JPH11184079A - Photosensitive composition - Google Patents

Photosensitive composition

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JPH11184079A
JPH11184079A JP23996898A JP23996898A JPH11184079A JP H11184079 A JPH11184079 A JP H11184079A JP 23996898 A JP23996898 A JP 23996898A JP 23996898 A JP23996898 A JP 23996898A JP H11184079 A JPH11184079 A JP H11184079A
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JP
Japan
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acid
diisocyanate
resin
diazo resin
printing
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Pending
Application number
JP23996898A
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Japanese (ja)
Inventor
Koichiro Aono
小一郎 青野
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To highly maintain the balance of developability to an aq. alkali developer and printing resistance by incorporating two specified diazo resins and the reaction product of isocyanates including a specified diisocyanate with alcohols including a specified diol. SOLUTION: The photosensitive compsn. contains a diazo resin in which counter anions are inorg. acid anions or <=3C aliphatic org. acid anions, a diazo resin in which counter anions are >=6C aliphatic or arom. org. acid anions and a polyurethane resin which is the reaction product of isocyanates including 40-90 mol.%, based on the total isocyanate components, diisocyanate represented by formula I with alcohols including 30-90 mol.%, based on the total alcohol components, diol represented by formula II. In the formula I, R1 -R4 may be the same or different and are each H, 1-4C alkyl, 1-6C alkoxy or halogen. In the formula II, R5 is H or 1-8C alkyl.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷版、IC回
路やフォトマスクの製造に適する感光性組成物に関する
ものである。更に詳しくは、ネガ型に作用する感光性化
合物と、耐摩耗性の優れた高分子化合物からなる感光性
組成物に関するものである。
The present invention relates to a photosensitive composition suitable for producing a lithographic printing plate, an IC circuit and a photomask. More specifically, the present invention relates to a photosensitive composition comprising a negative-working photosensitive compound and a polymer compound having excellent abrasion resistance.

【0002】[0002]

【従来の技術】ネガ型に作用する感光性組成物において
感光性物質として使用されているものの大多数はジアゾ
ニウム化合物であり、その最も常用されているものにp
−ジアゾジフェニルアミンのホルムアルデヒド縮合物に
代表されるジアゾ樹脂がある。ジアゾ樹脂を用いた感光
性平版印刷版の感光性層の組成物は、例えば米国特許第
2,714,066号明細書に記載されているようにジアゾ
樹脂単独のもの、つまり結合剤を使用しないものと、例
えば特開昭50−30604号公報に記載されているよ
うに結合剤とジアゾ樹脂が混合されているものに分類す
ることができるが、近年ジアゾニウム化合物を用いた感
光性平版印刷版の多くのものは高耐刷性を持たせるため
にジアゾニウム化合物と結合剤となるポリマーとからな
っている。
2. Description of the Related Art The majority of compounds used as a photosensitive substance in a photosensitive composition acting negatively are diazonium compounds.
-There is a diazo resin represented by a formaldehyde condensate of diazodiphenylamine. The composition of the photosensitive layer of a photosensitive lithographic printing plate using a diazo resin is described, for example, in US Pat.
No. 2,714,066, a diazo resin alone, that is, one without a binder, and a binder and a diazo resin as described in, for example, JP-A-50-30604. Although it can be classified into those in which the resin is mixed, in recent years many of the photosensitive lithographic printing plates using diazonium compounds are made from a diazonium compound and a polymer serving as a binder in order to impart high printing durability. Has become.

【0003】このような感光層としては特開昭50−3
0604号公報に記載されているように、未露光部が水
性アルカリ現像液によって除去(現像)される所謂アル
カリ現像型が知られているが、前記特開昭50−306
04号公報に記載されているようにカルボン酸含有のモ
ノマーを共重合させたポリマーは構造上、耐摩耗性が悪
く、このような結合剤とジアゾ樹脂を感光層に含む感光
性平版印刷版からは耐刷力の低い平版印刷版しか得られ
なかった。また、耐摩耗性が優れた公知のポリマーとし
てポリウレタン樹脂があり、更に、水性アルカリ現像性
を付与する目的で、特開昭62−123452号、同6
2−123453号、同63−287946号、特開平
1−134354号、同1−255854号、同1−2
71741号、同1−293336号、及び同2−24
656号等の公報において、カルボキシル基を導入した
ポリウレタン樹脂とジアゾ樹脂との組合わせ系が開示さ
れている。
[0003] Such a photosensitive layer is disclosed in
As described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 0604/1985, a so-called alkali developing type in which unexposed portions are removed (developed) with an aqueous alkali developing solution is known.
The polymer obtained by copolymerizing a carboxylic acid-containing monomer as described in JP-A-04-2004 has a poor abrasion resistance due to its structure, and is obtained from a photosensitive lithographic printing plate containing such a binder and a diazo resin in a photosensitive layer. Gave only a lithographic printing plate with low printing durability. Further, as a known polymer having excellent abrasion resistance, there is a polyurethane resin. Further, for the purpose of imparting aqueous alkali developability, JP-A Nos. 62-123452 and 62
2-123453, 63-287946, JP-A-1-134354, 1-255854, 1-2
Nos. 71741, 1-293336, and 2-24
In publications such as 656, a combination system of a polyurethane resin having a carboxyl group introduced therein and a diazo resin is disclosed.

【0004】しかし、高温・高湿の環境に感光性平版印
刷版を経時させると現像性と、通常の平版印刷よりも苛
酷な印刷である平版直刷り(ダイリソ印刷)の耐刷が充
分ではなく、よりいっそうの改善が望まれていた。
However, when a photosensitive lithographic printing plate is aged in a high-temperature, high-humidity environment, the developability and the printing durability of lithographic direct printing (daily lithographic printing), which is more severe printing than normal lithographic printing, are not sufficient. Further improvement was desired.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は上記欠
点を克服し、水性アルカリ現像液に対する現像性と耐刷
性のバランスが高度に保たれた感光性組成物を提供する
ことである。更に詳しくは、高温・高湿の環境に保存し
た場合でも現像性とダイリソ印刷の耐刷性が優れた感光
性平版印刷版を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a photosensitive composition which overcomes the above-mentioned drawbacks and has a high balance between developability with an aqueous alkaline developer and printing durability. More specifically, an object of the present invention is to provide a photosensitive lithographic printing plate excellent in developability and printing durability of dilitho printing even when stored in a high-temperature, high-humidity environment.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者等は上記目的を
達成すべく鋭意検討した結果、対アニオンの異なる2種
類のジアゾ樹脂とポリウレタン樹脂の構成成分及びその
含量と、組合わせにより、これらの目的が達成されるこ
とを見い出し、本発明に到達した。即ち本発明は、アル
カリ可溶性のポリウレタン樹脂に組合わせるジアゾ樹脂
として、極性の異なる2種以上のジアゾ樹脂を併用する
ことにより、露光時、感光層全体が不均一な部分を生じ
ることなく光硬化し、かつ、高温・高湿下でも安定性が
向上するという効果を奏するものである。さらに詳細に
は、対アニオンが無機酸アニオン又は炭素数3以下の脂
肪族の有機酸アニオンであるジアゾ樹脂a、対アニオン
が炭素数6以上の脂肪族又は芳香族の有機酸アニオンで
あるジアゾ樹脂b及び、全イソシアネート成分中、一般
式(I)で示されるジイソシアネートが40〜90モル
%含まれるイソシアネートと、全アルコール成分中、一
般式(II)で示されるジオールが30〜90モル%含ま
れるアルコールとの反応生成物であるポリウレタン樹脂
を含有することを特徴とする感光性組成物を提供するも
のである。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies in order to achieve the above object, and as a result, by combining the components of two types of diazo resins and polyurethane resins having different counter anions and their contents, in combination with these components, It has been found that the object of the present invention is achieved, and the present invention has been achieved. That is, the present invention, as a diazo resin to be combined with an alkali-soluble polyurethane resin, by using two or more diazo resins having different polarities in combination, during exposure, the entire photosensitive layer can be photocured without causing uneven portions. In addition, there is an effect that the stability is improved even under high temperature and high humidity. More specifically, a diazo resin a whose counter anion is an inorganic acid anion or an aliphatic organic acid anion having 3 or less carbon atoms, and a diazo resin whose counter anion is an aliphatic or aromatic organic acid anion having 6 or more carbon atoms b and isocyanate in which the diisocyanate represented by the general formula (I) is contained in an amount of 40 to 90 mol% in all isocyanate components, and 30 to 90 mol% in the total alcohol component is a diol represented by the general formula (II). An object of the present invention is to provide a photosensitive composition comprising a polyurethane resin which is a reaction product with an alcohol.

【0007】[0007]

【化2】 Embedded image

【0008】式中、R1 、R2 、R3 及びR4 はそれぞ
れ同一でも異っていてもよく、水素原子、炭素数1〜4
個のアルキル基、炭素数1〜6個のアルコキシ基又はハ
ロゲン原子を示す。好ましくは、水素原子、メチル基、
エチル基又は塩素原子であり、更に好ましくは水素原子
又はメチル基である。R5 は水素原子又は炭素数1〜8
個のアルキル基を示す。好ましくは水素原子、メチル
基、エチル基又はプロピル基であり、更に好ましくは水
素原子又はメチル基である。以下、本発明の感光性組成
物に用いられる成分と、本発明の感光性組成物の製造法
及び使用法について、詳細に説明する。 (1) ジアゾ樹脂 本発明に使用されるジアゾ樹脂は、芳香族ジアゾニウム
塩と活性カルボニル基含有化合物、例えばホルムアルデ
ヒドとの縮合物で代表されるジアゾ樹脂、又はカルボキ
シル基、スルホン酸基、スルフィン酸基、リンの酸素酸
基、ヒドロキシル基の少なくとも1つを有する芳香族化
合物と芳香族ジアゾニウム化合物とを構成単位として含
む共縮合ジアゾ樹脂、又は芳香族アミン、フェノール、
フェノールエーテル、芳香族チオエーテル、芳香族炭化
水素、芳香族複素環化合物、有機酸アミドを有する芳香
族化合物と芳香族ジアゾニウム化合物とを構成単位とし
て含む共縮合ジアゾ樹脂である。上記ジアゾ樹脂aの対
アニオンを形成する無機酸又は炭素数3以下の脂肪族の
有機酸としては、ヘキサフルオロ燐酸、テトラフルオロ
硼酸、リン酸、リンタングステン酸、チオシアン酸、メ
タンスルホン酸、エタンスルホン酸、プロパンスルホン
酸、トリフルオロメタンスルホン酸もしくはこれらの混
合物が挙げられる。これらの中で特に好ましいものは、
ヘキサフルオロ燐酸、テトラフルオロ硼酸である。
In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a carbon atom having 1 to 4 carbon atoms.
, An alkyl group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or a halogen atom. Preferably, a hydrogen atom, a methyl group,
An ethyl group or a chlorine atom, more preferably a hydrogen atom or a methyl group. R 5 is a hydrogen atom or a carbon number of 1 to 8
Alkyl groups. It is preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group or a propyl group, and more preferably a hydrogen atom or a methyl group. Hereinafter, components used in the photosensitive composition of the present invention, and methods for producing and using the photosensitive composition of the present invention will be described in detail. (1) Diazo resin The diazo resin used in the present invention is a diazo resin represented by a condensate of an aromatic diazonium salt and an active carbonyl group-containing compound, for example, formaldehyde, or a carboxyl group, a sulfonic acid group, a sulfinic acid group. An oxygen acid group of phosphorus, a co-condensed diazo resin containing an aromatic compound having at least one hydroxyl group and an aromatic diazonium compound as constituent units, or an aromatic amine, phenol,
A co-condensed diazo resin containing, as constituent units, an aromatic compound having a phenol ether, an aromatic thioether, an aromatic hydrocarbon, an aromatic heterocyclic compound, an organic acid amide, and an aromatic diazonium compound. Examples of the inorganic acid or an aliphatic organic acid having 3 or less carbon atoms that form a counter anion of the diazo resin a include hexafluorophosphoric acid, tetrafluoroboric acid, phosphoric acid, phosphotungstic acid, thiocyanic acid, methanesulfonic acid, and ethanesulfonic acid. Acids, propanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid or mixtures thereof. Particularly preferred of these are:
Hexafluorophosphoric acid and tetrafluoroboric acid.

