JPH11183408A - 結晶の構造解析方法 - Google Patents
結晶の構造解析方法Info
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- JPH11183408A JPH11183408A JP9357649A JP35764997A JPH11183408A JP H11183408 A JPH11183408 A JP H11183408A JP 9357649 A JP9357649 A JP 9357649A JP 35764997 A JP35764997 A JP 35764997A JP H11183408 A JPH11183408 A JP H11183408A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、高い解析精度を有すると共に、格
子緩和を含むような歪超格子構造にも適用できる、結晶
の構造解析方法を提供する。 【解決手段】 本発明の結晶の構造解析方法は、相異な
る指数を有する２つ以上の（ｈｋｌ）反射のＸ線回折プ
ロファイルを測定し、横軸を回折角、縦軸を回折強度と
した第１のグラフを作製する工程と、前記第１のグラフ
で観測される各ピークに対する差分量Δ
（Ａ-2）(hkl)：＝（２／λｈ）2×Δ（ｓｉｎ2θ）
(hkl)を、前記反射指数（ｈｋｌ）から求められる量
（ｋ2＋ｌ2）／ｈ2に対してプロットした第２のグラフ
を作製する工程と、前記第２のグラフ中で直線にのる一
連のプロット点があるか否かを調べることにより、前記
第１のグラフの中の各ピークが格子定数を反映したブラ
ッグピークか否かを判定する工程と、を具備することを
特徴とする。
子緩和を含むような歪超格子構造にも適用できる、結晶
の構造解析方法を提供する。 【解決手段】 本発明の結晶の構造解析方法は、相異な
る指数を有する２つ以上の（ｈｋｌ）反射のＸ線回折プ
ロファイルを測定し、横軸を回折角、縦軸を回折強度と
した第１のグラフを作製する工程と、前記第１のグラフ
で観測される各ピークに対する差分量Δ
（Ａ-2）(hkl)：＝（２／λｈ）2×Δ（ｓｉｎ2θ）
(hkl)を、前記反射指数（ｈｋｌ）から求められる量
（ｋ2＋ｌ2）／ｈ2に対してプロットした第２のグラフ
を作製する工程と、前記第２のグラフ中で直線にのる一
連のプロット点があるか否かを調べることにより、前記
第１のグラフの中の各ピークが格子定数を反映したブラ
ッグピークか否かを判定する工程と、を具備することを
特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、結晶の構造解析方
法に係る。より詳細には、半導体薄膜や多重量子井戸構
造からなる積層膜の結晶の構造解析方法に関する。特
に、薄膜が格子緩和を含むような歪超格子構造を有する
場合、好適に用いられる。
法に係る。より詳細には、半導体薄膜や多重量子井戸構
造からなる積層膜の結晶の構造解析方法に関する。特
に、薄膜が格子緩和を含むような歪超格子構造を有する
場合、好適に用いられる。
【０００２】
【従来の技術】従来、２結晶Ｘ線回折を用いたエピ膜の
構造評価をする場合、歪超格子構造の０次サテライトピ
ークの簡便な決定論的同定法として、反射指数（ｈｋ
ｌ）依存性を利用したグラフを用いた解析法が提案され
ていた（K. Nakashima, J. Appl.Phys., 71, 1189 (199
2), P van der Sluis, Appl. Phys. Lett., 62, 1898
(1993)）。
構造評価をする場合、歪超格子構造の０次サテライトピ
ークの簡便な決定論的同定法として、反射指数（ｈｋ
ｌ）依存性を利用したグラフを用いた解析法が提案され
ていた（K. Nakashima, J. Appl.Phys., 71, 1189 (199
2), P van der Sluis, Appl. Phys. Lett., 62, 1898
(1993)）。
【０００３】例えば、上記解析法の一つである K. Naka
