JPH1120093A - Electronic device sealing film - Google Patents

Electronic device sealing film

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Publication number
JPH1120093A
JPH1120093A JP9196515A JP19651597A JPH1120093A JP H1120093 A JPH1120093 A JP H1120093A JP 9196515 A JP9196515 A JP 9196515A JP 19651597 A JP19651597 A JP 19651597A JP H1120093 A JPH1120093 A JP H1120093A
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JP
Japan
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weight
parts
copolymer
adhesive
film according
Prior art date
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Pending
Application number
JP9196515A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiro Morimura
泰大 森村
Hideo Sugiyama
秀夫 杉山
Hideshi Kotsubo
秀史 小坪
Makoto Sakurai
良 桜井
Takahiro Matsuse
貴裕 松瀬
Tetsuo Kitano
徹夫 喜多野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Bridgestone Corp
Original Assignee
Bridgestone Corp
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Publication date
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Publication of JPH1120093A publication Critical patent/JPH1120093A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To manufacture an electronic device sealing film of good workability demonstrated at the time of sealing an electronic device and also of high fire retardance to be used for sealing securely the electronic device in a good manner. SOLUTION: A heat-curing and/or a photo-setting bonding agent layer composed of a copolymer of ethylene, vinyl acetate and an acrylate and/or methacrylate monomer copolymer doped with a mixture of a halogenated compound with antimony oxide as a fire retardant is formed at least on one face of a base film of light transmission properties on an electronic device sealing film. A bonding agent is formed of a copolymer of 100 pts.wt. doped with organic peroxide of 0.1-1.0 pts.wt. Or the bonding agent is formed of a copolymer of 100 pts.wt. doped with a photosensitizer of 0.1-10 pts.wt.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、EL素子、液晶素
子、太陽電池素子(結晶、多結晶、アモルファス等)、
タッチパネル、各種電極(ITO、銅電極、錫電極、半
田電極等)、ICドライバ等の電子デバイスを封止、保
護するために用いられる電子デバイス用封止フィルムに
関する。
The present invention relates to an EL device, a liquid crystal device, a solar cell device (crystal, polycrystal, amorphous, etc.),
The present invention relates to a sealing film for electronic devices used for sealing and protecting electronic devices such as touch panels, various electrodes (ITO, copper electrodes, tin electrodes, solder electrodes, etc.), IC drivers, and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
上記電子デバイスを封止、保護する場合は、光透過性を
有する基材フィルムと接着剤とを別々に用意し、基材フ
ィルムに接着剤を塗布した後、これを電子デバイスと一
体化することが行われていた。
2. Description of the Related Art
When sealing and protecting the electronic device, separately prepare a substrate film having light transmissivity and an adhesive, apply the adhesive to the substrate film, and integrate this with the electronic device. Had been done.

【0003】しかし、この電子デバイスの封止方法は、
基材フィルムに対する接着剤の塗布工程を有し、作業性
が劣り、生産性の点で問題があった。
However, the sealing method of this electronic device is as follows.
It has a step of applying an adhesive to a base film, and thus has poor workability and has a problem in productivity.

【0004】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、電子デバイスに対する封止作業が簡単化され、かつ
電子デバイスに密着よくしかもピンホール等の封止上の
欠陥なく電子デバイスを封止、保護することができ、更
に難燃性に優れた電子デバイス用封止フィルムを提供す
ることを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and simplifies a sealing operation for an electronic device, and seals an electronic device with good adhesion to the electronic device and without sealing defects such as pinholes. An object of the present invention is to provide a sealing film for an electronic device that can be protected and has excellent flame retardancy.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明は、上記目的を達成するため、下記の電子デバイス
用封止フィルムを提供する。 (1)光透過性を有する基材フィルムの少なくとも一面
に、エチレン、酢酸ビニル並びにアクリレート系及び/
又はメタクリレート系モノマーの共重合体を主成分と
し、難燃剤としてハロゲン化合物とアンチモン系酸化物
との混合物を添加した熱及び/又は光硬化性接着剤層を
設けたことを特徴とする電子デバイス用封止フィルム。 (2)接着剤が、上記共重合体100重量部に対し、有
機過酸化物を0.1〜10重量部添加してなる(1)記
載のフィルム。 (3)接着剤が、上記共重合体100重量部に対し、光
増感剤を0.1〜10重量部添加してなる(1)記載の
フィルム。 (4)接着剤が、上記共重合体100重量部に対し、光
増感剤を0.1〜10重量部と有機過酸化物を0.1〜
10重量部添加してなる(1)記載のフィルム。 (5)接着剤が、上記共重合体100重量部に対し、シ
ランカップリング剤を0.01〜5重量部添加してなる
(1)乃至(4)のいずれか1項記載のフィルム。 (6)接着剤が、上記共重合体100重量部に対し、ア
クリロキシ基含有化合物、メタクリロキシ基含有化合物
及びアリル基含有化合物のうち少なくとも1つを0.1
〜50重量部添加してなることを特徴とする(1)乃至
(5)のいずれか1項記載のフィルム。 (7)接着剤が、上記共重合体100重量部に対し、炭
化水素樹脂を1〜200重量部添加してなることを特徴
とする(1)乃至(6)のいずれか1項記載のフィル
ム。 (8)上記共重合体の酢酸ビニル単位の含有率が2〜5
0重量%、アクリレート系及び/又はメタクリレート系
単位の含有率が0.01〜20重量%であることを特徴
とする(1)乃至(7)のいずれか1項記載のフィル
ム。 (9)接着剤層の表面に平均粗さが50μm以下の凹凸
が形成されていることを特徴とする(1)乃至(8)の
いずれか1項記載のフィルム。 (10)基材の光線透過率が50%以上、屈折率が1.
8以下であることを特徴とする(1)乃至(9)のいず
れか1項記載のフィルム。
Means for Solving the Problems and Embodiments of the Invention In order to achieve the above object, the present invention provides the following sealing films for electronic devices. (1) Ethylene, vinyl acetate, acrylate and / or
Alternatively, a heat and / or photocurable adhesive layer containing a copolymer of a methacrylate monomer as a main component and a mixture of a halogen compound and an antimony oxide as a flame retardant is provided. Sealing film. (2) The film according to (1), wherein the adhesive is prepared by adding 0.1 to 10 parts by weight of an organic peroxide to 100 parts by weight of the copolymer. (3) The film according to (1), wherein the adhesive comprises 0.1 to 10 parts by weight of a photosensitizer per 100 parts by weight of the copolymer. (4) The adhesive is 0.1 to 10 parts by weight of a photosensitizer and 0.1 to 10 parts by weight of an organic peroxide based on 100 parts by weight of the copolymer.
The film according to (1), wherein 10 parts by weight are added. (5) The film according to any one of (1) to (4), wherein the adhesive comprises 0.01 to 5 parts by weight of a silane coupling agent based on 100 parts by weight of the copolymer. (6) The adhesive is prepared by adding at least one of an acryloxy group-containing compound, a methacryloxy group-containing compound and an allyl group-containing compound to 0.1 part by weight based on 100 parts by weight of the copolymer.
The film according to any one of (1) to (5), wherein the film is added by 50 to 50 parts by weight. (7) The film according to any one of (1) to (6), wherein the adhesive is obtained by adding 1 to 200 parts by weight of a hydrocarbon resin to 100 parts by weight of the copolymer. . (8) The copolymer has a vinyl acetate unit content of 2 to 5
The film according to any one of (1) to (7), wherein the content of the acrylate-based and / or methacrylate-based units is 0.01 to 20% by weight. (9) The film according to any one of (1) to (8), wherein irregularities having an average roughness of 50 μm or less are formed on the surface of the adhesive layer. (10) The substrate has a light transmittance of 50% or more and a refractive index of 1.
The film according to any one of (1) to (9), wherein the film thickness is 8 or less.