【0009】一方、ジアゾ樹脂bの対アニオンを形成す
る炭素数6以上の脂肪族又は芳香族の有機酸としては、
2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−ス
ルホン酸、5−スルホサリチル酸、パラトルエンスルホ
ン酸、ラウリルスルホン酸、ジオクチルスルホコハク
酸、ジシクロヘキシルスルホコハク酸、カンファースル
ホン酸、トリルオキシ−3−プロパンスルホン酸、ノニ
ルフェノキシ−3−プロパンスルホン酸、ノニルフェノ
キシ−4−ブタンスルホン酸、ジブチルフェノキシ−3
−プロパンスルホン酸、ジアミルフェノキシ−3−プロ
パンスルホン酸、ジノニルフェノキシ−3−プロパンス
ルホン酸、ジブチルフェノキシ−4−ブタンスルホン
酸、ジノニルフェノキシ−4−ブタンスルホン酸、ベン
ゼンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、p−クロロベ
ンゼンスルホン酸、2,5−ジクロロベンゼンスルホン
酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸、p−アセチ
ルベンゼンスルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスル
ホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベ
ンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2
−クロロ−5−ニトロベンゼンスルホン酸、ブチルベン
ゼンスルホン酸、オクチルベンゼンスルホン酸、デシル
ベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ブ
トキシベンゼンスルホン酸、ドデシルオキシベンゼンス
ルホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾ
イルベンゼンスルホン酸、イソプロピルナフタレンスル
ホン酸、ブチルナフタレンスルホン酸、ヘキシルナフタ
レンスルホン酸、オクチルナフタレンスルホン酸、ブト
キシナフタレンスルホン酸、ドデシルオキシナフタレン
スルホン酸、ジブチルナフタレンスルホン酸、ジオクチ
ルナフタレンスルホン酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、トリブチルナフタレンスルホン酸、1−ナ
フトール−5−スルホン酸、ナフタレン−1−スルホン
酸、ナフタレン−2−スルホン酸、1,8−ジニトロナ
フタレン−3,6−ジスルホン酸、4,4′−ジアジド
−スチルベン−3,3′−ジスルホン酸、1,2−ナフ
トキノン−2−ジアジド−4−スルホン酸、1,2−ナ
フトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸、1,2−
ナフトキノン−1−ジアジド−4−スルホン酸もしくは
これらの混合物が挙げられる。これらの中で特に好まし
いものは、ドデシルベンゼンスルホン酸、ジブチルナフ
タレンスルホン酸、オクチルナフタレンスルホン酸であ
る。
On the other hand, aliphatic or aromatic organic acids having 6 or more carbon atoms forming a counter anion of the diazo resin b include:
2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, paratoluenesulfonic acid, laurylsulfonic acid, dioctylsulfosuccinic acid, dicyclohexylsulfosuccinic acid, camphorsulfonic acid, tolyloxy-3-propanesulfonic acid, nonylphenoxy -3-propanesulfonic acid, nonylphenoxy-4-butanesulfonic acid, dibutylphenoxy-3
-Propanesulfonic acid, diamylphenoxy-3-propanesulfonic acid, dinonylphenoxy-3-propanesulfonic acid, dibutylphenoxy-4-butanesulfonic acid, dinonylphenoxy-4-butanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, mesitylenesulfone Acid, p-chlorobenzenesulfonic acid, 2,5-dichlorobenzenesulfonic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, p-acetylbenzenesulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3 -Chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2
-Chloro-5-nitrobenzenesulfonic acid, butylbenzenesulfonic acid, octylbenzenesulfonic acid, decylbenzenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, butoxybenzenesulfonic acid, dodecyloxybenzenesulfonic acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5- Benzoylbenzenesulfonic acid, isopropylnaphthalenesulfonic acid, butylnaphthalenesulfonic acid, hexylnaphthalenesulfonic acid, octylnaphthalenesulfonic acid, butoxynaphthalenesulfonic acid, dodecyloxynaphthalenesulfonic acid, dibutylnaphthalenesulfonic acid, dioctylnaphthalenesulfonic acid, triisopropylnaphthalenesulfonic Acid, tributylnaphthalenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfonic acid, naphthalene-1-sulfonic acid, naphthalene- -Sulfonic acid, 1,8-dinitronaphthalene-3,6-disulfonic acid, 4,4'-diazido-stilbene-3,3'-disulfonic acid, 1,2-naphthoquinone-2-diazido-4-sulfonic acid, 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid, 1,2-
Naphthoquinone-1-diazide-4-sulfonic acid or a mixture thereof. Among them, particularly preferred are dodecylbenzenesulfonic acid, dibutylnaphthalenesulfonic acid, and octylnaphthalenesulfonic acid.

【0010】本発明において、対アニオンが無機酸アニ
オン又は炭素数3以下の脂肪族の有機酸アニオンである
ジアゾ樹脂aと、対アニオンが炭素数6以上の脂肪族又
は芳香族の有機酸アニオンであるジアゾ樹脂bとの重量
比は、好ましくは0.1:0.9〜0.9:0.1の範囲であ
り、より好ましくは0.2:0.8〜0.8:0.2の範囲であ
る。ジアゾ樹脂aの比率が0.1より小さい場合(ジアゾ
樹脂bの比率が0.9より大きい場合)は、支持体との密
着性が劣り耐刷力が低下する。一方、ジアゾ樹脂aの比
率が0.9より大きい場合(ジアゾ樹脂bの比率が0.1よ
り小さい場合)は、感光層の耐摩耗性が劣り耐刷力が低
下する。 (2) ポリウレタン樹脂 本発明に好適に使用されるポリウレタン樹脂は、下記一
般式(I)で表されるジイソシアネート化合物と、一般
式(II)のジオール化合物との反応生成物で表される構
造を基本骨格とするポリウレタン樹脂である。
In the present invention, a diazo resin a whose counter anion is an inorganic acid anion or an aliphatic organic acid anion having 3 or less carbon atoms, and an aliphatic or aromatic organic acid anion whose counter anion has 6 or more carbon atoms. The weight ratio with a certain diazo resin b is preferably in the range of 0.1: 0.9 to 0.9: 0.1, more preferably 0.2: 0.8 to 0.8: 0.2. Range. When the ratio of the diazo resin a is smaller than 0.1 (when the ratio of the diazo resin b is larger than 0.9), the adhesion to the support is poor and the printing durability is reduced. On the other hand, when the ratio of the diazo resin a is larger than 0.9 (when the ratio of the diazo resin b is smaller than 0.1), the wear resistance of the photosensitive layer is inferior and the printing durability is reduced. (2) Polyurethane resin The polyurethane resin suitably used in the present invention has a structure represented by a reaction product of a diisocyanate compound represented by the following general formula (I) and a diol compound represented by the general formula (II). It is a polyurethane resin having a basic skeleton.

【0011】[0011]

【化3】 Embedded image

【0012】(式中、R1 〜R5 は前記と同義であ
る。)一般式(I)で示されるジイソシアネート化合物
の代表的なものとして、4,4′−ジフェニルメタンジ
イソシアネート、4,4′−(2,2−ジフェニルプロ
パン)ジイソシアネートが挙げられる。更に必要に応
じ、一般式(I)で示されるジイソシアネート化合物に
加え、以下に示すジイソシアネート化合物が、本発明の
好ましい組成範囲内で併用される。即ち、2,4−トリ
レンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネ
ートの二量体、2,6−トリレンジイソシアネート、p
−キシリレンジイソシアネート、m−キシリレンジイソ
シアネート、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネ
ート、1、5−ナフチレンジイソシアネート、3,3′
−ジメチルビフェニル−4,4′−ジイソシアネート等
の如き芳香族ジイソシアネート化合物;ヘキサメチレン
ジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシ
アネート、リジンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソ
シアネート等の如き脂肪族ジイソシアネート化合物;イ
ソホロンジイソシアネート、4,4′−メチレンビス
(シクロヘキシルイソシアネート)、メチルシクロヘキ
サン−2,4(又は2,6)ジイソシアネート、1,3
−(イソシアネートメチル)シクロヘキサン等の如き脂
環族ジイソシアネート化合物;1,3−ブチレングリコ
ール1モルとトリレンジイソシアネート2モルとの付加
体等の如きジオールとジイソシアネートとの反応物であ
るジイソシアネート化合物等が挙げられる。
(In the formula, R 1 to R 5 have the same meanings as described above.) As typical examples of the diisocyanate compound represented by the general formula (I), 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 4,4′- (2,2-diphenylpropane) diisocyanate. Further, if necessary, in addition to the diisocyanate compound represented by the general formula (I), the following diisocyanate compounds are used in combination within the preferable composition range of the present invention. That is, 2,4-tolylene diisocyanate, a dimer of 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, p
-Xylylene diisocyanate, m-xylylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 1,5-naphthylene diisocyanate, 3,3 '
Aromatic diisocyanate compounds such as -dimethylbiphenyl-4,4'-diisocyanate; aliphatic diisocyanate compounds such as hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, dimer acid diisocyanate; isophorone diisocyanate, 4,4'-methylene bis (Cyclohexyl isocyanate), methylcyclohexane-2,4 (or 2,6) diisocyanate, 1,3
An alicyclic diisocyanate compound such as-(isocyanatomethyl) cyclohexane; a diisocyanate compound which is a reaction product of a diol and a diisocyanate such as an adduct of 1 mol of 1,3-butylene glycol and 2 mol of tolylene diisocyanate; Can be

【0013】一般式(I)のジイソシアネート化合物と
併用するジイソシアネート化合物としては、上記の中で
ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシ
アネート及びm−キシリレンジイソシアネートが特に好
ましい。また上記のジイソシアネート化合物2種以上を
用い、一般式(I)のジイソシアネートと組合せてもよ
い。また一般式(II)で示されるカルボキシル基を有す
るジオール化合物の代表的なものとしては、2,2−ビ
ス(ヒドロキシメチル)酢酸、2,2−ビス(ヒドロキ
シメチル)プロピオン酸及び2,2−ビス(ヒドロキシ
メチル)酪酸が挙げられるが、この中では特に2,2−
ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸が好ましい。ま
た更に一般式(II)のジオール化合物と併用するジオー
ル化合物としては、具体的には以下に示すものが含まれ
る。即ち、ジエチレングリコール、トリエチレングリコ
ール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコ
ール、1,2−ジプロピレングリコール、1,2−トリ
プロピレングリコール、1,2−テトラプロピレングリ
コール、1,3−ジプロピレングリコール、1,3−ジ
ブチレングリコール等が挙げられる。この中で好ましい
ものは、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、テトラエチレングリコール、1,2−トリプロピレ
ングリコール、1,2−テトラプロピレングリコールで
あり、特に好ましいものは、トリエチレングリコール及
びテトラエチレングリコールである。
As the diisocyanate compound used in combination with the diisocyanate compound of the general formula (I), among the above, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate and m-xylylene diisocyanate are particularly preferred. Further, two or more of the above diisocyanate compounds may be used in combination with the diisocyanate of the general formula (I). Representative diol compounds having a carboxyl group represented by the general formula (II) include 2,2-bis (hydroxymethyl) acetic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, and 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid. Bis (hydroxymethyl) butyric acid is mentioned, among which 2,2-
Bis (hydroxymethyl) propionic acid is preferred. Furthermore, specific examples of the diol compound used in combination with the diol compound of the general formula (II) include the following. That is, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, polyethylene glycol, 1,2-dipropylene glycol, 1,2-tripropylene glycol, 1,2-tetrapropylene glycol, 1,3-dipropylene glycol, 1,3 -Dibutylene glycol and the like. Of these, preferred are diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, 1,2-tripropylene glycol, and 1,2-tetrapropylene glycol, and particularly preferred are triethylene glycol and tetraethylene glycol.

