JPH11239586A - レ―ザ手術装置 - Google Patents
レ―ザ手術装置Info
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- JPH11239586A JPH11239586A JP10369407A JP36940798A JPH11239586A JP H11239586 A JPH11239586 A JP H11239586A JP 10369407 A JP10369407 A JP 10369407A JP 36940798 A JP36940798 A JP 36940798A JP H11239586 A JPH11239586 A JP H11239586A
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- laser
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 術前角膜曲率及び矯正度数ごとに異なる多数
のマスクやアパーチャを用意しなくても、簡単な機構に
より角膜を凹レンズ状に切除して角膜曲率を小さくし、
遠視の矯正を行う。 【解決手段】 角膜をアブレーションして屈折異常を矯
正するレーザ手術装置において、エキシマレーザビーム
を出射するレーザ光源と、該レーザ光源より出射するレ
ーザビームの中央部の遮光領域を変えることができる遮
光手段と、開口径が可変なアパーチャと、該アパーチャ
と前記遮光手段とを制御する制御手段と、前記レーザビ
ームを回軸させるビーム回転手段とを有し、アパーチャ
と遮光手段を通過するレーザビームの形状を変え遠視矯
正を行うことを特徴とする。
のマスクやアパーチャを用意しなくても、簡単な機構に
より角膜を凹レンズ状に切除して角膜曲率を小さくし、
遠視の矯正を行う。 【解決手段】 角膜をアブレーションして屈折異常を矯
正するレーザ手術装置において、エキシマレーザビーム
を出射するレーザ光源と、該レーザ光源より出射するレ
ーザビームの中央部の遮光領域を変えることができる遮
光手段と、開口径が可変なアパーチャと、該アパーチャ
と前記遮光手段とを制御する制御手段と、前記レーザビ
ームを回軸させるビーム回転手段とを有し、アパーチャ
と遮光手段を通過するレーザビームの形状を変え遠視矯
正を行うことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は角膜を修正して屈折
異常を矯正するレーザ手術装置にかかわり、特に遠視眼
の角膜曲率を小さくして屈折力を増加させることによっ
て遠視矯正を行うことができるレーザ手術装置に関す
る。
異常を矯正するレーザ手術装置にかかわり、特に遠視眼
の角膜曲率を小さくして屈折力を増加させることによっ
て遠視矯正を行うことができるレーザ手術装置に関す
る。
【０００２】
【従来技術】近年、レーザビームで角膜の表面を切除し
その曲率を変えることによって眼球の屈折異常を矯正し
ようとする手法（Photo-refractive Keratectomy）が注
目されている。しかし、現在行われているのは近視矯正
ばかりで、遠視矯正はほとんど行われていない。その理
由は次の点にある。近視矯正は図１に示すように角膜中
央部を深く、周辺部を浅く凸レンズ状に切除すれば良い
ため、通常の円形可変アパーチャを使用してレーザのア
ブレーション領域を変えることにより比較的容易にでき
る。これに対して、遠視矯正は図２のように中央部を浅
く、周辺部を深く、凹レンズ状に切除しなければならな
いので、レーザビーム中央を円形のアパーチャでさえぎ
り、しかもその大きさを変えるという通常のアパーチャ
では困難なことを行わなければならないからである。
その曲率を変えることによって眼球の屈折異常を矯正し
ようとする手法（Photo-refractive Keratectomy）が注
目されている。しかし、現在行われているのは近視矯正
ばかりで、遠視矯正はほとんど行われていない。その理
由は次の点にある。近視矯正は図１に示すように角膜中
央部を深く、周辺部を浅く凸レンズ状に切除すれば良い
ため、通常の円形可変アパーチャを使用してレーザのア
ブレーション領域を変えることにより比較的容易にでき
る。これに対して、遠視矯正は図２のように中央部を浅
く、周辺部を深く、凹レンズ状に切除しなければならな
いので、レーザビーム中央を円形のアパーチャでさえぎ
り、しかもその大きさを変えるという通常のアパーチャ
では困難なことを行わなければならないからである。
【０００３】この困難なアパーチャ制御を行うため、現