shima の報告によれば、グラフを用いることにより、直
線にのる一連のプロット点の存在を調べて、歪超格子構
造の０次サテライトピークの同定を行うという手法が開
示されている（図５）。
shima の報告によれば、グラフを用いることにより、直
線にのる一連のプロット点の存在を調べて、歪超格子構
造の０次サテライトピークの同定を行うという手法が開
示されている（図５）。
【０００４】図５は、相異なる指数を有する２つ以上の
（ｈｋｌ）反射のＸ線回折プロファイルを、Ｘ線入射方
向を固定したまま測定試料を傾けて（ｈｋｌ）面が鉛直
面になるような配置（以下、対称反射配置と呼ぶ）で測
定した結果から得られたグラフである。ここで、横軸
は、反射指数（ｈｋｌ）から求められる量ｈ2であり、
縦軸は、Ｘ線回折プロファイルにおいて、回折強度の各
ピークのＸ線入射角度をθ、基準ピーク（例えば基板ピ
ーク）のＸ線入射角度をθrefとした場合の差分量Δ
θ：＝θ−θrefである。ここで、「：＝」という記号
は、該記号より右に示すものが、左に示すものと定義さ
れることを意味する。図５では、図中の実線で示した直
線上（０と示された直線）にプロットされた点が、当該
直線にどの程度正確に乗るのかが解析精度を判定する目
安となる。図５から、各プロット点はこの直線のまわり
にある統計的バラツキをもって分布していることが分か
る。また、これらの手法は、基板に完全にコヒーレント
に歪んだ超格子構造を仮定した場合の解析法であり、格
子緩和を含むような歪超格子構造に適用した場合には著
しく解析精度が悪くなるという問題があった。
（ｈｋｌ）反射のＸ線回折プロファイルを、Ｘ線入射方
向を固定したまま測定試料を傾けて（ｈｋｌ）面が鉛直
面になるような配置（以下、対称反射配置と呼ぶ）で測
定した結果から得られたグラフである。ここで、横軸
は、反射指数（ｈｋｌ）から求められる量ｈ2であり、
縦軸は、Ｘ線回折プロファイルにおいて、回折強度の各
ピークのＸ線入射角度をθ、基準ピーク（例えば基板ピ
ーク）のＸ線入射角度をθrefとした場合の差分量Δ
θ：＝θ−θrefである。ここで、「：＝」という記号
は、該記号より右に示すものが、左に示すものと定義さ
れることを意味する。図５では、図中の実線で示した直
線上（０と示された直線）にプロットされた点が、当該
直線にどの程度正確に乗るのかが解析精度を判定する目
安となる。図５から、各プロット点はこの直線のまわり
にある統計的バラツキをもって分布していることが分か
る。また、これらの手法は、基板に完全にコヒーレント
に歪んだ超格子構造を仮定した場合の解析法であり、格
子緩和を含むような歪超格子構造に適用した場合には著
しく解析精度が悪くなるという問題があった。
【０００５】従って、上記統計的バラツキが小さく、か
つ、格子緩和を含むような歪超格子構造にも適用可能な
解析法の開発が望まれていた。
つ、格子緩和を含むような歪超格子構造にも適用可能な
解析法の開発が望まれていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、高い解析精
度を有すると共に、格子緩和を含むような歪超格子構造
にも適用できる、結晶の構造解析方法を提供することを
目的とする。
度を有すると共に、格子緩和を含むような歪超格子構造
にも適用できる、結晶の構造解析方法を提供することを
目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明に係る結晶の構造
解析方法は、相異なる指数を有する２つ以上の（ｈｋ
ｌ）反射のＸ線回折プロファイルを、Ｘ線入射方向を固
定したまま測定試料を傾けて（ｈｋｌ）面が鉛直面にな
るような配置（対称反射配置）で測定し、横軸を回折
角、縦軸を回折強度とした第１のグラフを作製する工程
と、前記第１のグラフの中で基準となるピークを一つ選
び、該基準ピークが得られる回折角の正弦の２乗と該基
準ピーク以外の各ピークが得られる回折角の正弦の２乗
との差分を、該第１のグラフで観測される各ピークに対