【0006】本発明の電子デバイス用封止フィルムによ
れば、下記の利点を有する。 基材フィルムに硬化性接着剤層を設け一体化すること
ができるため、電子デバイスの封止の際、部材点数が減
り、生産性が向上する。 基材フィルムと一体化が可能なので、打ち抜き作業が
1回で済む。また、打ち抜きカット性が大幅に向上す
る。 液状封止剤と比較し、ピンホール等の封止上の欠陥が
全くない。また、フィルム状でハンドリングも極めて容
易である。 熱ロールラミネーター、真空ラミネーター、真空袋、
熱プレス、加熱オーブン、オートークレーブ等、連続式
あるいはバッチ式の広範囲の封止方法が目的に応じて選
択できる。
The electronic device sealing film of the present invention has the following advantages. Since the curable adhesive layer can be provided and integrated on the base film, the number of members is reduced and the productivity is improved when the electronic device is sealed. Since it can be integrated with the base film, only one punching operation is required. In addition, punching cutability is greatly improved. There are no sealing defects such as pinholes as compared with the liquid sealant. In addition, handling is extremely easy in the form of a film. Heat roll laminator, vacuum laminator, vacuum bag,
A wide range of continuous or batch-type sealing methods such as a hot press, a heating oven, and an autoclave can be selected according to the purpose.

【0007】この場合、本発明で用いる接着剤は、フィ
ルム状とすることができるので、基材フィルムと容易か
つ高精度で貼り合わせることができ、また本発明で用い
る接着剤は自着性(表面タック)を有するので、電子デ
バイスとの貼り合わせも容易であり、室温〜80℃程度
の比較的低温で貼り合わせが可能である。更に、上記の
ようにこの接着剤は自着性を有するので、貼り合わせ後
にズレや剥離がなく、硬化までに自由にハンドリングが
できる。また、上記接着剤はその硬化後の弾性率が低
く、可撓性に富むため、電子デバイスの保護作用に優れ
たものである。
In this case, since the adhesive used in the present invention can be in the form of a film, it can be easily and accurately bonded to a base film. Since it has a surface tack, it can be easily bonded to an electronic device, and can be bonded at a relatively low temperature of about room temperature to 80 ° C. Further, as described above, since this adhesive has self-adhesiveness, there is no deviation or peeling after bonding, and it can be handled freely before curing. Further, the adhesive has a low elastic modulus after curing and is rich in flexibility, so that the adhesive has an excellent protective effect on electronic devices.

【0008】更に、難燃剤としてハロゲン化合物とアン
チモン系酸化物との混合物を添加しているため、非常に
難燃性が高いものである。
Further, since a mixture of a halogen compound and an antimony oxide is added as a flame retardant, the flame retardant is extremely high.

【0009】以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明の電子デバイス用封止フィルムは、光透過性を有
する基材フィルムの一面に、エチレン、酢酸ビニル並び
にアクリレート系及び/又はメタクリレート系モノマー
の共重合体を主成分とする熱及び/又は光によって硬化
する硬化性接着剤層を形成したものである。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
The sealing film for an electronic device of the present invention has a heat and / or light mainly composed of a copolymer of ethylene, vinyl acetate, and an acrylate and / or methacrylate monomer on one surface of a base film having light transmittance. To form a curable adhesive layer which is cured by the heat treatment.

【0010】ここで、基材フィルムとしては、光線透過
率が50%以上、特に70%以上のものが好ましい。光
線透過率が低いと、デバイスとしての効率が低下し、特
に光を取り入れるデバイス、例えば発電、光によるセン
サー、電気伝導度の変化を利用するデバイスなどの効率
が低下するおそれがある。更に、光の利用効率の点から
屈折率が1.8以下、特に1.3〜1.65であること
が好ましい。
Here, the substrate film preferably has a light transmittance of 50% or more, particularly 70% or more. When the light transmittance is low, the efficiency of the device is reduced, and in particular, the efficiency of a device that takes in light, for example, a power generation device, a sensor using light, a device using a change in electrical conductivity, and the like may be reduced. Further, the refractive index is preferably 1.8 or less, particularly preferably 1.3 to 1.65 from the viewpoint of light use efficiency.

【0011】また、基材フィルムは、ヤング率が0.1
kg/cm2以上、特に0.5kg/cm2以上であるも
のが好ましく、ヤング率が小さすぎると少しの力で伸び
縮みが起こり、変形が生じて、封止性が低下するおそれ
がある。
The base film has a Young's modulus of 0.1.
kg / cm 2 or more, preferably not more particularly 0.5 kg / cm 2 or more, occur expansion and contraction with little force when the Young's modulus is too small, deformation occurs, sealing property may be deteriorated.

【0012】基材フィルムの厚さは適宜選定されるが、
通常1〜1000μmの範囲である。この場合、基材フ
ィルムの光線透過率が50%以上、特に70%以上とな
るように厚みを選定することが好ましい。
The thickness of the base film is appropriately selected.
Usually, it is in the range of 1 to 1000 μm. In this case, the thickness is preferably selected so that the light transmittance of the base film is 50% or more, particularly 70% or more.

