JPH11228150A - Manufacture of glass substrate - Google Patents

Manufacture of glass substrate

Info

Publication number
JPH11228150A
JPH11228150A JP10033137A JP3313798A JPH11228150A JP H11228150 A JPH11228150 A JP H11228150A JP 10033137 A JP10033137 A JP 10033137A JP 3313798 A JP3313798 A JP 3313798A JP H11228150 A JPH11228150 A JP H11228150A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass substrate
molten glass
lower mold
glass
shape
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP10033137A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masataka Shimizu
正孝 清水
Fumimasa Itou
文雅 伊藤
Eigo Hirotsuji
永伍 廣辻
Toshiki Goto
利樹 後藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NGK Insulators Ltd
Original Assignee
NGK Insulators Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NGK Insulators Ltd filed Critical NGK Insulators Ltd
Priority to JP10033137A priority Critical patent/JPH11228150A/en
Publication of JPH11228150A publication Critical patent/JPH11228150A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B11/00Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
    • C03B11/06Construction of plunger or mould
    • C03B11/08Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B11/00Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
    • C03B11/06Construction of plunger or mould
    • C03B11/08Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
    • C03B11/088Flat discs
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B7/00Distributors for the molten glass; Means for taking-off charges of molten glass; Producing the gob, e.g. controlling the gob shape, weight or delivery tact
    • C03B7/10Cutting-off or severing the glass flow with the aid of knives or scissors or non-contacting cutting means, e.g. a gas jet; Construction of the blades used
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2215/00Press-moulding glass
    • C03B2215/40Product characteristics
    • C03B2215/44Flat, parallel-faced disc or plate products
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P40/00Technologies relating to the processing of minerals
    • Y02P40/50Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
    • Y02P40/57Improving the yield, e-g- reduction of reject rates

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the occurrence of shrink marks without requiring a reheat press, to obtain a substrate having good parallelism and to suppress the deterioration with lapse of time by use of press molds by spirally dropping molten glass press formed by the upper and lower molds onto the lower mold. SOLUTION: At the time of starting the dropping of the molten glass 3, the lower mold 2 rotates toward an arrow K within the horizontal plane around the center of the press plane. On the other hand, a nozzle 1 for dropping the molten glass 3 exists on the center of the lower mold 2 but the position of the nozzle 1 is fixed and, therefore, the position where the molten glass 3 is dropped is fixed. Next, when the lower mold 2 is kept rotated and is uniaxially moved in the radiol direction M of the lower mold 2 concurrently with the start of dropping of the molten glass 3, the molten glass 3 is dropped over the entire part of the press plane of the lower mold 2 while drawing spirals. When the dropping position of the molten glass 3, arrives at the prescribed outer peripheral part of the lower mold 2, the molten glass 3 is cut by a shear 5 and the spiral molten glass 4 is formed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】 本発明は、主にコンピュー
タの情報記録媒体として使用されるハードディスク用の
基板として用いられるガラス基板の作製方法に関する。
The present invention relates to a method for manufacturing a glass substrate used as a substrate for a hard disk used mainly as an information recording medium of a computer.

【0002】[0002]

【従来の技術】 近年、コンピュータの普及と種々のソ
フトウェアの高容量化が進行する傾向にあり、これに伴
って、大量の情報を高速に記録/読出することのできる
情報記録媒体としてのハードディスクの開発において
は、従来のアルミニウム金属を用いた基板に変えて、硬
度や平滑性に優れるガラス基板、特に結晶化ガラスを用
いたガラス基板を用いる動きが活発になってきている。
2. Description of the Related Art In recent years, the spread of computers and the increase in the capacity of various types of software have been advancing. With this trend, hard disks as information recording media capable of recording / reading a large amount of information at high speed have been developed. In the development, a glass substrate having excellent hardness and smoothness, particularly a glass substrate using crystallized glass, has been actively used instead of a conventional substrate using aluminum metal.

【0003】 一般的に、このようなガラス基板は、図
9に示すように、特定の組成に調合されたガラス材料を
溶融したものをプレス型に流し込んでプレス成形して作
製される。すなわち、ノズル51から押し出された溶融
ガラス52を一定量ほどシャー53で切断して、周囲を
胴型54の円筒壁で囲まれた下型55上へ落とし、上型
56で胴型54の上面を蓋した後に下型55を押し上げ
ることで、上型56と下型55および胴型54によって
囲まれた空間に溶融ガラス52を密に充填し、ディスク
状のガラス基板57を成形する方法が採られている。
Generally, as shown in FIG. 9, such a glass substrate is manufactured by pouring a molten glass material prepared to a specific composition into a press mold and press-molding the same. That is, the molten glass 52 extruded from the nozzle 51 is cut by a certain amount by a shear 53, dropped onto a lower die 55 surrounded by a cylindrical wall of a die 54, and the upper die 56 is used to cut the upper surface of the die 54. Then, the space between the upper mold 56, the lower mold 55, and the body mold 54 is densely filled with the molten glass 52, and a disk-shaped glass substrate 57 is formed. Have been.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】 ここで、ノズル51
から押し出しまたは滴下等された溶融ガラス52は、一
般的に「ゴブ」と呼ばれるが、ゴブは押し広げられるよ
うにプレスされるため、ゴブの変形の際のガラスの移動
距離が長くなる。その結果、大きなプレス圧力が必要と
されるか、または、ゴブの粘度を低くするために、より
高温でのプレスを強いられ、プレス型の劣化が促進され
やすいという欠点がある。
Problems to be Solved by the Invention Here, the nozzle 51
The molten glass 52 extruded or dropped from is generally referred to as a “gob”, but the gob is pressed so as to be spread out, so that the moving distance of the glass when the gob is deformed becomes long. As a result, there is a drawback that a large press pressure is required, or a press at a higher temperature is forced to lower the viscosity of the gob, and deterioration of the press mold is easily promoted.

【0005】 また、ゴブは1000℃以上の高温であ
る場合がほとんどである。これに対し、下型55等のプ
レス型は、溶融ガラス52の急冷による熱応力の発生等
を回避するため、溶融ガラス52のガラス転移点等を考
慮して、300℃〜700℃の高温に予熱されるが、ゴ
ブの温度にまで予熱されることはない。
In most cases, the gob is at a high temperature of 1000 ° C. or higher. On the other hand, a press die such as the lower die 55 is heated to a high temperature of 300 ° C. to 700 ° C. in consideration of the glass transition point of the molten glass 52 and the like in order to avoid generation of thermal stress due to rapid cooling of the molten glass 52. It is preheated, but not to the temperature of the gob.

【0006】 したがって、図8に示したように、ゴブ
58と接触した下型55は、ゴブ58からの熱伝導によ
り、中央部で高温となり、外周部へ向かうにつれて低温
となるような温度勾配が生ずる。そして、上型56をゴ
ブ58に密着させたときにも、上型56には下型55と
同様の温度勾配が生ずる。
Therefore, as shown in FIG. 8, the lower mold 55 in contact with the gob 58 has a temperature gradient such that the temperature becomes higher at the center and becomes lower toward the outer periphery due to heat conduction from the gob 58. Occurs. When the upper mold 56 is brought into close contact with the gob 58, a temperature gradient similar to that of the lower mold 55 is generated in the upper mold 56.

【0007】 このような温度勾配の生じた上型56お
よび下型55によって、ゴブ58は押し広げられるよう
にプレスされるため、成形されるガラス基板57におい
ても、中央部から外周部へ向けて温度が低くなるような
温度勾配が生じる。こうして、ガラス基板57において
は、外周部ほど冷却が速く、一方、中央部はゆっくり冷
却されることとなるため、図8に示されるように、ガラ
ス基板57の中央部は、外周部に比べて硬化による厚み
方向の収縮が大きくなり、外周部よりも中央部の厚みが
薄くなる「ヒケ」と呼ばれる窪みが発生する。このヒケ
59が生ずると、ガラス基板57の平行度は、著しく低
下する。
The gob 58 is pressed so as to be spread by the upper mold 56 and the lower mold 55 in which such a temperature gradient is generated, so that the glass substrate 57 to be formed also moves from the center to the outer periphery. A temperature gradient occurs such that the temperature decreases. Thus, in the glass substrate 57, the outer peripheral portion cools faster, while the central portion cools slowly. As shown in FIG. 8, the central portion of the glass substrate 57 is smaller than the outer peripheral portion. Shrinkage in the thickness direction due to curing becomes large, and a depression called “sink” occurs in which the thickness of the central portion is smaller than that of the outer peripheral portion. When the sink marks 59 occur, the parallelism of the glass substrate 57 is significantly reduced.