【0014】本発明に好適に使用されるポリウレタン樹
脂では、上記一般式(I)で示されるジイソシアネート
化合物の含量が全ジイソシアネート成分中、40〜90
モル%であり、好ましくは50〜85モル%、更に好ま
しくは60〜80モル%である。残りの成分は、一般式
(I)のジイソシアネート化合物と併用される上記ジイ
ソシアネート化合物が用いられる。また一般式(II)で
示されるジオール化合物の含量は、全ジオール成分中3
0〜90モル%であり、好ましくは40〜80モル%、
更に好ましくは50〜70モル%である。残りの部分
は、一般式(II)のジオール化合物と併用される上記ジ
オール化合物が用いられる。また、上記のジオール化合
物2種以上を用い一般式(II)のジオール化合物と組合
せて使用してもよい。
In the polyurethane resin suitably used in the present invention, the content of the diisocyanate compound represented by the above general formula (I) is 40 to 90 in all the diisocyanate components.
Mol%, preferably 50 to 85 mol%, more preferably 60 to 80 mol%. As the remaining components, the above-mentioned diisocyanate compound used in combination with the diisocyanate compound of the general formula (I) is used. The content of the diol compound represented by the general formula (II) is 3% of the total diol component.
0-90 mol%, preferably 40-80 mol%,
More preferably, it is 50 to 70 mol%. The remaining part uses the diol compound used in combination with the diol compound of the general formula (II). Further, two or more of the above diol compounds may be used in combination with the diol compound of the general formula (II).

【0015】また本発明に好適に使用される上記ポリウ
レタン樹脂の分子量は重量平均(ポリスチレン標準)で
40,000以上が好ましい。一般に分子量が高ければ、耐刷
性が優れるが、現像性は低下する。逆に分子量が低い場
合、現像性は向上するが、耐刷性が低下する。本発明の
組成を有するポリウレタン樹脂においては、重量平均分
子量が40,000より小さい場合は、耐刷性、劣化の問題が
あり好ましくない。好ましい重量平均分子量は50,000〜
500,000 であり、更に好ましくは70,000〜200,000 であ
る。このときの分散度(Mw/Mn)は20以下であ
り、好ましくは16以下、更に好ましくは14以下であ
る。20以上の場合には、重量平均分子量が40,000より
小さい低分子量成分の有意量が混在し、耐刷性劣化の問
題を生じる。
The molecular weight of the polyurethane resin preferably used in the present invention is a weight average (polystyrene standard).
It is preferably 40,000 or more. In general, when the molecular weight is high, printing durability is excellent, but developability is reduced. Conversely, when the molecular weight is low, the developability is improved, but the printing durability is reduced. When the weight average molecular weight of the polyurethane resin having the composition of the present invention is smaller than 40,000, printing durability and deterioration are not preferred. Preferred weight average molecular weight is 50,000-
500,000, and more preferably 70,000 to 200,000. At this time, the degree of dispersion (Mw / Mn) is 20 or less, preferably 16 or less, more preferably 14 or less. When it is 20 or more, a significant amount of a low molecular weight component having a weight average molecular weight of less than 40,000 is mixed, which causes a problem of deterioration in printing durability.

【0016】本発明のポリウレタン樹脂の感光性組成物
中の含量は、固型分換算で50〜97重量%、好ましく
は70〜95重量%である。本発明のポリウレタン樹脂
は上記ジイソシアネート化合物及びジオール化合物を非
プロトン性溶媒中、それぞれの反応性に応じた活性の公
知な触媒を添加し、加熱することにより合成される。使
用するジイソシアネート及びジオール化合物のモル比は
好ましくは0.8:1〜1.2:1であり、ポリマー末端に
イソシアネート基が残存した場合、アルコール類又はア
ミン類等で処理することにより、最終的にイソシアネー
ト基が残存しない形で合成される。ジアゾ樹脂とポリウ
レタン樹脂の比率は好ましくは重量比で3:97〜3
0:70の範囲であり、より好ましくは5:95〜2
5:75の範囲である。
The content of the polyurethane resin of the present invention in the photosensitive composition is 50 to 97% by weight, preferably 70 to 95% by weight in terms of solids. The polyurethane resin of the present invention is synthesized by adding the above-mentioned diisocyanate compound and diol compound to an aprotic solvent, adding a known catalyst having an activity corresponding to the respective reactivity, and heating. The molar ratio of the diisocyanate and the diol compound to be used is preferably 0.8: 1 to 1.2: 1. When the isocyanate group remains at the polymer terminal, it is treated with alcohols or amines to obtain the final compound. Is synthesized in such a manner that no isocyanate group remains. The ratio of the diazo resin to the polyurethane resin is preferably 3:97 to 3 by weight.
0:70, more preferably from 5:95 to 2
The range is 5:75.

【0017】(3) その他の成分 本発明の組成物中には、前述のポリウレタン樹脂の他に
フェノールホルムアルデヒド樹脂、クレゾールホルムア
ルデヒド樹脂、フェノール変性キシレン樹脂、ポリヒド
ロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレン及
びカルボキシル基含有エポキシ樹脂、ポリアセタール樹
脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂等、公知のアルカリ
可溶性の高分子化合物を含有させることができる。かか
るアルカリ可溶性の高分子化合物は全組成物の70重量
%以下の添加量で用いられる。本発明の組成物中には、
露光後直ちに可視像を得るための焼出し剤、画像着色剤
として染料、顔料、安定剤、界面活性剤、可塑剤、感脂
化剤やその他のフィラーなどを加えることができる。露
光後直ちに可視像を得るための焼出し剤としては露光に
よって酸を放出する感光性化合物と塩を形成し得る有機
染料との組合せを代表として挙げることができる。具体
的には特開昭50−36209号公報、特開昭53−8
128号公報に記載されているo−ナフトキノンジアジ
ド−4−スルホン酸ハライドと塩形成性有機染料の組合
せや特開昭53−36223号公報、特開昭54−74
728号公報に記載されているトリハロメチル化合物と
塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。画像
の着色剤として前記の塩形成有機染料以外の他の染料も
用いることができる。塩形成性有機染料を含めて好適な
染料として油溶性染料及び塩基性染料を挙げることがで
きる。具体的には、オイルイエロー#101、オイルイ
エロー#130、オイルピンク#312、オイルグリー
ンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、
オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラ
ックT−505(以上、オリエント化学工業株式会社
製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレッ
ト(CI42555)、メチルバイオレット(CI42
535)、ローダミンB(CI45170B)、マラカ
イトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(C
I52015)等を挙げることができる。
(3) Other components In the composition of the present invention, in addition to the above-mentioned polyurethane resin, phenol formaldehyde resin, cresol formaldehyde resin, phenol-modified xylene resin, polyhydroxystyrene, polyhalogenated hydroxystyrene and carboxyl group A known alkali-soluble polymer compound such as an epoxy resin, a polyacetal resin, an acrylic resin, and a methacrylic resin can be contained. Such an alkali-soluble polymer compound is used in an amount of 70% by weight or less of the total composition. In the composition of the present invention,
Dyes, pigments, stabilizers, surfactants, plasticizers, sensitizers and other fillers can be added as a printing-out agent and an image coloring agent for obtaining a visible image immediately after exposure. As a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after exposure, a combination of a photosensitive compound that releases an acid upon exposure and an organic dye capable of forming a salt can be exemplified. Specifically, JP-A-50-36209 and JP-A-53-8
Combinations of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halide and salt-forming organic dyes described in JP-A-128, JP-A-53-36223 and JP-A-54-74.
No. 728, a combination of a trihalomethyl compound and a salt-forming organic dye. Dyes other than the salt-forming organic dyes described above can also be used as colorants for the image. Suitable dyes, including salt-forming organic dyes, include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 130, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603,
Oil black BY, oil black BS, oil black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, crystal violet (CI42555), methyl violet (CI42)
535), rhodamine B (CI45170B), malachite green (CI42000), methylene blue (C
I52015) and the like.

【0018】更に安定剤としては、リン酸、亜リン酸、
シュウ酸、p−トルエンスルホン酸、ジピコリン酸、リ
ンゴ酸、酒石酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−
ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、ブチルナフタレンス
ルホン酸、p−ヒドロキシベンゼンスルホン酸、4−ス
ルホフタル酸、トリカルバリル酸、フェニルホスホン酸
等が挙げられる。また界面活性剤としては、弗素系界面
活性剤またはシリコーン系界面活性剤が好ましい。また
可塑剤としてはトリクレジルホスフェート、ジヘキシル
フタレート、ジオクチルフタレート、トリオクチルホス
フェート、トリブチルホスフェート、クエン酸トリブチ
ル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル等が挙げられる。更にまた、感脂化剤としては、特公
昭62−60701号、特開昭63−262642号の
各公報に記載されているものが好ましい。更に、現像促
進剤(例えば高級アルコール、酸無水物等)等が好まし
く用いられる。これらの添加剤の添加量はその使用対
象、目的によって異なるが、一般に感光性組成物の固形
分に対して、0.01〜30重量%である。
Further, as a stabilizer, phosphoric acid, phosphorous acid,
Oxalic acid, p-toluenesulfonic acid, dipicolinic acid, malic acid, tartaric acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5-
Examples thereof include benzoyl-benzenesulfonic acid, butylnaphthalenesulfonic acid, p-hydroxybenzenesulfonic acid, 4-sulfophthalic acid, tricarballylic acid, and phenylphosphonic acid. As the surfactant, a fluorine-based surfactant or a silicone-based surfactant is preferable. Examples of the plasticizer include tricresyl phosphate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, trioctyl phosphate, tributyl phosphate, tributyl citrate, polyethylene glycol, and polypropylene glycol. Further, as the sensitizer, those described in JP-B-62-60701 and JP-A-63-262624 are preferable. Further, development accelerators (eg, higher alcohols, acid anhydrides, etc.) are preferably used. The amount of these additives varies depending on the object and purpose of use, but is generally 0.01 to 30% by weight based on the solid content of the photosensitive composition.

【0019】本発明の組成物は、上記各成分を溶解する
溶媒に溶かして支持体上に塗布する。ここで使用する溶
媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノー
ル、n−ブタノール、t−ブタノール、エチレンジクロ
ライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、エチ
レングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2−メト
キシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロパノー
ル、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,
N−ジメチルアセトアミド、γ−ブチロラクトン、N−
メチルピロリドン、テトラメチルウレア、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、ジメチルスルホキシド、スルホラ
ン、トルエン、酢酸エチル等があり、これらの溶媒を単
独あるいは混合して使用する。そして、上記成分の濃度
(固形分)は、2〜50重量%である。また、塗布量は
用途により異なるが、例えば感光性平版印刷版について
いえば、一般的に固型分として0.5〜3.0g/m2が好ま
しい。塗布量が少くなるにつれ感光性は大になるが、感
光膜の物性は低下する。
The composition of the present invention is dissolved in a solvent capable of dissolving each of the above components and applied on a support. Examples of the solvent used herein include methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, t-butanol, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, ethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, -Methoxy-2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylformamide, N,
N-dimethylacetamide, γ-butyrolactone, N-
There are methylpyrrolidone, tetramethylurea, tetrahydrofuran, dioxane, dimethylsulfoxide, sulfolane, toluene, ethyl acetate and the like, and these solvents are used alone or as a mixture. The concentration (solid content) of the above components is 2 to 50% by weight. Although the amount of application varies depending on the application, for example, in the case of a photosensitive lithographic printing plate, it is generally preferred that the solid content be 0.5 to 3.0 g / m 2 . The photosensitivity increases as the coating amount decreases, but the physical properties of the photosensitive film deteriorate.