在までにいくつかの方法が提案されてきた。特公平４−
３３２２０号（ＧＢ ８６０６８２１）「レーザを使用
する表面の整形」（出願人 サミット）には、特殊なマ
スクを使用して中央部より周辺部を深くアブレーション
し、凹レンズ状に切除する方法が示されている（図３参
照）。この方法で使用されるマスクはレーザ光に対して
予め定められた形状（プロファイル）の抵抗を有してお
り、その形状はマスク材料の厚さあるいは組織を変える
ことによって作られている。このマスクを通して角膜に
レーザビームを照射すると、レーザビームの一部が選択
的に吸収され、他の部分がこのマスクの形状にしたがっ
て角膜表面へ透過し、その表面を選択的にアブレーショ
ンする。遠視矯正のマスクは、中央部で吸収が多く透過
を少なくし、周辺部で吸収が少なく透過が多くなるよう
に形成することによって、角膜を凹レンズ状に切除する
ことができる。
在までにいくつかの方法が提案されてきた。特公平４−
３３２２０号（ＧＢ ８６０６８２１）「レーザを使用
する表面の整形」（出願人 サミット）には、特殊なマ
スクを使用して中央部より周辺部を深くアブレーション
し、凹レンズ状に切除する方法が示されている（図３参
照）。この方法で使用されるマスクはレーザ光に対して
予め定められた形状（プロファイル）の抵抗を有してお
り、その形状はマスク材料の厚さあるいは組織を変える
ことによって作られている。このマスクを通して角膜に
レーザビームを照射すると、レーザビームの一部が選択
的に吸収され、他の部分がこのマスクの形状にしたがっ
て角膜表面へ透過し、その表面を選択的にアブレーショ
ンする。遠視矯正のマスクは、中央部で吸収が多く透過
を少なくし、周辺部で吸収が少なく透過が多くなるよう
に形成することによって、角膜を凹レンズ状に切除する
ことができる。
【０００４】また、特開昭６４−８６９６８号（ＦＲ
８７０８９６３）「眼の角膜手術を行う装置」（出願人
ＩＢＭ）には、ローブ状のアパーチャを回転または並
進の変位をさせながら、レーザを照射する切除方法が示
されている（図４参照）。この方法で使用されるローブ
状のアパーチャは所定の形状になっており、このアパー
チャによるレーザビームのローブ像を間欠的に多数重ね
合わせて角膜切除を行い、結果として屈折矯正に必要な
切除分をアブレーションして角膜の曲率を変化させると
いうものである。従って、遠視矯正のアパーチャは角膜
中央部に対して角膜周辺部に相当する部分は幅が広くな
っているので、周辺部がより多くアブレーションされる
ようになっている。
８７０８９６３）「眼の角膜手術を行う装置」（出願人
ＩＢＭ）には、ローブ状のアパーチャを回転または並
進の変位をさせながら、レーザを照射する切除方法が示
されている（図４参照）。この方法で使用されるローブ
状のアパーチャは所定の形状になっており、このアパー
チャによるレーザビームのローブ像を間欠的に多数重ね
合わせて角膜切除を行い、結果として屈折矯正に必要な
切除分をアブレーションして角膜の曲率を変化させると
いうものである。従って、遠視矯正のアパーチャは角膜
中央部に対して角膜周辺部に相当する部分は幅が広くな
っているので、周辺部がより多くアブレーションされる
ようになっている。
【０００５】特開昭６４−８６９６８号と類似するもの
として、特開平２−８４９５５（ＳＵ ４４５７７７
２）「眼の屈折異常を矯正するための装置」（出願人
メゾトラスレボイ・ナウチノーテフ＝チェコスキ・コム
プレクス“ミクロヒルルギア・グラザ”）にもある。
として、特開平２−８４９５５（ＳＵ ４４５７７７
２）「眼の屈折異常を矯正するための装置」（出願人
メゾトラスレボイ・ナウチノーテフ＝チェコスキ・コム
プレクス“ミクロヒルルギア・グラザ”）にもある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながらこれらの
遠視矯正方法には以下のような欠点がある。
遠視矯正方法には以下のような欠点がある。
【０００７】前者の特殊なマスクを使用する方法では、
矯正を行う眼球の角膜曲率と矯正度数によりマスクの形
状が異なってくるため、術前の角膜曲率、矯正度数に対
し、各々違った形状のマスクが必要であり、多数のマス
クの形状を用意しなければならない。また、矯正の角膜
切除量はマスク形状に左右されるため、マスク形状の精
度が重要な要素となり、それにしたがって、製造が難し
くなるという欠点があった。
矯正を行う眼球の角膜曲率と矯正度数によりマスクの形
状が異なってくるため、術前の角膜曲率、矯正度数に対
し、各々違った形状のマスクが必要であり、多数のマス
