JPH11218561A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JPH11218561A
JPH11218561A JP10020908A JP2090898A JPH11218561A JP H11218561 A JPH11218561 A JP H11218561A JP 10020908 A JP10020908 A JP 10020908A JP 2090898 A JP2090898 A JP 2090898A JP H11218561 A JPH11218561 A JP H11218561A
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JP
Japan
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signal
circuit
integrated circuit
semiconductor integrated
critical path
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JP10020908A
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Japanese (ja)
Inventor
Katsuyuki Fujita
勝之 藤田
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make the testing process omissible by frequency-dividing clock signal, passing it through a critical path and inputting it to a signal processing means and connecting the output and the clock signal to a measurement means by way of another signal processing means. SOLUTION: The logical product of an output signal 2A of clock signal frequency divider 21 and an output signal 2B having passed a critical path γconstituted of a plurality of logic gates 22 is calculated by an AND circuit 26 of the first signal processing means. The output signal 2C and a system clock signal 2E from an external system clock input part 24 are input in the NAND circuit 27 of the second signal processing means to perform an operation. The number of pulses obtained by the operation is counted by a binary counter 23 of a measurement means. That is, the difference between the signal 2A and the signal 2B is obtained, and the operating speed is judged by a possible operating speed judgment circuit. By this constitution, an operating speed selection test can be done inside the chip by a self test circuit and test items may be reduced.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路に
おいて、特にその半導体集積回路が、半導体製造プロセ
スのばらつきに起因する動作特性のばらつきにより、動
作可能速度がばらつく場合に、予め個々の半導体集積回
路の動作可能速度を測定し記録しておき、個々の動作可
能速度に合させて使用する構成に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a semiconductor integrated circuit in which the operable speed varies due to variations in operating characteristics caused by variations in the semiconductor manufacturing process. The present invention relates to a configuration in which the operable speed of a circuit is measured and recorded, and used in accordance with each operable speed.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、微細化傾向をたどる半導体プロセ
ス技術により半導体集積回路を構成する各素子の寸法や
配置が微小化し、実際に製造された素子の寸法や配置の
設計値に対するばらつきが相対的に大きくなってきてい
る。このため同一設計、同一機能のチップであっても、
実際に製造された製品の動作速度にはばらつきが生じて
いる。
2. Description of the Related Art In recent years, the dimensions and arrangement of each element constituting a semiconductor integrated circuit have been miniaturized due to the semiconductor process technology following the trend of miniaturization, and variations in the dimensions and arrangement of actually manufactured elements relative to design values have become relatively large. It is getting bigger. For this reason, even if chips have the same design and the same function,
The operation speed of actually manufactured products varies.

【0003】一方、近年パソコン等のシステムの高速動
作に対する要求がますます強まってきているため、高速
動作可能な半導体チップには通常の製品と比較し付加価
値が生ずる。これに対し、さほど高速でなくても、安価
な半導体チップの供給に対する市場の要求も強い。
On the other hand, the demand for high-speed operation of systems such as personal computers has been increasing in recent years, and semiconductor chips capable of high-speed operation have added value as compared with ordinary products. On the other hand, there is a strong market demand for supply of inexpensive semiconductor chips even if the speed is not so high.

【0004】こういった様々な市場の要求に応えるため
には、同一製造工程で製造したチップの速度選別、即ち
スピードビンディングを行う必要がある。しかし、こう
した動作速度選別用のテストを行うには、大きく2つの
問題がある。一つは、テスト工程の増加を招き、コスト
アップや、製造時間の増加になってしまうということで
ある。
In order to meet the demands of these various markets, it is necessary to select the speed of chips manufactured in the same manufacturing process, that is, perform speed binding. However, there are two major problems in performing such an operation speed selection test. One is that the number of test steps is increased, resulting in an increase in cost and an increase in manufacturing time.

【0005】もう一つは、速度選別テストで得た情報
を、どこでどのように読み出し可能な状態で保持し、必
要なときに、どのようにして電気的に読み出するかとい
う問題である。なぜなら、実際に半導体チップをシステ
ムレベルで動作させる場合に、システムを半導体チップ
の最適速度で動作させるためには、半導体チップ毎の速
度選別情報をシステムのコントローラが参照する必要が
あるからである。
Another problem is how and where information obtained by the speed selection test is held in a readable state, and how to read it electrically when necessary. This is because, when the semiconductor chip is actually operated at the system level, the system controller needs to refer to the speed selection information for each semiconductor chip in order to operate the system at the optimum speed of the semiconductor chip.

【0006】このため、例えば図10に示すように、従
来のSIMM(Single In-line Memory Module)またはD
IMM(Dual In-line Memory Module)等においては、シ
ステムボード107上にEEPROM等の不揮発性メモ
リ105を実装し、そこに半導体チップ101〜104
毎の速度情報を書込み・保持し、システムコントローラ
106がこの情報を参照することで対処していた。
For this reason, for example, as shown in FIG. 10, a conventional SIMM (Single In-line Memory Module) or
In an IMM (Dual In-line Memory Module) or the like, a nonvolatile memory 105 such as an EEPROM is mounted on a system board 107 and semiconductor chips 101 to 104 are mounted thereon.
The speed information for each speed is written and held, and the system controller 106 deals with this by referring to this information.

【0007】以下に従来の技術を図10を用いて説明す
る。図10に示すように、システムボード107上に配
置されている101が集積回路A、102が集積回路
B、103は集積回路C、104は集積回路Dである。
106はシステムシステムコントローラであり、105
は集積回路A,B,C,Dやシステムコントローラ10
6の動作可能速度情報を保持している不揮発性メモリで
ある。
The conventional technique will be described below with reference to FIG. As shown in FIG. 10, reference numeral 101 denotes an integrated circuit A, 102 denotes an integrated circuit B, 103 denotes an integrated circuit C, and 104 denotes an integrated circuit D arranged on a system board 107.
106, a system system controller;
Are the integrated circuits A, B, C, D and the system controller 10
6 is a non-volatile memory holding operable speed information.

【0008】また、不揮発性メモリ105とシステムコ
ントローラ106とは、電気的に参照可能であり、同様
に不揮発性メモリ105と集積回路Aから集積回路Dも
電気的に参照可能である。
Further, the nonvolatile memory 105 and the system controller 106 can be electrically referred to, and similarly, the nonvolatile memory 105 and the integrated circuits A to D can also be electrically referred to.