【0013】具体的には、基材フィルムとして、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタ
レート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系
樹脂、ナイロン46、変性ナイロン6T、ナイロンMX
D6、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフ
ェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等の
ケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォ
ン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリ
ル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリイミ
ド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチル
メタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレ
ン、ポリビニルクロライド等のほか、ポリテトラフルオ
ロエチレン、テトラフルオロエチレン−フルオロアルキ
ルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン−
ヘキサフルオロプロピレン共重合体、テトラフルオロエ
チレン−ヘキサフルオロプロピレン−パーフルオロアル
キルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン
−エチレン共重合体、ポリクロロトリフルオロエチレ
ン、クロロトリフルオロエチレン−エチレン共重合体、
ポリビニリデンフルオライド、ポリビニルフルオライド
等のフッ素含有樹脂などの有機樹脂を主成分とする有機
フィルムを用いることができる。また、場合によって
は、耐候性を向上させる目的で、これらの樹脂中に紫外
線吸収剤を練り込んだり、あるいは樹脂フィルム表面に
コーティングを施して使用してもよい。特にこの中で、
ポリイミド、ポリエーテルサルフォン、ポリアリレー
ト、ポリエチレンテレフタレートが、耐熱性や屈曲性の
点で好適に用いられる。
More specifically, as the base film, polyester resins such as polyethylene terephthalate, polycyclohexylene terephthalate and polyethylene naphthalate, nylon 46, modified nylon 6T, nylon MX
D6, polyamide resins such as polyphthalamide, ketone resins such as polyphenylene sulfide, polythioethersulfone, sulfone resins such as polysulfone and polyethersulfone, as well as polyether nitrile, polyarylate, polyetherimide, Polyimide, polyamide imide, polycarbonate, polymethyl methacrylate, triacetyl cellulose, polystyrene, polyvinyl chloride, etc., as well as polytetrafluoroethylene, tetrafluoroethylene-fluoroalkyl vinyl ether copolymer, tetrafluoroethylene
Hexafluoropropylene copolymer, tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene-perfluoroalkylvinyl ether copolymer, tetrafluoroethylene-ethylene copolymer, polychlorotrifluoroethylene, chlorotrifluoroethylene-ethylene copolymer,
An organic film mainly containing an organic resin such as a fluorine-containing resin such as polyvinylidene fluoride and polyvinyl fluoride can be used. In some cases, for the purpose of improving the weather resistance, an ultraviolet absorber may be kneaded into these resins, or a resin film surface may be coated before use. Especially in this,
Polyimide, polyether sulfone, polyarylate, and polyethylene terephthalate are preferably used in terms of heat resistance and flexibility.

【0014】一方、本発明に用いられる接着剤層の主成
分であるエチレン、酢酸ビニル並びにアクリレート系及
び/又はメタクリレート系モノマーの共重合体は、硬化
時の反応性、硬化後の可撓性や耐久性の点から酢酸ビニ
ル含有率が2〜50重量%であることが好ましく、更に
好ましくは5〜20重量%である。
On the other hand, copolymers of ethylene, vinyl acetate, and acrylate and / or methacrylate monomers, which are the main components of the adhesive layer used in the present invention, have reactivity during curing, flexibility after curing, and the like. From the viewpoint of durability, the vinyl acetate content is preferably 2 to 50% by weight, and more preferably 5 to 20% by weight.

【0015】また、アクリレート系モノマー、メタクリ
レート系モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル
酸、これらのエステル等が挙げられ、具体的には、(メ
タ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル等の
(メタ)アクリル酸低級アルキルエステルのほか、(メ
タ)アクリル酸グリシジルなどが例示される。これらは
その1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用しても
よいが、アクリレート系、メタクリレート系単位の上記
共重合体中での含有率は0.01〜20重量%、特に
0.05〜15重量%であることが好ましい。この含有
率が20重量%を超えると加工性が低下する場合があ
る。
Examples of the acrylate-based monomer and methacrylate-based monomer include acrylic acid, methacrylic acid, esters thereof, and the like. Specifically, (meth) methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, etc. In addition to lower alkyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate and the like are exemplified. One of these may be used alone, or two or more of them may be used in combination. The content of the acrylate-based or methacrylate-based unit in the copolymer is 0.01 to 20% by weight, particularly Preferably it is 0.05 to 15% by weight. If the content exceeds 20% by weight, workability may be reduced.

【0016】本発明の接着剤の硬化のためには、有機過
酸化物又は光増感剤を用いることができるが、硬化性接
着剤が熱硬化性接着剤である場合には、通常、有機過酸
化物が用いられ、硬化性接着剤が光硬化性接着剤である
場合には、通常、光増感剤が用いられる。
For curing the adhesive of the present invention, an organic peroxide or a photosensitizer can be used. However, when the curable adhesive is a thermosetting adhesive, usually an organic peroxide or a photosensitizer is used. When a peroxide is used and the curable adhesive is a photocurable adhesive, a photosensitizer is usually used.

【0017】本発明の接着剤層の硬化のために添加され
る有機過酸化物としては、70℃以上の温度で分解して
ラジカルを発生するものであればいずれも使用可能であ
るが、半減期10時間の分解温度が50℃以上のものが
好ましく、接着剤の調製条件、製膜温度、硬化(貼り合
わせ)条件、接着剤の貯蔵安定性等を考慮して選択され
る。
As the organic peroxide added for curing the adhesive layer of the present invention, any organic peroxide which decomposes at a temperature of 70 ° C. or more to generate radicals can be used. It is preferable that the decomposition temperature during the 10-hour period is 50 ° C. or higher, and is selected in consideration of the adhesive preparation conditions, film forming temperature, curing (bonding) conditions, storage stability of the adhesive, and the like.

【0018】使用可能な過酸化物としては、例えば2,
5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロキシパーオ
キサイド;2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチル
パーオキシ)ヘキシン−3;ジ−t−ブチルパーオキサ
イド;t−ブチルクミルパーオキサイド;2,5−ジメ
チル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン;
ジクミルパーオキサイド;α,α’−ビス(t−ブチル
パーオキシイソプロピル)ベンゼン;n−ブチル−4,
4−ビス−(t−ブチルパーオキシ)バレレート;2,
2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタン;1,1−ビ
ス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン;1,1−
ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチ
ルシクロヘキサン;t−ブチルパーオキシベンゾエー
ト;ベンゾイルパーオキサイド;t−ブチルパーオキシ
アセテート;1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−
3,3,5−トリメチルシクロヘキサン;1,1−ビス
(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン;メチルエチ
ルケトンパーオキサイド;t−ブチルハイドロパーオキ
サイド;p−メンタンハイドロパーオキサイド;ヒドロ
キシヘプチルパーオキサイド;クロルヘキサノンパーオ
キサイド;オクタノイルパーオキサイド;デカノイルパ
ーオキサイド;ラウロイルパーオキサイド;クミルパー
オキシオクトエート;サクシニックアシッドパーオキサ
イド;アセチルパーオキサイド;t−ブチルパーオキシ
(2−エチルヘキサノエート);m−トルオイルパーオ
キサイド;ベンゾイルパーオキサイド;t−ブチルパー
オキシイソブチレート;2,4−ジクロロベンゾイルパ
ーオキサイドなどが挙げられる。
Examples of usable peroxides include, for example, 2,
5-dimethylhexane-2,5-dihydroxy peroxide; 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexyne-3; di-t-butyl peroxide; t-butylcumyl peroxide 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane;
Dicumyl peroxide; α, α'-bis (t-butylperoxyisopropyl) benzene; n-butyl-4,
4-bis- (t-butylperoxy) valerate; 2,
2-bis (t-butylperoxy) butane; 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane; 1,1-
Bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane; t-butylperoxybenzoate; benzoyl peroxide; t-butylperoxyacetate; 1,1-bis (t-butylperoxy)-
3,3,5-trimethylcyclohexane; 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane; methyl ethyl ketone peroxide; t-butyl hydroperoxide; p-menthane hydroperoxide; hydroxyheptyl peroxide; chlorohexanone peroxide Octanoyl peroxide; decanoyl peroxide; lauroyl peroxide; cumyl peroxy octoate; succinic acid peroxide; acetyl peroxide; t-butyl peroxy (2-ethylhexanoate); Oxide; benzoyl peroxide; t-butyl peroxyisobutyrate; 2,4-dichlorobenzoyl peroxide and the like.

