなる。
However, when this conventional technique is used,
Energy for supercooling the return fluid and energy for warming the cold fluid cooled below the target temperature to the target temperature are required, so that the energy consumption increases.

【0008】このため、半導体ウエハを載置する熱板の
流体通路に循環供給する冷温流体をいかに効率良く冷却
するかが極めて重要な課題となっている。
[0008] For this reason, it is a very important issue how to efficiently cool the cold fluid supplied to the fluid passage of the hot plate on which the semiconductor wafer is placed.

【0009】そこで、本発明では、上記課題を解決し
て、被冷却対象物を載置する熱板の流体通路に流体を循
環供給して被冷却対象物を冷却するに際し、該被冷却対
象物を効率良く温度制御することができる温度制御方法
及び装置を提供することを目的とする。
Therefore, the present invention solves the above-mentioned problem, and circulates and supplies a fluid to a fluid passage of a hot plate on which an object to be cooled is placed, thereby cooling the object to be cooled. It is an object of the present invention to provide a temperature control method and apparatus capable of efficiently controlling the temperature of a device.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段及び作用効果】上記目的を
達成するため、第1の発明は、所定の温度に調整された
流体を温度制御室に循環させ、該温度制御室との熱伝導
によって被温度制御対象物を冷却する温度制御装置にお
いて、前記流体を冷却する冷却手段と、前記温度制御室
に循環供給する流体を貯える流体タンクと、前記温度制
御室を通過した流体を前記流体タンクへ直接供給する第
1の経路と、前記温度制御室を通過した流体を前記冷却
手段を介して冷却した後前記流体タンクに供給する第2
の経路と、前記流体タンクに滞留する流体の流体温度及
び/又は前記温度制御室を通過した流体の流体温度に基
づいて、前記温度制御室を通過した流体を前記流体タン
クに供給する経路を選択する選択手段とを具備すること
を特徴とする。
In order to achieve the above object, a first aspect of the present invention is to circulate a fluid adjusted to a predetermined temperature through a temperature control chamber, and to conduct heat by communicating with the temperature control chamber. In a temperature control device that cools an object to be temperature-controlled, a cooling unit that cools the fluid, a fluid tank that stores a fluid to be circulated to the temperature control chamber, and a fluid that passes through the temperature control chamber to the fluid tank. A first path for direct supply and a second path for cooling the fluid passing through the temperature control chamber through the cooling means and then supplying the fluid to the fluid tank
And a path for supplying the fluid that has passed through the temperature control chamber to the fluid tank based on the fluid temperature of the fluid remaining in the fluid tank and / or the fluid temperature of the fluid that has passed through the temperature control chamber. And selecting means for performing the selection.

【0011】このため、流体タンク内に滞留する流体を
冷却しなくとも、温度制御室からの戻り流体の経路選択
によって、効率よく温度制御することができる。
Therefore, the temperature can be controlled efficiently by selecting the path of the return fluid from the temperature control chamber without cooling the fluid remaining in the fluid tank.

【0012】また、第2の発明は、前記流体タンクは、
貯えた流体を過冷却にする冷却層と、該冷却層で冷却し
た流体を所定の温度にまで加熱する加熱層とからなり、
前記温度制御室を通過した流体を前記流体タンクの加熱
層に供給する第3の経路をさらに具備する特徴とする。
In a second aspect of the present invention, the fluid tank includes:
A cooling layer for supercooling the stored fluid, and a heating layer for heating the fluid cooled by the cooling layer to a predetermined temperature,
The apparatus further includes a third path for supplying the fluid that has passed through the temperature control chamber to the heating layer of the fluid tank.

【0013】このため、流体タンク内の流体の過冷却及
び加熱を行う場合に、加熱時の過剰な熱量の供給を未然
に防ぎ、所望の流体温度を持つ流体を効率よく温度制御
室に供給することができる。
For this reason, when supercooling and heating the fluid in the fluid tank, the supply of an excessive amount of heat during heating is prevented, and the fluid having a desired fluid temperature is efficiently supplied to the temperature control chamber. be able to.

【0014】また、第3の発明は、前記流体タンクに蓄
積した流体を前記温度制御室に供給する経路に前記温度
制御室を通過した流体をバイパスさせる第4の経路をさ
らに具備することを特徴とする。
Further, the third invention is characterized in that a path for supplying the fluid stored in the fluid tank to the temperature control chamber further includes a fourth path for bypassing the fluid passing through the temperature control chamber. And

【0015】このため、流体タンクが一層である場合で
あっても、効率よく温度制御することができる。
Therefore, even if the number of fluid tanks is one, the temperature can be controlled efficiently.

【0016】また、第4の発明は、流体タンクに保持し
た所定の温度に調整された流体を温度制御室に循環さ
せ、該温度制御室との熱伝導によって被温度制御対象物
を冷却する温度制御方法において、前記流体タンクに貯
える流体の流体温度を計測し、計測した流体温度が前記
流体タンクの所定の目標温度よりも高ければ、前記温度
制御室を通過した流体を冷却した後前記流体タンクに供
給し、該流体温度が前記目標温度以下であれば、前記温
度制御室を通過した流体をそのまま流体タンクに供給す
ることを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a temperature control apparatus which circulates a fluid adjusted to a predetermined temperature held in a fluid tank through a temperature control chamber and cools the object to be temperature-controlled by heat conduction with the temperature control chamber. In the control method, the fluid temperature of the fluid stored in the fluid tank is measured, and if the measured fluid temperature is higher than a predetermined target temperature of the fluid tank, the fluid that has passed through the temperature control chamber is cooled, and then the fluid tank is cooled. If the fluid temperature is equal to or lower than the target temperature, the fluid that has passed through the temperature control chamber is supplied to the fluid tank as it is.

【0017】このため、流体タンク内に滞留する流体を
冷却しなくとも、温度制御室からの戻り流体の経路選択
によって、効率よく温度制御することができる。
Therefore, the temperature can be efficiently controlled by selecting the path of the return fluid from the temperature control chamber without cooling the fluid remaining in the fluid tank.