【0009】今日のように、1個の半導体チップへの搭
載素子数が著しく増加し、システムの少数チップ化が進
んでくると、システムボード107に動作可能速度情報
を保持する専用の不揮発性メモリ1個を実装するという
形式では、不揮発性メモリの分のコストがシステム全体
の中で割高になり、全体的にみてコスト面で不利にな
る。また、システムボード107上の設置面積を低減さ
せ、設置面積の密度を高密度化するのに妨げになるとい
う問題があった。
As the number of elements mounted on one semiconductor chip has increased remarkably and the number of chips in a system has been reduced as in today, a dedicated non-volatile memory for storing operable speed information on the system board 107 has been proposed. In the case where one is mounted, the cost of the non-volatile memory is relatively high in the entire system, which is disadvantageous in cost as a whole. In addition, there is a problem that the installation area on the system board 107 is reduced, which hinders an increase in the density of the installation area.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】微細化傾向をたどる半
導体プロセス技術により、寸法や素子相互の配置の絶対
的な縮小に伴い、実際に製造された製品の寸法、配置等
の相対的ばらつきが大きくなり、同一設計、同一機能の
半導体チップであっても、各半導体チップ間でその動作
速度がばらついてしまうという問題が生じている。ま
た、高速動作が要求されるチップと、遅くても安価なチ
ップとを選別する必要があり、チップの動作速度選別が
必要とされている。このため、テスト工程の増加を招
き、製造時間の増加によるコストアップや、選別情報を
保持する方法等の問題が発生した。本発明は以上のよう
な問題に鑑み、テスト工程を省略でき外部メモリにより
選別情報を保持する必要がない、半導体集積回路を提供
するものである。
With the semiconductor process technology following the trend of miniaturization, relative variations in dimensions, arrangements and the like of actually manufactured products increase with the absolute reduction of dimensions and mutual arrangement of elements. In other words, even if the semiconductor chips have the same design and the same function, there is a problem that the operation speed varies among the semiconductor chips. In addition, it is necessary to select a chip that requires high-speed operation and a chip that is inexpensive at the latest, and thus it is necessary to select an operation speed of the chip. For this reason, the number of test steps is increased, and costs are increased due to an increase in manufacturing time, and problems such as a method of retaining sorting information are caused. The present invention has been made in view of the above problems, and provides a semiconductor integrated circuit that can omit a test process and does not need to hold selection information by an external memory.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明による半導体装置
は、半導体集積回路内の信号処理回路における所定のク
リティカルパスでの信号遅延を測定する回路であって、
システムクロック信号を分周して前記クリティカルパス
への入力信号を生成するクロック信号分周器と、比較信
号と前記入力信号がクリティカルパスを通過した後の信
号とを入力とする第1の信号処理手段と、前記第1の信
号処理手段からの出力信号と前記システムクロック信号
とを入力とする第2の信号処理手段と、前記第2の信号
処理手段の出力と接続された計測手段とを有する遅延測
定回路を具備することを特徴とする半導体集積回路であ
る。
A semiconductor device according to the present invention is a circuit for measuring a signal delay in a predetermined critical path in a signal processing circuit in a semiconductor integrated circuit,
A clock signal divider that divides a system clock signal to generate an input signal to the critical path, and a first signal processing that inputs a comparison signal and a signal after the input signal has passed through the critical path Means, second signal processing means for receiving an output signal from the first signal processing means and the system clock signal as inputs, and measuring means connected to an output of the second signal processing means. A semiconductor integrated circuit including a delay measurement circuit.

【0012】そして、前記比較信号が前記クリティカル
パスへの前記入力信号であり、前記第1の信号処理手段
がAND回路であり、前記第2の信号処理手段がNAN
D回路であり、計測手段がバイナリカウンタであること
を特徴とする半導体集積回路である。また、前記所定の
クリティカルパスが複数のロジックゲートを含むことを
特徴とする半導体集積回路である。また、前記所定のク
リティカルパスが前記半導体集積回路内に形成されたメ
モリのアドレスデコーダ回路であり前記第1の信号処理
手段がNAND回路であり、前記第2の信号処理手段が
AND回路であることを特徴とする半導体集積回路であ
る。
The comparison signal is the input signal to the critical path, the first signal processing means is an AND circuit, and the second signal processing means is NAN.
The semiconductor integrated circuit is a D circuit, and the measuring means is a binary counter. Further, in the semiconductor integrated circuit, the predetermined critical path includes a plurality of logic gates. Further, the predetermined critical path is an address decoder circuit of a memory formed in the semiconductor integrated circuit, the first signal processing means is a NAND circuit, and the second signal processing means is an AND circuit A semiconductor integrated circuit characterized by the following.

【0013】さらに、前記クリティカルパスがCR分布
定数経路を含み、前記第1の信号処理手段が前記クリテ
ィカルパスからの出力信号と比較電圧信号とを入力とす
る電圧比較コンパレータであることを特徴とする半導体
集積回路である。また、前記がCR分布定数経路が前記
半導体集積回路内に形成されたメモリの列選択線又は行
選択線であることを特徴とする半導体集積回路である。
Further, the critical path includes a CR distributed constant path, and the first signal processing means is a voltage comparison comparator which inputs an output signal from the critical path and a comparison voltage signal. It is a semiconductor integrated circuit. Further, in the semiconductor integrated circuit, the CR distributed constant path is a column selection line or a row selection line of a memory formed in the semiconductor integrated circuit.

【0014】また、動作速度を選別する情報を記録する
メモリを有し、前記計測手段の出力信号に基づき動作速
度判定信号を出力する動作可能速度判別回路を具備する
ことを特徴とする半導体集積回路である。また、前記動
作可能速度判別回路の出力に接続されたレジスタを具備
することを特徴とする半導体集積回路である。また、前
記レジスタの出力がその対象となる半導体集積回路内お
よび外部回路から電気的に参照可能とする出力端子を有
することを特徴とする半導体集積回路である。
A semiconductor integrated circuit having a memory for recording information for selecting an operation speed and an operable speed discrimination circuit for outputting an operation speed judgment signal based on an output signal of the measuring means. It is. The semiconductor integrated circuit further includes a register connected to an output of the operable speed determination circuit. Further, there is provided a semiconductor integrated circuit having an output terminal which enables the output of the register to be electrically referred to within the semiconductor integrated circuit to be processed and from an external circuit.