クの形状を用意しなければならない。また、矯正の角膜
切除量はマスク形状に左右されるため、マスク形状の精
度が重要な要素となり、それにしたがって、製造が難し
くなるという欠点があった。
【０００８】また、後者のローブ像を変位させる方法で
は、上と同様に矯正前の角膜曲率、矯正度数により、ロ
ーブ状のアパーチャの形状が変わってくるため、アパー
チャの種類が非常に多数になってしまうという欠点があ
る。
は、上と同様に矯正前の角膜曲率、矯正度数により、ロ
ーブ状のアパーチャの形状が変わってくるため、アパー
チャの種類が非常に多数になってしまうという欠点があ
る。
【０００９】本発明の目的は上記欠点に鑑み、多数のマ
スクやアパーチャを用意しなくても、簡単な構成で角膜
曲率を小さくし、遠視矯正が可能な屈折矯正用のレーザ
手術装置を提供することにある。
スクやアパーチャを用意しなくても、簡単な構成で角膜
曲率を小さくし、遠視矯正が可能な屈折矯正用のレーザ
手術装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の装置は、次のような特徴を持つ。
に、本発明の装置は、次のような特徴を持つ。
【００１１】（１） 角膜をアブレーションして屈折異
常を矯正するレーザ手術装置において、エキシマレーザ
ビームを出射するレーザ光源と、該レーザ光源より出射
するレーザビームの中央部の遮光領域を変えることがで
きる遮光手段と、開口径が可変なアパーチャと、該アパ
ーチャと前記遮光手段とを制御する制御手段と、前記レ
ーザビームを回軸させるビーム回転手段とを有し、アパ
ーチャと遮光手段を通過するレーザビームの形状を変え
遠視矯正を行うことを特徴とする。
常を矯正するレーザ手術装置において、エキシマレーザ
ビームを出射するレーザ光源と、該レーザ光源より出射
するレーザビームの中央部の遮光領域を変えることがで
きる遮光手段と、開口径が可変なアパーチャと、該アパ
ーチャと前記遮光手段とを制御する制御手段と、前記レ
ーザビームを回軸させるビーム回転手段とを有し、アパ
ーチャと遮光手段を通過するレーザビームの形状を変え
遠視矯正を行うことを特徴とする。
【００１２】（２） 角膜をアブレーションして屈折異
常を矯正するレーザ手術装置において、円形の開口部を
持つアパーチャと該アパーチャの開口部を横切り直線状
の遮光エッジを持ち遮光エッジの位置が変化する遮光板
とを有するビーム遮光手段と、該ビーム遮光手段の開口
像を手術眼に投影する投影レンズと、前記ビーム遮光手
段を透過するレーザビームの形状を維持した状態で前記
投影レンズの光軸を中心としてレーザビームの照射位置
を回転させる回転手段と、前記ビーム遮光手段の遮光エ
ッジの位置に対するレーザビームの照射量を制御し角膜
の中心に対してその周辺部の照射量を増加させ遠視矯正
を行う制御手段と、を備えることを特徴とする。
常を矯正するレーザ手術装置において、円形の開口部を
持つアパーチャと該アパーチャの開口部を横切り直線状
の遮光エッジを持ち遮光エッジの位置が変化する遮光板
とを有するビーム遮光手段と、該ビーム遮光手段の開口
像を手術眼に投影する投影レンズと、前記ビーム遮光手
段を透過するレーザビームの形状を維持した状態で前記
投影レンズの光軸を中心としてレーザビームの照射位置
を回転させる回転手段と、前記ビーム遮光手段の遮光エ
ッジの位置に対するレーザビームの照射量を制御し角膜
の中心に対してその周辺部の照射量を増加させ遠視矯正
を行う制御手段と、を備えることを特徴とする。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面に基
づいて説明する。 （全体の光学系）図５は一実施例の光学系の配置図であ
る。
づいて説明する。 （全体の光学系）図５は一実施例の光学系の配置図であ
る。
【００１４】１はレーザ光源であり、実施例ではエキシ
マレーザを使用している。そのレーザ光源から出射され
るレーザビームは、ミラー２およびミラー３で反射され
る。ミラー３は矢印方向に移動可能であり、近視矯正時
にレーザビームを後述する不均一な強度分布を持つ方向
にスキャンすることにより均一に切除する。この点は、
特願平２−４１６７６７号（発明の名称 レーザビーム
によるアブレーション装置）に詳細に説明されているの
で参照にされたい。
マレーザを使用している。そのレーザ光源から出射され
るレーザビームは、ミラー２およびミラー３で反射され
る。ミラー３は矢印方向に移動可能であり、近視矯正時
にレーザビームを後述する不均一な強度分布を持つ方向
にスキャンすることにより均一に切除する。この点は、