【0018】また、第5の発明は、流体タンクに保持し
た所定の温度に調整された流体を温度制御室に循環さ
せ、該温度制御室との熱伝導によって被温度制御対象物
を冷却する温度制御方法において、前記流体タンクに貯
える第1の流体の流体温度及び前記温度制御室を通過し
た第2の流体の流体温度を計測し、該計測した第1の流
体の流体温度、第2の流体の流体温度及び前記流体タン
クの所定の目標温度に基づいて、前記流体タンクに供給
する第2の流体を冷却するか否かを選択することを特徴
とする。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a temperature control apparatus which circulates a fluid held in a fluid tank at a predetermined temperature through a temperature control chamber and cools an object to be temperature controlled by heat conduction with the temperature control chamber. In the control method, the fluid temperature of the first fluid stored in the fluid tank and the fluid temperature of the second fluid passing through the temperature control chamber are measured, and the measured fluid temperature of the first fluid and the second fluid are measured. And selecting whether or not to cool the second fluid supplied to the fluid tank based on the fluid temperature and a predetermined target temperature of the fluid tank.

【0019】このため、温度制御室を通過した流体が有
する熱量に応答して、流体タンク内を目標温度に維持す
ることができる。
Therefore, the inside of the fluid tank can be maintained at the target temperature in response to the amount of heat of the fluid passing through the temperature control chamber.

【0020】また、第6の発明は、流体タンクに保持し
た所定の温度に調整された流体を温度制御室に循環さ
せ、該温度制御室との熱伝導によって被温度制御対象物
を冷却する温度制御方法において、前記流体タンクに貯
える第1の流体の流体温度及び前記温度制御室を通過し
た第2の流体の流体温度を計測し、該計測した第1の流
体の流体温度、第2の流体の流体温度及び前記流体タン
クの所定の目標温度に基づいて、前記流体タンクから流
出する流体を前記第2の流体で熱するか否かを選択する
ことを特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a temperature control device for circulating a fluid adjusted to a predetermined temperature held in a fluid tank through a temperature control chamber and cooling an object to be temperature controlled by heat conduction with the temperature control chamber. In the control method, the fluid temperature of the first fluid stored in the fluid tank and the fluid temperature of the second fluid passing through the temperature control chamber are measured, and the measured fluid temperature of the first fluid and the second fluid are measured. And selecting whether to heat the fluid flowing out of the fluid tank with the second fluid based on the fluid temperature of the fluid tank and a predetermined target temperature of the fluid tank.

【0021】このため、温度制御室からの戻り流体の温
熱効果を利用して、効率よく温度制御を行うことができ
る。
For this reason, the temperature can be controlled efficiently by utilizing the thermal effect of the return fluid from the temperature control chamber.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0023】まず最初に、第1の実施の形態で用いる温
度制御装置の全体構成について説明する。
First, the overall configuration of the temperature control device used in the first embodiment will be described.

【0024】図2は、第1の実施の形態で用いる温度制
御装置の全体構成を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing the overall configuration of the temperature control device used in the first embodiment.

【0025】同図において、ウエハ1はヒータ2の上部
に載置され、ウエハ1とヒータ2とは図示しないシムに
よって一様な間隙を有し、この間隙の空気層を介してウ
エハ1とヒータ2との間の熱伝導が行われる。ウエハ1
は、周知のとおり円盤形状であり、ヒータ2は、このウ
エハ1の形状より大きな円形表面を持つ。
In FIG. 1, a wafer 1 is mounted on a heater 2 and a uniform gap is formed between the wafer 1 and the heater 2 by means of a shim (not shown). 2 is conducted. Wafer 1
Is a disk shape as is well known, and the heater 2 has a larger circular surface than the shape of the wafer 1.

【0026】ヒータ2は、図示しない電熱線がその表面
に一様に形成され、ヒータ2を均一に加熱できるように
なっている。このヒータ2の加熱は、コントローラ3に
よって電力制御される。
The heater 2 has a heating wire (not shown) formed uniformly on its surface so that the heater 2 can be uniformly heated. The heating of the heater 2 is power-controlled by the controller 3.

【0027】一方、ウエハ1を冷却する場合、流体タン
ク4において貯えられ、所定の温度に調整された低温流
体を冷却室7に流入することによって行われる。
On the other hand, when the wafer 1 is cooled, a low-temperature fluid stored in the fluid tank 4 and adjusted to a predetermined temperature flows into the cooling chamber 7.

【0028】すなわち、流体タンク4に貯えられた低温
流体は、コントローラ3による図示しないバルブ開閉制
御及びポンプの制御により、低温流体を冷却室7に供給
する。冷却室7に流入した低温流体は、ヒータ2を介し
てウエハ1から熱を奪い、流体タンク4に戻される。
That is, the low-temperature fluid stored in the fluid tank 4 is supplied to the cooling chamber 7 by the valve opening / closing control (not shown) and the pump control by the controller 3. The low-temperature fluid flowing into the cooling chamber 7 removes heat from the wafer 1 via the heater 2 and is returned to the fluid tank 4.

【0029】また、この流体タンク4は、仕切り板4a
によって2層に区切られ、冷却室7からの戻り側の層
は、冷却部5を用いて低温流体を過冷却する冷却層4b
とし、冷却室7へ低温流体を供給する側の層は、ヒータ
6を用いて過冷却した低温流体の温度を目標温度に加熱
する加熱層4cとする。
The fluid tank 4 includes a partition plate 4a.
And a layer on the return side from the cooling chamber 7 is a cooling layer 4 b for supercooling the low-temperature fluid using the cooling unit 5.
The layer on the side that supplies the low-temperature fluid to the cooling chamber 7 is the heating layer 4c that heats the temperature of the supercooled low-temperature fluid using the heater 6 to the target temperature.

【0030】次に、図1に示す流体タンク4を用いた冷
却系について具体的に説明する。
Next, a cooling system using the fluid tank 4 shown in FIG. 1 will be specifically described.