【0015】そして、本発明による半導体装置は、半導
体集積回路内の信号処理回路における所定のクリティカ
ルパスでの信号遅延を測定する回路であって、システム
クロック信号を分周して前記クリティカルパスへの入力
信号を生成するクロック信号分周器と、前記入力信号と
前記入力信号がクリティカルパスを通過した後の信号と
を入力としてクリティカルパスでの信号遅延に係る信号
を出力する信号処理手段と、前記信号処理手段からの出
力信号を電圧値に変換して出力する時間―電圧値変換手
段と、前記電圧値を少なくとも1の所定の比較電圧と比
較する少なくとも1の電圧比較コンパレータを有する遅
延測定回路を具備することを特徴とする半導体集積回路
である。
A semiconductor device according to the present invention is a circuit for measuring a signal delay in a predetermined critical path in a signal processing circuit in a semiconductor integrated circuit. A clock signal divider for generating an input signal, signal processing means for receiving the input signal and the signal after the input signal has passed through the critical path, and outputting a signal related to a signal delay in the critical path, A delay-measurement circuit having time-voltage value conversion means for converting an output signal from the signal processing means into a voltage value and outputting the voltage value, and at least one voltage comparison comparator for comparing the voltage value with at least one predetermined comparison voltage; A semiconductor integrated circuit comprising:

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】本発明は以下の実施の形態を図面
をもって説明するが、本発明はここで説明する実施の形
態に限定されるものではない。下記実施の形態は多様に
変化することができる。本発明の実施の形態を以下に図
1から図9を用いて説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described with reference to the following embodiments with reference to the drawings, but the present invention is not limited to the embodiments described here. The following embodiments can be variously changed. An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.

【0017】まず本発明の第1の実施の形態を、図1か
ら図4を持って説明する。図1(a)は、本発明に係る
半導体集積回路の構成を表した図である。2は半導体集
積回路であり、そのうち1は回路機能本体、3はレジス
タ、4は動作可能速度判別回路、5は動作速度測定回路
である。図1(b)はこの半導体集積回路を実装したシ
ステムボード11を示し、6はシステムコントローラ、
7から10はこのシステムボード11が使用する本発明
の構成を有する複数の半導体集積回路AからDである。
First, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1A is a diagram illustrating a configuration of a semiconductor integrated circuit according to the present invention. Reference numeral 2 denotes a semiconductor integrated circuit, of which 1 is a circuit function body, 3 is a register, 4 is an operable speed determination circuit, and 5 is an operation speed measurement circuit. FIG. 1B shows a system board 11 on which the semiconductor integrated circuit is mounted, 6 is a system controller,
Reference numerals 7 to 10 denote a plurality of semiconductor integrated circuits A to D having the configuration of the present invention used by the system board 11.

【0018】動作速度測定回路5は、半導体集積回路の
クリティカルパス(多くの経路の中で最短の時間を要す
る経路)での遅延を測定する回路であり、動作可能速度
判別回路4または回路機能本体1により電気的に参照可
能である。
The operating speed measuring circuit 5 is a circuit for measuring a delay in a critical path (a path requiring the shortest time among many paths) of the semiconductor integrated circuit. 1 can be referred to electrically.

【0019】また、動作可能速度判別回路4は、レジス
タ3と動作速度測定回路5とにより電気的に参照可能で
ある。レジスタ3は、半導体集積回路2の回路機能本体
1と図2の集積回路(7〜10、除く集積回路2)やシ
ステムボードコントローラ6とも電気的に参照可能とす
るための出力端子を有する。
The operable speed determining circuit 4 can be electrically referred to by the register 3 and the operating speed measuring circuit 5. The register 3 has an output terminal for electrically referring to the circuit function body 1 of the semiconductor integrated circuit 2, the integrated circuits (excluding the integrated circuits 7 to 10, and the integrated circuit 2) of FIG. 2 and the system board controller 6.

【0020】システムボード11の構成は、図1(b)
に示すように、システムコントローラ6と、図1に示す
回路機能本体、レジスタ、動作可能速度判別回路、およ
び動作速度測定回路を含む半導体集積回路Aから半導体
集積回路Dまでを、例えば並列に配置したものである。
システムボード11は従来技術である図10と比べ外付
けの不揮発性メモリ105を必要としない。
The configuration of the system board 11 is shown in FIG.
As shown in FIG. 1, the system controller 6 and the semiconductor integrated circuits A to D including the circuit function body, the register, the operable speed determination circuit, and the operation speed measurement circuit shown in FIG. Things.
The system board 11 does not require an external non-volatile memory 105 as compared with FIG.

【0021】図2(a)は本発明の第1の実施形態に係
るセルフテスト回路即ち図1の動作速度測定回路5の構
成を示すブロック図であり、γは回路の動作速度を決定
する要因となるクリティカルパスである。図2(a)の
21はクロック信号分周器を示し、22はクリティカル
パスを構成する複数のロジックゲートのブロック図を表
す。23は遅延時間を計測する手段であるバイナリカウ
ンタ、24は外部システムクロックの入力端子であり2
Eはシステムクロック信号である。25の出力は図1の
動作可能速度判別回路4へ接続されている。
FIG. 2A is a block diagram showing the configuration of the self-test circuit according to the first embodiment of the present invention, that is, the operation speed measurement circuit 5 of FIG. 1, where γ is a factor that determines the operation speed of the circuit. Is the critical path. In FIG. 2A, reference numeral 21 denotes a clock signal divider, and reference numeral 22 denotes a block diagram of a plurality of logic gates forming a critical path. Reference numeral 23 denotes a binary counter which is a means for measuring a delay time, and 24 denotes an input terminal of an external system clock.
E is a system clock signal. The output of 25 is connected to the operable speed determination circuit 4 of FIG.

【0022】図2(a)のようなタイプの回路は、クリ
ティカルパスγの回路が複数のロジックゲートからなる
場合に特に有効である。こうして測定され、図1のレジ
スタ3に保持された動作可能速度情報は、集積回路内外
から参照され、システム全体の動作速度を決定する。
The circuit of the type shown in FIG. 2A is particularly effective when the circuit of the critical path γ includes a plurality of logic gates. The operable speed information thus measured and held in the register 3 of FIG. 1 is referred to from inside and outside the integrated circuit to determine the operation speed of the entire system.

【0023】図2に示す動作速度測定回路5は、図1に
示す回路機能本体1の動作速度を決定する要因であるク
リティカルパスγの遅延時間の測定を行う。また、レジ
スタ3は半導体集積回路2内の所望の構成部分および外
部のシステムコントローラ6から電気的に参照可能とな
る。
The operation speed measuring circuit 5 shown in FIG. 2 measures the delay time of the critical path γ, which is a factor for determining the operation speed of the circuit function body 1 shown in FIG. Further, the register 3 can be electrically referenced from a desired component in the semiconductor integrated circuit 2 and an external system controller 6.