して算出し、次いで該差分に、前記Ｘ線の波長λと前記
反射指数ｈの積を２で割ったものの逆２乗量（２／λ
ｈ）2をかけることにより、規格化した格子定数の逆２
乗の次元を有する新たな差分量Δ（Ａ-2）を求め、該第
１のグラフで観測される各ピークに対する差分量Δ（Ａ
-2）を、前記反射指数（ｈｋｌ）から求められる量（ｋ
2＋ｌ2）／ｈ2に対してプロットした第２のグラフを作
製する工程と、前記第２のグラフ中で直線にのる一連の
プロット点があるか否かを調べることにより、該第１の
グラフの中の各ピークが格子定数を反映したブラッグピ
ークか否かを判定する工程と、を具備することを特徴と
している。
解析方法は、相異なる指数を有する２つ以上の（ｈｋ
ｌ）反射のＸ線回折プロファイルを、Ｘ線入射方向を固
定したまま測定試料を傾けて（ｈｋｌ）面が鉛直面にな
るような配置（対称反射配置）で測定し、横軸を回折
角、縦軸を回折強度とした第１のグラフを作製する工程
と、前記第１のグラフの中で基準となるピークを一つ選
び、該基準ピークが得られる回折角の正弦の２乗と該基
準ピーク以外の各ピークが得られる回折角の正弦の２乗
との差分を、該第１のグラフで観測される各ピークに対
して算出し、次いで該差分に、前記Ｘ線の波長λと前記
反射指数ｈの積を２で割ったものの逆２乗量（２／λ
ｈ）2をかけることにより、規格化した格子定数の逆２
乗の次元を有する新たな差分量Δ（Ａ-2）を求め、該第
１のグラフで観測される各ピークに対する差分量Δ（Ａ
-2）を、前記反射指数（ｈｋｌ）から求められる量（ｋ
2＋ｌ2）／ｈ2に対してプロットした第２のグラフを作
製する工程と、前記第２のグラフ中で直線にのる一連の
プロット点があるか否かを調べることにより、該第１の
グラフの中の各ピークが格子定数を反映したブラッグピ
ークか否かを判定する工程と、を具備することを特徴と
している。
【０００８】本発明の方法によれば、従来の手法に比べ
て、高い解析精度で０次サテライトピークの同定を行う
ことができる。
て、高い解析精度で０次サテライトピークの同定を行う
ことができる。
【０００９】また上記特徴において、前記第２のグラフ
中で直線にのる一連のプロット点がある場合、該直線の
Δ（Ａ-2）軸切片と該直線の傾きとから、前記基準ピー
クに対応する層に対する該プロット点に対応する層の界
面に垂直方向の格子定数の逆２乗の差分量Δ（ａ⊥-2）
と、該基準ピークに対応する層に対する該プロット点に
対応する層の界面に平行方向の格子定数の逆２乗の差分
量Δ（ａ// -2）と求め、次いで２つの差分量Δ（ａ
⊥-2）とΔ（ａ// -2）から、前記測定試料の格子緩和量
を算出する工程を具備することを特徴としている。
中で直線にのる一連のプロット点がある場合、該直線の
Δ（Ａ-2）軸切片と該直線の傾きとから、前記基準ピー
クに対応する層に対する該プロット点に対応する層の界
面に垂直方向の格子定数の逆２乗の差分量Δ（ａ⊥-2）
と、該基準ピークに対応する層に対する該プロット点に
対応する層の界面に平行方向の格子定数の逆２乗の差分
量Δ（ａ// -2）と求め、次いで２つの差分量Δ（ａ
⊥-2）とΔ（ａ// -2）から、前記測定試料の格子緩和量
を算出する工程を具備することを特徴としている。
【００１０】上記工程を備えたことにより、本発明の方
法は、任意の格子緩和率を有する歪超格子構造に対して
も解析が可能となり、その格子緩和量が容易に得られ
る。
法は、任意の格子緩和率を有する歪超格子構造に対して
も解析が可能となり、その格子緩和量が容易に得られ
る。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、図１〜図４を参照して本発
明の実施の形態を詳細に述べる。
明の実施の形態を詳細に述べる。
【００１２】図１は、本発明の方法を示すフローチャー
トである。図２は、測定試料、（ｈｋｌ）面及びＸ線入
射方向（φ）の関係を示す模式図である。図３は、（ｈ
ｋｌ）反射の測定結果を模式的に示したグラフである。