【0031】図1は、第1の実施の形態に係わる温度制
御装置の冷却系の具体的な構成を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a specific configuration of a cooling system of the temperature control device according to the first embodiment.

【0032】同図に示すように、この冷却系では、冷却
室7からの戻り流体を熱交換器8である程度冷却した
後、該戻り流体を流体タンク4の冷却層4bに供給して
冷却するとともに、加熱層4cで加熱して目標温度にし
た低温流体をあらためて冷却室7に供給する。
As shown in the figure, in this cooling system, after the return fluid from the cooling chamber 7 is cooled to some extent by the heat exchanger 8, the return fluid is supplied to the cooling layer 4b of the fluid tank 4 for cooling. At the same time, the low-temperature fluid heated by the heating layer 4c to the target temperature is supplied to the cooling chamber 7 again.

【0033】すなわち、冷却室7からの戻り流体を全て
熱交換部4dを介して冷却することとすると、戻り流体
の温度T1又はT2が比較的低い場合に、流体タンク4
の冷却層4bに滞留する流体の温度T4が過剰に低くな
り、ヒータ6が大きな熱量を供給せねばならなくなり、
効率的ではない。
That is, if all the return fluid from the cooling chamber 7 is to be cooled via the heat exchanging section 4d, the fluid tank 4 can be cooled if the return fluid temperature T1 or T2 is relatively low.
Temperature T4 of the fluid staying in the cooling layer 4b becomes excessively low, and the heater 6 must supply a large amount of heat.
Not efficient.

【0034】このため、本実施の形態では、冷却室7か
らの戻り流体を流体タンク4内に戻す経路として、図中
に示す冷却経路10及び非冷却経路11という2経路を
設け、流体タンク4の冷却層4bの温度T4等に基づい
て各経路にそれぞれ設けたバルブA及びBの開閉を制御
するよう構成している。このバルブA及びBの開閉制御
は、図1に示すコントローラ3が行うことになる。
For this reason, in the present embodiment, two paths, a cooling path 10 and a non-cooling path 11 shown in the figure, are provided as paths for returning the fluid from the cooling chamber 7 into the fluid tank 4. The opening and closing of the valves A and B provided in each path is controlled based on the temperature T4 of the cooling layer 4b of FIG. The opening and closing control of the valves A and B is performed by the controller 3 shown in FIG.

【0035】なお、請求項1の第1の経路及び第2の経
路はそれぞれ非冷却経路11及び冷却経路10に対応
し、該請求項1の第1の経路が「直接」流体タンクに流
体を供給するとの記載には、冷却室7からの戻り流体を
そのまま流体タンクに供給する場合と、該戻り流体を熱
交換機8を介して流体タンクに供給する場合とが含まれ
る。
The first path and the second path of claim 1 correspond to the non-cooling path 11 and the cooling path 10, respectively, and the first path of claim 1 directs the fluid to the “direct” fluid tank. The description of supply includes a case where the return fluid from the cooling chamber 7 is supplied to the fluid tank as it is and a case where the return fluid is supplied to the fluid tank via the heat exchanger 8.

【0036】また、本実施の形態では、熱交換器8を介
する前の流体温度T1と、熱交換器8を介した後の流体
温度T2と、熱交換器8が流体から熱を奪った冷却水の
温度T3と、流体タンク4の冷却層4bの流体温度T4
と、流体タンク4の加熱層4cから出力する冷温流体の
流体温度T5とをそれぞれ温度計で計測することとす
る。
In the present embodiment, the fluid temperature T1 before passing through the heat exchanger 8, the fluid temperature T2 after passing through the heat exchanger 8, and the cooling by the heat exchanger 8 taking heat from the fluid. The water temperature T3 and the fluid temperature T4 of the cooling layer 4b of the fluid tank 4
The fluid temperature T5 of the cold fluid output from the heating layer 4c of the fluid tank 4 is measured by a thermometer.

【0037】図3は、図1に示す温度制御装置の冷却系
の一制御手順を示すフローチャートである。
FIG. 3 is a flowchart showing one control procedure of the cooling system of the temperature control device shown in FIG.

【0038】同図に示すように、この冷却系では、まず
最初に流体タンク4の冷却層4b内の目標温度SVを設
定した後(ステップ301)、該流体タンク4内の冷却
層4bの温度T4を計測する(ステップ302)。
As shown in the figure, in this cooling system, first, a target temperature SV in the cooling layer 4b of the fluid tank 4 is set (step 301), and then the temperature of the cooling layer 4b in the fluid tank 4 is set. T4 is measured (step 302).

【0039】そして、冷却層4bの流体温度T4と目標
温度SVとを比較し(ステップ303)、冷却層4bの
流体温度T4の方が高ければ、バルブAをオン、バルブ
Bをオフにし(ステップ304)、この戻り流体が経路
10を通るよう制御して、熱交換部4dを介した冷却を
行う。
Then, the fluid temperature T4 of the cooling layer 4b is compared with the target temperature SV (step 303). If the fluid temperature T4 of the cooling layer 4b is higher, the valve A is turned on and the valve B is turned off (step 303). 304), cooling is performed via the heat exchange unit 4d by controlling the return fluid to pass through the path 10.

【0040】これに対して、目標温度SVが流体温度T
4以上であれば、バルブAをオフ、バルブBをオンにし
(ステップ305)、戻り流体が経路11を通るよう制
御して、戻り流体の冷却を行わない。
On the other hand, when the target temperature SV is the fluid temperature T
If it is four or more, the valve A is turned off and the valve B is turned on (step 305), the return fluid is controlled to pass through the path 11, and the return fluid is not cooled.

【0041】上記一連の処理を終了指示がなされるまで
繰り返す(ステップ306)ことにより、ヒータ6によ
る過剰な熱量の供給を未然に防ぎ、所望の流体温度を持
つ冷温流体を効率よく冷却室7に供給することができ
る。
By repeating the above series of processes until an end instruction is given (step 306), the supply of an excessive amount of heat by the heater 6 is prevented beforehand, and a cold fluid having a desired fluid temperature is efficiently transferred to the cooling chamber 7. Can be supplied.