【0024】図2に示すように、この回路構成において
は、クリティカルパスγの遅延時間αを測定するため
に、第1の信号処理手段であるAND回路26によりク
リティカルパスγを通過した後の分周器出力信号2B
と、クリティカルパスγを通過しない比較信号としての
分周器出力信号2Aとの倫理積をとる。そして、その出
力信号2Cと、外部システムクロックの入力部24から
のシステムクロック信号2Eを第2の信号処理手段であ
るNAND回路27の入力とし演算する。そしてこの演
算結果であるパルス数を計測手段であるバイナリカウン
タ23により計測する。即ち、2つの信号2Aと2Bと
の差を計測手段であるバイナリカウンタ23で計算する
ものである。
As shown in FIG. 2, in this circuit configuration, in order to measure the delay time α of the critical path γ, the signal after passing through the critical path γ by the AND circuit 26 as the first signal processing means is measured. Frequency output signal 2B
And the frequency divider output signal 2A as a comparison signal that does not pass through the critical path γ. Then, the output signal 2C and the system clock signal 2E from the external system clock input section 24 are input to the NAND circuit 27 as the second signal processing means, and are operated. Then, the number of pulses, which is the result of the calculation, is measured by the binary counter 23 as the measuring means. That is, the difference between the two signals 2A and 2B is calculated by the binary counter 23 as the measuring means.

【0025】バイナリカウンタ23でパルス数を数え上
げたのち、その情報を例えば図8に示すような動作可能
速度判別回路により動作速度を判別する。図8に示す8
1は速度の判別用比較情報を有するROM、83はバイ
ナリコンパレータであり、82から動作速度判定信号が
出力される。動作速度判定信号は例えばその半導体集積
回路に最適の動作速度を示す信号である。84から入力
される信号は、動作速度測定回路5が数え上げた図2の
端子25からの動作速度情報(図2のバイナリカウンタ
23が数え上げたもの)である。なお、分周信号との差
からクリティカルパスγの遅延時間αを計算し、その結
果を出力して図1(a)に示したレジスタ3に保持する
こともできる。
After the number of pulses is counted by the binary counter 23, the information is used to determine the operating speed by, for example, an operable speed determining circuit as shown in FIG. 8 shown in FIG.
Reference numeral 1 denotes a ROM having comparison information for determining the speed, 83 denotes a binary comparator, and 82 outputs an operation speed determination signal. The operation speed determination signal is, for example, a signal indicating the optimum operation speed for the semiconductor integrated circuit. The signal input from 84 is the operating speed information from the terminal 25 in FIG. 2 counted by the operating speed measuring circuit 5 (counted by the binary counter 23 in FIG. 2). Note that the delay time α of the critical path γ can be calculated from the difference from the frequency-divided signal, and the result can be output and held in the register 3 shown in FIG.

【0026】図2(b)は、図2(a)のタイミング図
であり、外部システムクロック信号24、分周信号2
A、クリティカルパスγを通過した信号2B、論理積信
号2C、2Cをシステムクロック信号で変換した信号2
Dの波形のタイミングを示す。
FIG. 2B is a timing chart of FIG. 2A, in which the external system clock signal 24, the frequency-divided signal 2
A, a signal 2B obtained by converting the signal 2B passing through the critical path γ and the AND signals 2C and 2C with the system clock signal
The timing of the waveform D is shown.

【0027】信号2AがHIGHとなってから、信号2
BがHIGHとなるまでの時間αは、回路のクリティカ
ルパスによる遅延時間を表している。また、信号2Aと
信号2Bの信号を論理積(AND)をとったのもが、信
号2Cであり、信号2CがHIGHとなっている時間と
システムクロックのNANDをとったものが信号2Dで
ある。図2(b)に示すように、信号2DがHIGHと
LOWする時間をβとすると、時間βの間、バイナリカ
ウンタ23で前記HIGHとLOWの信号を数え上げ
る。
After the signal 2A becomes HIGH, the signal 2A
The time α until B becomes HIGH indicates the delay time due to the critical path of the circuit. The signal 2C is obtained by ANDing the signal 2A and the signal 2B, and the signal 2D is obtained by NANDing the time when the signal 2C is HIGH and the system clock. As shown in FIG. 2B, when the time during which the signal 2D is HIGH and LOW is β, the HIGH and LOW signals are counted by the binary counter 23 during the time β.

【0028】この測定は、従来の集積回路において、パ
ッケージング後に行っていた動作速度の選別のテスト
を、集積回路チップ内部のセルフテスト回路で行うこと
を可能とするものである。
This measurement allows a self-test circuit in the integrated circuit chip to perform a test for selecting operating speed after packaging in a conventional integrated circuit.

【0029】図3は、図2の動作速度測定回路5を具体
的にメモリのアドレスデコーダ39に適用した例であ
る。なお、図3中のアドレスデコーダ39は、メモリの
アドレスデコーダをかなり一般化して描いたものであ
る。実際にはアドレスが2ビットのみで済むことはない
が、簡略化してある。
FIG. 3 shows an example in which the operating speed measuring circuit 5 of FIG. 2 is specifically applied to an address decoder 39 of a memory. Note that the address decoder 39 in FIG. 3 is a generalized drawing of the address decoder of the memory. In practice, the address does not need to be only 2 bits, but is simplified.

【0030】図3に示すように、31は動作速度判別回
路、32はバイナリカウンタ、33は遅延時間を測定す
る行又は列選択線<3>、34は行又は列選択線<2
>、35は行又は列選択線<1>、36は行又は列選択
線<0>、37は分周器、38はシステムクロック入力
部と3Cはシステムクロック信号、39はアドレスデコ
ーダである。なお、ここで、行又は列と記載しているの
は、メモリの行アドレスデコーダでも、列アドレスデコ
ーダでも基本的な動作機構は同じで、同様に適用できる
からである。
As shown in FIG. 3, 31 is an operation speed discrimination circuit, 32 is a binary counter, 33 is a row or column selection line <3> for measuring delay time, and 34 is a row or column selection line <2.
>, 35 are row or column selection lines <1>, 36 is row or column selection lines <0>, 37 is a frequency divider, 38 is a system clock input unit, 3C is a system clock signal, and 39 is an address decoder. Here, the reason why the term “row” or “column” is used is that the basic operation mechanism is the same for the row address decoder and the column address decoder of the memory, and the same can be applied.

【0031】図3に示すように、まずシステムクロック
入力部38からのシステムクロック信号3Cを分周器3
7に入力し、分周された長い周期のパルス3Aを生成
し、この信号をアドレスデコーダ39に入力している。
アドレスとしては01を選択している形となっている。
As shown in FIG. 3, first, the system clock signal 3C from the system clock input section 38 is divided by the frequency divider 3
7 to generate a frequency-divided long-period pulse 3A, which is input to the address decoder 39.
As the address, 01 is selected.