【0020】また本発明の感光性組成物が塗布される支
持体としては、例えば、紙、プラスチックス(例えばポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミ
ネートされた紙、例えばアルミニウム(アルミニウム合
金も含む)、亜鉛、銅等のような金属の板、例えば二酢
酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロ
ース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セル
ロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、
ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポ
リビニルアセタール等のようなプラスチックのフィル
ム、上記の如き金属がラミネート、もしくは蒸着された
紙もしくはプラスチックフィルム等が含まれる。これら
の支持体のうち、アルミニウム板は寸度的に著しく安定
であり、しかも安価であるので特に好ましい。更に、特
公昭48−18327号公報に記されているようなポリ
エチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシー
トが結合された複合体シートも好ましい。
As the support on which the photosensitive composition of the present invention is applied, for example, paper, paper laminated with plastics (for example, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), for example, aluminum (including aluminum alloy), Plates of metals such as zinc, copper, etc., for example, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene,
Examples include plastic films such as polystyrene, polypropylene, polycarbonate, and polyvinyl acetal, and paper or plastic films on which a metal as described above is laminated or deposited. Among these supports, the aluminum plate is particularly preferable because it is extremely dimensionally stable and inexpensive. Further, a composite sheet in which an aluminum sheet is bonded on a polyethylene terephthalate film as described in JP-B-48-18327 is also preferable.

【0021】また、アルミニウム材の表面は、保水性を
高め、感光層との密着性を向上させる目的で表面処理さ
れていることが望ましい。例えば、粗面化方法として、
一般に公知のブラシ研磨法、ボール研磨法、電解エッチ
ング、化学的エッチング、液体ホーニング、サンドブラ
スト等の方法およびこれらの組合せが挙げられ、好まし
くはブラシ研磨法、電解エッチング、化学的エッチング
および液体ホーニングが挙げられ、これらのうちで、特
に電解エッチングの使用を含む粗面化方法が好ましい。
さらに、特開昭54−63902号に記載されているよ
うにブラシ研磨した後、電解エッチングする方法も好ま
しい。また、電解エッチングの際に用いられる電解浴と
しては、酸、アルカリまたはそれらの塩を含む水溶液あ
るいは有機溶剤を含む水性溶液が用いられ、これらのう
ちで、特に塩酸、硝酸またはそれらの塩を含む電解液が
好ましい。さらに、粗面化処理の施されたアルミニウム
板は、必要に応じて酸またはアルカリの水溶液にてデス
マット処理される。
The surface of the aluminum material is desirably surface-treated for the purpose of increasing water retention and improving adhesion to the photosensitive layer. For example, as a roughening method,
Commonly known brush polishing methods, ball polishing methods, electrolytic etching, chemical etching, liquid honing, methods such as sand blasting and combinations thereof, preferably include brush polishing methods, electrolytic etching, chemical etching and liquid honing. Among them, a surface roughening method including the use of electrolytic etching is particularly preferable.
Further, as described in JP-A-54-63902, a method of performing brush polishing followed by electrolytic etching is also preferable. Further, as the electrolytic bath used in the case of electrolytic etching, an aqueous solution containing an acid, an alkali or a salt thereof or an aqueous solution containing an organic solvent is used, and among these, particularly, hydrochloric acid, nitric acid or a salt thereof is included. Electrolytes are preferred. Further, the roughened aluminum plate is desmutted with an acid or alkali aqueous solution as required.

【0022】こうして得られたアルミニウム板は、陽極
酸化処理されることが望ましく、特に好ましくは、硫酸
またはリン酸を含む浴で処理する方法が挙げられる。ま
た、更に必要に応じて米国特許第2,714,066号明細
書や米国特許第3,181,461号明細書に記載されいる
珪酸塩(ケイ酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム)処理、
米国特許第2,946,638号明細書に記載されている弗
化ジルコニウム酸カリウム処理、米国特許第3,201,2
47号明細書に記載されているホスホモリブデート処
理、英国特許第1,108,559号に記載されているアル
キルチタネート処理、独国特許第1,091,433号明細
書に記載されているポリアクリル酸処理、独国特許第1,
134,093号明細書や英国特許第1,230,447号明
細書に記載されているポリビニルホスホン酸処理、特公
昭44−6409号公報に記載されているホスホン酸処
理、米国特許第3,307,951号明細書に記載されてい
るフィチン酸処理、特開昭58−16893号や特開昭
58−18291号の各公報に記載されている親水性有
機高分子化合物と2価の金属との塩による処理、特開昭
59−101651号公報に記載されているスルホン酸
基を有する水溶性重合体の下塗りによって親水化処理を
行ったもの、特開昭60−64352号公報に記載され
ている酸性染料による着色を行ったものは特に好まし
い。その他の親水化処理方法としては米国特許第3,65
8,662号明細書に記載されているシリケート電着をも
挙げることが出来る。また、砂目立て処理及び陽極酸化
後、封孔処理を施したものが好ましい。かかる封孔処理
は熱水及び無機塩または有機塩を含む熱水溶液への浸漬
ならびに水蒸気浴などによって行われる。
The aluminum plate thus obtained is desirably subjected to anodic oxidation treatment, particularly preferably a method of treating it with a bath containing sulfuric acid or phosphoric acid. Further, if necessary, silicate (sodium silicate, sodium silicate) treatment described in US Pat. No. 2,714,066 and US Pat. No. 3,181,461,
Potassium fluorozirconate treatment described in U.S. Pat. No. 2,946,638; U.S. Pat. No. 3,201,2
No. 47, phosphomolybdate treatment, British Patent 1,108,559, alkyl titanate treatment, and German Patent No. 1,091,433. Acrylic acid treatment, German patent No. 1,
No. 134,093 and British Patent No. 1,230,447, polyvinylphosphonic acid treatment, Japanese Patent Publication No. 44-6409, phosphonic acid treatment, U.S. Pat. , Phytic acid treatment described in JP-A-58-951, and the reaction between a hydrophilic organic polymer compound and a divalent metal described in JP-A-58-16893 and JP-A-58-18291. A treatment with a salt, which has been subjected to a hydrophilizing treatment by undercoating a water-soluble polymer having a sulfonic acid group described in JP-A-59-101651, and described in JP-A-60-64352 Those colored with an acid dye are particularly preferred. Another hydrophilic treatment method is disclosed in U.S. Pat.
The silicate electrodeposition described in the specification of Japanese Patent No. 8,662 can also be mentioned. Further, after graining treatment and anodic oxidation, sealing treatment is preferable. Such a sealing treatment is performed by immersion in hot water and a hot aqueous solution containing an inorganic salt or an organic salt, a steam bath, or the like.

【0023】本発明に用いられるのに適した支持体につ
いてさらに詳しくいうと、鉄を0.1〜0.5%、ケイ素を
0.03〜0.3%、銅を0.001〜0.03%、更にチタン
を0.002〜0.1%含有する1Sアルミニウム板を、ア
ルカリ好ましくは、1〜30%の水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、珪酸ナトリウム等の水
溶液に、20〜80℃の温度で5秒〜250秒間浸漬し
てエッチングする。エッチング浴には、アルミニウムイ
オンをアルカリの5分の1程度加えても良い。ついで、
10〜30%硝酸または硫酸水溶液に20〜70℃の温
度で5秒〜250秒間浸漬して、アルカリエッチング後
の中和及びスマット除去を行う。このアルミニウム合金
板の表面清浄化後、粗面化処理が行われる。粗面化処理
としては、ブラシ研磨または/および電解エッチング処
理が適している。ブラシ研磨はパミストン−水懸濁液と
ナイロンブラシとを用いるのが好ましく、平均表面粗さ
を0.25〜0.9μとすることが好ましい。電解エッチン
グ処理に使用される電解液は塩酸、または硝酸の水溶液
であり、濃度は0.01〜3重量%の範囲で使用すること
が好ましく、0.05〜2.5重量%であれば更に好まし
い。また、この電解液には必要に応じて硝酸塩、塩化
物、モノアミン類、ジアミン類、アルデヒド類、リン
酸、クロム酸、ホウ酸、シュウ酸アンモニウム塩等の腐
蝕抑制剤(または安定化剤)、砂目の均一化剤などを加
えることが出来る。また電解液中には、適当量(1〜1
0g/リットル)のアルミニウムイオンが含まれていて
もよい。
More specifically about the support suitable for use in the present invention, 0.1 to 0.5% iron and silicon
A 1S aluminum plate containing 0.03% to 0.3%, 0.001% to 0.03% of copper, and 0.002% to 0.1% of titanium is alkali-preferably 1% to 30% of sodium hydroxide. And immersion in an aqueous solution of potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium silicate or the like at a temperature of 20 to 80 ° C. for 5 seconds to 250 seconds for etching. Aluminum ions may be added to the etching bath in an amount of about one-fifth of alkali. Then
It is immersed in a 10 to 30% nitric acid or sulfuric acid aqueous solution at a temperature of 20 to 70 ° C. for 5 to 250 seconds to neutralize and remove smut after alkali etching. After the surface of the aluminum alloy plate is cleaned, a surface roughening process is performed. As the roughening treatment, brush polishing and / or electrolytic etching treatment is suitable. For brush polishing, it is preferable to use a pumistone-water suspension and a nylon brush, and it is preferable to set the average surface roughness to 0.25 to 0.9 μ. The electrolytic solution used for the electrolytic etching treatment is an aqueous solution of hydrochloric acid or nitric acid, and the concentration is preferably used in the range of 0.01 to 3% by weight, and more preferably 0.05 to 2.5% by weight. preferable. The electrolyte may contain a corrosion inhibitor (or stabilizer) such as nitrate, chloride, monoamines, diamines, aldehydes, phosphoric acid, chromic acid, boric acid, and ammonium oxalate, as necessary. A graining agent and the like can be added. Also, an appropriate amount (1 to 1)
0 g / liter) of aluminum ions.

【0024】電解エッチング処理は、通常10〜60℃
の電解液の温度で行なわれる。この際に使用される交流
電流は、正負の極性が交互に交換されたものであれば、
矩形波、台形波、正弦波いずれのものも用いることがで
き、通常の商用交流の単相及び三相交流電流を用いるこ
とができる。また電流密度は、5〜100A/dm2 で、
10〜300秒間処理することが望ましい。本発明にお
けるアルミニウム合金支持体の表面粗さは、電気量によ
って調整し、0.2〜0.8μm とする。このように砂目立
てされたアルミニウム合金は、10〜50%の熱硫酸
(40〜60℃)や希薄なアルカリ(水酸化ナトリウム
等)により、表面に付着したスマットの除去及びエッチ
ング(好ましくは0.01〜2.0g/m2の範囲で)される
のが好ましい。アルカリでスマットの除去及びエッチン
グした場合は、引き続いて洗浄のため酸(硝酸または硫
酸)に浸漬して中和する。表面のスマット除去を行った
後、陽極酸化皮膜が設けられる。陽極酸化法は、従来よ
りよく知られている方法を用いることが出来るが、硫酸
が最も有用な電解液として用いられる。それに次いで、
リン酸もまた有用な電解液である。さらに特開昭55−
28400号公報に開示されている硫酸とリン酸の混酸
もまた有用である。
The electrolytic etching process is usually performed at 10 to 60 ° C.
At the temperature of the electrolyte. If the alternating current used at this time is one in which the positive and negative polarities are alternately exchanged,
Any of a rectangular wave, a trapezoidal wave, and a sine wave can be used, and normal commercial AC single-phase and three-phase AC currents can be used. The current density is 5 to 100 A / dm 2 ,
It is desirable to process for 10 to 300 seconds. The surface roughness of the aluminum alloy support according to the present invention is adjusted to 0.2 to 0.8 μm by adjusting the quantity of electricity. The grained aluminum alloy is removed and etched (preferably 0.1%) of the smut attached to the surface with 10 to 50% hot sulfuric acid (40 to 60 ° C.) or a dilute alkali (such as sodium hydroxide). (In the range of from 0.01 to 2.0 g / m 2 ). If the smut has been removed and etched with an alkali, it is subsequently neutralized by immersion in an acid (nitric acid or sulfuric acid) for cleaning. After de-smutting the surface, an anodic oxide coating is provided. As the anodic oxidation method, a conventionally well-known method can be used, but sulfuric acid is used as the most useful electrolytic solution. Then,
Phosphoric acid is also a useful electrolyte. Further, JP-A-55-
The mixed acid of sulfuric acid and phosphoric acid disclosed in JP 28400 is also useful.