【0042】ところで、図3に示すフローチャートで
は、液体タンク4の冷却層4aの流体温度T4のみに基
づいて温度制御する場合を示したが、かかる場合には戻
り流体の温度を全く考慮していないため、戻り流体の冷
却層4aへの流入によって、冷却層4aの流体温度が目
標温度以上になってしまう場合が生ずる。
In the flowchart shown in FIG. 3, the case where the temperature is controlled only based on the fluid temperature T4 of the cooling layer 4a of the liquid tank 4 has been described. In such a case, the temperature of the return fluid is not considered at all. Therefore, the flow of the return fluid into the cooling layer 4a may cause the fluid temperature of the cooling layer 4a to exceed the target temperature.

【0043】このため、温度T1及びT4を考慮してバ
ルブA及びBの開閉を行う別の処理手順を説明する。
Therefore, another processing procedure for opening and closing the valves A and B in consideration of the temperatures T1 and T4 will be described.

【0044】図4は、図1に示す温度制御装置の冷却系
の別の制御手順を示すフローチャートである。
FIG. 4 is a flowchart showing another control procedure of the cooling system of the temperature control device shown in FIG.

【0045】同図に示すように、まず最初に流体タンク
4の冷却層4b内の目標温度SVを設定した後(ステッ
プ401)、熱交換器8に入る前の戻り流体の流体温度
T1と流体タンク4内の冷却層4bの温度T4とを計測
する(ステップ402)。
As shown in the figure, first, after setting the target temperature SV in the cooling layer 4b of the fluid tank 4 (step 401), the fluid temperature T1 of the return fluid before entering the heat exchanger 8 and the fluid temperature T1 The temperature T4 of the cooling layer 4b in the tank 4 is measured (Step 402).

【0046】そして、冷却層4bの流体温度T4と目標
温度SVとを比較し(ステップ403)、冷却層4bの
流体温度T4の方が高ければ、しきい値CBを’0’と
し(ステップ404)、目標温度SVの方が高ければ、
しきい値CBを k×(SV−T4) とする(ステップ405)。ただし、このkは所定の係
数である。
Then, the fluid temperature T4 of the cooling layer 4b is compared with the target temperature SV (step 403). If the fluid temperature T4 of the cooling layer 4b is higher, the threshold value CB is set to '0' (step 404). ), If the target temperature SV is higher,
The threshold value CB is set to k × (SV-T4) (step 405). Here, k is a predetermined coefficient.

【0047】次に、温度差(T1−T4)をしきい値C
Bと比較し(ステップ406)、温度差(T1−T4)
の方が高ければ、バルブAをオンとし、バルブBをオフ
にし(ステップ407)、この戻り流体が経路10を通
るよう制御して、熱交換部4dを介した冷却を行う。
Next, the temperature difference (T1-T4) is set to a threshold value C.
B (step 406), and the temperature difference (T1-T4)
Is higher, the valve A is turned on and the valve B is turned off (step 407), and the return fluid is controlled to pass through the path 10 to perform cooling through the heat exchange unit 4d.

【0048】これに対して、しきい値CBの方が高けれ
ば、バルブAをオフ、バルブBをオンにし(ステップ4
08)、戻り流体が経路11を通るよう制御して、戻り
流体の冷却を行わない。
On the other hand, if the threshold value CB is higher, the valve A is turned off and the valve B is turned on (step 4).
08), the return fluid is controlled to pass through the path 11, and the return fluid is not cooled.

【0049】このように、この処理手順では、冷却層4
aの流体温度T4が目標温度SVよりも低ければ、戻り
流体の温度T1がかなり高くない限り戻り流体を冷却し
ないようにするとともに、流体温度T4が目標温度SV
より高ければ、戻り流体の温度T1が流体温度T4より
も高いか否かで戻り流体を冷却するか否かを決定してい
る。
As described above, in this processing procedure, the cooling layer 4
If the fluid temperature T4 of a is lower than the target temperature SV, the return fluid is not cooled unless the return fluid temperature T1 is considerably high, and the fluid temperature T4 is set to the target temperature SV.
If it is higher, whether or not the return fluid is cooled is determined based on whether or not the temperature T1 of the return fluid is higher than the fluid temperature T4.

【0050】上記一連の処理を終了指示がなされるまで
繰り返す(ステップ409)ことにより、戻り流体の温
度を考慮しつつヒータ6による過剰な熱量の供給を未然
に防ぎ、所望の流体温度を持つ冷温流体を効率よく冷却
室7に供給することができる。
By repeating the above series of processing until an end instruction is given (step 409), the supply of an excessive amount of heat by the heater 6 is prevented beforehand while taking the temperature of the return fluid into consideration, so that the cooling water having a desired fluid temperature can be obtained. The fluid can be efficiently supplied to the cooling chamber 7.

【0051】なお、ここでは熱交換器8を通過する前の
戻り流体の温度T1を用いることとしたが、熱交換器8
を通過した後の戻り流体の温度T2を温度T1に代えて
適用することもできる。
In this case, the temperature T1 of the return fluid before passing through the heat exchanger 8 is used.
Alternatively, the temperature T2 of the return fluid after passing through may be applied instead of the temperature T1.

【0052】また、図5に示すように、図4のステップ
404でしきい値CBに’0’を設定した後に、冷却層
4b内の流体温度T4が目標温度SVよりも所定温度α
以上高い場合(T4>SV+α)には、戻り流体を必ず
冷却することとして、ステップ407に移行するよう処
理することもできる。
As shown in FIG. 5, after the threshold value CB is set to “0” in step 404 in FIG. 4, the fluid temperature T4 in the cooling layer 4b is set to a predetermined temperature α above the target temperature SV.
If it is higher than the above (T4> SV + α), the process may be shifted to step 407, assuming that the return fluid is always cooled.