【0032】これに伴い、例えば遅延時間の測定はアド
レスデコーダ39の行又は列選択線<3>33を選択す
ることになる。ここで、入力したアドレスに相当する前
記行又は列選択線<3>33が選択されるまでには時間
遅延が生じる。こうして生じた行又は列選択線<3>3
3の遅延した出力信号3Bと、もとの信号3Aとの位相
差をNAND回路(40)でNAND演算をとって計算
し、その出力信号3EをAND回路(41)でシステム
クロック信号3Cと比較し、バイナリカウンタ32で数
え上げている。前記位相差が、アドレスデコーダ39の
遅延時間に相当する。
Along with this, for example, to measure the delay time, the row or column selection line <3> 33 of the address decoder 39 is selected. Here, a time delay occurs until the row or column selection line <3> 33 corresponding to the input address is selected. The row or column selection line <3> 3 thus generated
The phase difference between the delayed output signal 3B of FIG. 3 and the original signal 3A is calculated by performing a NAND operation in the NAND circuit (40), and the output signal 3E is compared with the system clock signal 3C in the AND circuit (41). Then, it is counted by the binary counter 32. The phase difference corresponds to a delay time of the address decoder 39.

【0033】このときの各部、分周されたシステムクロ
ック信号3A、遅延時間を測定するアドレスデコーダ3
9の出力信号3B、3Aと3Bとの論理積信号3E、シ
ステムクロック信号3C、および論理積信号3Eをシス
テムクロック信号3Aにより変換した信号3Dの波形が
図4である。信号3Aと信号3BのNANDが信号3E
であり、システムクロック信号3Eと比較して、バイナ
リカウンタ32で数え上げている。
At this time, each part, the divided system clock signal 3A, and the address decoder 3 for measuring the delay time
9 is a logical product signal 3E of the output signals 3B, 3A and 3B, a system clock signal 3C, and a waveform of a signal 3D obtained by converting the logical product signal 3E by the system clock signal 3A. NAND of signal 3A and signal 3B is signal 3E
And is counted by the binary counter 32 as compared with the system clock signal 3E.

【0034】次に本発明の第2の実施の形態を図5から
図8をもって説明する。図5に示す本発明の第2の実施
の形態は、基本的なシステム構成としては図2と同様で
ある。図2の動作速度測定回路の構成に対応する部分の
構成を図5を示す。クロック信号分周器54においてシ
ステムクロック入力部56からのシステムクロック信号
が分周されており、CR分布定数経路53を含むクリテ
ィカルパスγに通じている。そして出力信号5Cの遅延
をシステムクロック信号5Eとバイナリカウンタ52で
数え上げる。バイナリカウンタ52から出力された信号
51は、図1(a)の動作可能速度判別回路4へ送られ
る。図5(a)に示すように、図5の動作速度測定回路
の構成は、クリティカルパスγの遅延時間を、クリティ
カルパスγを通ったパルス5Bが比較信号Vref (V)
までに立ち上がる時間をτvrefと定義して、前記τvref
を第1の信号処理手段である電圧比較コンパレータ55
で検出する。さらに、そこで検出したクリティカルパス
の遅延時間τvrefを表現する信号5Cとシステムクロッ
ク信号5Eを第2信号処理手段であるNAND回路56
の入力とし、NAND回路56のパルス出力をバイナリ
カウンタ52に通して数え上げて測定を行うものであ
る。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The second embodiment of the present invention shown in FIG. 5 has the same basic system configuration as that of FIG. FIG. 5 shows a configuration of a portion corresponding to the configuration of the operation speed measurement circuit of FIG. The clock signal divider 54 divides the frequency of the system clock signal from the system clock input unit 56 and leads to the critical path γ including the CR distributed constant path 53. The delay of the output signal 5C is counted by the system clock signal 5E and the binary counter 52. The signal 51 output from the binary counter 52 is sent to the operable speed determination circuit 4 in FIG. As shown in FIG. 5A, in the configuration of the operation speed measuring circuit in FIG. 5, the pulse 5B passing through the critical path γ causes the delay time of the critical path γ to be equal to the comparison signal Vref (V).
Is defined as τvref, the above-mentioned τvref
To the voltage comparison comparator 55 as the first signal processing means.
To detect. Further, the signal 5C expressing the delay time τvref of the critical path detected therefrom and the system clock signal 5E are transferred to the NAND circuit 56 as the second signal processing means.
And counts the pulse output of the NAND circuit 56 through the binary counter 52 to perform measurement.

【0035】図5(b)は、上記回路における外部シス
テムクロック信号5E、分周された信号5A、比較信号
である電圧信号Vref 、クリティカルパスγを通過した
信号5B、電圧比較コンパレータ55の出力信号5C、
およびこの信号をシステムクロック信号5Eで変換した
信号5Dの波形を表している。時間間隔55は、クリテ
ィカルパスγによる遅延時間である。
FIG. 5B shows an external system clock signal 5E, a divided signal 5A, a voltage signal Vref as a comparison signal, a signal 5B passed through a critical path γ, and an output signal of the voltage comparison comparator 55 in the above circuit. 5C,
And the waveform of a signal 5D obtained by converting this signal with the system clock signal 5E. The time interval 55 is a delay time due to the critical path γ.

【0036】この動作速度測定回路によって測定された
半導体集積回路の動作速度情報は、第1の実施の形態と
同様に、図8の動作可能速度判別回路により動作可能速
度を判別し、半導体集積回路チップ内外のシステムコン
トローラから参照可能なように図1のレジスタ3に保持
される。
The operating speed information of the semiconductor integrated circuit measured by the operating speed measuring circuit is used to determine the operable speed by the operable speed discriminating circuit of FIG. 8 as in the first embodiment. It is held in the register 3 of FIG. 1 so that it can be referred to from the system controller inside and outside the chip.

【0037】図6は、図5の動作速度測定回路をメモリ
のWORD線(列選択線)の遅延の測定に適応した例で
ある。原理的には行選択線の遅延時間の測定も同じ方法
で可能である。なお、特に一般のメモリのWORD線に
は、選択、非選択のスイッチのトランジスタが多数接続
されているので、負荷容量としては非常に重くなり、メ
モリの動作速度の遅延時間を決定する要因としては、相
当大きなものの一つになっている。
FIG. 6 shows an example in which the operation speed measurement circuit of FIG. 5 is applied to the measurement of the delay of the WORD line (column selection line) of the memory. In principle, the same method can be used to measure the delay time of the row selection line. In particular, since a large number of select and non-select switch transistors are connected to the WORD line of a general memory, the load capacity becomes very heavy, and the factors that determine the delay time of the operation speed of the memory are as follows. , One of the big ones.