【0025】硫酸法は通常直流電流で処理が行われる
が、交流を用いることも可能である。硫酸の濃度5〜3
0%、20〜60℃の温度範囲で5〜250秒間電解処
理されて、表面に1〜10g/m2の酸化皮膜が設けられ
る。この電解液には、アルミニウムイオンが含まれてい
ることが好ましい。さらにこのときの電流密度は1〜2
0A/dm2 が好ましい。リン酸法の場合には、5〜50
%のリン酸濃度、30〜60℃の温度で、10〜300
秒間、1〜15A/dm2 の電流密度で処理される。この
ようにして処理されたアルミニウム支持体には、さらに
米国特許第2,714,066号明細書に記載されたような
シリケート類による表面処理を行うのが望ましい。さら
に、アルミニウム支持体には下塗りを施してもよい。下
塗りに用いられる化合物としては例えば、カルボキシメ
チルセルロース、デキストリン、アラビアガム、2−ア
ミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン
酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフ
チルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホ
ン酸、メチレンジホスホン酸およびエチレンジホスホン
酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニ
ルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸およびグリ
セロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフ
ェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキル
ホスフィン酸およびグリセロホスフィン酸などの有機ホ
スフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸
類、およびトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロ
キシル基を有するアミンの塩酸塩、特開昭59−101
651号公報に記載されているスルホン酸基を有する水
溶性重合体、及び特開昭60−64352号公報に記載
されている酸性染料等が好ましく用いられる。この下塗
層は、水、メタノール、エタノール、メチルエチルケト
ンなどもしくはそれらの混合溶剤に上記の化合物を溶解
させ、支持体上に塗布、乾燥して設けることができる。
また、感光性平版印刷版の調子再現性改良のために黄色
染料を添加することもできる。下塗層の乾燥後の被覆量
は、2〜200mg/m2 が適当であり、好ましくは5〜
100mg/m2である。
In the sulfuric acid method, the treatment is usually performed with a direct current, but an alternating current can also be used. Sulfuric acid concentration 5-3
It is electrolyzed at 0% in a temperature range of 20 to 60 ° C. for 5 to 250 seconds to provide an oxide film of 1 to 10 g / m 2 on the surface. The electrolyte preferably contains aluminum ions. Further, the current density at this time is 1-2.
0 A / dm 2 is preferred. In the case of the phosphoric acid method, 5 to 50
% Phosphoric acid concentration, at a temperature of 30-60 ° C, 10-300
It is processed at a current density of 1 to 15 A / dm 2 for a second . The aluminum support thus treated is preferably further subjected to a surface treatment with silicates as described in U.S. Pat. No. 2,714,066. Further, the aluminum support may be subbed. Examples of the compound used for the undercoat include carboxymethylcellulose, dextrin, gum arabic, phosphonic acids having an amino group such as 2-aminoethylphosphonic acid, phenylphosphonic acid optionally having a substituent, naphthylphosphonic acid, and alkylphosphonic acid. Acids, organic phosphonic acids such as glycerophosphonic acid, methylene diphosphonic acid and ethylene diphosphonic acid, organic phosphoric acids such as phenylphosphoric acid, naphthyl phosphoric acid, alkyl phosphoric acid and glycerophosphoric acid which may have a substituent, substituents Having organic groups such as phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydroxyl groups such as triethanolamine hydrochloride. Hydrochloride salt of Min, JP-A-59-101
Water-soluble polymers having a sulfonic acid group described in JP-A-651 and acid dyes described in JP-A-60-64352 are preferably used. This undercoat layer can be provided by dissolving the above compound in water, methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or the like, or a mixed solvent thereof, coating the support on a support, and drying.
Further, a yellow dye can be added for improving the tone reproducibility of the photosensitive lithographic printing plate. The coating amount of the undercoat layer after drying is suitably from 2 to 200 mg / m 2 , preferably from 5 to 200 mg / m 2.
100 mg / m 2 .

【0026】感光層上には相互に独立して設けられた突
起物により構成されるマット層を設けることが好まし
い。マット層の目的は密着露光におけるネガ画像フィル
ムと感光性平版印刷版との真空密着性を改良することに
より、真空引き時間を短縮し、さらに密着不良による露
光時の微少網点のつぶれを防止することである。マット
層の塗布方法としては、特公昭62−62337号に記
載されているパウダリングされた固体粉末を熱融着する
方法、特開昭50−125805号、特公昭57−65
82号、同61−28986号、特公平3−21902
号に記載されているポリマー含有水をスプレーし乾燥さ
せる方法などがあり、いずれの方法もを用いうる。マッ
ト層は実質的に有機溶剤を含まない水性現像液に溶解す
るか、あるいはこれにより除去可能な物質から構成され
ることが望ましい。
It is preferable to provide a mat layer composed of protrusions provided independently of each other on the photosensitive layer. The purpose of the mat layer is to improve the vacuum adhesion between the negative image film and the photosensitive lithographic printing plate in contact exposure, thereby shortening the evacuation time and preventing minute dots during exposure due to poor adhesion. That is. As a method for applying the mat layer, a method for thermally fusing powdered solid powder described in JP-B-62-62337, JP-A-50-125805, and JP-B-57-65 can be used.
No. 82, No. 61-28986, Tokuhei 3-21902
The method includes spraying and drying the polymer-containing water described in the above item, and any method can be used. The mat layer is desirably composed of a substance which is dissolved in an aqueous developer substantially free of an organic solvent or which can be removed thereby.

【0027】粗面化されたアルミニウム板上に塗布され
乾燥された感光性組成物層を有する感光性平版印刷版
は、画像露光後アルカリ水溶液系現像液で現像すること
により原画に対してネガのレリーフ像が得られる。露光
に好適な光源としては、カーボンアーク灯、水銀灯、キ
セノンランプ、メタルハライドランプ、ストロボ、紫外
線、レーザ光線などがあげられる。上記感光性平版印刷
版の現像に使用されるアルカリ水溶液系現像液として
は、特開昭51−77401号、同51−80228
号、同53−44202号や同55−52054号の各
公報に記載されている様な現像液であって、pH=8〜1
3、水が75重量%以上含まれるものが好ましい。必要
により水に対する溶解度が常温で10重量%以下の有機
溶媒(ベンジルアルコール、エチレングリコールモノフ
ェニルエーテル)、アルカリ剤(トリエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、リン
酸ナトリウム、炭酸ナトリウム)、アニオン界面活性剤
(芳香族スルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、
アルキルナフタレンスルホン酸塩、脂肪酸塩、アルキル
硫酸エステル塩)、ノニオン界面活性剤(ポリオキシエ
チレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキル
アリールエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロ
ピレンブロックポリマー)、汚れ防止剤(亜硫酸ナトリ
ウム、スルホピラゾロンのナトリウム塩)や硬水軟化剤
(エチレンジアミンテトラ酢酸四ナトリウム塩、ニトリ
ロ三酢酸三ナトリウム塩)を加えることができる。
A photosensitive lithographic printing plate having a photosensitive composition layer coated and dried on a roughened aluminum plate is exposed to an image and then developed with an aqueous alkali solution-based developer to give a negative image to the original image. A relief image is obtained. Light sources suitable for exposure include carbon arc lamps, mercury lamps, xenon lamps, metal halide lamps, strobes, ultraviolet rays, laser beams and the like. Examples of the alkaline aqueous solution-based developer used for developing the photosensitive lithographic printing plate include JP-A-51-77401 and JP-A-51-80228.
And JP-A-53-44202 and JP-A-55-52054, each having a pH of 8 to 1.
3. Preferably, water contains 75% by weight or more. If necessary, an organic solvent (benzyl alcohol, ethylene glycol monophenyl ether) having a solubility in water of 10% by weight or less at room temperature, an alkali agent (triethanolamine, diethanolamine, monoethanolamine, sodium phosphate, sodium carbonate), anionic surface activity Agents (aromatic sulfonate, dialkyl sulfosuccinate,
Alkyl naphthalene sulfonate, fatty acid salt, alkyl sulfate ester salt), nonionic surfactant (polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl aryl ether, polyoxyethylene polyoxypropylene block polymer), antifouling agent (sodium sulfite, Sulfopyrazolone sodium salt) or water softener (ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium salt, nitrilotriacetic acid trisodium salt) can be added.

【0028】本発明の感光性組成物を用いた感光性平版
印刷版は、特開昭54−8002号、同55−1150
45号、特開昭59−58431号の各公報に記載され
ている方法で製版処理してもよいことは言うまでもな
い。即ち、現像処理後、水洗してから不感脂化処理、ま
たはそのまま不感脂化処理、まはた酸を含む水溶液での
処理、または酸を含む水溶液で処理後不感脂化処理を施
してもよい。さらに、この種の感光性平版印刷版の現像
工程では、処理量に応じてアルカリ水溶液が消費されア
ルカリ濃度が減少したり、あるいは、自動現像液の長時
間運転により空気によってアルカリ濃度が減少するため
処理能力が低下するが、その際、新鮮な未使用の現像液
(補充液)を添加するか、又は特開昭54−62004
号に記載のようにアルカリ度の高い補充液を用いて処理
能力を回復させてもよい。この場合、処理されるPS版
の一片の長さに比例する量の補充液を添加する方法や米
国特許第4,882,246号に記載されている方法で補充
することが好ましい。
The photosensitive lithographic printing plate using the photosensitive composition of the present invention is disclosed in JP-A-54-8002 and JP-A-55-1150.
Needless to say, the plate-making process may be performed by the methods described in JP-A No. 45 and JP-A-59-58431. That is, after the development processing, dewatering treatment after washing with water, or desensitization treatment as it is, treatment with an aqueous solution containing an acid, or desensitization treatment after treatment with an aqueous solution containing an acid may be performed. . Furthermore, in the development process of this type of photosensitive lithographic printing plate, the alkali aqueous solution is consumed depending on the processing amount, and the alkali concentration is reduced, or the alkali concentration is reduced by air due to long-time operation of the automatic developing solution. The processing capacity is reduced. At this time, a fresh and unused developer (replenisher) is added, or a process is disclosed in JP-A-54-62004.
The processing capacity may be restored by using a highly alkaline replenisher as described in the above item. In this case, it is preferable to replenish by a method of adding a replenisher in an amount proportional to the length of one piece of the PS plate to be processed or a method described in US Pat. No. 4,882,246.