【0053】上述してきたように、第1の実施の形態で
は、流体タンク4の冷却層4bの流体温度T4、又は該
流体温度T4及び戻り流体の流体温度T1に基づいて、
戻り流体を熱交換部4dを介して冷却するか否かを決定
するよう構成したので、ヒータ6による過剰な熱量の供
給を未然に防ぎ、所望の流体温度を持つ冷温流体を効率
よく冷却室7に供給することができる。
As described above, in the first embodiment, based on the fluid temperature T4 of the cooling layer 4b of the fluid tank 4 or the fluid temperature T4 and the fluid temperature T1 of the return fluid,
Since it is configured to determine whether or not the return fluid is to be cooled via the heat exchange unit 4d, the supply of an excessive amount of heat by the heater 6 is prevented beforehand, and the cold / hot fluid having a desired fluid temperature can be efficiently supplied to the cooling chamber 7 Can be supplied to

【0054】以上、第1の実施の形態について説明し
た。
The first embodiment has been described above.

【0055】ところで、上記第1の実施の形態では、戻
り流体を経路10又は経路11の2経路のいずれかを介
して流体タンク4の冷却層4bに流し込む場合を示した
が、かかる戻り流体を加熱層4c等に流し込むこともで
きる。そこで、以下では、戻り流体を新たな経路で加熱
層4c等に流し込む第2の実施の形態について説明す
る。
In the first embodiment, the case where the return fluid flows into the cooling layer 4b of the fluid tank 4 via either the path 10 or the path 11 has been described. It can also be poured into the heating layer 4c or the like. Therefore, hereinafter, a second embodiment in which the return fluid flows into the heating layer 4c or the like through a new path will be described.

【0056】図6は、第2の実施の形態で用いる冷却系
の構成を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a configuration of a cooling system used in the second embodiment.

【0057】同図に示すように、この冷却系では、図1
に示す経路10及び11の他に、戻り流体を直接加熱層
4cに流し込む経路12を配設し、この経路12にバル
ブCを設けるとともに、加熱層4cのヒータを除去した
構成となる。
As shown in the figure, in this cooling system, FIG.
In addition to the paths 10 and 11 shown in FIG. 1, a path 12 for directly flowing the return fluid into the heating layer 4c is provided, a valve C is provided in the path 12, and the heater of the heating layer 4c is removed.

【0058】具体的には、第2の実施の形態では、冷却
室7からの戻り流体は、バルブAを有する経路10、バ
ルブBを有する経路11又はバルブCを有する経路12
のいずれかを介して流体タンク4に流し込むよう構成し
ている。
More specifically, in the second embodiment, the return fluid from the cooling chamber 7 is supplied to the path 10 having the valve A, the path 11 having the valve B, or the path 12 having the valve C.
Is configured to flow into the fluid tank 4 via any of the above.

【0059】例えば、流体タンク4の冷却層4bの流体
温度T4又は流体タンク4から流出する流体の温度T5
が低すぎる場合には、バルブA及びBを閉じ、バルブC
を開いて戻り流体を加熱層4cに供給することにより、
冷却室7へ供給する低温流体の温度を上昇させることに
なる。
For example, the fluid temperature T4 of the cooling layer 4b of the fluid tank 4 or the temperature T5 of the fluid flowing out of the fluid tank 4
Is too low, valves A and B are closed and valve C
To open and supply the return fluid to the heating layer 4c.
The temperature of the low-temperature fluid supplied to the cooling chamber 7 will be increased.

【0060】このように、この冷却系では、熱せられた
戻り流体をヒータの代わりに温熱源として利用すること
としている。ただし、ここでは説明の便宜上、ヒータを
除去した場合を示すこととするが、図1に示すヒータ6
を加熱層4cに設け、該ヒータ6の出力を少なくするこ
ともできる。
As described above, in this cooling system, the heated return fluid is used as a heat source instead of the heater. Here, for convenience of explanation, the case where the heater is removed is shown, but the heater 6 shown in FIG.
May be provided in the heating layer 4c to reduce the output of the heater 6.

【0061】次に、図6に示す冷却系の処理手順につい
て具体的に説明する。
Next, the processing procedure of the cooling system shown in FIG. 6 will be specifically described.

【0062】図7は、図6に示す冷却系の処理手順を示
すフローチャートである。
FIG. 7 is a flowchart showing the processing procedure of the cooling system shown in FIG.

【0063】同図に示すように、まず最初に流体タンク
4の冷却層4b内の目標温度SVを設定した後(ステッ
プ701)、熱交換器8に入る前の戻り流体の流体温度
T1と流体タンク4内の冷却層4bの温度T4とを計測
する(ステップ702)。
As shown in the figure, first, after setting the target temperature SV in the cooling layer 4b of the fluid tank 4 (step 701), the fluid temperature T1 of the return fluid before entering the heat exchanger 8 and the fluid temperature T1 The temperature T4 of the cooling layer 4b in the tank 4 is measured (Step 702).

【0064】そして、冷却層4bの流体温度T4と(S
V−α)とを比較し(ステップ703)、流体温度T4
の方が低ければ、戻り流体の温度T1が目標温度SVよ
りも大きいか否かをさらに比較し(ステップ704)、
目標温度SVよりも大きな場合には、バルブCをオンに
し、バルブA及びBをオフにして(ステップ705)、
戻り流体を経路12を介して加熱部4cに流し込むとと
もに、冷却部5のコンプレッサ5aをオフにする(ステ
ップ706)。
Then, the fluid temperature T4 of the cooling layer 4b and (S
V-α) (step 703), and the fluid temperature T4
Is smaller, it is further compared whether the temperature T1 of the return fluid is higher than the target temperature SV (step 704),
If it is higher than the target temperature SV, the valve C is turned on and the valves A and B are turned off (step 705),
The return fluid flows into the heating unit 4c via the path 12, and the compressor 5a of the cooling unit 5 is turned off (step 706).

【0065】かかる場合には、流体タンク4から出力さ
れる低温流体が冷えすぎているため、目標温度SVより
も温度が高い戻り流体で加熱層4c内の流体温度を上昇
させるためである。
In such a case, since the low-temperature fluid output from the fluid tank 4 is too cold, the temperature of the fluid in the heating layer 4c is raised by the return fluid having a temperature higher than the target temperature SV.