【0008】 従来のガラス基板の作製方法において
は、このヒケ59を修正して、平行度を良好とするため
に、ガラス基板57をさらに加熱条件下で変形させ、形
状の微調整を行うリヒートプレスと呼ばれるプレス成形
を行う必要があった。一方、リヒートプレスを行わず
に、ゴブ58の成形時にこのヒケ59を考慮した肉厚の
ガラス基板57を作製し、研磨によって平行度と厚みを
調整する方法もあるが、加工コストや偏摩耗による厚み
斑の発生といった点で問題がある。さらに、上型56お
よび下型55のプレス面を、硬化後のガラス基板57全
体の平行度が良好になるように、このヒケ59を考慮し
た曲面を有するような形状とすることも考えられるが、
プレス条件や形状を設定するための実験の手間、さらに
金型の加工コストの面で問題がある。
In the conventional method of manufacturing a glass substrate, in order to correct the sink mark 59 and improve the parallelism, the glass substrate 57 is further deformed under heating conditions to perform fine adjustment of the shape. It was necessary to carry out a press molding called. On the other hand, there is a method of producing a thick glass substrate 57 in consideration of the sink mark 59 at the time of molding the gob 58 without performing reheat pressing, and adjusting the parallelism and the thickness by polishing. There is a problem in that uneven thickness occurs. Further, it is conceivable that the press surfaces of the upper mold 56 and the lower mold 55 have a curved surface in consideration of the sink mark 59 so that the parallelism of the entire glass substrate 57 after curing becomes good. ,
There is a problem in the labor of an experiment for setting the pressing conditions and the shape, and also in the processing cost of the mold.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】 本発明は上述した従来
技術の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的と
するところは、リヒートプレスを行う必要がなく、ヒケ
の発生が防止された平行度の良好なガラス基板を、溶融
ガラスのプレス成形において作製することを可能ならし
めることにあり、同時に、プレス型の使用による経時劣
化の抑制に寄与するものである。
Means for Solving the Problems The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and it is an object of the present invention to eliminate the need for reheat pressing and to prevent the occurrence of sink marks. The object of the present invention is to make it possible to produce a glass substrate having good parallelism in press molding of molten glass, and at the same time, to contribute to suppression of deterioration with time due to the use of a press die.

【0010】 すなわち、本発明によれば、溶融ガラス
を上型および下型を用いて所定形状にプレス成形するガ
ラス基板の作製方法であって、溶融ガラスを当該下型に
滴下する際に、当該溶融ガラスを、当該下型上にスパイ
ラル状に形成することを特徴とするガラス基板の作製方
法、が提供される。
That is, according to the present invention, there is provided a method for producing a glass substrate in which molten glass is press-molded into a predetermined shape using an upper mold and a lower mold, wherein the molten glass is dropped onto the lower mold. A method for manufacturing a glass substrate, wherein a molten glass is formed in a spiral shape on the lower mold.

【0011】 ここで、溶融ガラスをスパイラル状に形
成する方法としては、溶融ガラスの滴下位置を固定し、
かつ、下型を回転させながら径方向に一軸移動させる方
法、もしくは、一定の位置において下型を回転させ、か
つ、溶融ガラスの滴下位置を下型の径方向に一軸移動さ
せる方法が好適に用いられる。こうして、溶融ガラスは
10μm以下の平行度を有する基板へプレス成形され
る。
Here, as a method of forming the molten glass in a spiral shape, the position where the molten glass is dropped is fixed,
And, a method in which the lower mold is rotated uniaxially in the radial direction while rotating, or a method in which the lower mold is rotated at a fixed position, and the drop position of the molten glass is uniaxially moved in the radial direction of the lower mold is suitably used. Can be Thus, the molten glass is pressed into a substrate having a parallelism of 10 μm or less.

【0012】 なお、本発明のガラス基板の作製方法に
おいて使用される上型および下型としては、下型に滴下
されたスパイラル状の溶融ガラスを介せず、互いが直接
に合わせられる接触部を有するものが好適に用いられ
る。さらに、上型および下型の外周部には、滴下された
スパイラル状の溶融ガラスの余剰体積部が押し出される
空間部が設けられていることが好ましい。
The upper mold and the lower mold used in the method for manufacturing a glass substrate of the present invention include a contact portion where they can be directly joined together without using the spiral molten glass dropped on the lower mold. Those having are preferably used. Further, it is preferable that a space is provided on the outer peripheral portion of the upper mold and the lower mold to extrude the surplus volume portion of the dropped spiral molten glass.

【0013】 また、本発明のガラス基板の作製方法に
より、スパイラル状の溶融ガラスから成形されるガラス
基板の形状としては、内孔部および/または外周部の厚
みが本体部よりも薄い台形形状が好ましく、ここで、そ
の内孔部および/または外周部と本体部との境界に形成
される勾配部を、チャンファーの形状とすることが好ま
しい。
The shape of the glass substrate formed from the molten glass in a spiral shape by the method for manufacturing a glass substrate of the present invention may be a trapezoidal shape in which the thickness of the inner hole and / or the outer periphery is smaller than that of the main body. Here, it is preferable that the slope formed at the boundary between the inner hole and / or the outer periphery and the main body has a chamfer shape.

【0014】 これに対し、成形されるガラス基板の形
状を、内孔部および/または外周部と本体部との境界に
ノッチを形成した楔形状としてもよく、この場合には、
ノッチの形状をチャンファーの形状とすることもまた好
ましい。また、こうしてノッチを形成した場合には、ノ
ッチの底部に熱衝撃を加えることにより、ノッチにおい
てクラックを発生ぜしめると、内孔部および/または外
周部を、本体部から簡便に離隔することができる。
On the other hand, the shape of the glass substrate to be formed may be a wedge shape in which a notch is formed at the boundary between the inner hole portion and / or the outer peripheral portion and the main body portion.
It is also preferred that the shape of the notch be the shape of a chamfer. In addition, when the notch is formed in this manner, when a crack is generated in the notch by applying a thermal shock to the bottom of the notch, the inner hole and / or the outer peripheral portion can be easily separated from the main body. it can.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】 上述の通り、本発明のガラス基
板の作製方法によれば、簡便な方法により、ガラス基板
に生ずるヒケの発生が防止され、リヒートプレスを行う
必要のない、平行度に優れるガラス基板を、溶融ガラス
のプレス成形の段階で得ることができる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As described above, according to the method for manufacturing a glass substrate of the present invention, the occurrence of sink marks on the glass substrate is prevented by a simple method, and the parallelism is reduced without the need for reheat pressing. An excellent glass substrate can be obtained at the stage of molten glass press molding.

【0016】 以下、本発明の実施の形態について、平
板リング状のガラス基板の作製方法を主な例として説明
するが、本発明のガラス基板の作製方法は、その他種々
の形状のガラス基板の作製に用いることができる。した
がって、本発明が以下の実施の形態に限定されるもので
ないことは言うまでもない。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described mainly with reference to a method of manufacturing a flat ring-shaped glass substrate. However, the method of manufacturing a glass substrate of the present invention includes manufacturing glass substrates of various other shapes. Can be used. Therefore, it goes without saying that the present invention is not limited to the following embodiments.

【0017】 図1は、本発明のガラス基板の作製方法
における、溶融ガラスのプレス成形工程を示した説明図
である。本発明においては、溶融ガラスを下型上、すな
わち、下型のプレス面にスパイラル状に形成するが、そ
の方法しては、まず、溶融ガラスを下型に滴下する際
に、溶融ガラスの滴下位置を固定し、かつ、下型を回転
させながら径方向に一軸移動させる方法がある。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing a step of press-molding molten glass in the method for producing a glass substrate of the present invention. In the present invention, the molten glass is formed in a spiral shape on the lower mold, that is, on the pressed surface of the lower mold. First, when the molten glass is dropped on the lower mold, the molten glass is dropped. There is a method in which the position is fixed and the lower die is rotated uniaxially in the radial direction while rotating.

【0018】 すなわち、図1において、溶融ガラス3
の滴下開始時においては、下型2はプレス面の中心を中
心として、水平面内において矢印Kの方向に回転してい
る。一方、溶融ガラス3を滴下するノズル1は下型2の
中心上にあるが、このノズル1の位置は固定されてお
り、したがって、溶融ガラス3を滴下する位置は一定で
ある。
That is, in FIG. 1, the molten glass 3
At the start of the dropping, the lower die 2 is rotating in the direction of arrow K in the horizontal plane about the center of the press surface. On the other hand, the nozzle 1 for dropping the molten glass 3 is on the center of the lower mold 2, but the position of the nozzle 1 is fixed, and therefore, the position for dropping the molten glass 3 is constant.