【0029】また、上記のような製版処理は、特開平2
−7054号、同2−32357号公報に記載されてい
るような自動現像機で行なうことが好ましい。なお、製
版工程の最終工程で所望により塗布される不感脂化ガム
としては、特公昭62−16834号、同62−251
18号、同63−52600号、特開昭62−7595
号、同62−11693号、同62−83194号の各
公報に記載されているものが好ましい。
The plate making process described above is disclosed in
It is preferably carried out using an automatic developing machine as described in JP-A-7054 and JP-A-2-32357. Examples of the desensitized gum which is applied as required in the final step of the plate making process include JP-B-62-16834 and JP-B-62-251.
No. 18, No. 63-52600, JP-A-62-7595
And those described in JP-A-62-11693 and JP-A-62-83194 are preferred.

【0030】[0030]

【発明の効果】本発明の感光性組成物は水性アルカリ現
像液で現像する際の現像性に優れる。得られたレリーフ
像は耐摩耗性、支持体への密着性がよく、印刷版として
使用した場合、良好な印刷物が多数枚得られる。特に、
高温、高湿下で保存した後の現像性、ダイリソ印刷の耐
刷性が優れている。
The photosensitive composition of the present invention is excellent in developability when developing with an aqueous alkaline developer. The resulting relief image has good abrasion resistance and good adhesion to a support, and when used as a printing plate, many good printed matter can be obtained. Especially,
Excellent developability after storage under high temperature and high humidity, and excellent printing durability of dilitho printing.

【0031】[0031]

【実施例】以下、本発明を合成例、実施例により更に詳
細に説明するが、本発明の内容がこれにより限定される
ものではない。 合成例1 コンデンサー、攪拌機を備えた500mlの3つ口丸底フ
ラスコに2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン
酸17.4g(0.13モル)、テトラエチレングリコール
13.6g(0.070モル)を加え、N,N−ジメチルア
セトアミド120mlに溶解した。これに4,4′−ジフ
ェニルメタンジイソシアネート37.5g(0.15モ
ル)、ヘキサメチレンジイソシアネート8.4g(0.05
0モル)を添加し、100℃にて8時間、加熱攪拌し
た。その後、N,N−ジメチルホルムアミド120ml及
びメタノール60mlにて希釈した。反応溶液を水4リッ
トル中に攪拌しながら投入し、白色のポリマーを析出さ
せた。このポリマーを濾別し、水で洗浄後、真空下乾燥
させることにより73gのポリマーを得た。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to Synthesis Examples and Examples, which should not be construed as limiting the scope of the present invention. Synthesis Example 1 In a 500 ml three-necked round bottom flask equipped with a condenser and a stirrer, 17.4 g (0.13 mol) of 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid and 13.6 g (0.070 mol) of tetraethylene glycol were added. ) Was added and dissolved in 120 ml of N, N-dimethylacetamide. To this, 37.5 g (0.15 mol) of 4,4'-diphenylmethane diisocyanate and 8.4 g (0.05 mol) of hexamethylene diisocyanate were added.
0 mol), and the mixture was heated and stirred at 100 ° C. for 8 hours. Thereafter, the mixture was diluted with 120 ml of N, N-dimethylformamide and 60 ml of methanol. The reaction solution was poured into 4 liters of water while stirring to precipitate a white polymer. This polymer was separated by filtration, washed with water, and dried under vacuum to obtain 73 g of a polymer.

【0032】ゲルパーミエーションクロマトグラフィー
(GPC)にて分子量を測定したところ、重量平均(ポ
リスチレン標準)で85,000、分散度は4.1であった。更
に滴定により、カルボキシル基含有量(酸価)を測定し
たところ1.64 meq/gであった(本発明のポリウレタ
ン樹脂)。 合成例2〜11 以下合成例1と同様にして、表1に示したジイソシアネ
ート化合物とジオール化合物を用い、本発明のポリウレ
タン樹脂を合成した。更にGPCにより分子量を測定
し、滴定により酸価を測定した。測定した酸価並びに分
子量、分散度を表1に示す。また分子量はいずれも重量
平均(ポリスチレン標準)で示す。
The molecular weight was measured by gel permeation chromatography (GPC). As a result, the weight average (polystyrene standard) was 85,000, and the degree of dispersion was 4.1. Further, the carboxyl group content (acid value) was measured by titration and found to be 1.64 meq / g (polyurethane resin of the present invention). Synthesis Examples 2 to 11 In the same manner as in Synthesis Example 1, the polyurethane resin of the present invention was synthesized using the diisocyanate compound and the diol compound shown in Table 1. Further, the molecular weight was measured by GPC, and the acid value was measured by titration. Table 1 shows the measured acid value, molecular weight, and degree of dispersion. All molecular weights are indicated by weight average (polystyrene standard).

【0033】[0033]

【表1】 ─────────────────────────────────── ポリウ 使用したジイソシ 使用したジオ 酸 価 分子量 分散度 レタン アネート化合物 ール化合物 (meq/g) (×104)樹脂 (モル%) (モル%) 2 + + 1.61 9.3 4.5 (70) (30) (60) (40) 3 + + 1.60 9.5 4.0 (80) (20) (65) (35) 4 + + 1.51 8.2 3.8 (75) (25) (60) (40) 5 + + 1.77 7.3 3.6 (80) (20) (70) (30) 6 + + 1.64 9.2 4.4 (80) (20) (65) (35) 7 + + 1.79 8.9 4.2 (80) (20) (70) (30) 8 + + 1.93 10.4 5.2 (70) (30) (70) (30) 9 + + 1.88 7.2 3.6 (75) (25) (70) (30) 10 + + 1.79 8.5 4.3 (75) (25) (65) (35) ───────────────────────────────────[Table 1] ───────────────────────────────────Polyurethane diisocyanate used diacid value molecular weight dispersion Degree ethane anate compound urea compound (meq / g) (× 10 4 ) resin (mol%) (mol%) 2 ++ 1.61 9.3 4.5 (70) (30) (60) (40) 3 ++ 1.60 9.5 4.0 (80) (20) (65) (35) 4 + 1.51 8.2 3.8 (75) (25) (60) (40) 5 + + 1.77 7.3 3.6 (80) (20) (70) (30) 6 + + 1.64 9.2 4.4 (80) (20) (65) (35) 7 + 1.79 8.9 4.2 (80) (20) (70) (30) 8 + +1.93 10.4 5.2 (70) (30) (70) ( 30) 9 + + 1.88 7.2 3.6 (75) (25) (70) (30) 10 + + 1.79 8.5 4.3 (75) (25) (65) (35) ──────────── ───────────────────────

【0034】[0034]

【化4】 Embedded image

【0035】[0035]

【化5】 Embedded image

【0036】実施例1〜5 厚さ0.24mmのアルミニウム板をナイロンブラシと40
0メッシュのパミストンの水性懸濁液を用いてその表面
を砂目立てした後よく水で洗浄した。これを10%水酸
化ナトリウム水溶液に70℃で60秒間浸漬してエッチ
ングした後、流水で水洗後20%硝酸で中和洗浄し、次
いで、特開昭53−67507号公報記載の電気化学的
粗面化法、即ちVA =12.7V、VC =9.1Vの正弦波
交番波形電流を用い、1%硝酸水溶液中で160クーロ
ン/dm2 の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。引
き続き30%の硫酸水溶液中に浸漬し55℃で2分間デ
スマットした後、7%硫酸水溶液中で酸化アルミニウム
の被覆量が2.0g/m2になるように陽極酸化処理を行っ
た。その後70℃のケイ酸ナトリウムの3%水溶液に1
分間浸漬処理し、水洗乾燥した。以上のようにして得ら
れたアルミニウム板に次に示す感光液をホイラーを用い
て塗布し、80℃で2分間乾燥した。乾燥重量は1.6g
/m2であった。 感光性組成物 ジアゾ樹脂−1 0.35g ジアゾ樹脂−2 0.15g 合成例−1のポリウレタン樹脂 5.00g スチライトHS−2(大同工業(株)製) 0.10g ビクトリアピュアブルーBOH 0.15g トリクレジルホスフェート 0.50g ジピコリン酸 0.20g FC−430(3M社製界面活性剤) 0.05g 溶剤 1−メトキシ−2−プロパノール 25.00g 乳酸メチル 12.00g メタノール 30.00g メチルエチルケトン 30.00g 水 3.00g ジアゾ樹脂−1は、特開昭59−78340号公報の合
成例−1に記載のp−ジアゾジフェニルアミンとパラホ
ルムアルデヒドとの縮合物のヘキサフルオロリン酸塩で
ある。ジアゾ樹脂−2は、p−ジアゾジフェニルアミン
とパラホルムアルデヒドとの縮合物のドデシルベンゼン
スルホン酸塩である。スチライトHS−2(大同工業
(株)製)は、結合剤よりも感脂性の高い高分子化合物
であってスチレン/マレイン酸モノ−4−メチル−2−
ペンチルエステル=50/50(モル比)の共重合体で
あり、平均分子量は約100,000 である。この感光性平版
印刷版を45℃、75%の高温・高湿サーモに3日間い
れた後、画像露光し、800H(富士写真フイルム
(株)製自動現像機)で、DN−3C(富士写真フイル
ム(株)製アルカリ水溶液系現像液)を水で1:1に希
釈した液にて現像し、直ちにFN−2(富士写真フイル
ム(株)製ガム液)を水で1:1に希釈した液を塗り、
乾燥した。
Examples 1 to 5 An aluminum plate having a thickness of 0.24 mm was coated with a nylon brush and
The surface was sand-grained with an aqueous suspension of 0-mesh pamistone, and then thoroughly washed with water. This was immersed in a 10% aqueous sodium hydroxide solution at 70 ° C. for 60 seconds for etching, washed with running water, neutralized and washed with 20% nitric acid, and then subjected to electrochemical roughing described in JP-A-53-67507. Surface roughening, that is, electrolytic surface roughening treatment using a sinusoidal alternating current of V A = 12.7 V and V C = 9.1 V in a 1% nitric acid aqueous solution at an anode electricity of 160 coulomb / dm 2. went. Subsequently, after immersion in a 30% aqueous sulfuric acid solution and desmutting at 55 ° C. for 2 minutes, anodizing treatment was performed in a 7% aqueous sulfuric acid solution so that the coating amount of aluminum oxide was 2.0 g / m 2 . Then 1% aqueous solution of sodium silicate at 70 ° C
It was immersed for a minute, washed with water and dried. The following photosensitive solution was applied to the aluminum plate obtained as described above using a wheeler and dried at 80 ° C. for 2 minutes. 1.6 g dry weight
/ M 2 . Photosensitive composition 0.35 g of diazo resin-1 0.15 g of diazo resin-2 5.00 g of the polyurethane resin of Synthesis Example-1 5.00 g of Stylite HS-2 (manufactured by Daido Kogyo Co., Ltd.) 0.10 g of Victoria Pure Blue BOH 0.15 g Tricresyl phosphate 0.50 g Dipicolinic acid 0.20 g FC-430 (surfactant manufactured by 3M) 0.05 g Solvent 1-methoxy-2-propanol 25.00 g Methyl lactate 12.00 g Methanol 30.00 g Methyl ethyl ketone 30.00 g Water 3.00 g Diazo resin-1 is a hexafluorophosphate salt of a condensate of p-diazodiphenylamine and paraformaldehyde described in Synthesis Example 1 of JP-A-59-78340. Diazo resin-2 is a dodecylbenzene sulfonate of a condensate of p-diazodiphenylamine and paraformaldehyde. Stylite HS-2 (manufactured by Daido Kogyo Co., Ltd.) is a polymer compound having higher oil sensitivity than a binder, and is styrene / mono-4-methyl-2-maleate maleate.
It is a copolymer of pentyl ester = 50/50 (molar ratio) and has an average molecular weight of about 100,000. This photosensitive lithographic printing plate was placed in a high-temperature, high-humidity thermostat at 45 ° C. and 75% for 3 days, image-exposed, and 800H (Fuji Photo Film Co., Ltd. automatic developing machine), DN-3C (Fuji Photo Film). Developed with a 1: 1 diluted aqueous solution of an aqueous alkali solution (manufactured by Film Co., Ltd.), and immediately diluted 1: 1 with FN-2 (a gum solution manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) with water. Apply the liquid,
Dried.