【0038】負荷容量が重くなるほど、動作速度測定回
路はWORD線の遅延時間を測定するために有効なもの
となる。図6に示すように、システムクロック入力部6
1からの信号6Eを分周器62にに入力して長い周期の
パルスを生成する。次にその信号をWORD線ドライバ
65に入力しドライバ信号6Aを出力する。
As the load capacitance becomes heavier, the operation speed measuring circuit becomes more effective for measuring the delay time of the WORD line. As shown in FIG. 6, the system clock input unit 6
The signal 6E from 1 is input to the frequency divider 62 to generate a pulse having a long cycle. Next, the signal is input to the WORD line driver 65, and the driver signal 6A is output.

【0039】上記信号6Aが、WORD線68を通っ
て、WORD線ドライバの最も遠い点に到達し、この到
達信号6Bが、VREF とコンパレータ66で比較された
信号6Cが、システムクロック61とNAND回路67
で演算される。前記、NAND回路67から出力された
信号6Dをバイナリカウンタ63でカウントし動作速度
判別回路64に送られる。
The signal 6A reaches the farthest point of the WORD line driver through the WORD line 68, and the reaching signal 6B is compared with VREF by the comparator 66. 67
Is calculated by The signal 6D output from the NAND circuit 67 is counted by the binary counter 63 and sent to the operation speed determination circuit 64.

【0040】WORD線68は、上述のように負荷容量
が重いので、WORD線ドライバ65から最も遠いとこ
ろでは、立ち上がりの非常になまった波形となる(図7
参照)。この波形がほぼ完全に立ち上がるまでをWAO
RD線68の遅延時間と考える。例えば、フルスイング
する電圧の90%まで立ち上がる電圧により規定とする
と、これを測定するのに、WORD線の遠端での出力信
号6Bの電圧VX と、比較電圧VREF 、例えばフルスイ
ングする電圧VPPの90%の電圧、を電圧比較コンパレ
ータ66で比較し、VX <VREF である期間を示す信号
6Cをシステムクロック信号6Eにより変換し、クロッ
クパルス数をバイナリカウンタ63で数え上げて遅延時
間として測定している。
Since the WORD line 68 has a heavy load capacitance as described above, the waveform farthest from the WORD line driver 65 has a very rising waveform (FIG. 7).
reference). WAO until this waveform rises almost completely
It is considered as the delay time of the RD line 68. For example, assuming that the voltage rises to 90% of the full swing voltage, the voltage is measured by measuring the voltage VX of the output signal 6B at the far end of the WORD line and the comparison voltage VREF, for example, the full swing voltage VPP. The 90% voltage is compared by a voltage comparison comparator 66, a signal 6C indicating a period of VX <VREF is converted by a system clock signal 6E, and the number of clock pulses is counted by a binary counter 63 and measured as a delay time. .

【0041】以上の本発明の第2の実施の形態を用いる
方法は、容量性遅延と抵抗性遅延が主たる要因となる配
線遅延がクリティカルパスになるような場合の動作可能
速度の判別に有効である。
The method using the above-described second embodiment of the present invention is effective for determining an operable speed in a case where a wiring delay, which is mainly caused by a capacitive delay and a resistive delay, becomes a critical path. is there.

【0042】本発明の第3の実施の形態を図9により説
明する。第3の実施の形態は、図8の動作可能判別回路
を変更したものである。図9に示すように、91は時間
―電圧値変換回路であり、93は複数品目の選別を可能
にする論理回路であり、前記複数品目の選別を可能にす
る論理回路93から出力された判定結果の出力が92で
ある。
A third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the third embodiment, the operability determination circuit of FIG. 8 is modified. As shown in FIG. 9, reference numeral 91 denotes a time-voltage value conversion circuit, 93 denotes a logic circuit that enables selection of a plurality of items, and a judgment output from the logic circuit 93 that enables selection of the plurality of items. The resulting output is 92.

【0043】遅延時間情報(図2の信号2Cおよび図5
の信号5C)を、本発明の第1の実施の形態および第2
の実施の形態のように、システムクロックとバイナリカ
ウンタで数え上げることはせずに、容量95により遅延
時間情報を示すパルス幅を電圧値に変換し、電圧比較コ
ンパレータ94で比較するというものである。
Delay time information (signal 2C of FIG. 2 and FIG. 5
Of the first embodiment of the present invention and the second signal 5C) of the present invention.
As in the embodiment, the pulse width indicating the delay time information is converted into a voltage value by the capacitor 95 without being counted by the system clock and the binary counter, and compared by the voltage comparison comparator 94.

【0044】このとき、図9に示すように、電圧比較コ
ンパレータ94は必要に応じて個数を増やすことが可能
であり、さまざまな参照電圧(Vref 1〜Vref N)に
対応できる。
At this time, as shown in FIG. 9, the number of the voltage comparison comparators 94 can be increased as necessary, and can correspond to various reference voltages (Vref 1 to Vref N).

【0045】上記、時間―電圧値変換回路91でパルス
幅―電圧値の変換を行い、電圧比較コンパレータ94で
参照電圧と比較するという形態は、本発明の第1の実施
の形態や本発明の第2の実施の形態のクリティカルパス
の遅延判別に適応できるものである。
The above-described embodiment in which the time-voltage value conversion circuit 91 converts the pulse width-voltage value and compares it with the reference voltage by the voltage comparison comparator 94 is described in the first embodiment of the present invention and the present invention. This is applicable to the critical path delay determination of the second embodiment.

【0046】[0046]

【発明の効果】従来、システムボード上のEEPROM
等の不揮発性メモリに書き込んでいたチップの動作速度
情報をチップ内部に保持することができ、EEPROM
を使用しなくてすむ。このことから低コスト化、システ
ムボード全体の高密度化が可能になるという利点が挙げ
られる。
Conventionally, an EEPROM on a system board
The operation speed information of the chip which has been written in the non-volatile memory such as the EEPROM can be held in the chip.
You do not need to use. This has the advantage that the cost can be reduced and the density of the entire system board can be increased.