特願平２−４１６７６７号（発明の名称 レーザビーム
によるアブレーション装置）に詳細に説明されているの
で参照にされたい。
【００１５】４は回転可能な細長い平板のアパーチャで
あり、図６はこれを上側から見た図である。アパーチャ
４は近視矯正時に光路外に脱出し、遠視矯正時に光路に
挿入される。アパーチャ５は開口の径が可変の円形アパ
ーチャである。アパーチャ４はアパーチャ５に近接して
配置され、アパーチャ５は投影レンズ７に関して角膜９
と共役な位置にある。したがって、アパーチャ上でのビ
ーム形状の像が角膜９の上にできる。
あり、図６はこれを上側から見た図である。アパーチャ
４は近視矯正時に光路外に脱出し、遠視矯正時に光路に
挿入される。アパーチャ５は開口の径が可変の円形アパ
ーチャである。アパーチャ４はアパーチャ５に近接して
配置され、アパーチャ５は投影レンズ７に関して角膜９
と共役な位置にある。したがって、アパーチャ上でのビ
ーム形状の像が角膜９の上にできる。
【００１６】アパーチャ４およびアパーチャ５を通過し
たレーザビームは、イメージローテータ６を経て投影レ
ンズ７を通り、平面ミラー８により９０°曲げられて角
膜９に到達する。
たレーザビームは、イメージローテータ６を経て投影レ
ンズ７を通り、平面ミラー８により９０°曲げられて角
膜９に到達する。
【００１７】１０は双眼の観察光学系であるが、左右の
観察光軸は平面ミラー８を挟むようにして位置される。
双眼の観察光学系の詳細は本発明と関係がないので、こ
れを省略する。 （遠視矯正の説明）以上のような光学系の装置を使用し
た遠視矯正を説明する。
観察光軸は平面ミラー８を挟むようにして位置される。
双眼の観察光学系の詳細は本発明と関係がないので、こ
れを省略する。 （遠視矯正の説明）以上のような光学系の装置を使用し
た遠視矯正を説明する。
【００１８】エキシマレーザの出射ビームの代表的な断
面形状は図７に示される。アパーチャ４，５をレーザ光
源側からみると図８のようになっており、レーザビーム
は中央部分がアパーチャ４によって、周辺部がアパーチ
ャ５によってカットされ、斜線部分のビームがアパーチ
ャ４，５を通過する。この斜線部分の形状のビームが投
影レンズ７によって角膜９上に投影され、角膜をアブレ
ーションする。アパーチャ４，５と投影レンズ７との間
にあるイメージローテータ６（投影レンズ７と角膜９の
間に配置してもよい）により、レーザビームの像を回転
してアブレーション領域を移動する。このようにして何
ショットかを重ねて照射すると、図９のようにリング状
にアブレーションされる。このときのリングの外側の直
径Ｄ1はアパーチャ５の開口径ｄと投影レンズ７の投影
倍率によって決まり、内側の直径Ｄ2はアパーチャ４の
ビームを切る幅ｅと投影レンズ７の投影倍率によって決
まる。
面形状は図７に示される。アパーチャ４，５をレーザ光
源側からみると図８のようになっており、レーザビーム
は中央部分がアパーチャ４によって、周辺部がアパーチ
ャ５によってカットされ、斜線部分のビームがアパーチ
ャ４，５を通過する。この斜線部分の形状のビームが投
影レンズ７によって角膜９上に投影され、角膜をアブレ
ーションする。アパーチャ４，５と投影レンズ７との間
にあるイメージローテータ６（投影レンズ７と角膜９の
間に配置してもよい）により、レーザビームの像を回転
してアブレーション領域を移動する。このようにして何
ショットかを重ねて照射すると、図９のようにリング状
にアブレーションされる。このときのリングの外側の直
径Ｄ1はアパーチャ５の開口径ｄと投影レンズ７の投影
倍率によって決まり、内側の直径Ｄ2はアパーチャ４の
ビームを切る幅ｅと投影レンズ７の投影倍率によって決
まる。
【００１９】アパーチャ４は先に述べたように図６及び
図８に示されるような回転可能な平板であり、ビームに
対するアパーチャの幅ｅは図１０のように変わってい
く。この結果、アパーチャ４，５を通過するレーザビー
ムの透過量Ｔは、アパーチャ４の厚みを０とすると、θ
＝０°のときにはアパーチャ４ではビームはカットされ
ず、アパーチャ５の直径ｄの円形開口内をすべて通過す
るので、その透過量を“１”とすれば、アパーチャ４の
回転角に対する透過量は図１１のようになる。従って、
角膜９上でのレーザビームによるアブレーション領域
は、θを０°から増加させアパーチャ４でビームを切る
幅を大きくしていくと、Ｄ2＝０のときの直径Ｄ1の円形
領域すべてがアブレーションされる状態から、内側のア
ブレーションされない直径Ｄ2の円形領域が増加してい
き、θ＝θdのときにアパーチャ４の幅ｅがアパーチャ