図４は、本発明の方法を用いて、ＩｎＡｓＰ／ＩｎＧａ
ＡｓＰ歪超格子試料から得られた一連のＸ線回折サテラ
イトピークを解析した結果を示すグラフである。
トである。図２は、測定試料、（ｈｋｌ）面及びＸ線入
射方向（φ）の関係を示す模式図である。図３は、（ｈ
ｋｌ）反射の測定結果を模式的に示したグラフである。
図４は、本発明の方法を用いて、ＩｎＡｓＰ／ＩｎＧａ
ＡｓＰ歪超格子試料から得られた一連のＸ線回折サテラ
イトピークを解析した結果を示すグラフである。
【００１３】本発明の方法は、図１に示したフローチャ
ートに基づき実施される。
ートに基づき実施される。
【００１４】まず、本発明の方法では、図２に示すよう
に、Ｘ線入射方向（φ）を固定して反射指数（ｈｋｌ）
を変えて測定した（K. Nakashima, J. Appl. Phys., 7
2. 1189 (1992)）。その際、（ｈｋｌ）反射は、Ｘ線入
射方向を固定したまま測定試料を傾けて（ｈｋｌ）面が
鉛直面になるような配置（対称反射配置）とした。図３
は、上記測定によって得られた結果を示す第１のグラフ
であり、横軸は回折角θ、縦軸は回折強度とした。
に、Ｘ線入射方向（φ）を固定して反射指数（ｈｋｌ）
を変えて測定した（K. Nakashima, J. Appl. Phys., 7
2. 1189 (1992)）。その際、（ｈｋｌ）反射は、Ｘ線入
射方向を固定したまま測定試料を傾けて（ｈｋｌ）面が
鉛直面になるような配置（対称反射配置）とした。図３
は、上記測定によって得られた結果を示す第１のグラフ
であり、横軸は回折角θ、縦軸は回折強度とした。
【００１５】次に、図３に示した回折プロファイル中か
ら１つ基準ピークを決めた。ここでは、基板ピークを基
準ピークとした。基準ピークとしては、強度の大きなピ
ークを選択するのが好ましいが、目的、層構造に応じて
任意に選択可能である。
ら１つ基準ピークを決めた。ここでは、基板ピークを基
準ピークとした。基準ピークとしては、強度の大きなピ
ークを選択するのが好ましいが、目的、層構造に応じて
任意に選択可能である。
【００１６】従来は、図２から、Δθ：＝θ−θ
ref.（θは各ピークのＸ線入射角度、θre f.は基準ピー
クのＸ線入射角度）を求め、上記回折プロファイルの横
軸を、基準ピークからのＸ線入射角度の差分Δθに置換
して解析が行われていた。
ref.（θは各ピークのＸ線入射角度、θre f.は基準ピー
クのＸ線入射角度）を求め、上記回折プロファイルの横
軸を、基準ピークからのＸ線入射角度の差分Δθに置換
して解析が行われていた。
【００１７】これに対して、本発明では、図２から、基
準ピークが得られる回折角の正弦の２乗と該基準ピーク
以外の各ピークが得られる回折角の正弦の２乗との差分
量、すなわち、Δ（ｓｉｎ2θ）：＝ｓｉｎ2θ−ｓｉｎ
2θref.という新しい差分量を求め、この差分量Δ（ｓ
ｉｎ2θ）をさらに規格化することによって格子定数の
逆２乗の次元をもつ新たな差分量Δ（Ａ-2）を（１）式
に示すように定義した。
準ピークが得られる回折角の正弦の２乗と該基準ピーク
以外の各ピークが得られる回折角の正弦の２乗との差分
量、すなわち、Δ（ｓｉｎ2θ）：＝ｓｉｎ2θ−ｓｉｎ
2θref.という新しい差分量を求め、この差分量Δ（ｓ
ｉｎ2θ）をさらに規格化することによって格子定数の
逆２乗の次元をもつ新たな差分量Δ（Ａ-2）を（１）式
に示すように定義した。
【００１８】 Δ（Ａ-2）(hkl)：＝(２／λｈ)2 ×Δ（ｓｉｎ2θ）(hkl) （１） ここに、λはＸ線の波長、ｈは反射指数（ｈｋｌ）中の
ｈである。
ｈである。
【００１９】次いで、検討しているピークが、格子定数
（ａ⊥ ，ａ//）を直接反映したブラッグピークである
と仮定する。また基準ピークは、格子定数（ａ⊥(re
f.)，ａ //(ref.)）を直接反映したブラッグピークであ
るとする。このとき（１）式で定義された差分量Δ（Ａ
-2）(hkl)は、次のような反射指数（ｈｋｌ）依存性を
持つことが証明できる。