【0066】これに対して、冷却層4bの流体温度T4
が(SV−α)以上である場合には、戻り流体を冷却す
る必要があり、また戻り流体の温度T1が目標温度以下
である場合には、加熱層4cの加熱効果が得られないた
め、バルブCをオフにし、バルブA及びBのオン/オフ
を決める(ステップ707)。なお、このバルブA及び
Bのオン/オフは、図3〜図5のフローチャートに示す
第1の実施の形態と同様に行えば良い。
On the other hand, the fluid temperature T4 of the cooling layer 4b
Is greater than or equal to (SV-α), it is necessary to cool the return fluid. If the temperature T1 of the return fluid is lower than the target temperature, the heating effect of the heating layer 4c cannot be obtained. The valve C is turned off, and the on / off of the valves A and B is determined (step 707). The ON / OFF of the valves A and B may be performed in the same manner as in the first embodiment shown in the flowcharts of FIGS.

【0067】上記一連の処理を終了指示がなされるまで
繰り返す(ステップ708)ことにより、戻り流体の温
熱効果を利用しつつ、所望の流体温度を持つ冷温流体を
効率よく冷却室7に供給することができる。なお、ここ
では説明の便宜上、温度T1及びT4を用いることとし
たが、温度T1に代えて温度T2を、温度T4に代えて
温度T5を用いることもできる。
By repeating the above series of processes until an end instruction is given (step 708), a cold fluid having a desired fluid temperature is efficiently supplied to the cooling chamber 7 while utilizing the thermal effect of the return fluid. Can be. Although the temperatures T1 and T4 are used here for convenience of description, the temperature T2 may be used instead of the temperature T1 and the temperature T5 may be used instead of the temperature T4.

【0068】ところで、ここでは、流体タンク4が冷却
層4b及び加熱層4cの2層からなる場合を示したが、
流体タンク4が2層に仕切られていない場合にも、本実
施の形態を適用することができる。
Here, the case where the fluid tank 4 is composed of two layers of the cooling layer 4b and the heating layer 4c has been described.
The present embodiment can be applied even when the fluid tank 4 is not partitioned into two layers.

【0069】この場合には、流体タンク4内に加熱層4
cが存在しないため、図8に示すように、バルブCを有
する経路12を冷却室7に向かう流体供給路に結合し、
流体タンク4を介さないよう構成することとなる。
In this case, the heating layer 4
Since c does not exist, the path 12 having the valve C is connected to the fluid supply path toward the cooling chamber 7 as shown in FIG.
It is configured so as not to pass through the fluid tank 4.

【0070】したがって、流体タンク4内での加熱効果
は期待できないが、流体供給路上での戻り流体と低温流
体の混合により、冷却室7へ供給する流体が低すぎる場
合に、その温度を上昇することができる。
Therefore, although the heating effect in the fluid tank 4 cannot be expected, if the fluid supplied to the cooling chamber 7 is too low due to the mixing of the return fluid and the low-temperature fluid on the fluid supply path, the temperature is increased. be able to.

【0071】上述してきたように、第2の実施の形態で
は、図1に示す経路10及び11の他に、戻り流体を直
接加熱層4c等に流し込む経路12を設け、この経路1
2を介して流入する戻り流体を温熱源として使用するよ
う構成したので、加熱層4cのヒータを除去又は負担軽
減し、効率よく温度制御することができる。
As described above, in the second embodiment, in addition to the paths 10 and 11 shown in FIG. 1, a path 12 for directly flowing the return fluid into the heating layer 4c or the like is provided.
Since the return fluid that flows through the heating layer 4 is used as a heat source, the heater of the heating layer 4c can be removed or the load can be reduced, and the temperature can be controlled efficiently.

【0072】以上、第2の実施の形態について説明し
た。
The second embodiment has been described above.

【0073】ところで、上記第1及び第2の実施の形態
では、冷却室7すなわちチャンバー等のプロセスに関す
る特性を対象外としたが、例えばチャンバー数が増えれ
ば増えるほど一般に戻り流体の温度は高くなるため、か
かるプロセス情報を考慮することもできる。
By the way, in the first and second embodiments, the characteristics relating to the process of the cooling chamber 7, that is, the chamber, are excluded. However, for example, as the number of chambers increases, the temperature of the return fluid generally increases. Therefore, such process information can be considered.

【0074】もともと、上記2層式の流体タンク4を用
いた方式は、流体を冷却層4aにおいて過冷却にし、該
過冷却にした流体を加熱層4cで目標温度まで暖めて、
冷却室7に所望の温度の冷温流体を供給するものである
が、かかる過冷却及び加熱を常に一律に行うこととする
と、高精度な温度制御が可能となる反面、消費電力及び
部品疲労が大きくなる。
Originally, in the system using the two-layer type fluid tank 4, the fluid is supercooled in the cooling layer 4a, and the supercooled fluid is heated to the target temperature in the heating layer 4c.
Although a cooling fluid of a desired temperature is supplied to the cooling chamber 7, if such supercooling and heating are always performed uniformly, high-precision temperature control is possible, but power consumption and component fatigue are large. Become.

【0075】そこで、かかる高精度な温度制御モード
(以下「高精度モード」と言う。)の他に、上記プロセ
ス情報を考慮して各コンポーネントの消費電力を少なく
するモード(以下「省エネモード」と言う。)を設ける
ことができる。
Therefore, in addition to the high-precision temperature control mode (hereinafter referred to as "high-accuracy mode"), a mode for reducing the power consumption of each component in consideration of the process information (hereinafter referred to as "energy-saving mode"). ) Can be provided.

【0076】そして、この省エネモードでは、負荷の将
来動向等のプロセス情報を通信等により入力し、このプ
ロセス情報に基づいて流体タンク4の冷却層4bの目標
温度SV等を制御することにより、より効率的に温度制
御が可能となる。
In this energy saving mode, process information such as the future trend of the load is input by communication or the like, and the target temperature SV and the like of the cooling layer 4b of the fluid tank 4 are controlled based on the process information. Temperature control can be performed efficiently.