５の開口径ｄと等しくなり、Ｄ2＝Ｄ1となってアブレー
ションされない状態になる。
図８に示されるような回転可能な平板であり、ビームに
対するアパーチャの幅ｅは図１０のように変わってい
く。この結果、アパーチャ４，５を通過するレーザビー
ムの透過量Ｔは、アパーチャ４の厚みを０とすると、θ
＝０°のときにはアパーチャ４ではビームはカットされ
ず、アパーチャ５の直径ｄの円形開口内をすべて通過す
るので、その透過量を“１”とすれば、アパーチャ４の
回転角に対する透過量は図１１のようになる。従って、
角膜９上でのレーザビームによるアブレーション領域
は、θを０°から増加させアパーチャ４でビームを切る
幅を大きくしていくと、Ｄ2＝０のときの直径Ｄ1の円形
領域すべてがアブレーションされる状態から、内側のア
ブレーションされない直径Ｄ2の円形領域が増加してい
き、θ＝θdのときにアパーチャ４の幅ｅがアパーチャ
５の開口径ｄと等しくなり、Ｄ2＝Ｄ1となってアブレー
ションされない状態になる。
【００２０】このアパーチャ４がビーム光軸となす角θ
を変えて、リング状のアブレーション領域の内側のアブ
レーションされない円形領域の直径Ｄ2を変えることに
よって、図２のように角膜中央部が浅く、周辺部が深い
凹レンズ状にアブレーションし、遠視眼の矯正を行うこ
とができる。
を変えて、リング状のアブレーション領域の内側のアブ
レーションされない円形領域の直径Ｄ2を変えることに
よって、図２のように角膜中央部が浅く、周辺部が深い
凹レンズ状にアブレーションし、遠視眼の矯正を行うこ
とができる。
【００２１】なお、エキシマレーザのビームは図７のよ
うな強度分布を持っており、これをそのまま回転させて
アブレーションすると図１２のようにビーム中央（イメ
ージローテータによるレーザビームの回転中心）が周辺
よりも多く切除される。従って、アパーチャ４の角度θ
によるＤ2の制御およびイメージローテータの回転制御
では、このことを考慮にいれて行う必要がある。このよ
うな煩わしさを避けるには、図５のレーザ光源１とアパ
ーチャ４の間に図１３に示すような透過率分布のフィル
タを入れて、レーザビームの強度分布をほぼ均等にすれ
ば、上記のような考慮はしなくて済むようになる。
うな強度分布を持っており、これをそのまま回転させて
アブレーションすると図１２のようにビーム中央（イメ
ージローテータによるレーザビームの回転中心）が周辺
よりも多く切除される。従って、アパーチャ４の角度θ
によるＤ2の制御およびイメージローテータの回転制御
では、このことを考慮にいれて行う必要がある。このよ
うな煩わしさを避けるには、図５のレーザ光源１とアパ
ーチャ４の間に図１３に示すような透過率分布のフィル
タを入れて、レーザビームの強度分布をほぼ均等にすれ
ば、上記のような考慮はしなくて済むようになる。
【００２２】以上のような実施例では、アパーチャ４を
回転させることによりレーザービームをカットする幅を
変えたが、他の方法によって幅ｅを変えても可能であ
る。また、アパーチャで中央部をカットする代わりに、
図１４のように複数枚のミラーで２つに分割したビーム
相互の間隔を制御する方法でも同様のことを行うことが
できる。
回転させることによりレーザービームをカットする幅を
変えたが、他の方法によって幅ｅを変えても可能であ
る。また、アパーチャで中央部をカットする代わりに、
図１４のように複数枚のミラーで２つに分割したビーム
相互の間隔を制御する方法でも同様のことを行うことが
できる。
【００２３】なお、装置はコンピュータ制御により、モ
ータ等の駆動ユニットを動作させるが、この動作方法自
体には特徴がないのでその説明は省略する。
ータ等の駆動ユニットを動作させるが、この動作方法自
体には特徴がないのでその説明は省略する。
【００２４】
【発明の効果】本発明によれば、術前角膜曲率及び矯正
度数ごとに異なる多数のマスクやアパーチャを用意しな
くても、簡単な機構により角膜を凹レンズ状に切除して
角膜曲率を小さくし、遠視の矯正を行うことが可能とな
る。
度数ごとに異なる多数のマスクやアパーチャを用意しな
くても、簡単な機構により角膜を凹レンズ状に切除して
角膜曲率を小さくし、遠視の矯正を行うことが可能とな
る。
【図１】近視矯正のための被検眼角膜の切除部分を示す
図である。
図である。
【図２】遠視矯正のための被検眼角膜の切除部分を示す
図である。
図である。
【図３】遠視矯正のためのアパーチャ制御を行った切除
方法の１例を示す図である。
方法の１例を示す図である。
【図４】遠視矯正のためのアパーチャ制御を行った切除
方法の別例を示す図である。