【0019】有機過酸化物としては、これらのうちの1
種を単独で又は2種以上を混合して用いることができ、
その添加量は、前記共重合体100重量部に対し0.1
〜10重量部で十分である。
As the organic peroxide, one of these is used.
Species can be used alone or as a mixture of two or more,
The amount of addition was 0.1 parts with respect to 100 parts by weight of the copolymer.
10 to 10 parts by weight is sufficient.

【0020】一方、上記接着剤を光硬化させる場合は、
光増感剤を添加することができる。光増感剤としてはラ
ジカル光重合開始剤が好適に用いられる。
On the other hand, when the adhesive is photocured,
A photosensitizer can be added. As the photosensitizer, a radical photopolymerization initiator is suitably used.

【0021】ラジカル光重合開始剤のうち水素引き抜き
型開始剤としては、ベンゾフェノン、オルソベンゾイル
安息香酸メチル、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェ
ニルサルファイド、イソプロピルチオキサントン、ジエ
チルチオキサントン、エチル−4−(ジエチルアミノ)
−ベンゾエート等が用いられる。ラジカル光重合開始剤
のうち分子内開裂型開始剤としては、ベンゾインエーテ
ル、ベンジルジメチルケタールなど、α−ヒドロキシア
ルキルフェノン型として、2−ヒドロキシ−2−メチル
−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン、アルキルフェニルグリオ
キシレート、ジエトキシアセトフェノンなどが使用でき
る。更に、α−アミノアルキルフェノン型として、2−
メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モ
リフォリノプロパン−1、2−ベンジル−2−ジメチル
アミノ−1−(4−モリフォリノフェニル)−ブタノン
−1などが、またアシルフォスフィンオキサイドなどが
用いられる。
Among the radical photopolymerization initiators, examples of the hydrogen abstraction initiator include benzophenone, methyl orthobenzoylbenzoate, 4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulfide, isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, and ethyl-4- (diethylamino).
-Benzoate and the like are used. Among radical photopolymerization initiators, examples of intramolecular cleavage initiators include benzoin ether and benzyldimethyl ketal, and α-hydroxyalkylphenones include 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, -Hydroxycyclohexyl phenyl ketone, alkyl phenyl glyoxylate, diethoxy acetophenone and the like can be used. Furthermore, as an α-aminoalkylphenone type,
Methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1 and the like; Phosphine oxide or the like is used.

【0022】光増感剤としては、これらのうち少なくと
も1種を単独で又は2種以上を混合して、前記共重合体
100重量部に対し0.1〜10重量部添加して用いら
れる。
As the photosensitizer, at least one of them is used alone or in combination of two or more, and is used by adding 0.1 to 10 parts by weight to 100 parts by weight of the copolymer.

【0023】なお、本発明の接着剤では、上記光増感剤
と有機過酸化物とを併用してもよく、これによって光硬
化と共に熱硬化を併用することができる。
In the adhesive of the present invention, the photosensitizer and the organic peroxide may be used in combination, whereby the photocuring and the thermosetting can be used together.

【0024】また、本発明の接着剤には、接着促進剤と
してシランカップリング剤を添加することができる。こ
のシランカップリング剤としてはビニルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニ
ルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルト
リメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエト
キシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)
エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキ
シシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシランなどがあり、これらの1種を
単独で又は2種以上を混合して用いることができる。こ
れらシランカップリング剤の添加量は、上記共重合体1
00重量部に対し通常0.01〜5重量部で十分であ
る。
Further, a silane coupling agent can be added to the adhesive of the present invention as an adhesion promoter. Examples of the silane coupling agent include vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane,
γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl)
Ethyltrimethoxysilane, γ-chloropropylmethoxysilane, vinyltrichlorosilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, etc. These may be used alone or in combination of two or more. The amount of these silane coupling agents to be added depends on the amount of the copolymer 1
Usually, 0.01 to 5 parts by weight per 100 parts by weight is sufficient.

【0025】更に、本発明の接着剤には、同様に接着性
及び硬化を促進する目的でエポキシ基含有化合物を添加
することができる。エポキシ基含有化合物としては、ト
リグリシジルトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシア
ヌレート;ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテ
ル;1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル;
アクリルグリシジルエーテル;2−エチルヘキシルグリ
シジルエーテル;フェニルグリシジルエーテル;フェノ
ールグリシジルエーテル;p−t−ブチルフェニルグリ
シジルエーテル;アジピン酸ジグリシジルエステル;o
−フタル酸ジグリシジルエステル;グリシジルメタクリ
レート;ブチルグリシジルエーテル等が挙げられる。ま
た、エポキシ基を含有した分子量が数百から数千のオリ
ゴマーや重量平均分子量が数千から数十万のポリマーを
添加することによっても同様の効果が得られる。これら
エポキシ基含有化合物の添加量は上記共重合体100重
量部に対し0.1〜20重量部で十分で、上記エポキシ
基含有化合物の少なくとも1種を単独で又は混合して添
加することができる。
Further, an epoxy group-containing compound can be similarly added to the adhesive of the present invention for the purpose of promoting adhesion and curing. Examples of the epoxy group-containing compound include triglycidyl tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate; neopentyl glycol diglycidyl ether; 1,6-hexanediol diglycidyl ether;
Acrylic glycidyl ether; 2-ethylhexyl glycidyl ether; phenyl glycidyl ether; phenol glycidyl ether; pt-butylphenyl glycidyl ether; diglycidyl adipic ester;
-Phthalic acid diglycidyl ester; glycidyl methacrylate; butyl glycidyl ether and the like. The same effect can be obtained by adding an oligomer having an epoxy group and having a molecular weight of hundreds to thousands or a polymer having a weight average molecular weight of thousands to hundreds of thousands. The addition amount of these epoxy group-containing compounds is sufficient to be 0.1 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the copolymer, and at least one of the epoxy group-containing compounds can be added alone or in combination. .

【0026】また、本発明の接着剤層の諸物性(接着
性、機械的強度、耐熱性、耐湿熱性、耐候性など)を更
に向上させる或いは接着剤の硬化を促進する目的で、ア
クリロキシ基、メタクリロキシ基又はアリル基含有化合
物を添加することができる。
Further, for the purpose of further improving various physical properties (adhesion, mechanical strength, heat resistance, wet heat resistance, weather resistance, etc.) of the adhesive layer of the present invention or promoting the curing of the adhesive, an acryloxy group, A methacryloxy or allyl group-containing compound can be added.