【0019】 次に、溶融ガラス3の滴下開始に伴い、
下型2を回転させたまま、下型2の径方向に一軸移動さ
せる、すなわち、図1中の矢印Lで示される横方向に一
軸移動させると、溶融ガラス3はスパイラルを描きなが
ら、下型2のプレス面全体に滴下されることとなる。そ
して、溶融ガラス3の滴下位置が、下型2の所定の外周
部に到達したときに、シャー5により溶融ガラス3を切
断することにより、スパイラル状の溶融ガラス4(以
下、「被加工溶融ガラス4」と呼ぶこととする。)が形
成される。なお、被加工溶融ガラス4を形成する際に
は、溶融ガラス3が途切れないように、粘度等の溶融ガ
ラス3の滴下条件を調整することが好ましい。
Next, with the start of the dropping of the molten glass 3,
When the lower mold 2 is rotated and uniaxially moved in the radial direction of the lower mold 2, that is, when the lower mold 2 is moved uniaxially in the lateral direction indicated by an arrow L in FIG. No. 2 is dropped on the entire press surface. When the dropping position of the molten glass 3 reaches a predetermined outer peripheral portion of the lower mold 2, the molten glass 3 is cut by a shear 5, thereby forming a spiral molten glass 4 (hereinafter, “processed molten glass 4”). 4 ") is formed. When the molten glass 4 to be processed is formed, it is preferable to adjust the dripping conditions of the molten glass 3 such as viscosity so that the molten glass 3 is not interrupted.

【0020】 なお、溶融ガラス3の滴下開始位置は、
必ずしも下型2の中心に限定されるものではなく、成形
されるガラス基板の形状に合わせて、適宜、好適な位置
に設定される。たとえば、内孔を有する平板リング状の
ガラス基板を成形する場合には、下型2の中心に滴下さ
れ、プレス成形されたガラスは、最終的にはガラス基板
の本体から切り離される部分となるため、このような場
合には、下型2の中心より若干外周よりから、溶融ガラ
ス3の滴下を始めることが好ましい。
Note that the dropping start position of the molten glass 3 is
The position is not necessarily limited to the center of the lower mold 2 and is set to a suitable position as appropriate according to the shape of the glass substrate to be formed. For example, when a flat ring-shaped glass substrate having an inner hole is formed, the glass which is dropped at the center of the lower mold 2 and press-formed becomes a portion which is finally separated from the main body of the glass substrate. In such a case, it is preferable to start dropping the molten glass 3 from a position slightly outside the center of the lower mold 2.

【0021】 上述した方法に対し、同様に、下型2の
プレス面に被加工溶融ガラス4を形成する方法として、
一定の位置において下型2を回転させ、かつ、溶融ガラ
ス3の滴下位置を下型2の径方向に一軸移動させる、す
なわち、溶融ガラス3を滴下するノズル1の位置を移動
させる方法ある。しかし、一般的に、溶融ガラス3を滴
下するノズル1は、白金とそれを加熱する炉(ヒータ)
から構成され、さらに、ガラス原料を溶融する炉とも一
体化されているために、下型2を移動させる方法の方が
好ましいと考えられ、実際に実用的である。
Similarly to the above-described method, as a method of forming the molten glass 4 to be processed on the pressed surface of the lower mold 2,
There is a method in which the lower mold 2 is rotated at a fixed position, and the position at which the molten glass 3 is dropped is uniaxially moved in the radial direction of the lower mold 2, that is, the position of the nozzle 1 at which the molten glass 3 is dropped is moved. However, generally, the nozzle 1 for dropping the molten glass 3 is composed of platinum and a furnace for heating the platinum.
, And integrated with a furnace for melting the glass raw material, the method of moving the lower mold 2 is considered preferable, and is actually practical.

【0022】 これらいずれの方法においても、下型2
もしくはノズル1の一軸移動速度および下型2の回転速
度は、溶融ガラス3が、できるだけ均一に下型2のプレ
ス面へ滴下されるように設定されることが好ましい。た
とえば、図2に、下型2と被加工溶融ガラス4の断面形
状の一部を示すが、ここで、ある位置の被加工溶融ガラ
ス4の断面径Dと隣接する被加工溶融ガラス4の断面の
中心間の距離Pは、被加工溶融ガラス4が、表面張力や
自重によって経時的に略楕円状に変形した状態におい
て、隣同士が互いに接触するように設定することが好ま
しい。
In any of these methods, the lower mold 2
Alternatively, it is preferable that the uniaxial movement speed of the nozzle 1 and the rotation speed of the lower mold 2 are set so that the molten glass 3 is dropped on the press surface of the lower mold 2 as uniformly as possible. For example, FIG. 2 shows a part of the cross-sectional shape of the lower mold 2 and the molten glass 4 to be processed. Here, the cross-sectional diameter D of the molten glass 4 at a certain position and the cross-section of the molten glass 4 to be processed are adjacent. The distance P between the centers is preferably set so that the adjacent molten glass 4 is in contact with each other in a state where the molten glass 4 to be processed is deformed into a substantially elliptical shape over time due to surface tension or own weight.

【0023】 このようにして形成された被加工溶融ガ
ラス4は、次に、上型6を下型2に押し当てることによ
り、所定の形状にプレス成形される。上型6を下型2か
ら外して得られるガラス基板7は、成形されたガラス基
板7の形状に応じて、内外径加工が行われて徐冷され、
または徐冷された後に内外径加工が行われる。
Next, the molten glass 4 to be processed thus formed is pressed into a predetermined shape by pressing the upper mold 6 against the lower mold 2. The glass substrate 7 obtained by removing the upper mold 6 from the lower mold 2 is subjected to inner and outer diameter processing according to the shape of the formed glass substrate 7 and gradually cooled.
Alternatively, the inner and outer diameters are processed after being gradually cooled.

【0024】 上述の通り、本発明のガラス基板の作製
方法においては、被加工溶融ガラス4は、溶融ガラス3
を下型2のプレス面に全体的に滴下することで形成され
るので、従来のゴブ58を下型2の中央にのみ形成し、
プレス成形する方法と比較して、被加工溶融ガラス4の
移動距離が短いために、厚みの均一なガラス基板7を作
製することができ、かつ、プレス成形圧力をも低減する
ことができる。一方、被加工溶融ガラス4を高温に保持
して粘度を下げた状態においてプレス成形を行う必要が
ない。これにより、実質的に、上下型2・6の劣化が抑
制される。
As described above, in the method for manufacturing a glass substrate of the present invention, the molten glass 4 to be processed is
Is formed by dripping the entirety on the press surface of the lower mold 2, so that the conventional gob 58 is formed only at the center of the lower mold 2,
Since the moving distance of the molten glass 4 to be processed is shorter than in the method of press molding, a glass substrate 7 having a uniform thickness can be produced, and the press molding pressure can be reduced. On the other hand, it is not necessary to perform press molding in a state where the viscosity of the molten glass 4 to be processed is maintained at a high temperature and the viscosity is reduced. Thereby, deterioration of the upper and lower dies 2 and 6 is substantially suppressed.

【0025】 なお、プレスに用いられる下型2ならび
に上型6においては、溶融ガラス3の急速な冷却・固
化、およびこれに伴う大きな熱応力の発生を防止するた
めに、溶融ガラス3のガラス転移点等を考慮して、適度
な温度に予熱・保持されているが、その外周部において
は大気と接する面積が大きいために放熱性が高く、その
ため、中央部で温度が高く、外周部で温度が低くなるよ
うな温度勾配が生じていることが多い。
In the lower mold 2 and the upper mold 6 used for pressing, the glass transition of the molten glass 3 is performed in order to prevent the molten glass 3 from cooling and solidifying rapidly and generating a large thermal stress. It is preheated and held at an appropriate temperature in consideration of points, etc., but its outer periphery has a large area in contact with the atmosphere, so it has high heat dissipation, so the center has a high temperature and the outer periphery has a high temperature. In many cases, a temperature gradient is generated such that the temperature becomes low.

【0026】 これに対し、溶融ガラス3の滴下を下型
2の中心部から外周へ向かってスパイラルを描くように
行うと、すでに滴下された溶融ガラス3は、自然冷却さ
れるため、下型2ならびに上型6とは逆に、被加工溶融
ガラス4にあっては、中央部から外周へ向かうにつれて
温度が高くなるように温度勾配が生ずる。
On the other hand, if the molten glass 3 is dropped in a spiral from the center of the lower mold 2 toward the outer periphery, the molten glass 3 that has already been dropped is naturally cooled. Contrary to the upper mold 6, the molten glass 4 to be processed has a temperature gradient such that the temperature increases from the center to the outer periphery.

【0027】 こうして、上下型2・6と被加工溶融ガ
ラス4の温度勾配が互いに逆になるため、全体的に、プ
レス成形時におけるガラス基板7の温度分布が平坦化さ
れる。これにより、ガラス基板7の硬化が均一に起こる
ようになり、ヒケの発生が抑制される。このこともま
た、平行度の良好なガラス基板7が得られる一つの要因
と考えられる。
Thus, since the temperature gradients of the upper and lower dies 2 and 6 and the molten glass 4 to be processed are opposite to each other, the temperature distribution of the glass substrate 7 at the time of press molding is entirely flattened. Thereby, the curing of the glass substrate 7 occurs uniformly, and the occurrence of sinks is suppressed. This is also considered to be one factor in obtaining the glass substrate 7 with good parallelism.