【0047】さらに、従来パッケージング後に行ってい
た動作速度選別のテストを、チップ内部のセルフテスト
回路で行うことにより、テスト項目削減ができ、これに
よってチップのコスト削減が可能となる。
Further, the test for selecting the operation speed, which has been conventionally performed after packaging, is performed by a self-test circuit in the chip, so that the number of test items can be reduced, thereby reducing the cost of the chip.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態に係る全体像を示す概略図。FIG. 1 is a schematic diagram showing an overall image according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施形態に係る動作速度測定回
路の構成を示すブロック図(a)、および特性を示すタ
イミング図(b)。
FIGS. 2A and 2B are a block diagram showing a configuration of an operation speed measuring circuit according to the first embodiment of the present invention, and a timing diagram showing characteristics, respectively;

【図3】本発明の第1の実施形態に係る動作速度測定回
路をメモリのアドレスデコーダに適用した形態を示す
図。
FIG. 3 is a diagram showing an embodiment in which the operating speed measuring circuit according to the first embodiment of the present invention is applied to an address decoder of a memory.

【図4】本発明の第1の実施形態に係るメモリのアドレ
スデコーダの特性を表すタイミング図。
FIG. 4 is a timing chart showing characteristics of an address decoder of the memory according to the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第2の実施形態に係る動作速度測定回
路の構成を示すブロック図(a)、および特性を示すタ
イミング図(b)。
FIGS. 5A and 5B are a block diagram showing a configuration of an operation speed measuring circuit according to a second embodiment of the present invention, and a timing chart showing characteristics.

【図6】本発明の第2の実施形態に係る動作速度測定回
路をメモリのWORD線(列選択線)の遅延の測定に適
応した形態を示す図。
FIG. 6 is a diagram showing a form in which an operation speed measurement circuit according to a second embodiment of the present invention is adapted to measurement of a delay of a WORD line (column selection line) of a memory.

【図7】本発明の第2の実施形態に係るメモリのWOR
D線(列選択線)の遅延の測定の特性を表すタイミング
図。
FIG. 7 shows a WOR of a memory according to a second embodiment of the present invention;
FIG. 9 is a timing chart showing characteristics of delay measurement of a D line (column selection line).

【図8】本発明の動作可能速度判定回路を示す図。FIG. 8 is a diagram showing an operable speed determination circuit of the present invention.

【図9】本発明の第3の実施形態に係る動作可能速度判
定回路を示す図。
FIG. 9 is a diagram showing an operable speed determination circuit according to a third embodiment of the present invention.

【図10】従来の技術における、システムボード上に動
作可能速度情報を保持した不揮発性記憶素子を実装して
いる例を表す概略図。
FIG. 10 is a schematic diagram showing an example in which a nonvolatile memory element holding operable speed information is mounted on a system board in a conventional technique.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…回路機能本体 2…本発明に係る半導体集積回路チップ 3…レジスタ 4…動作可能速度判別回路 5、31…動作速度測定回路 6…システムコントローラ 7…集積回路A 8…集積回路B 9…集積回路C 10…集積回路D 11…システムボード 21、54、62…クロック信号分周器 22…ロジックゲートのブロック 23、52、63…バイナリカウンタ 24、38、56、61…外部システムクロックの入力
部 25…動作可能速度判定回路への出力信号 26…AND回路 27…NAND回路 32…バイナリカウンタ 33…行又は列選択線<3> 34…行又は列選択線<2> 35…行又は列選択線<1> 36…行又は列選択線<0> 37…分周器 39…アドレスデコーダ 40…NAND回路 41…AND回路 51…動作可能速度判定回路への出力信号 53…CR分布定数を表す経路 55、66、94…電圧比較コンパレータ 56、67…NAND回路 64…動作速度判別回路 65…WORD線ドライバ 68…WORD線 91…時間―電圧値変換回路 92…判定結果出力 93…論理回路 95…容量 101…集積回路A 102…集積回路B 103…集積回路C 104…集積回路D 105…集積回路A,B,C,Dやシステムコントロー
ラの動作可能情報を保持している不揮発性記憶素子 106…システムコントローラ 107…システムボード 108…半導体集積回路 109…回路機能本体 110…動作速度測定回路 111…動作可能速度判別回路 112…レジスタ 2A…クリティカルパスγを通過しない信号 2B…クリティカルパスγを通過した信号 2C…2Aと2Bの論理積の信号 2D…NAND回路出力信号 2E…外部システムクロック信号 3A…分周器37の出力信号 3B…アドレスデコーダの出力信号 3C…外部システムクロック信号 3D…遅延時間のパルス信号 5A…分周器54の出力信号 5B…クリティカルパスγ通過信号 5C…遅延時間信号 5D…遅延時間のパルス信号 5E…外部システムクロック信号 6A…WORD線ドライバ信号 6B…WORD線出力信号 6C…比較信号 6D…遅延時間のパルス信号 6E…外部システムクロック信号 α…回路のクリティカルパスによる遅延 β…バイナリカウンタで数え上げる信号 γ…回路の動作速度を決定するクリティカルパス
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Circuit function main body 2 ... Semiconductor integrated circuit chip according to the present invention 3 ... Register 4 ... Operable speed discriminating circuit 5, 31 ... Operating speed measuring circuit 6 ... System controller 7 ... Integrated circuit A 8 ... Integrated circuit B 9 ... Integrated Circuit C 10 Integrated circuit D 11 System board 21, 54, 62 Clock signal divider 22 Logic gate block 23, 52, 63 Binary counter 24, 38, 56, 61 Input section for external system clock 25 ... Output signal to operable speed determination circuit 26 ... AND circuit 27 ... NAND circuit 32 ... Binary counter 33 ... Row or column selection line <3> 34 ... Row or column selection line <2> 35 ... Row or column selection line <1> 36: Row or column selection line <0> 37 ... Divider 39 ... Address decoder 40 ... NAND circuit 41 ... AND circuit 51 ... Operable Output signal to degree determination circuit 53: Path representing CR distribution constant 55, 66, 94 ... Voltage comparison comparator 56, 67 ... NAND circuit 64 ... Operating speed determination circuit 65 ... WORD line driver 68 ... WORD line 91 ... Time-voltage Value conversion circuit 92 ... determination result output 93 ... logic circuit 95 ... capacitance 101 ... integrated circuit A 102 ... integrated circuit B 103 ... integrated circuit C 104 ... integrated circuit D 105 ... integrated circuits A, B, C, D and system controller Non-volatile storage element holding operable information 106 ... System controller 107 ... System board 108 ... Semiconductor integrated circuit 109 ... Circuit function body 110 ... Operating speed measuring circuit 111 ... Operating speed discriminating circuit 112 ... Register 2A ... Critical path Signal 2B not passing through γ 2B ... Signal 2 passing through critical path γ C: logical product signal of 2A and 2B 2D: NAND circuit output signal 2E: external system clock signal 3A: output signal of frequency divider 37 3B: address decoder output signal 3C: external system clock signal 3D: delay time pulse Signal 5A: Output signal of frequency divider 54 5B: Critical path γ pass signal 5C: Delay time signal 5D: Pulse signal of delay time 5E: External system clock signal 6A: WORD line driver signal 6B: WORD line output signal 6C: Comparison Signal 6D: pulse signal of delay time 6E: external system clock signal α: delay due to critical path of circuit β: signal counted by binary counter γ: critical path to determine operation speed of circuit