【0027】この目的に供せられる化合物としては、ア
クリル酸或いはメタアクリル酸誘導体、例えばそのエス
テルやアミドが最も一般的である。この場合、エステル
残基としては、メチル、エチル、ドデシル、ステアリ
ル、ラウリルのようなアルキル基の他に、シクロヘキシ
ル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチル基、2
−ヒドロエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、3−ク
ロロ−2−ヒドロキシプロピル基などが挙げられる。ま
た、アクリル酸又はメタクリル酸とエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコー
ル、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリ
スリトール等の多官能アルコールとのエステルも同様に
用いられる。アミドとしては、アクリルアミドが代表的
である。また、アリル基含有化合物としては、トリアリ
ルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタル
酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリ
ル等が挙げられ、これらの1種又は2種以上の混合物
が、上記共重合体100重量部に対し0.1〜50重量
部、好ましくは0.5〜20重量部用いられる。0.1
重量部未満であると耐熱性、機械的強度向上という改良
効果を低下させることがあり、50重量部を超えると接
着剤の調製時の作業性や製膜性を低下させることがあ
る。
As the compound used for this purpose, acrylic acid or methacrylic acid derivatives, for example, esters and amides thereof are most common. In this case, as an ester residue, in addition to an alkyl group such as methyl, ethyl, dodecyl, stearyl, lauryl, a cyclohexyl group, a tetrahydrofurfuryl group, an aminoethyl group,
-Hydroethyl group, 3-hydroxypropyl group, 3-chloro-2-hydroxypropyl group and the like. Esters of acrylic acid or methacrylic acid with polyfunctional alcohols such as ethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, glycerin, trimethylolpropane, and pentaerythritol are also used. A typical amide is acrylamide. Further, examples of the allyl group-containing compound include triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, diallyl phthalate, diallyl isophthalate, diallyl maleate, and the like. One or a mixture of two or more of these may be used as the above copolymer. 0.1 to 50 parts by weight, preferably 0.5 to 20 parts by weight, is used per 100 parts by weight of the combined. 0.1
When the amount is less than part by weight, the effect of improving heat resistance and mechanical strength may be reduced, and when the amount is more than 50 parts by weight, workability and film forming property during preparation of the adhesive may be reduced.

【0028】なおまた、本発明の接着剤には、加工性や
貼り合わせ等の加工性向上の目的で炭化水素樹脂を添加
することができる。この場合、添加される炭化水素樹脂
は天然樹脂系、合成樹脂系のいずれでも差支えない。天
然樹脂系ではロジン、ロジン誘導体、テルペン系樹脂が
好適に用いられる。ロジンではガム系樹脂、トール油系
樹脂、ウッド系樹脂を用いることができる。ロジン誘導
体としてはロジンをそれぞれ水素化、不均一化、重合、
エステル化、金属塩化したものを用いることができる。
テルペン系樹脂ではα−ピネン、β−ピネンなどのテル
ペン系樹脂のほか、テルペンフェノール樹脂を用いるこ
とができる。また、その他の天然樹脂としてダンマル、
コーバル、シェラックを用いても差支えない。一方、合
成樹脂系では石油系樹脂、フェノール系樹脂、キシレン
系樹脂が好適に用いられる。石油系樹脂では脂肪族系石
油樹脂、芳香族系石油樹脂、脂環族系石油樹脂、共重合
系石油樹脂、水素化石油樹脂、純モノマー系石油樹脂、
クマロンインデン樹脂を用いることができる。フェノー
ル系樹脂ではアルキルフェノール樹脂、変性フェノール
樹脂を用いることができる。キシレン系樹脂ではキシレ
ン樹脂、変性キシレン樹脂を用いることができる。
Further, a hydrocarbon resin can be added to the adhesive of the present invention for the purpose of improving processability such as processability and bonding. In this case, the hydrocarbon resin to be added may be either a natural resin or a synthetic resin. Rosin, rosin derivatives, and terpene resins are preferably used in the natural resin system. For rosin, gum-based resins, tall oil-based resins, and wood-based resins can be used. As rosin derivatives, rosin is hydrogenated, heterogenized, polymerized,
Esterified or metal salted ones can be used.
As the terpene-based resin, terpene-based resins such as α-pinene and β-pinene, as well as terpene phenol resins can be used. Also, Dammar as other natural resin,
Coral and shellac can be used. On the other hand, in the case of synthetic resins, petroleum resins, phenol resins, and xylene resins are preferably used. Petroleum resins include aliphatic petroleum resins, aromatic petroleum resins, alicyclic petroleum resins, copolymerized petroleum resins, hydrogenated petroleum resins, pure monomer petroleum resins,
Coumarone indene resin can be used. As the phenolic resin, an alkylphenol resin and a modified phenol resin can be used. As the xylene-based resin, a xylene resin or a modified xylene resin can be used.

【0029】上記炭化水素樹脂の添加量は適宜選択され
るが、上記共重合体100重量部に対して1〜200重
量部が好ましく、より好ましくは5〜150重量部であ
る。
The amount of the hydrocarbon resin to be added is appropriately selected, but is preferably from 1 to 200 parts by weight, more preferably from 5 to 150 parts by weight, per 100 parts by weight of the copolymer.

【0030】本発明で用いる接着剤には、難燃剤とし
て、ハロゲン化合物とアンチモン系酸化物との混合物を
添加することが必須である。この場合、ハロゲン化合物
としては、塩素化パラフィン、パークロロペンタシクロ
デカン、塩素化ポリエチレン、無水クロレンド酸、クロ
レンド酸、テトラブロモビスフェノールA、デカブロモ
ジフェニルエーテル、ジブロモクレジルグリシジルエー
テル、ヘキサブロモベンゼン、ヘキサブロモシクロドデ
カン、オクタブロモジフェニルオキサイド、テトラブロ
モジフェニルオキサイド、ポリジブロモフェニレンオキ
サイド、1,2−ビス(2,4,6−トリブロモフェノ
キシ)エタン、2,4,6−トリブロモフェノール、エ
チレンビステトラブロモフタルイミド、テトラブロモビ
スフェノールAエポキシオリゴマー、テトラブロモビス
フェノールAポリカーボネートオリゴマー等が挙げられ
る。一方、アンチモン系酸化物としては、三酸化アンチ
モン、五酸化アンチモン等が挙げられる。
It is essential to add a mixture of a halogen compound and an antimony oxide as a flame retardant to the adhesive used in the present invention. In this case, as the halogen compound, chlorinated paraffin, perchloropentacyclodecane, chlorinated polyethylene, chlorendic anhydride, chlorendic acid, tetrabromobisphenol A, decabromodiphenyl ether, dibromocresyl glycidyl ether, hexabromobenzene, hexabromobenzene Cyclododecane, octabromodiphenyl oxide, tetrabromodiphenyl oxide, polydibromophenylene oxide, 1,2-bis (2,4,6-tribromophenoxy) ethane, 2,4,6-tribromophenol, ethylenebistetrabromo Examples include phthalimide, tetrabromobisphenol A epoxy oligomer, and tetrabromobisphenol A polycarbonate oligomer. On the other hand, examples of the antimony-based oxide include antimony trioxide and antimony pentoxide.