【0028】 さて、上述した本発明のガラス基板の作
製方法により作製される内孔を有する平板リング状のガ
ラス基板の好適な形状としては、図3(a)〜(c)に
示す、台形形状、楔形状および台形楔形状を挙げること
ができる。なお、これらの各図は、ガラス基板11〜1
3の径方向における平板面に垂直な面での形状を示した
断面図であり、いずれの形状のガラス基板11〜13
も、最終的なガラス基板となるべき本体部11A〜13
Aと内孔部11B〜13Bおよび被加工溶融ガラス4の
余剰体積部、すなわち、余剰に供給されたガラスが外周
に押し出されて形成された外周部11C〜13Cとから
構成される。
The preferred shape of the flat ring-shaped glass substrate having an inner hole manufactured by the above-described method for manufacturing a glass substrate of the present invention is a trapezoidal shape shown in FIGS. 3 (a) to 3 (c). , Wedge shape and trapezoidal wedge shape. In addition, each of these figures shows the glass substrates 11 to 1.
3 is a cross-sectional view showing the shape of the glass substrate in a direction perpendicular to the flat surface in the radial direction of FIG.
Also, the main body portions 11A to 13A to be the final glass substrates
A, the inner hole portions 11B to 13B, and the surplus volume portion of the molten glass 4 to be processed, that is, the outer peripheral portions 11C to 13C formed by extruding the excessively supplied glass to the outer periphery.

【0029】 図3(a)の台形形状のガラス基板11
は、内孔部11Bおよび外周部11Cは、後工程におけ
る本体部11Aからの離隔を容易ならしめるために、本
体部11Aよりも薄くなるように設定され、内孔部11
Bおよび外周部11Cと本体部11Aとの境界に勾配部
14が設けられている。ここで、この勾配部14は、一
般的にチャンファー16と呼ばれる、製品たるガラス基
板において形成されるべき面取りを行って角を取った後
の形状に好適に設定される。
The trapezoidal glass substrate 11 shown in FIG.
The inner hole portion 11B and the outer peripheral portion 11C are set to be thinner than the main body portion 11A in order to facilitate separation from the main body portion 11A in a later step.
A gradient portion 14 is provided at a boundary between B and the outer peripheral portion 11C and the main body portion 11A. Here, the slope portion 14 is suitably set to a shape generally called a chamfer 16 after chamfering to be formed on a glass substrate as a product and removing corners.

【0030】 このように、被加工溶融ガラス4のプレ
ス成形の段階において、ガラス基板11にチャンファー
16を形成することにより、従来のガラス基板の作製方
法において行われているような、円板状のガラス基板を
用いて内孔をあける切削加工を行い、さらに、チャンフ
ァー加工を行うといった工程を省くことができ、ガラス
基板の作製工程の短縮化と、生産性の向上が図られる。
As described above, by forming the chamfer 16 on the glass substrate 11 at the stage of press-molding the molten glass 4 to be processed, a disc-like shape as performed in a conventional method of manufacturing a glass substrate is obtained. A step of performing a cutting process for making an inner hole using the glass substrate and further performing a chamfering process can be omitted, thereby shortening the manufacturing process of the glass substrate and improving the productivity.

【0031】 図3(b)の楔形状のガラス基板12に
おいては、内孔部12Bおよび外周部12Cと本体部1
2Aとの境界にノッチ15が形成されており、このノッ
チ15の形状、すなわち、ノッチ15の勾配部分の形状
がチャンファー16の形状に好適に設定される。また、
図3(c)の台形楔形状のガラス基板13は、内孔部1
3Bおよび外周部13Cを本体部13Aよりも薄くした
台形形状において、さらに内孔部13Bおよび外周部1
3Cと本体部13Aとの境界にノッチ15を設けたもの
である。そのため、台形楔形状のガラス基板13におい
ても、ノッチ15はチャンファー16の形状に設定され
る。
In the wedge-shaped glass substrate 12 shown in FIG. 3B, the inner hole 12 B, the outer peripheral portion 12 C, and the main body 1
A notch 15 is formed at the boundary with 2A, and the shape of the notch 15, that is, the shape of the slope portion of the notch 15 is suitably set to the shape of the chamfer 16. Also,
The trapezoidal wedge-shaped glass substrate 13 shown in FIG.
3B and the outer peripheral portion 13C in a trapezoidal shape thinner than the main body portion 13A.
A notch 15 is provided at the boundary between 3C and the main body 13A. Therefore, even in the trapezoidal wedge-shaped glass substrate 13, the notch 15 is set to the shape of the chamfer 16.

【0032】 なお、本発明によって作製されるガラス
基板の形状が、上記ガラス基板11〜13のものに限定
されるものでないことはいうまでもなく、所望されるガ
ラス基板の形状に合わせて、適宜好適な形状が選択され
る。たとえば、内孔を有するガラス基板を作製する場合
に、一方のプレス面の形状を台形形状、楔形状、台形楔
形状のいずれかから選択し、他方のプレス面について
も、これら各種の形状から任意に選択することで、ガラ
ス基板の各面での形状を異ならしめてもかまわない。ま
た、内孔を有さない円板形状のガラス基板を得る場合に
は、内孔部を設けなければよい。
It is needless to say that the shape of the glass substrate manufactured by the present invention is not limited to those of the above glass substrates 11 to 13. A suitable shape is selected. For example, when manufacturing a glass substrate having an inner hole, the shape of one press surface is selected from trapezoidal shape, wedge shape, or trapezoidal wedge shape, and the other press surface is also arbitrary from these various shapes. , The shape of each surface of the glass substrate may be different. When a disc-shaped glass substrate having no inner hole is obtained, the inner hole portion need not be provided.

【0033】 次に、被加工溶融ガラス4を、図3
(a)〜(c)に示した各種の形状に成形するために用
いられるプレス用の上型および下型の具体例としては、
図4(a)〜(c)に示されるような、それぞれ図3
(a)〜(c)に示した各形状と相補する形状をプレス
面に有する台形型19A・19Bおよび楔型20A・2
0Bならびに台形楔型21A・21Bを挙げることがで
きる。
Next, the molten glass 4 to be processed is shown in FIG.
Specific examples of upper and lower dies for press used for molding into various shapes shown in (a) to (c) include:
As shown in FIGS. 4A to 4C, FIG.
(A) to (c) trapezoidal dies 19A and 19B and wedges 20A and 2 having shapes complementary to the shapes shown on the pressing surface.
OB and trapezoidal wedge shapes 21A and 21B.

【0034】 ここで、台形型19A・19Bのプレス
面は、図4(a)に示されるように、ガラス基板11の
本体部11Aを形成するための深い溝部22と、内孔部
11Bおよび外周部11Cを形成するための浅い溝部2
3、および内孔部11Bおよび外周部11Cと本体部1
1Aとの間に形成される勾配部14(チャンファー1
6)を形成するための斜面部24を有する。
Here, as shown in FIG. 4A, the pressing surfaces of the trapezoid molds 19A and 19B have a deep groove 22 for forming the main body 11A of the glass substrate 11, an inner hole 11B and an outer periphery. Groove portion 2 for forming portion 11C
3, the inner hole 11B, the outer periphery 11C, and the main body 1
1A (Chamfer 1)
6) has a slope portion 24 for forming the same.

【0035】 また、楔型20A・20Bのプレス面
は、図4(b)に示すように、楔形状のガラス基板12
における本体部12Aと内孔部12Bおよび外周部12
Cを形成するための深い溝部25と、ノッチ15を形成
するためのV字凸部26を有しする。そして、台形楔型
21A・21Bのプレス面は、図4(c)に示すよう
に、ガラス基板13の本体部13Aを形成するための深
い溝部27と、内孔部13Bおよび外周部13Cを形成
するための浅い溝部28、およびノッチ15を形成する
ためのV字凸部29を有する。
Further, as shown in FIG. 4B, the pressing surfaces of the wedge shapes 20 A and 20 B
12A, inner hole portion 12B and outer peripheral portion 12
It has a deep groove portion 25 for forming C and a V-shaped convex portion 26 for forming the notch 15. As shown in FIG. 4 (c), the pressing surfaces of the trapezoidal wedges 21A and 21B form a deep groove 27 for forming the main body 13A of the glass substrate 13, an inner hole 13B and an outer peripheral 13C. And a V-shaped projection 29 for forming the notch 15.

【0036】 上記台形型19A・19B、楔型20A
・20Bおよび台形楔型21A・21Bといった本発明
のガラス基板の作製方法に好適に用いられる上型および
下型にあっては、各型が互いに直接に接する接触部30
を有することで、常に一定厚みのガラス基板11〜13
を作製することができるようになっている。また、被加
工溶融ガラス4の余剰体積部、すなわち、本体部11A
〜13Aの形成に不要な余剰なガラスが、空間部31に
押し出されて外周部11C〜13Cとなるような空間部
31が設けられていることが好ましい。このとき、接触
部30にまで余剰体積部が浸入しないように、空間部3
1は完全に充填されずに、ある程度の空間が残る大きさ
に設定されていることが好ましい。
The trapezoidal dies 19A and 19B and the wedge type 20A
In the upper die and the lower die suitably used in the method for manufacturing the glass substrate of the present invention, such as 20B and trapezoidal wedge shapes 21A and 21B, the contact portions 30 where the respective dies are in direct contact with each other.
, The glass substrates 11 to 13 having a constant thickness
Can be manufactured. The surplus volume of the molten glass 4 to be processed, that is, the main body 11A
It is preferable to provide a space portion 31 in which excess glass unnecessary for formation of 1313A is extruded into the space portion 31 to become the outer peripheral portions 11C to 13C. At this time, in order to prevent the excess volume from entering the contact portion 30, the space 3
It is preferable that 1 is set to a size that does not completely fill and leaves a certain amount of space.