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】半導体集積回路内の信号処理回路における
所定のクリティカルパスでの信号遅延を測定する回路で
あって、システムクロック信号を分周して前記クリティ
カルパスへの入力信号を生成するクロック信号分周器
と、比較信号と前記入力信号がクリティカルパスを通過
した後の信号とを入力とする第1の信号処理手段と、前
記第1の信号処理手段からの出力信号と前記システムク
ロック信号とを入力とする第2の信号処理手段と、前記
第2の信号処理手段の出力と接続された計測手段とを有
する遅延測定回路を具備することを特徴とする半導体集
積回路。
1. A circuit for measuring a signal delay in a predetermined critical path in a signal processing circuit in a semiconductor integrated circuit, wherein the clock signal generates a signal input to the critical path by dividing a system clock signal. A frequency divider; a first signal processing unit that receives a comparison signal and a signal after the input signal has passed through the critical path; an output signal from the first signal processing unit and the system clock signal; A semiconductor integrated circuit, comprising: a delay measuring circuit having a second signal processing unit that receives an input of the second signal processing unit and a measuring unit connected to an output of the second signal processing unit.
【請求項2】前記比較信号が前記クリティカルパスへの
前記入力信号であり、前記第1の信号処理手段がAND
回路であり、前記第2の信号処理手段がNAND回路で
あり、前記計測手段がバイナリカウンタであることを特
徴とする請求項1記載の半導体集積回路。
2. The method according to claim 1, wherein said comparison signal is said input signal to said critical path, and said first signal processing means is an AND signal.
2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein said second signal processing means is a NAND circuit, and said measuring means is a binary counter.
【請求項3】前記所定のクリティカルパスが複数のロジ
ックゲートを含むことを特徴とする請求項1記載の半導
体集積回路。
3. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein said predetermined critical path includes a plurality of logic gates.
【請求項4】前記所定のクリティカルパスが前記半導体
集積回路内に形成されたメモリのアドレスデコーダ回路
であり、前記第1の信号処理手段がNAND回路であ
り、前記第2の信号処理手段がAND回路であることを
特徴とする請求項1記載の半導体集積回路。
4. The semiconductor device according to claim 1, wherein the predetermined critical path is an address decoder circuit of a memory formed in the semiconductor integrated circuit, the first signal processing means is a NAND circuit, and the second signal processing means is an AND circuit. 2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the semiconductor integrated circuit is a circuit.
【請求項5】前記クリティカルパスがCR分布定数経路
を含み、前記第1の信号処理手段が前記クリティカルパ
スからの出力信号と比較電圧信号とを入力とする電圧比
較コンパレータであることを特徴とする請求項1記載の
半導体集積回路。
5. A method according to claim 1, wherein said critical path includes a CR distributed constant path, and said first signal processing means is a voltage comparison comparator which receives an output signal from said critical path and a comparison voltage signal. The semiconductor integrated circuit according to claim 1.
【請求項6】前記CR分布定数経路が前記半導体集積回
路内に形成されたメモリの列選択線又は行選択線である
ことを特徴とする請求項5記載の半導体集積回路。
6. The semiconductor integrated circuit according to claim 5, wherein said CR distributed constant path is a column selection line or a row selection line of a memory formed in said semiconductor integrated circuit.
【請求項7】動作速度を選別する情報を記録するメモリ
を有し、前記出力手段の出力信号に基づき動作速度判定
信号を出力する動作可能速度判別回路を具備することを
特徴とする請求項1ないし請求項6のいずれか1項記載
の半導体集積回路。
7. An operable speed discrimination circuit having a memory for recording information for selecting an operation speed and outputting an operation speed judgment signal based on an output signal of said output means. The semiconductor integrated circuit according to claim 6.
【請求項8】前記動作可能速度判別回路の出力に接続さ
れたレジスタを具備することを特徴とする請求項7記載
の半導体集積回路。
8. The semiconductor integrated circuit according to claim 7, further comprising a register connected to an output of said operable speed discriminating circuit.
【請求項9】前記レジスタの出力がその対象となる半導
体集積回路内および外部回路から電気的に参照可能とす
る出力端子を有することを特徴とする請求項8記載の半
導体集積回路。
9. The semiconductor integrated circuit according to claim 8, wherein said register has an output terminal which enables the output of said register to be electrically referred to within said semiconductor integrated circuit and from an external circuit.
【請求項10】半導体集積回路内の信号処理回路におけ
る所定のクリティカルパスでの信号遅延を測定する回路
であって、システムクロック信号を分周して前記クリテ
ィカルパスへの入力信号を生成するクロック信号分周器
と、前記入力信号と前記入力信号がクリティカルパスを
通過した後の信号とを入力としてクリティカルパスでの
信号遅延に係る信号を出力する信号処理手段と、前記信
号処理手段からの出力信号を電圧値に変換して出力する
時間―電圧値変換手段と、前記電圧値を少なくとも1の
所定の比較電圧と比較する少なくとも1の電圧比較コン
パレータを有する遅延測定回路を具備することを特徴と
する半導体集積回路。
10. A circuit for measuring a signal delay in a predetermined critical path in a signal processing circuit in a semiconductor integrated circuit, wherein the clock signal generates a signal input to the critical path by dividing a system clock signal. A frequency divider; a signal processing unit that receives the input signal and the signal after the input signal has passed through the critical path and outputs a signal related to a signal delay in the critical path; and an output signal from the signal processing unit. And a delay measurement circuit having at least one voltage comparison comparator for comparing the voltage value with at least one predetermined comparison voltage. Semiconductor integrated circuit.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009217830A (en) * 2002-12-31 2009-09-24 Transmeta Corp Microprocessor, integrated circuit module including microprocessor, electronic device, computer, method for operating and manufacturing microprocessor, and data structure for microprocessor

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JP2009217830A (en) * 2002-12-31 2009-09-24 Transmeta Corp Microprocessor, integrated circuit module including microprocessor, electronic device, computer, method for operating and manufacturing microprocessor, and data structure for microprocessor

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