【0031】上記ハロゲン化合物の添加量は、前記共重
合体100重量部に対して1〜100重量部、より好ま
しくは5〜80重量部、更に好ましくは10〜50重量
部とすることが好ましく、アンチモン系酸化物は0.1
〜20重量部、より好ましくは1〜20重量部、更に好
ましくは2〜15重量部とすることが好ましい。難燃剤
の添加量が少なすぎると、難燃性が不十分となり、多す
ぎると、製膜性、硬化反応性が阻害され易くなる。
The amount of the halogen compound to be added is preferably 1 to 100 parts by weight, more preferably 5 to 80 parts by weight, further preferably 10 to 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the copolymer. 0.1% of antimony oxide
It is preferably from 20 to 20 parts by weight, more preferably from 1 to 20 parts by weight, even more preferably from 2 to 15 parts by weight. If the added amount of the flame retardant is too small, the flame retardancy becomes insufficient, and if it is too large, the film forming property and the curing reactivity are liable to be inhibited.

【0032】更に、本発明においてはその目的を損わな
い範囲内で、前記以外の接着促進剤、老化防止剤(重合
禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤など)、その他無機
又は有機の充填剤等を添加してもよい。
Furthermore, in the present invention, other than the above, adhesion promoters, antioxidants (polymerization inhibitors, antioxidants, ultraviolet absorbers, etc.), and other inorganic or organic fillers, as long as the object is not impaired. An agent may be added.

【0033】本発明の接着剤は、前記共重合体と上述の
添加剤とを均一に混合し、押出機、ロール等で混練した
後、カレンダー、ロール、Tダイ押出、インフレーショ
ン等の製膜法により所定の形状に製膜して用いることが
できる。なお、製膜に際してはブロッキング防止、基材
フィルムとの圧着時の脱気を容易にするため、エンボス
加工を施してもよい。エンボス加工の方法としては公知
の手法が採用でき、例えばエンボスロールでの型付け、
離型性を有するエンボスフィルムでの転写法が好適に採
用される。また、前記共重合体と上述の添加剤とを基材
フィルムに何ら影響を及ぼさない溶媒に均一に溶解さ
せ、溶液タイプの接着剤として用いることもでき、フィ
ルムの表面に均一に塗布し、仮圧着した後、加熱して接
着硬化させることができる。
The adhesive of the present invention is prepared by uniformly mixing the above-mentioned copolymer and the above-mentioned additives, kneading them with an extruder, a roll or the like, and then using a calender, roll, T-die extrusion, inflation or other film forming method. Can be used after being formed into a predetermined shape. In forming the film, an embossing process may be performed to prevent blocking and facilitate degassing during pressure bonding with the base film. As a method of embossing, a known method can be adopted, for example, molding with an embossing roll,
A transfer method using an embossed film having releasability is suitably adopted. Further, the copolymer and the above-mentioned additives can be uniformly dissolved in a solvent that does not affect the base film at all, and used as a solution-type adhesive. After pressure bonding, the adhesive can be cured by heating.

【0034】この場合、上記エンボス加工等により接着
剤層の表面(電子デバイスと貼り合わせるべき表面)に
平均粗さ(Ra)が50μm以下、より好ましくは0.
01〜50μm、更に好ましくは0.1〜20μmの凹
凸を形成することが好ましく、これによりデバイスとの
接着面において空気が抜け易く、デバイス表面の複雑な
凹凸を埋めることが可能である。
In this case, the surface of the adhesive layer (the surface to be bonded to the electronic device) has an average roughness (Ra) of 50 μm or less, more preferably 0.1 μm or less, by the embossing or the like.
It is preferable to form unevenness of from 01 to 50 μm, more preferably from 0.1 to 20 μm, whereby air can easily escape from the surface to be bonded to the device, and it is possible to fill complicated unevenness on the device surface.

【0035】また、接着剤層の厚さは1〜1000μ
m、特に5〜500μmとすることが好ましい。1μm
より薄いと封止性が劣り、デバイスの凹凸を埋めきれな
い場合が生じる。一方、1000μmより厚いとデバイ
ス全体の厚みが増し、デバイスの収納、アッセンブリー
等に問題が生じるおそれがあり、更に光線透過に影響を
与えるおそれもある。
The thickness of the adhesive layer is 1 to 1000 μm.
m, particularly preferably 5 to 500 μm. 1 μm
If the thickness is thinner, the sealing property is inferior, and there may be cases where the unevenness of the device cannot be filled. On the other hand, if the thickness is more than 1000 μm, the thickness of the entire device increases, which may cause problems in device storage, assembly, and the like, and may further affect light transmission.

【0036】本発明の接着剤の硬化条件としては、有機
過酸化物を使用して熱硬化する場合は、用いる有機過酸
化物の種類に依存するが、70〜170℃、特に70〜
150℃で2〜60分、特に5〜30分とすることが好
ましい。この場合、硬化は好ましくは0.01〜50k
gf/cm2、特に0.1〜20kgf/cm2の加圧下
で行うことが推奨される。
The curing condition of the adhesive of the present invention depends on the kind of the organic peroxide to be used in the case of heat curing using an organic peroxide.
It is preferable that the heating time is 150 ° C. for 2 to 60 minutes, particularly 5 to 30 minutes. In this case, the curing is preferably 0.01 to 50 k
It is recommended to carry out under a pressure of gf / cm 2 , especially 0.1 to 20 kgf / cm 2 .

【0037】また、光増感剤を用いる光硬化の場合は、
光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用
でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルラン
プ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハ
ロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光
等が挙げられる。照射時間は、ランプの種類、光源の強
さによって一概には決められないが、数十秒〜数十分程
度である。
In the case of photocuring using a photosensitizer,
Many light sources that emit light in the ultraviolet to visible range can be adopted as the light source, for example, ultra-high pressure, high pressure, low pressure mercury lamp, chemical lamp, xenon lamp, halogen lamp, mercury halogen lamp, carbon arc lamp, incandescent lamp, laser light, etc. Can be The irradiation time cannot be determined unconditionally depending on the type of lamp and the intensity of the light source, but is about several tens of seconds to several tens of minutes.

【0038】また、硬化促進のために、予め積層体を4
0〜120℃に加温し、これに紫外線を照射してもよ
い。
Further, in order to accelerate the curing, the laminate is preliminarily 4
It may be heated to 0 to 120 ° C. and irradiated with ultraviolet rays.

【0039】本発明における電子デバイス用封止フィル
ムの製造方法を以下に例示するが、必ずしもこれらの方
法に限定されるものではなく、本発明の目的を達成し得
る方法であればいずれの方法を用いてもよい。
The method for producing a sealing film for an electronic device according to the present invention is illustrated below, but is not necessarily limited to these methods. Any method can be used as long as the object of the present invention can be achieved. May be used.