（ａ⊥ ，ａ//）を直接反映したブラッグピークである
と仮定する。また基準ピークは、格子定数（ａ⊥(re
f.)，ａ //(ref.)）を直接反映したブラッグピークであ
るとする。このとき（１）式で定義された差分量Δ（Ａ
-2）(hkl)は、次のような反射指数（ｈｋｌ）依存性を
持つことが証明できる。
【００２０】 Δ(Ａ-2)(hkl)＝Δ(ａ⊥-2)＋Δ(ａ// -2)×{(ｋ2＋ｌ2)／ｈ2} （２） ここに、Δ（ａ⊥-2）：＝ａ⊥-2−ａ⊥(ref.)-2 ，Δ
（ａ// -2）：＝ａ// -2−ａ//(ref.)-2である。
（ａ// -2）：＝ａ// -2−ａ//(ref.)-2である。
【００２１】上記（２）式より、今考えている格子定数
（ａ⊥ ，ａ//）を直接反映したブラッグピークに対し
て反射指数（ｈｋｌ）を変えて測定し、上記（１）式を
用いて差分量Δ（Ａ-2）を求め、Δ（Ａ-2）を（ｋ2＋
ｌ2）／ｈ2の関数としてプロットすることによって第２
のグラフを作製する。第２のグラフから、プロット点は
直線上に乗り、この直線のΔ（Ａ-2）軸の切片がΔ（ａ
⊥-2）を、この直線の傾きがΔ（ａ// -2）を表している
ことが分かる。
（ａ⊥ ，ａ//）を直接反映したブラッグピークに対し
て反射指数（ｈｋｌ）を変えて測定し、上記（１）式を
用いて差分量Δ（Ａ-2）を求め、Δ（Ａ-2）を（ｋ2＋
ｌ2）／ｈ2の関数としてプロットすることによって第２
のグラフを作製する。第２のグラフから、プロット点は
直線上に乗り、この直線のΔ（Ａ-2）軸の切片がΔ（ａ
⊥-2）を、この直線の傾きがΔ（ａ// -2）を表している
ことが分かる。
【００２２】また、ブラッグピークの場合には、必ずプ
ロット点が直線上に乗らなければならない。換言する
と、上記第２のグラフにおいて、プロット点が直線上に
乗るか否かを調べることにより、今考えているピークが
ブラッグピークか否かを判定することができる。この性
質を用いることによって、超格子サテライトピークのう
ち０次ピークの同定が可能となった。
ロット点が直線上に乗らなければならない。換言する
と、上記第２のグラフにおいて、プロット点が直線上に
乗るか否かを調べることにより、今考えているピークが
ブラッグピークか否かを判定することができる。この性
質を用いることによって、超格子サテライトピークのう
ち０次ピークの同定が可能となった。
【００２３】さらに、得られた直線のΔ（Ａ-2）軸の切
片および傾きから、Δ（ａ⊥-2）とΔ（ａ// -2）が分か
り、これらの値から測定試料の格子緩和率が容易に算出
できる。
片および傾きから、Δ（ａ⊥-2）とΔ（ａ// -2）が分か
り、これらの値から測定試料の格子緩和率が容易に算出
できる。
【００２４】以下では、本発明に係る方法の具体例とし
て、転位の入った（すなわち部分的に格子緩和した）Ｉ
ｎＡｓＰ／ＩｎＧａＡｓＰ歪超格子（１４周期）試料か
ら得られた一連のＸ線回折サテライトピークを解析した
結果（図４）について説明する。Δ（Ａ-2）を（ｋ2＋
ｌ2）／ｈ2の関数としてプロットしグラフ（図４）を作
製すると、このグラフ中に、直線上に乗る一連の黒丸で
示すプロット点が見つかった。従って、この黒丸で示す
プロット点に対応するピークが、それぞれの（ｈｋｌ）
Ｘ線回折プロファイルにおける０次サテライトピークで
あることが同定された。特に、従来の手法による結果
（図５）では各プロット点が直線のまわりにある統計的
バラツキをもって分布しているのに対して、本発明を用
いた結果（図４）の黒丸で示した各プロット点はこのよ
うなバラツキはほとんど無かった。
て、転位の入った（すなわち部分的に格子緩和した）Ｉ
ｎＡｓＰ／ＩｎＧａＡｓＰ歪超格子（１４周期）試料か
ら得られた一連のＸ線回折サテライトピークを解析した
結果（図４）について説明する。Δ（Ａ-2）を（ｋ2＋
ｌ2）／ｈ2の関数としてプロットしグラフ（図４）を作
製すると、このグラフ中に、直線上に乗る一連の黒丸で
示すプロット点が見つかった。従って、この黒丸で示す
プロット点に対応するピークが、それぞれの（ｈｋｌ）