【0037】非画像部に相当する部分には、ジアゾ樹
脂、染料の残膜、残色がなく明るく、きれいな青色の画
像の平版印刷版が得られた。以下の実施例及び比較例で
は、この現像性の程度を「○」と評価する。その後、こ
のプレートをギロチンカッターで2枚に裁断し、1枚を
通常のオフセット方式でないダイリソ方式の印刷機(タ
ビットソン製)に取り付け、市販のインキ(東洋インキ
(株)ウェブキング)と市販の湿し水(東洋インキ
(株)アルキー1:200希釈)を用いて4000枚/
時のスピードで印刷したところ、インキ濃度の充分な印
刷物が6万枚得られた。以下の実施例及び比較例では、
これを「ダイリソ印刷耐刷性6万枚」と記載する。残り
1枚をハリスオーレリア印刷機(ハリスコーポレーショ
ン製)に取りつけ、6000枚/時のスピードで印刷し
たところ、また、インキ濃度の充分な印刷物が15万枚
得られた。以下の実施例及び比較例では、これを「オフ
セット印刷耐刷性15万枚」と記載する。 実施例2〜12 実施例1のポリウレタン樹脂と、各種のジアゾ樹脂を用
いて、実施例1と同様に印刷版を作成した。高温・高湿
サーモの現像性とダイリソ印刷及びオフセット印刷の耐
刷性を調べた。結果を表2及び表3に示す。
A lithographic printing plate having a bright and clear blue image without any residual film of diazo resin and dye and no residual color was obtained at the portion corresponding to the non-image portion. In the following Examples and Comparative Examples, this degree of developability is evaluated as “「 ”. Thereafter, this plate was cut into two pieces with a guillotine cutter, and one sheet was attached to a printing machine of a non-offset type, die litho system (manufactured by Tabitson), and a commercially available ink (Toyo Ink Co., Ltd. Web King) and a commercially available wet 4,000 sheets / water using Shimizu (Alky 1: 200 dilution, Toyo Ink Co., Ltd.)
When printing was carried out at the speed of the time, 60,000 sheets of printed matter having a sufficient ink density were obtained. In the following Examples and Comparative Examples,
This is referred to as "Dailyso printing durability: 60,000 sheets". The remaining one sheet was mounted on a Harris Aurelia printing machine (manufactured by Harris Corporation) and printing was performed at a speed of 6,000 sheets / hour. In addition, 150,000 sheets of printed matter having a sufficient ink density were obtained. In the following examples and comparative examples, this is referred to as “offset printing press life 150,000 sheets”. Examples 2 to 12 Printing plates were prepared in the same manner as in Example 1 using the polyurethane resin of Example 1 and various diazo resins. The developability of high temperature and high humidity thermostats and the printing durability of dilitho printing and offset printing were examined. The results are shown in Tables 2 and 3.

【0038】[0038]

【表2】 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例 ジアゾ樹脂a ジアゾ樹脂b ポリウレタン樹脂 種 類 量(g) 種 類 量(g) 種 類 量(g) ────────────────────────────────── 2 −1 0.05 −2 0.45 −1 5.00 3 −1 0.25 −2 0.25 −1 5.00 4 −1 0.40 −2 0.10 −1 5.00 5 −1 0.45 −2 0.05 −1 5.00 6 −1 0.35 −3 0.15 −1 5.00 7 −1 0.35 −4 0.15 −1 5.00 8 −5 0.35 −4 0.15 −1 5.00 9 −1 0.35 −6 0.15 −1 5.00 10 −7 0.35 −6 0.15 −1 5.00 11 −1 0.35 −8 0.15 −1 5.00 12 −9 0.35 −8 0.15 −1 5.00 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━[Table 2] Example Diazo resin a Diazo resin b Polyurethane resin Type Amount (g) Type Amount (g) Type Amount (g) ────────────────────────────────── 2-1 0.05 -2 0.45 -1 5.00 3-1 0.25 -2 0.25 -1 5.00 4 -1 0.40 -2 0.10 -1 5.00 5 -1 0.45 -2 0.05 -15.00 6 -1 0.35 -3 0.15 -15.00 7-1 0.35 -4 0.15 -1 5.00 8 -5 0.35 -4 0.15 -1 5.00 9 -1 0.35 -6 0.15 -1 5.00 10 -7 0.35 -6 0.15 -1 5.00 11 -1 0.35 -8 0.15 -1 5.00 12 -9 0.35 -8 0.15 -1 5.00 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━

【0039】[0039]

【表3】 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例 現像性 ダイリソ印刷 オフセット印刷 耐刷性(万枚) 耐刷性(万枚) ────────────────────────────────── 2 ○ 5 14 3 ○ 6 15 4 ○ 6 15 5 ○ 5 14 6 ○ 6 15 7 ○ 6 15 8 ○ 6 15 9 ○ 6 15 10 ○ 6 15 11 ○ 6 15 12 ○ 6 15 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ ジアゾ樹脂−3は、p−ジアゾジフェニルアミンとホル
ムアルデヒドとの縮合物のジブチルナフタレンスルホン
酸塩である。ジアゾ樹脂−4は、p−ジアゾジフェニル
アミンとホルムアルデヒドとの縮合物のオクチルナフタ
レンスルホン酸塩である。ジアゾ樹脂−5は、p−ジア
ゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物のテ
トラフルオロホウ酸塩である。ジアゾ樹脂−6は、フェ
ノキシ樹脂/p−ジアゾジフェニルアミン(共縮合比5
0/50)とホルムアルデヒドとの縮合物のドデシルベ
ンゼンスルホン酸塩である。ジアゾ樹脂−7は、フェノ
キシ酢酸/p−ジアゾジフェニルアミン(共縮合比50
/50)とホルムアルデヒドとの縮合物のヘキサフルオ
ロ燐酸塩である。ジアゾ樹脂−8は、4,4′−ビス
(メトキシ)ジフェニルエーテル/3−メトキシジフェ
ニルアミン−4−ジアゾニウム(共縮合比50/50)
のメシチレンスルホン酸塩である。ジアゾ樹脂−9は、
4,4′−ビス(メトキシ)ジフェニルエーテル/3−
メトキシジフェニルアミン−4−ジアゾニウム(共縮合
比50/50)の硫酸塩である。実施例13〜21実施
例1のジアゾ樹脂と合成例2〜12のポリウレタン樹脂
を用いて、実施例1と同様に印刷版を作成した。高温・
高湿サーモの現像性とダイリソ印刷及びオフセット印刷
の耐刷性を調べた。結果を表4及び表5に示す。
[Table 3] 実 施 Example Developability Dairizo printing Offset printing Printing durability ( 10,000 sheets) Printing durability (10,000 sheets) ────────────────────────────────── 2 ○ 514 3 ○ 61 54 ○ 61 55 ○ 51 46 ○ 61 57 ○ 61 58 ○ 61 59 ○ 615 10 ○ 615 11 ○ 615 12 ○ 615 ━━━━━━━━━━━━ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ The diazo resin-3 is a dibutylnaphthalene sulfonate of a condensate of p-diazodiphenylamine and formaldehyde. Diazo resin-4 is an octylnaphthalene sulfonate of a condensate of p-diazodiphenylamine and formaldehyde. The diazo resin-5 is a tetrafluoroborate salt of a condensate of p-diazodiphenylamine and formaldehyde. Diazo resin-6 is phenoxy resin / p-diazodiphenylamine (cocondensation ratio 5
0/50) and dodecylbenzenesulfonate of a condensate of formaldehyde. The diazo resin-7 was prepared from phenoxyacetic acid / p-diazodiphenylamine (cocondensation ratio 50
/ 50) and a formaldehyde condensate of hexafluorophosphate. Diazo resin-8 is 4,4'-bis (methoxy) diphenyl ether / 3-methoxydiphenylamine-4-diazonium (cocondensation ratio 50/50)
Mesitylene sulfonate. Diazo resin-9 is
4,4'-bis (methoxy) diphenyl ether / 3-
Sulfate of methoxydiphenylamine-4-diazonium (cocondensation ratio 50/50). Examples 13 to 21 Printing plates were prepared in the same manner as in Example 1 using the diazo resin of Example 1 and the polyurethane resin of Synthesis Examples 2 to 12. high temperature·
The developability of the high humidity thermostat and the printing durability of dilitho printing and offset printing were examined. The results are shown in Tables 4 and 5.

【0040】[0040]

【表4】 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例 ジアゾ樹脂a ジアゾ樹脂b ポリウレタン樹脂 種 類 量(g) 種 類 量(g) 種 類 量(g) ────────────────────────────────── 13 −1 0.35 −2 0.15 −2 5.00 14 −1 0.35 −2 0.15 −3 5.00 15 −1 0.35 −2 0.15 −4 5.00 16 −1 0.35 −2 0.15 −5 5.00 17 −1 0.35 −2 0.15 −6 5.00 18 −1 0.35 −2 0.15 −7 5.00 19 −1 0.35 −2 0.15 −8 5.00 20 −1 0.35 −2 0.15 −9 5.00 21 −1 0.35 −2 0.15 −10 5.00 ──────────────────────────────────[Table 4] Example Diazo resin a Diazo resin b Polyurethane resin Type Amount (g) Type Amount (g) Type Amount (g) ────────────────────────────────── 13 −1 0.35 −2 0.15 −2 5.00 14 −1 0.35 −2 0.15 −3 5.00 15 −1 0.35 −2 0.15 −4 5.00 16 −1 0.35 −2 0.15 −5 5.00 17 −1 0.35 −2 0.15 −6 5.00 18 −1 0.35 −2 0.15 −7 5.00 19 −1 0.35 −2 0.15 −8 5.00 20 −1 0.35 −2 0.15 −9 5.00 21 −1 0.35 −2 0.15 −10 5.00 ────────── ────────────────────────

【0041】[0041]

【表5】 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例 現像性 ダイリソ印刷 オフセット印刷 耐刷性(万枚) 耐刷性(万枚) ────────────────────────────────── 13 ○ 6 15 14 ○ 6 15 15 ○ 6 15 16 ○ 6 15 17 ○ 6 15 18 ○ 6 15 19 ○ 6 15 20 ○ 6 15 21 ○ 6 15 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 合成例12〜14(比較例のポリウレタン) 以下合成例1と同様にして、表6に示したジイソシアネ
ート化合物とジオール化合物を用い比較例に用いたポリ
ウレタン樹脂を合成した。分子量及び酸価は合成例1〜
11と同様に行った。結果を表6に示す。
[Table 5] Example Developability Dairizo printing Offset printing Printing durability ( (10,000 sheets) Printing durability (10,000 sheets) ────────────────────────────────── 13 ○ 615 14 ○ 615 15 615 16 615 17 615 18 615 19 615 20 615 21 615 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ ━━━━━━━━━━━━━━ Synthesis examples 12 to 14 (polyurethane of comparative example) Hereinafter, in the same manner as in Synthesis example 1, the diisocyanate compound and the diol compound shown in Table 6 were used for comparative examples. Polyurethane resin was synthesized. The molecular weight and the acid value were determined in Synthesis Examples 1 to
Performed similarly to 11. Table 6 shows the results.