【0037】 なお、上述した台形型19A・19B等
の本発明のガラス基板の作製方法に好適に用いられる上
型および下型としては、熱伝導性が良好な炭化タングス
テンや金属炭化物もしくは金属窒化物等のセラミック製
のものが好適に用いられる。
The upper mold and the lower mold preferably used in the method of manufacturing the glass substrate of the present invention such as the trapezoid molds 19A and 19B described above include tungsten carbide, metal carbide or metal nitride having good thermal conductivity. And the like are preferably used.

【0038】 続いて、図3(a)〜(c)に示した各
形状のガラス基板11〜13の内外径加工方法について
説明する。図3(a)に示した台形形状のガラス基板1
1の加工は、図5に示すように、内外径同芯カップ砥石
41(以下、「カップ砥石41」という。)を用いて加
工することが好ましい。カップ砥石41は、内径砥石4
1Aと外径砥石41Bとが、同芯円状に配置されて形成
され、カップ砥石41を回転させながらガラス基板11
に押し当てることで、ガラス基板11における内孔部1
1Bおよび外周部11Cが、本体部11Aから切断され
る。
Next, a method for processing the inner and outer diameters of the glass substrates 11 to 13 having the respective shapes shown in FIGS. 3A to 3C will be described. The trapezoidal glass substrate 1 shown in FIG.
As shown in FIG. 5, it is preferable that the processing of No. 1 is performed using an inner and outer diameter concentric cup grindstone 41 (hereinafter, referred to as “cup grindstone 41”). The cup whetstone 41 has an inner diameter whetstone 4
1A and an outer diameter grindstone 41B are formed so as to be concentrically arranged, and the glass substrate 11 is rotated while rotating the cup grindstone 41.
To the inner hole 1 in the glass substrate 11.
1B and the outer peripheral portion 11C are cut from the main body 11A.

【0039】 ここで、内孔部11Bおよび外周部11
Cは、本体部11Aよりも薄く成形されているので、平
坦な一枚板状のガラス基板を切断するよりも、切断代が
少ない分だけ加工時間が短縮され、また、カップ砥石4
1の摩耗も少なくなるので、全体として加工コストを抑
えることが可能となる。さらに、本体部11Aから離隔
された内孔部11Bと外周部11Cは、ガラスの塊の状
態で得られることから、これらを分離・洗浄することは
容易であり、したがって、ガラス基板を作製する際の溶
融原料として再利用することが可能である。
Here, the inner hole portion 11 B and the outer peripheral portion 11
Since C is formed thinner than the main body 11A, the processing time is shortened by a smaller cutting margin than when a single flat glass substrate is cut.
Since the wear of No. 1 is reduced, the processing cost can be reduced as a whole. Further, since the inner hole 11B and the outer periphery 11C separated from the main body 11A are obtained in a state of a lump of glass, it is easy to separate and wash them, and therefore, when manufacturing a glass substrate, It can be reused as a molten raw material.

【0040】 このようなカップ砥石41を用いる内外
径加工に対して、図3(b)、(c)に示した楔形状お
よび台形楔形状のガラス基板12・13のようにノッチ
15を形成した場合には、チルカットと呼ばれる内外径
加工方法が好適に用いられる。ここで、チルカットと
は、高温に熱せられたガラス基板12・13のノッチ1
5の、特に、ガラス基板12・13の厚みが最も薄くな
っている底の部分に冷却した金属等からなる治具を接触
させ、そこに生じる熱歪みを利用して、ノッチ15の形
成位置において、ガラス基板12・13を厚み方向に切
断するもので、簡便に、しかも短時間に加工を行うこと
ができる。
For the inner and outer diameter processing using such a cup grindstone 41, the notch 15 is formed like the wedge-shaped and trapezoidal wedge-shaped glass substrates 12 and 13 shown in FIGS. 3 (b) and 3 (c). In this case, an inner / outer diameter processing method called chill cut is suitably used. Here, the chill cut is a notch 1 of the glass substrates 12 and 13 heated to a high temperature.
5, in particular, a jig made of a cooled metal or the like is brought into contact with the bottom portion where the thickness of the glass substrates 12 and 13 is the thinnest, and at the position where the notch 15 is formed, Since the glass substrates 12 and 13 are cut in the thickness direction, the processing can be performed easily and in a short time.

【0041】 また、チルカットは、ガラス基板12・
13が所定温度以上に加熱されている状態で行う必要が
あるが、被加工溶融ガラス4をプレス成形した後、下型
20A・21Aに載置されたままの状態においては、ガ
ラス基板12・13の温度は、低くとも上下型20A・
21Aの予熱温度程度の高温に保持されているため、あ
らためてガラス基板12・13を加熱する必要はない。
The chill cut is performed on the glass substrate 12.
Although it is necessary to perform the process in a state in which the glass substrate 13 is heated to a predetermined temperature or more, after the molten glass 4 to be processed is press-formed, the glass substrates 12 and 13 remain in a state of being placed on the lower molds 20A and 21A. The temperature of the upper and lower mold 20A
The glass substrates 12 and 13 do not need to be heated again because they are maintained at a high temperature of about 21 A preheating temperature.

【0042】 図6にチルカットの説明図を示す。ここ
では、台形楔形状のガラス基板13が示してあり、ガラ
ス基板13に設けられたノッチ15に、冷却された同心
円の内径加工刃42Aと外径加工刃42Bを有する金属
治具42を接触させて熱衝撃を加え、ノッチ15におい
てクラックを発生せしめて、内孔部13Bおよび外周部
13Cを本体部13Aから切り離す。なお、チルカット
を良好に行うためのノッチ15の形状としては、図3
(b)や図6に示したようなV字型が好適に採用され
る。
FIG. 6 is an explanatory diagram of the chill cut. Here, a trapezoidal wedge-shaped glass substrate 13 is shown, and a metal jig 42 having a cooled concentric inner diameter processing blade 42A and an outer diameter processing blade 42B is brought into contact with a notch 15 provided on the glass substrate 13. Then, a thermal shock is applied to generate a crack at the notch 15, and the inner hole 13B and the outer peripheral portion 13C are separated from the main body 13A. Note that the shape of the notch 15 for satisfactorily performing chill cut is shown in FIG.
A V-shape as shown in FIG. 6B or FIG. 6 is preferably employed.

【0043】 上述した内外径加工を経て得られたガラ
ス基板11〜13の本体部11A〜13Aは、いずれも
図7に示すように、その内外周に勾配部14を残したガ
ラス基板17となる。このような勾配部14は、最終的
な製品であるサブストレートの内外周に形成されるべき
チャンファー16そのものとなるが、後述する同芯度加
工において、若干の形状調整を行う場合がある。
As shown in FIG. 7, each of the main bodies 11A to 13A of the glass substrates 11 to 13 obtained through the above-described inner and outer diameter processing becomes a glass substrate 17 having a gradient portion 14 on the inner and outer circumferences. . Such a gradient portion 14 becomes the chamfer 16 itself to be formed on the inner and outer peripheries of the substrate, which is the final product. However, in the concentricity processing described later, a slight shape adjustment may be performed.

【0044】 こうして、内外径加工を終了したガラス
基板17については、ガラス基板17が結晶化ガラスか
らなる場合には、続いて結晶化処理が行われる。ここ
で、カップ砥石41を用いた内外径加工を行った場合に
は、室温から結晶化温度まで昇温することとなるが、チ
ルカットを行った場合には、一旦室温まで冷却すること
なく、引き続いて結晶化処理温度まで昇温してもよい。
As described above, with respect to the glass substrate 17 on which the inner and outer diameter processing has been completed, when the glass substrate 17 is made of crystallized glass, a crystallization process is subsequently performed. Here, when the inner and outer diameters are processed using the cup grindstone 41, the temperature is raised from room temperature to the crystallization temperature. To a crystallization treatment temperature.

【0045】 この結晶化処理によって、ガラス基板1
7には若干の体積変化が生ずることから、この体積変化
によって次工程である最終的なガラス基板の内外径の同
芯度加工(以下、「同芯度加工」という。)における加
工代が多くならないように、内外径加工位置を設定して
おくことが好ましい。なお、ガラス基板17の材料が結
晶化処理を必要としないものの場合には、内外径加工後
に同芯度加工が行われる。
By this crystallization process, the glass substrate 1
Since a slight volume change occurs in 7, the volume change causes a large amount of processing cost in the concentricity processing of the inner and outer diameters of the final glass substrate (hereinafter, referred to as “concentricity processing”) which is the next step. It is preferable that the inner and outer diameter processing positions are set so as not to be affected. When the material of the glass substrate 17 does not require crystallization, concentricity processing is performed after inner and outer diameter processing.