Ｘ線回折プロファイルにおける０次サテライトピークで
あることが同定された。特に、従来の手法による結果
（図５）では各プロット点が直線のまわりにある統計的
バラツキをもって分布しているのに対して、本発明を用
いた結果（図４）の黒丸で示した各プロット点はこのよ
うなバラツキはほとんど無かった。
【００２５】また得られた直線のΔ（Ａ-2）軸の切片お
よび傾きから、Δ（ａ⊥-2）およびΔ（ａ// -2）が得ら
れ、これらの数値よりＩｎＡｓＰ／ＩｎＧａＡｓＰ歪超
格子構造は約２４％格子緩和していることが分かった。
よび傾きから、Δ（ａ⊥-2）およびΔ（ａ// -2）が得ら
れ、これらの数値よりＩｎＡｓＰ／ＩｎＧａＡｓＰ歪超
格子構造は約２４％格子緩和していることが分かった。
【００２６】上述した通り、本発明に係る方法は、従来
の手法に比べて高い解析精度を有すると共に、任意の格
子緩和率の試料に対しても適用できる一般的な方法であ
る。また上記具体例から、本発明に係る方法は有効に働
くことが実験的にも確認された。
の手法に比べて高い解析精度を有すると共に、任意の格
子緩和率の試料に対しても適用できる一般的な方法であ
る。また上記具体例から、本発明に係る方法は有効に働
くことが実験的にも確認された。
【００２７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
従来の手法に比べてグラフを用いた決定論的（つまり予
備的情報が不要であり、かつ試行錯誤的工程を含まな
い）解析が可能となるため、ブラッグピークであるか否
かを判定し、格子定数（の逆２乗）の差分量を求めると
いう処理を、任意の格子緩和率の場合により精度よく行
うことができる。
従来の手法に比べてグラフを用いた決定論的（つまり予
備的情報が不要であり、かつ試行錯誤的工程を含まな
い）解析が可能となるため、ブラッグピークであるか否
かを判定し、格子定数（の逆２乗）の差分量を求めると
いう処理を、任意の格子緩和率の場合により精度よく行
うことができる。
【００２８】従って、本発明に係る方法は、多くの超格
子サテライトピークの中から０次ピークを見つけだす解
析、微弱なピークが格子定数を反映したブラッグピーク
であるか又は単なるフリンジピークであるかの判定、な
ど複雑なＸ線回折プロファイルの解析に特に有効であ
る。
子サテライトピークの中から０次ピークを見つけだす解
析、微弱なピークが格子定数を反映したブラッグピーク
であるか又は単なるフリンジピークであるかの判定、な
ど複雑なＸ線回折プロファイルの解析に特に有効であ
る。
【００２９】また、本発明に係る方法を、自動測定のＸ
線回折装置及びコンピュータを用いた自動解析装置と組
み合わせることにより、従来より迅速でかつ正確な歪量
測定装置が得られることは言うまでもない。
線回折装置及びコンピュータを用いた自動解析装置と組
み合わせることにより、従来より迅速でかつ正確な歪量
測定装置が得られることは言うまでもない。
【図１】本発明の方法を示すフローチャートである。
【図２】測定試料、（ｈｋｌ）面及びＸ線入射方向
（φ）の関係を示す模式図である。
（φ）の関係を示す模式図である。
【図３】（ｈｋｌ）反射の測定結果を模式的に示した第
１のグラフである。
１のグラフである。
【図４】本発明の方法を用いて、ＩｎＡｓＰ／ＩｎＧａ
ＡｓＰ歪超格子試料から得られた一連のＸ線回折サテラ
イトピークを解析した結果を示す第２のグラフである。
ＡｓＰ歪超格子試料から得られた一連のＸ線回折サテラ
イトピークを解析した結果を示す第２のグラフである。
【図５】従来の手法において、歪超格子構造の０次サテ
ライトピークの同定を行うために用いたグラフである。
ライトピークの同定を行うために用いたグラフである。
１ 測定試料、 ２ 測定試料１の（１００）表面、 ３ （ｈｋｌ）面、 ４ Ｘ線の入射ビーム、 ５ Ｘ線の回折ビーム。
Claims (2)
- 【請求項１】 相異なる指数を有する２つ以上の（ｈｋ
ｌ）反射のＸ線回折プロファイルを、Ｘ線入射方向を固