【0042】[0042]

【表6】 ─────────────────────────────────── ポリウ 使用したジイソシ 使用したジオ 酸 価 分子量 分散度 レタン アネート化合物 ール化合物 (meq/g) (×104)樹脂 (モル%) (モル%) 11 + + 1.59 6.4 4.2 (30) (70) (60) (40) 12 + + 1.61 7.3 4.0 (100) (0) (60) (40) 13 + + 1.15 7.5 4.6 (70) (30) (20) (80) 14 + + 1.75 7.3 4.5 (70) (30) (100) (0) ─────────────────────────────────── 合成例15(特開昭62−123453号、実施例1の
ポリウレタン樹脂) コンデンサー、攪拌機を備えた500mlの3つ口丸底フ
ラスコに4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート
125g(0.50mole)および2,2−ビス(ヒドロキ
シメチル)プロピオン酸67g(0.50mole)を加え、
ジオキサン290mlに溶解した。触媒としてN,N−ジ
エチルアニリン1gを添加し、攪拌下6時間加熱還流さ
せた。その後、反応溶液を水4リットル、酢酸40mlの
溶液中に攪拌しながら投入し、白色のポリマーを析出さ
せた。このポリマーを濾別し、水にて洗浄後、真空下乾
燥させることにより185gのポリマーを得た。
[Table 6] ───────────────────────────────────Polyurethane used Diisocyanate used diacid value molecular weight dispersion Degree ethane anate compound urea compound (meq / g) (× 10 4 ) resin (mol%) (mol%) 11 ++ 1.59 6.4 4.2 (30) (70) (60) (40) 12 ++ 1.61 7.3 4.0 (100) (0) (60) (40) 13 + + 1.15 7.5 4.6 (70) (30) (20) (80) 14 + + 1.75 7.3 4.5 (70) (30) (100) (0) ── ───────────────────────────────── Synthesis Example 15 (JP-A-62-123453, polyurethane of Example 1) Resin) 125 g (0.50 mole) of 4,4'-diphenylmethane diisocyanate and 67 g (0.50 mole) of 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid were added to a 500 ml three-necked round bottom flask equipped with a condenser and a stirrer. ,
Dissolved in 290 ml of dioxane. 1 g of N, N-diethylaniline was added as a catalyst, and the mixture was heated and refluxed for 6 hours with stirring. Thereafter, the reaction solution was poured into a solution of 4 liters of water and 40 ml of acetic acid with stirring to precipitate a white polymer. The polymer was separated by filtration, washed with water, and dried under vacuum to obtain 185 g of a polymer.

【0043】ゲルパーミエーションクロマトグラフィー
(GPC)にて分子量を測定したところ、重量平均(ポ
リスチレン標準)で28,000であった。更に滴定によりカ
ルボキシル基含有量を測定したところ2.47 meq/gで
あった。更にこのポリマー40gをコンデンサー、攪拌
機を備えた300mlの3つ口丸底フラスコに入れ、DM
F200mlにて溶解した。この溶液にトリエチルアミン
6.3g(0.062mole)を加え、80℃に加熱後、エチ
レンブロモヒドリン7.7g(0.062mole)を攪拌下1
0分間かけて滴下した。その後2時間攪拌を続けた。反
応終了後、反応溶液を水4リットル、酢酸200mlの溶
液中に攪拌しながら投入し、白色のポリマーを析出させ
た。このポリマーを濾別し、水洗後、真空下乾燥させる
ことにより42gのポリマーを得た。
The molecular weight measured by gel permeation chromatography (GPC) was 28,000 in weight average (polystyrene standard). Further, the content of the carboxyl group was measured by titration and found to be 2.47 meq / g. Further, 40 g of this polymer was placed in a 300 ml three-necked round-bottom flask equipped with a condenser and a stirrer.
F was dissolved in 200 ml. Add triethylamine to this solution
6.3 g (0.062 mole) was added, and after heating to 80 ° C., 7.7 g (0.062 mole) of ethylene bromohydrin was added under stirring to 1 g.
It was added dropwise over 0 minutes. Thereafter, stirring was continued for 2 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into a solution of 4 liters of water and 200 ml of acetic acid with stirring to precipitate a white polymer. This polymer was separated by filtration, washed with water, and dried under vacuum to obtain 42 g of a polymer.

【0044】NMR測定により、ヒドロキシエチル基が
カルボキシル基に導入されていることを確認し、更に滴
定により残存のカルボキシル基含有量を測定したとこ
ろ、1.21 meq/gであった。 比較例1〜9 本発明以外のジアゾ樹脂と実施例1のポリウレタン樹脂
を用いて、実施例1と同様に印刷版を作成した。高温・
高湿サーモの現像性を、ダイリソ印刷及びオフセット印
刷の耐刷性を調べた。結果を表7及び表8に示す。
It was confirmed by NMR measurement that the hydroxyethyl group had been introduced into the carboxyl group, and the residual carboxyl group content was measured by titration to be 1.21 meq / g. Comparative Examples 1 to 9 Printing plates were prepared in the same manner as in Example 1 using a diazo resin other than the present invention and the polyurethane resin of Example 1. high temperature·
The developability of the high humidity thermostat and the printing durability of dilitho printing and offset printing were examined. The results are shown in Tables 7 and 8.

【0045】[0045]

【表7】 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 比較例 ジアゾ樹脂a ジアゾ樹脂b ポリウレタン樹脂 種 類 量(g) 種 類 量(g) 種 類 量(g) ────────────────────────────────── 1 −1 0.50 − −1 5.00 2 −5 0.50 − −1 5.00 3 −7 0.50 − −1 5.00 4 −9 0.50 − −1 5.00 5 − −2 0.50 −1 5.00 6 − −3 0.50 −1 5.00 7 − −4 0.50 −1 5.00 8 − −6 0.50 −1 5.00 9 − −8 0.50 −1 5.00 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━[Table 7] Comparative Example Diazo resin a Diazo resin b Polyurethane resin Amount (g) Type Amount (g) Type Amount (g) ────────────────────────────────── 1 -1 0.50--1 5.00 2 -5 0.50--1 5.00 3 -7 0.50--1 5.00 4 -9 0.50--1 5.00 5--2 0.50 -1 5.00 6--3 0.50 -1 5.00 7- -4 0.50 -1 5.00 8--6 0.50 -1 5.00 9--8 0.50 -1 5.00 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ ━━━━━━

【0046】[0046]

【表8】 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 比較例 現像性 ダイリソ印刷 オフセット印刷 耐刷性(万枚) 耐刷性(万枚) ────────────────────────────────── 1 △ 2 5 2 △ 2 5 3 △ 2 5 4 △ 2 5 5 ○ 1 8 6 ○ 1 8 7 ○ 1 8 8 ○ 1 6 9 ○ 1 6 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 現像性「△」はジアゾ樹脂が非画像部に残り黄色くなっ
ていたことを示す。 比較例10〜15 本発明のジアゾ樹脂と本発明以外のポリウレタン樹脂又
は結合剤を用いて、実施例1と同様に印刷版を作成し
た。高温・高湿サーモの現像性とダイリソ印刷及びオフ
セット印刷の耐刷性を調べた。結果を表9及び表10に
示す。
[Table 8] ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ Comparative example Developability Dairizo printing Offset printing Printing durability ( 10,000 sheets) Printing durability (10,000 sheets) ────────────────────────────────── 1 △ 25 2 △ 2 5 3 △ 2 5 4 △ 2 5 5 ○ 18 6 ○ 18 7 ○ 18 8 ○ 16 9 ○ 16 ○ ━━━━━━━━━━━━━━ Developability “△” indicates that the diazo resin remained in the non-image area and became yellow. Comparative Examples 10 to 15 Printing plates were prepared in the same manner as in Example 1 using the diazo resin of the present invention and a polyurethane resin or a binder other than the present invention. The developability of high temperature and high humidity thermostats and the printing durability of dilitho printing and offset printing were examined. The results are shown in Tables 9 and 10.

【0047】[0047]

【表9】 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 比較例 ジアゾ樹脂a ジアゾ樹脂b ポリウレタン樹脂 結合剤 種類 量(g) 種類 量(g) 種類 量(g) 種類 量(g) ─────────────────────────────────── 10 −1 0.35 −2 0.15 −11 5.00 − − 11 −1 0.35 −2 0.15 −12 5.00 − − 12 −1 0.35 −2 0.15 −13 5.00 − − 13 −1 0.35 −2 0.15 −14 5.00 − − 14 −1 0.35 −2 0.15 − − −1 5.00 15 −1 0.35 −2 0.15 − − −2 5.00 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━[Table 9] Comparative Example Diazo resin a Diazo resin b Polyurethane resin Binder Type Amount (g) Type Amount (g) Type Amount (g) Type Amount (g) ────────────────────────────── ───── 10 −1 0.35 −2 0.15 −11 5.00 − − 11 −1 0.35 −2 0.15 −12 5.00 − − 12 −1 0.35 −2 0.15 −13 5.00 − − 13 −1 0.35 −2 0.15 −14 5.00 − − 14 −1 0.35 −2 0.15 − − −1 5.00 15 −1 0.35 −2 0.15 − − −2 5.00 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ ━━━━━━━━━━━

【0048】[0048]

【表10】 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 比較例 現像性 ダイリソ印刷 オフセット印刷 耐刷性(万枚) 耐刷性(万枚) ─────────────────────────── 10 ○ 1 3 11 × 6 3 12 × 4 8 13 ○ 1 2 14 ○ 2 5 15 ○ 2 6 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 現像性「×」は、バインダーと染料が非画像部に残り青
くなっていたことを示す。
[Table 10] ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ Comparative example Developability Dairizo printing Offset printing Printing durability (10,000 sheets) Printing durability (万 10 ○ 13 11 × 63 12 × 48 13 ○ 12 14 ○ 25 15 ○ 26 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ The developability “x” indicates that the binder and dye remain blue in the non-image area and become blue. Indicates that

【0049】結合剤−1は、2−ヒドロキシエチルメタ
クリレート/アクリロニトリル/メチルメタクリレート
/メタクリル酸共重合体(重量比50/20/26/
4、平均分子量75000 、酸価0.4 meq/g) 結合剤−2は、2−ヒドロキシエチルメタクリレート/
アクリロニトリル/エチルメタクリレート/メタクリル
酸共重合体(重量比45/15/36/4、平均分子量
120000、酸価0.4 meq/g)
Binder-1 was 2-hydroxyethyl methacrylate / acrylonitrile / methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (weight ratio 50/20/26 /
4, average molecular weight 75,000, acid value 0.4 meq / g) Binder-2 was 2-hydroxyethyl methacrylate /
Acrylonitrile / ethyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (weight ratio 45/15/36/4, average molecular weight
120000, acid value 0.4 meq / g)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H01L 21/027 H01L 21/30 502R ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI H01L 21/027 H01L 21/30 502R

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 対アニオンが無機酸アニオン又は炭素数
3以下の脂肪族の有機酸アニオンであるジアゾ樹脂a、
対アニオンが炭素数6以上の脂肪族又は芳香族の有機酸
アニオンであるジアゾ樹脂b及び、全イソシアネート成
分中、一般式(I)で示されるジイソシアネートが40
〜90モル%含まれるイソシアネートと、全アルコール
成分中、一般式(II)で示されるジオールが30〜90
モル%含まれるアルコールとの反応生成物であるポリウ
レタン樹脂を含有することを特徴とする感光性組成物。 【化1】 式中、R1 、R2 、R3 及びR4 はそれぞれ同一でも異
っていてもよく、水素原子、炭素数1〜4個のアルキル
基、炭素数1〜6個のアルコキシ基又はハロゲン原子を
示す。R5 は水素原子又は炭素数1〜8個のアルキル基
を示す。
1. A diazo resin a wherein the counter anion is an inorganic acid anion or an aliphatic organic acid anion having 3 or less carbon atoms,
The diazo resin b whose counter anion is an aliphatic or aromatic organic acid anion having 6 or more carbon atoms, and 40% of the diisocyanate represented by the general formula (I) among all isocyanate components
And the diol represented by the general formula (II) in the total alcohol component is 30 to 90 mol%.
A photosensitive composition containing a polyurethane resin which is a reaction product with an alcohol contained in mol%. Embedded image In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom. Is shown. R 5 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.
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