【0077】図9は、プロセス情報に基づく目標温度制
御手順の一例を示すフローチャートである。
FIG. 9 is a flowchart showing an example of a target temperature control procedure based on process information.

【0078】同図に示すように、まず最初に実装された
チャンバー数nを、所定のしきい値n1と比較し(ステ
ップ901)、チャンバー数nがしきい値以上であれ
ば、流体タンク4の冷却層4bの目標温度SVをSVL
とし(ステップ902)、逆にチャンバー数nがしきい
値n1未満であれば、目標温度SVをSVH とする(ス
テップ903)。すなわち、チャンバー数に応じて、高
い目標温度SVH 又は低い目標温度SVL の自動切替を
行うのである。
As shown in the figure, first, the number n of mounted chambers is compared with a predetermined threshold value n1 (step 901). Target temperature SV of cooling layer 4b
(Step 902). Conversely, if the number n of chambers is less than the threshold value n1, the target temperature SV is set to SVH (Step 903). That is, automatic switching between the high target temperature SVH and the low target temperature SVL is performed according to the number of chambers.

【0079】次に、チャンバープロセス温度Tを計測し
た後(ステップ904)、この温度Tを所定のしきい値
T1と比較し(ステップ905)、温度Tがしきい値T
1以上であれば、流体タンク4の冷却層4bの目標温度
SVを所定量αだけ減じる(ステップ906)。
Next, after measuring the chamber process temperature T (step 904), the temperature T is compared with a predetermined threshold value T1 (step 905).
If it is not less than 1, the target temperature SV of the cooling layer 4b of the fluid tank 4 is reduced by a predetermined amount α (step 906).

【0080】また、t秒以内にチルプロセスに入るチャ
ンバー数がk個ある場合には、所定量βにkを乗じたk
βを流体タンク4の冷却層4bの目標温度SVからさら
に減じる(ステップ907)。
When there are k chambers that enter the chill process within t seconds, k is obtained by multiplying k by a predetermined amount β.
β is further reduced from the target temperature SV of the cooling layer 4b of the fluid tank 4 (step 907).

【0081】このように、チャンバー数n、チルプロセ
スに入るチャンバー数k等のプロセス状態に応じて目標
温度SVを設定することにより、より効率良く温度制御
することができる。
As described above, the temperature can be controlled more efficiently by setting the target temperature SV in accordance with the process state such as the number of chambers n and the number of chambers k to enter the chill process.

【0082】なお、上記実施の形態では、流体タンク4
内に熱交換部4dを設けるとともに、バルブAを有する
経路10及びバルブBを有する経路11をオン/オフ制
御する場合を示したが、本発明はこれに限定されるもの
ではなく、図10に示すように、熱交換部4dを流体タ
ンク4の外部に設け、三方弁13を制御して経路10及
び経路11を切り替えることも可能である。
In the above embodiment, the fluid tank 4
Although the case where the heat exchange part 4d is provided inside and the path 10 having the valve A and the path 11 having the valve B are on / off controlled is shown, the present invention is not limited to this, and FIG. As shown, it is also possible to provide the heat exchange part 4d outside the fluid tank 4 and control the three-way valve 13 to switch between the path 10 and the path 11.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】第1の実施の形態で用いる冷却系の構成を示す
図。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a cooling system used in a first embodiment.

【図2】第1の実施の形態で用いる温度制御装置の全体
構成を示す図。
FIG. 2 is a diagram illustrating an overall configuration of a temperature control device used in the first embodiment.

【図3】図1に示す冷却系の処理手順の一例を示すフロ
ーチャート。
FIG. 3 is a flowchart illustrating an example of a processing procedure of the cooling system illustrated in FIG. 1;

【図4】図1に示す冷却系の別の処理手順を示すフロー
チャート。
FIG. 4 is a flowchart showing another processing procedure of the cooling system shown in FIG. 1;

【図5】図1に示す冷却系の別の処理手順を示すフロー
チャート。
FIG. 5 is a flowchart showing another processing procedure of the cooling system shown in FIG. 1;

【図6】第2の実施の形態で用いる冷却系の構成を示す
図。
FIG. 6 is a diagram showing a configuration of a cooling system used in a second embodiment.

【図7】図6に示す冷却系の処理手順を示すフローチャ
ート。
FIG. 7 is a flowchart showing a processing procedure of the cooling system shown in FIG. 6;

【図8】流体タンクを一層とした場合の構成を示す図。FIG. 8 is a diagram showing a configuration in which a single fluid tank is provided.

【図9】プロセス情報に基づく目標温度制御手順の一例
を示すフローチャート。
FIG. 9 is a flowchart illustrating an example of a target temperature control procedure based on process information.

【図10】三方弁を用いて温度制御する場合の構成を示
す図。
FIG. 10 is a diagram showing a configuration in a case where temperature control is performed using a three-way valve.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ウエハ、 2…ヒータ、 3…コントローラ、 4
…流体タンク、4a…仕切り板、 4b…冷却層、 4
c…加熱層、 4d…熱交換部、5…冷却部、 5a…
コンプレッサ、 6…ヒータ、 7…冷却室、8…熱交
換器、 10,11,12…流体経路、 A,B,C…
バルブ、13…三方弁
1 ... wafer, 2 ... heater, 3 ... controller, 4
... fluid tank, 4a ... partition plate, 4b ... cooling layer, 4
c: heating layer, 4d: heat exchange section, 5: cooling section, 5a:
Compressor, 6 heater, 7 cooling chamber, 8 heat exchanger, 10, 11, 12 fluid path, A, B, C ...
Valve, 13 ... three-way valve