【0046】 この同芯度加工は、ガラス基板17の加
工端面のエッジが立たないように、細かい砥石で研削し
ながら、同芯度をより高精度に仕上げる工程であり、必
要に応じて酸化セリウムを研磨材といてナイロンブラシ
により端面研磨工程が付加される。そして最後に、製品
に要求される形状特性を満足するように、ガラス基板1
7の両表面に微浅な精研磨が施される。なお、精研磨の
方法としては、#600のレジン砥石を用い、1000
rpmから5000rpmの回転数で行う方法が好まし
い。
The concentricity processing is a step of finishing the concentricity with higher precision while grinding with a fine grindstone so that the edge of the processing end face of the glass substrate 17 does not stand. Is used as an abrasive, and an end surface polishing step is added by a nylon brush. Finally, the glass substrate 1 is made so as to satisfy the shape characteristics required for the product.
Both surfaces of 7 are finely polished. In addition, as a method of fine polishing, a resin grindstone of # 600 is used, and 1000 is used.
A method in which the rotation is performed at a rotation speed of from 5000 rpm to 5000 rpm is preferable.

【0047】 上述した本発明によるガラス基板の作製
方法によれば、従来法におけるリヒートプレス工程、お
よび、時間的かつ設備的にコストの嵩む厚み方向のラッ
ピング(研磨)加工工程、さらには、チャンファー加工
工程を省くことができるために、ガラス基板の作製コス
トの低減が図られる。
According to the above-described method for producing a glass substrate according to the present invention, the reheat press step and the lapping (polishing) processing in the thickness direction, which are costly in terms of time and equipment, are performed in the conventional method. Since a processing step can be omitted, manufacturing cost of a glass substrate can be reduced.

【0048】 なお、ハードディスク用ガラス基板に
は、現状、製品たるサブストレートとして厚みの平均値
が0.645mm、平行度が6μm以下、平坦度が5μ
m以下および面粗度がRaで0.1μm以下の形状が要
求されているが、上述した本発明のガラス基板の作製方
法によれば、プレス成形後に、厚みの平均値が0.9m
m、平行度が10μm以下の形状を有するガラス基板を
得ることが可能となる。
The glass substrate for a hard disk currently has an average thickness of 0.645 mm, a parallelism of 6 μm or less, and a flatness of 5 μm as a product substrate.
m and a surface roughness of 0.1 μm or less in Ra are required, but according to the above-described method for producing a glass substrate of the present invention, the average value of the thickness is 0.9 m after press molding.
It is possible to obtain a glass substrate having a shape with m and parallelism of 10 μm or less.

【0049】 さらに、ガラス基板の結晶化処理を70
0℃〜800℃程度の範囲で、約3時間から12時間の
範囲で行うことにより、厚みの平均値が0.68mm、
平行度が7μm以下、平坦度が5μm以下および面粗度
がRaで0.2μm以下の形状を有するガラス基板が得
られる。最後に、サブストレートとして要求される厚み
の平均値が0.645mm、平行度が6μm以下、平坦
度が5μm以下および面粗度がRaで0.1以下の仕様
が満たされない場合は、#600のレジン砥石で精研磨
することにより、前記のサブストレートに対する要求形
状を満足するガラス基板を得ることが可能となる。以
下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれら
の実施例に限定されるものではない。
Further, the crystallization treatment of the glass substrate
By performing in the range of about 0 ° C. to 800 ° C. for about 3 hours to 12 hours, the average thickness is 0.68 mm,
A glass substrate having a shape with a parallelism of 7 μm or less, a flatness of 5 μm or less, and a surface roughness Ra of 0.2 μm or less is obtained. Lastly, if the average required thickness of the substrate is 0.645 mm, the parallelism is 6 μm or less, the flatness is 5 μm or less, and the surface roughness is Ra and the specification of 0.1 or less is not satisfied, # 600 By precision polishing with the above resin grindstone, it becomes possible to obtain a glass substrate which satisfies the required shape for the substrate. Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0050】[0050]

【実施例】 溶融ガラスとして、SiO2が77wt
%、Al23が5wt%、Li2Oが5wt%で、残部
が微量成分からなるSiO2−Al23−Li2O系ガラ
スを用いた。このガラスをガラス溶融炉にて1400℃
にて溶融し、1300℃に保持されたノズルより、図3
(b)の楔形状のガラス基板12を成形する直径120
mmの下型20Aに滴下した。このとき、下型20Aを
一秒間に一回転の速度で回転させながら、滴下後4回転
後に、溶融ガラスはシャーにより切断された。また、こ
の間に、溶融ガラスの滴下位置が、下型20Aの中心か
ら10mm離れた位置を始点として、外周方向に下型2
0Aの中心から45mm離れた位置が終点となるよう
に、下型20Aを一軸方向に移動させることにより、図
10に示されるようなスパイラル状の溶融ガラス、すな
わち被加工溶融ガラスを得た。
[Example] As molten glass, 77 wt% of SiO 2 was used.
%, Al 2 O 3 was 5 wt%, Li 2 O was 5 wt%, and the balance was a SiO 2 —Al 2 O 3 —Li 2 O-based glass composed of trace components. This glass is heated at 1400 ° C in a glass melting furnace.
From the nozzle held at 1300 ° C.
Diameter 120 for forming wedge-shaped glass substrate 12 of (b)
mm of the lower mold 20A. At this time, while rotating the lower mold 20A at a speed of one rotation per second, the molten glass was cut by a shear after four rotations after dropping. During this time, the drop position of the molten glass starts from a position 10 mm away from the center of the lower mold 20A, and the lower mold 2 moves in the outer peripheral direction.
By moving the lower mold 20A in one axis direction so that the position 45 mm away from the center of 0A becomes the end point, a spiral molten glass as shown in FIG. 10, ie, a molten glass to be processed, was obtained.

【0051】 続いて、600℃に予熱された上型20
Bにより、被加工溶融ガラスを60kg/cm2で1秒
間ほどプレス成形した。なお、使用された上型20Bお
よび下型20Aは、超硬合金製のものである。こうし
て、成形された楔形状のガラス基板12は、通常は、引
き続いてチルカットによる内外径加工が行われるが、同
様の試験において、プレス成形後、徐冷して寸法を測定
した結果、得られたガラス基板12は、厚みの平均値が
0.9mm以下で、平行度が10μm以下に仕上がって
いることを確認した。
Subsequently, the upper mold 20 preheated to 600 ° C.
B was used to press-mold the molten glass to be processed at 60 kg / cm 2 for about 1 second. The used upper mold 20B and lower mold 20A are made of cemented carbide. In this manner, the formed wedge-shaped glass substrate 12 is usually subjected to inner and outer diameter processing by chill cutting, but in a similar test, the dimensions were measured after press molding and then gradually cooled to obtain dimensions. It was confirmed that the glass substrate 12 had an average thickness of 0.9 mm or less and a parallelism of 10 μm or less.

【0052】 次に、上型20Bを成形されたガラス基
板12より取り外し、ガラス基板12が600℃に予熱
された下型20Aに載置されたままの状態で、冷却金属
治具42を用いたチルカットによる内外径加工を、ガラ
ス基板12に形成されたノッチ15に施し、内孔部12
Bと外周部12Cを本体部12Aから離隔した。こうし
て得られたガラス基板12Aの徐冷後の内径寸法は2
3.8mm±0.15mm、外径寸法は85.2±0.
15mmであった。
Next, the upper mold 20 B is removed from the molded glass substrate 12, and the cooling metal jig 42 is used while the glass substrate 12 is mounted on the lower mold 20 A preheated to 600 ° C. Inner / outer diameter processing by chill cut is performed on the notch 15 formed in the glass substrate 12 so that the inner hole 12 is formed.
B and the outer peripheral portion 12C are separated from the main body portion 12A. The inner diameter of the glass substrate 12A thus obtained after slow cooling is 2
3.8mm ± 0.15mm, outer diameter 85.2 ± 0.
It was 15 mm.