【0040】まず、本発明における接着剤の調製方法
は、前記共重合体に上述した所用の成分を所用量添加
し、また目的を損わない範囲で、前記以外の接着促進
剤、老化防止剤(重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収
剤など)、その他無機又は有機の充填剤等を秤量し、こ
れらの各構成成分を良溶媒に均一に混合溶解、分散させ
る。次に、この溶液を基材フィルム上に、フローコート
法、ロールコート法、グラビアロール法、マイヤバー
法、リップダイコート法等によりドライ厚みが1〜10
0μmの範囲で膜厚精度が±3μmとなるように塗工す
る。この塗工した接着剤層に、シリコーンやフッ素系の
離型剤を処理した離型性フィルムを積層して巻き取って
もよく、また回路等との積層一体化時の脱気のために接
着剤層の表面にエンボス加工を施しながら巻き取っても
よい。
First, in the method for preparing an adhesive according to the present invention, the above-mentioned required components are added to the above-mentioned copolymer in a required amount, and other adhesion promoters and anti-aging agents other than those mentioned above are added as long as the purpose is not impaired. (Polymerization inhibitor, antioxidant, ultraviolet absorber, etc.), other inorganic or organic fillers, etc. are weighed, and these components are uniformly mixed and dissolved and dispersed in a good solvent. Next, this solution is applied on a substrate film by a flow coating method, a roll coating method, a gravure roll method, a Myer bar method, a lip die coating method or the like to have a dry thickness of 1 to 10
Coating is performed so that the film thickness accuracy is ± 3 μm in the range of 0 μm. A release film treated with a silicone or fluorine-based release agent may be laminated on this coated adhesive layer and wound up, or adhered for degassing during lamination and integration with circuits, etc. The surface of the agent layer may be wound while being embossed.

【0041】この封止フィルムと電子デバイスとの貼り
合わせ法としては、上記接着剤の塗工直後、即ち加熱炉
を封止フィルムが出た直後に電子デバイスを圧着ロール
等で連続的にラミネートしてもよいし、ラミネート後、
更に赤外線ヒーター、誘導加熱、熱ロール等を用いて加
熱を行い、インラインで接着剤層の硬化を行ってもよ
い。また、電子デバイスをインラインで貼り合わせず、
基材フィルムと接着剤との積層体(封止フィルム)を一
旦巻き取り、オフラインで加熱プレス、真空袋、真空ラ
ミネーター等を用いて電子デバイスとの貼り合わせを行
ってもよい。本発明の接着剤は、目的に応じて基材フィ
ルムの片面或いは両面に塗工してもよく、酸等や水蒸気
のバリヤー性などを考慮して同種又は異種の基材フィル
ムと多層に貼り合わせてもよい。
As a method of bonding the sealing film and the electronic device, the electronic device is continuously laminated with a pressure roll or the like immediately after the application of the adhesive, that is, immediately after the sealing film comes out of the heating furnace. Or after lamination,
Further, the adhesive layer may be cured in-line by heating using an infrared heater, induction heating, a heat roll or the like. Also, instead of bonding electronic devices inline,
The laminate (sealing film) of the base material film and the adhesive may be once wound up, and bonded to the electronic device off-line using a hot press, a vacuum bag, a vacuum laminator, or the like. The adhesive of the present invention may be applied to one side or both sides of the base film according to the purpose, and is bonded to the same or different base film in multiple layers in consideration of the barrier property of acid or steam. You may.

【0042】本発明の封止フィルムに用いられる接着剤
は、前記共重合体を主成分としているので、加熱時の溶
融粘度が5000cps以上であり、予め所定の厚みに
精度良く基材フィルム上に形成させることができるた
め、信頼性の高い封止フィルムを提供することが可能で
ある。
Since the adhesive used for the sealing film of the present invention contains the above-mentioned copolymer as a main component, the melt viscosity at the time of heating is 5,000 cps or more. Since it can be formed, a highly reliable sealing film can be provided.

【0043】本発明の封止フィルムは、EL素子、液晶
素子、太陽電池素子(結晶、多結晶、アモルファス
等)、タッチパネル、各種電極(ITO、銅電極、錫電
極、半田電極等)、ICドライバ等の封止、保護に好適
に用いられるが、適用される電子デバイス用はこれに限
られるものではない。
The sealing film of the present invention includes EL elements, liquid crystal elements, solar cell elements (crystal, polycrystal, amorphous, etc.), touch panels, various electrodes (ITO, copper electrodes, tin electrodes, solder electrodes, etc.), IC drivers And the like, but are not limited to electronic devices to which the present invention is applied.

【0044】[0044]

【発明の効果】本発明の電子デバイス用封止フィルム
は、電子デバイス封止時の作業性が良好である上、電子
デバイスを確実にしかも良好に封止することができ、更
に難燃性が高いものである。
Industrial Applicability The sealing film for an electronic device of the present invention has good workability at the time of sealing the electronic device, can reliably and satisfactorily seal the electronic device, and has further improved flame retardancy. It is expensive.

【0045】[0045]

【実施例】以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具
体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限される
ものではない。
EXAMPLES The present invention will be described below in detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples.

【0046】〔実施例、比較例〕表1に示す配合No.
A〜Fの各成分を秤量し、これを40℃のトルエン中で
それぞれ均一に混合溶解し、溶質濃度20%のトルエン
溶液を調製した。この溶液を、50μmの厚みのテトラ
フルオロエチレン−エチレン共重合体フィルム上にリバ
ースロールコーターを用いて塗布し、ドライ厚みで20
±1μmの膜厚精度の接着剤層を有する積層体を作製し
た。
[Examples and Comparative Examples]
The components A to F were weighed and uniformly mixed and dissolved in toluene at 40 ° C. to prepare a toluene solution having a solute concentration of 20%. This solution was applied on a tetrafluoroethylene-ethylene copolymer film having a thickness of 50 μm using a reverse roll coater, and a dry thickness of 20 μm was applied.
A laminate having an adhesive layer having a thickness accuracy of ± 1 μm was produced.

【0047】この積層体と、3mm厚ガラス上に2μm
厚のアモルファスシリコンをスパッタリングして形成さ
せた模擬デバイスとを、配合A〜Cについては150℃
に設定した熱ロールラミネーターを用い、配合D〜Fに
ついては100℃に設定した熱ロールラミネーターで脱
気圧着し、冷却前に4kW照射装置により波長365n
mの紫外線を1分間照射し、硬化一体化して、電子デバ
イス用封止フィルムを得た。これに対し、比較例とし
て、エピコート828(油化シェルエポキシ社製)10
0重量部に対し、グリシジルメタクリレート10重量
部、ジシアンジアミド0.5重量部を添加し、均一に混
合した接着剤層を前記模擬デバイス上に膜厚20μmに
なるように塗布し、150℃のオーブン中で15分間加
熱し、一体化した。これらフィルムの各信頼性試験を実
施した。その結果を表2に示す。
This laminate and 2 μm on 3 mm thick glass
A simulated device formed by sputtering thick amorphous silicon, and blending A to C at 150 ° C.
Using a hot roll laminator set for the above, the blends D to F were depressurized by a hot roll laminator set to 100 ° C., and before cooling, a wavelength of 365 n was applied by a 4 kW irradiation device.
m for 1 minute to cure and integrate to obtain an electronic device sealing film. On the other hand, as a comparative example, Epicoat 828 (manufactured by Yuka Shell Epoxy) 10
10 parts by weight of glycidyl methacrylate and 0.5 parts by weight of dicyandiamide were added to 0 parts by weight, and a uniformly mixed adhesive layer was applied on the simulated device so as to have a film thickness of 20 μm. For 15 minutes to integrate. Each film was tested for reliability. Table 2 shows the results.