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岡村 健治 神奈川県平塚市万田1200 株式会社小松製 作所研究所内 (72)発明者 遠藤 貴義 神奈川県平塚市万田1200 株式会社小松製 作所研究所内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Kenji Okamura 1200 Manda, Hiratsuka-shi, Kanagawa Prefecture, Komatsu Seisakusho Co., Ltd. (72) Inventor Takayoshi Endo 1200 Manda, Hiratsuka-shi, Kanagawa Pref.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 所定の温度に調整された流体を温度制御
室に循環させ、該温度制御室との熱伝導によって被温度
制御対象物を冷却する温度制御装置において、 前記流体を冷却する冷却手段と、 前記温度制御室に循環供給する流体を貯える流体タンク
と、 前記温度制御室を通過した流体を前記流体タンクへ直接
供給する第1の経路と、 前記温度制御室を通過した流体を前記冷却手段を介して
冷却した後前記流体タンクに供給する第2の経路と、 前記流体タンクに滞留する流体の流体温度及び/又は前
記温度制御室を通過した流体の流体温度に基づいて、前
記温度制御室を通過した流体を前記流体タンクに供給す
る経路を選択する選択手段とを具備することを特徴とす
る温度制御装置。
1. A temperature control device for circulating a fluid adjusted to a predetermined temperature through a temperature control chamber and cooling an object to be temperature-controlled by heat conduction with the temperature control chamber, wherein a cooling means for cooling the fluid A fluid tank that stores a fluid that is circulated and supplied to the temperature control chamber; a first path that directly supplies the fluid that has passed through the temperature control chamber to the fluid tank; A second passage for supplying the fluid to the fluid tank after cooling through the means, and the temperature control based on the fluid temperature of the fluid remaining in the fluid tank and / or the fluid temperature of the fluid passing through the temperature control chamber. Selecting means for selecting a path for supplying the fluid that has passed through the chamber to the fluid tank.
【請求項2】 前記流体タンクは、 貯えた流体を過冷却にする冷却層と、該冷却層で冷却し
た流体を所定の温度にまで加熱する加熱層とからなり、 前記温度制御室を通過した流体を前記流体タンクの加熱
層に供給する第3の経路をさらに具備する特徴とする請
求項1記載の温度制御装置。
2. The fluid tank, comprising: a cooling layer for supercooling the stored fluid; and a heating layer for heating the fluid cooled by the cooling layer to a predetermined temperature, and having passed through the temperature control chamber. The temperature control device according to claim 1, further comprising a third path for supplying a fluid to a heating layer of the fluid tank.
【請求項3】 前記流体タンクに蓄積した流体を前記温
度制御室に供給する経路に前記温度制御室を通過した流
体をバイパスさせる第4の経路をさらに具備することを
特徴とする請求項1記載の温度制御装置。
3. The apparatus according to claim 1, wherein a path for supplying the fluid stored in the fluid tank to the temperature control chamber further includes a fourth path for bypassing the fluid that has passed through the temperature control chamber. Temperature control device.
【請求項4】 流体タンクに保持した所定の温度に調整
された流体を温度制御室に循環させ、該温度制御室との
熱伝導によって被温度制御対象物を冷却する温度制御方
法において、 前記流体タンクに貯える流体の流体温度を計測し、 計測した流体温度が前記流体タンクの所定の目標温度よ
りも高ければ、前記温度制御室を通過した流体を冷却し
た後前記流体タンクに供給し、該流体温度が前記目標温
度以下であれば、前記温度制御室を通過した流体の大部
分をそのまま流体タンクに供給することを特徴とする温
度制御方法。
4. A temperature control method for circulating a fluid adjusted to a predetermined temperature held in a fluid tank through a temperature control chamber and cooling an object to be temperature-controlled by heat conduction with the temperature control chamber, The fluid temperature of the fluid stored in the tank is measured, and if the measured fluid temperature is higher than a predetermined target temperature of the fluid tank, the fluid that has passed through the temperature control chamber is cooled and then supplied to the fluid tank, If the temperature is equal to or lower than the target temperature, most of the fluid that has passed through the temperature control chamber is supplied to the fluid tank as it is.
【請求項5】 流体タンクに保持した所定の温度に調整
された流体を温度制御室に循環させ、該温度制御室との
熱伝導によって被温度制御対象物を冷却する温度制御方
法において、 前記流体タンクに貯える第1の流体の流体温度及び前記
温度制御室を通過した第2の流体の流体温度を計測し、 該計測した第1の流体の流体温度、第2の流体の流体温
度及び前記流体タンクの所定の目標温度に基づいて、前
記流体タンクに供給する第2の流体を冷却するか否かを
選択することを特徴とする温度制御方法。
5. A temperature control method for circulating a fluid adjusted to a predetermined temperature held in a fluid tank through a temperature control chamber and cooling an object to be temperature-controlled by heat conduction with the temperature control chamber, Measuring the fluid temperature of the first fluid stored in the tank and the fluid temperature of the second fluid passing through the temperature control chamber; measuring the measured fluid temperature of the first fluid, the fluid temperature of the second fluid, and the fluid A temperature control method comprising selecting whether to cool a second fluid supplied to the fluid tank based on a predetermined target temperature of the tank.
【請求項6】 流体タンクに保持した所定の温度に調整
された流体を温度制御室に循環させ、該温度制御室との
熱伝導によって被温度制御対象物を冷却する温度制御方
法において、 前記流体タンクに貯える第1の流体の流体温度及び前記
温度制御室を通過した第2の流体の流体温度を計測し、 該計測した第1の流体の流体温度、第2の流体の流体温
度及び前記流体タンクの所定の目標温度に基づいて、前
記流体タンクから流出する流体を前記第2の流体で熱す
るか否かを選択することを特徴とする温度制御方法。
6. A temperature control method for circulating a fluid adjusted to a predetermined temperature held in a fluid tank to a temperature control chamber and cooling an object to be temperature controlled by heat conduction with the temperature control chamber, Measuring the fluid temperature of the first fluid stored in the tank and the fluid temperature of the second fluid passing through the temperature control chamber; measuring the measured fluid temperature of the first fluid, the fluid temperature of the second fluid, and the fluid A temperature control method comprising: selecting whether to heat a fluid flowing out of the fluid tank with the second fluid based on a predetermined target temperature of the tank.
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