方法の別例を示す図である。
【図５】本実施例の光学系の配置図である。
【図６】細長い平板のアパーチャを上側から見た図であ
る。
る。
【図７】エキシマレーザの出射ビームの代表的な断面形
状示す図である。
状示す図である。
【図８】細長い平板のアパーチャと円形のアパーチャを
レーザ光源側から見た図である。
レーザ光源側から見た図である。
【図９】リング状にアブレーションすることを示す説明
図である。
図である。
【図１０】ビームに対するアパーチャの幅の変化を示す
図である。
図である。
【図１１】細長い平板のアパーチャの回転角に対するレ
ーザビームの透過量の変化を示す図である。
ーザビームの透過量の変化を示す図である。
【図１２】図７に示す強度分布を持つエキシマレーザの
ビームをそのまま回転させてアブレーションするときの
切除される形状を示す図である。
ビームをそのまま回転させてアブレーションするときの
切除される形状を示す図である。
【図１３】レーザ光源と細長い平板のアパーチャとの透
過率の関係を示す図である。
過率の関係を示す図である。
【図１４】複数枚のミラーをビームを制御する方法を示
す図である。
す図である。
１ レーザ光源 ３ ミラー ４，５ アパーチャ ６ イメージローテータ
Claims (2)
- 【請求項１】 角膜をアブレーションして屈折異常を矯
正するレーザ手術装置において、エキシマレーザビーム
を出射するレーザ光源と、該レーザ光源より出射するレ
ーザビームの中央部の遮光領域を変えることができる遮
光手段と、開口径が可変なアパーチャと、該アパーチャ
と前記遮光手段とを制御する制御手段と、前記レーザビ
ームを回軸させるビーム回転手段とを有し、アパーチャ
と遮光手段を通過するレーザビームの形状を変え遠視矯
正を行うことを特徴とするレーザ手術装置。 - 【請求項２】 角膜をアブレーションして屈折異常を矯
正するレーザ手術装置において、円形の開口部を持つア
パーチャと該アパーチャの開口部を横切り直線状の遮光
エッジを持ち遮光エッジの位置が変化する遮光板とを有
するビーム遮光手段と、該ビーム遮光手段の開口像を手
術眼に投影する投影レンズと、前記ビーム遮光手段を透
過するレーザビームの形状を維持した状態で前記投影レ
ンズの光軸を中心としてレーザビームの照射位置を回転
させる回転手段と、前記ビーム遮光手段の遮光エッジの
位置に対するレーザビームの照射量を制御し角膜の中心
に対してその周辺部の照射量を増加させ遠視矯正を行う
制御手段と、を備えることを特徴とするレーザ手術装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36940798A JP3207170B2 (ja) | 1998-12-25 | 1998-12-25 | レーザ手術装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36940798A JP3207170B2 (ja) | 1998-12-25 | 1998-12-25 | レーザ手術装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4257276A Division JP2907656B2 (ja) | 1992-08-31 | 1992-08-31 | レ−ザ手術装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11239586A true JPH11239586A (ja) | 1999-09-07 |
| JP3207170B2 JP3207170B2 (ja) | 2001-09-10 |
Family
ID=18494341
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36940798A Expired - Lifetime JP3207170B2 (ja) | 1998-12-25 | 1998-12-25 | レーザ手術装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3207170B2 (ja) |
-
1998
- 1998-12-25 JP JP36940798A patent/JP3207170B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| JP3207170B2 (ja) | 2001-09-10 |
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