【0053】 さらに、ガラス基板の結晶化処理を、窒
素雰囲気下、770℃で4時間行い、厚みの平均値が
0.68mm以下、平行度が7μm以下、平坦度が5μ
m以下、面粗度がRaで0.02μm以下のガラス基板
を得、次いで、同芯度加工を行って同芯度を7μm以下
とし、最後に、#600のレジン砥石で精研磨すること
により、厚みの平均値が0.645mm、平行度が約5
μm、平坦度が約4μm、面粗度がRaで約0.08μ
mという、ハードディスク用サブストレートとしての要
求規格を満足するサブストレートが得られた。また、上
記条件において、10000枚のガラス基板12を作製
した後の上型20Bおよび下型20Aの摩耗量は、それ
ぞれ1μm以下であった。
Further, the crystallization treatment of the glass substrate is performed in a nitrogen atmosphere at 770 ° C. for 4 hours, and the average thickness is 0.68 mm or less, the parallelism is 7 μm or less, and the flatness is 5 μm.
m or less, a glass substrate having a surface roughness Ra of 0.02 μm or less is obtained, and then concentricity processing is performed to reduce the concentricity to 7 μm or less, and finally, a fine grinding is performed with a # 600 resin grindstone. , The average thickness is 0.645 mm, and the parallelism is about 5
μm, flatness is about 4 μm, surface roughness is about 0.08 μm in Ra
A substrate m satisfying the required standard for a hard disk substrate was obtained. Further, under the above conditions, the wear amount of the upper mold 20B and the lower mold 20A after producing 10,000 glass substrates 12 was 1 μm or less, respectively.

【0054】 上記実施例に対し、比較例として、下型
20Aの回転および一軸移動を行わずに、ゴブを形成し
てプレス成形する方法を用いて、他の条件は上記実施例
と同様として、ガラス基板を作製した。但し、このとき
得られるガラス基板12の平均厚みを、上記実施例と同
等の0.9mm程度とするためには、プレス成形圧力を
120kg/cm2としなければならなかった。しかし
ながら、得られたガラス基板の平行度は、平均で約75
μmあり、また、10000枚のガラス基板の作製後の
上型20Bおよび下型20Aの摩耗量は、各3μmであ
った。
As a comparative example, a method in which a gob is formed and press-formed without rotating and lowering the lower mold 20A is used as a comparative example. A glass substrate was manufactured. However, in order to set the average thickness of the glass substrate 12 obtained at this time to about 0.9 mm, which is the same as in the above example, the press molding pressure had to be 120 kg / cm 2 . However, the parallelism of the obtained glass substrate is about 75 on average.
The upper mold 20B and the lower mold 20A had a wear amount of 3 μm each after the production of 10,000 glass substrates.

【0055】[0055]

【発明の効果】 上述の通り、本発明のガラス基板の作
製方法によれば、成形されたガラス基板の硬化が全体的
に均一に起こるために、ヒケの発生が抑制され、平行度
の良好なガラス基板が得られる。また、ガラス基板に
は、プレス成形時にチャンファーを同時に成形すること
が可能である。これにより、従来法において必要不可欠
であったリヒートプレス工程、および、時間的かつ設備
的にコストの嵩む厚み方向のラッピング(研磨)加工工
程、さらには、チャンファー加工工程を省くことができ
ため、ガラス基板の作製コストが極端に低減されるとい
う極めて優れた効果を奏する。また、溶融ガラスのプレ
ス成形圧力を低減することができるので、プレス成形に
用いられる下型および上型の経時劣化が抑制される効果
をも奏する。
As described above, according to the method for manufacturing a glass substrate of the present invention, since the formed glass substrate is uniformly cured, the occurrence of sink marks is suppressed and the parallelism is improved. A glass substrate is obtained. In addition, a chamfer can be simultaneously formed on a glass substrate during press forming. As a result, the reheat press step, which is indispensable in the conventional method, and the lapping (polishing) processing step in the thickness direction, which is costly in terms of time and equipment, and further, the chamfer processing step can be omitted. This is an extremely excellent effect that the manufacturing cost of the glass substrate is extremely reduced. Further, since the pressure for press-molding the molten glass can be reduced, an effect of suppressing the deterioration over time of the lower mold and the upper mold used for press-molding is also exerted.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明のガラス基板の作製方法におけるガラ
ス基板の成形方法の一実施形態を示す説明図である。
FIG. 1 is an explanatory view showing one embodiment of a method for forming a glass substrate in a method for manufacturing a glass substrate of the present invention.

【図2】 本発明のガラス基板の作製方法における被加
工溶融ガラスの形状に関する説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram relating to a shape of a molten glass to be processed in the method for manufacturing a glass substrate of the present invention.

【図3】 本発明のガラス基板の作製方法により成形さ
れるガラス基板の形状の一実施形態を示す断面図であ
り、(a)は台形形状を示し、(b)は楔形状を示し、
(c)は台形楔形状を示す。
3A and 3B are cross-sectional views illustrating an embodiment of a shape of a glass substrate formed by the method for manufacturing a glass substrate of the present invention, wherein FIG. 3A illustrates a trapezoidal shape, FIG.
(C) shows a trapezoidal wedge shape.

【図4】 本発明のガラス基板の作製方法に使用される
プレス上下型の形状を示す断面図であり、(a)は台形
型を示し、(b)は楔型を示し、(c)は台形楔型を示
す。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing the shape of a press upper and lower mold used in the method of manufacturing a glass substrate of the present invention, wherein (a) shows a trapezoidal mold, (b) shows a wedge mold, and (c) shows 2 shows a trapezoidal wedge shape.

【図5】 本発明のガラス基板の作製方法におけるカッ
プ砥石を用いた内外径加工の説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram of inner and outer diameter processing using a cup grindstone in the method for manufacturing a glass substrate of the present invention.

【図6】 本発明のガラス基板の作製方法におけるチル
カットによる内外径加工の説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram of inner and outer diameter processing by chill cut in the method for manufacturing a glass substrate of the present invention.

【図7】 本発明のガラス基板の作製方法により作製さ
れる内外径加工後のガラス基板の形状の一実施形態を示
す断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing one embodiment of the shape of the glass substrate after inner and outer diameter processing manufactured by the method for manufacturing a glass substrate of the present invention.

【図8】 ガラス基板におけるヒケの発生を示す説明図
である。
FIG. 8 is an explanatory diagram showing the occurrence of sink marks on a glass substrate.

【図9】 従来のガラス基板の作製方法におけるガラス
基板の成形方法を示す説明図である。
FIG. 9 is an explanatory view showing a method for forming a glass substrate in a conventional method for manufacturing a glass substrate.

【図10】 本発明のガラス基板の作製方法により形成
された被加工溶融ガラスの形状の一実施形態を示す平面
図である。
FIG. 10 is a plan view showing one embodiment of a shape of a molten glass to be processed formed by the method for manufacturing a glass substrate of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ノズル、2…下型、3…溶融ガラス、4…スパイラ
ル状の溶融ガラス(被加工溶融ガラス)、5…シャー、
6…上型、7…ガラス基板、11〜13…ガラス基板、
11A〜13A…本体部、11B〜13B…内孔部、1
1C〜13C…外周部、14…勾配部、15…ノッチ、
16…チャンファー、17…ガラス基板、19A・19
B…台形型、20A・20B…楔型、21A・21B…
台形楔型、22…溝部、23…溝部、24…斜面部、2
5…溝部、26…V字凸部、27…溝部、28…溝部、
29…V字凸部、30…接触部、31…空間部、41…
内外径同芯カップ砥石(カップ砥石)、41A…内径砥
石、41B…外径砥石、42…金属治具、42A…内径
加工刃、42B…外径加工刃、51…ノズル、52…溶
融ガラス、53…シャー、54…胴型、55…下型、5
6…上型、57…ガラス基板、58…ゴブ、59…ヒ
ケ。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Nozzle, 2 ... Lower mold, 3 ... Molten glass, 4 ... Spiral molten glass (processed molten glass), 5 ... Shear,
6: upper mold, 7: glass substrate, 11 to 13: glass substrate,
11A to 13A: main body, 11B to 13B: inner hole, 1
1C to 13C: outer peripheral portion, 14: gradient portion, 15: notch,
16: chamfer, 17: glass substrate, 19A / 19
B: trapezoidal type, 20A / 20B ... wedge type, 21A / 21B ...
Trapezoidal wedge shape, 22: groove, 23: groove, 24: slope, 2
5 ... groove, 26 ... V-shaped convex, 27 ... groove, 28 ... groove,
29: V-shaped convex part, 30: contact part, 31: space part, 41 ...
Inner / outer diameter concentric cup grindstone (cup grindstone), 41A: inner diameter grindstone, 41B: outer diameter grindstone, 42: metal jig, 42A: inner diameter processing blade, 42B: outer diameter processing blade, 51: nozzle, 52: molten glass, 53 ... shear, 54 ... body type, 55 ... lower type, 5
6: upper mold, 57: glass substrate, 58: gob, 59: sink mark.