定したまま測定試料を傾けて（ｈｋｌ）面が鉛直面にな
るような配置で測定し、横軸を回折角、縦軸を回折強度
とした第１のグラフを作製する工程と、 前記第１のグラフの中で基準となるピークを一つ選び、
該基準ピークが得られる回折角の正弦の２乗と該基準ピ
ーク以外の各ピークが得られる回折角の正弦の２乗との
差分を、該第１のグラフで観測される各ピークに対して
算出し、次いで該差分に、前記Ｘ線の波長λと前記反射
指数ｈの積を２で割ったものの逆２乗量（２／λｈ）2
をかけることにより、規格化した格子定数の逆２乗の次
元を有する新たな差分量Δ（Ａ-2）を求め、該第１のグ
ラフで観測される各ピークに対する差分量Δ（Ａ-2）
を、前記反射指数（ｈｋｌ）から求められる量（ｋ2＋
ｌ2）／ｈ2に対してプロットした第２のグラフを作製す
る工程と、 前記第２のグラフ中で直線にのる一連のプロット点があ
るか否かを調べることにより、該第１のグラフの中の各
ピークが格子定数を反映したブラッグピークか否かを判
定する工程と、を具備することを特徴とする結晶の構造
解析方法。 - 【請求項２】 前記第２のグラフ中で直線にのる一連の
プロット点がある場合、該直線のΔ（Ａ-2）軸切片と該
直線の傾きとから、前記基準ピークに対応する層に対す
る該プロット点に対応する層の界面に垂直方向の格子定
数の逆２乗の差分量Δ（ａ⊥-2）と、該基準ピークに対
応する層に対する該プロット点に対応する層の界面に平
行方向の格子定数の逆２乗の差分量Δ（ａ// -2）と求
め、次いで２つの差分量Δ（ａ⊥-2）とΔ（ａ// -2）か
ら、前記測定試料の格子緩和量を算出する工程を具備す
ることを特徴とする請求項１に記載の結晶の構造解析方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35764997A JP3417537B2 (ja) | 1997-12-25 | 1997-12-25 | 結晶の構造解析方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35764997A JP3417537B2 (ja) | 1997-12-25 | 1997-12-25 | 結晶の構造解析方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11183408A true JPH11183408A (ja) | 1999-07-09 |
| JP3417537B2 JP3417537B2 (ja) | 2003-06-16 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP35764997A Expired - Fee Related JP3417537B2 (ja) | 1997-12-25 | 1997-12-25 | 結晶の構造解析方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3417537B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006170791A (ja) * | 2004-12-15 | 2006-06-29 | Anritsu Corp | Ｘ線回折測定解析方法及びプログラム |
-
1997
- 1997-12-25 JP JP35764997A patent/JP3417537B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006170791A (ja) * | 2004-12-15 | 2006-06-29 | Anritsu Corp | Ｘ線回折測定解析方法及びプログラム |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3417537B2 (ja) | 2003-06-16 |
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