【0048】信頼性試験の評価項目としては、耐熱耐久
性(100℃×1000時間)、湿熱耐久性(60℃、
90%RH×1000時間)、冷熱サイクル耐久試験
(−30℃×6時間→70℃×6時間の50サイクル)
の3種類について実施した。判定基準としては、試験終
了後、接着剥離や反り、ズレ、ピンホール等の外観変化
の有無を目視により観察し、何らかの異常が認められた
場合は×、異常が全くない場合は○と判定した。
The evaluation items of the reliability test include heat resistance (100 ° C. × 1000 hours) and wet heat resistance (60 ° C.
90% RH x 1000 hours), thermal cycle endurance test (-50 cycles of -30 ° C x 6 hours → 70 ° C x 6 hours)
Was carried out for three types. As a criterion, after the end of the test, the presence or absence of appearance change such as adhesive peeling and warpage, deviation, pinhole, etc. was visually observed.If any abnormality was recognized, it was judged as x, and if there was no abnormality, it was judged as ○. .

【0049】[0049]

【表1】 [Table 1]

【0050】[0050]

【表2】 [Table 2]

【0051】上記実施例の接着剤層は、いずれもUL9
4−V0において合格した。
The adhesive layers of the above embodiments were all UL9
Passed at 4-V0.

フロントページの続き (72)発明者 松瀬 貴裕 東京都小平市小川東町3−1−1 (72)発明者 喜多野 徹夫 東京都小平市小川東町3−1−1Continued on the front page (72) Inventor Takahiro Matsuse 3-1-1 Ogawa Higashicho, Kodaira City, Tokyo (72) Inventor Tetsuo Kitano 3-1-1 Ogawa Higashicho, Kodaira City, Tokyo

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光透過性を有する基材フィルムの少なく
とも一面に、エチレン、酢酸ビニル並びにアクリレート
系及び/又はメタクリレート系モノマーの共重合体を主
成分とし、難燃剤としてハロゲン化合物とアンチモン系
酸化物との混合物を添加した熱及び/又は光硬化性接着
剤層を設けたことを特徴とする電子デバイス用封止フィ
ルム。
At least one surface of a light-transmitting substrate film is mainly composed of a copolymer of ethylene, vinyl acetate and an acrylate and / or methacrylate monomer, and a halogen compound and an antimony oxide as flame retardants. And a heat and / or light curable adhesive layer to which a mixture of the above is added.
【請求項2】 接着剤が、上記共重合体100重量部に
対し、有機過酸化物を0.1〜10重量部添加してなる
請求項1記載のフィルム。
2. The film according to claim 1, wherein the adhesive comprises 0.1 to 10 parts by weight of an organic peroxide based on 100 parts by weight of the copolymer.
【請求項3】 接着剤が、上記共重合体100重量部に
対し、光増感剤を0.1〜10重量部添加してなる請求
項1記載のフィルム。
3. The film according to claim 1, wherein the adhesive comprises 0.1 to 10 parts by weight of a photosensitizer per 100 parts by weight of the copolymer.
【請求項4】 接着剤が、上記共重合体100重量部に
対し、光増感剤を0.1〜10重量部と有機過酸化物を
0.1〜10重量部添加してなる請求項1記載のフィル
ム。
4. An adhesive comprising 0.1 to 10 parts by weight of a photosensitizer and 0.1 to 10 parts by weight of an organic peroxide, based on 100 parts by weight of the copolymer. The film according to 1.
【請求項5】 接着剤が、上記共重合体100重量部に
対し、シランカップリング剤を0.01〜5重量部添加
してなる請求項1乃至4のいずれか1項記載のフィル
ム。
5. The film according to claim 1, wherein the adhesive comprises 0.01 to 5 parts by weight of a silane coupling agent based on 100 parts by weight of the copolymer.
【請求項6】 接着剤が、上記共重合体100重量部に
対し、アクリロキシ基含有化合物、メタクリロキシ基含
有化合物及びアリル基含有化合物のうち少なくとも1つ
を0.1〜50重量部添加してなることを特徴とする請
求項1乃至5のいずれか1項記載のフィルム。
6. An adhesive obtained by adding at least one of an acryloxy group-containing compound, a methacryloxy group-containing compound and an allyl group-containing compound in an amount of 0.1 to 50 parts by weight to 100 parts by weight of the copolymer. The film according to any one of claims 1 to 5, wherein:
【請求項7】 接着剤が、上記共重合体100重量部に
対し、炭化水素樹脂を1〜200重量部添加してなるこ
とを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項記載のフ
ィルム。
7. The film according to claim 1, wherein the adhesive is obtained by adding 1 to 200 parts by weight of a hydrocarbon resin to 100 parts by weight of the copolymer. .
【請求項8】 上記共重合体の酢酸ビニル単位の含有率
が2〜50重量%、アクリレート系及び/又はメタクリ
レート系単位の含有率が0.01〜20重量%であるこ
とを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項記載のフ
ィルム。
8. The copolymer according to claim 1, wherein the content of vinyl acetate units is 2 to 50% by weight, and the content of acrylate and / or methacrylate units is 0.01 to 20% by weight. Item 8. The film according to any one of items 1 to 7.
【請求項9】 接着剤層の表面に平均粗さが50μm以
下の凹凸が形成されていることを特徴とする請求項1乃
至8のいずれか1項記載のフィルム。
9. The film according to claim 1, wherein irregularities having an average roughness of 50 μm or less are formed on the surface of the adhesive layer.
【請求項10】 基材の光線透過率が50%以上、屈折
率が1.8以下であることを特徴とする請求項1乃至9
のいずれか1項記載のフィルム。
10. The substrate according to claim 1, wherein the substrate has a light transmittance of 50% or more and a refractive index of 1.8 or less.
The film according to any one of the preceding claims.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009275091A (en) * 2008-05-14 2009-11-26 Bridgestone Corp Adhesive composition for optical functional member-integrated display device, and optical functional member-integrated display device and its manufacturing method
JP2016068378A (en) * 2014-09-30 2016-05-09 大日本印刷株式会社 Method for producing resin laminate, and resin laminate
JP2019010889A (en) * 2018-10-24 2019-01-24 大日本印刷株式会社 Resin laminate

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