フロントページの続き (72)発明者 後藤 利樹 愛知県名古屋市瑞穂区須田町2番56号 日 本碍子株式会社内Continuation of front page (72) Inventor Toshiki Goto 2-56 Suda-cho, Mizuho-ku, Nagoya-shi, Aichi Japan Insulator Co., Ltd.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 溶融ガラスを上型および下型を用いて所
定形状にプレス成形するガラス基板の作製方法であっ
て、 溶融ガラスを当該下型に滴下する際に、当該溶融ガラス
を、当該下型上にスパイラル状に形成することを特徴と
するガラス基板の作製方法。
1. A method for producing a glass substrate, comprising pressing molten glass into a predetermined shape using an upper mold and a lower mold, wherein the molten glass is dropped onto the lower mold when the molten glass is dropped onto the lower mold. A method for manufacturing a glass substrate, which is formed in a spiral shape on a mold.
【請求項2】 当該溶融ガラスの滴下位置を固定し、か
つ、当該下型を回転させながら径方向に一軸移動させる
ことにより、 もしくは、一定の位置において当該下型を回転させ、か
つ、当該溶融ガラスの滴下位置を当該下型の径方向に一
軸移動させることにより、 当該溶融ガラスを、当該下型上にスパイラル状に形成す
ることを特徴とする請求項1記載のガラス基板の作製方
法。
2. The method according to claim 1, further comprising: fixing the dropping position of the molten glass, and moving the lower die in a uniaxial direction while rotating the lower die, or rotating the lower die at a fixed position, and The method for manufacturing a glass substrate according to claim 1, wherein the molten glass is formed in a spiral shape on the lower mold by moving a dropping position of the glass uniaxially in a radial direction of the lower mold.
【請求項3】 当該溶融ガラスを10μm以下の平行度
を有する基板へプレス成形することを特徴とする請求項
1または2記載のガラス基板の作製方法。
3. The method for producing a glass substrate according to claim 1, wherein said molten glass is press-molded into a substrate having a parallelism of 10 μm or less.
【請求項4】 当該上型および当該下型に、互いに当該
スパイラル状の溶融ガラスを介せず、直接に合わせられ
る接触部を設けることを特徴とする請求項1〜3のいず
れか一項に記載のガラス基板の作製方法。
4. The method according to claim 1, wherein the upper mold and the lower mold are provided with contact portions that can be directly fitted to each other without interposing the spiral molten glass therebetween. The method for producing the glass substrate described in the above.
【請求項5】 当該上型および当該下型の外周部に、当
該スパイラル状の溶融ガラスの余剰体積部が押し出され
る空間部を設けることを特徴とする請求項1〜4のいず
れか一項に記載のガラス基板の作製方法。
5. The method according to claim 1, wherein a space is formed in an outer peripheral portion of the upper mold and the lower mold so that an excess volume of the spiral molten glass is extruded. The method for producing the glass substrate described in the above.
【請求項6】 当該スパイラル状の溶融ガラスから成形
されるガラス基板の形状を、内孔部および/または外周
部の厚みが本体部よりも薄い台形形状とし、 かつ、当該内孔部および/または当該外周部と当該本体
部との境界に形成される勾配部を、チャンファーの形状
とすることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に
記載のガラス基板の作製方法。
6. A glass substrate formed from the spiral molten glass has a trapezoidal shape in which the thickness of an inner hole portion and / or an outer peripheral portion is smaller than that of a main body portion, and the shape of the inner hole portion and / or The method for manufacturing a glass substrate according to any one of claims 1 to 5, wherein a gradient portion formed at a boundary between the outer peripheral portion and the main body portion has a chamfer shape.
【請求項7】 当該スパイラル状の溶融ガラスから成形
されるガラス基板の形状を、内孔部および/または外周
部と本体部との境界にノッチを形成した楔形状とし、 かつ、当該ノッチの形状を、チャンファーの形状とする
ことを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の
ガラス基板の作製方法。
7. The shape of the glass substrate formed from the molten glass in a spiral shape is a wedge shape in which a notch is formed at a boundary between the inner hole and / or the outer peripheral portion and the main body, and the shape of the notch Is a shape of a chamfer, The method for manufacturing a glass substrate according to any one of claims 1 to 6, wherein
【請求項8】 当該ノッチの底部に熱衝撃を加えること
により、当該ノッチにおいてクラックを発生せしめ、当
該内孔部および/または当該外周部を、当該本体部から
離隔することを特徴とする請求項7記載のガラス基板の
作製方法。
8. The method according to claim 1, wherein a thermal shock is applied to the bottom of the notch to cause a crack in the notch, thereby separating the inner hole and / or the outer periphery from the main body. 8. The method for producing a glass substrate according to 7.
JP10033137A 1998-02-16 1998-02-16 Manufacture of glass substrate Withdrawn JPH11228150A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10033137A JPH11228150A (en) 1998-02-16 1998-02-16 Manufacture of glass substrate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10033137A JPH11228150A (en) 1998-02-16 1998-02-16 Manufacture of glass substrate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11228150A true JPH11228150A (en) 1999-08-24

Family

ID=12378221

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10033137A Withdrawn JPH11228150A (en) 1998-02-16 1998-02-16 Manufacture of glass substrate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11228150A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011080912A1 (en) * 2009-12-29 2011-07-07 Hoya株式会社 Method for manufacturing magnetic-disk glass substrate, and magnetic-disk glass substrate
WO2011080913A1 (en) * 2009-12-29 2011-07-07 Hoya株式会社 Method for manufacturing magnetic-disk glass substrate, and magnetic-disk glass substrate
WO2013001722A1 (en) * 2011-06-30 2013-01-03 コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 Method for producing hdd glass substrate
US8869559B2 (en) 2011-01-31 2014-10-28 Hoya Corporation Method of manufacturing a glass substrate for magnetic disk
US8973404B2 (en) 2010-03-31 2015-03-10 Hoya Corporation Manufacturing method of glass substrate for magnetic disk, manufacturing method of glass blank, glass substrate for magnetic disk, and glass blank

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011080912A1 (en) * 2009-12-29 2011-07-07 Hoya株式会社 Method for manufacturing magnetic-disk glass substrate, and magnetic-disk glass substrate
WO2011080913A1 (en) * 2009-12-29 2011-07-07 Hoya株式会社 Method for manufacturing magnetic-disk glass substrate, and magnetic-disk glass substrate
JP2011154773A (en) * 2009-12-29 2011-08-11 Hoya Corp Method for manufacturing magnetic disk glass substrate, and magnetic disk glass substrate
JP2011154772A (en) * 2009-12-29 2011-08-11 Hoya Corp Manufacturing method of glass substrate for magnetic disk, and the glass substrate for magnetic disk
JP2012133883A (en) * 2009-12-29 2012-07-12 Hoya Corp Method for manufacturing magnetic disk glass substrate
JP2012133882A (en) * 2009-12-29 2012-07-12 Hoya Corp Method for manufacturing magnetic disk glass substrate and magnetic disk plate-shaped glass blank
US8733129B2 (en) 2009-12-29 2014-05-27 Hoya Corporation Glass substrate for magnetic disk and manufacturing method thereof
US9003834B2 (en) 2009-12-29 2015-04-14 Hoya Corporation Glass substrate for magnetic disk and manufacturing method thereof
US9085479B2 (en) 2009-12-29 2015-07-21 Hoya Corporation Glass substrate for magnetic disk and manufacturing method thereof
US8973404B2 (en) 2010-03-31 2015-03-10 Hoya Corporation Manufacturing method of glass substrate for magnetic disk, manufacturing method of glass blank, glass substrate for magnetic disk, and glass blank
US8869559B2 (en) 2011-01-31 2014-10-28 Hoya Corporation Method of manufacturing a glass substrate for magnetic disk
WO2013001722A1 (en) * 2011-06-30 2013-01-03 コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 Method for producing hdd glass substrate

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4380379B2 (en) Manufacturing method of glass substrate for information recording medium
US7845192B2 (en) Methods for producing substrate blank
US6539750B1 (en) Glass substrate forming mold and production method for glass substrate
JPH11228150A (en) Manufacture of glass substrate
JP2968156B2 (en) Press forming method for disk-shaped glass products
JPH11189423A (en) Production of glass base plate
JPH11228149A (en) Manufacture of glass substrate
JPH11228152A (en) Method and device for forming glass substrate
JP2000072489A (en) Manufacture of glass substrate
JPH11268919A (en) Preparation of glass substrate
JP3286956B2 (en) Method for manufacturing thin plate glass, method for manufacturing glass substrate for information recording medium, and magnetic recording medium
JPH11217226A (en) Production of glass substrate
JP6979399B2 (en) A glass blank, a method for manufacturing a glass blank, and a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk.
JP4186443B2 (en) Manufacturing method of glass substrate for hard disk with central hole
JP4133309B2 (en) Glass blank, information recording medium substrate, and information recording medium manufacturing method
JP3681103B2 (en) Glass substrate manufacturing method and glass substrate manufacturing apparatus
JP2000015546A (en) Manufacture of glass substrate
JP2000053431A (en) Glass substrate intermediate, its press-forming die, and inner and outer diameter working device
JP2001010831A (en) Molding mold for glass optical element and production of glass optical element using the same
JP3299785B2 (en) Manufacturing method of optical glass lens
JP4926898B2 (en) Disc glass, information recording medium substrate, and information recording medium manufacturing method
JP2866646B1 (en) Glass substrate manufacturing method
JP2009221089A (en) Manufacturing method of each of glass blank for substrate for information recording medium, substrate for information recording medium, and information recording medium
JPS6296328A (en) Method of molding optical glass element
JP2001097725A (en) Method for producing plate glass

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20050510